JP2018538565A - 非線形周波数変換デバイスにおける使用のための波長分離素子 - Google Patents
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 171
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 40
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims abstract description 50
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 18
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 25
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 9
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 8
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 6
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- -1 borosilicate (eg Chemical compound 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3501—Constructional details or arrangements of non-linear optical devices, e.g. shape of non-linear crystals
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/141—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using dichroic mirrors
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
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- G02B27/145—Beam splitting or combining systems operating by reflection only having sequential partially reflecting surfaces
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/30—Collimators
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S5/0092—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3501—Constructional details or arrangements of non-linear optical devices, e.g. shape of non-linear crystals
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
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Abstract
Description
面からの多重反射および基本ビーム除去方法の使用に起因する効率的なビーム分離と、
波長分離素子を通る変換ビームの高透過効率(例えば、>95%)と、
単一面からの多重反射の使用および安価な材料を使用する可能性に起因する低コスト設計と、
あるジオメトリの使用に起因し、一方では出力変換ビームにおける基本ビームからの光の寄与を低く維持するコンパクトなフォーマットと、
高ビーム品質の出力変換ビームと
を可能にする。
添付図面では、同様の参照が同様の部分または特徴を示す。
であり、nは、鏡面における反射の総数であり、Pc’は出力およびPcは入力における変換ビームの光パワーであり、Pf’は出力およびPfは入力における基本ビームの光パワーである。
から決定されてよく、ここでθBrは、ブリュースター角であり、npropは、基本ビームが鏡面上に入射する前の媒体中の基本ビームに対する屈折率であり、ntransは、基本ビームが鏡面を通って伝搬した後の媒体中の基本ビームに対する屈折率である。混合ビームが最初に空気または気体中を伝搬するのであれば、
である。
それゆえに、1つまたは2つの鏡面からの反射は、非常に高い除去比を提供し、延いては、基本ビームからの有意な寄与を何も伴わないNLFCデバイスからの変換ビームの出力を提供するのに十分であることが予想されよう(式1を参照)。
として定義され、ここでεは、s偏光比
であり、Pf,sは、第1の鏡面上に入射する基本ビーム中のs型偏光の光パワーである。
を用いて計算できる。図11は、一定のθBr=56°およびn=5に対するgminのマップを示す。ギャップに対してgminより低い値を用いることは、ビームのクリッピングをもたらし、回避されるべきである。これを回避できない場合には、この部品と分離素子との間に追加のレンズを使用し、結果としてθBrを減少させて、発散ビームを収束ビームへ変換することもできる。ギャップが一旦選ばれると、長さLは、
を用いて計算できる。例えば、距離d=10mmからブリュースター角θBr=56°において発散半角θBeam_p=1°で素子に入射するビームは、5回の内部反射のために最小ギャップgmin=0.25mmを必要とする。外部公差を考慮すると、ギャップをgmin=0.4mmに設定できて、分離素子の長さがL=3mmとなろう。分離素子の高さHは、p偏光方向におけるビームの伝搬特性によって決定できて、
を用いて計算できる。先の例のケースでは、θBeam_s=1°の場合に素子の高さH=0.45mmである。θBeam_s、ここでHは、θBeam_pに対して直角であり、図10では面外に向いている。先に示されたように、多重反射ジオメトリは、効率的なビーム分離を非常にコンパクトなフォーマットでできるようにする。
第2の実施例は、第1の実施例と同様であり、共通の特徴は繰り返されなくてよい。先の実施例におけるものと同じか、または同様の機能を有する部品は、共通の数値ラベルで図中にラベル付けされる。図17に示される、第2の実施例では、第1および第2の鏡面2、6を透過した基本ビームの処分は、基本光が第2の面において散漫散乱されるよう第1および第2のプレート21の第2の面22がテクスチャ加工されるように構成することによって提供される。
第3の実施例は、第1の実施例と同様であり、共通の特徴は繰り返されなくてよい。先の実施例におけるものと同じか、または同様の機能を有する部品は、共通の数値ラベルで図中にラベル付けされる。図18に示される、この第3の実施例では、レーザダイオード31のような半導体レーザである固体発光体によって放出された光の周波数2倍化によって波長範囲200nm〜270nmにおける深紫外光が発生する。レーザダイオード31から放出された基本ビームは、400nmと540nmとの間の波長を含む。この例では、レーザダイオードは、およそ440nmの放出波長をもつAlyGaxInzN材料を含む。
におよそ等しい。第1の鏡面は、変換ビームのs偏光に対しておよそ99%の高反射率を提供するように構成される。第1の鏡面は、基本ビームのp偏光成分に対しておよそ0.1%の低反射率および基本ビームのs偏光成分に対しておよそ20%の反射率を提供する。第1の鏡面2からの基本および変換ビームは、第2のプレート21の第2の鏡面2上に入射する。第2の鏡面は、第1の鏡面にほぼ平行である(すなわち、第1および第2の鏡面間の角度は、2°未満である)。第2の鏡面は、基本および変換ビームに対して同様の反射率を有するように構成される(すなわち、多層コーティングは、第1の鏡面用と同じであってよく、第2のプレートの材料は、第1のプレートと同じであってよい)。先の実施例のように、基本および変換ビームが第1の鏡面から合計3回、および第2の鏡面から合計2回反射される。透過した基本ビーム4は、第1および第2のプレート21の第2の面22上に配置された吸収材料30によって吸収される。適切な材料の例は、吸収インク、顔料、色素または塗料である。選択肢として他の有機または無機材料が用いられてもよい。第2の面22は、さらに、随意的に、透過した基本ビームの散乱を提供するためにテクスチャ加工されて(それらの上に配置された吸収材料ありまたはなしのいずれであって)もよい。
をもつ出力変換ビームを提供した、この実施例によるNLFCデバイス40は、25cm2より小さいパッケージ・フットプリントを実証し、波長分離素子は、フットプリント中で1cm2未満の面積を占有した。この発明による波長分離素子は、このように小さいNLFCデバイスを可能にして、一方では基本ビームの非常に高い除去比および変換ビームの高透過効率も提供する。
第4の実施例は、第1および第3の実施例と同様であり、共通の特徴は繰り返されなくてよい。図20に示される、この第3の実施例では、波長範囲200nm〜270nmにおける深紫外光が中でもレーザダイオードから放出された光によってポンピングされる固体発光体によって放出されたより長い波長の光の周波数2倍化によって発生する。
第5の実施例は、第1の実施例と同様であり、共通の特徴は繰り返されなくてよい。先の実施例におけるものと同じか、または同様の機能を有する部品は、共通の数値ラベルで図中にラベル付けされる。この実施例では、波長分離素子1は、第1の鏡面2をもつ第1のプレート21、および第2の鏡面6をもつ第2のプレート21を含み、第1および第2の鏡面は、互いに平行ではない。第1および第2の面の面法線間の角度は、αsである。好ましくは、第1および第2の鏡面の面法線は、同じ幾何学的平面内にあり、前記平面は、第1の鏡面2上に入射する基本ビームの伝搬方向も含む。例示的な構成が図21に示される。
にほぼ等しいか、または部品NLFC部品11から出射する混合ビーム3の方向に対する角度公差に近い。角度範囲が4°である場合には、2つのプレート間の傾斜は、αs=4°/(n−1)=1°であり、第1の鏡面における入射角は、θBr+2αsである。第1の鏡面における入射角は、2つのプレート間の開口が第1の鏡面反射の方を向く、言い換えれば、図21に示されるようにビームが伝搬するにつれてプレート間のギャップが減少する場合にのみ、θBr+2αsを用いて計算できる。開口が出射の方へ向う(ビームが伝搬するにつれてギャップが増加する)場合には、第1の鏡面における入射の角度は、θBr−2αsを用いて計算できる。開口は、入射角の角度スキャニングが低い方から高い方の値または逆になるかどうかを決定する。他のバリエーションでは、プレート21の鏡面2、6および裏面22を非平行とすることができる。鏡面2、6を通過した基本ビームは、裏面上の吸収層によって取り除かれるが、前の実施例に記載されたような他のバリエーションも可能である。
この実施例は、単一の内部素子41を含んだ波長分離素子1を示し、混合ビーム3は、図22に示されるように、前記素子の内部体積中を伝搬する。
であれば、
である。内部素子の側面42の角度θTr、および側面42における基本ビームの入射角は、適切に選ばれる。例えば、図22に示されるような台形が用いられてもよい。変換ビームに対して、透過率が50%より大きく、好ましくは99%より大きい高透過率をもつ側面42上に堆積されたコーティングもありうる。基本ビームの大部分は、第1の鏡面において反射されず、変換ビームの大部分(好ましくは、少なくとも99%)は、反射される。前の実施例より低い入射角を用いる利点は、ビームがより急な角度で反射するため、分離素子がより短くてよいことである。この構成の別の利点は、より高い屈折率をもつ媒質中への発散ビームのカップリングに関係し、その理由は、ビームが入射するときにビーム発散角θBeamが減少するからである。ビーム発散のこの狭小化は、第1および第2の鏡面2、6間のより小さい分離の使用を許容する。基本ビームの透過部分は、分離素子の外側を伝搬し、好ましいのは、このビームを吸収または方向転換によって取り除くことである。鏡面を透過する基本ビームの部分を吸収するために0.2mmと10mmとの間の距離に吸収素子43を用いることが好ましい。分離素子からのビームを取り除くために方向転換方法を使用できることも留意すべきである。実施例5におけるように、非平行な第1および第2の鏡面が用いられてもよい。
この実施例は、図23に示されるように、第1、第2および第3の鏡面間の角度が大きい単一の素子を含んだ波長分離素子1を示す。この実施例は、第1の実施例と同様であり、共通の特徴は繰り返されなくてよい。
この通常の出願は、2015年12月3日に出願された米国特許出願第14/958,029号に関する優先権を合衆国法典35巻第119条の下で主張し、その全内容が参照により本明細書に組み込まれる。
本発明による波長分離素子は、NLFCを用いた光源、例えば、紫外光源に使用されてよい。前記光源は、蛍光センサまたは吸収センサにおける光源として使用されてよい。
1.波長分離素子
2.第1の鏡面
3.混合ビーム
4.基本ビーム
5.変換ビーム
6.第2の鏡面
7.透過ビーム
10.NLFC発生器
11.NLFC部品
12.内側の光線
13.外側の光線
14.コリメーティングオプティクス
15.有効光源
20.非一次ビーム
21.薄いプレート
22.薄いプレートの第2の面
23.所定のフィーチャ
24.ベース
25.ホルダ
26.アパーチャ
27.長辺側
30.吸収層
31.レーザダイオード
32.コリメーティングオプティクス
33.光学システム
34.フィルタ素子
35.利得媒質をもつ共振器
40.NLFCデバイス
41.内部素子
42.内部素子の側面
43.吸収素子
44.第2のセクション
45.第1のセクション
Claims (20)
- 非線形周波数変換(NLFCデバイス)において第1のビームから第2のビームを分離するための波長分離素子であって、前記第2のビームは、前記第1のビームの波長とは異なる波長を有し、前記波長分離素子は、
第1の鏡面、および
前記第1の鏡面に対向する第2の鏡面
を備え、
前記第1および第2の鏡面は、前記第1のビームの反射率と比較して高い前記第2のビームの反射率を有し、前記第1および第2の鏡面は、前記第1のビームから前記第2のビームを分離するために、前記第1および第2のビームが前記第1の鏡面と前記第2の鏡面との間で多重反射を受けるように構成され、
前記第1および第2の鏡面は、前記第1および第2のビームが前記第1および第2の鏡面において少なくとも3回の反射を受けるように構成された、
波長分離素子。 - 前記第1および第2の鏡面は、少なくとも50%の前記第2のビームの反射率、および最大10%の前記第1のビームの反射率を有する、請求項1に記載の波長分離素子。
- 前記第1および第2の鏡面は、前記第1および第2のビームが前記第1の鏡面または前記第2の鏡面のうちの1つにおいて少なくとも2回の反射を受けるように構成された、請求項1〜2のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記第1および第2の鏡面は、前記第1および第2のビームが前記鏡面間の空間的ギャップ中を伝搬するように離隔された別個の素子上に配置された、請求項1〜3のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記第1および第2の鏡面は、前記第1および第2のビームが前記鏡面間の単一の素子の内部体積内を伝搬するように前記単一の素子上に配置された、請求項1〜4のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記鏡面間のギャップ「g」および前記波長分離素子の長さ「L」は、前記第1および第2のビームを含んだ混合ビームの発散半角に基づいて決定される、請求項1〜5のいずれかに記載の波長分離素子。
- 第1の面および前記第1の面に対向する第2の面を有する少なくとも1つのプレート素子をさらに備え、前記第1の面は、前記第1または第2の鏡面のうちの1つであり、前記第2の面は、前記第1または第2の鏡面を透過する前記第1のビームの一部分を散乱する散乱素子を含む、請求項1〜6のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記第1の鏡面および前記第2の鏡面をそれぞれ備える第1の面を各々が含んだ2つの薄いプレートを備え、第2の面は、前記散乱素子を含む、請求項7に記載の波長分離素子。
- 第1の面および前記第1の面に対向する第2の面を有する少なくとも1つのプレート素子をさらに備え、前記第1の面は、前記第1または第2の鏡面のうちの1つであり、前記第2の面は、前記第1または第2の鏡面を透過する前記第1のビームの一部分を吸収する吸収素子を含む、請求項1〜6のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記第1の鏡面および前記第2の鏡面をそれぞれ備える第1の面を各々が含んだ2つの薄いプレートを備え、第2の面は、前記吸収素子を備える、請求項9に記載の波長分離素子。
- 前記少なくとも1つの薄いプレートをホルダ内に取り付けるために構成された前記ホルダをさらに備える、請求項7〜10のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記ホルダは、ベースおよび前記ベースから垂直に延びる所定の構造を備え、前記少なくとも1つの薄いプレートが前記ベース上で前記所定の構造に接触して取り付けられた、請求項11に記載の波長分離素子。
- 前記第1および第2の鏡面にそれぞれ近接し、前記第1および第2の鏡面を透過する前記第1のビームの一部分を吸収する第1および第2の吸収素子をさらに備える、請求項1〜6のいずれかに記載の波長分離素子。
- 前記第1の鏡面および前記第2の鏡面は、互いに非平行である、請求項1〜13のいずれかに記載の波長分離素子。
- 非線形周波数変換(NLFC)デバイスであって、
基本ビームを備える第1のビームを発生させるように構成されたレーザ光源、および
前記基本ビームの一部分を前記変換ビームへ変換することによって発生する変換ビームを備える第2のビームを発生させるように構成されたNLFC部品、ならびに請求項1〜14のいずれかに記載の波長分離素子
を備え、前記第1のビームは、前記基本ビームであり、前記第2のビームは、前記変換ビームである、NLFCデバイス。 - 前記波長分離素子から出力された出力変換ビームをコリメートするために前記波長分離素子が前記NLFC部品と出力コリメーティングオプティクスとの間の前記第2のビームの伝搬経路上に配置されるように構成された前記出力コリメーティングオプティクスをさらに備える、請求項15に記載のNLFCデバイス。
- 前記コリメーティングオプティクスは、0.5で除した前記NLFC部品の前記長さより大きい、前記第2のビームの前記伝搬経路に沿って測定された、前記NLFC部品の中心からの距離である、請求項16に記載のNLFCデバイス。
- 前記NLFC部品は、前記基本ビームの一部分を周波数2倍化することによって前記変換ビームを発生させるように構成され、前記変換ビームは、前記入力ビームの前記波長の半分に等しい波長を有し、前記変換ビームは、深紫外光ビームである、請求項15〜17のいずれかに記載のNLFCデバイス。
- 前記基本ビームを発生させるように構成されたレーザダイオードをさらに備える、請求項18に記載のNLFCデバイス。
- 前記NLFC部品と前記波長分離素子との間に置かれたフィルタ素子をさらに備え、前記フィルタ素子は、前記基本ビームの反射率と比較して高い前記変換ビームの反射率を有する、請求項15〜19のいずれかに記載のNLFCデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/958,029 | 2015-12-03 | ||
US14/958,029 US9927679B2 (en) | 2015-12-03 | 2015-12-03 | Wavelength separating element for use in a nonlinear frequency conversion device |
PCT/JP2016/086096 WO2017094917A1 (en) | 2015-12-03 | 2016-12-05 | Wavelength Separating Element For Use In a Nonlinear Frequency Conversion Device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018538565A true JP2018538565A (ja) | 2018-12-27 |
JP6542473B2 JP6542473B2 (ja) | 2019-07-10 |
Family
ID=58797471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018521328A Active JP6542473B2 (ja) | 2015-12-03 | 2016-12-05 | 非線形周波数変換デバイス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9927679B2 (ja) |
EP (1) | EP3384347B1 (ja) |
JP (1) | JP6542473B2 (ja) |
CN (1) | CN108604039B (ja) |
WO (1) | WO2017094917A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9927679B2 (en) * | 2015-12-03 | 2018-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Wavelength separating element for use in a nonlinear frequency conversion device |
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-
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- 2016-12-05 JP JP2018521328A patent/JP6542473B2/ja active Active
- 2016-12-05 EP EP16870851.9A patent/EP3384347B1/en active Active
- 2016-12-05 CN CN201680070129.7A patent/CN108604039B/zh active Active
- 2016-12-05 WO PCT/JP2016/086096 patent/WO2017094917A1/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9927679B2 (en) | 2018-03-27 |
EP3384347A1 (en) | 2018-10-10 |
US20170160622A1 (en) | 2017-06-08 |
JP6542473B2 (ja) | 2019-07-10 |
CN108604039B (zh) | 2021-11-23 |
WO2017094917A1 (en) | 2017-06-08 |
EP3384347A4 (en) | 2018-12-05 |
CN108604039A (zh) | 2018-09-28 |
EP3384347B1 (en) | 2019-12-04 |
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Legal Events
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