JP2019052278A - Epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and laminate for electric-electronic circuit - Google Patents

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Abstract

To provide an epoxy resin having low solution viscosity while maintaining excellent heat resistance and dielectric properties of a polyphenylene ether skeleton.SOLUTION: A linear epoxy resin has two or more of a bisphenol structure (between aromatic rings, there is a group selected from a direct bond, a C1-13 divalent hydrocarbon group, -O-, -S-, -SO-, -C(CF)-, and -CO-) and a structure selected from C1-13 divalent hydrocarbon groups, and a structure represented by the following formula (16), and includes a glycidyl group at both terminals (Y is a structure including a bisphenol structure; p is an average of the number of repetitions and is 0-30).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、耐熱性に優れると共に、溶液にした場合の粘度が低減されたエポキシ樹脂に関する。また、該エポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物及びその硬化物並びに該エポキシ樹脂組成物からなる電気・電子回路用積層板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin having excellent heat resistance and having reduced viscosity when made into a solution. The present invention also relates to an epoxy resin composition containing the epoxy resin and a curing agent, a cured product thereof, and a laminate for an electric / electronic circuit comprising the epoxy resin composition.

エポキシ樹脂は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度及び電気的特性に優れていることから、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野で使用されている。特に、電気・電子分野では、絶縁注型、積層材料、封止材料等において幅広く使用されている。   Epoxy resins are excellent in heat resistance, adhesiveness, water resistance, mechanical strength, and electrical properties, so they can be used in various fields such as adhesives, paints, civil engineering and building materials, and insulating materials for electrical and electronic parts. It is used. In particular, in the electric / electronic field, it is widely used in insulating casting, laminated materials, sealing materials and the like.

近年、電気・電子機器の分野では、機器の小型化、軽量化及び高機能化が進んでおり、電気・電子機器に使用されるプリント配線板、特に多層プリント配線板に対し、更なる高多層化、高密度化、薄型化、軽量化と、信頼性及び成形加工性の向上等が要求されている。配線の微細化が進んでいく中で、基板材料となる樹脂側への特性としては、より一層の高耐熱性が必要である。また、信号の伝送速度を高め、信号伝送時の損失を低減させるために、誘電率及び誘電正接が低いことが求められる。   In recent years, in the field of electrical and electronic equipment, the miniaturization, weight reduction, and high functionality of the equipment have progressed, and printed wiring boards used for electrical and electronic equipment, especially multilayer printed wiring boards, have higher multilayers. There is a demand for improvement in the size, density, thickness, weight, and reliability and molding processability. Along with the progress of miniaturization of wiring, further high heat resistance is required as a characteristic for the resin side as a substrate material. Further, in order to increase the signal transmission speed and reduce the loss during signal transmission, it is required that the dielectric constant and dielectric loss tangent are low.

特許文献1には、耐熱性、接着性、加工性を損なうことなく、耐湿性、低誘電率、低誘電正接の硬化物を与えるオリゴマー変性エポキシ樹脂として、比較的低分子の特定のポリフェニレンエーテルオリゴマーとエポキシ樹脂の反応により得られるオリゴマー変性エポキシ樹脂が提案されている。   Patent Document 1 discloses a specific polyphenylene ether oligomer having a relatively low molecular weight as an oligomer-modified epoxy resin that gives a cured product having moisture resistance, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent without impairing heat resistance, adhesion, and workability. An oligomer-modified epoxy resin obtained by a reaction between an epoxy resin and an epoxy resin has been proposed.

特開2004−256717号公報JP 2004-256717 A

特許文献1に記載のエポキシ樹脂は、比較的低分子のポリフェニレンエーテルオリゴマーとエポキシ樹脂の反応により得られるものであり、ポリフェニレンエーテルの効果によって、高耐熱で誘電特性(低誘電率、低誘電正接)に優れる硬化物が得られる。しかし、本発明者らによる検討の結果、ポリフェニレンエーテル骨格を含むことで、該エポキシ樹脂は溶液とした際の粘度が高く、取り扱い性が不十分であることが判明した。プリント配線板の製造時、エポキシ樹脂は溶液として扱うことが多ため、溶液粘度が高いと製造工程へ大きな悪影響を与える。   The epoxy resin described in Patent Document 1 is obtained by a reaction between a relatively low-molecular polyphenylene ether oligomer and an epoxy resin, and has high heat resistance and dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) due to the effect of polyphenylene ether. A cured product with excellent resistance can be obtained. However, as a result of investigations by the present inventors, it has been found that the inclusion of a polyphenylene ether skeleton makes the epoxy resin have a high viscosity when made into a solution and insufficient handling properties. Since the epoxy resin is often handled as a solution at the time of manufacturing a printed wiring board, a high solution viscosity has a great adverse effect on the manufacturing process.

本発明の課題は、上記問題点を解決し、ポリフェニレンエーテル骨格が有する優れた耐熱性、誘電特性を保ちつつ、溶液粘度が低いエポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物と、このエポキシ樹脂組成物を使用して製造される硬化物及び電気・電子回路用積層板を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above problems and to use an epoxy resin and an epoxy resin composition having a low solution viscosity while maintaining the excellent heat resistance and dielectric properties of the polyphenylene ether skeleton, and using this epoxy resin composition. Another object of the present invention is to provide a cured product and a laminate for an electric / electronic circuit.

上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、ポリフェニレンエーテル変性エポキシ樹脂に、第3成分となる化学構造を導入することで、溶液粘度が低く、耐熱性、誘電特性にも優れたエポキシ樹脂が得られることを見出した。即ち本発明の要旨は以下の[1]〜[17]に存する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have introduced a chemical structure as a third component into the polyphenylene ether-modified epoxy resin, so that the solution viscosity is low, and the heat resistance and dielectric properties are excellent. It was found that an epoxy resin was obtained. That is, the gist of the present invention resides in the following [1] to [17].

[1] 下記式(1)で表されるエポキシ樹脂。 [1] An epoxy resin represented by the following formula (1).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(1)中、Aは、式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下「構造(A−1)」と称す。)のうちの2種以上と、式(3)で表される構造とを含み、RおよびRは、ともに式(5)で表される基であるか、或いは一方が式(5)で表される基で他方が水素原子であり、Rは水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、mは繰り返し数の平均値であり、0〜500の数を示す。式(2)中、Xは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。式(3)中、Yは式(4)で表される構造を含み、R12〜R27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、p,qは繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。式(4)中、Zは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、R29〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。) (In the formula (1), A represents a structure selected from the group represented by the structure represented by the formula (2) and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter referred to as “structure (A-1)”). 2) and a structure represented by the formula (3), and R 1 and R 2 are both groups represented by the formula (5), or one of the groups represented by the formula ( 5) and the other is a hydrogen atom, R 3 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group, m is an average value of the number of repetitions, And represents a number of 0 to 500. In formula (2), X represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 -, and a group selected from -CO-, R 4 to R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon atoms -12 is a group selected from an alkoxy group having 6 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms. 4), wherein R 12 to R 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. , An alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, p and q are average values of the number of repetitions, and each independently represents a number of 0 to 30. In formula (4), Z represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—. from a group selected, R 29 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, It is a group selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms. .)

[2] 式(1)中のAが構造(A−1)を60〜90モル%含む、[1]に記載のエポキシ樹脂。 [2] The epoxy resin according to [1], wherein A in the formula (1) contains 60 to 90 mol% of the structure (A-1).

[3] 構造(A−1)が、下記式(6)〜式(15)で表される構造の1種又は2種以上を含む、[1]又は[2]に記載のエポキシ樹脂。 [3] The epoxy resin according to [1] or [2], wherein the structure (A-1) includes one or more of the structures represented by the following formulas (6) to (15).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

[4] 式(3)で表される構造が、下記式(16)で表される構造を含む、[1]から[3]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。 [4] The epoxy resin according to any one of [1] to [3], wherein the structure represented by the formula (3) includes a structure represented by the following formula (16).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(16)中、Y、p、qはそれぞれ式(3)におけるY、p、qと同義である。) (In Formula (16), Y, p, and q are synonymous with Y, p, and q in Formula (3), respectively.)

[5] 下記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(18)で表される化合物と、下記式(19)で表される化合物との反応物であるエポキシ樹脂。 [5] An epoxy resin that is a reaction product of a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (17), a compound represented by the following formula (18), and a compound represented by the following formula (19).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(17)および式(18)中、A’は、式(2)’で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下、「構造(A’−1)」と称す。)のうちの2種以上を含み、nは繰り返し数の平均値であり、0〜6の整数を示す。式(18)中、R’は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基である。式(2)’中、X’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、R’〜R’11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。式(19)中、Y’は式(4)’で表される構造を含み、R’12〜R’27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、R’28は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、p’,q’は繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。式(4)’中、Z’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、R’29〜R’36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。) (In Formula (17) and Formula (18), A ′ is a structure selected from the group represented by Formula (2) ′ and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter, “ 2 or more of the structure (A′-1) ”), n is an average of the number of repetitions, and represents an integer of 0 to 6. In Formula (18), R ′ 3 is hydrogen. An atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group, wherein X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—. , —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—, wherein R ′ 4 to R ′ 11 are each independently a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 12 alkyl groups, C1-C12 alkoxy groups, C6-C12 aryl groups, C1-C12 alkenyl groups, and C1-C12 Is a group selected from an alkynyl group in. The formula (19), Y 'has the formula (4)' include a structure represented by, R '12 to R' 27 are each independently a hydrogen atom, C 1 -C A group selected from an -12 alkyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms; '28 is a hydrogen atom, an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic carbonyl group,, p', q 'is an average number of repetitions, each independently, represent a number of 0 to 30 In formula (4) ′, Z ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and a group selected from -CO-, R '29 ~R' 36 are each independently a hydrogen atom, the number of carbon atoms 12 alkyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a group selected from aryl group, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms having 6 to 12 carbon atoms.)

[6] 式(18)で表される化合物の量が、式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と式(18)で表される化合物と式(19)で表される化合物の合計のモル数に対して3〜20モル%である、[5]に記載のエポキシ樹脂。 [6] The amount of the compound represented by formula (18) is the sum of the bifunctional epoxy resin represented by formula (17), the compound represented by formula (18), and the compound represented by formula (19). The epoxy resin according to [5], which is 3 to 20 mol% with respect to the number of moles.

[7] 構造(A’−1)が、下記式(6)’〜式(15)’で表される構造の1種又は2種以上を含む、[5]又は[6]に記載のエポキシ樹脂。 [7] The epoxy according to [5] or [6], wherein the structure (A′-1) includes one or more of the structures represented by the following formulas (6) ′ to (15) ′: resin.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

[8] 式(19)で表される化合物が、下記式(20)で表される化合物を含む、[5]から[7]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。 [8] The epoxy resin according to any one of [5] to [7], wherein the compound represented by the formula (19) includes a compound represented by the following formula (20).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(20)中、Y’、p’、q’は式(19)におけるY’、p’、q’と同義である。) (In Formula (20), Y ', p', and q 'have the same meanings as Y', p ', and q' in Formula (19).)

[9] 重量平均分子量が2,000〜50,000である、[1]から[8]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。 [9] The epoxy resin according to any one of [1] to [8], which has a weight average molecular weight of 2,000 to 50,000.

[10] エポキシ当量が400g/当量以上15,000g/当量以下である、[1]から[9]のいずれかに記載のエポキシ樹脂。 [10] The epoxy resin according to any one of [1] to [9], wherein the epoxy equivalent is 400 g / equivalent to 15,000 g / equivalent.

[11] [1]から[10]のいずれかに記載の本発明のエポキシ樹脂と、硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物。 [11] An epoxy resin composition comprising the epoxy resin of the present invention according to any one of [1] to [10] and a curing agent.

[12] 本発明のエポキシ樹脂100重量部に対し、硬化剤を0.1〜100重量部含む、[11]に記載のエポキシ樹脂組成物。 [12] The epoxy resin composition according to [11], including 0.1 to 100 parts by weight of a curing agent with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention.

[13] 更に本発明のエポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂を含み、固形分としての本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂の合計100重量部中、他のエポキシ樹脂を1〜99重量部含む、[11]又は[12]に記載のエポキシ樹脂組成物。 [13] Further, other epoxy resins other than the epoxy resin of the present invention are included, and 1 to 99 parts by weight of the other epoxy resins are included in a total of 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention and other epoxy resins as a solid content. [11] or [12] The epoxy resin composition described in [12].

[14] 本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂の合計100重量部に対し、硬化剤を0.1〜100重量部含む、[13]に記載のエポキシ樹脂組成物。 [14] The epoxy resin composition according to [13], including 0.1 to 100 parts by weight of a curing agent with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention and another epoxy resin.

[15] 硬化剤がフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール類、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤からなる群から選ばれる少なくとも1種である、[11]から[14]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。 [15] The curing agent according to [11] to [14], wherein the curing agent is at least one selected from the group consisting of phenolic curing agents, amide curing agents, imidazoles, active ester curing agents, and cyanate ester curing agents. The epoxy resin composition in any one.

[16] [11]から[15]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を用いてなる電気・電子回路用積層板。 [16] A laminate for an electric / electronic circuit, comprising the epoxy resin composition according to any one of [11] to [15].

[17] [11]から[15]のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。 [17] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of [11] to [15].

本発明によれば、ポリフェニレンエーテル骨格が有する優れた耐熱性、誘電特性を保ちつつ、溶液粘度が低いエポキシ樹脂を提供することができる。また、このエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物で、誘電特性、耐熱性に優れた硬化物を、良好な取り扱い性、作業性、生産性のもとに提供することができる。
このため、本発明のエポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物は、接着剤、塗料、土木用建築材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。
本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物は、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板等に好適に用いることができる。
According to the present invention, it is possible to provide an epoxy resin having a low solution viscosity while maintaining the excellent heat resistance and dielectric properties of the polyphenylene ether skeleton. Moreover, the epoxy resin composition using this epoxy resin can provide a cured product excellent in dielectric properties and heat resistance with good handling properties, workability, and productivity.
For this reason, the epoxy resin and epoxy resin composition of the present invention can be applied to various fields such as adhesives, paints, building materials for civil engineering, insulating materials for electric / electronic parts, etc., especially in the electric / electronic field. Useful as casting, laminating material, sealing material and the like.
The epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the same are used for multilayer printed wiring boards, laminates for electric / electronic circuits such as capacitors, adhesives such as film adhesives and liquid adhesives, semiconductor sealing materials, It can be suitably used for fill materials, 3D-LSI interchip fills, insulating sheets, prepregs, heat dissipation substrates, and the like.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。
また、本明細書において、各置換基の炭素数は、当該置換基が更に置換基を有する場合、その置換基をも含めた合計の炭素数をさす。
なお、本明細書中では、上記式(3)の構造を持つ化合物、構造自体の総称をポリフェニレンエーテルとしているが、一般的な名称として、ポリフェニレンオキシド、ポリアリールエーテルなどと呼ばれる場合もある。
Embodiments of the present invention will be described in detail below. However, the following description is an example of the embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following descriptions unless it exceeds the gist. It is not something. In addition, when using the expression “to” in the present specification, it is used as an expression including numerical values or physical property values before and after the expression.
In this specification, the carbon number of each substituent refers to the total number of carbon atoms including the substituent when the substituent further has a substituent.
In the present specification, the compound having the structure of the above formula (3) and the generic name of the structure itself are referred to as polyphenylene ether, but may be generally referred to as polyphenylene oxide, polyaryl ether, or the like.

〔エポキシ樹脂〕
本発明のエポキシ樹脂は、下記式(1)で表されるものである。
〔Epoxy resin〕
The epoxy resin of the present invention is represented by the following formula (1).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(1)中、Aは、式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下「構造(A−1)」と称す。)のうちの2種以上と、式(3)で表される構造とを含み、
およびRは、ともに式(5)で表される基であるか、或いは一方が式(5)で表される基で他方が水素原子であり、
は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、
mは繰り返し数の平均値であり、0〜500の数を示す。
式(2)中、Xは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。
式(3)中、Yは式(4)で表される構造を含み、
12〜R27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、
p,qは繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。
式(4)中、Zは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
29〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。)
(In the formula (1), A represents a structure selected from the group represented by the structure represented by the formula (2) and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter referred to as “structure (A-1)”). Two or more of the above and a structure represented by the formula (3),
R 1 and R 2 are both a group represented by the formula (5), or one is a group represented by the formula (5) and the other is a hydrogen atom,
R 3 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group,
m is an average value of the number of repetitions and represents a number of 0 to 500.
In formula (2), X represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—. A group selected from
R 4 to R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms.
In formula (3), Y includes the structure represented by formula (4),
R 12 to R 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms,
p and q are average values of the number of repetitions, and each independently represents a number of 0 to 30.
In formula (4), Z represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—. A group selected from
R 29 to R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms. )

本発明のエポキシ樹脂は、耐熱性、誘電特性に優れるとともに、溶液粘度が低いという特長を有する。上記式(1)において、ポリフェニレンエーテル骨格を有することで、優れた耐熱性、低誘電特性が得られるとともに、構造(A−1)として2種以上のポリフェニレンエーテル骨格以外の他の構造を適度に有することで、課題となっている溶液粘度を低減することができる。   The epoxy resin of the present invention is characterized by excellent heat resistance and dielectric properties and low solution viscosity. In the above formula (1), by having a polyphenylene ether skeleton, excellent heat resistance and low dielectric properties can be obtained, and as the structure (A-1), other structures other than two or more polyphenylene ether skeletons can be appropriately used. By having it, the solution viscosity which is a subject can be reduced.

[化学構造]
前記式(1)中、Aは、前記式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下「構造(A−1)」と称す。)のうちの2種以上と、式(3)で表される構造(以下「構造(3)」と称す場合がある。)とを含む。
[Chemical structure]
In the formula (1), A is a structure selected from the group represented by the structure represented by the formula (2) and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter “structure (A-1)”). And a structure represented by the formula (3) (hereinafter sometimes referred to as “structure (3)”).

構造(A−1)における炭素数1〜13の2価の炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキレン基、アリーレン基、これらを2以上組み合わせた基が挙げられ、具体的には、次のようなものが挙げられる。なお、以下において、「Ph」はフェニル基を示す。
例えば、−CH−、−C−等の−(CH−で表される基、−CH(CH)−、−C(CH−、−CH(Ph)−、−C(CH)Ph−、−CPh−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロプロピレン基、1,1−シクロブチレン基、1,1−シクロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基、1,2−シクロプロピレン基、1,2−シクロブチレン基、1,2−シクロペンチレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2−フェニレン基、1,3−シクロブチレン基、1,3−シクロペンチレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,3−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−フェニレン基、2,2−ジメチルプロピレン等である。
Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms in the structure (A-1) include a linear, branched or cyclic alkylene group, an arylene group, and a group in which two or more of these are combined. The following can be mentioned. In the following, “Ph” represents a phenyl group.
For example, a group represented by — (CH 2 ) k —, such as —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —CH (CH 3 ) —, —C (CH 3 ) 2 —, —CH (Ph) -, - C (CH 3) Ph -, - CPh 2 -, 9,9- fluorenylene group, 1,1-cyclopropylene group, 1,1-cyclobutylene group, 1,1-cyclopentylene group, 1, 1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group, 1,1-cyclododecylene group, 1,2-cyclopropylene group, 1,2-cyclobutylene group, 1,2-cyclo Pentylene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,2-phenylene group, 1,3-cyclobutylene group, 1,3-cyclopentylene group, 1,3-cyclohexylene group, 1,3-phenylene group 1,4-cyclohexylene group, 1,4-phen Ren group, a 2,2-dimethylpropylene and the like.

これらの中でも、構造(A−1)における炭素数1〜13の2価の炭化水素基としては、原料入手の容易性、また、溶液粘度を低く抑える観点から、−(CH−(kは2〜12)、2,2−ジメチルプロピレン基、−CH(Ph)−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基が好ましく、特に−(CH−(kは2〜12、特に好ましくはk=2,4,6,12のいずれか)、2,2−ジメチルプロピレン基が好ましい。 Among these, the divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms in the structure (A-1) is — (CH 2 ) k — () from the viewpoint of easy availability of raw materials and low solution viscosity. k is 2 to 12), 2,2-dimethylpropylene group, -CH (Ph)-, 9,9-fluorenylene group, 1,1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohex A silene group and a 1,1-cyclododecylene group are preferable, and in particular, — (CH 2 ) k — (k is 2 to 12, particularly preferably any of k = 2, 4, 6, 12), 2,2-dimethylpropylene. Groups are preferred.

前記式(2)中、Xは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−及び−CO−から選ばれる基である。 In the formula (2), X is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 — and —CO—. Is a group selected from

ここで、前記式(2)のXにおける炭素数1〜13の2価の炭化水素基としては次のようなものが挙げられる。
例えば、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−CH(Ph)−、−C(CH)Ph−、−CPh−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロプロピレン基、1,1−シクロブチレン基、1,1−シクロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基、1,2−エチレン基、1,2−シクロプロピレン基、1,2−シクロブチレン基、1,2−シクロペンチレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2−フェニレン基、1,3−プロピレン基、1,3−シクロブチレン基、1,3−シクロペンチレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,3−フェニレン基、1,4−ブチレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−フェニレン基等である。
Here, the following are mentioned as a C1-C13 bivalent hydrocarbon group in X of said Formula (2).
For example, —CH 2 —, —CH (CH 3 ) —, —C (CH 3 ) 2 —, —CH (Ph) —, —C (CH 3 ) Ph—, —CPh 2 —, 9,9-fluorenylene. Group, 1,1-cyclopropylene group, 1,1-cyclobutylene group, 1,1-cyclopentylene group, 1,1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group 1,1-cyclododecylene group, 1,2-ethylene group, 1,2-cyclopropylene group, 1,2-cyclobutylene group, 1,2-cyclopentylene group, 1,2-cyclohexylene group, 1, 2-phenylene group, 1,3-propylene group, 1,3-cyclobutylene group, 1,3-cyclopentylene group, 1,3-cyclohexylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-butylene group 1,4-cyclohexylene group, 1 4-phenylene group.

これらの中でも、式(2)における2つのベンゼン環の回転自由度が低い方が耐熱性に優れる傾向にあることから、Xは直接結合、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−CH(Ph)−、−C(CH)Ph−、−CPh−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基、−O−、−S−、−SO−、−CO−等のように、2つのベンゼン環の連結に関与する原子数が0又は1のものが好ましい。これらの中でも直接結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−C(CH)Ph−、9,9−フルオレニレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基がより好ましく、直接結合、−C(CH)Ph−、−C(CF−、9,9−フルオレニレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基がさらに好ましい。 Among these, since the one where the degree of freedom of rotation of the two benzene rings in the formula (2) is lower tends to be excellent in heat resistance, X is a direct bond, —CH 2 —, —CH (CH 3 ) —, — C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - CH (Ph) -, - C (CH 3) Ph -, - CPh 2 -, 9,9- fluorenylene group, 1,1-cyclohexylene Two benzenes such as silene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group, 1,1-cyclododecylene group, —O—, —S—, —SO 2 —, —CO—, etc. Those having 0 or 1 atoms involved in ring connection are preferred. Among these, a direct bond, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —C (CH 3 ) Ph—, 9,9-fluorenylene group, 3, 3, 5 - trimethyl-1,1-cyclohexylene group, more preferably 1,1-cyclododecylene group, a direct bond, -C (CH 3) Ph - , - C (CF 3) 2 -, 9,9- fluorenylene group, 3 , 3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group and 1,1-cyclododecylene group are more preferable.

また、Xが直接結合である場合、前記式(2)におけるビフェニル骨格は、2,2’−ビフェニル骨格、2,3’−ビフェニル骨格、2,4’−ビフェニル骨格、3,3’−ビフェニル骨格、3,4’−ビフェニル骨格、4,4’−ビフェニル骨格のいずれでもよいが、好ましくは4,4’−ビフェニル骨格である。
一方、Xが−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−CH(Ph)−、−C(CH)Ph−、−CPh−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基、−O−、−S−、−SO−、−CO−等である場合、前記式(2)におけるベンゼン環における結合位置は、2,2’−位、2,3’−位、2,4’−位、3,3’−位、3,4’−位、4,4’−位のいずれでもよいが、好ましくは4,4’−位である。
When X is a direct bond, the biphenyl skeleton in the formula (2) is a 2,2′-biphenyl skeleton, a 2,3′-biphenyl skeleton, a 2,4′-biphenyl skeleton, or a 3,3′-biphenyl. Any of a skeleton, a 3,4′-biphenyl skeleton, and a 4,4′-biphenyl skeleton may be used, but a 4,4′-biphenyl skeleton is preferable.
On the other hand, X represents —CH 2 —, —CH (CH 3 ) —, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —CH (Ph) —, —C (CH 3 ) Ph—. , -CPh 2 -, 9,9- fluorenylene group, 1,1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group, 1,1-cyclododecylene group, -O -, - S In the case of —, —SO 2 —, —CO—, etc., the bonding positions on the benzene ring in the formula (2) are 2,2′-position, 2,3′-position, 2,4′-position, 3 , 3′-position, 3,4′-position, and 4,4′-position, but preferably 4,4′-position.

前記式(2)において、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から任意に選ばれる基である。 In the formula (2), R 4 to R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a carbon number. It is a group arbitrarily selected from an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms.

ここで、前記式(2)におけるR〜R11の炭素数1〜12のアルキル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、また、フェニル基等の置換基を有していてもよく、次のようなものが挙げられる。
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、n−オクチル基、シクロオクチル基、n−ノニル基、3,3,5−トリメチルシクロヘキシル基、n−デシル基、シクロデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、シクロドデシル基、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基、2−フェニルイソプロピル基等である。
Here, the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of R 4 to R 11 in the formula (2) may be linear, branched or cyclic, and has a substituent such as a phenyl group. The following may be mentioned.
For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, cycloheptyl group, methylcyclohexyl group, n-octyl group, cyclooctyl group, n-nonyl group, 3,3,5-trimethylcyclohexyl group, n- Decyl group, cyclodecyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclododecyl group, benzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, naphthylmethyl group, phenethyl group, 2-phenylisopropyl group, etc. .

また、前記式(2)におけるR〜R11の炭素数1〜12のアルコキシ基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、また、フェニル基等の置換基を有していてもよく、次のようなものが挙げられる。
例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、イソペントキシ基、ネオペントキシ基、tert−ペントキシ基、シクロペントキシ基、n−ヘキシロキシ基、イソヘキシロキシ基、シクロヘキシロキシ基、n−ヘプトキシ基、シクロヘプトキシ基、メチルシクロヘキシロキシ基、n−オクチロキシ基、シクロオクチロキシ基、n−ノニロキシ基、3,3,5−トリメチルシクロヘキシロキシ基、n−デシロキシ基、シクロデシロキシ基、n−ウンデシロキシ基、n−ドデシロキシ基、シクロドデシロキシ基、ベンジロキシ基、メチルベンジロキシ基、ジメチルベンジロキシ基、トリメチルベンジロキシ基、ナフチルメトキシ基、フェネチロキシ基、2−フェニルイソプロポキシ基等である。
Moreover, as a C1-C12 alkoxy group of R < 4 > -R < 11 > in the said Formula (2), any may be linear, branched, and cyclic, and it has substituents, such as a phenyl group. The following may be mentioned.
For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentoxy group, isopentoxy group, neopentoxy group, tert-pentoxy group, cyclopent Toxyl group, n-hexyloxy group, isohexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptoxy group, cycloheptoxy group, methylcyclohexyloxy group, n-octyloxy group, cyclooctyloxy group, n-nonyloxy group, 3,3,5-trimethyl Cyclohexyloxy group, n-decyloxy group, cyclodecyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, cyclododecyloxy group, benzyloxy group, methylbenzyloxy group, dimethyl benzyloxy group, trimethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy Group, Enechirokishi group, 2-phenyl-iso-propoxy group.

前記式(2)におけるR〜R11の炭素数6〜12のアリール基としては次のようなものが挙げられる。
例えば、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、エチルフェニル基、スチリル基、キシリル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、メシチル基、エチニルフェニル基、ナフチル基、ビニルナフチル基等の、アルキル基等の置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基などである。
Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms of R 4 to R 11 in the formula (2) include the following.
For example, phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, ethylphenyl group, styryl group, xylyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, mesityl group, ethynylphenyl group, naphthyl group, Examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group, which may have a substituent such as an alkyl group, such as a vinyl naphthyl group.

前記式(2)におけるR〜R11の炭素数2〜12のアルケニル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、また、フェニル基等の置換基を有していてもよく、次のようなものが挙げられる。
例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−メチルビニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、シンナミル基、ナフチルビニル基等である。
The alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms of R 4 to R 11 in the formula (2) may be linear, branched or cyclic, and has a substituent such as a phenyl group. The following are examples.
For example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methylvinyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1,3-butadienyl group, cyclohexenyl group, cyclohexadienyl Group, cinnamyl group, naphthyl vinyl group and the like.

前記式(2)におけるR〜R11の炭素数2〜12のアルキニル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、また、フェニル基等の置換基を有していてもよく、次のようなものが挙げられる。
例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1,3−ブタンジエニル基、フェニルエチニル基、ナフチルエチニル基等である。
The alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms of R 4 to R 11 in the formula (2) may be linear, branched or cyclic, and has a substituent such as a phenyl group. The following are examples.
Examples include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1,3-butanedienyl group, phenylethynyl group, naphthylethynyl group and the like.

以上で挙げた中でも、前記式(2)のR〜R11としては、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、特に好ましくは水素原子、メチル基である。これは置換基が立体的に大きすぎると、分子間の凝集が妨げられ、耐熱性が低下する可能性があるためである。
また、R〜R11が水素原子以外の炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、または炭素数1〜12のアルキニル基である場合、前記式(2)中の水素原子以外の置換基数は2または4であることが好ましく、更に、置換数が2である場合、該置換基は2−位及び2’−位にあることが好ましく、置換数が4である場合、該置換基は2−位、2’−位、6−位及び6’−位にあることが好ましい。
Among the examples mentioned above, R 4 to R 11 in the formula (2) are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. This is because if the substituent is too sterically large, aggregation between molecules is hindered and heat resistance may be reduced.
R 4 to R 11 are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms other than a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, or carbon. In the case of an alkynyl group having 1 to 12, the number of substituents other than a hydrogen atom in the formula (2) is preferably 2 or 4, and when the number of substituents is 2, the substituent is 2- It is preferred that the substituent is in the position and 2′-position, and when the number of substitution is 4, the substituent is preferably in the 2-position, 2′-position, 6-position and 6′-position.

本発明のエポキシ樹脂は、特に、前記式(1)における構造(A−1)、即ち、前記式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造が、下記式(6)〜(15)から選ばれる少なくとも1種の構造を含むことが、耐熱性の向上と溶液粘度を低下させる観点から好ましい。   The epoxy resin of the present invention is particularly a group consisting of the structure (A-1) in the formula (1), that is, the structure represented by the formula (2) and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms. It is preferable that the structure selected from 1 includes at least one structure selected from the following formulas (6) to (15) from the viewpoint of improving heat resistance and reducing the solution viscosity.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

特に構造(A−1)は、上記式(6)〜(15)から選ばれる構造を2種以上含むことが好ましく、とりわけ、上記式(6)、上記式(8)〜(15)から選ばれる構造を2種以上含むことが好ましく、さらに、上記式(6)と式(8)の組み合わせ、上記式(6)と式(9)の組み合わせ、上記式(6)と式(10)の組み合わせ、上記式(6)と式(11)の組み合わせ、上記式(6)と式(12)の組み合わせ、上記式(6)と式(13)の組み合わせ、上記式(6)と式(14)の組み合わせ、上記式(8)と式(9)の組み合わせ、上記式(8)と式(10)の組み合わせ、上記式(8)と式(11)の組み合わせ、上記式(8)と式(12)の組み合わせ、上記式(8)と式(13)の組み合わせ、上記式(8)と式(14)の組み合わせ、上記式(9)と式(10)の組み合わせ、上記式(9)と式(11)の組み合わせ、上記式(9)と式(12)の組み合わせ、上記式(9)と式(13)の組み合わせ、上記式(9)と式(14)の組み合わせ、上記式(10)と式(11)の組み合わせ、上記式(10)と式(12)の組み合わせ、上記式(10)と式(13)、上記式(10)と式(14)の組み合わせの組み合わせで、構造(A−1)の2種以上を含むことが特に好ましい。   In particular, the structure (A-1) preferably contains two or more structures selected from the above formulas (6) to (15), and in particular, selected from the above formulas (6) and (8) to (15). It is preferable that two or more types of structures are included, and further, a combination of the above formulas (6) and (8), a combination of the above formulas (6) and (9), and a combination of the above formulas (6) and (10). A combination of the above formulas (6) and (11), a combination of the above formulas (6) and (12), a combination of the above formulas (6) and (13), and the above formulas (6) and (14). ), The above formula (8) and the formula (9), the above formula (8) and the formula (10), the above formula (8) and the formula (11), the above formula (8) and the formula The combination of (12), the above formula (8) and the formula (13), the above formula (8) and the formula (14) A combination of the above formula (9) and the formula (10), a combination of the above formula (9) and the formula (11), a combination of the above formula (9) and the formula (12), the above formula (9) and the formula ( 13), the above formula (9) and the formula (14), the above formula (10) and the formula (11), the above formula (10) and the formula (12), the above formula (10) and It is particularly preferable that two or more of the structures (A-1) are included in combination of Formula (13) and the combination of Formula (10) and Formula (14).

前記式(1)中のAに含まれる前記式(3)で表される構造において、Yは前記式(4)で表される構造を含む。   In the structure represented by the formula (3) included in A in the formula (1), Y includes the structure represented by the formula (4).

前記式(4)のZは、直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、その具体例としては、前記式(2)におけるXと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
また、前記式(4)中、R29〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、その具体例としては、前記式(2)におけるR〜R11におけると同様のものが挙げられ、置換基数、置換位置も含め、好ましいものも同様である。
Z in the formula (4) is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO. -Is a group selected from-, and specific examples thereof include those similar to X in the formula (2), and preferred ones are also the same.
Further, in the above formula (4), R 29 ~R 36 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, A group selected from an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include those similar to those in R 4 to R 11 in the formula (2). The preferred ones are the same, including the number of substituents and substitution positions.

また、前記式(3)中、R12〜R27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、その具体例としては、前記式(2)におけるR〜R11におけると同様のものが挙げられ、置換基数、置換位置も含め、好ましいものも同様である。 Moreover, in said formula (3), R < 12 > -R < 27 > is respectively independently a hydrogen atom, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C6-C12 aryl group, A group selected from an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include those similar to those in R 4 to R 11 in the formula (2). The preferred ones are the same, including the number of substituents and substitution positions.

なお、前記式(3)におけるYは前記式(4)で表される構造以外の構造を含んでいてもよいが、Yの100モル%中、前記式(4)で表される構造を50モル%以上、特に80〜100モル%含むことが、耐熱性、誘電特性向上の観点から好ましい。   Note that Y in the formula (3) may include a structure other than the structure represented by the formula (4), but in 100 mol% of Y, the structure represented by the formula (4) is 50. It is preferably contained in an amount of at least mol%, particularly 80 to 100 mol% from the viewpoint of improving heat resistance and dielectric properties.

前記式(3)で表される構造(3)としては、例えば、下記式(16)で表される構造を含むものが好ましい。   As the structure (3) represented by the formula (3), for example, a structure including a structure represented by the following formula (16) is preferable.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(16)中、Y、p、qはそれぞれ式(3)におけるY、p、qと同義である。) (In Formula (16), Y, p, and q are synonymous with Y, p, and q in Formula (3), respectively.)

前記式(3)中、p,qは繰り返し数であり、平均値である。p,qはそれぞれ独立したものであり、その値の範囲は耐熱性、誘電特性を良好にする観点から0以上であり、また、樹脂の取り扱い性の観点から30以下である。耐熱性、誘電特性を更に良好にする観点から、p,qは好ましくは1以上であり、より好ましくは3以上である。一方、樹脂の取り扱い性を更に良好なものとする観点から、p,qは好ましくは20以下であり、より好ましくは10以下である。p,qの数は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により得られた数平均分子量Mnより算出することができる。GPC法については具体例を後掲実施例において説明する。   In said Formula (3), p and q are the number of repetitions, and are average values. p and q are independent of each other, and the range of the values is 0 or more from the viewpoint of improving heat resistance and dielectric properties, and 30 or less from the viewpoint of the handleability of the resin. From the viewpoint of further improving heat resistance and dielectric properties, p and q are preferably 1 or more, and more preferably 3 or more. On the other hand, from the viewpoint of further improving the handleability of the resin, p and q are preferably 20 or less, more preferably 10 or less. The numbers of p and q can be calculated from the number average molecular weight Mn obtained by the gel permeation chromatography method (GPC method). Specific examples of the GPC method will be described later in Examples.

前記式(1)において、R及びRは互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子又は前記式(5)で表される化学構造であり、少なくともいずれか一方は前記式(5)で表される基である。 In the formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom or a chemical structure represented by the formula (5), and at least one of them is the formula (5). It is a group represented.

前記式(1)中、Rは水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基のいずれか1種である。 Wherein in formula (1), R 3 is any one of a hydrogen atom, an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic group.

前記式(1)におけるRの炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基としては、アセチル基、プロパノイル基、イソプロパノイル基、ブタノイル基、イソブタノイル基、sec−ブタノイル基、tert−ブタノイル基、ペンタノイル基、イソペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクタノイル基、デカノイル基、アセトアセチル基、フェニルプロパノイル基、シンナミル基等が挙げられる。中でも炭素数2〜4のものがより好ましく、具体的にはアセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、アセトアセチル基が好ましい。 Examples of the aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 3 in the formula (1) include an acetyl group, a propanoyl group, an isopropanoyl group, a butanoyl group, an isobutanoyl group, a sec-butanoyl group, a tert-butanoyl group, and pentanoyl. Group, isopentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, cyclohexylcarbonyl group, octanoyl group, decanoyl group, acetoacetyl group, phenylpropanoyl group, cinnamyl group and the like. Among them, those having 2 to 4 carbon atoms are more preferable, and specifically, an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, and an acetoacetyl group are preferable.

前記式(1)におけるRの芳香族カルボニル基としては、炭素数6〜10の芳香族カルボニル基が好ましく、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基、メトキシベンゾイル基、フリルカルボニル基等が挙げられ、中でもベンゾイル基が好ましい。 The aromatic carbonyl group of R 3 in the formula (1) is preferably an aromatic carbonyl group having 6 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a benzoyl group, a methylbenzoyl group, a methoxybenzoyl group, and a furylcarbonyl group. Groups are preferred.

本発明のエポキシ樹脂は、通常、上述の末端や置換基や繰り返し数p,qなどが異なる分子や、次に説明する繰り返し数mの異なる分子等の混合物である。   The epoxy resin of the present invention is usually a mixture of molecules having different terminals, substituents, repeating numbers p, q, etc., and molecules having different repeating numbers m described below.

前記式(1)中、mは繰り返し数であり、平均値である。その値の範囲は耐熱性向上の観点から0以上であり、また、樹脂の取り扱い性の観点から500以下である。耐熱性を更に良好なものとする観点からmは好ましくは0.5以上であり、より好ましくは1以上であり、一方、樹脂の取り扱い性を更に良好なものとする観点から好ましくは100以下であり、より好ましくは50以下であり、さらに好ましくは20以下である。m数はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により得られた数平均分子量Mnより算出することができる。GPC法については具体例を後掲実施例において説明する。   In said Formula (1), m is a repeating number and is an average value. The range of the value is 0 or more from the viewpoint of improving heat resistance, and is 500 or less from the viewpoint of the handleability of the resin. From the viewpoint of further improving the heat resistance, m is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more, while from the viewpoint of further improving the handleability of the resin, it is preferably 100 or less. Yes, more preferably 50 or less, still more preferably 20 or less. The m number can be calculated from the number average molecular weight Mn obtained by the gel permeation chromatography method (GPC method). Specific examples of the GPC method will be described later in Examples.

本発明のエポキシ樹脂は、溶液粘度を低下させる観点から、前記式(1)中のAとして、式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造である構造(A−1)を2種以上含む。構造(A−1)は、製造時に用いる原料の構造に由来するものであるため、一分子中に2種類以上の構造(A−1)を含有する場合と、各構造を別々の分子中に含むものの混合物となる場合もある。   The epoxy resin of this invention is a group which consists of a structure represented by Formula (2) and a C1-C13 bivalent hydrocarbon group as A in said Formula (1) from a viewpoint of reducing a solution viscosity. 2 or more types of structures (A-1) which are structures selected from are included. Since the structure (A-1) is derived from the structure of the raw material used at the time of production, the case where two or more structures (A-1) are contained in one molecule and the case where each structure is contained in a separate molecule. It may also be a mixture of inclusions.

本発明のエポキシ樹脂は、溶液粘度を低下させる観点から、前記式(1)中のAとして含有する構造(A−1)の合計量が、Aの100モル%に対して50モル%以上であることが好ましく、より好ましくは55モル%以上含むのが好ましく、60モル%以上含むのが特に好ましい。また、耐熱性、誘電特性を良好に保つ観点から、95モル%以下が好ましく、92モル%以下がさらに好ましく、90モル%以下が特に好ましい。なお、各含有量は製造時の原料の仕込比率から計算することができる。   From the viewpoint of reducing the solution viscosity, the total amount of the structure (A-1) contained as A in the formula (1) is 50 mol% or more with respect to 100 mol% of A. It is preferable that it is contained, more preferably 55 mol% or more, and particularly preferably 60 mol% or more. Further, from the viewpoint of maintaining good heat resistance and dielectric properties, it is preferably 95 mol% or less, more preferably 92 mol% or less, and particularly preferably 90 mol% or less. Each content can be calculated from the raw material charge ratio at the time of production.

本発明のエポキシ樹脂は、溶液粘度を向上させる観点から、前記式(1)中のAとして含有する2種以上の構造(A−1)のうちのいずれか一つ構造の含有量が、Aの100モル%に対して1モル%以上であることが好ましく、より好ましくは3モル%以上含むのが好ましい。また、耐熱性、誘電特性を良好に保つ観点から、50モル%以下が好ましく、30モル%以下がさらに好ましく、20モル%以下が特に好ましい。   From the viewpoint of improving the solution viscosity, the epoxy resin of the present invention has a content of any one of two or more structures (A-1) contained as A in the formula (1). It is preferable that it is 1 mol% or more with respect to 100 mol% of this, More preferably, it is preferable to contain 3 mol% or more. Further, from the viewpoint of maintaining good heat resistance and dielectric properties, it is preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, and particularly preferably 20 mol% or less.

また、本発明のエポキシ樹脂は、溶液粘度と耐熱性、誘電特性のバランスをとるため、構造(A−1)と構造(3)とのモル比([構造(A−1)のモル数]/[構造(3)のモル数])は、10/90以上であることが好ましく、30/70以上であることがより好ましく、50/50以上であることが更に好ましく、60/40以上であることが特に好ましい。一方、耐熱性、誘電特性の観点から99/1以下であることが好ましく、90/10以下であることがより好ましく、85/15以下であることが更に好ましい。   In addition, the epoxy resin of the present invention balances solution viscosity, heat resistance, and dielectric properties, so that the molar ratio between the structure (A-1) and the structure (3) ([number of moles of structure (A-1)] / [Number of moles of structure (3)]) is preferably 10/90 or more, more preferably 30/70 or more, further preferably 50/50 or more, and 60/40 or more. It is particularly preferred. On the other hand, from the viewpoint of heat resistance and dielectric properties, it is preferably 99/1 or less, more preferably 90/10 or less, and even more preferably 85/15 or less.

なお、式(1)におけるAは、構造(A−1)と構造(3)以外の構造を含んでいてもよいが、構造(A−1)と構造(3)とを含むことによる溶液粘度、耐熱性、誘電特性の観点から、A100モル%中の構造(A−1)と構造(3)の合計の含有量は50モル%以上、特に80〜100モル%であることが好ましい。   In addition, although A in Formula (1) may contain structures other than a structure (A-1) and a structure (3), the solution viscosity by containing a structure (A-1) and a structure (3). From the viewpoint of heat resistance and dielectric properties, the total content of the structure (A-1) and the structure (3) in A100 mol% is preferably 50 mol% or more, particularly preferably 80 to 100 mol%.

[重量平均分子量(Mw)]
本発明のエポキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は2,000〜50,000であることが好ましい。重量平均分子量が2,000より低いものでは耐熱性や誘電特性が低くなり、50,000より高いと樹脂の取り扱いが困難となる。本発明のエポキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、耐熱性や誘電特性を更に向上させる観点から、3,000以上がより好ましく、5,000以上がさらに好ましく、一方、取り扱い性を良好なものとする観点から、30,000以下がより好ましく、20,000以下が更に好ましい。なお、エポキシ樹脂の重量平均分子量及び数平均分子量は前述のゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定することができる。
[Weight average molecular weight (Mw)]
The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin of the present invention is preferably 2,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is lower than 2,000, the heat resistance and dielectric properties are low, and when it is higher than 50,000, it becomes difficult to handle the resin. The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin of the present invention is more preferably 3,000 or more, further preferably 5,000 or more, from the viewpoint of further improving heat resistance and dielectric properties, while having good handleability. In view of the above, 30,000 or less is more preferable, and 20,000 or less is more preferable. In addition, the weight average molecular weight and number average molecular weight of an epoxy resin can be measured by the above-mentioned gel permeation chromatography method (GPC method).

[エポキシ当量]
本発明のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、400〜15,000g/当量であることが好ましい。本発明のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、耐熱性や誘電特性を更に向上させる観点から、420g/当量以上が好ましく、430g/当量以上がさらに好ましい。一方、硬化性を良好に保つ観点から、12,000g/当量以下が好ましく、10,000g/当量以下がより好ましい。さらに、エポキシ当量が数平均分子量以下であることが好ましい。エポキシ当量はエポキシ基当たりの分子量であるから、エポキシ当量が数平均分子量以下であることは、平均で一分子当たり一つ以上のエポキシ基が含まれていることを意味する。これにより、本発明のエポキシ樹脂はそれ自体が硬化反応に関与し、架橋構造に組み込まれることが可能である。
[Epoxy equivalent]
The epoxy equivalent of the epoxy resin of the present invention is preferably 400 to 15,000 g / equivalent. The epoxy equivalent of the epoxy resin of the present invention is preferably 420 g / equivalent or more, more preferably 430 g / equivalent or more, from the viewpoint of further improving heat resistance and dielectric properties. On the other hand, from the viewpoint of maintaining good curability, it is preferably 12,000 g / equivalent or less, and more preferably 10,000 g / equivalent or less. Furthermore, it is preferable that an epoxy equivalent is below a number average molecular weight. Since the epoxy equivalent is the molecular weight per epoxy group, the epoxy equivalent being equal to or less than the number average molecular weight means that one or more epoxy groups are contained per molecule on average. Thereby, the epoxy resin of the present invention itself participates in the curing reaction and can be incorporated into the crosslinked structure.

[エポキシ樹脂の製造方法]
本発明のエポキシ樹脂は、例えば、下記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(18)で表される化合物と、下記式(19)で表される化合物を反応させて得られる。即ち、本発明のエポキシ樹脂は、下記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(18)で表される化合物と、下記式(19)で表される化合物との反応物である。
[Method for producing epoxy resin]
The epoxy resin of the present invention is obtained, for example, by reacting a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (17), a compound represented by the following formula (18), and a compound represented by the following formula (19). can get. That is, the epoxy resin of the present invention is a reaction product of a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (17), a compound represented by the following formula (18), and a compound represented by the following formula (19). It is.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(17)および式(18)中、A’は、式(2)’で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下、「構造(A’−1)」と称す。)のうちの2種以上を含み、
nは繰り返し数の平均値であり、0〜6の整数を示す。
式(18)中、R’は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基である。
式(2)’中、X’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
R’〜R’11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。
式(19)中、Y’は式(4)’で表される構造を含み、
R’12〜R’27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、
R’28は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、
p’,q’は繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。
式(4)’中、Z’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
R’29〜R’36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。)
(In Formula (17) and Formula (18), A ′ is a structure selected from the group represented by Formula (2) ′ and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter, “ Including two or more of structure (A′-1) ”,
n is an average value of the number of repetitions and represents an integer of 0 to 6.
In Formula (18), R ′ 3 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group.
In formula (2) ′, X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and — A group selected from CO-
R ′ 4 to R ′ 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms.
In Formula (19), Y ′ includes a structure represented by Formula (4) ′,
R ′ 12 to R ′ 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms,
R ′ 28 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group,
p ′ and q ′ are average values of the number of repetitions, and each independently represents a number of 0 to 30.
In formula (4) ′, Z ′ represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and — A group selected from CO-
R ′ 29 to R ′ 36 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms. )

上記式(17),(18)におけるA’の構造(A’−1)としては、前記構造(A−1)と同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。即ち、上記式(2)’におけるX’およびR’〜R’11は、それぞれ前記式(2)におけるXおよびR〜R11と同義である。
また、上記式(18)におけるR’の水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基としては、前記式(1)におけるRと同様のものが挙げられる。
また、上記式(19)におけるY’は、前記式(3)におけるYと同様であり、好ましいものも同様である。即ち、上記式(4)’におけるZ’およびR’29〜R’36は、それぞれ前記式(4)におけるZおよびR29〜R36と同義である。
また、上記式(19)におけるR’12〜R’27は、前記式(3)におけるR12〜R27と同様であり、好ましいものも同様である。また、上記式(19)におけるp’,q’は、前記式(3)におけるp,qと同様であり、好ましいものも同様である。
As the structure (A′-1) of A ′ in the above formulas (17) and (18), the same structure as the structure (A-1) can be mentioned, and the preferable ones are also the same. That is, X ′ and R ′ 4 to R ′ 11 in the formula (2) ′ have the same meanings as X and R 4 to R 11 in the formula (2), respectively.
Moreover, as the hydrogen atom of R ′ 3 in the above formula (18), the aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or the aromatic carbonyl group, those similar to R 3 in the above formula (1) can be mentioned.
Y ′ in the above formula (19) is the same as Y in the above formula (3), and the preferred ones are also the same. That is, Z ′ and R ′ 29 to R ′ 36 in the above formula (4) ′ have the same meanings as Z and R 29 to R 36 in the above formula (4), respectively.
Also, R '12 ~R' 27 in formula (19), the formula (3) is the same as R 12 to R 27 in, preferable ones are also same. Further, p ′ and q ′ in the above formula (19) are the same as p and q in the above formula (3), and preferable ones are also the same.

本発明のエポキシ樹脂の製造に用いられる前記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂としては、例えば、前記式(18)で表されるビスフェノール系化合物(R’3が水素原子であるもの)を、公知の方法によってエピハロヒドリンと縮合させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。 Things as the bifunctional epoxy resin represented by the formula used in the production of the epoxy resin (17) of the present invention, for example, the formula (18) bisphenol-based compound represented by the (R '3 is a hydrogen atom ) With an epihalohydrin by a known method.

また、本発明のエポキシ樹脂の製造に、前記式(18)で表される化合物や前記式(19)で表される化合物としてジエステル化合物を用いる場合、当該ジエステル化合物は、例えば、前記式(18)(R’3が水素原子であるもの)及び/又は前記式(19)(R’28が水素原子であるもの)で表されるジヒドロキシ化合物を、酸クロリドや酸無水物、あるいはカルボン酸等との縮合反応でアシル化して得ることができる。 Moreover, when using a diester compound as a compound represented by the said Formula (18) or a compound represented by the said Formula (19) for manufacture of the epoxy resin of this invention, the said diester compound is the said Formula (18), for example. ) (R '3 is as a hydrogen atom) and / or the formula (19) (dihydroxy compound R '28 is represented by a one) hydrogen atom, an acid chloride or acid anhydride, or carboxylic acid And can be obtained by acylation by a condensation reaction.

前記式(17)及び/又は前記式(18)のA’における構造(A’−1)は、下記式(6)’〜(15)’で表される構造の少なくとも1種を含むことが、得られるエポキシ樹脂の溶液粘度を低下させるために好ましい。   The structure (A′-1) in A ′ of the formula (17) and / or the formula (18) includes at least one of structures represented by the following formulas (6) ′ to (15) ′. In order to reduce the solution viscosity of the resulting epoxy resin, it is preferable.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

通常、前記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂は構造(A’−1)の少なくとも1種を含み、前記式(18)で表される化合物は、当該式(17)で表される2官能エポキシ樹脂が含む構造(A’−1)とは異なる構造(A’−1)の少なくとも1種を含む。   Usually, the bifunctional epoxy resin represented by the formula (17) includes at least one of the structures (A′-1), and the compound represented by the formula (18) is represented by the formula (17). And at least one structure (A′-1) different from the structure (A′-1) included in the bifunctional epoxy resin.

前記式(17)におけるnは繰り返し数の平均値であり、0以上6以下の数である。公知の方法で前記式(18)(R’3が水素原子であるもの)のビスフェノール系化合物とエピハロヒドリンを反応させると、前記式(17)におけるnは0より大きくなるのが通常である。nを0とするためには、公知の方法で製造したエポキシ樹脂を蒸留・晶析等の手法で高度に精製するか、または前記式(18)で表されるビスフェノール系化合物をアリル化した後に、オレフィン部分を酸化することでエポキシ化する方法がある。また、例えば金属に対する接着性を微調整する際に、適当なn数のエポキシ樹脂を用いることで、吸湿性を始めとする他の物性に大きな影響を及ぼさない範囲で、本発明のエポキシ樹脂中に敢えて適量の二級水酸基を存在させることができる。 N in the formula (17) is an average value of the number of repetitions, and is a number of 0 or more and 6 or less. Reaction of bisphenol compound with an epihalohydrin of the formula (18) (R '3 is as a hydrogen atom) in a known manner, the equation that n is greater than 0 in (17) is generally. In order to set n to 0, an epoxy resin produced by a known method is highly purified by a technique such as distillation and crystallization, or after allylation of the bisphenol compound represented by the formula (18). There is a method of epoxidizing by oxidizing the olefin part. Further, for example, when finely adjusting the adhesiveness to metal, by using an appropriate number n of epoxy resins, in the epoxy resin of the present invention within a range that does not significantly affect other physical properties such as hygroscopicity. An appropriate amount of secondary hydroxyl groups can be present.

前記式(19)中、Y’は前記式(4)’を含む。前記式(4)’の詳細説明は、前記式(3)中のYとして含まれる前記式(4)の前記説明と同様である。すなわち、式(4)’におけるZ’の詳細説明は式(4)におけるZの前記説明と同様であり、R’29〜R’36の詳細説明はR29〜R36の前記説明と同様である。
前記式(19)中、p’,q’はそれぞれ独立に0〜30の数である。p’,q’の詳細説明は前記式(3)におけるp、qの前記説明とそれぞれ同様である。
前記式(19)中、R’12〜R’27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から任意に選ばれる基である。R’12〜R’27の詳細説明は、前記式(3)のR12〜R27の前記説明と同様である。
In the formula (19), Y ′ includes the formula (4) ′. The detailed description of the formula (4) ′ is the same as the description of the formula (4) included as Y in the formula (3). In other words, detailed description of the 'Z' in formula (4) is the same as the description of Z in Formula (4), detailed description of the R '29 ~R '36 is similar to the description of R 29 to R 36 is there.
In the formula (19), p ′ and q ′ are each independently a number from 0 to 30. The detailed description of p ′ and q ′ is the same as the above description of p and q in the formula (3).
In the formula (19), R ′ 12 to R ′ 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, It is a group arbitrarily selected from a C 1-12 alkenyl group and a C 1-12 alkynyl group. The detailed description of R ′ 12 to R ′ 27 is the same as the description of R 12 to R 27 in the formula (3).

前記式(19)中、R’28は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基である。R’28の詳細説明は、前記式(1)におけるRの前記説明と同様である。 In the formula (19), R '28 is hydrogen atom, an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic group. The detailed description of R ′ 28 is the same as the description of R 3 in the formula (1).

前記式(19)で表される化合物としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量が500〜8,000のものが好ましい。即ち、耐熱性、誘電特性を良好に保つ観点から、この化合物の数平均分子量は500以上が好ましく、1,000以上がさらに好ましい。また、取扱い性を確保し、溶液粘度及び、溶融粘度を低く抑える観点から、8,000以下が好ましく、5,500以下が更に好ましく、3,000以下が特に好ましい。   The compound represented by the formula (19) is preferably a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 500 to 8,000 measured by a gel permeation chromatography method (GPC method). That is, from the viewpoint of maintaining good heat resistance and dielectric properties, the number average molecular weight of this compound is preferably 500 or more, and more preferably 1,000 or more. Moreover, from a viewpoint of ensuring handleability and keeping solution viscosity and melt viscosity low, 8,000 or less is preferable, 5,500 or less is more preferable, and 3,000 or less is particularly preferable.

前記式(19)で表される化合物は、例えば、下記式(20)で表される化合物を含むことが好ましい。   The compound represented by the formula (19) preferably includes, for example, a compound represented by the following formula (20).

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(式(20)中、Y’、p’、q’は式(19)におけるY’、p’、q’と同義である。) (In Formula (20), Y ', p', and q 'have the same meanings as Y', p ', and q' in Formula (19).)

前記式(19)で表される化合物の製造方法は、特に限定されないが、例えば、(i)酵素触媒を用いる方法、(ii)ラジカル開始剤を用いる方法、(iii)錯体触媒を用いる方法などがある。(i)法では、2価フェノール化合物を、1価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させることにより製造される。(ii)法は、米国特許第3367978号明細書及び同4234706号明細書、及びホワイトら「White_et_
al.」のJ.Org.Chem.、1969、Vol.34,297−303.にその方法が記載されている。具体的には、工業的に得られるポリフェニレンエーテル(数平均分子量10,000〜30,000)をポリフェノール化合物とラジカル開始剤の存在下で再分配反応させる方法である。使用するポリフェノール化合物としては、フェノール性水酸基を分子内に2個以上有する多官能フェノール類ならどのようなものでもよく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールAD、ビフェノール類、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどが挙げられる。ラジカル開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイドなどが挙げられる。(iii)法は、特開昭49−69797号公報に記載の公知の方法を用いることができる。それは、2,6−置換フェノール類と1分子中に2個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物とを酸化共重合させることにより、ポリマー末端に選択的にフェノール性水酸基を有するポリフェニレンエーテルオリゴマーを得る方法である。具体的には、2,6−キシレノールと2価フェノール化合物をベンゼン、トルエン、クロロホルム等の溶媒中で、銅−ピリジン錯体触媒を用いて、酸素共存下に酸化重合して得られる。
The method for producing the compound represented by the formula (19) is not particularly limited. For example, (i) a method using an enzyme catalyst, (ii) a method using a radical initiator, (iii) a method using a complex catalyst, etc. There is. In the method (i), a dihydric phenol compound is produced by polymerization together with a monohydric phenol compound in the presence of an enzyme catalyst. (Ii) The method is described in U.S. Pat. Nos. 3,367,978 and 4,234,706, and White et al. "White_et_
al. "J. Org. Chem. 1969, Vol. 34, 297-303. Describes the method. Specifically, it is a method in which polyphenylene ether (number average molecular weight 10,000 to 30,000) obtained industrially is redistributed in the presence of a polyphenol compound and a radical initiator. The polyphenol compound to be used may be any polyfunctional phenol having two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule, such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol AD, biphenols, phenol novolac, Examples include cresol novolac. Examples of the radical initiator include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, tert-butylperoxyneodecanoate, tert-butylcumyl peroxide, lauroyl peroxide, and the like. As the method (iii), a known method described in JP-A-49-69797 can be used. It is a method for selectively obtaining a polyphenylene ether oligomer having a phenolic hydroxyl group at a polymer terminal by oxidative copolymerization of a 2,6-substituted phenol and a phenol compound having two phenolic hydroxyl groups in one molecule. It is. Specifically, it can be obtained by oxidative polymerization of 2,6-xylenol and a dihydric phenol compound in a solvent such as benzene, toluene, chloroform and the like using a copper-pyridine complex catalyst in the presence of oxygen.

本発明のエポキシ樹脂の製造に用いる前記式(18)で表される化合物の量は、前記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と前記式(18)で表される化合物と前記式(19)で表される化合物の合計のモル数に対して、溶液粘度を低下させる観点から、好ましくは1モル%以上であり、より好ましくは2モル%以上であり、更に好ましくは3モル%以上である。また、耐熱性、誘電特性を良好に保つ観点から、好ましくは50モル%以下であり、より好ましくは30モル%以下であり、更に好ましくは20モル%以下である。   The amount of the compound represented by the formula (18) used for the production of the epoxy resin of the present invention is the bifunctional epoxy resin represented by the formula (17), the compound represented by the formula (18) and the formula From the viewpoint of reducing the solution viscosity with respect to the total number of moles of the compound represented by (19), it is preferably 1 mol% or more, more preferably 2 mol% or more, and even more preferably 3 mol%. That's it. Moreover, from a viewpoint of keeping heat resistance and a dielectric characteristic favorable, Preferably it is 50 mol% or less, More preferably, it is 30 mol% or less, More preferably, it is 20 mol% or less.

また、本発明のエポキシ樹脂の製造に用いる前記式(18)で表される化合物と前記(19)で表される化合物の割合は1/99〜99/1の任意のモル比を取ることができるが、誘電特性および耐熱性と溶液粘度のバランスをとるためには、モル比([式(18)で表される化合物のモル数]/[式(19)で表される化学構造のモル数])が、5/95以上であることがより好ましく、10/90以上であることが更に好ましく、15/85以上であることが特に好ましく、一方、80/20以下であることが好ましく、70/30以下であることがより好ましく、60/40以下であることがさらに好ましく、55/45以下であることが特に好ましい。   Moreover, the ratio of the compound represented by the said Formula (18) used for manufacture of the epoxy resin of this invention and the compound represented by the said (19) can take arbitrary molar ratios of 1 / 99-99 / 1. However, in order to balance the dielectric properties and heat resistance with the solution viscosity, the molar ratio ([number of moles of compound represented by formula (18)] / [mol of chemical structure represented by formula (19)] The number]) is more preferably 5/95 or more, further preferably 10/90 or more, particularly preferably 15/85 or more, and preferably 80/20 or less, It is more preferably 70/30 or less, further preferably 60/40 or less, and particularly preferably 55/45 or less.

本発明のエポキシ樹脂の製造において、上記の2官能エポキシ樹脂(前記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂)、ジエステル系化合物及び/又はジヒドロキシ系化合物(前記式(18)で表される化合物と前記式(19)で表される化合物の合計)の使用量は、その配合当量比で、(エポキシ基):((エステル基)及び/又は(フェノール性水酸基))=1〜4.5:1となるように用いることが好ましい。この当量比が上記範囲であると、分子末端にエポキシ基を有した状態で、反応を進行させやすくなるために好ましい。   In the production of the epoxy resin of the present invention, the above-mentioned bifunctional epoxy resin (bifunctional epoxy resin represented by the above formula (17)), diester compound and / or dihydroxy compound (expressed by the above formula (18)). The amount used of the compound and the compound represented by the formula (19)) is the compounding equivalent ratio of (epoxy group): ((ester group) and / or (phenolic hydroxyl group)) = 1-4. It is preferable to use so that it may become 5: 1. It is preferable for this equivalent ratio to be in the above-mentioned range since the reaction can easily proceed with an epoxy group at the molecular end.

本発明のエポキシ樹脂の合成には触媒を用いてもよく、その触媒としては、エポキシ基と水酸基及び/又はエステル基との反応を進めるような触媒能を持つ化合物であればどのようなものでもよい。例えば、第3級アミン、環状アミン類、イミダゾール類、有機リン化合物、第4級アンモニウム塩等が挙げられる。   A catalyst may be used for the synthesis of the epoxy resin of the present invention, and any catalyst may be used as long as it has a catalytic ability to promote a reaction between an epoxy group and a hydroxyl group and / or an ester group. Good. For example, tertiary amines, cyclic amines, imidazoles, organic phosphorus compounds, quaternary ammonium salts and the like can be mentioned.

第3級アミンの具体例としては、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン、ピリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等が挙げられる。   Specific examples of the tertiary amine include triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triethanolamine, benzyldimethylamine, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine and the like.

環状アミン類の具体例としては、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネン−5等が挙げられる。   Specific examples of cyclic amines include 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4,3,0. ] Nonene-5 etc. are mentioned.

イミダゾール類の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等が挙げられる。   Specific examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole and the like.

有機リン化合物の具体例としては、トリ−n−プロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(p−トリル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリス(p−メトキシフェニル)ホスフィン、テトラメチルホスホニウムブロマイド、テトラメチルホスホニウムアイオダイド、テトラメチルホスホニウムハイドロオキサイド、テトラブチルホスホニウムハイドロオキサイド、トリメチルシクロヘキシルホスホニウムクロライド、トリメチルシクロヘキシルホスホニウムブロマイド、トリメチルベンジルホスホニウムクロライド、トリメチルベンジルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリフェニルメチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルメチルホスホニウムアイオダイド、トリフェニルエチルホスホニウムクロライド、トリフェニルエチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルエチルホスホニウムアイオダイド、トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホスホニウムブロマイド等が挙げられる。   Specific examples of the organophosphorus compound include tri-n-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tris (p-tolyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tris (p -Methoxyphenyl) phosphine, tetramethylphosphonium bromide, tetramethylphosphonium iodide, tetramethylphosphonium hydroxide, tetrabutylphosphonium hydroxide, trimethylcyclohexylphosphonium chloride, trimethylcyclohexylphosphonium bromide, trimethylbenzylphosphonium chloride, trimethylbenzylphosphonium bromide, tetra Phenylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium Amide, triphenylmethyl phosphonium iodide, triphenyl ethyl phosphonium chloride, triphenyl ethyl phosphonium bromide, triphenyl ethyl phosphonium iodide, triphenyl benzyl phosphonium chloride, triphenyl benzyl phosphonium bromide, and the like.

第4級アンモニウム塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラプロピルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、フェニルトリメチルアンモニウムクロリド等が挙げられる。   Specific examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium hydroxide, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, tetrapropylammonium bromide, Tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltributylammonium chloride, phenyltrimethylammonium chloride, etc. And the like.

以上に挙げた触媒の中でも4−(ジメチルアミノ)ピリジン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネン−5、2−エチル−4−メチルイミダゾール、トリス(p−トリル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリス(p−メトキシフェニル)ホスフィン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好ましく、特に4−(ジメチルアミノ)ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネン−5、2−エチル−4−メチルイミダゾール、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好ましい。また、触媒は1種のみを使用することも、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   Among the catalysts listed above, 4- (dimethylamino) pyridine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nonene-5, 2-ethyl-4-methylimidazole, tris (p-tolyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, tetra Methylammonium hydroxide is preferred, especially 4- (dimethylamino) pyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nonene-5, 2- Ethyl-4-methylimidazole and tetramethylammonium hydroxide are preferred. Moreover, a catalyst can use only 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.

触媒の使用量は反応固形分中、通常0.001〜1重量%であるが、これらの化合物を触媒として使用した場合、得られるエポキシ樹脂中にこれらが触媒残渣として残留し、プリント配線板の絶縁特性を悪化させたり、組成物のポットライフを短縮させたりするおそれがあるので、得られるエポキシ樹脂中の触媒由来の窒素の含有量が好ましくは2000ppm以下であり、また、触媒由来のリンの含有量が好ましくは2000ppm以下となるように用いることが好ましく、特に得られるエポキシ樹脂中の触媒由来の窒素の含有量が1000ppm以下であり、エポキシ樹脂中の触媒由来のリンの含有量が1000ppm以下となるように用いることが好ましい。   The amount of the catalyst used is usually 0.001 to 1% by weight in the reaction solids, but when these compounds are used as a catalyst, they remain as catalyst residues in the resulting epoxy resin, and the printed wiring board The content of nitrogen derived from the catalyst in the resulting epoxy resin is preferably 2000 ppm or less because there is a risk of deteriorating the insulating properties or shortening the pot life of the composition. The content is preferably used so that it is preferably 2000 ppm or less, particularly the content of nitrogen derived from the catalyst in the obtained epoxy resin is 1000 ppm or less, and the content of phosphorus derived from the catalyst in the epoxy resin is 1000 ppm or less. It is preferable to use so that it becomes.

本発明のエポキシ樹脂は、その製造時の合成反応の工程において、反応用の溶媒を用いてもよく、その溶媒としては、エポキシ樹脂を溶解するものであればどのようなものでもよい。例えば、芳香族系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、グリコールエーテル系溶媒等が挙げられる。溶媒は1種のみで用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いることもできる。   The epoxy resin of the present invention may use a reaction solvent in the step of the synthesis reaction at the time of production, and any solvent may be used as long as it dissolves the epoxy resin. Examples include aromatic solvents, ketone solvents, amide solvents, glycol ether solvents, and the like. The solvent may be used alone or in combination of two or more.

芳香族系溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン系溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジオキサン等が挙げられる。   Specific examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, acetylacetone, dioxane and the like.

アミド系溶媒の具体例としては、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、2−ピロリドン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。   Specific examples of the amide solvent include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone and the like.

グリコールエーテル系溶媒の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。   Specific examples of glycol ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol Examples include mono-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like.

エポキシ樹脂の製造時の合成反応における固形分濃度は35〜95重量%が好ましい。また、反応途中で高粘性生成物が生じたときは溶媒を追加添加して反応を続けることもできる。反応終了後、溶媒は必要に応じて、除去することもできるし、更に追加することもできる。   The solid concentration in the synthesis reaction during the production of the epoxy resin is preferably 35 to 95% by weight. Further, when a highly viscous product is produced during the reaction, the reaction can be continued by adding an additional solvent. After completion of the reaction, the solvent can be removed or further added as necessary.

エポキシ樹脂の製造において、2官能エポキシ樹脂とジエステル系化合物及び/又はジヒドロキシ系化合物との重合反応は使用する触媒が分解しない程度の反応温度で実施される。反応温度が高すぎると触媒が分解して反応が停止したり、生成するエポキシ樹脂が劣化したりするおそれがある。逆に温度が低すぎると十分に反応が進まないことがある。これらの理由から反応温度は、好ましくは50〜230℃、より好ましくは120〜200℃である。また、反応時間は通常1〜12時間、好ましくは3〜10時間である。アセトンやメチルエチルケトンのような低沸点溶媒を使用する場合には、オートクレーブを使用して高圧下で反応を行うことで反応温度を確保することができる。   In the production of an epoxy resin, a polymerization reaction between a bifunctional epoxy resin and a diester compound and / or a dihydroxy compound is carried out at a reaction temperature at which the used catalyst is not decomposed. If the reaction temperature is too high, the catalyst may be decomposed to stop the reaction, or the produced epoxy resin may be deteriorated. Conversely, if the temperature is too low, the reaction may not proceed sufficiently. For these reasons, the reaction temperature is preferably 50 to 230 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. Moreover, reaction time is 1 to 12 hours normally, Preferably it is 3 to 10 hours. When using a low boiling point solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, the reaction temperature can be ensured by carrying out the reaction under high pressure using an autoclave.

〔エポキシ樹脂組成物〕
本発明のエポキシ樹脂組成物は、少なくとも前述した本発明のエポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物である。また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂、無機フィラー、カップリング剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜配合することができる。本発明のエポキシ樹脂組成物は誘電特性、耐熱性に優れると共に溶液粘度が低く、各種用途に要求される諸物性を十分に満たす硬化物を良好な作業性、生産性のもとに与えるものである。
[Epoxy resin composition]
The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition containing at least the above-described epoxy resin of the present invention and a curing agent. In addition, the epoxy resin composition of the present invention can be appropriately mixed with other additives such as an epoxy resin other than the epoxy resin of the present invention, an inorganic filler, a coupling agent, and an antioxidant as necessary. it can. The epoxy resin composition of the present invention is excellent in dielectric properties and heat resistance, has a low solution viscosity, and gives a cured product that sufficiently satisfies various physical properties required for various applications under good workability and productivity. is there.

[硬化剤]
硬化剤とは、エポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質を示す。なお、本発明においては通常、「硬化促進剤」と呼ばれるものであってもエポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質であれば、硬化剤とみなすこととする。
[Curing agent]
A hardening | curing agent shows the substance which contributes to the crosslinking reaction and / or chain length extension reaction between the epoxy groups of an epoxy resin. In the present invention, even if what is usually called a “curing accelerator” is a substance that contributes to a crosslinking reaction and / or chain extension reaction between epoxy groups of an epoxy resin, it is regarded as a curing agent. To do.

本発明のエポキシ樹脂組成物中の硬化剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全エポキシ樹脂成分の固形分100重量部に対して、好ましくは固形分で0.1〜100重量部である。また、より好ましくは80重量部以下であり、更に好ましくは60重量部以下である。
なお、本発明において、「固形分」とは溶媒を除いた成分を意味し、固体のエポキシ樹脂のみならず、半固形や粘稠な液状物のものをも含むものとする。また、「全エポキシ樹脂成分」とは、エポキシ樹脂組成物が本発明のエポキシ樹脂のみを含有する場合は、本発明のエポキシ樹脂が該当し、エポキシ樹脂組成物が本発明のエポキシ樹脂と後述の他のエポキシ樹脂を含有する場合は、本発明のエポキシ樹脂と後述する他のエポキシ樹脂との合計に相当する。
The content of the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 100 weight in solid content with respect to 100 weight parts of the solid content of all epoxy resin components in the epoxy resin composition of the present invention. Part. Further, it is more preferably 80 parts by weight or less, and still more preferably 60 parts by weight or less.
In the present invention, the “solid content” means a component excluding the solvent, and includes not only a solid epoxy resin but also a semi-solid or viscous liquid material. In addition, the “all epoxy resin component” means that when the epoxy resin composition contains only the epoxy resin of the present invention, the epoxy resin of the present invention corresponds to the epoxy resin composition of the present invention and the epoxy resin described later. When it contains other epoxy resins, it corresponds to the total of the epoxy resin of the present invention and other epoxy resins described later.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、後述する他のエポキシ樹脂が含まれる場合には、エポキシ樹脂組成物中の本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂との固形分の重量比は後述の通り99/1〜1/99である(即ち、固形分としての本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂との合計100重量部中、他のエポキシ樹脂の含有量が1〜99重量部)ことが好ましい。   In the epoxy resin composition of the present invention, when other epoxy resin described later is included, the weight ratio of the solid content of the epoxy resin of the present invention and the other epoxy resin in the epoxy resin composition is 99 as described later. (That is, the content of the other epoxy resin is 1 to 99 parts by weight in a total of 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention and the other epoxy resin as a solid content). .

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、特に制限はなく一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものはすべて使用できる。耐熱性を高める観点から好ましいものとしてフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール類及び活性エステル系硬化剤等が挙げられる。以下、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤及びその他の使用可能な硬化剤の例を挙げる。   There is no restriction | limiting in particular as a hardening | curing agent used for the epoxy resin composition of this invention, What is generally known as an epoxy resin hardening | curing agent can be used. Preferable ones from the viewpoint of improving heat resistance include phenolic curing agents, amide curing agents, imidazoles, and active ester curing agents. Examples of phenolic curing agents, amide curing agents, imidazole curing agents, active ester curing agents, cyanate ester curing agents, and other usable curing agents will be given below.

<フェノール系硬化剤>
硬化剤としてフェノール系硬化剤を用いることが、得られるエポキシ樹脂組成物の取り扱い性と、硬化後の耐熱性を向上させる観点から好ましい。
<Phenolic curing agent>
It is preferable to use a phenol-based curing agent as the curing agent from the viewpoint of improving the handleability of the resulting epoxy resin composition and the heat resistance after curing.

フェノール系硬化剤の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o−クレゾールノボラック、m−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、t−ブチルカテコール、t−ブチルハイドロキノン、フルオログリシノール、ピロガロール、t−ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,4−ジヒドロキシナフタレン、2,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,8−ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック、アリル化ピロガロール等が例示される。   Specific examples of the phenolic curing agent include bisphenol A, bisphenol F, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis. (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cle All novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2 , 4-Benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2, -Dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, allylated pyrogallol, etc. The

以上で挙げたフェノール系硬化剤は1種のみで用いても、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   The phenolic curing agents mentioned above may be used alone or in a combination of two or more in any combination and ratio.

硬化剤としてフェノール系硬化剤を用いる場合、全エポキシ樹脂成分中のエポキシ基に対するフェノール系硬化剤中の官能基の当量比で0.8〜1.5の範囲となるように用いることが好ましい。この範囲内であると未反応のエポキシ基や硬化剤の官能基が残留しにくくなるために好ましい。   When a phenolic curing agent is used as the curing agent, it is preferably used so that the equivalent ratio of functional groups in the phenolic curing agent to epoxy groups in all epoxy resin components is in the range of 0.8 to 1.5. Within this range, unreacted epoxy groups and functional groups of the curing agent are unlikely to remain, which is preferable.

<アミド系硬化剤>
硬化剤としてアミド系硬化剤を用いることが、得られるエポキシ樹脂組成物の耐熱性の向上の観点から好ましい。
<Amide-based curing agent>
It is preferable to use an amide type curing agent as the curing agent from the viewpoint of improving the heat resistance of the resulting epoxy resin composition.

アミド系硬化剤としてはジシアンジアミド及びその誘導体、ポリアミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the amide-based curing agent include dicyandiamide and derivatives thereof, and polyamide resins.

アミド系硬化剤は1種のみで用いても、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   An amide type | system | group hardening | curing agent may be used only by 1 type, or may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

アミド系硬化剤は、エポキシ樹脂組成物中の固形分としての全エポキシ樹脂成分とアミド系硬化剤との合計に対して0.1〜20重量%の範囲で用いることが好ましい。   The amide-based curing agent is preferably used in the range of 0.1 to 20% by weight with respect to the total of all the epoxy resin components and the amide-based curing agent as a solid content in the epoxy resin composition.

<イミダゾール系硬化剤>
硬化剤としてイミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)を用いることが、硬化反応を十分に進行させ、耐熱性を向上させる観点から好ましい。
<Imidazole-based curing agent>
It is preferable to use imidazoles (imidazole-based curing agent) as the curing agent from the viewpoint of sufficiently proceeding the curing reaction and improving the heat resistance.

イミダゾール類としては、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4(5)−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノ−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加体、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加体、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、及びエポキシ樹脂と上記イミダゾール類との付加体等が例示される。なお、イミダゾール類は触媒能を有するため、一般的には後述する硬化促進剤にも分類されうるが、本発明においては硬化剤として分類するものとする。   Examples of imidazoles include 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4 (5) -methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyano-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino- 6- [2′-Methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s -Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl s-Triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and epoxy resin and the above imidazoles And adducts are exemplified. In addition, since imidazoles have catalytic ability, they can generally be classified as curing accelerators described later, but in the present invention, they are classified as curing agents.

以上に挙げたイミダゾール類は1種のみでも、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   The imidazoles listed above may be used alone or in combination of two or more in any combination and ratio.

イミダゾール類は、エポキシ樹脂組成物中の固形分としての全エポキシ樹脂成分とイミダゾール類との合計に対して0.1〜20重量%の範囲で用いることが好ましい。   It is preferable to use imidazoles in the range of 0.1 to 20% by weight with respect to the total of all epoxy resin components and imidazoles as a solid content in the epoxy resin composition.

<活性エステル系硬化剤>
硬化剤として活性エステル系硬化剤を用いることが、得られる硬化物の耐熱性、誘電特性を向上させる観点から好ましい。
<Active ester curing agent>
It is preferable to use an active ester curing agent as the curing agent from the viewpoint of improving the heat resistance and dielectric properties of the resulting cured product.

活性エステル系硬化剤としては、フェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく、中でも、カルボン酸化合物とフェノール性水酸基を有する芳香族化合物とを反応させたフェノールエステル類がより好ましい。カルボン酸化合物としては、具体的には、安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、カテコール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラック等が挙げられる。   Examples of the active ester curing agent include compounds having two or more ester groups having high reaction activity in one molecule, such as phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, and heterocyclic hydroxy compounds. Among them, phenol esters obtained by reacting a carboxylic acid compound with an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group are more preferable. Specific examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and pyromellitic acid. As aromatic compounds having a phenolic hydroxyl group, catechol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, benzenetriol, Examples include dicyclopentadienyl diphenol and phenol novolac.

活性エステル系硬化剤としては、耐熱性向上の観点から内部エステル型の構造をもつ化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリアリレート樹脂などの化合物を硬化剤として用いることができる。   As the active ester curing agent, a compound having an internal ester type structure is preferably used from the viewpoint of improving heat resistance, and specifically, a compound such as polyarylate resin can be used as the curing agent.

以上に挙げた活性エステル系硬化剤は1種のみでも、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   The active ester curing agents listed above may be used alone or in a combination of two or more in any combination and ratio.

活性エステル系硬化剤は、エポキシ樹脂組成物中の全エポキシ樹脂成分中のエポキシ基に対する活性エステル系硬化剤中の活性エステル基の当量比で0.2〜2.0の範囲となるように用いることが好ましい。   The active ester curing agent is used so that the equivalent ratio of the active ester group in the active ester curing agent to the epoxy group in all epoxy resin components in the epoxy resin composition is in the range of 0.2 to 2.0. It is preferable.

<シアネートエステル系硬化剤>
硬化剤としてシアネートエステル化合物を用いることが、得られる硬化物の耐熱性、誘電特性を向上させる観点から好ましい。
<Cyanate ester curing agent>
It is preferable to use a cyanate ester compound as a curing agent from the viewpoint of improving the heat resistance and dielectric properties of the resulting cured product.

シアネートエステル化合物としては、例えば、2,2−ビス(4−シアネートフェニル)プロパン(ビスフェノールA型シアネート樹脂)、ビス(3,5−ジメチル−4−シアネートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアネートフェニル)エタン等、またはこれらの誘導体等の芳香族系シアネートエステル化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the cyanate ester compound include 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane (bisphenol A type cyanate resin), bis (3,5-dimethyl-4-cyanatephenyl) methane, and 2,2-bis (4 -Cyanate phenyl) ethane, etc., or aromatic cyanate ester compounds such as derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.

<その他の硬化剤>
本発明のエポキシ樹脂組成物に用いることのできる上記のフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール類及び活性エステル系硬化剤以外の硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤(ただし、第3級アミンを除く。)、酸無水物系硬化剤、第3級アミン、有機ホスフィン類、ホスホニウム塩、テトラフェニルボロン塩、有機酸ジヒドラジド、ハロゲン化ホウ素アミン錯体、ポリメルカプタン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤、等が挙げられる。以上で挙げたその他の硬化剤は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。
<Other curing agents>
Examples of the curing agent other than the above-mentioned phenol-based curing agent, amide-based curing agent, imidazoles, and active ester-based curing agent that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include an amine-based curing agent (however, the third Except for secondary amines), acid anhydride curing agents, tertiary amines, organic phosphines, phosphonium salts, tetraphenyl boron salts, organic acid dihydrazides, boron halide amine complexes, polymercaptan curing agents, isocyanate curing Agents, blocked isocyanate curing agents, and the like. The other hardening | curing agent quoted above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

[他のエポキシ樹脂]
本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂に加え、本発明のエポキシ樹脂とは異なる他のエポキシ樹脂を含むことができる。他のエポキシ樹脂を用いることで、不足する物性を補ったり、種々の物性を向上させたりすることができる。
[Other epoxy resins]
The epoxy resin composition of the present invention can contain other epoxy resins different from the epoxy resin of the present invention in addition to the epoxy resin of the present invention. By using other epoxy resins, the insufficient physical properties can be compensated or various physical properties can be improved.

他のエポキシ樹脂としては、分子内に2個以上のエポキシ基を有するものであることが好ましく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビスフェノールZ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等の、各種エポキシ樹脂を使用することができる。これらは1種のみでも2種以上の混合体としても使用することができる。   The other epoxy resin preferably has two or more epoxy groups in the molecule, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin. Bisphenol Z type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, etc. Various epoxy resins can be used. These can be used alone or as a mixture of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂とを用いる場合、固形分としての全エポキシ樹脂成分、即ち、本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂との合計100重量部中、他のエポキシ樹脂の配合量は、好ましくは1重量部以上であり、より好ましくは5重量部以上であり、更に好ましくは10重量部以上であり、一方、好ましくは99重量部以下であり、より好ましくは95重量部以下であり、更に好ましくは90重量部以下である。他のエポキシ樹脂の割合が上記下限値以上であることにより、他のエポキシ樹脂を配合することによる物性向上効果を十分に得ることができる。一方、他のエポキシ樹脂の割合が前記上限値以下であることにより、本発明のエポキシ樹脂の効果が十分に発揮され、耐熱性や低溶液粘度を得る観点から好ましい。   In the epoxy resin composition of the present invention, when the epoxy resin of the present invention and another epoxy resin are used, the total epoxy resin component as a solid content, that is, a total of 100 weights of the epoxy resin of the present invention and the other epoxy resin The amount of the other epoxy resin in the part is preferably 1 part by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, still more preferably 10 parts by weight or more, while preferably 99 parts by weight or less. More preferably 95 parts by weight or less, still more preferably 90 parts by weight or less. When the ratio of the other epoxy resin is equal to or more than the above lower limit value, the effect of improving physical properties by blending the other epoxy resin can be sufficiently obtained. On the other hand, when the ratio of the other epoxy resin is not more than the above upper limit value, the effect of the epoxy resin of the present invention is sufficiently exhibited, which is preferable from the viewpoint of obtaining heat resistance and low solution viscosity.

[溶剤]
本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物には、塗膜形成時の取り扱い時に、エポキシ樹脂組成物の粘度を適度に調整するために溶剤を配合し、希釈してもよい。本発明のエポキシ樹脂組成物において、溶剤は、エポキシ樹脂組成物の成形における取り扱い性、作業性を確保するために用いられ、その使用量には特に制限がない。なお、本発明においては「溶剤」という語と前述の「溶媒」という語をその使用形態により区別して用いるが、それぞれ独立して同種のものを用いても異なるものを用いてもよい。
[solvent]
The epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention may be diluted by blending a solvent in order to appropriately adjust the viscosity of the epoxy resin composition at the time of handling during coating film formation. In the epoxy resin composition of the present invention, the solvent is used in order to ensure the handleability and workability in the molding of the epoxy resin composition, and the amount used is not particularly limited. In the present invention, the term “solvent” and the above-mentioned term “solvent” are distinguished from each other depending on the form of use, but the same or different ones may be used independently.

本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が含み得る溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族類等が挙げられる。以上に挙げた溶剤は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   Examples of the solvent that can be contained in the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, and ethers such as ethylene glycol monomethyl ether. Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, alcohols such as methanol and ethanol, alkanes such as hexane and cyclohexane, and aromatics such as toluene and xylene. The solvent mentioned above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

[その他の成分]
本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物には、その機能性の更なる向上を目的として、以上で挙げたもの以外の成分(本発明において「その他の成分」と称することがある。)を含んでいてもよい。このようなその他の成分としては、エポキシ樹脂を除く熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂、硬化促進剤(ただし、「硬化剤」に含まれるものを除く。)、紫外線防止剤、酸化防止剤、カップリング剤、可塑剤、フラックス、難燃剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤、無機フィラー、有機フィラー等が挙げられる。
[Other ingredients]
In the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention, components other than those listed above (sometimes referred to as “other components” in the present invention) for the purpose of further improving the functionality. May be included. Examples of such other components include thermosetting resins other than epoxy resins, photocurable resins, curing accelerators (except for those included in “curing agents”), UV inhibitors, antioxidants, Examples include coupling agents, plasticizers, fluxes, flame retardants, colorants, dispersants, emulsifiers, low elasticity agents, diluents, antifoaming agents, ion trapping agents, inorganic fillers, and organic fillers.

〔硬化物〕
本発明のエポキシ樹脂を硬化剤により硬化してなる硬化物は、誘電特性、耐熱性等のバランスに優れ、良好な硬化物性を示すものである。ここでいう「硬化」とは熱及び/又は光等によりエポキシ樹脂組成物を意図的に硬化させることを意味するものであり、その硬化の程度は所望の物性、用途により制御すればよい。硬化反応の進行の程度は完全硬化であっても、半硬化の状態であってもよく、特に制限されないが、エポキシ基と硬化剤の硬化反応の反応率として通常5〜95%である。
[Cured product]
A cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention with a curing agent has an excellent balance of dielectric properties, heat resistance, etc., and exhibits good cured properties. The term “curing” as used herein means that the epoxy resin composition is intentionally cured by heat and / or light or the like, and the degree of curing may be controlled by desired physical properties and applications. The degree of progress of the curing reaction may be completely cured or semi-cured, and is not particularly limited. However, the reaction rate of the curing reaction between the epoxy group and the curing agent is usually 5 to 95%.

本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化させて硬化物とする際のエポキシ樹脂組成物の硬化方法は、エポキシ樹脂組成物中の配合成分や配合量によっても異なるが、通常、80〜280℃で60〜360分の加熱条件が挙げられる。この加熱は80〜160℃で10〜90分の一次加熱と、120〜200℃で60〜150分の二次加熱との二段処理を行うことが好ましく、また、ガラス転移温度(Tg)が二次加熱の温度を超える配合系においては更に150〜280℃で60〜120分の三次加熱を行うことが好ましい。このように二次加熱、三次加熱を行うことは硬化不良や溶剤の残留を低減する観点から好ましい。   The curing method of the epoxy resin composition when curing the epoxy resin composition of the present invention to obtain a cured product varies depending on the blending component and blending amount in the epoxy resin composition, but is usually 60 to 80 to 280 ° C. Heating conditions of ~ 360 minutes are mentioned. This heating is preferably performed in a two-stage process of primary heating at 80 to 160 ° C. for 10 to 90 minutes and secondary heating at 120 to 200 ° C. for 60 to 150 minutes, and the glass transition temperature (Tg) is In the blending system exceeding the temperature of the secondary heating, it is preferable to further perform the tertiary heating at 150 to 280 ° C. for 60 to 120 minutes. Performing secondary heating and tertiary heating in this manner is preferable from the viewpoint of reducing poor curing and residual solvent.

樹脂半硬化物を作製する際には、加熱等により形状が保てる程度にエポキシ樹脂組成物の硬化反応を進行させることが好ましい。エポキシ樹脂組成物が溶剤を含んでいる場合には、通常、加熱、減圧、風乾等の手法で大部分の溶剤を除去するが、樹脂半硬化物中に5重量%以下の溶剤を残留させてもよい。   When producing a resin semi-cured product, it is preferable to advance the curing reaction of the epoxy resin composition to such an extent that the shape can be maintained by heating or the like. When the epoxy resin composition contains a solvent, most of the solvent is usually removed by heating, decompression, air drying, etc., but 5 wt% or less of the solvent is left in the resin semi-cured product. Also good.

〔用途〕
本発明のエポキシ樹脂は、ポリフェニレンエーテル骨格が有する優れた耐熱性、誘電特性を保ちつつ、溶液粘度が低いエポキシ樹脂を提供することができ、また、これを含むエポキシ樹脂組成物は、誘電特性、耐熱性に優れた硬化物を、良好な取り扱い性、作業性、生産性のもとに提供するという効果を奏する。このため、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に、電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物の用途の一例としては、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板等が挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。
[Use]
The epoxy resin of the present invention can provide an epoxy resin having a low solution viscosity while maintaining the excellent heat resistance and dielectric properties of the polyphenylene ether skeleton, and the epoxy resin composition containing the epoxy resin has dielectric properties, There is an effect that a cured product having excellent heat resistance is provided with good handleability, workability, and productivity. For this reason, it can be applied to various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, insulating materials for electrical / electronic parts, etc., especially as insulating castings, laminated materials, sealing materials, etc. in the electrical / electronic field. Useful. Examples of the use of the epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin include multilayer printed wiring boards, laminates for electric and electronic circuits such as capacitors, film adhesives, adhesives such as liquid adhesives, and semiconductors. A sealing material, an underfill material, a 3D-LSI interchip fill, an insulating sheet, a prepreg, a heat dissipation substrate, and the like are exemplified, but the invention is not limited thereto.

〔電気・電子回路用積層板〕
本発明のエポキシ樹脂組成物は前述したように電気・電子回路用積層板の用途に好適に用いることができる。本発明において「電気・電子回路用積層板」とは、本発明のエポキシ樹脂組成物を含む層と導電性金属層とを積層したものであり、本発明のエポキシ樹脂組成物を含む層と導電性金属層とを積層したものであれば、電気・電子回路ではなくとも、例えばキャパシタも含む概念として用いられる。なお、電気・電子回路用積層板中には2種以上のエポキシ樹脂組成物からなる層が形成されていてもよく、少なくとも1つの層において本発明のエポキシ樹脂組成物が用いられていればよい。また、2種以上の導電性金属層が形成されていてもよい。
[Laminated board for electrical and electronic circuits]
As described above, the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for applications of laminates for electric / electronic circuits. In the present invention, the “laminate for electric / electronic circuit” is a laminate of a layer containing the epoxy resin composition of the present invention and a conductive metal layer, and is electrically conductive with the layer containing the epoxy resin composition of the present invention. As long as the conductive metal layer is laminated, it can be used as a concept including, for example, a capacitor, not an electric / electronic circuit. In addition, the layer which consists of 2 or more types of epoxy resin compositions may be formed in the laminated board for electric / electronic circuits, and the epoxy resin composition of this invention should just be used in at least 1 layer. . Two or more kinds of conductive metal layers may be formed.

電気・電子回路用積層板におけるエポキシ樹脂組成物からなる層の厚みは通常10〜200μm程度である。また、導電性金属層の厚みは通常0.2〜70μm程度である。   The thickness of the layer made of the epoxy resin composition in the laminate for electric / electronic circuit is usually about 10 to 200 μm. The thickness of the conductive metal layer is usually about 0.2 to 70 μm.

<導電性金属>
電気・電子回路用積層板における導電性金属としては、銅、アルミニウム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。本発明において電気・電子回路用積層板の導電性金属層においては、これらの金属の金属箔、あるいはメッキやスパッタリングで形成された金属層を用いることができる。
<Conductive metal>
Examples of the conductive metal in the laminate for electric / electronic circuit include metals such as copper and aluminum, and alloys containing these metals. In the present invention, for the conductive metal layer of the laminate for electric / electronic circuit, a metal foil of these metals or a metal layer formed by plating or sputtering can be used.

<電気・電子回路用積層板の製造方法>
本発明における電気・電子回路用積層板の製造方法としては、例えば次のような方法が挙げられる。
(1) ガラス繊維、ポリエステル繊維、アラミド繊維、セルロース、ナノファイバーセルロース等の無機及び/又は有機の繊維材料を用いた不織布やクロス等に、本発明のエポキシ樹脂組成物を含浸させてプリプレグとし、導電性金属箔及び/又はメッキにより導電性金属層を設けた後、フォトレジスト等を用いて回路を形成し、こうした層を必要数重ねて積層板とする。
(2) 上記(1)のプリプレグを心材とし、その上(片面又は両面)に、本発明のエポキシ樹脂組成物からなる層と導電性金属層を積層する(ビルドアップ法)。このエポキシ樹脂組成物からなる層は有機及び/又は無機のフィラーを含んでいてもよい。
(3) 心材を用いず、本発明のエポキシ樹脂組成物からなる層と導電性金属層のみを交互に積層して電気・電子回路用積層板とする。
<Manufacturing method of laminate for electric / electronic circuit>
As a manufacturing method of the laminated board for electric / electronic circuits in this invention, the following methods are mentioned, for example.
(1) A non-woven fabric or cloth using inorganic and / or organic fiber materials such as glass fiber, polyester fiber, aramid fiber, cellulose, and nanofiber cellulose is impregnated with the epoxy resin composition of the present invention to form a prepreg; After providing a conductive metal layer by conductive metal foil and / or plating, a circuit is formed using a photoresist or the like, and a necessary number of such layers are stacked to form a laminate.
(2) The prepreg of (1) above is used as a core material, and a layer made of the epoxy resin composition of the present invention and a conductive metal layer are laminated thereon (build-up method). The layer made of the epoxy resin composition may contain an organic and / or inorganic filler.
(3) Without using the core material, only the layer made of the epoxy resin composition of the present invention and the conductive metal layer are alternately laminated to obtain a laminate for an electric / electronic circuit.

以下、本発明を実施例に基づいてより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限又は下限の好ましい値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は前記した上限又は下限の値と、下記実施例の値又は実施例同士の値との組み合わせで規定される範囲であってもよい。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited at all by the following example. In addition, the value of various manufacturing conditions and evaluation results in the following examples has a meaning as a preferable value of the upper limit or the lower limit in the embodiment of the present invention, and the preferable range is the above-described upper limit or lower limit value. A range defined by a combination of values of the following examples or values of the examples may be used.

〔物性・特性の評価方法〕
以下の実施例および比較例において、物性、特性の評価は以下の1)〜5)に記載の方法で行った。
[Method for evaluating physical properties and characteristics]
In the following examples and comparative examples, physical properties and characteristics were evaluated by the methods described in 1) to 5) below.

1) 重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)
東ソー(株)製「HLC−8320GPC装置」を使用し、以下の測定条件で、標準ポリスチレンとして、TSK Standard Polystyrene:F−128(Mw:1,090,000、Mn:1,030,000)、F−10(Mw:106,000、Mn:103,000)、F−4(Mw:43,000、Mn:42,700)、F−2(Mw:17,200、Mn:16,900)、A−5000(Mw:6,400、Mn:6,100)、A−2500(Mw:2,800、Mn:2,700)、A−300(Mw:453、Mn:387)を使用した検量線を作成して、重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)をポリスチレン換算値として測定した。
カラム:東ソー(株)製「TSKGEL SuperHM−H+H5000+H4000+H3000+H2000」
溶離液:テトラヒドロフラン
流速:0.5ml/min
検出:UV(波長254nm)
温度:40℃
試料濃度:0.1重量%
インジェクション量:10μl
1) Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)
Using "HLC-8320GPC apparatus" manufactured by Tosoh Corporation, under the following measurement conditions, as standard polystyrene, TSK Standard Polystyrene: F-128 (Mw: 1,090,000, Mn: 1,030,000), F-10 (Mw: 106,000, Mn: 103,000), F-4 (Mw: 43,000, Mn: 42,700), F-2 (Mw: 17,200, Mn: 16,900) A-5000 (Mw: 6,400, Mn: 6,100), A-2500 (Mw: 2,800, Mn: 2,700), A-300 (Mw: 453, Mn: 387) were used. A calibration curve was prepared, and the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured as polystyrene conversion values.
Column: “TSKGEL SuperHM-H + H5000 + H4000 + H3000 + H2000” manufactured by Tosoh Corporation
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 0.5 ml / min
Detection: UV (wavelength 254 nm)
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.1% by weight
Injection volume: 10 μl

2) m数
前記式(1)におけるmの値は上記で求められた数平均分子量より算出した。
2) Number of m The value of m in the formula (1) was calculated from the number average molecular weight determined above.

3) エポキシ当量
JIS K 7236に準じて測定し、固形分換算値として表記した。
3) Epoxy equivalent Measured according to JIS K 7236 and expressed as a solid content converted value.

4) 溶液粘度
シクロヘキサノン/メチルエチルケトンを当量で混合した溶剤に対して、エポキシ樹脂を50重量%の濃度で溶解させたものを、キャノンフェンスケ粘度計に一定量入れて、25℃恒温水槽中で試料流下時間を測定した。測定時間と粘度計の係数から、エポキシ樹脂溶液の粘度を算出した。
4) Solution viscosity A solution of 50% by weight of epoxy resin dissolved in an equivalent amount of cyclohexanone / methyl ethyl ketone mixed in a fixed amount is placed in a Cannon-Fenske viscometer and sampled in a 25 ° C constant temperature water bath. The flow time was measured. The viscosity of the epoxy resin solution was calculated from the measurement time and the coefficient of the viscometer.

5) 硬化物の耐熱性:ガラス転移温度(Tg)
エポキシ樹脂組成物の溶液をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み:100μm)にアプリケーターで塗布し、160℃で1.5時間、その後200℃で1.5時間乾燥、硬化させ、厚さ約50μmのエポキシ樹脂硬化フィルムを得た。SIIナノテクノロジー(株)製「DSC7020」を使用し、30〜250℃まで10℃/minで昇温してガラス転移温度を測定した。なお、ここでいうガラス転移温度は、JIS K7121「プラスチックの転移温度測定法」に記載されているうち「中点ガラス転移温度:Tmg」に基づいて測定した。
5) Heat resistance of cured product: Glass transition temperature (Tg)
The epoxy resin composition solution was applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film, thickness: 100 μm) with an applicator, dried and cured at 160 ° C. for 1.5 hours, and then at 200 ° C. for 1.5 hours, and the thickness was about A cured epoxy resin film of 50 μm was obtained. Using “DSC7020” manufactured by SII Nanotechnology, the glass transition temperature was measured by raising the temperature from 30 to 250 ° C. at 10 ° C./min. The glass transition temperature here was measured based on “midpoint glass transition temperature: Tmg” described in JIS K7121 “Plastic Transition Temperature Measurement Method”.

〔原料等〕
以下の実施例および比較例において用いた原料、触媒、溶媒及び溶剤は以下の通りである。
[Raw materials]
The raw materials, catalysts, solvents and solvents used in the following examples and comparative examples are as follows.

[2官能エポキシ樹脂]
(A−1):三菱ケミカル(株)製 商品名「jER YX4000」(3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールジグリシジルエーテル、エポキシ当量186g/当量)
(A−2):三菱ケミカル(株)製 商品名「jER 828US」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量:185g/当量)
[Bifunctional epoxy resin]
(A-1): Mitsubishi Chemical Corporation product name “jER YX4000” (3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenoldiglycidyl ether, epoxy equivalent 186 g / equivalent)
(A-2): Mitsubishi Chemical Corporation product name “jER 828US” (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent: 185 g / equivalent)

[ビスフェノール系化合物またはジエステル系化合物]
(B−1):4,4’−(3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン)ビスフェノール(前記式(17)で表され、A’として式(2)’で表される化学構造を有するビスフェノール化合物に該当する。)(本州化学(株)製 製品名:BisP−HTG、水酸基当量:155g/当量)
(B−2):ビフェノール(前記式(17)で表され、A’として式(2)’で表される化学構造を有する化合物に該当する。)(水酸基当量:93)
(B−3):4,4’−(フルオレン−9,9−ジイル)ビス(2−メチルフェノール)(前記式(17)で表され、A’として式(2)’で表される化学構造を有するビスフェノール化合物に該当する。)(本州化学(株)製 製品名:BisOC−FL、水酸基当量:189g/当量)
(B−4):4,4’−ジアセトキシビフェニル(前記式(17)で表され、A’として式(2)’で表される化学構造を有する化合物に該当する。)(活性当量:135)
[Bisphenol compounds or diester compounds]
(B-1): 4,4 ′-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene) bisphenol (expressed by the above formula (17), and having a chemical structure represented by the formula (2) ′ as A ′ Corresponds to bisphenol compounds. (Honshu Chemical Co., Ltd. product name: BisP-HTG, hydroxyl group equivalent: 155 g / equivalent)
(B-2): Biphenol (corresponding to a compound having a chemical structure represented by the formula (17) and represented by the formula (2) ′ as A ′) (hydroxyl equivalent: 93)
(B-3): 4,4 ′-(fluorene-9,9-diyl) bis (2-methylphenol) (a chemistry represented by the formula (17) and represented by the formula (2) ′ as A ′ It corresponds to a bisphenol compound having a structure.) (Honshu Chemical Co., Ltd. product name: BisOC-FL, hydroxyl group equivalent: 189 g / equivalent)
(B-4): 4,4′-diacetoxybiphenyl (corresponding to a compound having a chemical structure represented by the formula (17) and represented by the formula (2) ′ as A ′) (active equivalent: 135)

上記(B−1)〜(B−4)の構造式は以下の通りである。   The structural formulas of (B-1) to (B-4) are as follows.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

[末端OH・ポリフェニレンエーテル化合物]
(P−1):SABIC製 商品名「NORYL SA−90」(末端OH・ポリフェニレンエーテル化合物)(水酸基当量:約848、数平均分子量:約1700)
[Terminal OH / polyphenylene ether compound]
(P-1): Product name “NORYL SA-90” (terminal OH / polyphenylene ether compound) (hydroxyl group equivalent: about 848, number average molecular weight: about 1700) manufactured by SABIC

上記(P−1)の構造式は以下の通りである。   The structural formula of (P-1) is as follows.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

(r,r’の平均値はそれぞれ約6.3) (The average value of r and r 'is approximately 6.3)

[触媒]
(C−1):テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(27重量%水溶液)
(C−2):4−(ジメチルアミノ)ピリジン
[catalyst]
(C-1): Tetramethylammonium hydroxide (27 wt% aqueous solution)
(C-2): 4- (dimethylamino) pyridine

[溶媒・溶剤]
(S−1):シクロヘキサノン
(S−2):メチルエチルケトン(MEK)
[Solvent / Solvent]
(S-1): Cyclohexanone (S-2): Methyl ethyl ketone (MEK)

[その他のエポキシ樹脂]
(E−1):「YX6954BH30」:三菱ケミカル(株)製 高分子量エポキシ樹脂(3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールジグリシジルエーテルと4,4’−(1−フェニルエチリデン)ジフェノールの共重合体、重量平均分子量:35,000、樹脂含量30重量%、シクロヘキサノン35重量%、メチルエチルケトン35重量%)
[Other epoxy resins]
(E-1): “YX6954BH30”: a high molecular weight epoxy resin (3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenoldiglycidyl ether and 4,4 ′-( 1-phenylethylidene) diphenol copolymer, weight average molecular weight: 35,000, resin content 30% by weight, cyclohexanone 35% by weight, methyl ethyl ketone 35% by weight)

[硬化剤]
(D−1):「PSM6200」:群栄化学工業(株)製 フェノールノボラック(水酸基当量:103)、50重量%のシクロヘキサノン溶液として使用
(D−2):2−エチル−4(5)−メチルイミダゾール(三菱ケミカル(株)製 製品名:jERキュア(登録商標) EMI24)、20重量%のメチルエチルケトン溶液として使用
[Curing agent]
(D-1): “PSM6200”: phenol novolak (hydroxyl equivalent: 103) manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., used as a 50 wt% cyclohexanone solution (D-2): 2-ethyl-4 (5)- Methylimidazole (product name: jER Cure (registered trademark) EMI24 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), used as a 20% by weight methyl ethyl ketone solution

[レベリング剤]
S−651:AGCセイミケミカル(株)製 フッ素系界面活性剤(ノニオンタイプ)
[Leveling agent]
S-651: Fluorine-based surfactant (nonionic type) manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.

〔エポキシ樹脂の製造と評価:耐熱性〕
<実施例1−1〜1−9、比較例1−1〜1−4>
表−1に示した配合で2官能エポキシ樹脂、末端OH・ポリフェニレンエーテル化合物、ビスフェノール化合物又はジエステル化合物、触媒および反応用の溶媒を撹拌機付き反応容器に入れ、窒素ガス雰囲気下で、表−1に記載した反応時間、反応温度で反応を行った。その後、希釈用の溶剤を加えて、固形分濃度が50重量%になるように調整した。得られた樹脂について分析を行った結果を表−2に示す。
[Production and evaluation of epoxy resins: heat resistance]
<Examples 1-1 to 1-9, Comparative Examples 1-1 to 1-4>
A bifunctional epoxy resin, a terminal OH / polyphenylene ether compound, a bisphenol compound or a diester compound, a catalyst, and a reaction solvent were put in a reaction vessel equipped with a stirrer according to the formulation shown in Table 1, and in a nitrogen gas atmosphere, Table 1 The reaction was carried out at the reaction time and reaction temperature described in. Then, the solvent for dilution was added and it adjusted so that solid content concentration might be 50 weight%. The result of having analyzed about obtained resin is shown in Table-2.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

Figure 2019052278
Figure 2019052278

〔エポキシ樹脂組成物/硬化物の製造と評価:耐熱性〕
<実施例2−1〜2−9、比較例2−1〜2−4>
実施例1−1〜1−9、比較例1−1〜1−4で得られたエポキシ樹脂と、その他のエポキシ樹脂及び硬化剤等を表−3に示す割合で配合し、よく撹拌してエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物について、前述の方法でガラス転移温度を測定した。結果を表−3に示す。
[Production and evaluation of epoxy resin composition / cured product: heat resistance]
<Examples 2-1 to 2-9, Comparative Examples 2-1 to 2-4>
Mix the epoxy resins obtained in Examples 1-1 to 1-9 and Comparative Examples 1-1 to 1-4 with other epoxy resins and curing agents in the proportions shown in Table 3, and stir well. An epoxy resin composition was obtained. About this epoxy resin composition, the glass transition temperature was measured by the above-mentioned method. The results are shown in Table-3.

Figure 2019052278
Figure 2019052278

表−2,3の結果より、以下のことがわかる。
即ち、原料にビスフェノール系化合物を用いない比較例1−1は、式(1)において、構造(A−1)を原料エポキシ樹脂由来の1種類しか有さないものであり、実施例1−1に比べると溶液粘度が高く、取り扱い性に劣る。一方、組成物、硬化物の耐熱性は、比較例2−1と比べると実施例2−1のTgの低下幅は10℃以内であり、ビスフェノール系化合物を用いた場合でも、ポリフェニレンエーテル骨格による高い耐熱性が維持できていることがわかる。実施例1−2と比較例1−2、実施例1−3、1−4、1−6、1−7と比較例1−3、実施例1−5と比較例1−4および、それぞれの配合物、硬化物の比較からも、同様のことが分かる。したがって、本発明のエポキシ樹脂は、ポリフェニレンエーテル骨格が有する優れた耐熱性を保ちつつ、溶液粘度が低く、取り扱い性に優れることが明らかである。
From the results of Tables 2 and 3, the following can be understood.
That is, Comparative Example 1-1 that does not use a bisphenol compound as a raw material has only one type of structure (A-1) derived from the raw material epoxy resin in Formula (1). Compared with, the solution viscosity is high and the handleability is inferior. On the other hand, as for the heat resistance of the composition and the cured product, the decrease in Tg of Example 2-1 is within 10 ° C. as compared with Comparative Example 2-1, and even when a bisphenol compound is used, it depends on the polyphenylene ether skeleton. It can be seen that high heat resistance can be maintained. Example 1-2 and Comparative Example 1-2, Examples 1-3, 1-4, 1-6, 1-7 and Comparative Example 1-3, Example 1-5 and Comparative Example 1-4, and The same can be seen from the comparison of the blends and cured products. Therefore, it is clear that the epoxy resin of the present invention has a low solution viscosity and excellent handleability while maintaining the excellent heat resistance of the polyphenylene ether skeleton.

本発明のエポキシ樹脂は、ポリフェニレンエーテル骨格が有する優れた耐熱性、誘電特性を保ちつつ、溶液粘度が低いエポキシ樹脂を提供することができ、また、これを含むエポキシ樹脂組成物は、誘電特性、耐熱性に優れた硬化物を、良好な取り扱い性、作業性、生産性のもとに提供するという効果を奏する。このため、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に、電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物の用途の一例としては、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板等が挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。   The epoxy resin of the present invention can provide an epoxy resin having a low solution viscosity while maintaining the excellent heat resistance and dielectric properties of the polyphenylene ether skeleton, and the epoxy resin composition containing the epoxy resin has dielectric properties, There is an effect that a cured product having excellent heat resistance is provided with good handleability, workability, and productivity. For this reason, it can be applied to various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, insulating materials for electrical / electronic parts, etc., especially as insulating castings, laminated materials, sealing materials, etc. in the electrical / electronic field. Useful. Examples of the use of the epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin include multilayer printed wiring boards, laminates for electric and electronic circuits such as capacitors, film adhesives, adhesives such as liquid adhesives, and semiconductors. A sealing material, an underfill material, a 3D-LSI interchip fill, an insulating sheet, a prepreg, a heat dissipation substrate, and the like are exemplified, but the invention is not limited thereto.

Claims (17)

下記式(1)で表されるエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
(式(1)中、Aは、式(2)で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下「構造(A−1)」と称す。)のうちの2種以上と、式(3)で表される構造とを含み、
およびRは、ともに式(5)で表される基であるか、或いは一方が式(5)で表される基で他方が水素原子であり、
は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、
mは繰り返し数の平均値であり、0〜500の数を示す。
式(2)中、Xは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。
式(3)中、Yは式(4)で表される構造を含み、
12〜R27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、
p,qは繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。
式(4)中、Zは直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
29〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。)
An epoxy resin represented by the following formula (1).
Figure 2019052278
(In the formula (1), A represents a structure selected from the group represented by the structure represented by the formula (2) and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter referred to as “structure (A-1)”). Two or more of the above and a structure represented by the formula (3),
R 1 and R 2 are both a group represented by the formula (5), or one is a group represented by the formula (5) and the other is a hydrogen atom,
R 3 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group,
m is an average value of the number of repetitions and represents a number of 0 to 500.
In formula (2), X represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—. A group selected from
R 4 to R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms.
In formula (3), Y includes the structure represented by formula (4),
R 12 to R 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms,
p and q are average values of the number of repetitions, and each independently represents a number of 0 to 30.
In formula (4), Z represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and —CO—. A group selected from
R 29 to R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, And a group selected from alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms. )
式(1)中のAが構造(A−1)を60〜90モル%含む、請求項1に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin of Claim 1 in which A in Formula (1) contains 60-90 mol% of structures (A-1). 構造(A−1)が、下記式(6)〜式(15)で表される構造の1種又は2種以上を含む、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
The epoxy resin according to claim 1 or 2, wherein the structure (A-1) includes one or more of structures represented by the following formulas (6) to (15).
Figure 2019052278
式(3)で表される構造が、下記式(16)で表される構造を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
(式(16)中、Y、p、qはそれぞれ式(3)におけるY、p、qと同義である。)
The epoxy resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the structure represented by the formula (3) includes a structure represented by the following formula (16).
Figure 2019052278
(In Formula (16), Y, p, and q are synonymous with Y, p, and q in Formula (3), respectively.)
下記式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(18)で表される化合物と、下記式(19)で表される化合物との反応物であるエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
(式(17)および式(18)中、A’は、式(2)’で表される構造および炭素数1〜13の2価の炭化水素基よりなる群から選ばれる構造(以下、「構造(A’−1)」と称す。)のうちの2種以上を含み、
nは繰り返し数の平均値であり、0〜6の整数を示す。
式(18)中、R’は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基である。
式(2)’中、X’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
R’〜R’11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。
式(19)中、Y’は式(4)’で表される構造を含み、
R’12〜R’27は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基であり、
R’28は水素原子、炭素数1〜10の脂肪族カルボニル基、または芳香族カルボニル基であり、
p’,q’は繰り返し数の平均値であり、それぞれ独立に、0〜30の数を表す。
式(4)’中、Z’は直接結合、炭素数1〜13の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−C(CF−、および−CO−から選ばれる基であり、
R’29〜R’36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルケニル基、および炭素数1〜12のアルキニル基から選ばれる基である。)
An epoxy resin that is a reaction product of a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (17), a compound represented by the following formula (18), and a compound represented by the following formula (19).
Figure 2019052278
(In Formula (17) and Formula (18), A ′ is a structure selected from the group represented by Formula (2) ′ and a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms (hereinafter, “ Including two or more of structure (A′-1) ”,
n is an average value of the number of repetitions and represents an integer of 0 to 6.
In Formula (18), R ′ 3 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group.
In formula (2) ′, X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and — A group selected from CO-
R ′ 4 to R ′ 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms.
In Formula (19), Y ′ includes a structure represented by Formula (4) ′,
R ′ 12 to R ′ 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms,
R ′ 28 is a hydrogen atom, an aliphatic carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aromatic carbonyl group,
p ′ and q ′ are average values of the number of repetitions, and each independently represents a number of 0 to 30.
In formula (4) ′, Z ′ represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms, —O—, —S—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and — A group selected from CO-
R ′ 29 to R ′ 36 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an alkenyl having 1 to 12 carbon atoms. A group selected from a group and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms. )
式(18)で表される化合物の量が、式(17)で表される2官能エポキシ樹脂と式(18)で表される化合物と式(19)で表される化合物の合計のモル数に対して3〜20モル%である、請求項5に記載のエポキシ樹脂。   The amount of the compound represented by formula (18) is the total number of moles of the bifunctional epoxy resin represented by formula (17), the compound represented by formula (18) and the compound represented by formula (19). The epoxy resin of Claim 5 which is 3-20 mol% with respect to. 構造(A’−1)が、下記式(6)’〜式(15)’で表される構造の1種又は2種以上を含む、請求項5又は6に記載のエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
The epoxy resin according to claim 5 or 6, wherein the structure (A'-1) includes one or more of structures represented by the following formula (6) 'to formula (15)'.
Figure 2019052278
式(19)で表される化合物が、下記式(20)で表される化合物を含む、請求項5から7のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。
Figure 2019052278
(式(20)中、Y’、p’、q’は式(19)におけるY’、p’、q’と同義である。)
The epoxy resin according to any one of claims 5 to 7, wherein the compound represented by the formula (19) includes a compound represented by the following formula (20).
Figure 2019052278
(In Formula (20), Y ', p', and q 'are synonymous with Y', p ', and q' in Formula (19).)
重量平均分子量が2,000〜50,000である、請求項1から8のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin according to any one of claims 1 to 8, wherein the weight average molecular weight is 2,000 to 50,000. エポキシ当量が400g/当量以上15,000g/当量以下である、請求項1から9のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin according to any one of claims 1 to 9, wherein an epoxy equivalent is 400 g / equivalent or more and 15,000 g / equivalent or less. 請求項1から10のいずれか1項に記載の本発明のエポキシ樹脂と、硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition containing the epoxy resin of this invention of any one of Claim 1 to 10, and a hardening | curing agent. 本発明のエポキシ樹脂100重量部に対し、硬化剤を0.1〜100重量部含む、請求項11に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition of Claim 11 which contains 0.1-100 weight part of hardening | curing agents with respect to 100 weight part of epoxy resins of this invention. 更に本発明のエポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂を含み、固形分としての本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂の合計100重量部中、他のエポキシ樹脂を1〜99重量部含む、請求項11又は12に記載のエポキシ樹脂組成物。   Furthermore, other epoxy resins other than the epoxy resin of the present invention are included, and 1 to 99 parts by weight of the other epoxy resins are included in a total of 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention and other epoxy resins as a solid content. The epoxy resin composition according to 11 or 12. 本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂の合計100重量部に対し、硬化剤を0.1〜100重量部含む、請求項13に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition of Claim 13 which contains 0.1-100 weight part of hardening | curing agents with respect to a total of 100 weight part of the epoxy resin of this invention, and another epoxy resin. 硬化剤がフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール類、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項11から14のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The hardener is at least one selected from the group consisting of phenolic hardeners, amide hardeners, imidazoles, active ester hardeners, and cyanate ester hardeners. The epoxy resin composition as described. 請求項11から15のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を用いてなる電気・電子回路用積層板。   The laminated board for electrical / electronic circuits which uses the epoxy resin composition of any one of Claim 11 to 15. 請求項11から15のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition of any one of Claim 11 to 15.
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