JP2019029607A - 紫外線発光素子及び紫外線照射モジュール - Google Patents
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発光素子の発光出力を高めるためは、発光効率を向上させる事が重要である。例えば、特許文献1には、活性層(発光層)とp型窒化物半導体層との間に量子障壁層を形成し、各層のバンドギャップエネルギーを調整する事で、発光効率を向上させる技術が開示されている。
本発明の課題は、発光効率をさらに向上させることが可能な紫外線発光素子を提供することである。
(1)基板と、基板の主面上に形成され、窒化物半導体を含む下地層と、下地層上に形成され、導電性を有する窒化物半導体を含む第一クラッド層と、第一クラッド層上に形成され、窒化物半導体を含む発光層と、発光層上に形成され、第一クラッド層とは異なる導電性を有する窒化物半導体を含む第二クラッド層と、を備えている。
(2)下地層の第一クラッド層との界面でのステップ高さは、10nm以上60nm以下である。
(3)第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さは、0.3nm以上5nm以下である。
上述のように、本発明の一態様である紫外線発光素子は、上記構成要件(1)〜(3)を有するものである。
つまり、一態様の紫外線発光素子は、PIN構造を有する窒化物半導体素子であって、基板と第一クラッド層との間に下地層を有する。また、一態様の紫外線発光素子においては、下地層と第一クラッド層との界面および第一クラッド層と発光層との界面に、基板の主面に対して略平行な面が階段状に連なる部分が存在する。ここでは、この基板の主面に対して略平行な面を「テラス面」と定義し、隣り合うテラス面を繋ぐ面を「ステップ面」と定義し、隣り合うテラス面の高さの差を「ステップ高さ」と定義する。
一態様の紫外線発光素子は、下地層の第一クラッド層との界面でのステップ高さが30nm以上50nm以下であり、第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さが1.2nm以上3.5nm以下であることが好ましい。
下地層の第一クラッド層との界面および第一クラッド層の発光層との界面がステップ面及びテラス面を有することは、透過型電子顕微鏡(TEM)、高分解能TEM(HRTEM)、走査型透過電子顕微鏡(STEM)を用いて、紫外線発光素子の基板の主面に垂直な断面を観察することで確認できる。
また、「基板の主面」とは、基板が有する面のうちの主要な面であって、下地層が形成される面を意味する。基板の主面は平坦な面であってもよく、凹凸を有する面であってもよい。基板の主面が凹凸を有する面である場合には、その代表的な平面を「基板の主面」と見做す。
下地層の第一クラッド層との界面および第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さは、以下の方法で調べることができる。
先ず、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、紫外線発光素子の基板の主面に垂直な断面を観察する。具体的には、例えば、紫外線発光素子の基板の主面に垂直な断面を示すTEM画像内の2μm以上を観察幅とする。そして、この観察幅の範囲で、下地層の第一クラッド層との界面及び第一クラッド層の発光層との界面を、幅200nmの連続する観察領域で観察する。この幅200nm幅の観察領域内に含まれる複数のテラス面に着目し、隣り合うテラス面の高さの差の総和を、ステップ面の数で除算することで、この観察領域のステップ高さを得る。
この過程を、紫外線発光素子の基板の主面に垂直な五つの断面で行い、五つの観察領域で得られたステップ高さの平均値を算出する。得られた平均値を、ステップ高さとして採用する。
一態様の紫外線発光素子は、下地層の第一クラッド層との界面でのステップ密度が1.0ステップ/μm以上2.0ステップ/μm以下であることが好ましい。これにより、転位密度をテラス面の端に集中させて発光強度を向上させることが可能となる。下地層の第一クラッド層との界面でのステップ密度は1.5ステップ/μm以上1.8ステップ/μm以下であることがより好ましい。
ステップ密度は以下の方法で調べることができる。
先ず、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、紫外線発光素子の基板の主面に垂直であって平面視でステップ面を示す線に垂直な断面を観察する。具体的には、例えば、この断面を示すTEM画像内の5μm以上を観察幅とする。そして、この観察幅の範囲に存在するステップ面を示す線の数を数え、この数を観察幅の寸法で除算する。例えば、5μmの観察幅にステップ面を示す線が二つ存在する(つまり、テラス面が三つ存在する)場合には、この観察幅でのステップ密度は2÷5=0.4ステップ/μmとなる。
一態様の紫外線発光素子を構成する各層は、例えば、有機金属気相成長法(MOCVD法)のようなエピタキシャル成長技術を利用して成膜することができるが、これに限定されない。例えば、ハイドライド気相成長法(HVPE法)や、分子線エピタキシー法(MBE法)などを用いて成膜してもよい。
なお、第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さを0.3nm未満とするには、原理的には使用する基板のオフ角を0°に制御する必要があるが、この制御は非常に困難であり実際の製造上現実的ではない。つまり、本発明の一態様の紫外線発光素子によれば、第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さを、0.3nm以上5nm以下という実際の製造上十分適用可能な範囲としつつ、高い発光強度を得ることができる。
一態様の紫外線発光素子を構成する基板の具体例としては、サファイア(Al2O3)、Si、SiC、MgO、Ga2O3、ZnO、GaN、InN、AlN、あるいはこれらの混晶などからなる基板が挙げられる。
GaN、AlN、AlGaN等の窒化物半導体をバルクとする単結晶基板や、基材上にGaN、AlN、AlGaN等の窒化物半導体層が形成された基板(テンプレート基板)を用いると、基板の上側に形成する窒化物半導体層との格子定数差が小さくなり、窒化物半導体層を格子整合系で成長させることで貫通転位を少なくできる。
基板には、不純物が混入していてもよい。
基板の裏面は平坦な面であっても凹凸状の面であってもよい。基板の裏面は、基板とは異なる材質の物質を、例えば薄膜状やドット状に有していてもよい。基板の作製方法としては、昇華法やHVPE法等の気相成長法や液相成長法などの一般的な基板成長法が適用できる。
また、基板の側面には凸部または凹部が形成されていてもよい。この凸部の定義は、基板側面の最も面積の大きい面を基準面とし、この基準面から突出する部分であり、凹部の定義は、この基準面から凹んでいる部分である。
凸部の基準面からの突出高さは1μm以上であることが好ましい。凹部の深さ(基準面から底面までの距離)は1μm以上が好ましい。
基板の側面に存在する凸部または凹部の数は一つでも複数でもよいが、光取り出し効率を向上させる観点から複数である方が好ましく、複数の凸部または凹部が基板側面に均等に分散していることがより好ましい。凸部または凹部は、基板の側面のうち少なくとも一つの側面に形成されていればよいが、光取り出し効率を向上させる観点から、基板の全側面に形成されていることが好ましい。
一態様の紫外線発光素子を構成する下地層は、窒化物半導体を含み、基板の主面上に形成されている。
下地層を形成する窒化物半導体は、高い発光効率を実現する観点から、AlN、GaN、およびInNのいずれか、またはこれらの混晶であることが望ましい。下地層に含まれる窒化物半導体には、Nの他に、P、As、SbなどのN以外のV族元素や、C、H、F、O、Mg、Siなどの不純物が混入していてもよい。下地層を形成する窒化物半導体の導電性は特に限定されない。
一態様の紫外線発光素子を構成する第一クラッド層は、導電性を有する窒化物半導体層を含み、下地層上に形成されている。
第一クラッド層を形成する窒化物半導体は、高い発光効率を実現する観点から、AlN,GaNおよびInNのいずれか、またはこれらの混晶であることが望ましい。第一クラッド層を形成する窒化物半導体には、Nの他に、P、As、SbなどのN以外のV族元素や、C、H、F、O、Mg、Siなどの不純物が混入していてもよい。
また、紫外線発光素子の発光波長を深紫外領域の波長(280nm以下)としたい場合には、第一クラッド層を形成する材料はAlGaNであることが好ましい。第一クラッド層がAlGaNで形成されることで、深紫外領域のバンドギャップエネルギーに対応する材料を発光層として形成する際に、その結晶性を高め、発光効率を向上させることが可能となる。
一態様の紫外線発光素子を構成する発光層は、窒化物半導体を含み、第一クラッド層上に形成されている。
発光層を形成する窒化物半導体は、高い発光効率を実現する観点からAlN,GaN,およびInNのいずれか、またはこれらの混晶であることが望ましい。発光層には、Nの他に、P、As、SbなどのN以外のV族元素や、C、H、F、O、Mg、Siなどの不純物が混入していてもよい。また、量子井戸構造でも単層構造でもよいが、高い発光効率を実現する観点から、少なくとも1つの井戸構造を有していることが望ましい。
一態様の紫外線発光素子を構成する第二クラッド層は、第一クラッド層とは異なる導電性を有する窒化物半導体を含み、発光層上に形成されている。
第二クラッド層を形成する窒化物半導体は、高い発光効率を実現する観点から、AlN、GaN、およびInNのいずれか、またはこれらの混晶であることが望ましい。
第二クラッド層を形成する窒化物半導体には、Nの他に、P、As、SbなどのN以外のV族元素や、C、H、F、O、Mg、Siなどの不純物が混入していてもよい。n型半導体の方がp型半導体より結晶性に優れ、発光層への影響が低いという観点から、第一クラッド層の導電性がn型で、第二クラッド層の導電性がp型である事が好ましい。
一態様の紫外線発光素子は、さらに電極(n型電極またはp型電極、あるいは両方)を備えていてもよい。
n型電極としては、Al,Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Co,Rh,Ir,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au,Zrなどの金属、あるいはこれらの混晶、あるいはITOやGa2O3などの導電性酸化物等を用いることができる。また、n型電極は、第一クラッド層及び第二クラッド層のうち、導電性がn型の層とコンタクトするように形成される事が好ましい。
電極の形成方法としては、抵抗加熱蒸着、電子銃蒸着、スパッタなどが挙げられるが、この限りでは無い。電極は単層でも、積層であってもよく、また層形成後に酸素や窒素、空気雰囲気などで熱処理を行ってもよい。
本発明の紫外線照射モジュールは、本発明の紫外線発光素子を備えている。
本発明の紫外線発光素子は、各種の装置に適用可能である。
本発明の紫外線発光素子は、紫外線ランプが用いられている既存のすべての装置に適用・置換可能である。特に、波長280nm以下の深紫外線を用いている装置に適用可能である。
固体殺菌装置(表面殺菌装置を含む)の例としては、真空パック器、ベルトコンベヤ、医科用・歯科用・床屋用・美容院用のハンドツール殺菌装置、歯ブラシ、歯ブラシ入れ、箸箱、化粧ポーチ、排水溝のふた、便器の局部洗浄器、便器フタ等が挙げられるが、この限りではない。
以下、本発明を実施するための形態(以下、「実施形態」と称する。)について説明する。この実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、各部の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに特定するものでない。
図1に示すように、この実施形態の紫外線発光素子1は、基板2、下地層3、第一クラッド層4、発光層5、および第二クラッド層6を備えている。
この実施形態の紫外線発光素子によれば、上述の構成を有することにより、高い発光効率を実現できる。また、汎用性が高いサファイア基板を用いているため、製造コストが低減できる。
実施例1〜9および比較例1〜3の紫外線発光素子は、上記実施形態の紫外線発光素子1の発光層5と第二クラッド層6との間に電子ブロック層を有し、第一クラッド層4の一部が露出し、この露出面にn型電極が形成され、第二クラッド層7上にp型電極が形成されたものである。
先ず、厚さが450μmの平板状で、オフ角が0.2°のc面サファイア基板を1050℃以上の水素分雰囲気下でアニール処理した。次に、有機金属気相成長(MOCVD)装置を用い、先ず、このサファイア基板の平板面(主面)上に、厚さ2000nmのAlN層(下地層)を形成した。Al原料としてトリメチルアルミニウム(TMAl)を、N原料としてアンモニア(NH3)を用いた。成膜条件は、基板表面温度を1200℃、V/IIIを50、真空度を50hPa、成長レートを0.50μm/hrに設定した。
次に、この電子ブロック層の上に、第二クラッド層として、Mgを不純物として用いたp型GaN層を、厚さ200nmで成膜した。Mg原料としてビス(シクロペンタジエニル)マグネシウム(Cp2Mg)を用いた。これ以外の原料は上記と同じものを用いた。成膜条件は、基板表面温度を1040℃、真空度を100hPa、V/III比を4000、成長レートを1.2μm/hrに設定した。
得られた紫外線発光素子を電圧7.5V、電流100mAで駆動させたところ、ピーク波長265nmの発光が確認され、その発光強度は1.5mWであった。
また、前述の<ステップ高さの測定方法>および<ステップ密度>に記載された方法でステップ高さとステップ密度を調べたところ、下地層の第一クラッド層との界面でのステップ高さは15.1nm、第一クラッド層の発光層との界面でのステップ高さは0.5nm、下地層の第一クラッド層との界面でのステップ密度は1.2ステップ/μmであった。
紫外線発光素子の各層の形成条件および基板のオフ角を表1に示すものとした以外は実施例1と同じ方法で、実施例2〜9および比較例1〜3の各紫外線受光素子を作製した。また、得られた各紫外線受光素子の発光強度およびステップ高さとステップ密度を、実施例1と同じ方法で測定した。その結果を表2に示す。
表2において、各例の構成のうち構成要件(2)(3)と構成(4)を満たしていない構成に下線を施した。つまり、実施例1〜7は構成要件(1)〜(3)と構成(4)を有する紫外線発光素子であり、実施例8,9は構成要件(1)〜(3)を有するが構成(4)を有さない紫外線発光素子である。また、比較例1は構成要件(1)(3)と構成(4)を有するが構成要件(2)を有さない紫外線発光素子であり、比較例2は構成要件(1)と構成(4)を有するが構成要件(2)(3)を有さない紫外線発光素子であり、比較例3は構成要件(1)を有するが構成要件(2)(3)と構成(4)を有さない紫外線発光素子である。
また、構成要件(1)〜(3)と構成(4)を有する実施例1〜7の紫外線発光素子は、構成(4)を有さない実施例8,9の紫外線発光素子よりも高い発光強度が得られている。
2 基板
3 下地層
4 第一クラッド層
5 発光層
6 第二クラッド層
21 基板の主面
34 下地層の第一クラッド層との界面
45 第一クラッド層の発光層との界面
Claims (6)
- 基板と、
前記基板の主面上に形成され、窒化物半導体を含む下地層と、
前記下地層上に形成され、導電性を有する窒化物半導体を含む第一クラッド層と、
前記第一クラッド層上に形成され、窒化物半導体を含む発光層と、
前記発光層上に形成され、前記第一クラッド層とは異なる導電性を有する窒化物半導体を含む第二クラッド層と、
を備え、
前記下地層の前記第一クラッド層との界面でのステップ高さは、10nm以上60nm以下であり、
前記第一クラッド層の前記発光層との界面でのステップ高さは、0.3nm以上5nm以下である紫外線発光素子。 - 前記下地層はAlNを含む請求項1記載の紫外線発光素子。
- 前記下地層の前記第一クラッド層との界面でのステップ密度が1.0ステップ/μm以上2.0ステップ/μm以下である請求項1または2記載の紫外線発光素子。
- 前記第一クラッド層、前記発光層、および前記第二クラッド層は、AlおよびGaの少なくとも一つを含む窒化物半導体層である請求項1〜3のいずれか一項に記載の紫外線発光素子。
- 前記基板はサファイア基板である請求項1〜4の何れか一項に記載の紫外線発光素子。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載の紫外線発光素子を備える紫外線照射モジュール。
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