JP4051015B2 - Antireflection film - Google Patents

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Description

本発明は、反射防止フィルムに関するものである。   The present invention relates to an antireflection film.

反射防止フィルムは主にCRT,LCD,PDP若しくはリアプロジェクション用ディスプレイの最前面に設けられ、この反射防止フィルムにより周辺から入り込む外光の反射が抑えられ、画像コントラストの低下や像の映り込みが防止されている。   The anti-reflection film is mainly provided on the forefront of CRT, LCD, PDP or rear projection display. This anti-reflection film suppresses the reflection of external light entering from the surroundings and prevents the image contrast from being lowered and the image reflected. Has been.

ところで、この反射防止フィルムは、基材上に、ハードコート層,高屈折率層,低屈折率層を順次積層した構成であり、ドライ法(化学蒸着法や物理蒸着法(具体的には真空蒸着法など))やウエット法(ディップコート法,エアーナイフコート法,グラビアコート法,ローラーコート法,ワイヤーバーコート法など)を用いて形成することが可能である。   By the way, this antireflection film has a structure in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially laminated on a substrate, and a dry method (chemical vapor deposition method or physical vapor deposition method (specifically, vacuum deposition) It is possible to form the film by using a vapor deposition method) or a wet method (dip coating method, air knife coating method, gravure coating method, roller coating method, wire bar coating method, etc.).

ドライ法は膜厚を精密に制御できるため、高屈折率層と低屈折率層とを交互に複数積層することができ、よって、ドライ法を用いて形成した反射防止フィルムは、短波長領域(380〜480nm、青色の反射光)や長波長領域(680〜780nm、赤色の反射光)において反射率が低く、画像コントラストの低下や像の映り込みが少ないことから反射防止特性に秀れたものとなる。   Since the dry method can precisely control the film thickness, a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers can be alternately stacked. Therefore, the antireflection film formed using the dry method has a short wavelength region ( Excellent reflection resistance due to low reflectivity in 380 to 480 nm (blue reflected light) and long wavelength region (680 to 780 nm, red reflected light) and low image contrast and image reflection. It becomes.

しかし、ドライ法を実施するには、製造工程を確立する際に初期投資に多額の費用が掛かる上、生産性が低く大量生産に向いていない。つまり、コスト高となり実用性に劣る。   However, in order to carry out the dry method, a large amount of initial investment is required when establishing a manufacturing process, and productivity is low and it is not suitable for mass production. That is, the cost is high and the utility is inferior.

一方、ウエット法は、生産性が高く大量生産に向いている(即ち、コスト安に製造できる)。しかし、ウエット法は、膜厚を精密に制御することが難しく、よって、高屈折率層と低屈折率層とを複数積層しにくいため、このウエット法を用いて形成した反射防止フィルムは、短波長領域若しくは長波長領域において反射率が高く、反射色の色目がきつくなるという問題がある。   On the other hand, the wet method has high productivity and is suitable for mass production (that is, it can be manufactured at low cost). However, with the wet method, it is difficult to precisely control the film thickness, and thus it is difficult to stack a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers. Therefore, an antireflection film formed using this wet method is short. There is a problem that the reflectance is high in the wavelength region or the long wavelength region, and the color of the reflected color becomes tight.

この短波長領域及び長波長領域の反射率を低く抑えようとすると、視感度曲線のピーク値(略550nm)近辺の波長領域(540〜630nm、所謂中波長領域)の反射率が高くなり、全体的に画像コントラストが低下し、映り込みが多くなるという問題が生じる。   If the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is kept low, the reflectance in the wavelength region (540 to 630 nm, so-called medium wavelength region) near the peak value (approximately 550 nm) of the visibility curve increases. In particular, there arises a problem that image contrast is lowered and reflection is increased.

また、特開2002−296405号公報には、反射スペクトルにおいて反射率が最低値を示す波長の近傍(中波長領域)における反射率を規定することで、反射光の干渉色を低減させる反射防止フィルムが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-296405 discloses an antireflection film that reduces the interference color of reflected light by defining the reflectance in the vicinity of the wavelength (medium wavelength region) where the reflectance exhibits the lowest value in the reflection spectrum. Is disclosed.

この特開2002−296405号は、中波長領域における反射率のみを規定しているだけであり、短波長領域及び長波長領域における反射率を規定していないため、上述の反射色の色目がきつくなるという問題が生じ得る。   This Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-296405 only defines the reflectance in the medium wavelength region, and does not define the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region. The problem of becoming may arise.

また、特開2003−114304号公報には、短波長領域や長波長領域の一部を含まない主に中波長領域における反射率の平均値を規定することで、画面(スクリーン)への背景の映り込みを低減させる反射防止フィルムが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114304 defines an average value of reflectivity mainly in a medium wavelength region that does not include a short wavelength region or a part of a long wavelength region. An antireflection film that reduces reflection is disclosed.

この特開2003−114304号も上記問題がそのままあてはまる。   This problem also applies to this Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114304.

また、特開平10−195636号公報には、短波長領域から長波長領域における反射率の最低値を規定することで、良好な反射特性を発揮する反射防止フィルムが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195636 discloses an antireflection film that exhibits good reflection characteristics by defining a minimum value of reflectance in a short wavelength region to a long wavelength region.

この特開平10−195636号は、短波長領域から長波長領域における反射率の最低値を規定するに過ぎず、短波長領域及び長波長領域の反射率を低くするという発想がない。即ち、短波長領域及び長波長領域における反射率が高いものも含むものである。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195636 merely defines the minimum value of the reflectance from the short wavelength region to the long wavelength region, and has no idea of reducing the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region. That is, it includes those having high reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region.

本発明は、上述のような現状に鑑み成されたもので、短波長領域及び長波長領域の反射率に着目し、中波長領域における反射率を所定の反射率に抑えると共に、短波長領域及び長波長領域における反射率も低く抑えることで、反射色の色目がきつくなるという問題を解決して良好な映像を鑑賞できる極めて実用性に秀れた反射防止フィルムを提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the current situation as described above, and pays attention to the reflectance of the short wavelength region and the long wavelength region, suppresses the reflectance in the medium wavelength region to a predetermined reflectance, An object of the present invention is to provide an anti-reflection film that is extremely practical and capable of resolving the problem that the color of the reflected color becomes tight by suppressing the reflectance in the long wavelength region to be low, and that allows viewing a good image.

本発明の要旨を説明する。   The gist of the present invention will be described.

基材上に、ウェット法によりハードコート層,高屈折率層,低屈折率層が順次積層形成された反射防止フィルムであって、前記ハードコート層は、屈折率が1.45〜1.55厚さが2〜7μmに設定され、前記高屈折率層は、屈折率が1.60〜1.70厚さが120〜140nmに設定され、前記低屈折率層は、屈折率が1.38〜1.45厚さが70〜90nmに設定され、更に、5度入射における鏡面反射率が、540〜630nmまでの中波長領域において1.5%以下であり、380〜480nmまでの短波長領域において2.5%以下であり、680〜780nmまでの長波長領域において3.0%以下であることを特徴とする反射防止フィルムに係るものである。 On a substrate, the hard coat layer by a wet method, the high refractive index layer, a anti-reflection film having a low refractive index layer are sequentially stacked, wherein the hard coat layer, the refractive index 1.45 to 1.55 The thickness is set to 2 to 7 μm, the high refractive index layer has a refractive index of 1.60 to 1.70, the thickness is set to 120 to 140 nm, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.38. The thickness is set to 70 to 90 nm, and the specular reflectance at 5 degrees incidence is 1.5% or less in the medium wavelength region up to 540 to 630 nm, and the short wavelength region up to 380 to 480 nm Is 2.5 % or less , and is 3.0 % or less in the long wavelength region from 680 to 780 nm.

また、請求項1記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材の厚さが50〜200μmに設定されていることを特徴とする反射防止フィルムに係るものである。 Further, the antireflection film of claim 1 Symbol placement, thickness of the substrate is related to the anti-reflection film characterized in that it is set to 50 to 200 [mu] m.

また、請求項記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材として、トリアセチルセルロースフィルム若しくはポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明基材が採用されていることを特徴とする反射防止フィルムに係るものである。 The antireflection film according to claim 2 , wherein a transparent substrate such as a triacetyl cellulose film or a polyethylene terephthalate film is employed as the substrate.

また、請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルムにおいて、ヘーズが2.0%以下に設定されていることを特徴とする反射防止フィルムに係るものである。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the haze is set to 2.0% or less.

本発明は上述のように構成したから、中波長領域における反射率を所定の反射率に抑えると共に、短波長領域及び長波長領域における反射率も低く抑えることで、反射色の色目がきつくなるという問題を解決して良好な映像を鑑賞できる極めて実用性に秀れた反射防止フィルムとなる。   Since the present invention is configured as described above, the reflectance in the middle wavelength region is suppressed to a predetermined reflectance, and the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is also suppressed to a low level, so that the color of the reflected color becomes tight. It becomes an anti-reflective film excellent in practicality that can solve the problem and appreciate a good image.

好適と考える本発明の実施の形態を、その作用効果を示して簡単に説明する。   The preferred embodiment of the present invention will be briefly described by showing its effects.

ハードコート層,高屈折率層,低屈折率層の膜厚及び屈折率を適宜設定することで、これらが基材上に順次形成された反射防止フィルムは、中波長領域における反射率が所定の反射率に抑えられ、且つ、短波長領域及び長波長領域における反射率が低く抑えられた反射防止フィルムとなる。よって、本発明は、中波長領域における反射率を所定の反射率に抑えると共に、短波長領域及び長波長領域における反射率も低く抑えることで、反射色の色目がきつくなるという問題を解決して良好な映像を鑑賞できる極めて実用性に秀れた反射防止フィルムとなる。   By appropriately setting the film thickness and refractive index of the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, the antireflection film in which these are sequentially formed on the substrate has a predetermined reflectance in the medium wavelength region. The antireflection film is suppressed to reflectivity and has low reflectivity in the short wavelength region and the long wavelength region. Therefore, the present invention solves the problem that the color of the reflected color becomes tight by suppressing the reflectance in the medium wavelength region to a predetermined reflectance and also suppressing the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region low. It becomes an anti-reflection film with excellent practicality that allows viewing of good images.

本発明の具体的な実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described.

本実施例は、基材上に、ウエット法によりハードコート層,高屈折率層,低屈折率層が順次積層された反射防止フィルムであって、5度入射における鏡面反射率が、380〜480nmまでの短波長領域において3.0%以下に設定され、且つ、680〜780nmまでの長波長領域において5.0%以下に設定されているものである。   This example is an antireflection film in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially laminated on a substrate by a wet method, and the specular reflectance at 5 degrees incidence is 380 to 480 nm. In the short wavelength region up to 3.0%, it is set to 3.0% or less, and in the long wavelength region up to 680 to 780 nm, it is set to 5.0% or less.

具体的には、本実施例は、540〜630nmまでの中波長領域における反射率を低く設定しつつ、前記短波長領域及び長波長領域における反射率を低く設定したものであり、5度入射における鏡面反射率が、前記中波長領域において1.5%以下に設定され、前記短波長領域において2.5%以下に設定され、前記長波長領域において3.0%以下に設定されているものである。   Specifically, in this embodiment, the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is set low while the reflectance in the medium wavelength region from 540 to 630 nm is set low. The specular reflectance is set to 1.5% or less in the medium wavelength region, set to 2.5% or less in the short wavelength region, and set to 3.0% or less in the long wavelength region. is there.

各部を具体的に説明する。   Each part will be specifically described.

基材としてはトリアセチルセルロース(TAC)フィルム若しくはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の透明基材を採用する。また、この基材の厚さは50〜200μm程度に設定する。本実施例においては、厚さ80μmのTACフィルムが採用されている。   A transparent substrate such as a triacetyl cellulose (TAC) film or a polyethylene terephthalate (PET) film is employed as the substrate. Moreover, the thickness of this base material is set to about 50-200 micrometers. In this embodiment, a TAC film having a thickness of 80 μm is employed.

ハードコート層としては、屈折率が1.45〜1.55のものが採用されている。また、厚さは2〜7μm程度に設定する。   A hard coat layer having a refractive index of 1.45 to 1.55 is employed. The thickness is set to about 2 to 7 μm.

具体的には、前記基材の片面に乾燥硬化後の屈折率が1.51となる無機質含有紫外線硬化型樹脂を、乾燥硬化後の厚さが5μmになるように塗布した後、40〜100℃で1〜5分乾燥し、高圧水銀ランプで積算光量が100〜2000mJ/cmになるように紫外線を照射し硬化させることで形成されている。 Specifically, after applying an inorganic-containing ultraviolet curable resin having a refractive index of 1.51 after drying and curing to one surface of the substrate so that the thickness after drying and curing becomes 5 μm, 40 to 100 It is formed by drying at 1 ° C. for 1 to 5 minutes and irradiating it with ultraviolet rays and curing it with a high-pressure mercury lamp so that the integrated light quantity becomes 100 to 2000 mJ / cm 2 .

高屈折率層は、屈折率が1.60〜1.70のものが採用されている。また、厚さは120〜140nm程度に設定する。   The high refractive index layer has a refractive index of 1.60 to 1.70. The thickness is set to about 120 to 140 nm.

具体的には、ハードコート層が形成された基材上に乾燥硬化後の屈折率が1.61となる金属酸化物微粒子分散紫外線硬化型樹脂溶液を、乾燥硬化後の厚さが130nmになるように塗布した後、40〜100℃で1〜5分乾燥し、高圧水銀ランプで積算光量が100〜2000mJ/cmになるように紫外線を照射し硬化させることで形成されている。 Specifically, a metal oxide fine particle-dispersed ultraviolet curable resin solution having a refractive index after drying and curing of 1.61 on a substrate on which a hard coat layer is formed has a thickness after drying and curing of 130 nm. After coating, the film is dried at 40 to 100 ° C. for 1 to 5 minutes, and irradiated with ultraviolet rays and cured so as to have an integrated light quantity of 100 to 2000 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp.

低屈折率層は、屈折率が1.38〜1.45のものが採用されている。また、厚さは70〜90nm程度に設定する。   The low refractive index layer has a refractive index of 1.38 to 1.45. The thickness is set to about 70 to 90 nm.

具体的には、前記ハードコート層及び高屈折率層が形成された基材上に乾燥硬化後の屈折率が1.40となるフッ素系熱硬化型樹脂溶液を、乾燥硬化後の厚さが80nmになるように塗布した後、80〜150℃で10〜30分乾燥し、硬化させることで形成されている。   Specifically, a fluorine-based thermosetting resin solution having a refractive index after drying and curing of 1.40 on a substrate on which the hard coat layer and the high refractive index layer are formed has a thickness after drying and curing. After coating to 80 nm, it is formed by drying at 80 to 150 ° C. for 10 to 30 minutes and curing.

また、本実施例は、ヘーズが2.0%以下となるように設定されている。   In this embodiment, the haze is set to 2.0% or less.

尚、本実施例は、基材の片面にハードコート層,高屈折率層及び低屈折率層を形成した構成であるが、基材の両面に夫々ハードコート層,高屈折率層及び低屈折率層を形成した構成としても良い。   In addition, although a present Example is the structure which formed the hard-coat layer, the high refractive index layer, and the low-refractive-index layer on the single side | surface of a base material, a hard-coat layer, a high-refractive-index layer, and a low refractive index were respectively formed on both surfaces of a base material. It is good also as a structure which formed the rate layer.

ハードコート層の屈折率が1.55を超える場合には、全波長領域における反射率が高くなる等の問題が生じ、また、1.45未満の場合には、所望の反射率を得ることができない等の問題が生じる。 The case where the refractive index of the hard coat layer exceeds 1.5 5, problems arise such that reflectance in the entire wavelength range is high, also in the case of less than 1.4 5, desired reflectance Problems such as inability to obtain

また、ハードコート層の厚さが7μmを超える場合には、その分コスト高となり、また、手扱いが悪くなり該ハードコート層が割れたりする等の問題が生じ、2μm未満の場合には、ハードコート層の特性が低下し耐擦傷性が悪くなる等の問題が生じる。 Further, in the case where the thickness of the hard coat layer exceeds 7 [mu] m, becomes correspondingly high cost, also cause problems such as hand handle is cracked poor becomes the hard coat layer, in the case of less than 2.mu. m Causes problems such as deterioration of the properties of the hard coat layer and deterioration of scratch resistance.

高屈折率層の屈折率が1.70を超える場合には、長波長領域における反射率が高くなる等の問題が生じ、1.60未満の場合には、短波長領域における反射率が高くなる等の問題が生じる。 The If the refractive index exceeds 1.7 0 of the high refractive index layer, there is a problem such that the reflectance is high in the long wavelength region, in the case of less than 1.6 0, the reflectance in the short wavelength region Problems such as high.

また、高屈折率層の厚さが140nmを超える場合には、長波長領域における反射率が高くなる等の問題が生じ、120nm未満の場合には、短波長領域における反射率が高くなる等の問題が生じる。 Further, in the case where the thickness exceeds 140n m high refractive index layer, there is a problem such that the reflectance is high in the long wavelength region, the case of less than 120n m, the reflectance in the short wavelength region Problems such as highs occur.

低屈折率層の屈折率が1.45を超える場合には、短波長領域における反射率が高くなったり、全体の反射率が高くなる等の問題が生じ、1.38未満の場合には、ドライ法やウエット法によっては材料特性,技術特性的に製作不能(現状では1.38が最低値)となる。 The case where the refractive index of the low refractive index layer is more than 1.4 5, or higher reflectance in the short wavelength region, a problem occurs such that the overall reflectance is high, if it is less than 1.3 8 However, depending on the dry method or the wet method, the material and technical characteristics cannot be manufactured (currently 1.38 is the lowest value).

また、低屈折率層の厚さが90nmを超える場合には、所望の反射率を得ることができない等の問題が生じ、70nm未満の場合には、同様に所望の反射率を得ることができない等の問題が生じる。 The case where the thickness of the low refractive index layer exceeds 90 nm, problems arise such that it is impossible to obtain a desired reflectivity, in the case of less than 70n m is to obtain the desired reflectance in the same manner The problem of not being able to occur occurs.

基材の厚さが200μmを超える場合には、手扱いが悪くなったり、製作がコスト高となったり、生産性が低下する等の問題が生じ、50μm未満の場合には、手扱いが悪くなったり、基材が切れやすくなったり、所定の膜厚を塗布することが困難となり生産性が低下する等の問題が生じる。 The case where the thickness of the substrate is greater than 200 [mu] m, or hand handling becomes worse, or it manufacture and high cost, problems arise such that the productivity is lowered, in the case of less than 50.mu. m, Hand treats This causes problems such as deterioration of the substrate, easy cutting of the base material, difficulty in applying a predetermined film thickness, and reduced productivity.

以上、各層の屈折率及び厚さを上述の数値範囲内に設定すると、中波長領域における反射率を極めて低く抑えつつ、短波長領域及び長波長領域における反射率を極めて低く抑えることができ、赤や青の色目がきつくなることが確実に阻止され、よって、淡い反射色を与え、色目がきつくないものとなることを確認している。   As described above, when the refractive index and thickness of each layer are set within the above numerical range, the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region can be suppressed extremely low while the reflectance in the medium wavelength region is extremely low. It has been confirmed that the tint of blue and blue is surely prevented, giving a light reflected color and making the tint inconspicuous.

尚、5度入射における鏡面反射率とは、サンプルの法線方向+5度から入射した光に対する法線方向−5度で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度を示すものである。   The specular reflectivity at 5 degrees incidence is the ratio of the intensity of light reflected at -5 degrees normal to the incident light from the normal direction +5 degrees of the sample, and is a measure of reflection due to specular reflection of the background. Is shown.

本実施例は上述のように構成したから、ハードコート層,高屈折率層,低屈折率層の膜厚及び屈折率を適宜設定することで、これらが基材上に順次形成された反射防止フィルムは、中波長領域における反射率が所定の反射率に抑えられ、且つ、短波長領域及び長波長領域における反射率が低く抑えられた反射防止フィルムとなる。よって、本実施例は、中波長領域における反射率を所定の反射率に抑えると共に、短波長領域及び長波長領域における反射率も低く抑えることで、反射色の色目がきつくなるという問題を解決して良好な映像を鑑賞できる極めて実用性に秀れた反射防止フィルムとなる。   Since the present embodiment is configured as described above, by appropriately setting the film thickness and refractive index of the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, these are sequentially formed on the base material to prevent reflection. The film becomes an antireflection film in which the reflectance in the medium wavelength region is suppressed to a predetermined reflectance, and the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is suppressed low. Therefore, this embodiment solves the problem that the color of the reflected color becomes tight by suppressing the reflectance in the medium wavelength region to a predetermined reflectance and also suppressing the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region low. It is an anti-reflective film with excellent practicality that allows users to appreciate good images.

本実施例と比較例との反射率の比較結果を図2に示す。   FIG. 2 shows a comparison result of the reflectance between this example and the comparative example.

比較例1は図1に示したように、高屈折率層の乾燥硬化後の厚さが110nmになるように塗布した以外は本実施例と同様の構成であり、比較例2は、低屈折率層の乾燥硬化後の厚さが60nmに塗布した以外は本実施例と同様の構成である。   As shown in FIG. 1, the comparative example 1 has the same configuration as that of this example except that the high refractive index layer was applied so that the thickness after drying and curing was 110 nm. The comparative example 2 has a low refractive index. The structure is the same as that of this example except that the thickness of the rate layer after being dried and cured is 60 nm.

尚、ハードコート層の厚さは、JIS B 7502に規定されたマイクロメータを用いて測定した。また、高屈折率層及び低屈折率層の膜厚は、透過型電子顕微鏡を用いて測定した。また、各層の屈折率は、基材上に直接、各層を形成させ、大塚電子(株)製の反射分光膜厚計FE−3000を用いて測定した。また、反射率は、反射防止フィルムの測定面と反対側の面に、クロスニコルに貼合した偏光板を貼り付け、反射防止層が形成された測定面の入射角度5度における鏡面反射スペクトルを、(株)島津製作所製の分光光度計UV−3150を用いて測定した。   The thickness of the hard coat layer was measured using a micrometer defined in JIS B 7502. The film thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer were measured using a transmission electron microscope. The refractive index of each layer was measured using a reflection spectral film thickness meter FE-3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., with each layer formed directly on the substrate. Also, the reflectance is a specular reflection spectrum at an incident angle of 5 degrees on the measurement surface on which the antireflection layer is formed by attaching a polarizing plate bonded to crossed Nicol on the surface opposite to the measurement surface of the antireflection film. , And measured using a spectrophotometer UV-3150 manufactured by Shimadzu Corporation.

種々の実験により、他の数値を好適に設定しても、高屈折率層の厚さが下限、即ち、120nm以下の場合には、短波長領域における反射率が高くなって反射色の色目がきつくなることが確認でき、同様に、低屈折率層の厚さが下限、即ち、70nm以下の場合には、長波長領域における反射率が高くなって反射色の色目がきつなくることが確認できた。尚、上述の例に限らず、他の構成を上述の数値範囲外のものとしても同様に、短波長領域及び長波長領域における反射率が高くなり反射色の色目がきつくなることも確認済みである。   Even if other numerical values are suitably set by various experiments, when the thickness of the high refractive index layer is the lower limit, that is, 120 nm or less, the reflectance in the short wavelength region becomes high and the color of the reflected color becomes Similarly, when the thickness of the low refractive index layer is the lower limit, that is, 70 nm or less, it is confirmed that the reflectance in the long wavelength region is high and the color of the reflected color is not tight. did it. In addition, it is not limited to the above example, and it has been confirmed that the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region becomes high and the color of the reflected color becomes stiff even if other configurations are outside the above numerical range. is there.

即ち、本実施例は、ハードコート層,高屈折率層及び低屈折率層の屈折率及び厚さを上述の範囲内とすることで、中波長領域における反射率が所定の反射率に抑えられ、且つ、短波長領域及び長波長領域における反射率を低く抑えて反射色の色目がきつくないものとなることが確認できた。   That is, in this example, the reflectance in the medium wavelength region is suppressed to a predetermined reflectance by setting the refractive index and thickness of the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer within the above-described ranges. In addition, it was confirmed that the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is suppressed to be low, and the color of the reflected color is not stiff.

本実施例及び比較例の構成を示す表である。It is a table | surface which shows the structure of a present Example and a comparative example. 本実施例及び比較例の反射率を示すグラフである。It is a graph which shows the reflectance of a present Example and a comparative example.

Claims (4)

基材上に、ウェット法によりハードコート層,高屈折率層,低屈折率層が順次積層形成された反射防止フィルムであって、前記ハードコート層は、屈折率が1.45〜1.55厚さが2〜7μmに設定され、前記高屈折率層は、屈折率が1.60〜1.70厚さが120〜140nmに設定され、前記低屈折率層は、屈折率が1.38〜1.45厚さが70〜90nmに設定され、更に、5度入射における鏡面反射率が、540〜630nmまでの中波長領域において1.5%以下であり、380〜480nmまでの短波長領域において2.5%以下であり、680〜780nmまでの長波長領域において3.0%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。 On a substrate, the hard coat layer by a wet method, the high refractive index layer, a anti-reflection film having a low refractive index layer are sequentially stacked, wherein the hard coat layer, the refractive index 1.45 to 1.55 The thickness is set to 2 to 7 μm, the high refractive index layer has a refractive index of 1.60 to 1.70, the thickness is set to 120 to 140 nm, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.38. The thickness is set to 70 to 90 nm, and the specular reflectance at 5 degrees incidence is 1.5% or less in the medium wavelength region up to 540 to 630 nm, and the short wavelength region up to 380 to 480 nm Is 2.5 % or less , and is 3.0 % or less in a long wavelength region from 680 to 780 nm. 請求項1記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材の厚さが50〜200μmに設定されていることを特徴とする反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1 Symbol placement, antireflection film thickness of said substrate is that it is set to 50 to 200 [mu] m. 請求項記載の反射防止フィルムにおいて、前記基材として、トリアセチルセルロースフィルム若しくはポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明基材が採用されていることを特徴とする反射防止フィルム。 3. The antireflection film according to claim 2 , wherein a transparent substrate such as a triacetyl cellulose film or a polyethylene terephthalate film is employed as the substrate. 請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルムにおいて、ヘーズが2.0%以下に設定されていることを特徴とする反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the haze is set to 2.0% or less.
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