JP2019004669A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、異なる特性を有するパワー半導体素子が並列に接続されたパワー半導体装置に関するものである。 The present invention relates to a power semiconductor device in which power semiconductor elements having different characteristics are connected in parallel.
従来、高速仕様のパワー半導体装置は高速のスイッチング素子のみを備え、低速仕様のパワー半導体装置は低速のスイッチング素子のみを備えていた。従来のパワー半導体装置では、スイッチング損失と定常損失のトレードオフに基づいて高速仕様のものと低速仕様のものが設計されていた。そのため、高速仕様のものでは定常損失、低速仕様のものではスイッチング損失が犠牲となっていた。 Conventionally, high-speed power semiconductor devices have only high-speed switching elements, and low-speed power semiconductor devices have only low-speed switching elements. Conventional power semiconductor devices have been designed for high-speed specifications and low-speed specifications based on the trade-off between switching loss and steady-state loss. For this reason, steady loss was sacrificed for the high-speed specification, and switching loss was sacrificed for the low-speed specification.
例えば特許文献1には、異なる特性を有するMOSFETとIGBTとを並列に接続することで、定常損失とスイッチング損失の双方を改善する技術が開示されている。
For example,
しかしながら、エミッタ端子がMOSFETから離れた位置にある場合、並列に接続されたMOSFETとIGBTのうちスイッチング損失が主に発生するMOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還が大きくなる場合がある。そのため、MOSFETのスイッチング速度の低下によって、パワー半導体装置全体の損失改善効果が低下するという問題があった。 However, when the emitter terminal is located away from the MOSFET, the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET in which switching loss mainly occurs among the MOSFET and IGBT connected in parallel may increase. is there. Therefore, there has been a problem that the loss improvement effect of the entire power semiconductor device is reduced due to the reduction in switching speed of the MOSFET.
そこで、本発明は、スイッチング損失と定常損失を改善し、かつ、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor device that can improve switching loss and steady loss, and can suppress a reduction in loss improvement effect due to a reduction in switching speed.
本発明に係る半導体装置は、MOSFETと、前記MOSFETと並列に接続されたIGBTとを含むスイッチング素子と、前記MOSFETのゲート電極に入力される第1制御信号を調整することで前記MOSFETを駆動する第1調整回路と、前記IGBTのゲート電極に入力される第2制御信号を調整することで前記IGBTを駆動する第2調整回路とを備え、前記第1調整回路および前記第2調整回路は、前記スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時に前記MOSFETを駆動し、前記スイッチング素子の定常電流通電時に前記IGBTを駆動し、前記MOSFETのソース電極および前記IGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、前記MOSFETの前記ソース電極は、前記エミッタ端子の周辺領域に配置されたものである。 The semiconductor device according to the present invention drives the MOSFET by adjusting a switching element including a MOSFET, an IGBT connected in parallel with the MOSFET, and a first control signal input to the gate electrode of the MOSFET. A first adjustment circuit; and a second adjustment circuit that drives the IGBT by adjusting a second control signal input to the gate electrode of the IGBT, wherein the first adjustment circuit and the second adjustment circuit include: The MOSFET is driven when the switching element is turned on and off, and the IGBT is driven when a steady current is supplied to the switching element. The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT are connected to a control emitter wiring extending from an emitter terminal. Connected, and the source electrode of the MOSFET is the In which are arranged in the peripheral region of the emitter terminal.
本発明によれば、第1調整回路および第2調整回路は、スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時にMOSFETを駆動し、スイッチング素子の定常電流通電時にIGBTを駆動する。したがって、IGBTよりスイッチング損失の小さいMOSFETによるスイッチング損失の低減、およびMOSFETより定常損失の小さいIGBTによる定常損失の低減を実現することで、スイッチング損失と定常損失の双方を改善することができる。 According to the present invention, the first adjustment circuit and the second adjustment circuit drive the MOSFET when the switching element is turned on and off, and drive the IGBT when the switching element is energized with a steady current. Therefore, both the switching loss and the steady loss can be improved by realizing the reduction of the switching loss by the MOSFET having the smaller switching loss than the IGBT and the reduction of the steady loss by the IGBT having the smaller steady loss than the MOSFET.
また、MOSFETのソース電極およびIGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、MOSFETのソース電極は、エミッタ端子の周辺領域に配置された。したがって、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。 The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT were connected to a control emitter wiring extending from the emitter terminal, and the source electrode of the MOSFET was disposed in the peripheral region of the emitter terminal. Therefore, since the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of the MOSFET can be reduced, it is possible to suppress a reduction in loss improvement effect due to a reduction in switching speed.
<実施の形態1>
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る半導体装置の回路図である。図2は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。図3は、半導体装置の電流・電圧波形模式図である。
<
図1に示すように、半導体装置は、パワーモジュールであり、MOSFET1、IGBT2、第1調整回路23、および第2調整回路24を備えている。なお、MOSFET1およびIGBT2がスイッチング素子に相当する。
As shown in FIG. 1, the semiconductor device is a power module, and includes a
MOSFET1とIGBT2は並列に接続されている。より具体的には、MOSFET1のドレイン電極とIGBT2のコレクタ電極が接続され、MOSFET1のソース電極とIGBT2のエミッタ電極が接続されている。MOSFET1のゲート電極は、第1調整回路23の出力電極に接続され、IGBT2のゲート電極は、第2調整回路24の出力電極に接続されている。
第1調整回路23は、XOR回路3および第1遅延回路3aを備え、MOSFET1のゲート電極に入力される第1制御信号VG1を調整することでMOSFET1を駆動する回路である。第1遅延回路3aは、抵抗R1およびコンデンサC1を備えたRCフィルタによる遅れを利用する回路である。外部から出力された制御信号Vcinは、XOR回路3の一方の入力と第1遅延回路3aに入力され、第1遅延回路3aにより遅らされた制御信号Vcinは、XOR回路3の他方の入力に入力される。XOR回路3は、第1制御信号VG1をMOSFET1のゲート電極に出力する。
The
第2調整回路24は、インバータ回路4および第2遅延回路4aを備え、IGBT2のゲート電極に入力される第2制御信号VG2を調整することでIGBT2を駆動する回路である。第2遅延回路4aは、抵抗R2およびコンデンサC2を備えたRCフィルタによる遅れを利用する回路である。外部から出力された制御信号Vcinは、第2遅延回路4aに入力され、第2遅延回路4aにより遅らされた制御信号Vcinは、インバータ回路4に入力される。インバータ回路4は、第2制御信号VG2をIGBT2のゲート電極に出力する。なお、抵抗R1の抵抗値は抵抗R2の抵抗値より大きくなるように設定されており、第1遅延回路3aによる遅延時間は、第2遅延回路4aによる遅延時間より大きい。
The
次に、図2を用いて、半導体装置の動作を説明する。図2に示すように、外部から出力された制御信号Vcinが高電位(「H」レベル)から低電位(「L」レベル)となってターンオンする場合、第1調整回路23および第2調整回路24は、MOSFET1、IGBT2の順でターンオンさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。第1遅延回路3aによる遅延時間が経過した後、第1調整回路23および第2調整回路24は、IGBT2がオンの状態でMOSFET1をターンオフさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。
Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, when the control signal Vcin output from the outside is turned on from a high potential (“H” level) to a low potential (“L” level), the
すなわち、スイッチング素子のターンオン時には最初にIGBT2よりスイッチング損失の小さいMOSFET1のみが駆動され、所定時間経過した後にIGBT2が駆動されるため、図3に示すように、スイッチング損失を改善することができる。なお、MOSFET1が駆動されてからIGBT2が駆動されるまでの所定時間は、第1遅延回路3aによる遅延時間と第2遅延回路4aによる遅延時間との差である。
That is, when the switching element is turned on, only the
MOSFET1が駆動されてから第1遅延回路3aによる遅延時間が経過した後、MOSFET1の駆動が停止されるため、定常電流通電時にはMOSFET1より定常損失の小さいIGBT2のみが駆動されることになる。これにより、図3に示すように、定常損失を改善することができる。
After the delay time by the
次に、制御信号Vcinが低電位(「L」レベル)から高電位(「H」レベル)となってターンオフする場合、第1調整回路23および第2調整回路24は、IGBT2がオンの状態でMOSFET1をターンオンさせ、IGBT2、MOSFET1の順でターンオフさせるように第1制御信号VG1および第2制御信号VG2を調整する。
Next, when the control signal Vcin is turned off from a low potential (“L” level) to a high potential (“H” level), the
すなわち、スイッチング素子のターンオフ時には最初にMOSFET1よりスイッチング損失の大きいIGBT2の駆動が停止され、所定時間経過した後にMOSFET1の駆動が停止されるため、図3に示すように、スイッチング損失を改善することができる。なお、IGBT2の駆動が停止されてからMOSFET1の駆動が停止されるまでの所定時間は、第1遅延回路3aによる遅延時間と第2遅延回路4aによる遅延時間との差である。
That is, when the switching element is turned off, the driving of the
次に、図4と図5を用いて、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間の負帰還について説明する。図4は、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための説明図である。図5は、MOSFETのゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を説明するための回路図である。
Next, negative feedback between the gate electrode and the source electrode of
図4に示すように、MOSFET1のソース電極およびIGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから延びる制御エミッタ配線8に接続されている。より具体的には、MOSFET1のソース電極は、エミッタ端子Esの周辺領域に配置されているため、制御エミッタ配線8に直接接続されている。他方、IGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから離れた位置にあるため、制御エミッタ配線8に直接接続されず、リードフレーム9を経由して制御エミッタ配線8に接続されている。このように、エミッタ端子EsからMOSFET1のソース電極までの配線経路は短くなるが、エミッタ端子EsからIGBT2のエミッタ電極までの配線経路は長くなる。
As shown in FIG. 4, the source electrode of
これにより、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。また、IGBT2のゲート電極とMOSFET1のソース電極との間にかかる負帰還を大きくすることができるため、IGBT2のスイッチング速度が低下することで短絡時のピーク電流を抑制できる。
Thereby, since the negative feedback applied between the gate electrode and the source electrode of
以上のように、実施の形態1に係る半導体装置では、第1調整回路23および第2調整回路24は、スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時にMOSFET1を駆動し、スイッチング素子の定常電流通電時にIGBT2を駆動する。したがって、IGBT2よりスイッチング損失の小さいMOSFET1によるスイッチング損失の低減、およびMOSFET1より定常損失の小さいIGBT2による定常損失の低減を実現することで、スイッチング損失と定常損失の双方を改善することができる。
As described above, in the semiconductor device according to the first embodiment, the
また、MOSFET1およびIGBT2の各々にスイッチング損失および定常損失が分配されることで、MOSFET1およびIGBT2の温度上昇を抑制できる。
Further, since the switching loss and the steady loss are distributed to each of the
また、MOSFET1のソース電極およびIGBT2のエミッタ電極は、エミッタ端子Esから延びる制御エミッタ配線8に接続され、MOSFET1のソース電極は、エミッタ端子Esの周辺領域に配置された。したがって、MOSFET1のゲート電極とソース電極との間にかかる負帰還を小さくすることができるため、スイッチング速度の低下による損失改善効果の低下を抑制できる。
The source electrode of the
また、IGBT2のゲート電極とMOSFET1のソース電極との間にかかる負帰還を大きくすることができるため、IGBT2のスイッチング速度が低下することで短絡時のピーク電流を抑制できる。
Moreover, since the negative feedback applied between the gate electrode of the
<実施の形態2>
次に、実施の形態2に係る半導体装置について説明する。図6は、実施の形態2に係る半導体装置の回路図である。図7は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<
Next, a semiconductor device according to the second embodiment will be described. FIG. 6 is a circuit diagram of the semiconductor device according to the second embodiment. FIG. 7 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. In the second embodiment, the same components as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図6と図7に示すように、実施の形態2では、第1調整回路33は、IGBT2の温度を監視し、温度が予め定められた温度より高くなるとMOSFET1のON時間を延ばすように第1制御信号VG1を調整する。
As shown in FIG. 6 and FIG. 7, in the second embodiment, the
次に、第1調整回路33について詳細に説明する。図6に示すように、第1調整回路33は、第1遅延回路3bおよびセンス回路25を備えている。
Next, the
第1遅延回路3bは、抵抗R1、コンデンサC1、トランジスタ7、およびコンデンサC3を備えている。すなわち、第1遅延回路3bは、実施の形態1の第1遅延回路3aにトランジスタ7およびコンデンサC3を追加した構成である。
The
センス回路25は、プルアップ抵抗R3、複数のダイオード5、およびコンパレータ6を備えている。コンパレータ6の正入力(+)には、プルアップ抵抗R3とダイオード5のアノードとの接続点が接続され、負入力(−)には基準電圧Vref1が入力されている。センス回路25は、IGBT2の周辺領域に配置され、ダイオード5の順方向降下電圧Vfの温度依存特性を利用してIGBT2の素子温度Tjを判定している。
The
次に、図6と図7を用いて半導体装置の動作について説明する。図6と図7に示すように、Tjが予め定められた温度より低い場合、コンパレータ6の正入力(+)にはVref1より低い電圧が入力されるため、コンパレータ6の出力信号Vtは「L」レベルである。Tjが予め定められた温度より高くなると、ダイオード5のVfが低下しコンパレータ6の正入力(+)にはVref1より高い電圧が入力されるため、コンパレータ6の出力信号Vtは「H」レベルとなる。 Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 6 and 7, when Tj is lower than a predetermined temperature, a voltage lower than Vref1 is input to the positive input (+) of the comparator 6, and therefore the output signal Vt of the comparator 6 is “L”. "Is the level. When Tj becomes higher than a predetermined temperature, the voltage Vf of the diode 5 decreases and a voltage higher than Vref1 is input to the positive input (+) of the comparator 6, so that the output signal Vt of the comparator 6 becomes “H” level. Become.
このとき、トランジスタ7がONし第1遅延回路3bによる遅延時間が増加するため、第1制御信号VG1の「H」レベルの時間が増加する。これにより、MOSFET1のON時間が調整される。より具体的には、MOSFET1のON時間が増加する。なお、予め定められた温度とは、例えば150℃または175℃である。
At this time, since the
以上のように、実施の形態2に係る半導体装置では、第1調整回路33は、IGBT2の温度を監視し、温度が予め定められた温度より高くなるとMOSFET1のON時間を延ばすように第1制御信号VG1を調整する。したがって、IGBT2の素子温度Tjに応じて、MOSFET1のON時間を延ばしIGBT2での発生損失をMOSFET1に分配することで、IGBT2の過熱状態を抑制できる。
As described above, in the semiconductor device according to the second embodiment, the
<実施の形態3>
次に、実施の形態3に係る半導体装置について説明する。図8は、実施の形態3に係る半導体装置の回路図である。図9は、ターンオン時にIGBT2のみを駆動した場合の駆動電流波形図である。図10は、ターンオン時にMOSFET1を駆動した場合の駆動電流波形図である。なお、実施の形態3において、実施の形態1,2で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<
Next, a semiconductor device according to the third embodiment will be described. FIG. 8 is a circuit diagram of the semiconductor device according to the third embodiment. FIG. 9 is a drive current waveform diagram when
図8に示すように、実施の形態3では、半導体装置は、IGBT2を流れるセンス電流Isenseの電流値を監視し、電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる過電流遮断回路26をさらに備えている。
As shown in FIG. 8, in the third embodiment, the semiconductor device monitors the current value of the sense current Isense flowing through the
過電流遮断回路26は、抵抗R5、ノイズフィルタ回路10、コンパレータ11、抵抗R6、およびトランジスタ15を備えている。ノイズフィルタ回路10は、抵抗R4およびコンデンサC4を備えている。コンパレータ6の正入力(+)には、IGBT2の電流センス電極がノイズフィルタ回路10を介して接続され、負入力(−)には基準電圧Vref2が入力されている。コンパレータ6の出力はトランジスタ15のゲート電極に接続されている。
The
次に、図8を用いて半導体装置の動作について説明する。図8に示すように、センス電流Isenseの電流値が予め定められた値より低い場合、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より低い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号Vtは「L」レベルである。IGBT2に過電流が流れてセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなると、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より高い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号Vtは「H」レベルとなる。
Next, the operation of the semiconductor device will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 8, when the current value of the sense current Isense is lower than a predetermined value, a voltage lower than Vref2 is input to the positive input (+) of the
このとき、トランジスタ15がONし第2制御信号VG2は「L」レベルとなるため、IGBT2はターンオフされる。
At this time, since the
次に、図9と図10を用いて、ノイズフィルタ回路10の最適化について説明する。図9に示すように、スイッチング素子のターンオン時にIGBT2のみを駆動した場合、IGBT2にリカバリ電流が流れることからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗るため、過電流の誤検出防止のためのノイズフィルタ回路が必要となる。
Next, optimization of the
これに対して、実施の形態3では、スイッチング素子のターンオン時に先ずMOSFET1のみを先に駆動する。次いでリカバリ電流がMOSFET1に流れた後でIGBT2を駆動する。これにより、図10に示すように、IGBT2にリカバリ電流が流れないことからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗らないため、ノイズフィルタ回路10を小さくして最適化することができる。
On the other hand, in the third embodiment, only the
以上のように、実施の形態3に係る半導体装置は、IGBT2を流れるセンス電流Isenseの電流値を監視し、電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる過電流遮断回路26をさらに備えている。
As described above, the semiconductor device according to the third embodiment further monitors the current value of the sense current Isense flowing through the
従来は、IGBT2にリカバリ電流が流れることからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗るため、過電流の誤検出防止のためのノイズフィルタ回路が必要であった。しかし、実施の形態3に係る半導体装置では、スイッチング素子のターンオン時にMOSFET1を駆動するため、IGBT2にリカバリ電流が流れないことからIGBT2のセンス電流Isenseにノイズが乗らないため、ノイズフィルタ回路10を小さくして最適化することができる。
Conventionally, since a recovery current flows through the
よって、IGBT2のON状態にIGBT2の電流センス電極を用いて過電流保護を行うことで、ノイズフィルタ回路10の削減および部品点数の削減が可能となる。また、上記の過電流保護方法を用いる場合、スイッチング素子の定常電流通電時にはMOSFET1はOFF状態であることから、MOSFET1には電流センス電極を備える必要はないため、MOSFET1の製造コストの低減および有効面積の拡大が可能となる。
Therefore, by performing overcurrent protection using the current sense electrode of the
<実施の形態4>
次に、実施の形態4に係る半導体装置について説明する。図11は、実施の形態4に係る半導体装置の回路図である。図12は、半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。なお、実施の形態4において、実施の形態1〜3で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
<
Next, a semiconductor device according to the fourth embodiment will be described. FIG. 11 is a circuit diagram of a semiconductor device according to the fourth embodiment. FIG. 12 is a timing chart showing the operation of the semiconductor device. Note that in the fourth embodiment, the same components as those described in the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
図11と図12に示すように、実施の形態4では、過電流遮断回路36は、第1制御信号VG1を監視し、第1制御信号VG1が「L」レベルになり、かつ、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる。すなわち、実施の形態4では、第1制御信号VG1が「L」レベルのときにのみ過電流保護を行う。ここで、第1制御信号VG1が「H」レベルのときに過電流保護を行わない理由としては、第1制御信号VG1が「H」レベルのときに過電流検出を行うとノイズにより誤検出する可能性が大きくなるためである。
As shown in FIGS. 11 and 12, in the fourth embodiment, the
図11に示すように、過電流遮断回路36は、実施の形態3の過電流遮断回路26に対してノイズフィルタ回路10をなくし、インバータ回路12およびAND回路14を追加した構成である。AND回路14の一方の入力には、XOR回路3の出力がインバータ回路12を介して接続され、他方の入力には、コンパレータ11の出力が接続されている。AND回路14の出力は、トランジスタ15のゲート電極に接続されている。
As shown in FIG. 11, the
図11と図12に示すように、第1制御信号VG1が「H」レベルの場合、AND回路14の出力は常に「L」レベルになるため、トランジスタ15はOFFとなる。そのため、IGBT2は制御信号Vcinに基づいて動作する。
As shown in FIGS. 11 and 12, when the first control signal VG1 is at “H” level, the output of the AND
第2制御信号VG2が「H」レベルになり、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなると電流センス電極にかかる電圧が「H」レベルになり、コンパレータ11の正入力(+)にはVref2より高い電圧が入力されるため、コンパレータ11の出力信号は「H」レベルとなる。この状態で第1制御信号VG1が「L」レベルになると、AND回路14の出力電圧Vscは「H」レベルになるため、トランジスタ15はONとなる。これにより、第2制御信号VG2は「L」レベルになり、IGBT2はターンオフされる。なお、AND回路14の出力には図示しないラッチ回路などが接続されており、IGBT2のターンオフ後は、このラッチ回路などによって、別途リセット信号が入力されるまで、AND回路14の出力電圧Vscは「H」レベルを維持する。これにより、制御信号Vcinの状態に関わらず、IGBT2はターンオフ状態を維持する。
When the second control signal VG2 becomes “H” level and the current value of the sense current Isense of the
以上のように、実施の形態4に係る半導体装置では、過電流遮断回路36は、第1制御信号VG1を監視し、第1制御信号VG1が「L」レベルになり、かつ、IGBT2のセンス電流Isenseの電流値が予め定められた値より高くなるとIGBT2をターンオフさせる。
As described above, in the semiconductor device according to the fourth embodiment, the
したがって、過電流検出に関してノイズにより誤検出する可能性を低減することができる。また、MOSFET1よりスイッチング速度の緩やかなIGBT2によってターンオフ動作を行うため、ターンオフサージ電圧を抑制できる。
Therefore, the possibility of erroneous detection due to noise with respect to overcurrent detection can be reduced. Further, since the turn-off operation is performed by the
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。 It should be noted that the present invention can be freely combined with each other within the scope of the invention, and each embodiment can be appropriately modified or omitted.
1 MOSFET、2 IGBT、23 第1調整回路、24 第2調整回路、26 過電流遮断回路、33 第1調整回路、36 過電流遮断回路。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記MOSFETのゲート電極に入力される第1制御信号を調整することで前記MOSFETを駆動する第1調整回路と、
前記IGBTのゲート電極に入力される第2制御信号を調整することで前記IGBTを駆動する第2調整回路と、
を備え、
前記第1調整回路および前記第2調整回路は、前記スイッチング素子のターンオン時およびターンオフ時に前記MOSFETを駆動し、前記スイッチング素子の定常電流通電時に前記IGBTを駆動し、
前記MOSFETのソース電極および前記IGBTのエミッタ電極は、エミッタ端子から延びる制御エミッタ配線に接続され、
前記MOSFETの前記ソース電極は、前記エミッタ端子の周辺領域に配置された、半導体装置。 A switching element including a MOSFET and an IGBT connected in parallel with the MOSFET;
A first adjustment circuit that drives the MOSFET by adjusting a first control signal input to the gate electrode of the MOSFET;
A second adjustment circuit that drives the IGBT by adjusting a second control signal input to the gate electrode of the IGBT;
With
The first adjustment circuit and the second adjustment circuit drive the MOSFET when the switching element is turned on and off, and drive the IGBT when the switching element is supplied with a steady current.
The source electrode of the MOSFET and the emitter electrode of the IGBT are connected to a control emitter wiring extending from an emitter terminal,
The semiconductor device, wherein the source electrode of the MOSFET is disposed in a peripheral region of the emitter terminal.
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