JP2019035982A - 露光装置、およびそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の基板ステージ間で、その表面上で液浸液を効率良く受け渡すのに有利な液浸型の露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、基板を計測する計測領域と、投影光学系を介して基板を露光する露光領域とを有し、投影光学系の最終レンズと露光領域にある基板との間に液浸液１３が供給されている状態で基板を露光する。また、露光装置は、基板を保持して移動可能な第１ステージおよび第２ステージと、第１ステージおよび第２ステージの駆動を制御する制御部と、を備える。制御部は、第１ステージから第２ステージに液浸液１３を受け渡すときの第１ステージ上の液浸液１３の位置である受け渡し位置を、第１ステージ上の基板の露光終了位置に基づいて第１ステージ上の任意の位置に決定し、該決定された受け渡し位置に基づいて第１ステージおよび第２ステージを駆動させる。【選択図】図４

Description

本発明は、露光装置、およびそれを用いたデバイスの製造方法に関する。

露光装置は、半導体デバイスなどの製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、原版（レチクルなど）のパターンを投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハなど）に露光する装置である。さらに、基板に投影するパターン像の解像力を向上させる技術としての液浸法を用いた液浸露光装置がある。液浸露光装置は、投影光学系の最終レンズと基板との間を液浸液で満たしつつ、パターン像を基板に投影する。一方、単位時間当たりの生産量を上げるために、基板を保持するステージを複数備える液浸露光装置もある。基板ステージを１つだけ備える液浸露光装置では、基板の入れ替えや事前計測の間に露光を行うことができない、いわゆる「空白状態」が生じる。これに対して、基板ステージを複数（例えば２つ）備える液浸露光装置では、一方の基板ステージ上にある基板に対して露光を行っている間に、他方の基板ステージで基板の入れ替えなどを行う。この構成によれば、一方の基板ステージ上の基板に対する露光が終了した直後に、他方の基板ステージ上にある次の基板への露光を開始できる。すなわち、液浸露光装置全体で見ると、「空白状態」が生じず、常にいずれかの基板に対する露光を行う状態となるため、単位時間当たりの生産量を上げられる。

ここで、複数の基板ステージを備える液浸露光装置では、一方の基板ステージ上の基板に対する露光が終了した後に、迅速に他方の基板ステージが投影光学系の下部に移動して次の基板に対する露光を開始するため、各基板ステージ間で液浸液を受け渡す。例えば、前の基板に対する露光が終了した時点で液浸液の供給を停止し、次の基板ステージが投影光学系の下部に移動した時点で液浸液の供給を再開するという方法も考えられる。しかしながら、この方法は、液浸液の供給開始から、供給された液浸液の状態が安定するまでに時間がかかるため、現実的でない。そこで、露光が終了した基板を保持した基板ステージから次の露光対象となる基板を保持した基板ステージへ、供給されている液浸液をそのまま受け渡す方法が提案されている。特許文献１は、各基板ステージ上で液浸液の受け渡し位置が規定されている液浸露光装置を開示している。この液浸露光装置は、各基板ステージの側面部に、露光中に各基板ステージの位置をリアルタイムで計測するために用いられるミラーを有する。そして、この場合の液浸液の受け渡し位置は、ミラーを用いた計測を阻害しないように、基板ステージの端部とされている。一方、特許文献２は、受け渡し時間の短縮化の観点から、基板ステージ上で液浸液の受け渡し位置を複数箇所有する液浸露光装置を開示している。

特開２００８−１２４２１９号公報 特開２００８−１３０７４５号公報

しかしながら、特許文献１に示す液浸露光装置では、液浸液の受け渡し時には、規定されている受け渡し位置を必ず経由する必要があり、受け渡し開始時の基板ステージの位置によっては、受け渡し時間に無駄が生じる場合がある。また、特許文献２に示す液浸露光装置では、液浸液を受け渡すために基板ステージの稼動領域を広げる必要があるので、結果として装置サイズの拡大化やコストアップを招く。

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、例えば、複数の基板ステージ間で、その表面上で液浸液を効率良く受け渡すのに有利な液浸型の露光装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の例に係る露光装置は、基板を計測する計測領域と、投影光学系を介して前記基板を露光する露光領域とを有し、前記投影光学系の最終レンズと前記露光領域にある前記基板との間に液浸液が供給されている状態で前記基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持して移動可能な第１ステージおよび第２ステージと、前記第１ステージおよび前記第２ステージの駆動を制御する制御部と、を備える。前記制御部は、前記第１ステージから前記第２ステージに前記液浸液を受け渡すときの前記第１ステージ上の前記液浸液の位置である受け渡し位置を、前記第１ステージ上の前記基板の露光終了位置に基づいて前記第１ステージ上の任意の位置に決定し、該決定された受け渡し位置に基づいて前記第１ステージおよび前記第２ステージを駆動させる、ことを特徴とする。

本発明によれば、例えば、複数の基板ステージ間で、その表面上で液浸液を効率良く受け渡すのに有利な液浸型の露光装置を提供することができる。

本発明の第１実施形態に係る露光装置の構成を示す図である。 各ステージ間で液浸液を受け渡すときの状態を示す図である。 第１実施形態における受け渡し動作の流れを示すフローチャートである。 第１実施形態における受け渡し動作を時系列で示す図である。 第１実施形態におけるウエハステージのタイミングチャートである。 レーザー干渉計に換えた位置計測センサーなどを示す図である。 液浸液の受け渡しをしない側にのみミラーを配置する構成を示す図である。 第２実施形態における受け渡し動作の流れを示すフローチャートである。 第２実施形態における受け渡し動作を時系列で示す図である。 第２実施形態における受け渡し動作を時系列で示す図である。 第２実施形態におけるウエハステージのタイミングチャートである。 従来の受け渡し動作を時系列で示す図である。

以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。

（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態に係る露光装置について説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、一例として、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・リピート方式にてレチクル１５に形成されているパターンをウエハ１４上（基板上）に露光（転写）する投影型露光装置とする。また、露光装置１００は、ウエハ１４上に投影するパターン像の解像力を向上させる技術としての液浸法を用いた液浸露光装置とする。なお、図１では、投影光学系３の光軸（本実施形態では鉛直方向）に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で露光時のウエハ１４の走査方向にＸ軸を取り、Ｘ軸に直交する非走査方向にＹ軸を取っている。露光装置１００は、照明系１と、レチクルステージ２と、投影光学系３と、ウエハステージ５と、液浸液供給機構４と、アライメント検出系６と、フォーカス検出系７と、制御部２０とを備える。そして、これらの構成要素のうち、照明系１、レチクルステージ３、投影光学系３、および液浸液供給機構４は、露光装置１００内の露光領域に設置されている。一方、アライメント検出系６、およびフォーカス検出系７は、露光装置１００内の計測領域に設置されている。このように、露光装置１００では、露光領域と計測領域とが独立し、後述するが、ウエハステージ５を構成する複数のステージは、露光領域と計測領域とを交互に移動し得る。

照明系１は、不図示の光源から照射された光を調整し、レチクル１５を照明する。レチクル１５は、ウエハ１４上に転写されるべきパターン（例えば回路パターン）が形成された、例えば石英ガラス製の原版である。レチクルステージ３は、レチクル１５を保持しつつ、ＸＹの各軸方向に移動可能である。投影光学系３は、照明系１からの光で照明されたレチクル１５上のパターンの像を所定の倍率（例えば１／２〜１／５）でウエハ１４上に投影する。ウエハ１４は、表面上にレジスト（感光剤）が塗布された、例えば単結晶シリコンからなる基板である。

ウエハステージ５は、ステージ定盤２１上で互いに移動、かつ互いの位置を交換可能な粗動ステージと微動ステージとの組を２つ有する、いわゆるツインステージ型のステージ装置である。以下、この２つの組の一方を「第１ステージ５ａ」とし、他方を「第２ステージ５ｂ」とそれぞれ表記する。第１ステージ５ａおよび第２ステージ５ｂともに、ウエハ１４を保持しつつ、ＸＹＺの各軸方向に移動可能（姿勢変化可能）である。この構成により、露光装置１００は、例えば、露光領域にある第１ステージ５ａ上の第１ウエハ１４ａに対して露光を行っている間に、計測領域にある第２ステージ５ｂでは、第２ウエハ１４ｂの入れ替えやアライメント計測（事前計測）などを行うことができる。すなわち、露光装置１００は、いずれのウエハ１４に対しても露光を実施していない空白状態が生じずらく、常にいずれかのウエハ１４に対する露光を行う状態となるため、単位時間当たりの生産量を上げるのに有利である。また、各ステージ５ａ、５ｂは、それぞれその側面にミラー２２を備え、各ステージ５ａ、５ｂのＸＹ平面における位置（ステージ位置）は、ミラー２２との間の距離をレーザー干渉計２３で計測することで求められる。なお、本実施形態では、ウエハステージ５を一例としてツインステージ型として説明するが、３つ以上のステージの組を有するものであっても構わない。

液浸液供給機構４は、投影光学系３の最終レンズと、ウエハステージ５（図１では第２ステージ５ｂ）上のウエハ１４とに挟まれる一定の空間領域を液浸液１３で満たすよう液浸液１３を供給、かつその後に回収する。液浸液供給機構４は、液浸液１３を供給する供給ノズル１１と、一旦供給された液浸液１３を回収する回収ノズル１２とを含む。露光装置１００は、この領域に空気よりも屈折率の高い液浸液１３を満たしつつ、パターン像をウエハ１４に投影することで、より微細なパターンを転写するのに有利となる。

アライメント検出系６は、検出光をウエハ１４上またはウエハステージ５上の基準マークに投射する投射系と、基準マークからの反射光を受光する受光系とを有する。そして、アライメント検出系６は、ウエハ１４のアライメント位置、およびウエハ１４とレチクル１５との間のアライメント位置を検出する。アライメント検出系６としては、投影光学系３を介さずに基準マークを光学的に検出することができるオフアクシスアライメント検出系とし得る。フォーカス検出系７は、焦点面検出装置であり、検出光をウエハ１４の表面に向け投射する投射系７ａと、その反射光を受光する受光系７ｂとを有し、ウエハ１４のＺ軸方向の位置（表面位置）を検出する。投射系７ａおよび受光系７ｂは、それぞれアライメント検出系６用の基準マークに対して斜め上方に対向して設けられている。

制御部２０は、露光装置１００の各構成要素の動作および調整などを制御し得る。特に本実施形態では、制御部２０は、以下で詳説する液浸液１３の受け渡しの際のウエハステージ５（第１ステージ５ａおよび第２ステージ５ｂ）の移動動作を制御する。制御部２０は、例えばコンピューターなどで構成され、露光装置１００の各構成要素に回線を介して接続され、プログラムなどにしたがって各構成要素の制御を実行し得る。なお、制御部２０は、露光装置１００の他の部分と一体で（共通の筐体内に）構成してもよいし、露光装置１００の他の部分とは別体で（別の筐体内に）構成してもよい。

次に、本実施形態における第１ステージ５ａと第２ステージ５ｂとの間での液浸液１３の受け渡し動作について説明する。ここで、「受け渡し動作」とは、一方のステージ上の第ウエハ１４に対する露光が終了した後に、他方のステージが投影光学系３の下部に移動して次のウエハ１４に対する露光を開始するために、各ステージ５ａ、５ｂ間で液浸液１３を受け渡す動作をいう。まず、基本的な受け渡し動作について、図２を用いて説明する。図２は、一例として第１ステージ５ａ上から第２ステージ５ｂ上へ液浸液１３を受け渡すときの状態を時系列で示す概略断面図である。図２（ａ）は、投影光学系３の下部（露光位置）に位置する第１ステージ５ａ上で第１ウエハ１４ａに対する露光が終了し、次に露光対象となる第２ウエハ１４ｂを保持した第２ステージ５ｂが近接してきた状態を示す図である。各ステージ５ａ、５ｂが最も近接した時の間隔ｄは、互いに接触しない程度で可能な限り狭いことが望ましい。次に、図２（ｂ）は、液浸液１３を受け渡し中の状態を示す図である。各ステージ５ａ、５ｂの間隔ｄを可能な限り狭くし、かつ各ステージ５ａ、５ｂ上で液浸液１３が接触する部分の撥水性を高く保つことで、この間隔ｄの空間領域には液浸液１３が入り込みづらくなっている。そして、図２（ｃ）は、液浸液１３の受け渡しが終了した状態を示す図である。この状態で、第１ステージ５ａ側では、露光済みの第１ウエハ１４ａの回収作業に入り、一方、第２ステージ５ｂ側では、第２ウエハ１４ｂに対する露光を開始する。

次に、本実施形態における液浸液１３の受け渡し動作の際に、特に各ステージ５ａ、５ｂをＸＹ平面上でどのように移動させるかについて説明する。まず、本実施形態における受け渡し動作の特徴を明確にするために、比較例として従来の受け渡し動作について説明する。図３は、従来と本実施形態との両方に対応する受け渡し動作の基本的なシーケンスを示すフローチャートである。そして、図１２は、従来の受け渡し動作を時系列で示す概略平面図である。特にここでは、一例として、第１ステージ５ａで第１ウエハ１４ａに対する露光が終了したときから、第２ステージ５ｂ上の計測位置、または第２ウエハ１４ｂに設定されている最初のパターン形成領域が露光位置に位置するときまでの状態を示している。なお、図１２中に示す各構成要素には、比較のしやすさの観点から、本実施形態の構成要素に対応するものと同一の符号を付す。また、図中の矢印は、各ステージ５ａ、５ｂの移動の軌跡を示している。

まず、制御部２０は、第１ステージ５ａ上の第１ウエハ１４ａに対する露光が終了した後、第１ステージ５ａを液浸液１３の受け渡し位置に移動させる（ステップＳ１０１）。図１２（ａ）は、第１ステージ５ａでの露光が終了したときの各ステージ５ａ、５ｂの状態を示す図である。一方、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）に示す状態から、第１ステージ５ａが受け渡し位置に移動したときの状態を示す図である。従来のウエハステージ５は、例えば、受け渡し位置がステージ側面の位置計測用ミラーを避けた位置に規定されているため、第１ステージ５は、第１ウエハ１４ａ上のどの位置に最終のパターン形成領域があるかに関わらず、その受け渡し位置まで移動する。次に、制御部２０は、第２ステージ５ｂを、第１ステージ５ａの受け渡し位置に第２ステージ５ｂの受け渡し位置（この場合は受け取る位置となる）が合うように移動させる（ステップＳ１０２）。次に、制御部２０は、各ステージ５ａ、５ｂの受け渡し位置が合った後、各ステージ５ａ、５ｂを並行移動させることで、液浸液１３を第２ステージ５ｂの受け渡し位置に移動させる（ステップＳ１０３）。図１２（ｃ）は、第２ステージ５ｂが図１２（ｂ）に示す状態から受け渡し位置に移動した後、第２ステージ５ｂ上に液浸液１３を移動させたときの状態を示す図である。そして、制御部２０は、第１ステージ５ａを退避（次の特定位置へ移動）させた後、第２ステージ５ｂを、第２ウエハ１４ｂ上の最初のパターン形成領域が露光位置に位置するように移動させる（ステップＳ１０４）。図１２（ｄ）は、第２ステージ５ｂが計測位置に位置するように移動させるときの状態を示す図である。このように、従来の受け渡し時のウエハステージ５の動作では、受け渡し位置が予め規定されていることに伴い、ウエハ１４上に設定されているパターン形成領域への露光順序によっては、特にステップＳ１０２およびＳ１０４での移動に時間がかかる場合がある。

これに対して、本実施形態では、制御部２０は、図３に示したシーケンスに合わせ、以下のように各ステージ５ａ、５ｂを移動させる。図４は、本実施形態における受け渡し動作を時系列で示す概略平面図である。なお、図４（ａ）〜図４（ｄ）の各図は、従来の受け渡し動作を示す上記の図１２（ａ）〜図１２（ｄ）に示す各状態にそれぞれ対応している。本実施形態における受け渡し動作が従来と異なる点は、各ステージ５ａ、５ｂにおいて、液浸液１３の受け渡し位置を予め規定していない点にある。例えば、本実施形態における図３のステップＳ１０１の動作としては、制御部２０は、第１ステージ５ａにおける液浸液１３の受け渡し位置を、露光終了位置、すなわち第１ウエハ１４ａ上の最終のパターン形成領域で露光が終了した位置に基づいて決定する。この場合の露光終了位置は、図４（ａ）に示す液浸液１３が記載されている位置である。なお、制御部２０は、露光終了位置を、第１ウエハ１４ａ上に設定されているパターン形成領域を含むレイアウト、またレイアウトに対してどのような露光順序で露光するかなどのデータを含むレシピなどに基づいて、露光前に認識可能である。次に、制御部２０は、第１ステージ５ａを、図４（ａ）に示す露光終了位置にある状態から、液浸液１３が図４（ｂ）に示すステージ端部に位置するまで、そのまま所定の方向に直線移動させる。そして、図４（ｂ）に示す液浸液１３が待機している位置が、本実施形態でいう液浸液１３の受け渡し位置である。なお、ここでいう「直線移動」とは、各ステージ５ａ、５ｂを移動させる駆動装置の構成および制御上、一方向（ここではＸ軸方向）用の駆動部だけで直線的に移動可能な方向をいう。これに対して、従来の図１２（ｂ）に示す受け渡し位置までの移動では、「傾斜移動」、すなわちＸ軸方向用とＹ軸方向用との少なくとも２つの駆動部を駆動させて、図１２に示すＸＹ平面上で見て斜めに移動させるものである。

また、例えば、本実施形態における図３のステップＳ１０２以降の動作としては、制御部２０は、第２ステージ５ｂにおける液浸液１３の受け渡し位置（受け取り位置）を以下のように決定する。すなわち、受け渡し位置は、第１ステージ５ａにおける受け渡し位置の一方向（ここではＸ軸方向）に、計測位置、または露光開始位置（第２ウエハ１４ｂ上の最初のパターン形成領域で露光を開始する位置）とが合うように決定される。この場合の計測位置または露光開始位置（これらを総称して、以下「処理位置」という。）は、図４（ｃ）に示す液浸液１３が記載されている位置である。そして、制御部２０は、第２ステージ５ｂを、図４（ｃ）に示す受け渡し位置にある状態から、液浸液１３が図４（ｄ）に示す最初に露光対象となるパターン形成領域に位置するまで、そのまま所定の方向に直線移動させる。

このように、露光装置１００では、液浸液１３の受け渡し時に、露光終了位置、または最初の処理位置に基づいて各ステージ５ａ、５ｂの受け渡し位置を決定することにより、各ステージ５ａ、５ｂの移動時間を従来よりも短縮させることができる。また、このときの各ステージ５ａ、５ｂの移動を直線移動とすることにより、駆動装置特有の移動精度や電力効率の点で有利となり得る。なお、ここでは、各ステージ５ａ、５ｂの移動をＸ軸を基準として説明したが、Ｙ軸を基準にしても同様である。

図５は、本実施形態における各ステージ５ａ、５ｂの移動時間の短縮効果を明確にするために、従来の露光装置の場合と比較したタイミングチャート（横軸は時間）である。このうち、図５（ａ）は、従来の露光装置における露光シーケンスに合わせたタイミングチャートであり、図５（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００における露光シーケンスに合わせたタイミングチャートである。なお、図５（ａ）および図５（ｂ）ともに、上段が第１ステージ５ａ、下段が第２ステージ５ｂにそれぞれ対応している。まず、第１ステージ５ａの動作として、「露光」、「液浸液の受け渡し位置に移動」、「液浸液の受け渡し」、「移動＋ウエハの回収／供給」、「露光準備（計測）」と続く。これに合わせて、第２ステージ５ｂの動作としては、「露光準備（計測）」、「液浸液の受け渡し位置に移動」、「液浸液の受け渡し」、「計測位置へ移動」、「計測」、「露光位置に移動」、「露光」と続く。ここで、図５（ａ）と図５（ｂ）とを比較すると、上記のような受け渡し動作により、各ステージ５ａ、５ｂの「液浸液の受け渡し位置に移動」にかかる時間と、第２ステージ５ｂの「計測位置へ移動」にかかる時間とが短縮される。したがって、露光シーケンス全体で見ても、従来の露光装置よりも処理時間が短縮されることがわかる。処理時間の短縮は、結果的に露光装置の生産性の向上に有利となる。

次に、本実施形態に係る露光装置１００を実施する上で前提となる各ステージ５ａ、５ｂの位置計測について説明する。上記のとおり、ＸＹ平面における各ステージ５ａ、５ｂの位置は、レーザー干渉計２３を用いて計測され、そのために、各ステージ５ａ、５ｂの各側面にミラー２２が設置されている。ここで、従来技術として特許文献１に示した液浸露光装置では、これと同等のミラーが設置されており、このミラーの設置位置を避けるために特有の受け渡し位置を設置している。これに対して、本実施形態では、ここまで説明した受け渡し方法を、このようなミラー２２が設置されていても実施可能である、すなわち、受け渡し位置によっては、ミラー２２の側面をまたいでも液浸液１３を受け渡し（移動させ）得るものとしている。これは、現在のウエハステージ５の構成や制御に係る技術レベルが向上していることで、実際の装置運用にも耐え得ると判断しているためである。しかしながら、従来と同様、ミラー２２の側面を液浸液１３が移動するのが望ましくない場合もあり得る。そこで、この場合には、各ステージ５ａ、５ｂの位置計測を以下のように行うことで、本実施形態における液浸液１３の受け渡しを実施することが可能となる。

図６は、レーザー干渉計２３に換えた、各ステージ５ａ、５ｂに配置されている位置計測センサー（位置計測器）９と、位置計測センサー９の計測対象としての基準板１０とを示す概略図である。このうち、図６（ａ）は、斜視図であり、図６（ｂ）は、位置計測センサー９の設置位置における断面図である。各ステージ５ａ、５ｂには、アライメント計測の際の計測対象となる基準マーク１６の他、漏水センサー２４、照度センサー１７、収差計１８などが設置されている。また、本実施形態では、これらのセンサーなどの設置位置を避けた上で、各ステージ５ａ、５ｂの表面上に複数の位置計測センサー９が設置される。そして、ＸＹ平面における各ステージ５ａ、５ｂの位置計測は、位置計測センサー９を用いて、基準板１０にある基準を検出することで行い得る。これにより、レーザー干渉計２３を使用せず、結果的に各ステージ５ａ、５ｂの側面にミラー２２を設置する必要がないので、従来のような液浸液１３の受け渡し位置の制約がなくなり、本実施形態のような受け渡しが可能となる。一方、図７は、各ステージ５ａ、５ｂの側面の中でも、液浸液１３の受け渡しをしない側にのみミラー２２を配置する構成を示す概略平面図である。このような構成によっても、本実施形態のような受け渡しが可能となる。

以上のように、本実施形態によれば、ウエハステージの複数のステージ間で、その表面上で液浸液を効率良く受け渡すのに有利な液浸型の露光装置を提供することができる。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る露光装置について説明する。上記説明した第１実施形態では、液浸液１３の受け渡し時には、各ステージ５ａ、５ｂは、一方向（上記の例ではＸ軸方向）に並行移動するのみである。これに対して、本実施形態に係る露光装置の特徴は、液浸液１３の受け渡し時には、各ステージ５ａ、５ｂは、液浸液１３を受け渡す方向のみならず、他の方向（Ｙ軸方向）にも移動をする点にある。図８は、本実施形態における受け渡し動作の基本的なシーケンスを示すフローチャートである。そして、図９および図１０は、本実施形態における受け渡し動作を時系列で示す概略平面図である。ここでも、第１実施形態における図４と同様に、第１ステージ５ａで第１ウエハ１４ａに対する露光が終了したときから、第２ステージ５ｂ上の第２ウエハ１４ｂに設定されている最初のパターン形成領域が露光位置に位置するときまでの状態を示している。

まず、制御部２０は、第１ステージ５ａ上の第１ウエハ１４ａに対する露光が終了した後、第１ステージ５ａを液浸液１３の受け渡し位置に移動させる（ステップＳ２０１）。図９（ａ）は、第１ステージ５ａでの露光が終了したときの各ステージ５ａ、５ｂの状態を示す図である。一方、図９（ｂ）は、図９（ａ）に示す状態から、第１ステージ５ａが受け渡し位置に真横に移動したときの状態を示す図である。ここでの第１ステージ５ａの移動は、次工程にて第２ステージ５ｂがＹ軸方向＋側（第１ステージ５ａがある側）に移動するので、各ステージ５ａ、５ｂ同士の衝突を避ける意味もある。次に、制御部２０は、第１ステージ５ａをＹ軸方向−側に移動させつつ、第２ステージ５ｂをＹ軸方向＋側に移動させる（ステップＳ２０２）。図９（ｃ）は、各ステージ５ａ、５ｂがそれぞれ移動を開始する状態を示す図である。このとき、制御部２０は、特に第２ステージ５ｂを、最初の処理位置と合うＸ軸方向の位置まで移動させる。図９（ｄ）は、第２ステージ５ｂがこのＸ軸方向の位置（実質Ｘ軸方向でいう受け渡し位置）まで移動した状態を示す図である。次に、制御部２０は、第１ステージ５ａを斜め方向（Ｙ軸方向−側とＸ軸方向−側）に移動させつつ、第２ステージ５ｂを真横方向（Ｘ軸方向−側）に並行移動させることで、液浸液１３を第２ステージ５ｂの受け渡し位置に移動させる（ステップＳ２０３）。図１０（ａ）は、ステップＳ２０３の開始直前の各ステージ５ａ、５ｂの状態を示す図である。そして、図１０（ｂ）は、液浸液１３を第２ステージ５ｂ側に受け渡した後の状態を示す図である。そして、制御部２０は、第１ステージ５ａをそのままＹ軸方向−側に退避（次の特定位置へ移動）させた後、第２ステージ５ｂを、最初の処理位置に位置するように移動させる（ステップＳ２０５）。図１０（ｃ）は、第１ステージ５ａがそのままＹ軸方向−側に移動しつつ、第２ステージ５ｂが計測位置に位置するように移動させるときの状態を示す図である。

このように、本実施形態によれば、特に第２ステージ５ｂの受け渡し動作について、最初の処理位置（計測位置または露光開始位置）に基づいて第２ステージ５ｂの受け渡し位置を決定する。これにより、第２ステージ５ｂの移動時間を従来よりも短縮させることができる。さらに、本実施形態では、一連の受け渡し動作中、液浸液１３を受け渡す側である第１ステージ５ａは、Ｙ軸方向の移動を継続する。これにより、第１ステージ５ａが、次の特定位置（この場合、例えばウエハ搬送部８（図１参照））に到達するまでの時間を短縮することができる。

図１１は、本実施形態におけるタイミングチャートである。図１１は、第１実施形態における説明で用いた図５に対応している。ここで、従来の場合を示す図５（ａ）と、図１１とを比較すると、上記のような受け渡し動作により、特に第１ステージ５ａの「移動＋ウエハの回収／供給」にかかる時間が短縮されることがわかる。また、例えば、上記の図１０（ａ）〜図１０（ｂ）に示す液浸液１３の受け渡し中に、第１ステージ５ａのＹ軸方向−側への移動とともに、第２ステージ５ｂをＹ軸方向＋側に移動させれば、「液浸液の受け渡し位置に移動」にかかる時間も短縮することが可能となる。したがって、本実施形態においても、露光シーケンス全体として、従来の露光装置よりも処理時間が短縮されることがわかる。

（デバイスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイスなど）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。

３ 投影光学系
５ａ 第１ステージ
５ｂ 第２ステージ
１３ 液浸液
１４ａ 第１ウエハ
１４ｂ 第２ウエハ
２０ 制御部
１００ 露光装置

Claims (8)

1. 基板を計測する計測領域と、投影光学系を介して前記基板を露光する露光領域とを有し、前記投影光学系の最終レンズと前記露光領域にある前記基板との間に液浸液が供給されている状態で前記基板を露光する露光装置であって、
   前記基板を保持して移動可能な第１ステージおよび第２ステージと、
   前記第１ステージおよび前記第２ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、前記第１ステージから前記第２ステージに前記液浸液を受け渡すときの前記第１ステージ上の前記液浸液の位置である受け渡し位置を、前記第１ステージ上の前記基板の露光終了位置に基づいて前記第１ステージ上の任意の位置に決定し、該決定された受け渡し位置に基づいて前記第１ステージおよび前記第２ステージを駆動させることを特徴とする露光装置。
2. 前記露光終了位置は、前記第１ステージ上の基板の露光順序に関するレシピに基づいて決定された位置であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 基板を計測する計測領域と、投影光学系を介して前記基板を露光する露光領域とを有し、前記投影光学系の最終レンズと前記露光領域にある前記基板との間に液浸液が供給されている状態で前記基板を露光する露光装置であって、
   前記基板を保持して移動可能な第１ステージおよび第２ステージと、
   前記第１ステージおよび前記第２ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記第１ステージから前記第２ステージに前記液浸液を受け渡すときに前記第２ステージが前記液浸液を受け取る位置である受け取り位置を、前記第２ステージ上で行われる前記基板に対する最初の処理位置に基づいて前記第２ステージ上の任意の位置に決定し、該決定された受け取り位置に基づいて前記第１ステージおよび前記第２ステージを駆動させることを特徴とする露光装置。
4. 前記最初の処理位置は、前記露光領域における計測位置、または露光開始位置であることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記制御部は、前記第１ステージから前記第２ステージに前記液浸液を受け渡すときの、前記第１ステージ上の前記液浸液の位置を、前記第１ステージ上の前記基板の露光終了位置に応じて異ならせることを特徴とする請求項３または４に記載の露光装置。
6. 前記第１ステージおよび前記第２ステージそれぞれに対向する位置に設置されている基準板に対して光を照射することでステージ位置を計測する位置計測器を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記第１ステージおよび前記第２ステージのそれぞれの側面に設けられたミラーに光を照射し、前記ミラーからの前記光の反射光を受光することにより前記第１ステージおよび前記第２ステージそれぞれの位置を計測する干渉計を備え、
   前記ミラーは、前記液浸液を受け渡し又は受け取りを行う側の側面には設置されない、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記露光工程で露光した基板を現像する工程と、を有し、
   前記現像工程で現像された前記基板からデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。

Images