JP2019038141A - 偽造防止構造体 - Google Patents

Abstract

【課題】回折構造に対する偽造、または改ざんによる不正使用を防止するための、更なるセキュリティ対策を講じた偽造防止構造体を提供する。【解決手段】レーザー発色部２を有する発色層５の少なくとも片面側の一部もしくは全面に、セキュリティデバイス３が配置され、セキュリティデバイス３の発色層５側とは反対側に、透明保護シート６が配置された偽造防止構造体１であって、セキュリティデバイス３は、光学機能層７と、貼り換え防止層９とを積層して構成し、貼り換え防止層９は、接着性およびレーザー変質性を備え、レーザー発色部２が、透明保護シート６側から、透明保護シート６およびセキュリティデバイス３越しに観察されることを特徴とする。【選択図】図２

Description

本開示は、例えば、カードやパスポート等の個別情報が付された偽造防止構造体に関し、特に、光学素子付き転写箔が内包され、レーザー刻印情報が施された偽造防止構造体に関する。

従来、回折格子やホログラムを有する光学素子付き転写箔が内包され、さらに、偽造防止構造体を不正な複製から守る為にレーザー刻印情報が施された偽造防止構造体が知られている。

回折格子やホログラムを有する光学素子付き転写箔が内包化された形態の偽造防止構造体は、転写箔が媒体の表面に配置されるような他の形態と比較した場合に、化学薬品や磨耗および直接的な変造に対して非常に強く、不正な手段によって取り外され難いという利点を有する。

また、偽造防止構造体を不正な複製から守る為にレーザー刻印を導入した偽造防止構造体は、特許文献１などで知られている。レーザー刻印は、一般的には、偽造防止構造体内に、特定のレーザー波長光を吸収し変色する特性を持った層を導入し、適当な波長や強度やサイズに調整されたレーザー光照射によって、特定波長吸収層を黒色に変色させて情報を記録するものである。レーザー刻印は、各偽造防止構造体に対し、それぞれ異なる情報を書き込むことが可能である為、偽造防止構造体に対し、不正な複製や変造が困難である所有者の顔やサイン形状等の個別情報が書き込まれることが多い。

特許６１０７１３７号明細書

しかしながら、このような従来の偽造防止構造体では、以下のような問題がある。

すなわち、内包されている光学素子としての回折格子は、その作製方法が同一の凹凸版から同一の絵柄を複製する方法が一般的であるため、個々に異なる絵柄を作製することは困難であり、個人認証用の偽造防止構造体においても共通の絵柄が用いられることが多い。このように、共通の絵柄を用いるがゆえに、不正にこれを取り出して個人情報だけを改ざんしたり、改ざんした個人情報の上に予め取り出した回折構造を再度貼り付ける偽造が行われる可能性が少なからず存在するという問題がある。

また、これらの改ざんや偽造が行われた場合は、それを識別することが困難な場合があるという問題もある。

本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、回折構造に対する偽造、または改ざんによる不正使用を防止するための、更なるセキュリティ対策が講じられた偽造防止構造体を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本開示では、以下のような手段を講じる。

請求項１の発明は、レーザー発色部を有する発色層の少なくとも片面側の一部もしくは全面に、セキュリティデバイスが配置され、前記セキュリティデバイスの前記発色層側とは反対側に、透明保護シートが配置された偽造防止構造体であって、前記セキュリティデバイスは、光学機能層と、貼り換え防止層とを積層して構成し、前記貼り換え防止層は、接着性およびレーザー変質性を備え、前記レーザー発色部が、前記透明保護シート側から、前記透明保護シートおよび前記セキュリティデバイス越しに観察されることを特徴とする。

請求項２の発明は、請求項１に記載の偽造防止構造体において、前記貼り換え防止層はさらに、前記レーザー発色部と対になる貼り替え検知柄記録部を備え、前記貼り換え検知柄記録部が、前記透明保護シート側から、前記透明保護シートおよび前記セキュリティデバイス越しに観察されることを特徴とする。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載の偽造防止構造体において、前記光学機能層が、垂直に入射した赤外光を反射するコレステリック液晶であることを特徴とする。

請求項４の発明は、請求項１または２に記載の偽造防止構造体において、前記貼り換え防止層が蛍光発光性を有することを特徴とする。

請求項５の発明は、請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の偽造防止構造体において、カードまたはパスポートにおける個別情報の記録のために適用されたことを特徴とする。

請求項１の発明によれば、発色層に対して透明保護シート側からレーザー照射すると、レーザー光は透明保護シートおよびセキュリティデバイスを透過し、発色層表面に到達して発色層および貼り換え防止層を発色させることで印字することができる。よって、任意の印字が可能となると同時に、印字後、発色した発色層を、透明保護シートおよびセキュリティデバイス越しに観察することも可能であるので、観察角度を変えることで、光学機能層によって光学作用された光と、発色した発色層である印字の両方を、同時に観察することが可能となる。また、セキュリティデバイスを剥がして発色層のレーザー発色領域を消去し偽造および改ざんを防止することも可能である。

請求項２の発明によれば、貼り換え防止層にさらに、レーザー発色部と対になる貼り替え検知柄記録部を備えているので、偽造および改ざんをより困難にすることが可能となる。

請求項３の発明によれば、垂直入射した赤外光を反射するコレステリック液晶が含まれているので、光が正面から入射した場合は赤外光を反射し、斜めから入射した光は赤色の可視光を反射するようになる。そのため、レーザー照射により発色した部分を透明保護シートおよびセキュリティデバイス越しに観察すると、正面では黒色の印字が観察され、斜めから観察すると赤色の印字が観察される。このように、観察方向に応じて、黒色から赤色に変化することを観察することができるので、高い偽造防止効果を実現することが可能となる。

請求項４の発明によれば、貼り換え防止層が蛍光発光性を有しているため、専用の検査機を用いて蛍光発光を観察することができる。これにより、セキュリティデバイスに印字されている内容を消去し、再度貼付しても、セキュリティデバイスの印字を消去すると同時に蛍光発光の機能も消失してしまうため、偽造や改ざんしたことを発見することが可能となる。

請求項５の発明によれば、カードやパスポートにおける個別情報の改ざん防止性を高めることが可能となる。

本開示の偽造防止構造体を示す平面図である。 図１のＡ−Ａ断面における断面図の一例である。 図１のＡ−Ａ断面における断面図の別の例である。 図１のＡ−Ａ断面における断面図のさらに別の例である。 本開示の偽造防止構造体の偽造および改ざん後の一例を示す断面図である。 本開示の偽造防止構造体の偽造および改ざん後の別の例を示す断面図である。 本開示の偽造防止構造体の偽造および改ざん後の一例を示す平面図である。

以下、本開示の実施の形態を、適宜図面を参照して詳細に説明する。なお、同様または類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本開示の偽造防止構造体を示す平面図である。図１に示す偽造防止構造体１はカード形状であり、レーザー発色領域２とセキュリティデバイス３と印刷部４を同一平面に備えており、目視で同時に観察できる。

図２は、図１に示す偽造防止構造体１のＡ−Ａ断面における断面図の一例を示しており、図中において、発色層５の上部に、印刷部４とセキュリティデバイス３とを設けている。発色層５の上部にはレーザー照射により形成されたレーザー発色領域２があり、レーザー発色領域２は、透明保護シート６越しに発色しているレーザー発色領域２ａと、透明保護シート６およびセキュリティデバイス３越しに発色しているレーザー発色部２ｂとが存在する。セキュリティデバイス３は、発色層５側から、貼り換え防止層９と、回折構造８が形成された光学機能層７とを順に積層されている。

図３は、図１に示す偽造防止構造体１のＡ−Ａ断面における断面図の別の例であり、発色層５の上部のレーザー発色部２ｂと対向するように、貼り換え防止層９に貼り替え検知柄記録部２ｂ’を備えた点が、図２の構成とは異なる。このような構成により、レーザー照射により、発色層５の表層の発色と同時に、貼り換え防止層９も同時に発色する。

図４は、図１に示す偽造防止構造体１のＡ−Ａ断面における断面図の別の例を示しており、光学機能層７に回折構造８を備えるのではなく、回折構造形成層１０に回折構造８を備えた点が、図３の構成とは異なる。セキュリティデバイス３は、発色層５側から、貼り換え防止層９、回折構造形成層１０、光学機能層７を順に積層されている。

図５は、本開示の偽造防止構造体の偽造および改ざん後の例を示す断面図である。具体的には、図５は、例えば図３のような断面構造を有する偽造防止構造体１から、透明保護シート６とセキュリティデバイス３を一旦剥がし、発色層５の表層のレーザー発色領域２を削り取り、再度透明保護シート６とセキュリティデバイス３を貼り合わせてから、レーザー照射により不正な顔写真画像である再レーザー発色領域１１（１１ａ、１１ｂ、１１ｂ’）を設けて偽造を行った後の偽造防止構造体１の断面図である。

図５の例では、貼り換え防止層９には貼り替え検知柄記録部２ｂ’が残存しているため、再度レーザー照射により印字を行うと、貼り替え検知柄記録部２ｂ’および再レーザー発色領域１１ｂ’が貼り換え防止層９内に存在することとなり、不正な顔写真画像である再レーザー発色領域１１のみを得ることができない。

図６は、本開示の偽造防止構造体の偽造および改ざん後の別の例を示す断面図である。具体的には、図６は、例えば図３のような断面構造を有する偽造防止構造体１から、透明保護シート６とセキュリティデバイス３を一旦剥がし、発色層５の表層のレーザー発色領域２を削り取り、さらにはセキュリティデバイス３の貼り替え検知柄記録部２ｂ’も溶剤等でふき取ってから、再度、透明保護シート６とセキュリティデバイス３を貼り合わせ、レーザー照射により不正な顔写真画像である再レーザー発色領域１１を設けて偽造を行った後の偽造防止構造体１の断面図である。また、図６では、貼り換え防止層９を貼り替え検知柄記録部２ｂ’とともに除去したため、新たに粘着層１２を設けて貼付している。

図６の例では、レーザー照射した際に、粘着層１２にはレーザー発色性がなく、粘着層１２は発色しないため、不正な顔写真画像を得ることができる。しかし、貼り換え防止層９の除去とともに、蛍光発光性も消失しているため、専用に検証機を用いても、蛍光発光を確認できないため、偽物と判別できる。

（発色層）
偽造防止構造体１を構成する発色層５は、ポリカーボネート材料にレーザー波長光を吸収するエネルギー吸収体や感熱性色変化材料が添加されたものが使用可能である。例えば、ＳＡＢＩＣ社のＬＥＸＡＮシリーズＳＤ８Ｂ９４ポリカーボネートシートなどが挙げられる。

発色層５の厚さは５０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。厚さが５０μｍ以下であると、発色層５としての物理的強度が不十分となり取り扱い難く、印刷部４等を設ける際にシワ等が発生しやすい。一方、５００μｍ以上であると、加工の際の、発色層５自体が有する厚みのバラツキやたわみの影響が大きくなりやすい。発色層５のより好ましい厚さは７５〜２００μｍである。

（印刷部）
印刷部４は、伝えるべき情報や意匠を付与する為に、任意の色彩やパターン、文字や記号、絵柄などによって、全面または部分的に設けられる層である。

印刷部４は、インキを用いて印刷法によって形成することができる。印刷法としては、例えば、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法など、公知の印刷法の使用が可能である。

これら印刷法に使用されるインキとしては、オフセットインキ、活版インキおよびグラビアインキ、凸版インキ、凹版インキ、インクジェットインクなど、印刷法に応じたインキやインクを適宜用いることができ、また、組成や機能に応じて、例えば、樹脂インキ、油性インキおよび水性インキを用いることができる。

また、乾燥方式の違いに応じて、例えば、酸化重合型インキ、浸透乾燥型インキ、蒸発乾燥型インキおよび紫外線硬化型インキを用いることができる。

また、印刷部４として、光の照明角度または観察角度に応じて色が変化する機能性インキを使用してもよい。このような機能性インキとしては、例えば、光学的変化インキ、カラーシフトインキおよびパールインキなどが挙げられる。

また、印刷部４は、トナーを用いて電子写真法により形成してもよい。この場合、例えば、帯電性を持ったプラスチック粒子に黒鉛および顔料等の色粒子を付着させたトナーを準備し、帯電による静電気を利用して、トナーを被印刷体に転写させ、これを加熱し定着させることで印刷部４を形成することができる。

（セキュリティデバイス）
セキュリティデバイス３は、光学機能層７と、貼り換え防止層９とを積層して構成する。セキュリティデバイス３は、既知の印刷方式にて発色層５に積層して備えることができ、転写箔として支持体にセキュリティデバイス３を予め準備しておき、熱圧等で発色層５上に積層してもよい。

セキュリティデバイス３は、レーザー光の透過性を有する。また、レーザー光により、変色しないことが好ましい。また、セキュリティデバイス３は、可視光の透過性を有する。これにより変色領域を観察できる。セキュリティデバイス３は、近紫外線または近赤外線を透過することが好ましい。近紫外線または近赤外線の波長のレーザー光は、扱いやすく安価で、発光効率の公知の固体レーザーを用いることができる。

（光学機能層）
光学機能層７は、セキュリティデバイス３に含まれる。光学機能層７としては、コレステリック液晶や回折構造を用いることができる。コレステリック液晶は分子軸に垂直な方向に螺旋周期構造を持ち、その螺旋構造のピッチが光と相互関係を構築している。その結果、コレステリック液晶は螺旋ピッチに対応した波長の光を選択的に反射する。

したがって、何らかの方法で螺旋ピッチを制御し、所望する光を反射する螺旋ピッチが得られたところで、その螺旋構造を固定化すれば、所望の反射色を作り出すことができる。

本開示においては、垂直に入射した光の反射波長が７５０〜９００ｎｍで、斜めに入射した光の反射波長が６１０〜７５０ｎｍであることが好ましい。これによって、目視にて観察すると正面から観察すると透明で、斜めから観察すると赤色に観察される。

本開示で用いるコレステリック液晶は、コレステリック構造を有するあるいは温度条件等でコレステリック構造をとなる化合物が用いられ、特に限定されるものではなく公知のコレステリック液晶材料が使用可能である。

例えば、コレステリック液晶形成性化合物としては従来公知のヒドロキシアルキルセルロースのアシル誘導体類、ポリペプチド類、芳香族ポリエステル類、ポリカーボネート類、芳香族ポリエステルイミド類、芳香族ポリアミド類などの主鎖型高分子液晶形成性化合物またはポリ（メタ）アクリレート系、ポリマロネート系、ポリシロキサン系等の側鎖型高分子液晶形成性化合物が使用される。

ヒドロキシアルキルセルロースのアシル誘導体に使用されるヒドロキシアルキルセルロースとしては例えばヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースのアシル誘導体等が用いられる。

剛直なセルロース分子主鎖部分に対し側鎖にフレキシブルな分子鎖を導入することが必要であり、側鎖の長さ、フレキシビリティや剛直性等を制御するために種々のアシル誘導体が使用される。

例えば、炭素数凡そ１〜３０の脂肪族、脂環族、芳香族カルボン酸のエステル類が好ましい。例を挙げると、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−メチル酪酸、トリメチル酢酸、カプロン酸、ヘプタン酸、カプリル酸、ノナン酸、カプリン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸等の飽和カルボン酸のエステル類、シクロヘキサンカルボン酸、シクロヘキシル酢酸、シクロヘキサンプロピオン酸、シクロヘキサン酪酸等の脂環族カルボン酸のエステル類、安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸、５−フェニル吉草酸、４−フェニル酪酸等の芳香族カルボン酸のエステル類、およびアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸のエステル類が好ましい。

また、エステル化の程度により性質、挙動が異なり、従って化合物の設計として完全エステル化物および部分エステル化物が使用される。また、不飽和カルボン酸のエステル類は液晶化合物と併用されるエネルギー線硬化性化合物と共に硬化（重合）反応を起こすことができる。従って架橋を目的として飽和カルボン酸の一部、例えば０.１〜２０％を不飽和カルボン酸に置き換えて使用することも有効である。

好ましいものとしては、ヒドロキシプロピルセルロースの酢酸エステル、ヒドロキシプロピルセルロースのプロピオン酸エステル、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースの酢酸エステル、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースのプロピオン酸エステル、ヒドロキシブチルセルロースの酢酸エステル、ヒドロキシブチルセルロースのプロピオン酸エステル等、ヒドロキシプロピルセルロースのアクリル酸エステル、ヒドロキシプロピルセルロースのメタクリル酸エステル、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースのアクリル酸エステル、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースのメタクリル酸エステル、ヒドロキシブチルセルロースのアクリル酸エステル、ヒドロキシブチルセルロースのメタクリル酸エステル等の完全エステル化物および部分エステル化物、ヒドロキシプロピルセルロースの酢酸エステル−メタクリル酸エステル、ヒドロキシプロピルセルロースのプロピオン酸エステル−メタクリル酸エステル、ヒドロキシブチル化ヒドロキシプロピルセルロースのプロピオン酸エステル−メタクリル酸エステル、ヒドロキシブチルセルロースのプロピオン酸エステル−メタクリル酸エステル等が挙げられる。

コレステリック液晶形成性化合物としては従来公知の低分子量および中分子量のコレステリック液晶形成性化合物も単独もしくは前述した高分子量のコレステリック液晶形成性化合物と併用して使用される。

液晶形成性化合物に添加されるエネルギー線硬化性化合物としては特に制限は無く、従来公知のエネルギー線硬化性化合物が使用されるが、特に分子中に２個ないしそれ以上のエネルギー線硬化性基を有する単量体、オリゴマーおよび／またはポリマーを含有することが好ましい。

ラジカル系光重合性単量体として従来公知の、例えば、トリメチロールプパントリ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能性単量体、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルポリ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂ポリ（メタ）アクリレート、アクリルポリオールポリ（メタ）アクリレート等の多官能性オリゴマー類が好ましい。

一官能性の単量体としては、アルキル（Ｃ１〜Ｃ１８）（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、アルキレン（Ｃ２〜Ｃ４）グリコール（メタ）アクリレート、アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ１０）アルキル（Ｃ２〜Ｃ４）（メタ）アクリレート、ポリアルキレン（Ｃ２〜Ｃ４）グリコール（メタ）アクリレート、アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ１０）ポリアルキレン（Ｃ２〜Ｃ４）グリコール（メタ）アクリレート等である。カチオン系光重合性単量体として従来公知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエステル系化合物が挙げられる。

また、コレステリック液晶に使用するエネルギー線硬化を起こすための重合開始剤等は照射するエネルギー線により適切な特性の公知の重合開始剤が必要に応じて使用される。例えば、光重合開始剤としては従来公知のものが使用される。ラジカル光重合開始剤として、α−ヒドロキシアセトフェノン系、α−アミノアセトフェノン系等のアセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、ベンジルケタール系、α−ジカルボニル系、α−アシルオキシムエステル系等公知のものが使用され、具体的にはα−アミノアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、イソプロピルチオキサントン、ベンゾフェノンとＮ−メチルジエタノールアミンとの併用等が挙げられる。

カチオン系光重合開始剤としては従来公知のもの単独のほか、増感剤や過酸化物との併用も好ましい。例えば、アリルヨードニウム塩−α−ヒドロキシアセトフェノン系、トリアリルスルホニウム塩系、メタロセン化合物−パーオキサイド併用系、メタロセン化合物−チオキサントン併用系、メタロセン化合物−アント螺旋併用系等である。

コレステリック液晶性化合物とエネルギー線重合性化合物との組成物の調製に際して、配合量は特に限定されないが、例えば、コレステリック液晶形成性化合物４０〜９８重量部、エネルギー線重合性化合物６０〜２重量部、重合開始剤０〜１０重量部の配合比であり、好ましくは、コレステリック液晶層２形成性化合物５５〜９５重量部、エネルギー線重合性化合物４５〜５重量部、重合開始剤０〜５重量部の配合比である。必要に応じて溶解助剤として両者の良溶媒を使用することができる。さらに必要に応じて従来公知の種々の添加剤を含むことができる。

また、コレステリック液晶を発色層に塗布した後に、螺旋ピッチを固定させるためには、急速に冷却しガラス化する方法もしくは、溶液を乾燥し固化する方法、エネルギー照射することにより固定化する方法があるが、配向手段や固定手段は公知の手段を適宜選択し利用可能である。

また、その厚みはその特性を得るために０．５μｍ〜２０μｍ程度設けることが好ましい。さらに、エネルギー線照射により固定化されるコレステリック液晶材料に添加されるエネルギー線硬化性材料および光重合開始剤は特に制限はなく、従来公知の材料を用いる。この配合比は特に限定されない。

コレステリック液晶の螺旋ピッチを固定させると同時に、凹凸パターンの版を押し当てて、コレステリック液晶表層に回折構造８を形成することができる。しかし、コレステリック液晶に回折構造を形成することが困難な場合は、コレステリック液晶とは別に回折構造形成層１０を設けるとよい。

回折構造形成層１０としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。このうち、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等も使用できる。また、セキュリティデバイス３越しに発色領域を観察するため、透明であることが好ましい。

回折構造８の画像パターンを記録する方法については、前述した二光束干渉法の他にもイメージホログラムやリップマンホログラム、レインボーホログラム、インテグラルホログラムなど、従来から知られているホログラムの製造方法を適用することが可能である。

また、レリーフ型回折格子の凹凸パターンは、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、回折格子となる縞状パターンに露光することによって回折構造物を形成することも可能である。この場合には、その干渉縞を１本ごとに制御することができるため、ホログラムと同様に任意の立体画像やチェンジング画像を記録することができる。また、画像をドット状の画素領域に分割し、この画素領域ごとに異なる回折格子を記録し、これら画祖の集合で全体の画像を表現することも可能である。画素は円形のドットの他、星形のドットでも良い。

また、誘起表面レリーフ形成法によって、前述した凹凸パターンを形成することも可能である。すなわち、アゾベンゼンを鎖側に持つポリマーのアモルファス薄膜に対して、青色〜緑色に渡る範囲の或る波長を有した数十ｍＷ／ｃｍ^２程度の比較的弱い光を照射することによって、数μｍスケールでポリマー分子の移動を起こし、結果、薄膜表面に凹凸によるレリーフを形成することができる。

そして、このように形成された凹凸パターンを有するレリーフ型のマスター版の表面に電気メッキ法で金属膜を形成することによって、レリーフ型マスター版の凹凸パターンを複製し、これをプレス版とする。そして、このプレス版を熱圧着し、この光学機能層７の表面に微細な凹凸パターンを転写することにより、回折構造８を形成することができる。

（反射層）
回折構造８の形成面に光学効果を高めるために反射層を設けてもよい。セキュリティデバイス３越しにレーザー発色領域２を観察するため、反射層は透明であることが好ましい。材料としては例えばＺｎＳ、ＴｉＯ_２などが挙げられる。反射層は、単層でも多層でも良い。単層の場合は、単層の蒸着により反射層を形成でき、多層の場合は、複数の蒸着膜を順次形成できる多層蒸着により形成できる。

（貼り換え防止層）
貼り換え防止層９は、レーザー発色性や蛍光発色性と、接着性を有するため、それぞれの機能を発揮する材料を適宜使用するとよい。

（レーザー発色性）
レーザー発色させる方法として、例えば１）樹脂を発泡させて発色する方法、２）樹脂にレーザー光を吸収する添加剤を加えて添加剤自体を発色させる方法、および３）樹脂にレーザー光を吸収する添加剤を加えて添加剤を発熱させ周囲の樹脂を炭化させて発色する方法などが知られている。用途に応じて、適切な方法を選択してよい。

レーザー光の波長域に吸収のある添加剤（レーザー光吸収剤）としては、レーザー光を吸収して熱エネルギーに変換できる材料を用いることができる。レーザー光を吸収して熱エネルギーに変換できる材料を用いることで、レーザー光吸収剤の周囲の樹脂を炭化させることで黒く発色させることができる。

レーザー光を吸収して熱エネルギーに変換できる材料としては、例えば、珪素含有無機化合物、珪素を含有する染料、金属珪酸塩等の放射線吸収物質、水和アルミナ等の無機質充填剤、燐酸塩を含む顔料、非白色のチタン酸金属塩、黒色有機染料、非黒色の無機鉛化合物、黒鉛、カーボンブラック、グラファイト、金属水酸化物または／および金属含水化合物と着色剤を含有したものなどがあげられる。

レーザー光を吸収して発色する材料としては、炭酸鉛、硫酸鉛、ステアリン酸鉛、鉛白、酢酸銀、蓚酸コバルト、炭酸コバルト、黄色酸化鉄、塩基性酢酸ビスマス、水酸化ビスマス、ニッケルアセチルアセテート、乳酸ニッケル、クエン酸銅、炭酸銅等、重金属を含有する化合物などがあげられる。また、ロイコ染料と顕色剤を用いてもよい。

これらの材料は用いるレーザーの波長域や樹脂との相性により適宜選択することができ、また添加量は、エネルギーの吸収効率、発色性シート発色層の物性への影響を考慮し適宜設定できる。

（蛍光発光性）
蛍光発光性を付与する材料として、次のものが使用できる。紫外線用蛍光体としては、例えば、Ｃａ_２Ｂ_５Ｏ_３Ｃｌ：Ｅｕ_２ ^＋、ＣａＷＯ_４、ＺｎＯ：Ｚｎ_２ＳｉＯ_４：Ｍｎ、Ｙ_２Ｏ_２Ｓ：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ、ＹＶＯ_４：Ｅｕ、Ｙ_３０_３：Ｅｕ、Ｇｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｙ_３Ａｌ_５Ｏ_１２：Ｃｅ等が挙げられる。蛍光発光性を付与する材料としては、無機顔料も用いることができる。無機顔料の中でも、特に結晶性のものを用いることができる。

可視蛍光体としては、例えばＹＦ_３：ＹＢ、Ｅｒ、ＺｎＳ：ＣｕＣｏ等、赤外線用としては、例えば、ＬｉＮｄ_０．９Ｙｂ_０．１Ｐ_４Ｏ_１２，ＬｉＢｉ_０．２Ｎｄ_０．７Ｙｂ_０．１Ｐ_４Ｏ_１２、Ｎｄ_０．９Ｙｂ_０．１Ｎｄ_５（ＭｏＯ_４）_４、ＮａＮｂ_０．３Ｙｂ_０．１Ｐ_４Ｏ_１２、Ｎｄ_０．８Ｙｂ_０．２Ｎａ_５（Ｗ０_４）_４、Ｎｄ_０．８Ｙｂ_０．２Ｎａ_５（Ｍｏ_０．５ＷＯ_０．５）_４、Ｃｅ_０．０５Ｇｄ_０．０５Ｎｄ_０．７５Ｙｂ_０．２５Ｎａ_５（Ｗ_０．７Ｍｏ_０．４０_４）_４、Ｎｄ_０．３Ｙｂ_０．１Ａｌ_３（ＢＯ_３）_４、Ｎｄ_０．９Ｙｂ_０．１Ａｌ_２．７Ｃｒ_０．３（ＢＯ_３）_４、Ｎｄ_０．４Ｐ_５Ｏ_４、Ｎｄ_０．８Ｙｂ_０．２Ｋ_３（ＰＯ_４）_２等から選択でき、検出波長、分散性、発光強度、安全性などを考慮して適宜選択する。蛍光発光体としては、無機顔料も用いることができる。無機顔料の中でも、特に結晶性のものを用いることができる。

例えば、２〜１５重量％、好ましくは３〜５重量％の範囲で分散されるのが好ましい組成の一例である。これにより、ブラックランプ（紫外線）または赤外線（７８０ｎｍ以上）の照射下において発光を見ることが可能となる。

（接着性）
接着性を付与する材料としては、一般的な粘着材料を用いて形成することができる。例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系ポリアミド、アクリル系、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコン系、ポリイソブチル系の粘着剤を単独、もしくはアルキルメタクリレート、ビニルエステル、アクリルニトリル、スチレン、ビニルモノマーなどの凝集成分、不飽和カルボン酸、ヒドロキシ基含有モノマー、アクリルニトリルなどに代表される改質成分や重合開始剤、可塑剤、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤などの添加剤を必要に応じて添加したものを用いることができる。

接着性付与剤としては、ロジン系樹脂、テルペンフェノール樹脂、テルペン樹脂、芳香族炭化水素変性テルペン樹脂、石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン樹脂などが挙げられる。

充填剤としては、亜鉛華、酸化チタン、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどが挙げられる。軟化剤としては、プロセスオイル、液状ゴム、可塑剤などが挙げられる。

熱光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系などが挙げられ、酸化防止剤としては、アニリド系、フェノール系、ホスファイト系、チオエステル系などが挙げられる。

接着層（８−４）の厚さは、用途に応じて適宜選択されるが、通常０．１〜１０μｍ程度、好ましくは１〜５μｍである。

以下、本開示を具体的な実施例を挙げて詳細に説明する。

支持体上にセキュリティデバイス３を設け転写箔を作製し、発色層５に熱圧によりスポット転写することによって、セキュリティデバイス３を設けた。その後、印刷部４をレーザー印字機に用いて印刷を行い、透明保護シート６を熱圧ラミネートすることによって偽造防止構造体１を作製した。その後、レーザー照射を行い、レーザー発色領域２を得た。

セキュリティデバイス３を設けた転写箔は、支持体として厚みが２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、光学機能層７としてメルク社製のコレステリック液晶インクをマイクログラビアで厚み４μｍに塗工後、インクに含まれる溶剤を揮発除去させた後、ＵＶを５０ｍJ/ｃｍ^２照射し、螺旋ピッチの固定化を行った。

次に、回折構造形成層１０としてアクリルウレタンをインキ化しグラビア印刷にて厚み２μｍにコートし、インキに含まれる溶剤を揮発除去させた後、これに、凹凸レリーフを有する金属円筒版にて、プレス圧力を２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度を２４０℃、プレススピードを１０ｍ／ｍｉｎにて押し当ててロール形成加工を行い、回折構造を形成した。そして、形成された回折構造面にＺｎＳを真空蒸着法にて積層した。

その後、反射層上に蛍光体を３％、レーザー発光添加剤を３％添加したポリエステルインキをグラビア印刷にて印刷し、インクに含まれる溶剤を揮発除去して、貼り換え防止層９として積層し、転写箔化したセキュリティデバイス３を得た。

発色層５としてＬＥＸＡＮ ＳＤ８Ｂ９４ １００μｍ厚（ＳＡＢＩＣ株式会社）を用い、転写箔を、ホットスタンプ転写機を用いて、転写温度１２０度、転写時間１秒で転写後、支持体を取り除き、発色層５上にセキュリティデバイス３を設けた。その後、印刷部４をインクジェットプリンターにて印字し、透明保護シートを重ね、熱圧ラミネート後カード型に抜いて、偽造防止構造体１を作製した。また、熱圧ラミネート条件は、温度２００℃、圧力８０Ｎ／ｃｍ^２、時間２５分間である。

作製された偽造防止構造体１にレーザー印字機（開発品：ファイバーレーザー型 射出波長１０６４ｎｍ）を用いて、発色層５の表層にレーザー発色領域２を形成し、顔写真画像等の個人情報を印字した。

このように作製された偽造防止構造体１と観察すると、レーザー発色領域２とセキュリティデバイス３と印刷部４とを同時に観察することができ、さらには傾けることによって、セキュリティデバイス３と重なっているレーザー発色部２ｂおよび貼り替え検知柄記録部２ｂ’の部分が赤く光るのが観察された。

この偽造防止構造体１を偽造しようとして、透明保護シート６およびセキュリティデバイス３と発色層５間にて一旦剥がし、発色層５の表層のレーザー発色領域２を削り取り、再度透明保護シート６を貼り合せてレーザー印字機にて、異なる顔写真画像を書き込んだところ、貼り換え防止層９部分の貼り替え検知柄記録部２ｂ’が消失できておらず、図７のように２つの顔写真画像が重なって観察されてしまうため、偽造が困難であった。

さらに、この偽造防止構造体１を偽造しようとして、透明保護シート６およびセキュリティデバイス３と発色層５間を一旦剥がし、発色層５の表層のレーザー発色領域２ａ、レーザー発色部２ｂを削り取り、セキュリティデバイス３の貼り替え検知柄記録部２ｂ’も溶剤でふき取って消し去り、再度透明保護シート６を貼り合せてレーザー印字機にて、顔写真画像を書き込んだところ、目視では、偽造の判別が困難であるが、専用の検証機を用いたところ、貼り換え防止層９部分の蛍光発色が確認できないため、偽造を確認することができた。

以上説明したように、本開示によれば、セキュリティデバイスに対する偽造、または改ざんによる不正使用を防止するための、更なるセキュリティ対策が講じられた偽造防止構造体を実現することができる。

以上、本開示を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明したが、本開示はかかる構成に限定されない。特許請求の範囲の発明された技術的思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本開示の技術的範囲に属するものと了解される。

本開示の偽造防止構造体は、セキュリティデバイスを有する転写箔が内包され、レーザー刻印情報が施された積層一体化物として適用されるのであれば、カードやパスポート等への適用に限定されるものではない。

１…偽造防止構造体、２…レーザー発色領域、２ａ…レーザー発色領域、２ｂ…レーザー発色部、２ｂ’…貼り替え検知柄記録部、３…セキュリティデバイス、４…印刷部、５…発色層、６…透明保護シート、７…光学機能層、８…回折構造、９…貼り換え防止層、１０…回折構造形成層、１１…再レーザー発色領域、１２…粘着層。

Claims (5)

1. レーザー発色部を有する発色層の少なくとも片面側の一部もしくは全面に、セキュリティデバイスが配置され、前記セキュリティデバイスの前記発色層側とは反対側に、透明保護シートが配置された偽造防止構造体であって、
   前記セキュリティデバイスは、光学機能層と、貼り換え防止層とを積層して構成し、
   前記貼り換え防止層は、接着性およびレーザー変質性を備え、
   前記レーザー発色部が、前記透明保護シート側から、前記透明保護シートおよび前記セキュリティデバイス越しに観察されることを特徴とする偽造防止構造体。
2. 前記貼り換え防止層はさらに、前記レーザー発色部と対になる貼り替え検知柄記録部を備え、
   前記貼り換え検知柄記録部が、前記透明保護シート側から、前記透明保護シートおよび前記セキュリティデバイス越しに観察されることを特徴とする請求項１に記載の偽造防止構造体。
3. 前記光学機能層が、垂直に入射した赤外光を反射するコレステリック液晶であることを特徴とする請求項１または２に記載の偽造防止構造体。
4. 前記貼り換え防止層が蛍光発光性を有することを特徴とする請求項１または２に記載の偽造防止構造体。
5. カードまたはパスポートにおける個別情報の記録のために適用されたことを特徴とする請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の偽造防止構造体。