JP2018522370A - 成形ワークピースホルダを伴うトロイダルプラズマ処理装置 - Google Patents
成形ワークピースホルダを伴うトロイダルプラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018522370A JP2018522370A JP2017560239A JP2017560239A JP2018522370A JP 2018522370 A JP2018522370 A JP 2018522370A JP 2017560239 A JP2017560239 A JP 2017560239A JP 2017560239 A JP2017560239 A JP 2017560239A JP 2018522370 A JP2018522370 A JP 2018522370A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- workpiece holder
- workpiece
- processing apparatus
- plasma processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/10—Heating of the reaction chamber or the substrate
- C30B25/105—Heating of the reaction chamber or the substrate by irradiation or electric discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32715—Workpiece holder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/272—Diamond only using DC, AC or RF discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
- C23C16/463—Cooling of the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/12—Substrate holders or susceptors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/16—Controlling or regulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/04—Diamond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/14—Feed and outlet means for the gases; Modifying the flow of the reactive gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
本願は、2015年5月21日に出願され、“Toroidal Plasma Processing Apparatus with a Shaped Workpiece Holder”と題された米国仮特許出願第62/165,148号の非仮出願である。米国仮特許出願第62/165,148号の全体の内容は、参照により本明細書中に援用される。
本出願人の教示は、種々の実施形態と併せて説明されたが、本出願人の教示をそのような実施形態に限定されることを意図するものではない。対照的に、本出願人の教示は、当業者によって理解されるように、本教示の精神および範囲から逸脱することなく、本明細書で行われ得る、種々の代替、修正、および均等物を包含する。
Claims (54)
- プラズマ処理装置であって、
a)プロセスチャンバを備える、トロイダル形状のプラズマ容器と、
b)前記トロイダル形状のプラズマ容器の一部を囲繞する、磁気コアと、
c)前記磁気コアに電気的に接続された出力を有するRF電力供給源であって、前記RF電力供給源は、前記磁気コアを励起させ、それによって、トロイダルプラズマループ放電を前記トロイダル形状のプラズマ容器内に形成する、RF電力供給源と、
d)成長の間、前記ワークピースを支持する、少なくとも1つの面を備える、ワークピースホルダと、
e)プラズマのある区分を前記トロイダルプラズマループ放電内に閉じ込め、成長の間、ワークピースを支持する、前記少なくとも1つの面の法線と略垂直に進行するように成形および定寸される、プラズマ誘導構造と、
を備える、プラズマ処理装置。 - 前記ワークピースホルダは、略円筒形形状に形成される、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダは、略六角形形状に形成される、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ誘導構造は、前記プラズマに暴露されるワークピース表面が前記プラズマの中心線から略等距離であるような形状に形成および定寸される、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマの中心線から前記ワークピースを支持する前記少なくとも1つの面までの距離は、約0.5cm〜2.5cmである、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマの中心線から前記ワークピースを支持する前記少なくとも1つの面までの距離は、約1.0cmである、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダは、モリブデン、モリブデンの合金、銅、アルミニウム、ニッケル、ステンレス鋼、ニッケルを含有する合金、タングステン、タングステンを含有する合金、窒化アルミニウム、および酸化アルミニウムから成る群から選択された材料から形成される、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダは、プラズマ処理のためのワークピースを支持するための陥凹付き部分を備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 成長の間、前記ワークピースを支持する前記少なくとも1つの面は、少なくとも1つの平坦面を備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 成長の間、前記ワークピースを支持する前記少なくとも1つの面は、少なくとも1つの丸みを帯びた面を備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 成長の間、前記ワークピースを支持する前記少なくとも1つの面は、少なくとも1つの管状形状の面を備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの外側部分は、視認ポートを備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記視認ポートに光学的に結合される、光学高温計をさらに備える、請求項12に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダへのプラズマアーク放電を阻止する、前記ワークピースホルダ上に位置付けられる電気絶縁材料をさらに備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダはさらに、少なくとも1つのガス導入開口を備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つのガス導入開口は、前記ワークピースホルダの表面上の少なくとも1つのサンプル搭載位置に近接して位置付けられる、請求項15に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダに取り付けられる、流体冷却温度コントローラをさらに備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記トロイダル形状のプラズマ容器を囲繞する、第2の磁気コアをさらに備える、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記RF電力供給源は、前記第2の磁気コアに電気的に接続された第2の出力を有する、請求項18に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の磁気コアに電気的に接続された出力を有する、第2のRF電力供給源をさらに備え、前記第2のRF電力供給源は、前記第2の磁気コアを励起させる、請求項18に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダは、個々のワークピースを固着させるための少なくとも1つの支柱を備える、請求項1に記載の方法。
- プロセスガスが、前記少なくとも1つの支柱に近接して供給される、請求項21に記載の方法。
- 前記ワークピースホルダはさらに、前記堆積の間、前記ワークピースを平行移動させる、結晶引上機を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記ワークピースホルダおよび前記プラズマ誘導構造は、同一構造である、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダおよび前記プラズマ誘導構造は、物理的に別個の構造である、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ誘導構造は、前記ワークピースの表面への原子水素の送達を改良するように位置付けられる、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理装置であって、
a)プロセスチャンバを備える、トロイダル形状のプラズマ容器と、
b)前記トロイダル形状のプラズマ容器の一部を囲繞する、磁気コアと、
c)前記磁気コアに電気的に接続された出力を有するRF電力供給源であって、前記RF電力供給源は、前記磁気コアを励起させ、それによって、トロイダルプラズマループ放電を前記トロイダル形状のプラズマ容器内に形成する、RF電力供給源と、
d)第1および第2の区分を備えるワークピースホルダであって、前記第1および第2の区分の各々は、プラズマのある区分を前記トロイダルプラズマループ放電内に閉じ込め、前記少なくとも1つの面の法線表面と略垂直に進行するように成形および定寸される、少なくとも1つの面を備える、ワークピースホルダと、
を備える、プラズマ処理装置。 - 前記ワークピースホルダの第1の区分は、前記ワークピースホルダの第1の半分を構成し、前記ワークピースホルダの第2の区分は、前記ワークピースホルダの第2の半分を構成する、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1の区分は、第1の材料から形成され、前記第2の区分は、前記第1の材料と異なる第2の材料から形成される、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分のうちの少なくとも1つは、耐熱金属から形成される、請求項28に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分は、略円筒形形状に形成される、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分は、略六角形形状に形成される、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分は、前記プラズマに暴露される表面が前記プラズマの中心線から略等距離であるような形状に形成および定寸される、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマの中心線から前記ワークピースホルダの第1および第2の区分の前記少なくとも1つの面までの距離は、約0.5cm〜2.5cmである、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマの中心線から前記ワークピースホルダの第1および第2の区分の前記少なくとも1つの面までの距離は、約1.0cmである、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダは、プラズマ処理のためのワークピースを支持するための陥凹付き部分を備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分上の少なくとも1つの面は、少なくとも1つの平坦面を備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分の前記少なくとも1つの面は、少なくとも1つの丸みを帯びた面を備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分の前記少なくとも1つの面は、少なくとも1つの管状形状の面を備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダはさらに、前記第1および第2の区分のうちの少なくとも1つ上に少なくとも1つのガス導入開口を備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ガス導入開口の少なくともいくつかは、前記ワークピースホルダの表面上の陥凹に近接して位置付けられる、請求項40に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ワークピースホルダの第1および第2の区分間に位置付けられる、高温間隔シムをさらに備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記トロイダル形状のプラズマ容器を囲繞する、第2の磁気コアをさらに備える、請求項27に記載のプラズマ処理装置。
- 前記RF電力供給源は、前記第2の磁気コアに電気的に接続された第2の出力を有する、請求項43に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の磁気コアに電気的に接続された出力を有する、第2のRF電力供給源をさらに備え、前記第2のRF電力供給源は、前記第2の磁気コアを励起させる、請求項43に記載のプラズマ処理装置。
- 単結晶ダイヤモンド材料を成長させるための方法であって、
a)プロセスチャンバを備える、トロイダル形状のプラズマ容器を提供するステップと、
b)磁気コアを前記トロイダル形状のプラズマ容器の一部を囲繞するように位置付けるステップと、
c)前記磁気コアをRF放射で励起させ、それによって、トロイダルプラズマループ放電を前記トロイダル形状のプラズマ容器内に形成するステップと、
d)成長の間、ワークピースを支持する少なくとも1つの面を備える、ワークピースホルダを提供するステップと、
e)プラズマのある区分を前記トロイダルプラズマループ内に閉じ込め、成長の間、前記ワークピースを支持する、前記少なくとも1つの面の法線と略垂直に進行するように成形および定寸される、プラズマ誘導構造を提供するステップと、
f)単結晶ダイヤモンド材料を前記ワークピース上に成長させるステップと、
を含む、方法。 - 成長の間、前記ワークピースホルダを平行移動させるステップをさらに含む、請求項46に記載の方法。
- 成長の間、前記ワークピースホルダを平行移動させる率は、前記単結晶ダイヤモンドの成長率と略等しい、請求項47に記載の方法。
- 前記ワークピース上の成長表面が、前記成長の間、略同一位置にあるように、前記ワークピースホルダを平行移動させるステップをさらに含む、請求項46に記載の方法。
- 少なくとも1つの位置においてプロセスガスを前記プロセスチャンバ内に導入するステップをさらに含む、請求項46に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの位置は、堆積条件を改良するように選定される、請求項50に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの位置は、前記プロセスチャンバの壁上の望ましくない堆積物を低減させるように選定される、請求項50に記載の方法。
- 冷却要素を前記ワークピースホルダに隣接して位置付け、前記ワークピースの温度を所望の動作温度に制御するステップをさらに含む、請求項46に記載の方法。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料を前記ワークピース上に成長させるステップは、前記単結晶ダイヤモンド材料を1.5センチメートルを上回る寸法まで成長させるステップを含む、請求項46に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562165148P | 2015-05-21 | 2015-05-21 | |
US62/165,148 | 2015-05-21 | ||
PCT/US2016/032799 WO2016187166A1 (en) | 2015-05-21 | 2016-05-16 | Toroidal plasma processing apparatus with a shaped workpiece holder |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018522370A true JP2018522370A (ja) | 2018-08-09 |
JP2018522370A5 JP2018522370A5 (ja) | 2019-06-13 |
Family
ID=57320516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017560239A Pending JP2018522370A (ja) | 2015-05-21 | 2016-05-16 | 成形ワークピースホルダを伴うトロイダルプラズマ処理装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10443150B2 (ja) |
EP (1) | EP3298619A4 (ja) |
JP (1) | JP2018522370A (ja) |
KR (1) | KR20180000721A (ja) |
CN (1) | CN107810542A (ja) |
IL (1) | IL255356A0 (ja) |
TW (2) | TW201738927A (ja) |
WO (1) | WO2016187166A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018204585A1 (de) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | centrotherm international AG | Plasmagenerator, Plasma-Behandlungsvorrichtung und Verfahren zum gepulsten Bereitstellen von elektrischer Leistung |
US11019715B2 (en) * | 2018-07-13 | 2021-05-25 | Mks Instruments, Inc. | Plasma source having a dielectric plasma chamber with improved plasma resistance |
CN116926500B (zh) * | 2023-07-20 | 2024-03-12 | 北方工业大学 | 一种沉积尺寸可调的环形金刚石化学气相沉积装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003506888A (ja) * | 1999-08-06 | 2003-02-18 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド | ガスおよび材料を処理する誘導結合環状プラズマ源装置およびその方法 |
JP2005116691A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | Cvd装置および有機絶縁膜の成膜方法 |
JP2013168675A (ja) * | 2013-05-08 | 2013-08-29 | Tokyo Electron Ltd | 処理容器およびプラズマ処理装置 |
US20140272108A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Plasmability, Llc | Toroidal Plasma Processing Apparatus |
US20150075431A1 (en) * | 2012-05-18 | 2015-03-19 | Veeco Instruments Inc. | Rotating Disk Reactor With Ferrofluid Seal For Chemical Vapor Deposition |
JP2015088573A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6238588B1 (en) | 1991-06-27 | 2001-05-29 | Applied Materials, Inc. | High pressure high non-reactive diluent gas content high plasma ion density plasma oxide etch process |
US5505780A (en) * | 1992-03-18 | 1996-04-09 | International Business Machines Corporation | High-density plasma-processing tool with toroidal magnetic field |
US5435900A (en) | 1992-11-04 | 1995-07-25 | Gorokhovsky; Vladimir I. | Apparatus for application of coatings in vacuum |
JP3234968B2 (ja) | 1995-06-20 | 2001-12-04 | 株式会社クボタ | 翼角自己制御型可動翼羽根車 |
US6815633B1 (en) | 1997-06-26 | 2004-11-09 | Applied Science & Technology, Inc. | Inductively-coupled toroidal plasma source |
US6924455B1 (en) | 1997-06-26 | 2005-08-02 | Applied Science & Technology, Inc. | Integrated plasma chamber and inductively-coupled toroidal plasma source |
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US6388226B1 (en) | 1997-06-26 | 2002-05-14 | Applied Science And Technology, Inc. | Toroidal low-field reactive gas source |
US7569790B2 (en) | 1997-06-26 | 2009-08-04 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US7166816B1 (en) | 1997-06-26 | 2007-01-23 | Mks Instruments, Inc. | Inductively-coupled torodial plasma source |
US6150628A (en) | 1997-06-26 | 2000-11-21 | Applied Science And Technology, Inc. | Toroidal low-field reactive gas source |
JP3938424B2 (ja) | 1997-11-21 | 2007-06-27 | 株式会社アルバック | ダイヤモンド薄膜製造装置 |
WO2000017906A2 (en) | 1998-09-22 | 2000-03-30 | Applied Materials, Inc. | Rf plasma etch reactor with internal inductive coil antenna and electrically conductive chamber walls |
US6392351B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-05-21 | Evgeny V. Shun'ko | Inductive RF plasma source with external discharge bridge |
US6418874B1 (en) | 2000-05-25 | 2002-07-16 | Applied Materials, Inc. | Toroidal plasma source for plasma processing |
US7294563B2 (en) | 2000-08-10 | 2007-11-13 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor on insulator vertical transistor fabrication and doping process |
US7430984B2 (en) | 2000-08-11 | 2008-10-07 | Applied Materials, Inc. | Method to drive spatially separate resonant structure with spatially distinct plasma secondaries using a single generator and switching elements |
EP1307896A2 (en) | 2000-08-11 | 2003-05-07 | Applied Materials, Inc. | Externally excited torroidal plasma source |
US6433260B1 (en) | 2000-10-30 | 2002-08-13 | Agrigenetics Inc. | Inbred corn line 6TR512 |
US6930025B2 (en) | 2001-02-01 | 2005-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Transparent conductive film formation process, photovoltaic device production process, transparent conductive film, and photovoltaic device |
US6583572B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-06-24 | Lam Research Corporation | Inductive plasma processor including current sensor for plasma excitation coil |
US20030141820A1 (en) * | 2002-01-30 | 2003-07-31 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for substrate processing |
KR101052395B1 (ko) | 2002-09-06 | 2011-07-28 | 엘리멘트 식스 리미티드 | 유색 다이아몬드 |
GB0227261D0 (en) | 2002-11-21 | 2002-12-31 | Element Six Ltd | Optical quality diamond material |
US6927358B2 (en) | 2003-01-31 | 2005-08-09 | Advanced Energy Industries, Inc. | Vacuum seal protection in a dielectric break |
US8409400B2 (en) | 2003-05-07 | 2013-04-02 | Gen Co., Ltd. | Inductive plasma chamber having multi discharge tube bridge |
JP4052476B2 (ja) | 2004-02-20 | 2008-02-27 | 三菱重工業株式会社 | SiN薄膜の製造方法 |
JP2006024442A (ja) | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Sharp Corp | 大気圧プラズマ処理装置及び処理方法 |
EP1831425B1 (en) | 2004-11-08 | 2011-07-13 | MKS Instruments, Inc. | Method of disposing metal bearing gases |
KR101121418B1 (ko) | 2005-02-17 | 2012-03-16 | 주성엔지니어링(주) | 토로이드형 코어를 포함하는 플라즈마 발생장치 |
SI1856702T1 (sl) | 2005-03-07 | 2012-11-30 | Univ California | Plazemski sistem za generiranje elektrike |
US7312162B2 (en) | 2005-05-17 | 2007-12-25 | Applied Materials, Inc. | Low temperature plasma deposition process for carbon layer deposition |
WO2009051597A1 (en) | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Mks Instruments, Inc. | Toroidal plasma chamber for high gas flow rate process |
CA2772178A1 (en) | 2009-08-27 | 2011-03-03 | Mosaic Crystals Ltd. | Penetrating plasma generating apparatus for high vacuum chambers |
GB201021865D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material |
JP5365816B2 (ja) | 2011-07-27 | 2013-12-11 | デクセリアルズ株式会社 | 絶縁被覆導電粒子 |
US20130118589A1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-05-16 | Mks Instruments, Inc. | Toroidal Plasma Channel with Varying Cross-Section Areas Along the Channel |
US20140062285A1 (en) | 2012-08-29 | 2014-03-06 | Mks Instruments, Inc. | Method and Apparatus for a Large Area Inductive Plasma Source |
CN105209156B (zh) * | 2013-03-14 | 2017-05-10 | Mks仪器股份有限公司 | 环形等离子体减少设备和方法 |
-
2016
- 2016-05-16 EP EP16797127.4A patent/EP3298619A4/en not_active Withdrawn
- 2016-05-16 JP JP2017560239A patent/JP2018522370A/ja active Pending
- 2016-05-16 KR KR1020177033416A patent/KR20180000721A/ko unknown
- 2016-05-16 WO PCT/US2016/032799 patent/WO2016187166A1/en active Application Filing
- 2016-05-16 US US15/155,599 patent/US10443150B2/en active Active
- 2016-05-16 CN CN201680036668.9A patent/CN107810542A/zh active Pending
- 2016-05-20 TW TW106123204A patent/TW201738927A/zh unknown
- 2016-05-20 TW TW105115721A patent/TWI602215B/zh active
-
2017
- 2017-10-31 IL IL255356A patent/IL255356A0/en unknown
-
2019
- 2019-08-30 US US16/557,712 patent/US10704161B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003506888A (ja) * | 1999-08-06 | 2003-02-18 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド | ガスおよび材料を処理する誘導結合環状プラズマ源装置およびその方法 |
JP2005116691A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | Cvd装置および有機絶縁膜の成膜方法 |
US20150075431A1 (en) * | 2012-05-18 | 2015-03-19 | Veeco Instruments Inc. | Rotating Disk Reactor With Ferrofluid Seal For Chemical Vapor Deposition |
US20140272108A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Plasmability, Llc | Toroidal Plasma Processing Apparatus |
JP2013168675A (ja) * | 2013-05-08 | 2013-08-29 | Tokyo Electron Ltd | 処理容器およびプラズマ処理装置 |
JP2015088573A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160340798A1 (en) | 2016-11-24 |
US20200010976A1 (en) | 2020-01-09 |
IL255356A0 (en) | 2017-12-31 |
CN107810542A (zh) | 2018-03-16 |
TW201738927A (zh) | 2017-11-01 |
WO2016187166A1 (en) | 2016-11-24 |
EP3298619A4 (en) | 2018-12-19 |
US10443150B2 (en) | 2019-10-15 |
US10704161B2 (en) | 2020-07-07 |
TW201707042A (zh) | 2017-02-16 |
KR20180000721A (ko) | 2018-01-03 |
EP3298619A1 (en) | 2018-03-28 |
TWI602215B (zh) | 2017-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9909215B2 (en) | Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus | |
US11488805B2 (en) | Microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material | |
US10407770B2 (en) | Large area optical quality synthetic polycrystalline diamond window | |
US4935303A (en) | Novel diamond-like carbon film and process for the production thereof | |
JP4873405B2 (ja) | プラズマ処理装置と方法 | |
US11702749B2 (en) | Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors | |
US10704161B2 (en) | Toroidal plasma processing apparatus with a shaped workpiece holder | |
KR101012910B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 그것에 이용하는 기판 가열 기구 | |
WO2007020810A1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3041844B2 (ja) | 成膜又はエッチング装置 | |
JP2007266595A (ja) | プラズマ処理装置及びそれに用いる基板加熱機構 | |
JP2018522370A5 (ja) | ||
TWI550709B (zh) | 具有邊線圈之電漿處理系統及該電漿處理系統相關之方法 | |
JP5039120B2 (ja) | プラズマ処理装置用のアルミナ部材及びプラズマ処理装置用のアルミナ部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190426 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190426 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20190426 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20190513 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190718 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200227 |