JP2018189898A - Laminate structure and molded body - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate structure and a molded body comprising a hue (especially, a blue color), and exhibiting a lacquer-state black color with high blackness.SOLUTION: A laminate structure comprises: a base material; and a laminate membrane arranged on the base material. The laminate membrane comprises: a light absorption layer which has an average extinction coefficient of being 0.01 or higher in whole area of a wavelength region of 400-700 nm; and an optical adjustment layer comprising a laminate formed by contacting and laminating a low refraction index dielectric layer having two or more dielectric layers arranged adjacently to the light absorption layer on an opposite side of the base material in view from the light absorption layer, and whose refraction indexes are different each other and exhibiting a relatively low refraction index between the two or more dielectric layers, and a high refraction index dielectric layer exhibiting a relatively high refraction index between two or more dielectric layers. In the laminate structure, R1>R2>R3, 4.0%<R1, R2, R3<6.0% are satisfied (average reflection ratio to incident light parallel to a lamination direction of a laminate in R1:400-500nm, R2:500-600nm and R3:600-700nm).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、積層構造体及び成形体に関する。   The present disclosure relates to a laminated structure and a molded body.

近年、自動車、又はスマートフォンもしくは腕時計等の電子製品などの分野の製品に対して、着色された色の濃度及び色相に優れるだけでなく、奥行き感という人間の感性に訴える質感が求められる場合がある。   In recent years, products in fields such as automobiles or electronic products such as smartphones or watches may not only be excellent in the density and hue of colored colors, but may also be required to have a texture that appeals to the human sense of depth. .

上記のような質感は、製品に与えられる意匠性に由来する場合が多く、製品の見た目の印象に大きく影響を与え、製品自体の商品価値を左右するものである。製品の見た目の質感は、製品の種類により異なり、例えば色合い又は見た目の光の反射度合い等によっても大きく異なることがある。   The texture as described above often comes from the design imparted to the product, greatly affects the visual impression of the product, and affects the commercial value of the product itself. The appearance texture of the product varies depending on the type of the product, and may vary greatly depending on, for example, the hue or the degree of light reflection.

上記に関連する技術として、例えば、ハードコート層に微粒子を含め、反射防止層の表面を凹凸形状にした防眩性ハードコートフィルムが開示され、防眩性に優れ、黒の濃さを向上させることが記載されている(例えば、特許文献1参照)。
また、蒸着光学多孔層として、誘電体材料で形成された反射率減衰層と金属材料で形成された光吸収膜と隠蔽膜と備えた着色製品が開示されている(例えば、特許文献2参照)。更に、熱伝導性及び絶縁性の観点から、薄片化黒鉛を含む薄片化黒鉛層を有する複合シート、及び波長400nm〜700nmでの表面反射率及び裏面反射率が1%以下である光吸収部、遮光部、光吸収部より成る光吸収部材が開示されている(例えば、特許文献3〜4参照)。
As a technique related to the above, for example, an antiglare hard coat film in which fine particles are included in the hard coat layer and the surface of the antireflection layer has an uneven shape is disclosed, which is excellent in antiglare property and improves the darkness of black. (For example, refer to Patent Document 1).
In addition, a colored product including a reflectance attenuation layer formed of a dielectric material, a light absorption film formed of a metal material, and a concealing film is disclosed as a vapor deposition optical porous layer (see, for example, Patent Document 2). . Furthermore, from the viewpoint of thermal conductivity and insulating properties, a composite sheet having a exfoliated graphite layer containing exfoliated graphite, and a light absorption part having a surface reflectance and a back surface reflectance of 1% or less at a wavelength of 400 nm to 700 nm, The light absorption member which consists of a light-shielding part and a light absorption part is disclosed (for example, refer patent documents 3-4).

特開2013−178534号公報JP 2013-178534 A 特開2013−37040号公報JP 2013-37040 A 特開2011−189700号公報JP 2011-189700 A 特開2006−201697号公報JP 2006-201697 A

上記のように、従来から、防眩性を高める技術、光の反射抑制もしくは隠蔽性の付与又は黒色調の付与を目的とした技術が検討されている。しかしながら、いずれの文献も、黒色の質感を高めることが考慮された技術とは言い難い。   As described above, conventionally, a technique for improving the antiglare property, a technique for suppressing reflection of light or providing concealment, or imparting a black tone has been studied. However, it is hard to say that any of these documents is a technique that considers enhancing the black texture.

特に黒色の質感に関しては、黒色の色合いに加え、立体成形物とした場合の奥行き感のある質感を付与するため、ただ単に濃い黒ということではなく、黒度が高く、色味が加わった黒の色相を呈し、かつ、反射像が鮮鋭に映る表面光沢を有するが防眩性があって反射光が抑えられた色調、いわゆる漆調黒色が求められている。   In particular, with regard to the black texture, in addition to the black hue, in order to give a texture with a sense of depth in the case of a three-dimensional molded product, it is not just a dark black, but a black with high blackness and added color. Therefore, there is a demand for a so-called lacquer-like black color that has a surface gloss that gives a reflected image sharp, but has anti-glare properties and reduced reflected light.

例えば自動車等の内外装に用いられる材料、装飾又は塗料は、車体を保護し、耐久性を向上させることを目的とすることが多いが、最近では、人間の感性に訴える外観品質(例えば、内装材の場合は見た目の高級感、又は塗料の場合は塗装質感)の向上に対する要求が高い。塗装された製品の外観上の質感を向上させるには、製品を観察した際に視認される奥行き感を強くすることが重要となる。
古くから良好な質感を有する製品の代表例として、漆塗りの製品が知られている。特に黒漆塗りは、製品に奥行き感を持たせ、高級感が付与されるとされている。ところが、黒漆塗りは、職人らによる伝統工芸的な手法であることから、工業的生産に適していない課題がある。
For example, materials, decorations or paints used for interior and exterior of automobiles and the like are often aimed at protecting the vehicle body and improving durability, but recently, appearance quality appealing to human sensitivity (for example, interiors) In the case of materials, there is a high demand for improvement in appearance, or in the case of paints, the coating texture. In order to improve the appearance of the painted product, it is important to increase the depth perceived when the product is observed.
A lacquered product has been known as a representative example of a product having a good texture for a long time. In particular, black lacquering is said to give the product a sense of depth and give it a high-class feel. However, black lacquer coating has a problem that is not suitable for industrial production because it is a traditional craft technique by craftsmen.

しかしながら、従来より黒色系の材料として広く使用されているカーボンブラック及びカーボンナノチューブ等の炭素材料を単に適用するだけでは、黒濃度こそ実現できても、上記したように、黒度が高く、色味が加わった黒の色相を呈し、かつ、反射像が鮮鋭に映る表面光沢を有するが防眩性があって反射光が抑えられた漆調黒色を再現することは困難である。
漆調の黒色が漆以外の材料で再現されることは、近年の需要に沿うものと考えられる。
However, simply applying carbon materials such as carbon black and carbon nanotubes that have been widely used as black materials in the past can achieve black density, but as described above, the blackness is high and the color tone is high. It is difficult to reproduce a lacquer-like black color that has a black hue with the addition of and has a surface gloss that gives a sharp reflected image, but has anti-glare properties and reduced reflected light.
Reproduction of lacquer-like black color with materials other than lacquer is considered to meet recent demand.

本開示は、上記に鑑みたものである。即ち、
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、色味(特に青味)を有し、かつ、黒度の高い漆調黒色を呈する積層構造体を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、色味(特に青味)を有し、かつ、黒度の高い漆調黒色を呈する成形体を提供することにある。
The present disclosure has been made in view of the above. That is,
The problem to be solved by an embodiment of the present invention is to provide a laminated structure that has a color (particularly bluish) and exhibits a lacquer-like black color with high blackness.
The problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a molded article having a color (particularly bluish) and exhibiting a lacquer-like black color with high blackness.

上記の課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 基材と、基材上に配置された積層膜と、を備え、積層膜は、
400nm〜700nmの波長域の全域における平均消衰係数が0.01以上である光吸収層と、光吸収層からみて基材とは反対側に光吸収層に隣接させて配置され、かつ、屈折率が互いに異なる2以上の誘電体層を含み、2以上の誘電体層の間で相対的に低い屈折率を有する低屈折率誘電体層と、2以上の誘電体層の間で相対的に高い屈折率を有する高屈折率誘電体層と、を互いに接触させて積層された積層体を含む光学調整層と、を有し、かつ、以下に示す式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満たす、黒色調の積層構造体。
R1>R2>R3 式a
4.0%<R1<6.0% 式b1
4.0%<R2<6.0% 式b2
4.0%<R3<6.0% 式b3
R1は、400nm〜500nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表し、R2は、500nm〜600nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表し、R3は、600nm〜700nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表す。
Specific means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A substrate and a laminated film disposed on the substrate,
A light absorption layer having an average extinction coefficient of 0.01 or more in the entire wavelength range of 400 nm to 700 nm, a light absorption layer disposed adjacent to the light absorption layer on the side opposite to the substrate, and refraction A low refractive index dielectric layer having two or more dielectric layers having different rates and having a relatively low refractive index between the two or more dielectric layers, and a relative relationship between the two or more dielectric layers; A high refractive index dielectric layer having a high refractive index, and an optical adjustment layer including a laminate laminated in contact with each other, and the following formulas a, b1, b2, and A black-toned laminated structure satisfying the formula b3.
R1>R2> R3 Formula a
4.0% <R1 <6.0% Formula b1
4.0% <R2 <6.0% Formula b2
4.0% <R3 <6.0% Formula b3
R1 represents an average reflectance with respect to incident light parallel to the stacking direction of the laminate in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, and R2 is incident parallel to the stacking direction of the stack in the wavelength range of 500 nm to 600 nm. The average reflectance with respect to light is represented, and R3 represents the average reflectance with respect to incident light parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 600 nm to 700 nm.

<2> 低屈折率誘電体層の屈折率は、光吸収層の屈折率より低く、かつ、高屈折率誘電体層の屈折率は、光吸収層の屈折率より高い<1>に記載の積層構造体である。
<3> 低屈折率誘電体層の屈折率が、1.55以下である<1>又は<2>に記載の積層構造体である。
<4> 高屈折率誘電体層の屈折率が、1.70以上である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<5> 高屈折率誘電体層の屈折率と低屈折率誘電体層の屈折率との差の絶対値が、0.3以上である<1>〜<4>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<6> S偏光に対する反射率Rsが、下記式を満たす<1>〜<5>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<2> The refractive index of the low refractive index dielectric layer is lower than the refractive index of the light absorbing layer, and the refractive index of the high refractive index dielectric layer is higher than the refractive index of the light absorbing layer. It is a laminated structure.
<3> The laminated structure according to <1> or <2>, wherein the refractive index of the low refractive index dielectric layer is 1.55 or less.
<4> The laminated structure according to any one of <1> to <3>, wherein the refractive index of the high refractive index dielectric layer is 1.70 or more.
<5> The absolute value of the difference between the refractive index of the high refractive index dielectric layer and the refractive index of the low refractive index dielectric layer is 0.3 or more, and is described in any one of <1> to <4> It is a laminated structure.
<6> The laminated structure according to any one of <1> to <5>, in which the reflectance Rs with respect to S-polarized light satisfies the following formula.

式中、θは、積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアンを満たし、Rs(θ)及びf(θ)は下記式で表される。   In the formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the stacked film, satisfies 0 radian ≦ θ ≦ π / 3 radian, and Rs (θ) and f (θ) are represented by the following equations.

式中、θは、積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアンを満たす。λは、入射する光の波長であり、単位はnmである。A、B、C、D及びEは、それぞれ、A=4.813×10−13、B=−1.606×10−9、C=2.049×10−6、D=−1.212×10−3、E=1.846である。
なお、λはλの2乗を表し、λはλの3乗を表し、λはλの4乗を表す。
In the formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the stacked film, and satisfies 0 radian ≦ θ ≦ π / 3 radian. λ is the wavelength of incident light, and its unit is nm. A, B, C, D, and E are respectively A = 4.813 × 10 −13 , B = −1.606 × 10 −9 , C = 2.049 × 10 −6 , and D = −1.212. × 10 −3 , E = 1.847.
Λ 2 represents the square of λ, λ 3 represents the third power of λ, and λ 4 represents the fourth power of λ.

<7> 光吸収層が、下記式c及び式dを満たす<1>〜<6>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
N1>N2>N3>1.55 式c
K1>K2>K3>0.01 式d
上記において、N1は、400nm〜500nmの波長域の平均屈折率を表し、N2は、500nm〜600nmの波長域の平均屈折率を表し、N3は、600nm〜700nmの波長域の平均屈折率を表すである。K1は、400nm〜500nmの波長域の平均消衰係数を表し、K2は、500nm〜600nmの波長域の平均消衰係数を表し、K3は、600nm〜700nmの波長域の平均消衰係数を表すである。
<8> 光吸収層の厚みが、2μm以上である<1>〜<7>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<9> 光学調整層が、SiO、SiN、及びAlから選ばれる少なくとも一つの化合物を含む<1>〜<8>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<10> 光学調整層中の積層体が、低屈折率誘電体層の少なくとも2層と高屈折率誘電体層の少なくとも2層とを含み、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とが交互に積層された4層以上の積層体である<1>〜<9>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<11> 基材に対して積層膜が配置された側の表面粗さRaの算術平均値が、30nm以下である<1>〜<10>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<12> 積層膜の、光吸収層と積層体との界面における界面粗さの算術平均値並びに低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層との界面における界面粗さの算術平均値が、30nm以下である<1>〜<11>のいずれか1つに記載の積層構造体である。
<13> <1>〜<12>のいずれか1つに記載の積層構造体が2次元又は3次元に成形されてなる成形体である。
<7> The laminated structure according to any one of <1> to <6>, in which the light absorption layer satisfies the following formula c and formula d.
N1>N2>N3> 1.55 formula c
K1>K2>K3> 0.01 Formula d
In the above, N1 represents the average refractive index in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, N2 represents the average refractive index in the wavelength range of 500 nm to 600 nm, and N3 represents the average refractive index in the wavelength range of 600 nm to 700 nm. It is. K1 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, K2 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and K3 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 600 nm to 700 nm. It is.
<8> The laminated structure according to any one of <1> to <7>, wherein the light absorption layer has a thickness of 2 μm or more.
<9> The laminated structure according to any one of <1> to <8>, in which the optical adjustment layer includes at least one compound selected from SiO 2 , SiN, and Al 2 O 3 .
<10> The laminate in the optical adjustment layer includes at least two low refractive index dielectric layers and at least two high refractive index dielectric layers, the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer. Is a laminated structure according to any one of <1> to <9>, which is a laminate of four or more layers alternately stacked.
<11> The laminated structure according to any one of <1> to <10>, wherein the arithmetic average value of the surface roughness Ra on the side where the laminated film is disposed with respect to the substrate is 30 nm or less. .
<12> The arithmetic average value of the interface roughness at the interface between the light absorption layer and the laminate and the arithmetic average value of the interface roughness at the interface between the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer of the laminated film are The laminated structure according to any one of <1> to <11>, which is 30 nm or less.
<13> A molded body obtained by molding the laminated structure according to any one of <1> to <12> in two dimensions or three dimensions.

本発明の一実施形態によれば、色味(特に青味)を有し、かつ、黒度の高い漆調黒色を呈する積層構造体が提供される。
本発明の他の実施形態によれば、色味(特に青味)を有し、かつ、黒度の高い漆調黒色を呈する成形体が提供される。
According to one embodiment of the present invention, there is provided a laminated structure having a color (particularly bluish) and exhibiting lacquer black with high blackness.
According to other embodiment of this invention, the molded object which has color (especially bluishness) and exhibits lacquer-like black with high blackness is provided.

本開示の積層構造体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the laminated structure of this indication. 実施例及び比較例の積層構造体の、400nm〜700nmの波長域における反射率を示す反射スペクトルである。It is a reflection spectrum which shows the reflectance in the wavelength range of 400 nm-700 nm of the laminated structure of an Example and a comparative example. 図2の部分拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 実施例1〜2の積層構造体の波長450nmでの反射率の入射角依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the incident angle dependence of the reflectance in wavelength 450nm of the laminated structure of Examples 1-2. 実施例1〜2の積層構造体の波長550nmでの反射率の入射角依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the incident angle dependence of the reflectance in wavelength 550nm of the laminated structure of Examples 1-2. 実施例1〜2の積層構造体の波長650nmでの反射率の入射角依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the incident angle dependence of the reflectance in wavelength 650nm of the laminated structure of Examples 1-2. Niモスアイ構造膜の光学特性を示すグラフである。It is a graph which shows the optical characteristic of Ni moth-eye structure film.

以下、本開示の積層構造体及び成形体について詳細に説明する。   Hereinafter, the laminated structure and the molded body of the present disclosure will be described in detail.

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。   In the present specification, a numerical range indicated using “to” means a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively. In a numerical range described in stages in the present disclosure, an upper limit value or a lower limit value described in a numerical range may be replaced with an upper limit value or a lower limit value in another numerical range. Further, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the values shown in the examples.

本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
In this specification, the amount of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. means.
In this specification, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in this term if the intended purpose of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. It is.

本明細書において、屈折率及び消衰係数は、特に断りがない限り、波長550nmで分光エリプソメトリー法によって測定される値である。
また、平均屈折率及び平均消衰係数とは、特定の波長領域において、分光エリプソメトリー法により10nm以下で等間隔に測定した測定値を測定点の数で除した平均の値である。
In this specification, the refractive index and the extinction coefficient are values measured by a spectroscopic ellipsometry method at a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.
The average refractive index and the average extinction coefficient are average values obtained by dividing the measured values measured at equal intervals of 10 nm or less by a spectroscopic ellipsometry method by the number of measurement points in a specific wavelength region.

<積層構造体>
本開示の積層構造体は、基材と、基材上に配置された積層膜と、を備えており、積層膜は、400nm〜700nmの波長域の全域における平均消衰係数が0.01以上である光吸収層と、光吸収層からみて基材とは反対側に光吸収層に隣接させて配置された光学調整層と、を有する積層構造を含み、かつ、以下に示す式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満たすものである。
R1>R2>R3 式a
4.0%<R1<6.0% 式b1
4.0%<R2<6.0% 式b2
4.0%<R3<6.0% 式b3
本開示における光学調整層は、屈折率が互いに異なる2以上の誘電体層を含み、2以上の誘電体層の間で相対的に低い屈折率を有する低屈折率誘電体層と、2以上の誘電体層の間で相対的に高い屈折率を有する高屈折率誘電体層と、を互いに接触させて(例えば3層以上からなる場合は低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とが交互に)積層された積層体を含む。
ここで、上記の式中におけるR1、R2及びR3はそれぞれ以下の通りである。
R1は、400nm〜500nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
R2は、500nm〜600nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
R3は、600nm〜700nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
<Laminated structure>
The multilayer structure of the present disclosure includes a base material and a multilayer film disposed on the base material, and the multilayer film has an average extinction coefficient of 0.01 or more in the entire wavelength range of 400 nm to 700 nm. A light-absorbing layer, and an optical adjustment layer disposed adjacent to the light-absorbing layer on the side opposite to the substrate as viewed from the light-absorbing layer, and a formula a shown below, and , Expression b1, Expression b2, and Expression b3 are satisfied.
R1>R2> R3 Formula a
4.0% <R1 <6.0% Formula b1
4.0% <R2 <6.0% Formula b2
4.0% <R3 <6.0% Formula b3
The optical adjustment layer in the present disclosure includes two or more dielectric layers having different refractive indexes, a low refractive index dielectric layer having a relatively low refractive index between the two or more dielectric layers, and two or more dielectric layers. A high refractive index dielectric layer having a relatively high refractive index between the dielectric layers is brought into contact with each other (for example, in the case of three or more layers, a low refractive index dielectric layer and a high refractive index dielectric layer (Including alternating layers).
Here, R1, R2 and R3 in the above formula are as follows.
R1 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
R2 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 500 nm to 600 nm.
R3 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength region of 600 nm to 700 nm.

本開示において、「2以上の誘電体層の間で相対的に低い屈折率を有する」又は「2以上の誘電体層の間で相対的に高い屈折率を有する」とは、積層体を形成している低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層との関係を示しており、複数の誘電体間の屈折率を対比した場合の屈折率の相対的な大小関係を指す。即ち、積層体に含まれる複数の誘電体層の各屈折率を対比した際、ある特定の誘電体層が、他の誘電体層に対して高い又は低い屈折率を有していることを意味している。   In the present disclosure, “having a relatively low refractive index between two or more dielectric layers” or “having a relatively high refractive index between two or more dielectric layers” forms a laminate. The relationship between the low-refractive index dielectric layer and the high-refractive index dielectric layer is a relative magnitude relationship of the refractive index when the refractive indexes between a plurality of dielectrics are compared. That is, when comparing the refractive indexes of a plurality of dielectric layers included in a laminate, it means that a specific dielectric layer has a higher or lower refractive index than other dielectric layers. doing.

従来から、入射される光の吸収を抑制もしくは防止する技術、又は防眩性を付与する技術、あるいは反射光がメタリック調に見えないように反射光を減衰させてダーク調黒色を得る技術など、種々の検討がなされるに至っている。
しかしながら、例えば特許文献1のように、単に防眩性を得るために、微粒子を用いたり、表面に凹凸形状を付与すると、防眩効果こそ期待できるが、表面性状が艶消し状になって光沢感が著しく損なわれ、結果、見た目の奥行き感も低下しやすい。また、特許文献2〜4に記載の発明でも、反射光に対する減衰効果は得られると考えられるが、単に反射光を減衰しても、艶がなくなり、奥行き感が得られなくなるに過ぎない。
このように、表面に粒子が存在したり凹凸形状が形成される等により、入射した光が表面で散乱しやすい場合には、光沢の低下を招くばかりか、奥行き感も低下すると考えられる。従来より提案されている技術では、艶のある光沢を再現しつつ、しかも黒色の濃淡によるのではなく、漆調黒色が有する、色味が加わった黒の色相を呈し、かつ、奥行き感のある色調を実現する技術までは提供されるに至っていないのが実情である。
Conventionally, a technique for suppressing or preventing absorption of incident light, a technique for imparting anti-glare properties, or a technique for obtaining a dark black color by attenuating reflected light so that the reflected light does not look metallic. Various studies have been made.
However, for example, as in Patent Document 1, if fine particles are used or an uneven shape is imparted to the surface in order to obtain antiglare properties, the antiglare effect can be expected, but the surface properties become matte and glossy. The feeling is significantly impaired, and as a result, the visual depth is likely to be lowered. Also, the inventions described in Patent Documents 2 to 4 are considered to obtain an attenuation effect on the reflected light, but even if the reflected light is simply attenuated, the luster is lost and a sense of depth cannot be obtained.
As described above, when incident light is likely to be scattered on the surface due to the presence of particles on the surface or the formation of irregularities, it is considered that not only the gloss is lowered but also the feeling of depth is lowered. The technology that has been proposed in the past reproduces the glossy luster and does not depend on the shade of black, but has a black hue with a tint that has a lacquer-like black color, and has a sense of depth. The reality is that no technology to achieve the color tone has been provided.

例えば黒漆塗りの場合、適度の光沢があることで艶のある表面性を発現し、これにより奥行き感が得られていると考えられる。更に、黒色に色味を持たせると、奥行き感が高まることに加え、色味のある黒色調となって高級感のある色相になると考えられる。
本開示は、上記に鑑み、基材上に積層膜を設けるにあたり、光吸収層と屈折率が大小異なる複数の誘電体層を含む光学調整層とを設け、かつ、波長域400nm〜500nmの平均反射率R1、波長域500nm〜600nmの平均反射率R2、及び波長域600nm〜700nmの平均反射率R3が、R1>R2>R3の関係を満たし、更にR1、R2及びR3の全てが4.0%〜6.0%に調整される。これにより、黒色は、単に黒色が濃く光沢があるだけの質感とは異なり、色味(例えば青味)がかった黒調を呈し、反射像が鮮鋭に映るが防眩作用が得られる程度に反射率が抑えられて奥行き感のある色合いとして現れる。そのため、いわゆる漆塗りされた製品に近い高級感が得られる効果がある。
このように、本開示の積層構造体は、黒度が高く、かつ、漆調の黒色が再現されたものとなる。
For example, in the case of black lacquer coating, it is considered that a glossy surface property is expressed due to an appropriate glossiness, and thereby a sense of depth is obtained. Furthermore, when black is given a color, in addition to an increase in the sense of depth, it is considered that the hue becomes black with a hue and a high-grade hue.
In view of the above, the present disclosure provides a light absorption layer and an optical adjustment layer including a plurality of dielectric layers having different refractive indexes when providing a laminated film on a substrate, and an average wavelength range of 400 nm to 500 nm. The reflectance R1, the average reflectance R2 in the wavelength region 500 nm to 600 nm, and the average reflectance R3 in the wavelength region 600 nm to 700 nm satisfy the relationship R1>R2> R3, and all of R1, R2, and R3 are 4.0. % To 6.0%. As a result, unlike black, which is simply dark and glossy, black has a black tone with a tint (for example, bluish), and the reflected image is sharp but reflected to the extent that an anti-glare effect is obtained. The rate is suppressed and appears as a color with a sense of depth. Therefore, there is an effect that a high-class feeling close to a so-called lacquered product can be obtained.
Thus, the laminated structure of the present disclosure has a high blackness and a lacquer-like black color.

本開示の積層構造体は、以下に示す式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満たすものである。
R1>R2>R3 式a
4.0%<R1<6.0% 式b1
4.0%<R2<6.0% 式b2
4.0%<R3<6.0% 式b3
各式において、R1、R2及びR3の詳細は、以下の通りである。
R1は、400nm〜500nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
R2は、500nm〜600nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
R3は、600nm〜700nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光(誘電体層の表面に対する垂直入射光)に対する平均反射率を表す。
The laminated structure of the present disclosure satisfies the following formula a, and formulas b1, b2, and b3.
R1>R2> R3 Formula a
4.0% <R1 <6.0% Formula b1
4.0% <R2 <6.0% Formula b2
4.0% <R3 <6.0% Formula b3
In each formula, details of R1, R2, and R3 are as follows.
R1 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
R2 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 500 nm to 600 nm.
R3 represents an average reflectance with respect to incident light (perpendicular incident light with respect to the surface of the dielectric layer) parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength region of 600 nm to 700 nm.

本開示の積層構造体では、R1、R2及びR3が式aの関係を満たし、400nm〜700nmの波長域における短波長側ほど平均反射率が大きくなっている。したがって、本開示の積層構造体は、400nm〜500nmに近い側の反射が強く、黒色に青味が加わった色味のある黒色調を有している。これにより、漆調黒色の色合いに似た色調を呈するものとなる。   In the laminated structure of the present disclosure, R1, R2, and R3 satisfy the relationship of formula a, and the average reflectance increases as the wavelength becomes shorter in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. Therefore, the laminated structure according to the present disclosure has strong black color tone with strong reflection on the side close to 400 nm to 500 nm and a bluish color added to black. Thereby, the color tone similar to the shade of lacquer tone black is exhibited.

また、R1、R2及びR3は、式b1〜式b3を満たし、いずれも4.0%を超え6.0%未満の範囲である。つまり、400nm〜700nmの波長域の平均反射率が4.0%を超えていることで、艶消し状の黒調にならず、適度に艶のある黒色調が得られる。また、400nm〜700nmの波長域の平均反射率が6.0%未満であることで、反射像が鮮鋭に映るが防眩作用が得られる程度に反射率が抑えられ、奥行き感のある色合いが得られる。
上記と同様の理由から、R1、R2及びR3は、以下の式b4、式b5及び式b6を満たす場合がより好ましい。
5.0%<R1<6.0% 式b4
4.0%<R2<5.0% 式b5
4.0%<R3<5.0% 式b6
R1, R2 and R3 satisfy the formulas b1 to b3, and all are in the range of more than 4.0% and less than 6.0%. In other words, when the average reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm exceeds 4.0%, a matte black tone is obtained instead of a matte black tone. In addition, when the average reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is less than 6.0%, the reflected image is sharply reflected but the reflectance is suppressed to such an extent that an antiglare effect is obtained, and a hue with a feeling of depth is obtained. can get.
For the same reason as described above, it is more preferable that R1, R2, and R3 satisfy the following formulas b4, b5, and b6.
5.0% <R1 <6.0% formula b4
4.0% <R2 <5.0% formula b5
4.0% <R3 <5.0% formula b6

本開示の積層構造体の平均反射率は、以下の方法により測定される。
積層構造体に対し、積層体の基材から最も遠い位置に配置された最外層をなす誘電体層の表面に対し、反射分光膜厚計(大塚電子株式会社)を用いて、400nm〜500nmの波長域での平均反射率R1、500nm〜600nmの波長域での平均反射率R2、及び600nm〜700nmの波長域での平均反射率R3を測定する。各平均反射率は、各々の波長範囲内における、例えば1nm毎に測定した反射率の合計を、その測定点の数で除した値として求められる。
The average reflectance of the laminated structure of the present disclosure is measured by the following method.
Using a reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics Co., Ltd.) with respect to the surface of the dielectric layer that forms the outermost layer arranged at the position farthest from the base material of the laminated body, the laminated structure is 400 nm to 500 nm. The average reflectance R1 in the wavelength region, the average reflectance R2 in the wavelength region of 500 nm to 600 nm, and the average reflectance R3 in the wavelength region of 600 nm to 700 nm are measured. Each average reflectance is calculated | required as a value which remove | divided the total of the reflectance measured for every 1 nm within each wavelength range by the number of the measurement points.

本開示の積層構造体は、例えば、図1に示す積層構造を有するものでもよい。図1は、本開示の積層構造体の一例を示す概略断面図である。
積層構造体100は、図1に示すように、基材30の上に、光学調整層22と光吸収層24とを含む積層構造を有する積層膜20が設けられており、さらに光学調整層22は、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とが交互に配置された、高屈折率誘電体層12、低屈折率誘電体層14、高屈折率誘電体層16、及び低屈折率誘電体層18の4層の誘電体層からなる積層体で形成されている。
The laminated structure of the present disclosure may have, for example, the laminated structure shown in FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a laminated structure according to the present disclosure.
As shown in FIG. 1, the laminated structure 100 is provided with a laminated film 20 having a laminated structure including an optical adjustment layer 22 and a light absorption layer 24 on a base material 30, and further the optical adjustment layer 22. Are a high refractive index dielectric layer 12, a low refractive index dielectric layer 14, a high refractive index dielectric layer 16, and a low refractive index, in which high refractive index dielectric layers and low refractive index dielectric layers are alternately arranged. The dielectric constant layer 18 is formed of a laminate composed of four dielectric layers.

−積層膜−
本開示における積層膜は、400nm〜700nmの波長域の全域における平均消衰係数が0.01以上である光吸収層と、光吸収層の基材を有する側とは反対側に光吸収層に隣接させて配置された光学調整層と、を有する積層構造を含み、光吸収層と光学調整層との間に接触界面を有している。
-Laminated film-
The laminated film in the present disclosure has a light absorption layer having an average extinction coefficient of 0.01 or more in the entire wavelength range of 400 nm to 700 nm, and a light absorption layer on the side opposite to the side having the base material of the light absorption layer. A laminated structure having an optical adjustment layer disposed adjacent to each other, and has a contact interface between the light absorption layer and the optical adjustment layer.

積層膜中には、光吸収層を少なくとも1層有していればよく、必要に応じて、2層以上の光吸収層が設けられてもよい。この場合、2層以上の光吸収層の各層は、400nm〜700nmの波長域において、互いに平均消衰係数が異なる光吸収層であってもよい。   The laminated film only needs to have at least one light absorption layer, and two or more light absorption layers may be provided as necessary. In this case, each of the two or more light absorption layers may be a light absorption layer having different average extinction coefficients in the wavelength region of 400 nm to 700 nm.

(光吸収層)
本開示における積層膜は、400nm〜700nmの波長域の全域における平均消衰係数が0.01以上である光吸収層を有する。平均消衰係数が0.01以上であることは、光吸収層が吸光のある層であり、透明性の層でないことを指しており、本開示における光吸収層は、400nm〜700nmの波長域の全域に亘って吸収を有している。
(Light absorption layer)
The laminated film in the present disclosure has a light absorption layer having an average extinction coefficient of 0.01 or more in the entire wavelength range of 400 nm to 700 nm. An average extinction coefficient of 0.01 or more indicates that the light absorption layer is a light absorbing layer and not a transparent layer, and the light absorption layer in the present disclosure has a wavelength range of 400 nm to 700 nm. It has absorption over the whole area.

消衰係数は、複素屈折率中の屈折率以外の虚数成分であり、波長λ〜波長λにおける平均屈折率N及び平均消衰係数Kは、以下により定義される。
平均屈折率及び平均消衰係数は、波長λ〜λにおける平均値として求められる。
具体的には、平均屈折率及び平均消衰係数は、400nm〜700nmの波長域において例えば1nm毎に300点の屈折率又は消衰係数を分光エリプソメトリー法により測定し、測定された値を平均して求められる。又は、平均屈折率及び平均消衰係数は、上記のように測定された値から近似曲線(屈折率分散曲線)n(λ)を求め、下記の式に基づいて算出される。
The extinction coefficient is an imaginary component other than the refractive index in the complex refractive index, and the average refractive index N i and the average extinction coefficient K i in the wavelengths λ 1 to λ 2 are defined as follows.
The average refractive index and the average extinction coefficient are obtained as average values at wavelengths λ 1 to λ 2 .
Specifically, the average refractive index and the average extinction coefficient are measured by spectroscopic ellipsometry, for example, by measuring 300 refractive indexes or extinction coefficients every 1 nm in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, and averaging the measured values. Is required. Alternatively, the average refractive index and the average extinction coefficient are calculated based on the following formula by obtaining an approximate curve (refractive index dispersion curve) n (λ) from the values measured as described above.


光吸収層は、金属を主成分とする材料を含む層でないことが好ましい。ここで、主成分とは、金属元素の層中における含有比率が50質量%以上であることをいう。   The light absorption layer is preferably not a layer containing a material containing metal as a main component. Here, the main component means that the content ratio of the metal element in the layer is 50% by mass or more.

光吸収層としては、平均消衰係数が0.01以上の材料を用いて形成することができる。平均消衰係数が0.01以上の材料としては、例えば、光学素子用の反射防止黒色塗料、レンズ用黒墨材料等の黒色塗料などを用いることができる。平均消衰係数が0.01以上の材料としては、上市されている市販品を用いてもよく、市販品の例として、光学黒墨GT−1000(キヤノン化成株式会社)等が挙げられる。   The light absorption layer can be formed using a material having an average extinction coefficient of 0.01 or more. As the material having an average extinction coefficient of 0.01 or more, for example, a black paint such as an anti-reflection black paint for optical elements or a black ink material for lenses can be used. As a material having an average extinction coefficient of 0.01 or more, a commercially available product may be used, and examples of the commercially available product include optical black ink GT-1000 (Canon Kasei Co., Ltd.).

光吸収層は、下記の式c及び式dを満たす態様が好ましい。
N1>N2>N3>1.55 式c
K1>K2>K3>0.01 式d
N1は、400nm〜500nmの波長域の平均屈折率を表し、N2は、500nm〜600nmの波長域の平均屈折率を表し、N3は、600nm〜700nmの波長域の平均屈折率を表す。K1は、400nm〜500nmの波長域の平均消衰係数を表し、K2は、500nm〜600nmの波長域の平均消衰係数を表し、K3は、600nm〜700nmの波長域の平均消衰係数を表す。
The light-absorbing layer preferably has an aspect that satisfies the following formulas c and d.
N1>N2>N3> 1.55 formula c
K1>K2>K3> 0.01 Formula d
N1 represents an average refractive index in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, N2 represents an average refractive index in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and N3 represents an average refractive index in a wavelength range of 600 nm to 700 nm. K1 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, K2 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and K3 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 600 nm to 700 nm. .

上記の式c及び式dを満たすことにより、後述の光学調整層の積層数を減らしつつ、良好な奥行き感のある黒色調が得られやすい。そのため、製造適性も向上する。   By satisfy | filling said Formula c and Formula d, the black tone with a favorable depth feeling is easy to be obtained, reducing the lamination number of the below-mentioned optical adjustment layer. Therefore, the manufacturing suitability is also improved.

本開示の積層構造体では、N1、N2及びN3が式cの関係を満たし、400nm〜700nmの波長域における短波長側ほど平均屈折率が大きいことが好ましい。即ち、本開示の積層構造体は、式cを満たし、400nm〜500nmに近い側の屈折率が高くなるように調整することにより、黒色に青味が加わった色味のある黒色調を実現しやすい。これにより、光学調整層での屈折率の調整が容易になり、結果、漆調黒色の色合いに似た色調に調整しやすくなる。
上記と同様の理由から、N1、N2及びN3は、以下の式c1を満たす場合がより好ましい。
N1>N2>N3>1.60 式c1
In the laminated structure of the present disclosure, it is preferable that N1, N2, and N3 satisfy the relationship of formula c, and that the average refractive index is larger toward the shorter wavelength side in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. That is, the laminated structure of the present disclosure satisfies the formula c and realizes a black tone with a tint in which bluish color is added to black by adjusting the refractive index on the side close to 400 nm to 500 nm. Cheap. Thereby, adjustment of the refractive index in an optical adjustment layer becomes easy, and it becomes easy to adjust to the color tone similar to the lacquer-like black hue as a result.
For the same reason as described above, it is more preferable that N1, N2, and N3 satisfy the following expression c1.
N1>N2>N3> 1.60 Formula c1

本開示の積層構造体では、K1、K2及びK3が式dの関係を満たし、400nm〜700nmの波長域における短波長側ほど平均消衰係数が大きいことが好ましい。即ち、本開示の積層構造体は、式dを満たし、400nm〜500nmに近い側ほど平均消衰係数が高くなるように調整されることにより、黒色に青味が加わった色味のある黒色調を実現しやすい。これにより、光学調整層での屈折率の調整が容易になり、結果、漆調黒色の色合いに似た色調に調整しやすくなる。
上記と同様の理由から、K1、K2及びK3は、以下の式d1を満たす場合がより好ましい。
K1>K2>K3>0.02 式d1
In the laminated structure of the present disclosure, it is preferable that K1, K2, and K3 satisfy the relationship of formula d, and that the average extinction coefficient is larger toward the shorter wavelength side in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. That is, the multilayer structure of the present disclosure satisfies the formula d, and is adjusted so that the average extinction coefficient becomes higher toward the side closer to 400 nm to 500 nm, so that a black tone with a tint in which bluish color is added to black is obtained. It is easy to realize. Thereby, adjustment of the refractive index in an optical adjustment layer becomes easy, and it becomes easy to adjust to the color tone similar to the lacquer-like black hue as a result.
For the same reason as described above, it is more preferable that K1, K2, and K3 satisfy the following formula d1.
K1>K2>K3> 0.02 Formula d1

光吸収層の厚みとしては、2μm以上の範囲であることが好ましい。
光吸収層の厚みが2μm以上であると、黒の色相を確保するだけでなく、光に対する吸収性をより高めることができる。
光吸収層の厚みとしては、4μm以上がより好ましい。また、光吸収層の厚みの上限値は、特に制限はなく、例えば200μm以下としてもよい。
The thickness of the light absorption layer is preferably in the range of 2 μm or more.
When the thickness of the light absorption layer is 2 μm or more, not only a black hue can be secured, but also the light absorption can be further improved.
The thickness of the light absorption layer is more preferably 4 μm or more. Moreover, the upper limit of the thickness of the light absorption layer is not particularly limited, and may be, for example, 200 μm or less.

(光学調整層)
本開示における積層膜は、既述の光吸収層の基材を有する側とは反対側に、光吸収層に隣接させて配置された光学調整層を有する。
本開示における光学調整層は、屈折率が互いに異なる2以上の誘電体層を含み、2以上の誘電体層の間で相対的に低い屈折率を有する低屈折率誘電体層と、2以上の誘電体層の間で相対的に高い屈折率を有する高屈折率誘電体層と、が積層された積層体を有する。
(Optical adjustment layer)
The laminated film in the present disclosure has an optical adjustment layer disposed adjacent to the light absorption layer on the side opposite to the side having the base material of the light absorption layer described above.
The optical adjustment layer in the present disclosure includes two or more dielectric layers having different refractive indexes, a low refractive index dielectric layer having a relatively low refractive index between the two or more dielectric layers, and two or more dielectric layers. A high refractive index dielectric layer having a relatively high refractive index between the dielectric layers is laminated.

光学調整層は、400nm〜700nmの波長域における平均消衰係数が0.01未満である層であることが好ましい。
光学調整層は、2層以上含まれることが好ましく、より好ましくは3層以上である。光学調整層は、積層体を有する積層構造となっており、積層構造体の反射スペクトルを調整して奥行き感を発現させる役割を担う。
光学調整層による反射スペクトルの調整は、積層体を形成する複数の誘電体層の膜厚及び屈折率を最適化することにより行うことができる。
The optical adjustment layer is preferably a layer having an average extinction coefficient of less than 0.01 in a wavelength range of 400 nm to 700 nm.
The optical adjustment layer is preferably included in two or more layers, and more preferably in three or more layers. The optical adjustment layer has a laminated structure having a laminated body, and plays a role of adjusting the reflection spectrum of the laminated structure to express a sense of depth.
Adjustment of the reflection spectrum by the optical adjustment layer can be performed by optimizing the film thickness and refractive index of the plurality of dielectric layers forming the laminate.

低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層は、それぞれ少なくとも1層有していればよい。光学調整層は、低屈折率誘電体層及び高屈折率誘電体層の双方をそれぞれ2層以上有する4層以上の誘電体層を含む積層体、又は低屈折率誘電体層及び高屈折率誘電体層の一方を1層有し、かつ、他方が2層以上の層からなり、全体として3層以上の誘電体層を含む積層体であってもよい。
また、積層体中の低屈折率誘電体層及び高屈折率誘電体層の数は、それぞれ偶数層でも奇数層でもよい。積層体中の低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とは、同数であってもよいし、異なる数で含まれた態様であってもよい。
Each of the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer may have at least one layer. The optical adjustment layer is a laminate including four or more dielectric layers each having two or more low refractive index dielectric layers and high refractive index dielectric layers, or a low refractive index dielectric layer and a high refractive index dielectric. It may be a laminated body having one body layer, the other being composed of two or more layers, and including three or more dielectric layers as a whole.
Further, the number of the low-refractive index dielectric layers and the high-refractive index dielectric layers in the laminate may be an even layer or an odd layer, respectively. The number of the low-refractive index dielectric layers and the high-refractive index dielectric layers in the stacked body may be the same or different numbers.

好ましい光学調整層は、4層以上の誘電体層を含む積層体を有する態様である。
中でも、光学調整層は、低屈折率誘電体層の少なくとも2層と高屈折率誘電体層の少なくとも2層とを含み、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とが交互に積層された4層以上の積層体とされている態様が好ましい。
上記態様であると、奥行き感に優れたものとなり、しかも製造上も容易である。
A preferred optical adjustment layer is an embodiment having a laminate including four or more dielectric layers.
In particular, the optical adjustment layer includes at least two low refractive index dielectric layers and at least two high refractive index dielectric layers, and the low refractive index dielectric layers and the high refractive index dielectric layers are alternately stacked. The aspect made into the laminated body of four or more layers made is preferable.
In the above aspect, the depth is excellent, and the manufacturing is easy.

低屈折率誘電体層の屈折率が、光吸収層の屈折率より低く、かつ、高屈折率誘電体層の屈折率が、光吸収層の屈折率より高い場合が好ましい。
光吸収層の屈折率を中心として低屈折率側と高屈折率側とを、屈折率の異なる複数の誘電体層によって調整されるので、層数を少なく抑えながら、色味のある黒色調が得られやすく、かつ、奥行き感のある色調に調整しやすい。
Preferably, the refractive index of the low refractive index dielectric layer is lower than the refractive index of the light absorbing layer, and the refractive index of the high refractive index dielectric layer is higher than the refractive index of the light absorbing layer.
The low refractive index side and the high refractive index side with the refractive index of the light absorbing layer as the center are adjusted by a plurality of dielectric layers having different refractive indexes, so that a black tone with a tint can be achieved while reducing the number of layers. It is easy to obtain and easy to adjust to a deep color tone.

低屈折率誘電体層の屈折率としては、1.55以下の範囲であることが好ましい。
低屈折率誘電体層の屈折率が1.55以下であると、高屈折率誘電体層との間の屈折率差を確保しやすく、色味と奥行き感のある漆調黒色に調整しやすい。
The refractive index of the low refractive index dielectric layer is preferably in the range of 1.55 or less.
When the refractive index of the low refractive index dielectric layer is 1.55 or less, it is easy to secure a difference in refractive index from the high refractive index dielectric layer, and it is easy to adjust to a lacquer-like black color with a sense of color and depth. .

高屈折率誘電体層の屈折率としては、1.70以上の範囲であることが好ましい。
高屈折率誘電体層の屈折率が1.70以上であると、低屈折率誘電体層との間の屈折率差を確保しやすく、色味と奥行き感のある漆調黒色に調整しやすい。
The refractive index of the high refractive index dielectric layer is preferably in the range of 1.70 or more.
When the refractive index of the high refractive index dielectric layer is 1.70 or more, it is easy to secure a refractive index difference from the low refractive index dielectric layer, and it is easy to adjust to a lacquer-like black color with a sense of color and depth. .

高屈折率誘電体層の屈折率と低屈折率誘電体層の屈折率との差の絶対値は、0.3以上であることが好ましい。
高屈折率誘電体層の屈折率と低屈折率誘電体層の屈折率との差の絶対値が0.3以上であると、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層との間の屈折率差を確保しやすく、色味と奥行き感のある漆調黒色に調整しやすい。
The absolute value of the difference between the refractive index of the high refractive index dielectric layer and the refractive index of the low refractive index dielectric layer is preferably 0.3 or more.
When the absolute value of the difference between the refractive index of the high refractive index dielectric layer and the refractive index of the low refractive index dielectric layer is 0.3 or more, the gap between the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer is It is easy to secure the difference in refractive index and easily adjust to lacquer-like black with a sense of color and depth.

S偏光に対する反射率Rsは、下記式を満たしていることが好ましい。
S偏光は、積層膜の誘電体層の表面に直交し入射光及び反射光を含む入射面に垂直に電解が振動する偏光をいう。
The reflectance Rs for S-polarized light preferably satisfies the following formula.
S-polarized light refers to polarized light in which electrolysis vibrates perpendicularly to the incident surface including incident light and reflected light, perpendicular to the surface of the dielectric layer of the laminated film.

上記の式において、θは、積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアン(0°≦θ≦60°)を満たし、Rs(θ)及びf(θ)は下記式で表される。   In the above formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the stacked film, satisfies 0 radian ≦ θ ≦ π / 3 radian (0 ° ≦ θ ≦ 60 °), Rs (θ) and f (Θ) is represented by the following formula.

上記の式において、θは、積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアンを満たす。
λは、入射する光の波長であり、単位はnmである。なお、λはλの2乗を表し、λはλの3乗を表し、λはλの4乗を表す。
A、B、C、D及びEは、それぞれ、A=4.813×10−13、B=−1.606×10−9、C=2.049×10−6、D=−1.212×10−3、E=1.846である。
In the above formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the stacked film, and satisfies 0 radian ≦ θ ≦ π / 3 radian.
λ is the wavelength of incident light, and its unit is nm. Λ 2 represents the square of λ, λ 3 represents the third power of λ, and λ 4 represents the fourth power of λ.
A, B, C, D, and E are respectively A = 4.813 × 10 −13 , B = −1.606 × 10 −9 , C = 2.049 × 10 −6 , and D = −1.212. × 10 −3 , E = 1.847.

f(θ)は、理想的な反射スペクトルからのずれを示すファクタであり、黒漆塗りの色調を得るのに必要とされる値として経験的に求まる値である。f(θ)は、上記式から明らかなように、入射角θが大きくなると値が大きくなる。即ち、入射角θが積層膜における積層体の誘電体膜の表面に対して直角(即ちθ=0°)である場合を基準とし、入射角θが0°からずれた場合、反射率も垂直入射した際の反射率からずれを生じて変化することを考慮したものである。
したがって、Pは、入射角θの範囲で反射率が値の小さい側に許容される範囲でずれを生じた場合の最小値を示し、Qは、入射角θの範囲で反射率が値の大きい側に許容される範囲でずれを生じた場合の最大値を示す。よって、S偏光に対する反射率RsがP〜Qの範囲を満足しているということは、入射角θの範囲では斜めから光が入射した場合も、漆調黒色に似た色調が再現されることを示している。
f (θ) is a factor indicating a deviation from an ideal reflection spectrum, and is a value obtained empirically as a value required for obtaining a black lacquered color tone. As is apparent from the above equation, f (θ) increases as the incident angle θ increases. That is, on the basis of the case where the incident angle θ is perpendicular to the surface of the dielectric film of the laminated body in the laminated film (that is, θ = 0 °), the reflectance is also vertical when the incident angle θ deviates from 0 °. This takes into consideration that the reflectance changes when the light is incident.
Therefore, P indicates the minimum value in the case where a deviation occurs in the range where the reflectance is allowed to be small in the range of the incident angle θ, and Q is a large value of the reflectance in the range of the incident angle θ. The maximum value when a deviation occurs in the allowable range on the side is shown. Therefore, the fact that the reflectance Rs for S-polarized light satisfies the range of P to Q means that a color tone similar to lacquer black is reproduced even when light is incident obliquely in the range of the incident angle θ. Is shown.

光学調整層は、SiO、TiO、Al、SiN、SiON、Ta、ZrO、MgFなどの無機物の層でもよい。
光学調整層は、スパッタリング法によって好適に形成することができる。
また、反射スペクトルを調整するのに適した樹脂を含有する塗布用調整液を用いた塗布法によって形成されてもよい。この場合、光学調整層は、塗布層で形成される。
The optical adjustment layer may be an inorganic layer such as SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , SiN, SiON, Ta 2 O 5 , ZrO 2 , or MgF 2 .
The optical adjustment layer can be suitably formed by a sputtering method.
Moreover, you may form by the apply | coating method using the adjustment liquid for application | coating containing resin suitable for adjusting a reflection spectrum. In this case, the optical adjustment layer is formed of a coating layer.

光学調整層は、マイクロオーダーないしナノオーダーの微粒子等の含有量が、層固形分に対して30質量%未満であることが好ましく、更には、上記の微粒子を含まない(ゼロ質量%である)ことがより好ましい。上記の微粒子等を含有すると、微粒子等の大きさにもよるが、散乱効果が生じやすく、光沢を損ないやすく、高い奥行き感が得られなくなる場合がある。   The optical adjustment layer preferably has a micro-order or nano-order fine particle content of less than 30% by mass with respect to the solid content of the layer, and further does not contain the fine particles (zero mass%). It is more preferable. When the fine particles described above are contained, although depending on the size of the fine particles, the scattering effect is likely to occur, the gloss is likely to be impaired, and a high sense of depth may not be obtained.

光学調整層は、膜の平坦性、耐水性、耐擦傷性の観点から、SiO、SiN、及びAlから選ばれる少なくとも一つの化合物を含む層として設けられていることが好ましい。 The optical adjustment layer is preferably provided as a layer containing at least one compound selected from SiO 2 , SiN, and Al 2 O 3 from the viewpoint of film flatness, water resistance, and scratch resistance.

低屈折率誘電体層及び高屈折率誘電体層の層厚としては、1nm〜1μmが好ましく、3nm〜0.5μmがより好ましい。層厚が1nm以上であると、膜の平坦性の向上の点で有利である。また、層厚が1μm以下であると、干渉(反射率)の調整が行いやすい。
また、光学調整層の厚みとしては、干渉(反射率)の調整の行い易さと耐傷性を両立させる観点から、0.05μm〜2μmが好ましい。
The layer thickness of the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer is preferably 1 nm to 1 μm, and more preferably 3 nm to 0.5 μm. A layer thickness of 1 nm or more is advantageous in terms of improving the flatness of the film. If the layer thickness is 1 μm or less, it is easy to adjust interference (reflectance).
In addition, the thickness of the optical adjustment layer is preferably 0.05 μm to 2 μm from the viewpoint of achieving both adjustment of interference (reflectance) and scratch resistance.

−基材−
本開示の積層構造体は、基材を有する。
基材の材料としては、例えば、樹脂材料、無機材料などが挙げられる。
樹脂材料及び無機材料は、透明性のある材料であることが好ましい。ここで、「透明性」があるとは、波長400nm〜700nmの可視光の透過率が80%以上であることを意味する。したがって、透明性の樹脂材料又は無機材料を用いた基材は、波長400nm〜700nmの可視光の透過率が80%以上である基材を指し、基材の可視光の透過率は90%以上であることが好ましい。
-Base material-
The laminated structure of the present disclosure has a base material.
Examples of the base material include a resin material and an inorganic material.
The resin material and the inorganic material are preferably transparent materials. Here, “transparency” means that the transmittance of visible light having a wavelength of 400 nm to 700 nm is 80% or more. Therefore, a base material using a transparent resin material or an inorganic material refers to a base material having a visible light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm to 700 nm, and the visible light transmittance of the base material is 90% or more. It is preferable that

樹脂材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリエチレン(PE)、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等のオレフィン系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂などが挙げられる。
無機材料としては、例えば、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子;透光性圧電セラミックス(PLZT)等のセラミックス;石英;蛍石;サファイア基材;などが挙げられる。
Examples of the resin material include acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyethylene (PE), polymethylpentene, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, and the like. Olefin resins; acrylic resins such as polymethyl methacrylate can be used.
Examples of the inorganic material include glass such as soda glass, potash glass, and lead glass; ceramics such as translucent piezoelectric ceramics (PLZT); quartz; fluorite;

基材の厚みは、用途に応じて適宜選択すればよく、10μm〜5000μmが好ましく、25μm〜250μmがより好ましく、50μm〜200μmが更に好ましい。   What is necessary is just to select the thickness of a base material suitably according to a use, 10 micrometers-5000 micrometers are preferable, 25 micrometers-250 micrometers are more preferable, 50 micrometers-200 micrometers are still more preferable.

また、基材の形状は、特に制限はなく、例えば、ロール状の形態のもの、ロール状に巻き取れるほどの可撓性を有しないもの、可撓性が低いが負荷を与えることで曲がるもののいずれでもよい。   Also, the shape of the substrate is not particularly limited. For example, it is in the form of a roll, does not have enough flexibility to be wound into a roll, or has low flexibility but can be bent by applying a load. Either is acceptable.

基材は、単一で用いられてもよいし、複数の基材を重ねて重層構造として用いられてもよい。複数の基材を重ねた重層構造を有する場合、同一の基材を重ねた重層構造でもよいし、異なる基材を組み合わせて重ねた重層構造でもよい。   A single substrate may be used, or a plurality of substrates may be stacked and used as a multilayer structure. When it has a multilayer structure in which a plurality of base materials are stacked, a multilayer structure in which the same base materials are stacked may be used, or a multilayer structure in which different base materials are combined may be used.

本開示の積層構造体は、基材に対して積層膜が配置された側の表面粗さRaが、算術平均値で30nm以下である態様が好ましい。表面粗さが30nm以下の平滑な表面であることで、表面の粗れに起因する艶やかさの低下が抑えられ、より艶のある光沢を維持することができ、ひいては奥行き感に優れたものとなる。
表面粗さRaとしては、15nm以下がより好ましい。表面粗さRaは、値が小さいほど好ましいが、下限値としては例えば0.1nm以上としてもよい。
The laminated structure of the present disclosure preferably has an aspect in which the surface roughness Ra on the side where the laminated film is disposed with respect to the base material is an arithmetic average value of 30 nm or less. The smooth surface with a surface roughness of 30 nm or less suppresses the reduction in glossiness due to the roughness of the surface, can maintain a more glossy luster, and thus has an excellent sense of depth. Become.
The surface roughness Ra is more preferably 15 nm or less. The surface roughness Ra is preferably as small as possible, but the lower limit may be, for example, 0.1 nm or more.

表面粗さRaは、日本工業規格(JIS)B0601(2001年)に準拠して測定される値であり、例えば、原子間力顕微鏡(ブルガー社製)を用いて5μm四方の領域の表面情報を測定した値から求めることができる。   The surface roughness Ra is a value measured in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS) B0601 (2001). For example, surface information of a 5 μm square area is obtained using an atomic force microscope (manufactured by Brugger). It can be obtained from the measured value.

本開示の積層構造体は、積層膜の、光吸収層と積層体との界面における界面粗さの算術平均値、並びに、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層との界面における界面粗さの算術平均値が、30nm以下である態様が好ましい。
界面粗さが30nm以下の平滑な表面であることで、界面の粗れに起因する艶やかさの低下が抑えられ、より艶のある光沢を維持することができ、ひいては奥行き感に優れたものとなる。
界面粗さとしては、15nm以下がより好ましい。界面粗さは、値が小さいほど好ましいが、下限値としては例えば0.1nm以上としてもよい。
The laminated structure of the present disclosure includes an arithmetic average value of the interface roughness at the interface between the light absorption layer and the laminate, and an interface at the interface between the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer. An embodiment in which the arithmetic average value of roughness is 30 nm or less is preferable.
By having a smooth surface with an interface roughness of 30 nm or less, a reduction in glossiness due to the roughness of the interface can be suppressed, a more glossy gloss can be maintained, and as a result, a sense of depth is excellent. Become.
The interface roughness is more preferably 15 nm or less. The interface roughness is preferably as small as possible, but the lower limit may be, for example, 0.1 nm or more.

界面粗さは、イオンビームエッチング法により積層体の断面を切り出し、切り出した断面を透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社)によって観察し、界面の写真を取得して測定される値である。   The interface roughness is a value measured by cutting a section of the laminate by an ion beam etching method, observing the cut section with a transmission electron microscope (JEOL Ltd.), obtaining a photograph of the interface.

<成形体>
本開示の成形体は、既述の本開示の積層構造体が2次元又は3次元に成形されてなるものである。本開示の成形体は、既述の積層構造体を用いて成形されているので、色味(特に青味)を有し、かつ、黒度の高い漆調黒色を呈する。したがって、単に黒色が濃く光沢があるだけの質感とは異なり、例えば青味がかった黒調を呈し、その黒調は、反射像が鮮鋭に映るが反射率が抑えられて奥行き感のある色合いとして現れる。そのため、いわゆる漆塗りされた製品に近い高級感が得られる。
<Molded body>
The molded body of the present disclosure is obtained by molding the above-described laminated structure of the present disclosure in two dimensions or three dimensions. Since the molded body of the present disclosure is molded using the above-described laminated structure, it has a color (particularly bluish) and exhibits a lacquer-like black color with high blackness. Therefore, unlike a texture that is simply dark and glossy in black, for example, it has a bluish black tone, and the black tone is a reflected image that is sharp, but the reflectance is suppressed and the color has a sense of depth. appear. Therefore, a high-class feeling close to what is called a lacquered product is obtained.

成形は、積層構造体を2次元又は3次元に成形できればいずれの方法で成形されてもよく、型を用いた成型でもよい。
成型方法の例としては、熱成型又は真空成型などが好適に挙げられる。
The forming may be performed by any method as long as the laminated structure can be formed two-dimensionally or three-dimensionally, or may be formed using a mold.
Suitable examples of the molding method include thermoforming and vacuum forming.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” is based on mass.

(実施例1)
−積層構造体の作製−
10cm四方の大きさに裁断した石英(Qz)基材の上に、光学黒墨GT−1000(キヤノン化成株式会社)を、濃度を調節して塗布し、乾燥させて乾燥厚みが4μmの光吸収層を形成した。その後、光吸収層の上に反応性スパッタリングにより、下記表1に示すようにSiO層とAl層とを交互に積層し、下記表1に示す厚みを有する酸化ケイ素(SiO)層と酸化アルミニウム(Al)層とがそれぞれ2層ずつ積層された積層体である光学調整層を形成した。
以上のようにして、黒色調の積層構造体を作製した。
なお、本実施例において、膜厚は、薄膜計算ソフトEssential Macleod(Thin Film Center社)を用いてシミュレーションし、表1に示す最適化された膜厚にて形成した。以下に示す他の実施例についても同様である。
(Example 1)
-Fabrication of laminated structure-
Optical black ink GT-1000 (Canon Kasei Co., Ltd.) is applied onto a quartz (Qz) substrate cut to a size of 10 cm square, adjusted in concentration, and dried to absorb light with a dry thickness of 4 μm. A layer was formed. Thereafter, SiO 2 layers and Al 2 O 3 layers are alternately laminated on the light absorption layer by reactive sputtering as shown in Table 1 below, and silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness shown in Table 1 below. An optical adjustment layer, which is a laminate in which two layers and two aluminum oxide (Al 2 O 3 ) layers are laminated, was formed.
As described above, a black-colored laminated structure was produced.
In this example, the film thickness was simulated by using thin film calculation software Essential Macleod (Thin Film Center), and formed with the optimized film thickness shown in Table 1. The same applies to the other embodiments described below.

SiO層及びAl層の屈折率を下記表1に示す。なお、SiO層及びAl層の屈折率は、分光エリプソメトリー法によって測定した波長550nmにおける値である。
また、光吸収層の平均屈折率及び平均消衰係数を下記表2に示す。なお、光吸収層の平均屈折率及び平均消衰係数は、400nm〜700nmの波長域において1nm毎に300点の屈折率又は消衰係数を分光エリプソメトリー法により測定し、測定された値を平均して求めた。
なお、上記と同様に測定したSiO層及びAl層の消衰係数は、0.01未満であり、SiO層及びAl層はいずれも透明性を有していた。
The refractive indexes of the SiO 2 layer and the Al 2 O 3 layer are shown in Table 1 below. The refractive indexes of the SiO 2 layer and the Al 2 O 3 layer are values at a wavelength of 550 nm measured by a spectroscopic ellipsometry method.
The average refractive index and average extinction coefficient of the light absorption layer are shown in Table 2 below. In addition, the average refractive index and average extinction coefficient of the light absorbing layer are measured by measuring the refractive index or extinction coefficient at 300 points every 1 nm in the wavelength range of 400 nm to 700 nm by the spectroscopic ellipsometry method, and averaging the measured values. And asked.
Note that the extinction coefficient of the and the SiO 2 layer and the Al 2 O 3 layer as measured in the same manner is less than 0.01, had none of the SiO 2 layer and the Al 2 O 3 layer has transparency.

−測定及び評価−
作製した積層構造体について、以下の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表10及び図2〜図6に示す。
-Measurement and evaluation-
The following measurement and evaluation were performed on the produced laminated structure. The results of measurement and evaluation are shown in Table 10 below and FIGS.

(1)平均反射率
イ.測定:
作製した積層構造体のAl層の表面に対し、反射分光膜厚計(大塚電子株式会社)を用いて、400nm〜500nmの波長域での平均反射率R1、500nm〜600nmの波長域での平均反射率R2、及び600nm〜700nmの波長域での平均反射率R3を測定した。各平均反射率は、各々の波長範囲内において1nm毎に測定した反射率の合計をその測定点の数で除して求めた。
そして、平均反射率R1、R2及びR3がそれぞれ、式a(R1>R2>R3)並びに式b1、式b2及び式b3(いずれも4.0%〜6.0%の範囲)の関係式を満たす場合を「G」とし、上記の関係式を満たさない場合を「NG」として評価した。測定及び評価の結果を表10に示す。
(1) Average reflectance a. Measurement:
Using the reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics Co., Ltd.), the average reflectance R1 in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, the wavelength range of 500 nm to 600 nm, with respect to the surface of the Al 2 O 3 layer of the produced laminated structure The average reflectance R2 and the average reflectance R3 in the wavelength region of 600 nm to 700 nm were measured. Each average reflectance was obtained by dividing the total reflectance measured every 1 nm within each wavelength range by the number of measurement points.
The average reflectances R1, R2 and R3 are the relational expressions of the formula a (R1>R2> R3), the formula b1, the formula b2 and the formula b3 (all in the range of 4.0% to 6.0%), respectively. The case where the relational expression was satisfied was evaluated as “G”, and the case where the above relational expression was not satisfied was evaluated as “NG”. Table 10 shows the results of measurement and evaluation.

ロ.黒色調:
上記で測定した平均反射率の、400nm〜700nmにおけるスペクトルを図2及び図3に示す。得られたスペクトルを観察し、下記の評価基準にしたがって、スペクトル形状の判定及び黒色調の評価を行った。
<スペクトル判定の評価基準>
A:黒漆塗りの反射スペクトルとほぼ同等の形状を有している。
B:黒漆塗りの反射スペクトルと形状の異なる形状を有している。
<黒色調の評価基準>
A:400nm〜500nmの波長域の反射率が、500nmを超える波長域の反射率に比べて高くなっており、青味がかった黒色調であった。
B:400nm〜500nmの波長域の反射率が、500nmを超える波長域の反射率と同程度以下であり、青味が加わっていない黒色であった。
なお、「青味が加わっていない黒色」では、例えば、色味が無い、又は緑味もしくは赤味が加わった黒色である場合が含まれる。
B. Black tone:
The spectrum of the average reflectance measured above from 400 nm to 700 nm is shown in FIGS. The obtained spectrum was observed, and the spectral shape was determined and the black tone was evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria for spectrum judgment>
A: It has almost the same shape as the reflection spectrum of black lacquer coating.
B: It has a shape different from the reflection spectrum of black lacquer coating.
<Black-tone evaluation criteria>
A: The reflectance in the wavelength region of 400 nm to 500 nm was higher than the reflectance in the wavelength region exceeding 500 nm, and it was a bluish black tone.
B: The reflectance in the wavelength region of 400 nm to 500 nm was about the same as or less than the reflectance in the wavelength region exceeding 500 nm, and the color was black with no bluish color added.
In addition, the case of “black with no blueness added” includes, for example, a case where there is no color, or a blackish color with greenishness or redness added.

ハ.角度依存性:
上記で測定した平均反射率のうち、波長450nm、550nm、及び650nmにおける平均反射率の、入射した光の入射角に対する依存性を下記の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
A:全ての波長において、平均反射率がP≦Rs(θ)≦Qを満たしている。
B:いずれかの波長において、平均反射率がP≦Rs(θ)≦Qを満たしていない。
C. Angle dependence:
Of the average reflectance measured above, the dependence of the average reflectance at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm on the incident angle of incident light was evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
A: The average reflectance satisfies P ≦ Rs (θ) ≦ Q at all wavelengths.
B: The average reflectance does not satisfy P ≦ Rs (θ) ≦ Q at any wavelength.

(2)奥行き感
作製した積層構造体に対し、1000ルクスの蛍光灯下、下記の方法により30人の評価者による奥行き感の評価を行った。
評価者に対し、同じサイズの後述の比較例1のサンプルと、金属膜にニッケル(Ni)めっき(エビナ電化工業株式会社)が施され、図7に示すように400nm〜700nmの可視域の全域に亘る反射率が1%以下であるNiモスアイ構造膜と、実施例1で作製した積層構造体と、の3種を観察させ、3種のうち、高級感を有し、かつ、質感が高いと判断されるものを選択させて、以下の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
A:3種のうち、実施例1の積層構造体を選択した評価者が15人以上である。
B:3種のうち、実施例1の積層構造体を選択した評価者が15人未満である。
(2) Depth Sense The 30 layers of evaluators evaluated the depth sensation by the following method under a 1000 lux fluorescent lamp.
For the evaluator, the sample of Comparative Example 1 described later having the same size and the metal film are subjected to nickel (Ni) plating (Ebina Denka Kogyo Co., Ltd.), and the entire visible range of 400 nm to 700 nm as shown in FIG. The three types of Ni moth-eye structure film having a reflectance of 1% or less and the laminated structure produced in Example 1 were observed, and among the three types, it had a high-class feeling and high texture. Were selected and evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
A: Among the three types, there are 15 or more evaluators who selected the laminated structure of Example 1.
B: Among the three types, there are less than 15 evaluators who selected the laminated structure of Example 1.

(3)表面粗さ及び界面粗さ
作製した積層構造体のAl層の表面(光学調整層1の露出面)の表面粗さRaを、原子間力顕微鏡(ブルガー社製)を用い、5μm四方の領域の表面情報を測定することにより求めた。表面粗さの結果を表1に示す。
また、作製した積層構造体の黒墨を用いた光吸収層とSiO層(光学調整層4)との界面における界面粗さを透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社)によって観察し、界面の写真を取得して測定した。この際、イオンビームエッチング法により積層構造体の断面を切り出し、切り出した断面について行った。界面粗さの結果を表1に示す。
(3) Surface roughness and interface roughness The surface roughness Ra of the surface of the Al 2 O 3 layer (exposed surface of the optical adjustment layer 1) of the prepared laminated structure was measured using an atomic force microscope (manufactured by Brugger). It was determined by measuring the surface information of a 5 μm square area. Table 1 shows the results of the surface roughness.
In addition, the roughness of the interface between the light absorption layer using the black ink of the laminated structure and the SiO 2 layer (optical adjustment layer 4) was observed with a transmission electron microscope (JEOL Ltd.). Photos were taken and measured. At this time, the cross section of the laminated structure was cut out by an ion beam etching method, and the cut cross section was performed. Table 1 shows the results of the interface roughness.

(実施例2)
実施例1において、光学調整層を下記表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、黒色調の積層構造を作製し、かつ、測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表10及び図2〜図6に示す。なお、SiN層及びSiO層の形成は、スパッタリングにより行った。
作製した積層構造体は、SiN層/SiO層/SiN層/SiO層/黒墨層/基材の層構造となっている。
(Example 2)
In Example 1, except that the optical adjustment layer was changed as shown in Table 1 below, a black laminate structure was prepared and measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results of measurement and evaluation are shown in Table 10 below and FIGS. The SiN layer and the SiO 2 layer were formed by sputtering.
The produced laminated structure has a layer structure of SiN layer / SiO 2 layer / SiN layer / SiO 2 layer / black ink layer / base material.



(実施例3〜5)
実施例1において、光学調整層を下記表3に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、5層又は6層からなる光学調整層を有する黒色調の積層構造体を作製し、かつ、測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表10及び図2〜図3に示す。表面粗さの測定は、実施例3〜4では光学調整層2の露出面に対して行い、実施例5では光学調整層1の露出面に対して行った。また、界面粗さの測定は、積層構造体の黒墨を用いた光吸収層と光学調整層6との界面について行った。
なお、MgF層の形成は、電子ビーム蒸着法により行い、SiN層、SiO層、TiO層、及びTa層の形成は、いずれもスパッタリングにより行った。
作製した積層構造体は、例えば実施例3では、MgF層/SiN層/SiO層/SiN層/MgF層/黒墨層/基材の層構造となっている。実施例4〜5についても、同様に積層構造となっている。
(Examples 3 to 5)
In Example 1, except that the optical adjustment layer was changed as shown in Table 3 below, a black tone laminate structure having an optical adjustment layer composed of 5 layers or 6 layers was produced in the same manner as in Example 1. In addition, measurement and evaluation were performed. The results of measurement and evaluation are shown in Table 10 below and FIGS. The surface roughness was measured on the exposed surface of the optical adjustment layer 2 in Examples 3 to 4, and on the exposed surface of the optical adjustment layer 1 in Example 5. The interface roughness was measured on the interface between the optical absorption layer 6 and the light absorption layer using black ink of the laminated structure.
The MgF 2 layer was formed by electron beam evaporation, and the SiN layer, SiO 2 layer, TiO 2 layer, and Ta 2 O 5 layer were all formed by sputtering.
For example, in Example 3, the produced laminated structure has a layer structure of MgF 2 layer / SiN layer / SiO 2 layer / SiN layer / MgF 2 layer / black ink layer / base material. Similarly, Examples 4 to 5 have a laminated structure.


(比較例1)
実施例1において、光吸収層の上に光学調整層を形成しなかったこと(表4参照)以外は、実施例1と同様にして、黒色調の積層構造体を作製し、かつ、測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表10及び図2〜図3に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, except that the optical adjustment layer was not formed on the light absorption layer (see Table 4), a black-toned laminated structure was produced in the same manner as in Example 1, and measurement and Evaluation was performed. The results of measurement and evaluation are shown in Table 10 below and FIGS.

(比較例2〜6)
実施例1において、光学調整層及び光吸収層をそれぞれ下記表4〜表6に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、4層又は5層からなる光学調整層を有する黒色調の積層構造体を作製し、かつ、測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表10及び図2〜図3に示す。
ここで、光学調整層であるSiN層、クロム(Cr)層、及びSiO層の形成は、いずれも反応性スパッタリングにより行った。
また、光吸収層である銀(Ag)層及びCr層の形成は、いずれも反応性スパッタリングにより行った。
なお、薄膜計算ソフトEssential Macleod(Thin Film Center社)によるシミュレーションに際し、Cr及びAgの光学定数(平均屈折率、平均消衰係数)は、下記表7〜表8に示すように、Edward D. Palik, Handbook of Optical Constants of Solidsのデータを使用した。
(Comparative Examples 2-6)
In Example 1, it has the optical adjustment layer which consists of 4 layers or 5 layers like Example 1 except having changed the optical adjustment layer and the light absorption layer as shown in the following Table 4-Table 6, respectively. A black laminate structure was prepared and measured and evaluated. The results of measurement and evaluation are shown in Table 10 below and FIGS.
Here, the SiN layer, the chromium (Cr) layer, and the SiO 2 layer, which are optical adjustment layers, were all formed by reactive sputtering.
Moreover, formation of the silver (Ag) layer and Cr layer which are light absorption layers was all performed by reactive sputtering.
In the simulation using the thin film calculation software Essential Macleod (Thin Film Center), the optical constants (average refractive index and average extinction coefficient) of Cr and Ag are as shown in Tables 7 to 8 below. , Handbook of Optical Constants of Solids data was used.

また、ブラック(黒)レジストは、チタンブラックレジスト(カラーモザイク、富士フイルム株式会社)を用いた。
なお、ブラック(黒)レジストの光学定数として、Siウエハ上に塗布して形成された厚み200nmの塗膜に対して分光エリプソメトリー法によって平均屈折率及び平均消衰係数を実測し、各実測値を薄膜計算ソフトEssential Macleodに組み入れて行った。平均屈折率及び平均消衰係数の実測値を下記表9に示す。
As the black resist, a titanium black resist (Color Mosaic, FUJIFILM Corporation) was used.
In addition, as an optical constant of a black resist, an average refractive index and an average extinction coefficient were measured by a spectroscopic ellipsometry method with respect to a coating film having a thickness of 200 nm formed by coating on a Si wafer. Was incorporated into the thin film calculation software Essential Macleod. The measured values of the average refractive index and the average extinction coefficient are shown in Table 9 below.








実施例1〜2では、図2〜図3に示す反射スペクトルに表されるように、黒漆塗りの反射スペクトルと似通ったスペクトル形状が得られた。そして、実施例1〜2の積層構造体は、単に黒色が濃く光沢があるだけの質感とは異なり、青味がかった黒調を呈しており、反射像が鮮鋭に映るが防眩作用が得られる程度に反射率が抑えられて、奥行き感のある色調が得られた。即ち、膜厚の調整によって、色味のある黒色調と奥行き感とを兼ね備えた漆調黒色を実現することが分かる。
また、光の入射角を0°、15°、30°、45°、及び60°とした際の反射率を図4〜図6に示す。図4〜図6に示されるように、S偏光に対する反射率Rsが、既述のP≦Rs≦Qを満たして入射光の入射角に依存しない良好な色調を有している。したがって、積層構造体を斜め方向から観察した場合でも、漆調黒色として現れ、黒漆に似た性状が得られている。
In Examples 1-2, as represented by the reflection spectrum shown in FIGS. 2-3, a spectrum shape similar to the reflection spectrum of black lacquer coating was obtained. The laminated structures of Examples 1 and 2 have a bluish black tone, unlike the texture that is simply dark and glossy in black, and the reflected image is sharp but has an antiglare effect. The reflectance was suppressed to the extent possible, and a color tone with a sense of depth was obtained. That is, it can be seen that by adjusting the film thickness, a lacquer-like black color having both a black tone with a color and a feeling of depth is realized.
4 to 6 show the reflectance when the incident angle of light is 0 °, 15 °, 30 °, 45 °, and 60 °. As shown in FIGS. 4 to 6, the reflectance Rs for S-polarized light satisfies the above-described P ≦ Rs ≦ Q and has a good color tone that does not depend on the incident angle of incident light. Therefore, even when the laminated structure is observed from an oblique direction, it appears as lacquer-like black, and a property similar to black lacquer is obtained.

また、実施例1〜5において、光吸収層として用いた黒墨材料は、既述の式c(N1>N2>N3>1.55)及び式d(K1>K2>K3>0.01)を満たすものであり、青味がかった黒漆調の黒色が実現されており、奥行き感のある良好な漆調黒色が得られた。即ち、式c及び式dを満たす実施例では、光学調整層による色味の調整が行いやすいと考えられる。   Further, in Examples 1 to 5, the black ink material used as the light absorption layer is the above-described formula c (N1> N2> N3> 1.55) and formula d (K1> K2> K3> 0.01). A black lacquer-like black with a bluish color was realized, and a good lacquer-like black with a sense of depth was obtained. That is, in the example satisfying the expressions c and d, it is considered that the color adjustment by the optical adjustment layer can be easily performed.

これに対し、比較例1〜6の積層構造体では、いずれも平均反射率が式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満たしていない。したがって、図2〜図3に示されるように、反射スペクトルは、黒漆塗りの反射スペクトルと異なる形状となっており、高い奥行き感を得ることはできなかった。
特に比較例2、3及び6は、光吸収層の上に誘電体層と金属層とが積層された層構造となっており、本開示の積層構造体のように、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とが交互に積層された層構造を有していない。そのため、いずれも平均反射率が式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満足し得ないものであった。
また、比較例2及び4で用いたブラックレジスト、比較例3で用いたAg層、並びに比較例5で用いたCr層は、既述の式c(N1>N2>N3>1.55)及び式d(K1>K2>K3>0.01)を満たさず、実施例に比べて、黒色調及び奥行き感において劣っていた。
On the other hand, in the laminated structures of Comparative Examples 1 to 6, the average reflectance does not satisfy the formula a, the formula b1, the formula b2, and the formula b3. Therefore, as shown in FIG. 2 to FIG. 3, the reflection spectrum has a shape different from that of the black lacquered reflection spectrum, and a high sense of depth could not be obtained.
In particular, Comparative Examples 2, 3 and 6 have a layer structure in which a dielectric layer and a metal layer are laminated on a light absorption layer, and a low refractive index dielectric layer like the laminated structure of the present disclosure. And a layer structure in which high-refractive-index dielectric layers are alternately stacked. For this reason, none of the average reflectances satisfies the formula a, the formula b1, the formula b2, and the formula b3.
Further, the black resist used in Comparative Examples 2 and 4, the Ag layer used in Comparative Example 3, and the Cr layer used in Comparative Example 5 are represented by the above-described formula c (N1>N2>N3> 1.55) and The formula d (K1>K2>K3> 0.01) was not satisfied, and the black tone and the sense of depth were inferior to the examples.

本開示の積層構造体は、自動車、エレクトロニクス製品、建材等の幅広い分野において、内外装に用いられる材料用途、装飾用途、塗料用途などに好適に適用することができる。   The laminated structure of the present disclosure can be suitably applied to materials, decorations, paints, and the like used for interior and exterior in a wide range of fields such as automobiles, electronic products, and building materials.

Claims (13)

基材と、前記基材上に配置された積層膜と、を備え、
前記積層膜は、
400nm〜700nmの波長域の全域における平均消衰係数が0.01以上である光吸収層と、
前記光吸収層からみて前記基材とは反対側に前記光吸収層に隣接させて配置され、かつ、屈折率が互いに異なる2以上の誘電体層を含み、前記2以上の誘電体層の間で相対的に低い屈折率を有する低屈折率誘電体層と、前記2以上の誘電体層の間で相対的に高い屈折率を有する高屈折率誘電体層と、を互いに接触させて積層された積層体を含む光学調整層と、
を有し、かつ、
以下に示す式a、並びに、式b1、式b2及び式b3を満たす、黒色調の積層構造体。
R1>R2>R3 式a
4.0%<R1<6.0% 式b1
4.0%<R2<6.0% 式b2
4.0%<R3<6.0% 式b3
R1は、400nm〜500nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表し、R2は、500nm〜600nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表し、R3は、600nm〜700nmの波長域での、積層体の積層方向に平行な入射光に対する平均反射率を表す。
A base material, and a laminated film disposed on the base material,
The laminated film is
A light absorption layer having an average extinction coefficient of 0.01 or more in the entire wavelength region of 400 nm to 700 nm;
And including two or more dielectric layers disposed adjacent to the light absorbing layer on the opposite side of the substrate as viewed from the light absorbing layer and having different refractive indexes, and between the two or more dielectric layers A low refractive index dielectric layer having a relatively low refractive index and a high refractive index dielectric layer having a relatively high refractive index between the two or more dielectric layers are stacked in contact with each other. An optical adjustment layer including a laminated body,
And having
A black-toned laminated structure that satisfies the following formula a and formulas b1, b2, and b3.
R1>R2> R3 Formula a
4.0% <R1 <6.0% Formula b1
4.0% <R2 <6.0% Formula b2
4.0% <R3 <6.0% Formula b3
R1 represents an average reflectance with respect to incident light parallel to the stacking direction of the laminate in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, and R2 is incident parallel to the stacking direction of the stack in the wavelength range of 500 nm to 600 nm. The average reflectance with respect to light is represented, and R3 represents the average reflectance with respect to incident light parallel to the stacking direction of the stacked body in a wavelength range of 600 nm to 700 nm.
前記低屈折率誘電体層の屈折率は、前記光吸収層の屈折率より低く、かつ、前記高屈折率誘電体層の屈折率は、前記光吸収層の屈折率より高い請求項1に記載の積層構造体。   The refractive index of the low refractive index dielectric layer is lower than the refractive index of the light absorbing layer, and the refractive index of the high refractive index dielectric layer is higher than the refractive index of the light absorbing layer. Laminated structure. 前記低屈折率誘電体層の屈折率が、1.55以下である請求項1又は請求項2に記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 1 or 2, wherein a refractive index of the low refractive index dielectric layer is 1.55 or less. 前記高屈折率誘電体層の屈折率が、1.70以上である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の積層構造体。   The laminated structure according to any one of claims 1 to 3, wherein a refractive index of the high refractive index dielectric layer is 1.70 or more. 前記高屈折率誘電体層の屈折率と前記低屈折率誘電体層の屈折率との差の絶対値が、0.3以上である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の積層構造体。   5. The absolute value of the difference between the refractive index of the high-refractive index dielectric layer and the refractive index of the low-refractive index dielectric layer is 0.3 or more. 6. Laminated structure. S偏光に対する反射率Rsが、下記式を満たす請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の積層構造体。

式中、θは、前記積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアンを満たし、Rs(θ)及びf(θ)は下記式で表される。

式中、θは、前記積層膜の積層方向に入射する光の入射角を表し、0ラジアン≦θ≦π/3ラジアンを満たす。λは、入射する光の波長であり、単位はnmである。A、B、C、D及びEは、それぞれ、A=4.813×10−13、B=−1.606×10−9、C=2.049×10−6、D=−1.212×10−3、E=1.846である。
The laminated structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the reflectance Rs for S-polarized light satisfies the following formula.

In the formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the laminated film, satisfies 0 radians ≦ θ ≦ π / 3 radians, and Rs (θ) and f (θ) are represented by the following formulas. .

In the formula, θ represents an incident angle of light incident in the stacking direction of the stacked film, and satisfies 0 radian ≦ θ ≦ π / 3 radian. λ is the wavelength of incident light, and its unit is nm. A, B, C, D, and E are respectively A = 4.813 × 10 −13 , B = −1.606 × 10 −9 , C = 2.049 × 10 −6 , and D = −1.212. × 10 −3 , E = 1.847.
前記光吸収層が、下記式c及び式dを満たす請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の積層構造体。
N1>N2>N3>1.55 式c
K1>K2>K3>0.01 式d
N1は、400nm〜500nmの波長域の平均屈折率を表し、N2は、500nm〜600nmの波長域の平均屈折率を表し、N3は、600nm〜700nmの波長域の平均屈折率を表す。K1は、400nm〜500nmの波長域の平均消衰係数を表し、K2は、500nm〜600nmの波長域の平均消衰係数を表し、K3は、600nm〜700nmの波長域の平均消衰係数を表す。
The laminated structure according to any one of claims 1 to 6, wherein the light absorption layer satisfies the following formula c and formula d.
N1>N2>N3> 1.55 formula c
K1>K2>K3> 0.01 Formula d
N1 represents an average refractive index in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, N2 represents an average refractive index in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and N3 represents an average refractive index in a wavelength range of 600 nm to 700 nm. K1 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, K2 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 500 nm to 600 nm, and K3 represents an average extinction coefficient in a wavelength range of 600 nm to 700 nm. .
前記光吸収層の厚みが、2μm以上である請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の積層構造体。   The thickness of the said light absorption layer is 2 micrometers or more, The laminated structure of any one of Claims 1-7. 前記光学調整層が、SiO、SiN、及びAlから選ばれる少なくとも一つの化合物を含む請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の積層構造体。 The optical adjustment layer, SiO 2, SiN, and the laminated structure according to any one of claims 1 to 8 comprising at least one compound selected from Al 2 O 3. 前記光学調整層中の前記積層体が、前記低屈折率誘電体層の少なくとも2層と前記高屈折率誘電体層の少なくとも2層とを含み、前記低屈折率誘電体層と前記高屈折率誘電体層とが交互に積層された4層以上の積層体である請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の積層構造体。   The laminate in the optical adjustment layer includes at least two layers of the low refractive index dielectric layer and at least two layers of the high refractive index dielectric layer, and the low refractive index dielectric layer and the high refractive index. The laminated structure according to any one of claims 1 to 9, which is a laminate of four or more layers in which dielectric layers are alternately laminated. 前記基材に対して前記積層膜が配置された側の表面粗さRaの算術平均値が、30nm以下である請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の積層構造体。   The laminated structure according to any one of claims 1 to 10, wherein an arithmetic average value of surface roughness Ra on a side where the laminated film is disposed with respect to the base material is 30 nm or less. 前記積層膜の、前記光吸収層と前記積層体との界面における界面粗さの算術平均値並びに前記低屈折率誘電体層と前記高屈折率誘電体層との界面における界面粗さの算術平均値が、30nm以下である請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の積層構造体。   The arithmetic average value of the interface roughness at the interface between the light absorbing layer and the laminate, and the arithmetic average of the interface roughness at the interface between the low refractive index dielectric layer and the high refractive index dielectric layer of the multilayer film. The laminated structure according to any one of claims 1 to 11, which has a value of 30 nm or less. 請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の積層構造体が2次元又は3次元に成形されてなる成形体。   The molded object formed by shape | molding the laminated structure of any one of Claims 1-12 in two dimensions or three dimensions.
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