JP2018537716A - アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置 - Google Patents
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- G02F2203/01—Function characteristic transmissive
Abstract
Description
所定のパターンを有する第1金属層41が形成される。この第1金属層41は、走査線G、アレイ基板12のTFT(Thin Film Transistor、薄膜トランジスタ)のゲートgを形成するために使用され、第1ビアホール32の金属層及び他の金属配線に対応する。
第1金属層41上にTFTの活性半導体層(Active Semiconductor Layer、AS)42が形成される。この活性半導体層42は、ゲートgの上方に位置する。
活性半導体層42上に所定のパターンを有する第2金属層43が形成される。この第2金属層43は、データ線D及びTFTのソースsとドレインdを形成するために使用される。
第2金属層43上に平坦なパッシベーション層が形成される。この平坦なパッシベーション層には、第1ビアホール32が開設されている。
第1ビアホール32が開設されている平坦なパッシベーション層上に第1画素電極34及び共通電極31が形成される。好ましくは、共通電極31と第1画素電極34は、同じフォトマスク製造プロセスで形成され、即ち、この共通電極31は透明導電層となり、その材料はITOであってもよい。
所定のパターンを有する第1金属層51が形成される。この第1金属層51は、走査線G、TFTのゲートgを形成するために使用され、第1ビアホール32の金属層、第2ビアホール33の金属層、及び他の金属配線に対応する。
第1金属層51上に、ゲートgの上方に位置する活性半導体層52が形成される。
活性半導体層52上に所定のパターンを有する第2金属層53が形成される。この第2金属層53は、データ線D及びTFTのソースsとドレインdを形成するために使用される。
第2金属層53上に平坦なパッシベーション層が形成される。この平坦なパッシベーション層には、第1ビアホール32だけでなく、第2ビアホール33も開設されている。
第1ビアホール32及び第2ビアホール33が開設されている平坦なパッシベーション層上に、第2画素電極35及び共通電極31が形成される。ここで、好ましくは、共通電極31と第1画素電極35は、同じフォトマスク製造プロセスで形成され、即ち、この共通電極31は透明導電層となり、その材料はITOを含むが、それに限定されない。当然のことながら、他の実施例では、共通電極31は、別途のフォトマスク製造プロセス又は他の方式で形成されてもよい。共通電極31は、対応するデータ線Dと重畳して設けられるため、共通電極31は、不透光性導電金属層であってもよい。
Claims (17)
- アレイ基板であって、前記アレイ基板は、複数の走査線、複数のデータ線、第1画素電極、第2画素電極、共通電極、第1ビアホール、及び第2ビアホールを備え、
前記複数の走査線と前記複数のデータ線は交差して複数の第1サブ画素領域及び複数の第2サブ画素領域を画定し、
前記第1画素電極は、前記第1サブ画素領域内に位置し、
前記第2画素電極は、前記第2サブ画素領域内に位置し、
前記共通電極は、隣接する2つの前記第1画素電極の間、及び隣接する第1画素電極と第2画素電極との間に位置し、
前記第1ビアホールは、前記第1サブ画素領域及び前記第2サブ画素領域内に位置し、前記第1ビアホールは、前記第1画素電極と前記データ線との間の電気的な接続、及び前記第2画素電極と前記データ線との間の電気的な接続を実現するために使用され、
前記第2ビアホールは、前記共通電極が前記第2ビアホールを介して電圧を受けるように、前記第2サブ画素領域内に位置する、ことを特徴とするアレイ基板。 - 前記第1画素電極の面積は、前記第2画素電極の面積より大きい、ことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記アレイ基板の1つの画素領域は、2つの前記第1サブ画素領域と1つの前記第2サブ画素領域を含み、前記第2サブ画素領域は、R、G、Bサブ画素領域の中の1つであり、各前記画素領域内において、前記共通電極は、前記第2サブ画素領域内の第2ビアホールを介して前記電圧を受ける、ことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記アレイ基板の1つの画素領域は、3つの前記第1サブ画素領域と1つの前記第2サブ画素領域を含み、前記第2サブ画素領域は、R、G、B、Wサブ画素領域の中の1つであり、各前記画素領域内において、前記共通電極は、前記第2サブ画素領域内の第2ビアホールを介して前記電圧を受ける、ことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記アレイ基板は、行方向に沿って配置された前記複数の走査線を備え、各前記第1サブ画素領域は、1つの前記走査線に対応して接続され、各前記第2サブ画素領域は、1つの前記走査線に対応して接続され、第n行と第n+1行の前記走査線の間の前記第1サブ画素領域及び前記第2サブ画素領域は、第n行の前記走査線に電気的に接続され、前記nは正の整数である、ことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記共通電極、前記第1画素電極及び前記第2画素電極は、同じフォトマスク製造プロセスで形成される、ことを特徴とする請求項5に記載のアレイ基板。
- 前記共通電極は、対応するデータ線と重畳して設けられ、前記共通電極は、不透光性導電金属層を備える、ことを特徴とする請求項5に記載のアレイ基板。
- 前記第1ビアホールと前記第2ビアホールは、前記走査線の両側に位置し、前記第1ビアホールは、前記走査線と前記第1画素電極との間、及び前記走査線と前記第2画素電極との間に位置する、ことを特徴とする請求項1に記載のアレイ基板。
- 液晶表示パネルであって、前記液晶表示パネルはアレイ基板を備え、前記アレイ基板は、複数の走査線、複数のデータ線、第1画素電極、第2画素電極、共通電極、第1ビアホール、及び第2ビアホールを備え、
前記複数の走査線と前記複数のデータ線は交差して複数の第1サブ画素領域及び複数の第2サブ画素領域を画定し、
前記第1画素電極は、前記第1サブ画素領域内に位置し、
前記第2画素電極は、前記第2サブ画素領域内に位置し、
前記共通電極は、隣接する2つの前記第1画素電極の間、及び隣接する第1画素電極と第2画素電極との間に位置し、
前記第1ビアホールは、前記第1サブ画素領域及び前記第2サブ画素領域内に位置し、前記第1ビアホールは、前記第1画素電極と前記データ線との間の電気的な接続、及び前記第2画素電極と前記データ線との間の電気的な接続を実現するために使用され、
前記第2ビアホールは、前記共通電極が前記第2ビアホールを介して電圧を受けるように、前記第2サブ画素領域内に位置する、ことを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記第1画素電極の面積は、前記第2画素電極の面積より大きい、ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 前記アレイ基板の1つの画素領域は、2つの前記第1サブ画素領域と1つの前記第2サブ画素領域を含み、前記第2サブ画素領域は、R、G、Bサブ画素領域の中の1つであり、各前記画素領域内において、前記共通電極は、前記第2サブ画素領域内の第2ビアホールを介して前記電圧を受ける、ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 前記アレイ基板の1つの画素領域は、3つの前記第1サブ画素領域と1つの前記第2サブ画素領域を含み、前記第2サブ画素領域は、R、G、B、Wサブ画素領域の中の1つであり、各前記画素領域内において、前記共通電極は、前記第2サブ画素領域内の第2ビアホールを介して前記電圧を受ける、ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 前記アレイ基板は、行方向に沿って配置された前記複数の走査線を備え、各前記第1サブ画素領域は、1つの前記走査線に対応して接続され、各前記第2サブ画素領域は、1つの前記走査線に対応して接続され、第n行と第n+1行の前記走査線の間の前記第1サブ画素領域及び前記第2サブ画素領域は、第n行の前記走査線に電気的に接続され、前記nは正の整数である、ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 前記共通電極、前記第1画素電極及び前記第2画素電極は、同じフォトマスク製造プロセスで形成される、ことを特徴とする請求項13に記載の液晶表示パネル。
- 前記共通電極は、対応するデータ線と重畳して設けられ、前記共通電極は、不透光性導電金属層を備える、ことを特徴とする請求項13に記載の液晶表示パネル。
- 前記第1ビアホールと前記第2ビアホールは、前記走査線の両側に位置し、前記第1ビアホールは、前記走査線と前記第1画素電極との間、及び前記走査線と前記第2画素電極との間に位置する、ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 液晶表示装置であって、液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルにバックライトを供給するバックライトモジュールを備え、前記液晶表示パネルはアレイ基板を備え、前記アレイ基板は、複数の走査線、複数のデータ線、第1画素電極、第2画素電極、共通電極、第1ビアホール、及び第2ビアホールを備え、
前記複数の走査線と前記複数のデータ線は交差して複数の第1サブ画素領域及び複数の第2サブ画素領域を画定し、
前記第1画素電極は、前記第1サブ画素領域内に位置し、
前記第2画素電極は、前記第2サブ画素領域内に位置し、
前記共通電極は、隣接する2つの前記第1画素電極の間、及び隣接する第1画素電極と第2画素電極との間に位置し、
前記第1ビアホールは、前記第1サブ画素領域及び前記第2サブ画素領域内に位置し、前記第1ビアホールは、前記第1画素電極と前記データ線との間の電気的な接続、及び前記第2画素電極と前記データ線との間の電気的な接続を実現するために使用され、
前記第2ビアホールは、前記共通電極が前記第2ビアホールを介して電圧を受けるように、前記第2サブ画素領域内に位置する、ことを特徴とする液晶表示装置。
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