JP2019004669A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

To provide a semiconductor device which can improve a switching loss and a steady loss and inhibit deterioration in improvement effect on a loss, which is caused by decrease in switching speed.SOLUTION: A semiconductor device comprises a switching element including a MOSFET 1 and an IGBT 2, a first conditioning circuit 23 and a second conditioning circuit 24. The first conditioning circuit 23 and the second conditioning circuit 24 drive the MOSFET 1 at the time of turn-on and turn-off of the switching element, and drive the IGBT 2 at the time of stationary current carrying of the switching element; and a source electrode of the MOSFET 1 and en emitter electrode of the IGBT 2 are connected to control emitter wiring 8 extending from an emitter terminal Es and the source electrode of the MOSFET 1 is arranged in a peripheral region of the emitter terminal Es.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、異なる特性を有するパワー半導体素子が並列に接続されたパワー半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a power semiconductor device in which power semiconductor elements having different characteristics are connected in parallel.

従来、高速仕様のパワー半導体装置は高速のスイッチング素子のみを備え、低速仕様のパワー半導体装置は低速のスイッチング素子のみを備えていた。従来のパワー半導体装置では、スイッチング損失と定常損失のトレードオフに基づいて高速仕様のものと低速仕様のものが設計されていた。そのため、高速仕様のものでは定常損失、低速仕様のものではスイッチング損失が犠牲となっていた。   Conventionally, high-speed power semiconductor devices have only high-speed switching elements, and low-speed power semiconductor devices have only low-speed switching elements. Conventional power semiconductor devices have been designed for high-speed specifications and low-speed specifications based on the trade-off between switching loss and steady-state loss. For this reason, steady loss was sacrificed for the high-speed specification, and switching loss was sacrificed for the low-speed specification.

例えば特許文献1には、異なる特性を有するMOSFETとIGBTとを並列に接続することで、定常損失とスイッチング損失の双方を改善する技術が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses a technique for improving both steady loss and switching loss by connecting MOSFETs and IGBTs having different characteristics in parallel.

特開2002−165439号公報JP 2002-165439 A

しかしながら、エミッタ端子がMOSFETから離れた位置にある場合、並列に接続されたMOSFETとIGBTのうちスイッチング損失が主に発生するMOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還が大きくなる場合がある。そのため、MOSFETのスイッチング速度の低下によって、パワー半導体装置全体の損失改善効果が低下するという問題があった。   However, when the emitter terminal is located away from the MOSFET, the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET in which switching loss mainly occurs among the MOSFET and IGBT connected in parallel may increase. is there. Therefore, there has been a problem that the loss improvement effect of the entire power semiconductor device is reduced due to the reduction in switching speed of the MOSFET.

そこで、本発明は、スイッチング損失と定常損失を改善し、かつ、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor device that can improve switching loss and steady loss, and can suppress a reduction in loss improvement effect due to a reduction in switching speed.

本発明に係る半導体装置は、MOSFETと、前記MOSFETと並列に接続されたIGBTとを含むスイッチング素子と、前記MOSFETのゲート電極に入力される第1制御信号を調整することで前記MOSFETを駆動する第1調整回路と、前記IGBTのゲート電極に入力される第2制御信号を調整することで前記IGBTを駆動する第2調整回路とを備え、前記第1調整回路および前記第2調整回路は、前記スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時に前記MOSFETを駆動し、前記スイッチング素子の定常電流通電時に前記IGBTを駆動し、前記MOSFETのソース電極および前記IGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、前記MOSFETの前記ソース電極は、前記エミッタ端子の周辺領域に配置されたものである。   The semiconductor device according to the present invention drives the MOSFET by adjusting a switching element including a MOSFET, an IGBT connected in parallel with the MOSFET, and a first control signal input to the gate electrode of the MOSFET. A first adjustment circuit; and a second adjustment circuit that drives the IGBT by adjusting a second control signal input to the gate electrode of the IGBT, wherein the first adjustment circuit and the second adjustment circuit include: The MOSFET is driven when the switching element is turned on and off, and the IGBT is driven when a steady current is supplied to the switching element. The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT are connected to a control emitter wiring extending from an emitter terminal. Connected, and the source electrode of the MOSFET is the In which are arranged in the peripheral region of the emitter terminal.

本発明によれば、第1調整回路および第2調整回路は、スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時にMOSFETを駆動し、スイッチング素子の定常電流通電時にIGBTを駆動する。したがって、IGBTよりスイッチング損失の小さいMOSFETによるスイッチング損失の低減、およびMOSFETより定常損失の小さいIGBTによる定常損失の低減を実現することで、スイッチング損失と定常損失の双方を改善することができる。   According to the present invention, the first adjustment circuit and the second adjustment circuit drive the MOSFET when the switching element is turned on and off, and drive the IGBT when the switching element is energized with a steady current. Therefore, both the switching loss and the steady loss can be improved by realizing the reduction of the switching loss by the MOSFET having the smaller switching loss than the IGBT and the reduction of the steady loss by the IGBT having the smaller steady loss than the MOSFET.

また、MOSFETのソース電極およびIGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、MOSFETのソース電極は、エミッタ端子の周辺領域に配置された。したがって、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。   The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT were connected to a control emitter wiring extending from the emitter terminal, and the source electrode of the MOSFET was disposed in the peripheral region of the emitter terminal. Therefore, since the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET can be reduced, it is possible to suppress a reduction in loss improvement effect due to a reduction in switching speed.

実施の形態1に係る半導体装置の回路図である。1 is a circuit diagram of a semiconductor device according to a first embodiment. 半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。3 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. 半導体装置の電流・電圧波形模式図である。It is a current / voltage waveform schematic diagram of a semiconductor device. MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the negative feedback concerning between the gate electrode and source electrode of MOSFET. MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための回路図である。It is a circuit diagram for demonstrating the negative feedback applied between the gate electrode and source electrode of MOSFET. 実施の形態2に係る半導体装置の回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor device according to a second embodiment. 半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。3 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. 実施の形態3に係る半導体装置の回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor device according to a third embodiment. ターンオン時にIGBTのみを駆動した場合の駆動電流波形図である。It is a drive current waveform figure at the time of driving only IGBT at the time of turn-on. ターンオン時にMOSFETを駆動した場合の駆動電流波形図である。It is a drive current waveform figure at the time of driving MOSFET at the time of turn-on. 実施の形態4に係る半導体装置の回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor device according to a fourth embodiment. 半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。3 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device.

<実施の形態1>
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る半導体装置の回路図である。図2は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。図3は、半導体装置の電流・電圧波形模式図である。
<Embodiment 1>
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of the semiconductor device according to the first embodiment. FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. FIG. 3 is a schematic diagram of current / voltage waveforms of the semiconductor device.

図1に示すように、半導体装置は、パワーモジュールであり、MOSFET1、IGBT2、第1調整回路23、および第2調整回路24を備えている。なお、MOSFET1およびIGBT2がスイッチング素子に相当する。   As shown in FIG. 1, the semiconductor device is a power module, and includes a MOSFET 1, an IGBT 2, a first adjustment circuit 23, and a second adjustment circuit 24. MOSFET 1 and IGBT 2 correspond to switching elements.

MOSFET1とIGBT2は並列に接続されている。より具体的には、MOSFET1のドレイン電極とIGBT2のコレクタ電極が接続され、MOSFET1のソース電極とIGBT2のエミッタ電極が接続されている。MOSFET1のゲート電極は、第1調整回路23の出力電極に接続され、IGBT2のゲート電極は、第2調整回路24の出力電極に接続されている。   MOSFET 1 and IGBT 2 are connected in parallel. More specifically, the drain electrode of MOSFET 1 and the collector electrode of IGBT 2 are connected, and the source electrode of MOSFET 1 and the emitter electrode of IGBT 2 are connected. The gate electrode of the MOSFET 1 is connected to the output electrode of the first adjustment circuit 23, and the gate electrode of the IGBT 2 is connected to the output electrode of the second adjustment circuit 24.

第1調整回路23は、XOR回路3および第1遅延回路3aを備え、MOSFET1のゲート電極に入力される第1制御信号VG1を調整することでMOSFET1を駆動する回路である。第1遅延回路3aは、抵抗R1およびコンデンサC1を備えたRCフィルタによる遅れを利用する回路である。外部から出力された制御信号Vcinは、XOR回路3の一方の入力と第1遅延回路3aに入力され、第1遅延回路3aにより遅らされた制御信号Vcinは、XOR回路3の他方の入力に入力される。XOR回路3は、第1制御信号VG1をMOSFET1のゲート電極に出力する。   The first adjustment circuit 23 includes the XOR circuit 3 and the first delay circuit 3a, and drives the MOSFET 1 by adjusting the first control signal VG1 input to the gate electrode of the MOSFET 1. The first delay circuit 3a is a circuit that uses a delay caused by an RC filter including a resistor R1 and a capacitor C1. The control signal Vcin output from the outside is input to one input of the XOR circuit 3 and the first delay circuit 3a, and the control signal Vcin delayed by the first delay circuit 3a is input to the other input of the XOR circuit 3. Entered. The XOR circuit 3 outputs the first control signal VG1 to the gate electrode of the MOSFET1.

第2調整回路24は、インバータ回路4および第2遅延回路4aを備え、IGBT2のゲート電極に入力される第2制御信号VG2を調整することでIGBT2を駆動する回路である。第2遅延回路4aは、抵抗R2およびコンデンサC2を備えたRCフィルタによる遅れを利用する回路である。外部から出力された制御信号Vcinは、第2遅延回路4aに入力され、第2遅延回路4aにより遅らされた制御信号Vcinは、インバータ回路4に入力される。インバータ回路4は、第2制御信号VG2をIGBT2のゲート電極に出力する。なお、抵抗R1の抵抗値は抵抗R2の抵抗値より大きくなるように設定されており、第1遅延回路3aによる遅延時間は、第2遅延回路4aによる遅延時間より大きい。   The second adjustment circuit 24 includes an inverter circuit 4 and a second delay circuit 4a, and drives the IGBT 2 by adjusting a second control signal VG2 input to the gate electrode of the IGBT 2. The second delay circuit 4a is a circuit that uses a delay caused by an RC filter including a resistor R2 and a capacitor C2. The control signal Vcin output from the outside is input to the second delay circuit 4a, and the control signal Vcin delayed by the second delay circuit 4a is input to the inverter circuit 4. The inverter circuit 4 outputs the second control signal VG2 to the gate electrode of the IGBT2. The resistance value of the resistor R1 is set to be larger than the resistance value of the resistor R2, and the delay time by the first delay circuit 3a is longer than the delay time by the second delay circuit 4a.

次に、図2を用いて、半導体装置の動作を説明する。図2に示すように、外部から出力された制御信号Vcinが高電位(「H」レベル)から低電位(「L」レベル)となってターンオンする場合、第1調整回路23および第2調整回路24は、MOSFET1、IGBT2の順でターンオンさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。第1遅延回路3aによる遅延時間が経過した後、第1調整回路23および第2調整回路24は、IGBT2がオンの状態でMOSFET1をターンオフさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。   Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, when the control signal Vcin output from the outside is turned on from a high potential (“H” level) to a low potential (“L” level), the first adjustment circuit 23 and the second adjustment circuit 24 adjusts the first control signal VG1 and the second control signal VG2 to turn on the MOSFET 1 and the IGBT 2 in this order. After the delay time by the first delay circuit 3a elapses, the first adjustment circuit 23 and the second adjustment circuit 24 output the first control signal VG1 and the second control signal VG2 so as to turn off the MOSFET 1 with the IGBT 2 turned on. adjust.

すなわち、スイッチング素子のターンオン時には最初にIGBT2よりスイッチング損失の小さいMOSFET1のみが駆動され、所定時間経過した後にIGBT2が駆動されるため、図3に示すように、スイッチング損失を改善することができる。なお、MOSFET1が駆動されてからIGBT2が駆動されるまでの所定時間は、第1遅延回路3aによる遅延時間と第2遅延回路4aによる遅延時間との差である。   That is, when the switching element is turned on, only the MOSFET 1 whose switching loss is smaller than that of the IGBT 2 is first driven, and the IGBT 2 is driven after a predetermined time has elapsed, so that the switching loss can be improved as shown in FIG. Note that the predetermined time from when the MOSFET 1 is driven to when the IGBT 2 is driven is the difference between the delay time by the first delay circuit 3a and the delay time by the second delay circuit 4a.

MOSFET1が駆動されてから第1遅延回路3aによる遅延時間が経過した後、MOSFET1の駆動が停止されるため、定常電流通電時にはMOSFET1より定常損失の小さいIGBT2のみが駆動されることになる。これにより、図3に示すように、定常損失を改善することができる。   After the delay time by the first delay circuit 3a elapses after the MOSFET 1 is driven, the driving of the MOSFET 1 is stopped, so that only the IGBT 2 having a steady loss smaller than that of the MOSFET 1 is driven when the steady current is applied. Thereby, as shown in FIG. 3, steady loss can be improved.

次に、制御信号Vcinが低電位(「L」レベル)から高電位(「H」レベル)となってターンオフする場合、第1調整回路23および第2調整回路24は、IGBT2がオンの状態でMOSFET1をターンオンさせ、IGBT2、MOSFET1の順でターンオフさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。   Next, when the control signal Vcin is turned off from a low potential (“L” level) to a high potential (“H” level), the first adjustment circuit 23 and the second adjustment circuit 24 are in a state where the IGBT 2 is on. The first control signal VG1 and the second control signal VG2 are adjusted so that the MOSFET 1 is turned on and the IGBT 2 and the MOSFET 1 are turned off in this order.

すなわち、スイッチング素子のターンオフ時には最初にMOSFET1よりスイッチング損失の大きいIGBT2の駆動が停止され、所定時間経過した後にMOSFET1の駆動が停止されるため、図3に示すように、スイッチング損失を改善することができる。なお、IGBT2の駆動が停止されてからMOSFET1の駆動が停止されるまでの所定時間は、第1遅延回路3aによる遅延時間と第2遅延回路4aによる遅延時間との差である。   That is, when the switching element is turned off, the driving of the IGBT 2 having a switching loss larger than that of the MOSFET 1 is stopped first, and the driving of the MOSFET 1 is stopped after a predetermined time has elapsed, so that the switching loss can be improved as shown in FIG. it can. The predetermined time from when the driving of the IGBT 2 is stopped until the driving of the MOSFET 1 is stopped is the difference between the delay time by the first delay circuit 3a and the delay time by the second delay circuit 4a.

次に、図4と図5を用いて、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間の負帰還について説明する。図4は、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための説明図である。図5は、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための回路図である。   Next, negative feedback between the gate electrode and the source electrode of MOSFET 1 will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET. FIG. 5 is a circuit diagram for explaining the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET.

図4に示すように、MOSFET1のソース電極およびIGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから延びる制御エミッタ配線8に接続されている。より具体的には、MOSFET1のソース電極は、エミッタ端子Esの周辺領域に配置されているため、制御エミッタ配線8に直接接続されている。他方、IGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから離れた位置にあるため、制御エミッタ配線8に直接接続されず、リードフレーム9を経由して制御エミッタ配線8に接続されている。このように、エミッタ端子EsからMOSFET1のソース電極までの配線経路は短くなるが、エミッタ端子EsからIGBT2のエミッタ電極までの配線経路は長くなる。   As shown in FIG. 4, the source electrode of MOSFET 1 and the emitter electrode of IGBT 2 are connected to a control emitter wiring 8 extending from the emitter terminal Es. More specifically, since the source electrode of the MOSFET 1 is arranged in the peripheral region of the emitter terminal Es, it is directly connected to the control emitter wiring 8. On the other hand, since the emitter electrode of the IGBT 2 is located away from the emitter terminal Es, it is not directly connected to the control emitter wiring 8 but is connected to the control emitter wiring 8 via the lead frame 9. As described above, the wiring path from the emitter terminal Es to the source electrode of the MOSFET 1 becomes short, but the wiring path from the emitter terminal Es to the emitter electrode of the IGBT 2 becomes long.

これにより、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。また、IGBT2のゲート電極とMOSFET1のソース電極との間にかかる負帰還を大きくすることができるため、IGBT2のスイッチング速度が低下することで短絡時のピーク電流を抑制できる。   Thereby, since the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of MOSFET 1 can be reduced, it is possible to suppress a reduction in loss improvement effect due to a reduction in switching speed. Moreover, since the negative feedback applied between the gate electrode of the IGBT 2 and the source electrode of the MOSFET 1 can be increased, the peak current at the time of short circuit can be suppressed by reducing the switching speed of the IGBT 2.

以上のように、実施の形態1に係る半導体装置では、第1調整回路23および第2調整回路24は、スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時にMOSFET1を駆動し、スイッチング素子の定常電流通電時にIGBT2を駆動する。したがって、IGBT2よりスイッチング損失の小さいMOSFET1によるスイッチング損失の低減、およびMOSFET1より定常損失の小さいIGBT2による定常損失の低減を実現することで、スイッチング損失と定常損失の双方を改善することができる。   As described above, in the semiconductor device according to the first embodiment, the first adjustment circuit 23 and the second adjustment circuit 24 drive the MOSFET 1 when the switching element is turned on and off, and the IGBT 2 is supplied when the switching element is energized with a steady current. To drive. Therefore, both the switching loss and the steady loss can be improved by realizing the reduction of the switching loss by the MOSFET 1 having a smaller switching loss than that of the IGBT 2 and the reduction of the steady loss by the IGBT 2 having a smaller steady loss than that of the MOSFET 1.

また、MOSFET1およびIGBT2の各々にスイッチング損失および定常損失が分配されることで、MOSFET1およびIGBT2の温度上昇を抑制できる。   Further, since the switching loss and the steady loss are distributed to each of the MOSFET 1 and the IGBT 2, the temperature rise of the MOSFET 1 and the IGBT 2 can be suppressed.

また、MOSFET1のソース電極およびIGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから延びる制御エミッタ配線8に接続され、MOSFET1のソース電極は、エミッタ端子Esの周辺領域に配置された。したがって、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。   The source electrode of the MOSFET 1 and the emitter electrode of the IGBT 2 are connected to the control emitter wiring 8 extending from the emitter terminal Es, and the source electrode of the MOSFET 1 is disposed in the peripheral region of the emitter terminal Es. Therefore, since negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of MOSFET 1 can be reduced, it is possible to suppress a loss improvement effect due to a decrease in switching speed.

また、IGBT2のゲート電極とMOSFET1のソース電極との間にかかる負帰還を大きくすることができるため、IGBT2のスイッチング速度が低下することで短絡時のピーク電流を抑制できる。   Moreover, since the negative feedback applied between the gate electrode of the IGBT 2 and the source electrode of the MOSFET 1 can be increased, the peak current at the time of short circuit can be suppressed by reducing the switching speed of the IGBT 2.

<実施の形態2>
次に、実施の形態2に係る半導体装置について説明する。図6は、実施の形態2に係る半導体装置の回路図である。図7は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<Embodiment 2>
Next, a semiconductor device according to the second embodiment will be described. FIG. 6 is a circuit diagram of the semiconductor device according to the second embodiment. FIG. 7 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. In the second embodiment, the same components as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図6と図7に示すように、実施の形態2では、第1調整回路33は、IGBT2の温度を監視し、温度が予め定められた温度より高くなるとMOSFET1のON時間を延ばすように第1制御信号VG1を調整する。   As shown in FIG. 6 and FIG. 7, in the second embodiment, the first adjustment circuit 33 monitors the temperature of the IGBT 2 and first increases the ON time of the MOSFET 1 when the temperature becomes higher than a predetermined temperature. The control signal VG1 is adjusted.

次に、第1調整回路33について詳細に説明する。図6に示すように、第1調整回路33は、第1遅延回路3bおよびセンス回路25を備えている。   Next, the first adjustment circuit 33 will be described in detail. As shown in FIG. 6, the first adjustment circuit 33 includes a first delay circuit 3 b and a sense circuit 25.

第1遅延回路3bは、抵抗R1、コンデンサC1、トランジスタ7、およびコンデンサC3を備えている。すなわち、第1遅延回路3bは、実施の形態1の第1遅延回路3aにトランジスタ7およびコンデンサC3を追加した構成である。   The first delay circuit 3b includes a resistor R1, a capacitor C1, a transistor 7, and a capacitor C3. That is, the first delay circuit 3b has a configuration in which the transistor 7 and the capacitor C3 are added to the first delay circuit 3a of the first embodiment.

センス回路25は、プルアップ抵抗R3、複数のダイオード5、およびコンパレータ6を備えている。コンパレータ6の正入力(+)には、プルアップ抵抗R3とダイオード5のアノードとの接続点が接続され、負入力(−)には基準電圧Vref1が入力されている。センス回路25は、IGBT2の周辺領域に配置され、ダイオード5の順方向降下電圧Vfの温度依存特性を利用してIGBT2の素子温度Tjを判定している。   The sense circuit 25 includes a pull-up resistor R3, a plurality of diodes 5, and a comparator 6. A connection point between the pull-up resistor R3 and the anode of the diode 5 is connected to the positive input (+) of the comparator 6, and the reference voltage Vref1 is input to the negative input (−). The sense circuit 25 is arranged in the peripheral region of the IGBT 2 and determines the element temperature Tj of the IGBT 2 using the temperature dependence characteristic of the forward drop voltage Vf of the diode 5.

次に、図6と図7を用いて半導体装置の動作について説明する。図6と図7に示すように、Tjが予め定められた温度より低い場合、コンパレータ6の正入力(+)にはVref1より低い電圧が入力されるため、コンパレータ6の出力信号Vtは「L」レベルである。Tjが予め定められた温度より高くなると、ダイオード5のVfが低下しコンパレータ6の正入力(+)にはVref1より高い電圧が入力されるため、コンパレータ6の出力信号Vtは「H」レベルとなる。   Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 6 and 7, when Tj is lower than a predetermined temperature, a voltage lower than Vref1 is input to the positive input (+) of the comparator 6, and therefore the output signal Vt of the comparator 6 is “L”. "Is the level. When Tj becomes higher than a predetermined temperature, the voltage Vf of the diode 5 decreases and a voltage higher than Vref1 is input to the positive input (+) of the comparator 6, so that the output signal Vt of the comparator 6 becomes “H” level. Become.

このとき、トランジスタ7がONし第1遅延回路3bによる遅延時間が増加するため、第1制御信号VG1の「H」レベルの時間が増加する。これにより、MOSFET1のON時間が調整される。より具体的には、MOSFET1のON時間が増加する。なお、予め定められた温度とは、例えば150℃または175℃である。   At this time, since the transistor 7 is turned on and the delay time by the first delay circuit 3b is increased, the “H” level time of the first control signal VG1 is increased. Thereby, the ON time of MOSFET1 is adjusted. More specifically, the ON time of MOSFET 1 increases. Note that the predetermined temperature is, for example, 150 ° C. or 175 ° C.

以上のように、実施の形態2に係る半導体装置では、第1調整回路33は、IGBT2の温度を監視し、温度が予め定められた温度より高くなるとMOSFET1のON時間を延ばすように第1制御信号VG1を調整する。したがって、IGBT2の素子温度Tjに応じて、MOSFET1のON時間を延ばしIGBT2での発生損失をMOSFET1に分配することで、IGBT2の過熱状態を抑制できる。   As described above, in the semiconductor device according to the second embodiment, the first adjustment circuit 33 monitors the temperature of the IGBT 2 and performs the first control so as to extend the ON time of the MOSFET 1 when the temperature becomes higher than a predetermined temperature. Adjust the signal VG1. Therefore, the overheating state of the IGBT 2 can be suppressed by extending the ON time of the MOSFET 1 and distributing the generated loss in the IGBT 2 to the MOSFET 1 in accordance with the element temperature Tj of the IGBT 2.

<実施の形態3>
次に、実施の形態3に係る半導体装置について説明する。図8は、実施の形態3に係る半導体装置の回路図である。図9は、ターンオン時にIGBT2のみを駆動した場合の駆動電流波形図である。図10は、ターンオン時にMOSFET1を駆動した場合の駆動電流波形図である。なお、実施の形態3において、実施の形態1,2で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<Embodiment 3>
Next, a semiconductor device according to the third embodiment will be described. FIG. 8 is a circuit diagram of the semiconductor device according to the third embodiment. FIG. 9 is a drive current waveform diagram when only IGBT 2 is driven at turn-on. FIG. 10 is a drive current waveform diagram when MOSFET 1 is driven at the time of turn-on. In the third embodiment, the same components as those described in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図8に示すように、実施の形態3では、半導体装置は、IGBT2を流れるセンス電流Isenseの電流値を監視し、電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる過電流遮断回路26をさらに備えている。   As shown in FIG. 8, in the third embodiment, the semiconductor device monitors the current value of the sense current Isense flowing through the IGBT 2 and turns off the IGBT 2 when the current value becomes higher than a predetermined value. Is further provided.

過電流遮断回路26は、抵抗R5、ノイズフィルタ回路10、コンパレータ11、抵抗R6、およびトランジスタ15を備えている。ノイズフィルタ回路10は、抵抗R4およびコンデンサC4を備えている。コンパレータ6の正入力(+)には、IGBT2の電流センス電極がノイズフィルタ回路10を介して接続され、負入力(−)には基準電圧Vref2が入力されている。コンパレータ6の出力はトランジスタ15のゲート電極に接続されている。   The overcurrent cutoff circuit 26 includes a resistor R5, a noise filter circuit 10, a comparator 11, a resistor R6, and a transistor 15. The noise filter circuit 10 includes a resistor R4 and a capacitor C4. The current sense electrode of the IGBT 2 is connected to the positive input (+) of the comparator 6 via the noise filter circuit 10, and the reference voltage Vref 2 is input to the negative input (−). The output of the comparator 6 is connected to the gate electrode of the transistor 15.

次に、図8を用いて半導体装置の動作について説明する。図8に示すように、センス電流Isenseの電流値が予め定められた値より低い場合、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より低い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号Vtは「L」レベルである。IGBT2に過電流が流れてセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなると、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より高い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号Vtは「H」レベルとなる。   Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 8, when the current value of the sense current Isense is lower than a predetermined value, a voltage lower than Vref2 is input to the positive input (+) of the comparator 11, and therefore the output signal Vt of the comparator 11 is “L” level. When an overcurrent flows through the IGBT 2 and the current value of the sense current Isense becomes higher than a predetermined value, a voltage higher than Vref2 is input to the positive input (+) of the comparator 11, and therefore the output signal Vt of the comparator 11 is It becomes “H” level.

このとき、トランジスタ15がONし第2制御信号VG2は「L」レベルとなるため、IGBT2はターンオフされる。   At this time, since the transistor 15 is turned on and the second control signal VG2 is set to the “L” level, the IGBT 2 is turned off.

次に、図9と図10を用いて、ノイズフィルタ回路10の最適化について説明する。図9に示すように、スイッチング素子のターンオン時にIGBT2のみを駆動した場合、IGBT2にリカバリ電流が流れることからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗るため、過電流の誤検出防止のためのノイズフィルタ回路が必要となる。   Next, optimization of the noise filter circuit 10 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. As shown in FIG. 9, when only the IGBT 2 is driven when the switching element is turned on, since a recovery current flows through the IGBT 2, noise is added to the sense current Isense of the IGBT 2. Therefore, a noise filter circuit for preventing erroneous detection of overcurrent. Is required.

これに対して、実施の形態3では、スイッチング素子のターンオン時に先ずMOSFET1のみを先に駆動する。次いでリカバリ電流がMOSFET1に流れた後でIGBT2を駆動する。これにより、図10に示すように、IGBT2にリカバリ電流が流れないことからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗らないため、ノイズフィルタ回路10を小さくして最適化することができる。   On the other hand, in the third embodiment, only the MOSFET 1 is first driven first when the switching element is turned on. Next, after the recovery current flows through the MOSFET 1, the IGBT 2 is driven. As a result, as shown in FIG. 10, since no recovery current flows through the IGBT 2, no noise is added to the sense current Isense of the IGBT 2, so that the noise filter circuit 10 can be reduced and optimized.

以上のように、実施の形態3に係る半導体装置は、IGBT2を流れるセンス電流Isenseの電流値を監視し、電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる過電流遮断回路26をさらに備えている。   As described above, the semiconductor device according to the third embodiment further monitors the current value of the sense current Isense flowing through the IGBT 2 and further includes the overcurrent cutoff circuit 26 that turns off the IGBT 2 when the current value becomes higher than a predetermined value. I have.

従来は、IGBT2にリカバリ電流が流れることからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗るため、過電流の誤検出防止のためのノイズフィルタ回路が必要であった。しかし、実施の形態3に係る半導体装置では、スイッチング素子のターンオン時にMOSFET1を駆動するため、IGBT2にリカバリ電流が流れないことからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗らないため、ノイズフィルタ回路10を小さくして最適化することができる。   Conventionally, since a recovery current flows through the IGBT 2 and noise is added to the sense current Isense of the IGBT 2, a noise filter circuit for preventing erroneous detection of overcurrent has been required. However, in the semiconductor device according to the third embodiment, since the MOSFET 1 is driven when the switching element is turned on, the recovery current does not flow through the IGBT 2, so that no noise is added to the sense current Isense of the IGBT 2. And can be optimized.

よって、IGBT2のON状態にIGBT2の電流センス電極を用いて過電流保護を行うことで、ノイズフィルタ回路10の削減および部品点数の削減が可能となる。また、上記の過電流保護方法を用いる場合、スイッチング素子の定常電流通電時にはMOSFET1はOFF状態であることから、MOSFET1には電流センス電極を備える必要はないため、MOSFET1の製造コストの低減および有効面積の拡大が可能となる。   Therefore, by performing overcurrent protection using the current sense electrode of the IGBT 2 in the ON state of the IGBT 2, it is possible to reduce the noise filter circuit 10 and the number of parts. Further, when the above-described overcurrent protection method is used, the MOSFET 1 is in an OFF state when the switching element is energized with a steady current. Therefore, it is not necessary to provide the current sensing electrode in the MOSFET 1, so that the manufacturing cost of the MOSFET 1 can be reduced and the effective area Can be expanded.

<実施の形態4>
次に、実施の形態4に係る半導体装置について説明する。図11は、実施の形態4に係る半導体装置の回路図である。図12は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。なお、実施の形態4において、実施の形態1〜3で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<Embodiment 4>
Next, a semiconductor device according to the fourth embodiment will be described. FIG. 11 is a circuit diagram of a semiconductor device according to the fourth embodiment. FIG. 12 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. Note that in the fourth embodiment, the same components as those described in the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図11と図12に示すように、実施の形態4では、過電流遮断回路36は、第1制御信号VG1を監視し、第1制御信号VG1が「L」レベルになり、かつ、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる。すなわち、実施の形態4では、第1制御信号VG1が「L」レベルのときにのみ過電流保護を行う。ここで、第1制御信号VG1が「H」レベルのときに過電流保護を行わない理由としては、第1制御信号VG1が「H」レベルのときに過電流検出を行うとノイズにより誤検出する可能性が大きくなるためである。   As shown in FIGS. 11 and 12, in the fourth embodiment, the overcurrent cutoff circuit 36 monitors the first control signal VG1, the first control signal VG1 becomes “L” level, and the sense of the IGBT 2 is detected. When the current value of the current Isense becomes higher than a predetermined value, the IGBT 2 is turned off. That is, in the fourth embodiment, overcurrent protection is performed only when the first control signal VG1 is at “L” level. Here, the reason why the overcurrent protection is not performed when the first control signal VG1 is at the “H” level is that if the overcurrent detection is performed when the first control signal VG1 is at the “H” level, erroneous detection is caused by noise. This is because the possibility increases.

図11に示すように、過電流遮断回路36は、実施の形態3の過電流遮断回路26に対してノイズフィルタ回路10をなくし、インバータ回路12およびAND回路14を追加した構成である。AND回路14の一方の入力には、XOR回路3の出力がインバータ回路12を介して接続され、他方の入力には、コンパレータ11の出力が接続されている。AND回路14の出力は、トランジスタ15のゲート電極に接続されている。   As shown in FIG. 11, the overcurrent cutoff circuit 36 has a configuration in which the noise filter circuit 10 is eliminated from the overcurrent cutoff circuit 26 of the third embodiment, and the inverter circuit 12 and the AND circuit 14 are added. The output of the XOR circuit 3 is connected to one input of the AND circuit 14 via the inverter circuit 12, and the output of the comparator 11 is connected to the other input. The output of the AND circuit 14 is connected to the gate electrode of the transistor 15.

図11と図12に示すように、第1制御信号VG1が「H」レベルの場合、AND回路14の出力は常に「L」レベルになるため、トランジスタ15はOFFとなる。そのため、IGBT2は制御信号Vcinに基づいて動作する。   As shown in FIGS. 11 and 12, when the first control signal VG1 is at “H” level, the output of the AND circuit 14 is always at “L” level, so that the transistor 15 is turned off. Therefore, the IGBT 2 operates based on the control signal Vcin.

第2制御信号VG2が「H」レベルになり、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなると電流センス電極にかかる電圧が「H」レベルになり、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より高い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号は「H」レベルとなる。この状態で第1制御信号VG1が「L」レベルになると、AND回路14の出力電圧Vscは「H」レベルになるため、トランジスタ15はONとなる。これにより、第2制御信号VG2は「L」レベルになり、IGBT2はターンオフされる。なお、AND回路14の出力には図示しないラッチ回路などが接続されており、IGBT2のターンオフ後は、このラッチ回路などによって、別途リセット信号が入力されるまで、AND回路14の出力電圧Vscは「H」レベルを維持する。これにより、制御信号Vcinの状態に関わらず、IGBT2はターンオフ状態を維持する。   When the second control signal VG2 becomes “H” level and the current value of the sense current Isense of the IGBT 2 becomes higher than a predetermined value, the voltage applied to the current sense electrode becomes “H” level, and the positive input ( Since a voltage higher than Vref2 is input to (+), the output signal of the comparator 11 is at the “H” level. When the first control signal VG1 becomes “L” level in this state, the output voltage Vsc of the AND circuit 14 becomes “H” level, so that the transistor 15 is turned on. As a result, the second control signal VG2 becomes “L” level, and the IGBT 2 is turned off. Note that a latch circuit (not shown) is connected to the output of the AND circuit 14, and after the IGBT 2 is turned off, the output voltage Vsc of the AND circuit 14 is "until a reset signal is separately input by the latch circuit". Maintain the “H” level. Thereby, the IGBT 2 maintains the turn-off state regardless of the state of the control signal Vcin.

以上のように、実施の形態4に係る半導体装置では、過電流遮断回路36は、第1制御信号VG1を監視し、第1制御信号VG1が「L」レベルになり、かつ、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる。   As described above, in the semiconductor device according to the fourth embodiment, the overcurrent cutoff circuit 36 monitors the first control signal VG1, the first control signal VG1 becomes “L” level, and the sense current of the IGBT 2 When the current value of Isense becomes higher than a predetermined value, the IGBT 2 is turned off.

したがって、過電流検出に関してノイズにより誤検出する可能性を低減することができる。また、MOSFET1よりスイッチング速度の緩やかなIGBT2によってターンオフ動作を行うため、ターンオフサージ電圧を抑制できる。   Therefore, the possibility of erroneous detection due to noise with respect to overcurrent detection can be reduced. Further, since the turn-off operation is performed by the IGBT 2 whose switching speed is slower than that of the MOSFET 1, the turn-off surge voltage can be suppressed.

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。   It should be noted that the present invention can be freely combined with each other within the scope of the invention, and each embodiment can be appropriately modified or omitted.

1 MOSFET、2 IGBT、23 第1調整回路、24 第2調整回路、26 過電流遮断回路、33 第1調整回路、36 過電流遮断回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 MOSFET, 2 IGBT, 23 1st adjustment circuit, 24 2nd adjustment circuit, 26 Overcurrent interruption circuit, 33 1st adjustment circuit, 36 Overcurrent interruption circuit

Claims (4)

MOSFETと、前記MOSFETと並列に接続されたIGBTとを含むスイッチング素子と、
前記MOSFETのゲート電極に入力される第1制御信号を調整することで前記MOSFETを駆動する第1調整回路と、
前記IGBTのゲート電極に入力される第2制御信号を調整することで前記IGBTを駆動する第2調整回路と、
を備え、
前記第1調整回路および前記第2調整回路は、前記スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時に前記MOSFETを駆動し、前記スイッチング素子の定常電流通電時に前記IGBTを駆動し、
前記MOSFETのソース電極および前記IGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、
前記MOSFETの前記ソース電極は、前記エミッタ端子の周辺領域に配置された、半導体装置。
A switching element including a MOSFET and an IGBT connected in parallel with the MOSFET;
A first adjustment circuit that drives the MOSFET by adjusting a first control signal input to the gate electrode of the MOSFET;
A second adjustment circuit that drives the IGBT by adjusting a second control signal input to the gate electrode of the IGBT;
With
The first adjustment circuit and the second adjustment circuit drive the MOSFET when the switching element is turned on and off, and drive the IGBT when the switching element is supplied with a steady current.
The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT are connected to a control emitter wiring extending from an emitter terminal,
The semiconductor device, wherein the source electrode of the MOSFET is disposed in a peripheral region of the emitter terminal.
前記第1調整回路は、前記IGBTの温度を監視し、前記温度が予め定められた温度より高くなると前記MOSFETのON時間を延ばすように前記第1制御信号を調整する、請求項1記載の半導体装置。   2. The semiconductor according to claim 1, wherein the first adjustment circuit monitors the temperature of the IGBT and adjusts the first control signal so as to extend an ON time of the MOSFET when the temperature becomes higher than a predetermined temperature. apparatus. 前記IGBTを流れる電流の電流値を監視し、前記電流値が予め定められた値より高くなると前記IGBTをターンオフさせる過電流遮断回路をさらに備えた、請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, further comprising an overcurrent cutoff circuit that monitors a current value of a current flowing through the IGBT and turns off the IGBT when the current value becomes higher than a predetermined value. 前記過電流遮断回路は、前記第1制御信号を監視し、前記第1制御信号がLレベルになり、かつ、前記電流値が予め定められた値より高くなると前記IGBTをターンオフさせる、請求項3記載の半導体装置。   The overcurrent interrupt circuit monitors the first control signal, and turns off the IGBT when the first control signal becomes L level and the current value becomes higher than a predetermined value. The semiconductor device described.
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