JP2018532741A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 一般式（Ｉ）で表される２−アルキル−４−トリフルオロメチル−３−アルキルスルホニル安息香酸を調製する方法であって、
   （ａ） 第１段階において、１，３−ジクロロ−２−アルキル−４−トリフルオロメチルベンゼンを、ニッケル化合物、ホスフィンリガンド及びさらなる金属の存在下でシアニド源と反応させて、ベンゾニトリルを形成させ；
   （ｂ） 第２段階において、該ベンゾニトリルを相間移動触媒の存在下でチオラートと反応させて、対応するチオエーテルを形成させ；
   （ｃ） 第３段階において、該ニトリル基を加水分解して、カルボキシル基とし；
   （ｄ） 第４段階において、該チオ基を、場合により酸化触媒の存在下で、酸化し；
   

   

   
   及び、
   （ｅ） ここで、置換基は、以下のように定義される：
   Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、互いに独立して、Ｃ_１−Ｃ_４−アルキル又は、クロロ、フルオロ、メトキシ及びエトキシからなる群から選択されるｓ個のラジカルで置換されているフェニルであり；
   Ｍは、リチウム、ナトリウム又はカリウムであり；
   ｎは、１又は２であり；
   ｓは、１、２又は３である；
   前記方法。
2. Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ、メチルである、請求項１に記載の方法。
3. シアニド源として、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化亜鉛、ヘキサシアノ鉄（ＩＩ）酸カリウム又はアセトンシアノヒドリンを使用する、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記シアニド源を、一般式（ＩＩ）で表される化合物に基づいて、１：１〜１．５：１のモル比で使用する、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
5. 前記ニッケル触媒を製造するために、一般式（ＩＩ）で表される化合物に基づいて、０．５〜５モル％の量の塩化ニッケル（ＩＩ）又は臭化ニッケル（ＩＩ）及び０．５〜１０モル％の量の前記ホスフィンリガンドを使用する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
6. ホスフィンリガンドとして、ビス（２−ジフェニルホスフィノフェニル）エーテル（ｄｐｅｐｈｏｓ）、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ｄｐｐｆ）又はｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）を、前記ニッケル化合物に基づいて１．５：１〜３：１のモル比で使用する、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
7. ホスフィンリガンドとして、ビス（２−ジフェニルホスフィノフェニル）エーテル（ｄｐｅｐｈｏｓ）を使用する、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
8. 還元剤として、式（ＩＩ）で表される化合物に基づいて、２〜１０モル％の亜鉛を使用する、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
9. いずれの場合にも一般式（Ｖａ）で表される化合物に基づいて、酸化触媒として、Ｎａ_２ＷＯ_４を５〜１５モル％の量で使用し、及び、過酸化水素を３〜８モル当量の量で使用する、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
10. 式（ＩＩａ）
    

    

    
    〔式中、Ｒ^１＊は、エチル、ｎ−プロピル又はフェニルである〕
    で表される化合物。
11. 式（ＩＩＩａ）：
    

    

    
    〔式中、Ｒ^１＊は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル又はｎ−ブチルである〕
    で表される化合物。
12. Ｒ^１＊がメチルである、請求項１１に記載の化合物。
13. 式（Ｖ）
    

    

    
    〔式中、
    Ｒ^１は、メチルであり；及び、
    Ｒ^２は、メチル又はエチルである〕
    で表される化合物。