JP2019046897A - 樹脂シートおよび半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パネルレベルパッケージングによる半導体装置の製造において、電子部品の封止または絶縁膜の形成に用いられる樹脂シート1であって、樹脂シート1が、第1の支持シート11と、第1の支持シート11における片面に積層された樹脂組成物層10とを備え、第1の支持シート11が、帯電防止性を有し、剥離速度10m/分で樹脂組成物層10から第1の支持シート11を剥離した際の、第1の支持シート11の剥離帯電圧の絶対値が、200V未満である樹脂シート1。
【選択図】図1
Description
〔樹脂シート〕
図1には、本実施形態に係る樹脂シート1の断面図が示される。図1に示すように、本実施形態に係る樹脂シート1は、第1の支持シート11と、第1の支持シート11における片面に積層された樹脂組成物層10とを備える。第1の支持シート11は、帯電防止性を有する。さらに、剥離速度10m/分で樹脂組成物層10から第1の支持シート11を剥離した際の、第1の支持シート11の剥離帯電圧の絶対値が、200V未満である。
本実施形態における樹脂組成物層10は、硬化性を有するものであり、樹脂組成物層10を硬化することで硬化層を形成することができる。樹脂組成物層10は、熱硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から形成されたものであることが好ましい。
上記熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ナフトール系樹脂、活性エステル系樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂、シアネートエステル系樹脂などが挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、樹脂組成物は、熱可塑性樹脂を含有していてもよい。上記樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含有することにより、樹脂組成物に優れた造膜性が付与され、樹脂組成物層をシート状に形成することが容易となり、ハンドリング性が向上する。熱可塑性樹脂の例としては、フェノキシ系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、アミド系樹脂、スチレン−イソブチレン−スチレン共重合体(SIS)等のスチレン系樹脂、シラン系樹脂、ゴム系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられ、これらは、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの熱可塑性樹脂は、硬化性の官能基を有するものであってもよい。上述した熱可塑性樹脂の中でもフェノキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を使用することが好ましい。
また、樹脂組成物は、微粒子を含有していてもよい。上記樹脂組成物が微粒子を含有することにより、樹脂組成物層10が硬化してなる硬化層が優れた機械的強度を有するものとなり、さらに、熱膨張率を低く抑えることができるため、得られる半導体装置の信頼性が向上する。
本実施形態における樹脂組成物は、硬化触媒をさらに含有することが好ましい。これにより、熱硬化性樹脂の硬化反応を効果的に進行させることが可能となり、樹脂組成物層10を良好に硬化することが可能となる。硬化触媒としては、例えば、イミダゾール系硬化触媒、アミン系硬化触媒、リン系硬化触媒等が挙げられる。
本実施形態における樹脂組成物は、さらに、可塑剤、安定剤、粘着付与材、着色剤、カップリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を含有してもよい。
本実施形態における樹脂組成物層10の表面の表面抵抗率は、1.0×1012Ω/sq以上であることが好ましく、特に1.0×1013Ω/sq以上であることが好ましく、さらには1.0×1014Ω/sq以上であることが好ましい。当該表面抵抗率が上記範囲であることで、短絡等の不具合が抑制され、優れた性能の半導体装置を得ることができる。上記表面抵抗率の測定方法は、後述する試験例に記載の通りである。
本実施形態における第1の支持シート11は、帯電防止性を有する。そのため、樹脂組成物層10では、剥離帯電に起因した、ごみや埃といった異物の付着が生じ難く、当該樹脂組成物層10を用いて得られる半導体装置には異物が混入し難いものとなる。
第1の支持シート11を構成する支持基材は、樹脂組成物層10を保護することが可能である限り、特に限定されない。例えば、支持基材としては、樹脂フィルム、不織布、紙等を使用することが好ましい。当該樹脂フィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム;ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリイミドフィルム等が挙げられる。上記不織布の例としては、レーヨン、アクリル、ポリエステル等の繊維を用いた不織布が挙げられる。上記紙の例としては、上質紙、グラシン紙、含浸紙、コート紙等が挙げられる。
第1の支持シート11は、上記支持基材の少なくとも一方の面側に、剥離剤層を備えていてもよい。この場合、樹脂シート1では、第1の支持シート11における当該剥離剤層側の面が樹脂組成物層10に接するものとなる。
第1の支持シート11は、上記支持基材の少なくとも一方の面側に、粘着剤層を備えていてもよい。この場合、樹脂シート1では、第1の支持シート11における当該粘着剤層側の面が樹脂組成物層10に接するものとなる。
第1の支持シート11は、帯電防止層を備えていてもよい。第1の支持シート11が帯電防止層を備える場合、当該第1の支持シート11の好ましい構成としては、図5(a)に示されるような支持基材111と帯電防止層114とがこの順に積層された構成、図5(b)に示されるような支持基材111と帯電防止層114と剥離剤層112とがこの順に積層された構成、図5(c)に示されるような帯電防止層114と支持基材111と剥離剤層112とがこの順に積層された構成、図5(d)に示されるような支持基材111と帯電防止層114と粘着剤層113とがこの順に積層された構成、図5(e)に示されるような帯電防止層114と支持基材111と粘着剤層113とがこの順に積層された構成等が挙げられる。
帯電防止剤としては、例えば、導電性高分子、導電性微粒子、イオン性化合物および4級アンモニウム塩含有化合物から選択される少なくとも一種を使用することが好ましい。
第2の支持シート12を構成する支持基材としては、第1の支持シート11を構成する支持基材と同様の樹脂フィルム、不織布、紙等を使用することができる。
温度23℃、相対湿度50%の環境下において、本実施形態に係る樹脂シート1における樹脂組成物層10から第1の支持シート11を10m/分の剥離速度で剥離したときの、剥離5秒後に測定した第1の支持シート11における樹脂組成物層10側の面の剥離帯電圧の絶対値は、200V未満であることが好ましい。剥離帯電圧の絶対値が上記であることにより、樹脂組成物層10から第1の支持シート11を剥離した時に、樹脂組成物層10が剥離帯電し難く、剥離帯電に起因して空気中のごみや塵等の異物が樹脂組成物層10に付着することを効果的に抑制することができる。また、剥離帯電圧の絶対値が上記であることにより、パネルレベルパッケージングによる半導体装置の製造において、樹脂シート1を用いて良好な品質の半導体装置を製造することが可能となる。上記剥離帯電圧の絶対値の下限値は特に限定されないが、0Vであることが好ましい。なお、剥離帯電圧の絶対値の測定方法の詳細は、後述する試験例に示す通りである。
本実施形態に係る樹脂シート1は、例えば、第2の支持シート12上に樹脂組成物層10を形成した後、当該樹脂組成物層10における第2の支持シート12とは反対側の面に、別途準備した第1の支持シート11を貼り合わせることで製造することができる。
本実施形態に係る半導体装置は、本実施形態に係る樹脂シート1における樹脂組成物層10を硬化してなる硬化層を備える。ここで、本実施形態に係る半導体装置は、電子部品を封止する層として硬化層を備えていてもよく、または、絶縁膜として硬化層を備えていてもよい。本実施形態に係る半導体装置は、パネルレベルパッケージングにより製造される半導体装置であることが好ましく、その具体例としては、パネルレベルのファンアウトパッケージング技術(FOPLP)により製造された半導体パッケージ等が挙げられる。
(1)第1の支持シートの作製
帯電防止剤としてのポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホネートとの混合物(PSSをドープしたPEDOT)、バインダー樹脂としてのポリエステル樹脂、架橋剤、およびレベリング剤を混合し、帯電防止層形成用の塗工液を調製した。
熱可塑性樹脂としてのビスフェノールA型フェノキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER1256」)5.1質量部(固形分換算,本段落において以下同じ)と、熱硬化性樹脂としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製,製品名「jER828」)5.7質量部と、熱硬化性樹脂としてのビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬社製,製品名「NC−3000−L」)5.7質量部と、熱硬化性樹脂としてのナフタレン型エポキシ樹脂(DIC社製,製品名「HP−4700」)4.1質量部と、熱硬化性樹脂としてのビフェニル型フェノール(明和化成社製,製品名「MEHC−7851−SS」)14.1質量部と、イミダゾール系硬化触媒としての2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成社製,製品名「2E4MZ」)0.1質量部と、微粒子としてのエポキシシラン処理シリカフィラー〔シリカフィラー(アドマテックス社製,製品名「SO−C2」,平均粒径:0.5μm,最大粒径:2μm,形状:球状)を3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製,製品名「KBM−403」,最小被覆面積:330m2/g)を用いて表面処理したもの〕65質量部とを、メチルエチルケトン中にて混合して、固形分濃度が40質量%である樹脂組成物の塗工液を得た。
上記工程(1)において作製した第1の支持シートにおける剥離剤層側の面と、上記工程(2)において作製した積層体における樹脂組成物層側の面とを貼り合わせることで、第1の支持シートと、樹脂組成物層と、第2の支持シートとが順に積層されてなる樹脂シートを得た。
(1)第1の支持シートの作製
アクリル酸エステル共重合体(アクリル酸2−エチルヘキシル92.8質量%と、アクリル酸2−ヒドロキシエチル7.0質量%と、アクリル酸0.2質量%との共重合体)40質量部(固形分換算,本段落において以下同じ)と、粘着助剤としての両末端水酸基水素化ポリブタジエン(日本曹達社製,製品名「GI−1000」)5質量部と、架橋剤としてのヘキサメチレンジイソシアネートを有する脂肪族系イソシアネート(日本ポリウレタン工業社製,製品名「コロネートHX」)3.5質量部と、帯電防止剤とを、メチルエチルケトン中にて混合し、固形分濃度が30質量%である粘着剤組成物の塗工液を調製した。
上記工程(1)において作製した第1の支持シートから剥離フィルムを剥離し、露出した帯電防止剤含有粘着剤層の露出面に、実施例1における工程(2)において作製した積層体における樹脂組成物層側の面を貼り合わせることで、第1の支持シートと、樹脂組成物層と、第2の支持シートとが順に積層されてなる樹脂シートを得た。
帯電防止層を形成することなく、支持基材の片面側に帯電防止剤を含有する剥離剤層を形成することで得られた第1の支持シートを使用したこと以外は、実施例1と同様にして樹脂シートを得た。
帯電防止剤を含有する支持基材を第1の支持シートとして使用したこと以外は、実施例1と同様にして樹脂シートを得た。
第1の支持シートとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面をアルキド系剥離剤により剥離処理した剥離フィルム(リンテック社製,製品名「PET38AL−5」,厚さ:38μm)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして樹脂シートを得た。
実施例および比較例で製造した樹脂シートから第1の支持シートを剥離して露出した樹脂組成物層の露出面、および当該剥離した第1の支持シートの樹脂組成物層側の面について、低抵抗率計(三菱化学アナリテック社製,製品名「ロレスタGP MCP−T610型」)を用いて、表面抵抗率(Ω/sq)を3回測定し、その平均値(Ω/sq)を算出した。結果を表1に示す。
実施例および比較例で製造した樹脂シートを、500mm×400mmのサイズに裁断した。実施例1および2並びに比較例1に係る樹脂シートについては、第2の支持シートを剥離し、露出した樹脂組成物層の露出面をガラス板に積層した。実施例3に係る樹脂シートについては、樹脂組成物層における第1の支持シートとは反対側の面をガラス板に積層した。その後、樹脂組成物層から第1の支持シートを剥離した。そして、樹脂組成物層の表面における、ごみや埃といった異物の存在を、ガラス板側から確認し、以下の基準に基づいて、樹脂組成物層における異物付着性について評価した。結果を表1に示す。
A:異物が存在しない。
B:異物が存在する。
実施例および比較例で製造した樹脂シートを幅25mm、長さ100mmに裁断し、これをサンプルとした。温度23℃、相対湿度50%の環境下において、サンプルから第1の支持シートを10m/minの剥離速度で剥離し、剥離5秒後に、静電気測定器(シムコジャパン社製,製品名「FMX−003」)を使用して、第1の支持シートにおける樹脂組成物層10側の面の剥離帯電圧の絶対値(V)を測定した。結果を表1に示す。
10…樹脂組成物層
11…第1の支持シート
111…支持基材
111’…帯電防止剤を含有する支持基材
112…剥離剤層
112’…帯電防止剤を含有する剥離剤層
113…粘着剤層
113’…帯電防止剤を含有する粘着剤層
114…帯電防止層
12…第2の支持シート
Claims (8)
- パネルレベルパッケージングによる半導体装置の製造において、電子部品の封止または絶縁膜の形成に用いられる樹脂シートであって、
前記樹脂シートが、第1の支持シートと、前記第1の支持シートにおける片面に積層された樹脂組成物層とを備え、
前記第1の支持シートが、帯電防止性を有し、
剥離速度10m/分で前記樹脂組成物層から前記第1の支持シートを剥離した際の、前記第1の支持シートの剥離帯電圧の絶対値が、200V未満である
ことを特徴とする樹脂シート。 - 前記樹脂組成物層の表面の表面抵抗率は、1.0×1012Ω/sq以上であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂シート。
- 前記第1の支持シートは、帯電防止剤を含有する帯電防止層を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂シート。
- 前記第1の支持シートは、帯電防止剤を含有する支持基材を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂シート。
- 前記第1の支持シートは、帯電防止剤を含有する剥離剤層を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂シート。
- 前記第1の支持シートは、帯電防止剤を含有する粘着剤層を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂シート。
- 前記樹脂シートは、前記樹脂組成物層における前記第1の支持シートとは反対側の面に積層された第2の支持シートを備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂シート。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂シートにおける樹脂組成物層を硬化してなる硬化層を備えることを特徴とする半導体装置。
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