JP2018158466A - Method for manufacturing actuator device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To avoid an increase in a size of an actuator device, and surely perform electrical connection between individual wires and individual contact points.SOLUTION: In an overlapping region overlapping a flow channel substrate 11 in a COF 18, a region which does not include a plurality of individual wires 18f and includes at least a part of each common wire 18g is represented by a first region R1, and a region including all of the plurality of individual wires 18f is represented by a second region R2. An adhesive A is interposed between the flow channel substrate 11 and the COF 18, the COF 18 and the flow channel substrate 11 are heated at a uncured temperature that is lower than a curing temperature of the adhesive A and prevents the adhesive A to be cured, and the COF 18 is temporarily bonded to the flow channel substrate 11. Then, the first region R1 is heated and pressurized at the curing temperature at which the adhesive A is cured, and then the second region R2 is heated and pressurized at a curing temperature at which the adhesive A is cured. A shortest distance (distance S) from the outer edge of each of the first regions R1 to the plurality of individual wires 18f is the minimum interval (interval D) of the plurality of individual wires 18f, or more.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、熱硬化性の接着剤を用いて配線基板をアクチュエータ基板に接着する接着工程を備えたアクチュエータ装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an actuator device including an adhesion step of adhering a wiring board to an actuator substrate using a thermosetting adhesive.

アクチュエータ装置の製造方法において、熱硬化性の接着剤を用いて配線基板をアクチュエータ基板に接着する技術が知られている。例えば、特許文献1(請求項1、段落0021−0024、図3及び図4)には、ヘッドチップ(アクチュエータ基板)とフレキシブル基板(配線基板)との間に異方性導電シートを介在させて、配線基板の両端近傍を熱圧着する仮圧着工程と、仮圧着工程の後、配線基板の中央領域を熱圧着する本圧着工程とを備えた製造方法の例が示されている。なお、上記の例では、配線基板の両端近傍に端子が設けられていない。また、特許文献1(図8)には、配線基板の両端近傍に共通配線を設けた例が示されている。   In a method for manufacturing an actuator device, a technique for bonding a wiring board to an actuator board using a thermosetting adhesive is known. For example, in Patent Document 1 (Claim 1, paragraphs 0021-0024, FIGS. 3 and 4), an anisotropic conductive sheet is interposed between a head chip (actuator substrate) and a flexible substrate (wiring substrate). An example of a manufacturing method including a temporary pressure-bonding process in which the vicinity of both ends of the wiring board is thermocompression bonded and a main pressure-bonding process in which a central region of the wiring board is thermocompression bonded after the temporary pressure bonding process is shown. In the above example, terminals are not provided near both ends of the wiring board. Patent Document 1 (FIG. 8) shows an example in which common wiring is provided in the vicinity of both ends of a wiring board.

特開2016−30402号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-30402

特許文献1(図3及び図4)では、配線基板の両端近傍に端子が設けられていない。したがって、流路基板及び配線基板に、仮圧着工程のための余分な領域が必要となり、アクチュエータ装置の大型化につながる。   In Patent Document 1 (FIGS. 3 and 4), no terminals are provided near both ends of the wiring board. Therefore, an extra area for the temporary crimping process is required on the flow path substrate and the wiring substrate, leading to an increase in the size of the actuator device.

また、特許文献1(図8)では、配線基板の両端近傍に端子が設けられているものの、仮圧着工程における加圧領域(両端近傍)の外縁から個別配線までの最短距離が、複数の個別配線同士の最小間隔よりも小さい。本願発明者は、このような場合に以下のような問題が生じ得ることを知見した。   In Patent Document 1 (FIG. 8), although terminals are provided in the vicinity of both ends of the wiring board, the shortest distance from the outer edge of the pressurization region (near both ends) to the individual wiring in the temporary press-bonding process is plural. It is smaller than the minimum interval between wirings. The inventor of the present application has found that the following problems may occur in such a case.

配線基板のある領域を加熱加圧すると、当該領域のみならず、当該領域の周囲領域においても、加熱により接着剤の反応が進む。つまり、周囲領域において、接着剤が適正な加圧を受ける前に半硬化してしまう。そのため、加圧領域の外側に個別配線が配置されている場合において、加圧領域の外縁から個別配線までの最短距離が小さいと、個別配線が設けられた部分が半硬化し、個別配線と個別接点との電気的接続が適切になされない問題が生じ得る。   When a certain area of the wiring board is heated and pressurized, the reaction of the adhesive proceeds by heating not only in the area but also in the surrounding area. In other words, in the surrounding area, the adhesive is semi-cured before receiving an appropriate pressure. Therefore, when the individual wiring is arranged outside the pressurization area, if the shortest distance from the outer edge of the pressurization area to the individual wiring is small, the part where the individual wiring is provided is semi-cured, and the individual wiring and the individual wiring There may be a problem that the electrical connection with the contact is not properly made.

本発明の目的は、アクチュエータ装置の大型化を回避できると共に、個別配線と個別接点との電気的接続を確実に行うことが可能な、アクチュエータ装置の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an actuator device that can avoid an increase in size of the actuator device and can reliably perform electrical connection between individual wirings and individual contacts.

第1の観点において、本発明に係るアクチュエータ装置の製造方法は、複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線を含まずかつ前記共通配線の少なくとも一部を含む領域を第1領域とし、前記複数の個別配線の全てを含む領域を第2領域とした場合に、前記接着工程は、前記第1領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第1接着工程と、前記第1接着工程の後、前記第2領域を前記硬化温度で加熱加圧する第2接着工程とを含み、前記第1領域の外縁から前記複数の個別配線までの最短距離を前記複数の個別配線同士の最小間隔以上とすることを特徴とする。   In a first aspect, a method of manufacturing an actuator device according to the present invention includes a thermosetting adhesive between an actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire. And bonding the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires, respectively, and electrically connecting the common contacts and the common wires, and the actuator substrate in the wiring substrate. In an overlapping region overlapping with the first region, the region that does not include the plurality of individual wires and includes at least a part of the common wires, and the second region is a region that includes all of the plurality of individual wires, The bonding step includes a first bonding step in which the first region is heated and pressed at a curing temperature at which the adhesive is cured, and after the first bonding step, the second region is moved to the hard region. And a second bonding step of applying heat and pressure at a temperature, characterized in that the shortest distance from the outer edge of the first region to the plurality of individual wires to more minimum spacing between said plurality of individual wires.

第2の観点において、本発明に係るアクチュエータ装置の製造方法は、複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線を含まずかつ前記共通配線の少なくとも一部を含む領域を第1領域とし、前記複数の個別配線の全てを含む領域を第2領域とした場合に、前記接着工程は、前記第2領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第3接着工程と、前記第3接着工程の後、前記第1領域を前記硬化温度で加熱加圧する第4接着工程とを含むことを特徴とする。   In a second aspect, a method for manufacturing an actuator device according to the present invention includes an actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire via a thermosetting adhesive. And bonding the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires, respectively, and electrically connecting the common contacts and the common wires, and the actuator substrate in the wiring substrate. In an overlapping region overlapping with the first region, the region that does not include the plurality of individual wires and includes at least a part of the common wires, and the second region is a region that includes all of the plurality of individual wires, In the bonding step, the second region is heated and pressed at a curing temperature at which the adhesive is cured, and after the third bonding step, the first region is moved to the hard region. Characterized in that it comprises a fourth bonding step of applying heat and pressure at a temperature.

第3の観点において、本発明に係るアクチュエータ装置の製造方法は、複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線の全てを含みかつ前記共通配線の少なくとも一部を含まない領域を第3領域とし、前記重複領域の全体を第4領域とした場合に、前記接着工程は、前記第3領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第5接着工程と、前記第5接着工程の後、前記第4領域を前記硬化温度で加熱加圧する第6接着工程とを含むことを特徴とする。   In a third aspect, a method for manufacturing an actuator device according to the present invention includes an actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire via a thermosetting adhesive. And bonding the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires, respectively, and electrically connecting the common contacts and the common wires, and the actuator substrate in the wiring substrate. In the overlapping region overlapping with the plurality of individual wirings and a region not including at least a part of the common wiring as a third region and the entire overlapping region as a fourth region, the bonding step Is a fifth bonding step in which the third region is heated and pressurized at a curing temperature at which the adhesive is cured, and after the fifth bonding step, the fourth region is at the curing temperature. Characterized in that it comprises a sixth bonding step of applying heat pressure.

本発明の第1実施形態に係るヘッド1を備えたプリンタ100の概略的な平面図である。1 is a schematic plan view of a printer 100 including a head 1 according to a first embodiment of the present invention. ヘッド1の平面図である。2 is a plan view of the head 1. FIG. 図2のIII−III線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the III-III line of FIG. 図2のIV−IV線に沿った断面図(振動板12a、共通電極12b及び層間絶縁膜12iの図示略)である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 2 (illustration of the diaphragm 12a, the common electrode 12b, and the interlayer insulating film 12i is omitted). ヘッド1の製造方法を示すフロー図である。3 is a flowchart showing a method for manufacturing the head 1. FIG. ヘッド1の製造過程を示す図4に対応する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4 illustrating a manufacturing process of the head 1. 本発明の第2実施形態に係るヘッド201の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。FIGS. 6A and 6B are cross-sectional views corresponding to FIGS. 6B and 6C showing the manufacturing process of the head 201 according to the second embodiment of the present invention. FIGS. 本発明の第3実施形態に係るヘッド301の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG.6 (b), (c) which shows the manufacture process of the head 301 which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係るヘッド401の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG.6 (b), (c) which shows the manufacture process of the head 401 which concerns on 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態に係るヘッド501の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG.6 (b), (c) which shows the manufacture process of the head 501 which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態に係るヘッド601の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG.6 (b), (c) which shows the manufacture process of the head 601 which concerns on 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7実施形態に係るヘッド701の製造過程を示す図6(b),(c)に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG.6 (b), (c) which shows the manufacture process of the head 701 which concerns on 7th Embodiment of this invention.

<第1実施形態>
先ず、図1を参照し、本発明の第1実施形態に係るヘッド1を含むヘッドユニット1xを備えたプリンタ100の全体構成について説明する。ヘッド1は、本発明のアクチュエータ装置に該当する。プリンタ100は、ヘッドユニット1xの他、プラテン3、搬送機構4及び制御装置5を備えている。
<First Embodiment>
First, an overall configuration of a printer 100 including a head unit 1x including the head 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The head 1 corresponds to the actuator device of the present invention. The printer 100 includes a platen 3, a transport mechanism 4, and a control device 5 in addition to the head unit 1x.

ヘッドユニット1xは、ライン式(即ち、位置が固定された状態で用紙9に対してインクを吐出する方式)であり、搬送方向と直交する方向に長尺である。ヘッドユニット1xは、搬送方向と直交する方向に沿って千鳥状に配置された4つのヘッド1を含む。4つのヘッド1は、互いに同じ構造を有する。各ヘッド1は、複数のノズル11n(図2及び図3参照)からインクを吐出する。   The head unit 1x is a line type (that is, a system that ejects ink to the paper 9 in a state where the position is fixed), and is long in a direction orthogonal to the transport direction. The head unit 1x includes four heads 1 arranged in a staggered manner along a direction orthogonal to the transport direction. The four heads 1 have the same structure. Each head 1 ejects ink from a plurality of nozzles 11n (see FIGS. 2 and 3).

プラテン3は、ヘッドユニット1xの下方に配置されている。プラテン3に支持された用紙9上に、各ヘッド1からインクが吐出される。   The platen 3 is disposed below the head unit 1x. Ink is ejected from each head 1 onto the paper 9 supported by the platen 3.

搬送機構4は、搬送方向にプラテン3を挟んで配置された2つのローラ対4a,4bを有する。搬送モータ4mの駆動により、各ローラ対4a,4bを構成する2つのローラが用紙9を挟持した状態で互いに逆方向に回転することで、用紙9が搬送方向に搬送される。   The transport mechanism 4 includes two roller pairs 4a and 4b arranged with the platen 3 sandwiched in the transport direction. By driving the transport motor 4m, the two rollers constituting each of the roller pairs 4a and 4b rotate in opposite directions while sandwiching the paper 9, whereby the paper 9 is transported in the transport direction.

制御装置5は、PC等の外部装置から入力された記録指令に基づいて、用紙9に画像が記録されるように、4つのヘッド1、搬送モータ4m等を制御する。   The control device 5 controls the four heads 1, the transport motor 4m, and the like so that an image is recorded on the paper 9 based on a recording command input from an external device such as a PC.

次いで、図2〜図4を参照し、ヘッド1の構成について説明する。ヘッド1は、流路基板11、アクチュエータ12及びCOF18を有する。流路基板11は本発明のアクチュエータ基板に該当し、COF18は本発明の配線基板に該当する。   Next, the configuration of the head 1 will be described with reference to FIGS. The head 1 includes a flow path substrate 11, an actuator 12, and a COF 18. The flow path substrate 11 corresponds to the actuator substrate of the present invention, and the COF 18 corresponds to the wiring substrate of the present invention.

流路基板11は、図3に示すように、リザーバ部材11a、圧力室プレート11b及びノズルプレート11cを有し、これらが互いに接着されて構成されている。流路基板11には、図2及び図3に示すように、リザーバ11s、複数の圧力室11m、複数のダミー圧力室11md、複数のノズル11n及び複数のダミーノズル11ndが形成されている。   As shown in FIG. 3, the flow path substrate 11 includes a reservoir member 11a, a pressure chamber plate 11b, and a nozzle plate 11c, which are bonded to each other. 2 and 3, a reservoir 11s, a plurality of pressure chambers 11m, a plurality of dummy pressure chambers 11md, a plurality of nozzles 11n, and a plurality of dummy nozzles 11nd are formed on the flow path substrate 11.

圧力室プレート11bは、シリコン単結晶基板からなり、複数の圧力室11m及び複数のダミー圧力室11mdが貫通して形成されている。複数の圧力室11m及び複数のダミー圧力室11mdは、互いに同じ形状及びサイズを有する。   The pressure chamber plate 11b is made of a silicon single crystal substrate, and has a plurality of pressure chambers 11m and a plurality of dummy pressure chambers 11md formed therethrough. The plurality of pressure chambers 11m and the plurality of dummy pressure chambers 11md have the same shape and size.

複数の圧力室11mは、図2に示すように、2つの圧力室列11mRを構成するように配列されている。各圧力室列11mRを構成する複数の圧力室11mは、配列方向(搬送方向と直交する方向)に等間隔で配列されている。2つの圧力室列11mRは、配列方向と直交する方向(搬送方向と平行な方向)に並んでいる。複数の圧力室11mは、それぞれ配列方向の位置が異なるように、千鳥状に配列されている。   As shown in FIG. 2, the plurality of pressure chambers 11m are arranged to form two pressure chamber rows 11mR. The plurality of pressure chambers 11m constituting each pressure chamber row 11mR are arranged at equal intervals in the arrangement direction (direction orthogonal to the transport direction). The two pressure chamber rows 11mR are arranged in a direction orthogonal to the arrangement direction (a direction parallel to the transport direction). The plurality of pressure chambers 11m are arranged in a staggered manner so that the positions in the arrangement direction are different from each other.

複数のダミー圧力室11mdは、各圧力室列11mRの両端に、1つずつ配置されている。複数の圧力室11mと複数のダミー圧力室11mdとは、複数の圧力室11mの配列方向に、等間隔で、1つのダミー圧力室11mdが配列方向の両側の末端に位置するように、配列されている。   The plurality of dummy pressure chambers 11md are arranged one by one at both ends of each pressure chamber row 11mR. The plurality of pressure chambers 11m and the plurality of dummy pressure chambers 11md are arranged at equal intervals in the arrangement direction of the plurality of pressure chambers 11m so that one dummy pressure chamber 11md is positioned at both ends in the arrangement direction. ing.

ノズルプレート11cには、複数のノズル11n及び複数のダミーノズル11ndが貫通して形成されている。複数のノズル11nは複数の圧力室11mのそれぞれと連通し、複数のダミーノズル11ndは複数のダミー圧力室11mdのそれぞれと連通している。複数のノズル11n及び複数のダミーノズル11ndは、互いに同じ形状及びサイズを有する。ノズルプレート11cは、圧力室プレート11bの下面に接着されている。   A plurality of nozzles 11n and a plurality of dummy nozzles 11nd are formed through the nozzle plate 11c. The plurality of nozzles 11n communicate with each of the plurality of pressure chambers 11m, and the plurality of dummy nozzles 11nd communicate with each of the plurality of dummy pressure chambers 11md. The plurality of nozzles 11n and the plurality of dummy nozzles 11nd have the same shape and size. The nozzle plate 11c is bonded to the lower surface of the pressure chamber plate 11b.

複数のノズル11nは、図2に示すように、複数の圧力室11mと同様、2列に配列されると共に、それぞれ配列方向の位置が異なるように千鳥状に配列されている。   As shown in FIG. 2, the plurality of nozzles 11n are arranged in two rows, like the plurality of pressure chambers 11m, and are arranged in a staggered manner so that the positions in the arrangement direction are different from each other.

複数のダミーノズル11ndは、複数のダミー圧力室11mdと同様、各ノズル列の両端に、1つずつ配置されている。   The plurality of dummy nozzles 11nd are arranged one by one at both ends of each nozzle row, like the plurality of dummy pressure chambers 11md.

複数のノズル11nは、アクチュエータ12の活性部12xの駆動により対応する圧力室11mの容積が変化することに伴い、インクを吐出する。一方、複数のダミーノズル11ndは、ダミー圧力室11mdと対向する位置に活性部12xが設けられているが活性部12xが駆動されないことから、インクを吐出しない。   The plurality of nozzles 11n eject ink as the volume of the corresponding pressure chamber 11m changes by driving the active portion 12x of the actuator 12. On the other hand, the plurality of dummy nozzles 11nd are provided with the active portion 12x at a position facing the dummy pressure chamber 11md, but the active portion 12x is not driven, and thus does not eject ink.

アクチュエータ12は、図3に示すように、圧力室プレート11bの上面に配置されている。アクチュエータ12は、下から順に、振動板12a、共通電極12b、一対の圧電体12c及び複数の個別電極12dを含む。   As shown in FIG. 3, the actuator 12 is arranged on the upper surface of the pressure chamber plate 11b. The actuator 12 includes a diaphragm 12a, a common electrode 12b, a pair of piezoelectric bodies 12c, and a plurality of individual electrodes 12d in order from the bottom.

振動板12aは、圧力室プレート11bを構成するシリコン単結晶基板の表面を酸化することにより形成された二酸化シリコンの膜であり、圧力室プレート11bの上面の略全体に形成されている。   The vibration plate 12a is a silicon dioxide film formed by oxidizing the surface of a silicon single crystal substrate constituting the pressure chamber plate 11b, and is formed on substantially the entire upper surface of the pressure chamber plate 11b.

共通電極12bは、複数の圧力室11mに共通の電極であり、振動板12aの上面の略全体に形成されている。   The common electrode 12b is an electrode common to the plurality of pressure chambers 11m, and is formed on substantially the entire top surface of the diaphragm 12a.

一対の圧電体12cは、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の圧電材料からなり、共通電極12bの上面において、それぞれ、配列方向に延在し、各圧力室列11mRを構成する複数の圧力室11m及び複数のダミー圧力室11mdを覆っている。   The pair of piezoelectric bodies 12c is made of a piezoelectric material such as lead zirconate titanate (PZT) and extends in the arrangement direction on the upper surface of the common electrode 12b, and a plurality of pressure chambers constituting each pressure chamber row 11mR. 11m and a plurality of dummy pressure chambers 11md are covered.

複数の個別電極12dは、複数の圧力室11mに個別の電極であり、各圧電体12cの上面において、複数の圧力室11mのそれぞれと対向する位置に配置されている。複数の個別電極12dは、各圧電体12cの上面において、複数のダミー圧力室11mdのそれぞれと対向する位置にも配置されている。   The plurality of individual electrodes 12d are individual electrodes for the plurality of pressure chambers 11m, and are disposed on the upper surface of each piezoelectric body 12c at positions facing each of the plurality of pressure chambers 11m. The plurality of individual electrodes 12d are also arranged at positions facing the respective dummy pressure chambers 11md on the upper surface of each piezoelectric body 12c.

圧電体12cにおいて個別電極12dと共通電極12bとで挟まれた部分は、個別電極12dへの電圧の印加に応じて変形可能な活性部12xとして機能する。即ち、アクチュエータ12は、圧力室11m又はダミー圧力室11mdと対向する複数の活性部12xを有する。圧力室11mと対向する活性部12xの駆動(即ち、個別電極12dへの電圧の印加に応じて活性部12xを(例えば、圧力室11mに向かって凸となるように)変形させること)により、圧力室11mの容積が変化し、圧力室11m内のインクに圧力が付与され、ノズル11nからインクが吐出される。一方、ダミー圧力室11mdと対向する活性部12xは駆動されないことから、ダミー圧力室11mdの容積は変化せず、ダミー圧力室11mdと連通するダミーノズル11ndからはインクが吐出されない。   A portion sandwiched between the individual electrode 12d and the common electrode 12b in the piezoelectric body 12c functions as an active portion 12x that can be deformed in response to application of a voltage to the individual electrode 12d. That is, the actuator 12 has a plurality of active portions 12x facing the pressure chamber 11m or the dummy pressure chamber 11md. By driving the active part 12x facing the pressure chamber 11m (that is, by deforming the active part 12x in response to application of a voltage to the individual electrode 12d (for example, to be convex toward the pressure chamber 11m)), The volume of the pressure chamber 11m changes, pressure is applied to the ink in the pressure chamber 11m, and ink is ejected from the nozzle 11n. On the other hand, since the active portion 12x facing the dummy pressure chamber 11md is not driven, the volume of the dummy pressure chamber 11md does not change, and ink is not ejected from the dummy nozzle 11nd communicating with the dummy pressure chamber 11md.

アクチュエータ12には、さらに、圧電体保護膜12h、層間絶縁膜12i、複数の配線12e及び配線保護膜12jが設けられている。   The actuator 12 is further provided with a piezoelectric protective film 12h, an interlayer insulating film 12i, a plurality of wirings 12e, and a wiring protective film 12j.

圧電体保護膜12hは、空気中の水分の圧電体12cへの浸入を防止する機能を有し、一対の圧電体12cを覆っている。圧電体保護膜12hは、例えば酸化アルミニウム(アルミナ:Al23)等からなる。なお、活性部12xの駆動を阻害しないよう、圧電体保護膜12hは各個別電極12dの周縁部のみを覆っており、各個別電極12dの中央部は圧電体保護膜12hから露出している。 The piezoelectric protective film 12h has a function of preventing moisture in the air from entering the piezoelectric body 12c, and covers the pair of piezoelectric bodies 12c. The piezoelectric protective film 12h is made of, for example, aluminum oxide (alumina: Al 2 O 3 ). Note that the piezoelectric protective film 12h covers only the peripheral edge of each individual electrode 12d so that the driving of the active part 12x is not hindered, and the central part of each individual electrode 12d is exposed from the piezoelectric protective film 12h.

層間絶縁膜12iは、配線12eと共通電極12bとの間の絶縁性を高める機能を有し、圧電体保護膜12hと配線12eとの間に設けられている。層間絶縁膜12iは、例えば二酸化シリコン(SiO2)等からなる。 The interlayer insulating film 12i has a function of enhancing the insulation between the wiring 12e and the common electrode 12b, and is provided between the piezoelectric protective film 12h and the wiring 12e. The interlayer insulating film 12i is made of, for example, silicon dioxide (SiO 2 ).

複数の配線12eは、層間絶縁膜12iの上面に形成されており、複数の個別電極12dのそれぞれに接続されている。各配線12eは、圧電体保護膜12h及び層間絶縁膜12iを貫通する貫通孔Bに入り込むことで、各個別電極12dと電気的に接続されている。   The plurality of wirings 12e are formed on the upper surface of the interlayer insulating film 12i, and are connected to each of the plurality of individual electrodes 12d. Each wiring 12e is electrically connected to each individual electrode 12d by entering the through hole B that penetrates the piezoelectric protective film 12h and the interlayer insulating film 12i.

複数の配線12eは、図2に示すように、それぞれ、搬送方向の下流側に引き出され、圧力室プレート11bにおいてリザーバ部材11aに覆われていない部分まで延びている。複数の配線12eのうち、圧力室11mと対向する個別電極12dに接続された配線の先端には、個別接点12fが形成されている。複数の配線12eのうち、ダミー圧力室11mdと対向する個別電極12dに接続された配線の先端には、ダミー接点12f’が形成されている。   As shown in FIG. 2, each of the plurality of wirings 12e is drawn to the downstream side in the transport direction and extends to a portion of the pressure chamber plate 11b that is not covered with the reservoir member 11a. An individual contact 12f is formed at the tip of the wiring connected to the individual electrode 12d facing the pressure chamber 11m among the plurality of wirings 12e. A dummy contact 12f 'is formed at the tip of the wiring connected to the individual electrode 12d facing the dummy pressure chamber 11md among the plurality of wirings 12e.

個別接点12fとダミー接点12f’とは、互いに同じ形状及びサイズを有し、配列方向に等間隔(間隔D)で、ダミー接点12f’が配列方向の両側の末端に2つずつ配置されるように、配列されている。   The individual contacts 12f and the dummy contacts 12f ′ have the same shape and size as each other, and the dummy contacts 12f ′ are arranged at two ends at both ends in the arrangement direction at equal intervals (interval D) in the arrangement direction. Are arranged.

層間絶縁膜12iの上面には、さらに、複数の個別接点12f及び複数のダミー接点12f’を配列方向に挟むように、一対の共通接点12gが設けられている。一対の共通接点12gは、層間絶縁膜12i及び圧電体保護膜12hを貫通する貫通孔(図示略)に入り込むことで、共通電極12bと電気的に接続されている。各共通接点12gの幅(配列方向の長さ)は、各個別接点12f及び各ダミー接点12f’の幅よりも大きい。   A pair of common contacts 12g are further provided on the upper surface of the interlayer insulating film 12i so as to sandwich the plurality of individual contacts 12f and the plurality of dummy contacts 12f 'in the arrangement direction. The pair of common contacts 12g are electrically connected to the common electrode 12b by entering a through hole (not shown) that penetrates the interlayer insulating film 12i and the piezoelectric protective film 12h. The width (length in the arrangement direction) of each common contact 12g is larger than the width of each individual contact 12f and each dummy contact 12f '.

各共通接点12gと、個別接点12f及びダミー接点12f’との間には、比較的大きな間隙が形成されている。層間絶縁膜12iの上面における、当該間隙に対応する部分には、一対のアラインメントマークMが設けられている。一対のアラインメントマークMは、COF18を流路基板11に位置合わせするためのものであり、個別接点12f及びダミー接点12f’の材料と同じ材料で構成されている。   A relatively large gap is formed between each common contact 12g and the individual contact 12f and the dummy contact 12f '. A pair of alignment marks M is provided in a portion corresponding to the gap on the upper surface of the interlayer insulating film 12i. The pair of alignment marks M are for aligning the COF 18 with the flow path substrate 11 and are made of the same material as that of the individual contact 12f and the dummy contact 12f '.

配線保護膜12jは、複数の配線12e間の絶縁性を高める機能を有し、複数の配線12eを覆うように、層間絶縁膜12iの上面に設けられている。配線保護膜12jは、例えば窒化シリコン(SiNx)等からなる。なお、接点12f,12f’,12gは、配線保護膜12jに覆われていない。   The wiring protective film 12j has a function of improving the insulation between the plurality of wirings 12e, and is provided on the upper surface of the interlayer insulating film 12i so as to cover the plurality of wirings 12e. The wiring protective film 12j is made of, for example, silicon nitride (SiNx). The contacts 12f, 12f ', and 12g are not covered with the wiring protective film 12j.

リザーバ部材11aには、図3に示すように、リザーバ11s、リザーバ11sと複数の圧力室11mのそれぞれとを連通させる複数の連通流路11t、及び、それぞれ配列方向に延在する一対の凹部11axが形成されている。リザーバ部材11aは、一対の凹部11ax内に一対の圧電体12cがそれぞれ収容されるように、圧力室プレート11bの上面にアクチュエータ12を介して接着されている。アクチュエータ12において複数の連通流路11tと対向する部分には、複数の貫通孔12yがそれぞれ形成されている。   As shown in FIG. 3, the reservoir member 11a includes a reservoir 11s, a plurality of communication channels 11t that allow the reservoir 11s to communicate with each of the plurality of pressure chambers 11m, and a pair of recesses 11ax that respectively extend in the arrangement direction. Is formed. The reservoir member 11a is bonded to the upper surface of the pressure chamber plate 11b via the actuator 12 so that the pair of piezoelectric bodies 12c are accommodated in the pair of recesses 11ax, respectively. A plurality of through holes 12y are formed in portions of the actuator 12 that face the plurality of communication channels 11t.

リザーバ11sは、チューブ等を介して、インクを貯留するタンクと連通している。タンク内のインクは、ポンプ(図示略)の駆動によりリザーバ11sに供給され、複数の連通流路11t及び複数の貫通孔12yを通って、各圧力室列11mRを構成する複数の圧力室11m及び複数のダミー圧力室11mdに供給される。各圧力室11mに供給されたインクは活性部12xの駆動によりノズル11nから吐出されるが、各ダミー圧力室11mdに供給されたインクはダミーノズル11ndから吐出されない。   The reservoir 11s communicates with a tank for storing ink via a tube or the like. The ink in the tank is supplied to the reservoir 11s by driving a pump (not shown), and passes through the plurality of communication channels 11t and the plurality of through holes 12y, and the plurality of pressure chambers 11m and the pressure chambers 11mR. It is supplied to a plurality of dummy pressure chambers 11md. The ink supplied to each pressure chamber 11m is ejected from the nozzle 11n by driving the active portion 12x, but the ink supplied to each dummy pressure chamber 11md is not ejected from the dummy nozzle 11nd.

図2に示すように、各貫通孔12yの周縁には、環状電極12m,12nが設けられている。環状電極12mは、図2の紙面左側の圧力室列11mRに対応する各貫通孔12yを取り囲むと共に、当該圧力室列11mRを構成する各圧力室11m又は各ダミー圧力室11mdと対向する個別電極12dに接続された配線12eと電気的に接続されている。一方、環状電極12nは、図2の紙面右側の圧力室列11mRに対応する各貫通孔12yを取り囲み、当該圧力室列11mRを構成する各圧力室11m又は各ダミー圧力室11mdと対向する個別電極12dに接続された配線12eと電気的に接続されていない。   As shown in FIG. 2, annular electrodes 12m and 12n are provided on the periphery of each through hole 12y. The annular electrode 12m surrounds each through-hole 12y corresponding to the pressure chamber row 11mR on the left side of FIG. 2, and the individual electrode 12d facing each pressure chamber 11m or each dummy pressure chamber 11md constituting the pressure chamber row 11mR. It is electrically connected to the wiring 12e connected to. On the other hand, the annular electrode 12n surrounds each through hole 12y corresponding to the pressure chamber row 11mR on the right side of FIG. 2 and is an individual electrode facing each pressure chamber 11m or each dummy pressure chamber 11md constituting the pressure chamber row 11mR. The wiring 12e connected to 12d is not electrically connected.

COF18は、図4に示すように、複数の個別接点12fのそれぞれと電気的に接続される複数の個別配線18f、複数のダミー接点12f’のそれぞれと電気的に接続される複数のダミー配線18f’、及び、一対の共通接点12gのそれぞれと電気的に接続される一対の共通配線18gを有する。ダミー配線18f’は、個別接点12f及び共通接点12gと電気的に接続されていない。   As shown in FIG. 4, the COF 18 includes a plurality of individual wires 18f electrically connected to each of the plurality of individual contacts 12f and a plurality of dummy wires 18f electrically connected to each of the plurality of dummy contacts 12f ′. 'And a pair of common wirings 18g electrically connected to each of the pair of common contacts 12g. The dummy wiring 18f 'is not electrically connected to the individual contact 12f and the common contact 12g.

個別配線18f、ダミー配線18f’及び共通配線18gは、それぞれ、個別接点12f、ダミー接点12f’及び共通接点12gと、同じ形状及びサイズを有すると共に、鉛直方向に対向している。即ち、個別配線18fとダミー配線18f’とは、互いに同じ形状及びサイズを有し、配列方向に等間隔(間隔D)で、ダミー配線18f’が配列方向の両側の末端に2つずつ配置されるように、配列されている。一対の共通配線18gは、複数の個別配線18f及び複数のダミー配線18f’を配列方向に挟むように配置されている。各共通配線18gの幅(配列方向の長さ)は、各個別配線18f及び各ダミー配線18f’の幅よりも大きい。   The individual wiring 18f, the dummy wiring 18f ', and the common wiring 18g have the same shape and size as the individual contact 12f, the dummy contact 12f', and the common contact 12g, respectively, and face each other in the vertical direction. That is, the individual wiring 18f and the dummy wiring 18f ′ have the same shape and size as each other, are arranged at equal intervals (interval D) in the arrangement direction, and two dummy wirings 18f ′ are arranged at both ends of the arrangement direction. It is arranged so that. The pair of common wires 18g are arranged so as to sandwich a plurality of individual wires 18f and a plurality of dummy wires 18f 'in the arrangement direction. The width of each common wiring 18g (length in the arrangement direction) is larger than the width of each individual wiring 18f and each dummy wiring 18f '.

COF18は、熱硬化性の接着剤Aによって、流路基板11に接着されている。接着剤Aは、例えば、NCF(Non Conductive Film:非導電性フィルム)、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電フィルム)等のフィルム状の接着剤である。   The COF 18 is bonded to the flow path substrate 11 with a thermosetting adhesive A. The adhesive A is a film-like adhesive such as NCF (Non Conductive Film) and ACF (Anisotropic Conductive Film).

COF18は、一端が各接点12f,12f’,12gと電気的に接続されており、他端が制御装置5(図1参照)と電気的に接続されている。   One end of the COF 18 is electrically connected to the contacts 12f, 12f ', 12g, and the other end is electrically connected to the control device 5 (see FIG. 1).

COF18の一端と他端との間には、図2に示すように、ドライバIC19が実装されている。ドライバIC19は、配線18f,18f’,18gを介して、接点12f,12f’,12g及び制御装置5のそれぞれと電気的に接続されている。ドライバIC19は、制御装置5からの信号に基づいて、活性部12xを駆動するための駆動信号を生成し、当該駆動信号を各個別電極12dに供給する。共通電極12bの電位は、グランド電位に維持される。   A driver IC 19 is mounted between one end and the other end of the COF 18 as shown in FIG. The driver IC 19 is electrically connected to each of the contacts 12f, 12f ', 12g and the control device 5 via wirings 18f, 18f', 18g. The driver IC 19 generates a drive signal for driving the active part 12x based on the signal from the control device 5, and supplies the drive signal to each individual electrode 12d. The potential of the common electrode 12b is maintained at the ground potential.

次いで、図5及び図6を参照し、ヘッド1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the head 1 will be described with reference to FIGS.

先ず、アクチュエータ12を形成する(S1)。具体的には、圧力室プレート11bとなるシリコン単結晶基板の表面に、熱酸化等によって二酸化シリコンの膜からなる振動板12aを形成する。その後、振動板12aの上面に共通電極12bを形成し、共通電極12bの上面に一対の圧電体12cを形成し、各圧電体12cの上面に複数の個別電極12dを形成する。さらにその後、圧電体保護膜12h、層間絶縁膜12i、複数の配線12e、複数の接点12f,12f’,12g、環状電極12m,12n、一対のアラインメントマークM及び配線保護膜12jを形成する。上記各部の形成には、スパッタリング、エッチング等の任意の手法を用いてよい。本実施形態では、複数の配線12e、複数の接点12f,12f’,12g、環状電極12m,12n及び一対のアラインメントマークMを、互いに同じ材料で構成し、エッチングにより同一工程で形成する。   First, the actuator 12 is formed (S1). Specifically, the vibration plate 12a made of a silicon dioxide film is formed on the surface of the silicon single crystal substrate to be the pressure chamber plate 11b by thermal oxidation or the like. Thereafter, a common electrode 12b is formed on the upper surface of the diaphragm 12a, a pair of piezoelectric bodies 12c is formed on the upper surface of the common electrode 12b, and a plurality of individual electrodes 12d are formed on the upper surface of each piezoelectric body 12c. Thereafter, a piezoelectric protective film 12h, an interlayer insulating film 12i, a plurality of wirings 12e, a plurality of contacts 12f, 12f ', 12g, annular electrodes 12m, 12n, a pair of alignment marks M, and a wiring protective film 12j are formed. Arbitrary techniques, such as sputtering and etching, may be used for forming each of the above parts. In the present embodiment, the plurality of wirings 12e, the plurality of contacts 12f, 12f ', 12g, the annular electrodes 12m, 12n, and the pair of alignment marks M are made of the same material and formed in the same process by etching.

次に、圧力室プレート11bとなるシリコン単結晶基板の表面に、リザーバ部材11aを接着する(S2)。   Next, the reservoir member 11a is bonded to the surface of the silicon single crystal substrate to be the pressure chamber plate 11b (S2).

次に、圧力室プレート11bとなるシリコン単結晶基板を所定の厚みになるまで研磨した後、シリコン単結晶基板の下面からエッチングを施して複数の圧力室11m及び複数のダミー圧力室11mdを形成する(S3)。この段階で、シリコン単結晶基板は圧力室プレート11bとなる。   Next, after polishing the silicon single crystal substrate serving as the pressure chamber plate 11b to a predetermined thickness, etching is performed from the lower surface of the silicon single crystal substrate to form a plurality of pressure chambers 11m and a plurality of dummy pressure chambers 11md. (S3). At this stage, the silicon single crystal substrate becomes the pressure chamber plate 11b.

次に、圧力室プレート11bの下面にノズルプレート11cを接着する(S4)。この段階で、流路基板11が完成する。   Next, the nozzle plate 11c is bonded to the lower surface of the pressure chamber plate 11b (S4). At this stage, the flow path substrate 11 is completed.

次に、COF18を流路基板11に仮接着する(S5:仮接着工程)。   Next, the COF 18 is temporarily bonded to the flow path substrate 11 (S5: temporary bonding step).

S5について、具体的には、先ず、図6(a)に示すように、流路基板11とCOF18との間に接着剤Aを介在させた状態で、一対のアラインメントマークMを用いてCOF18を流路基板11に位置合わせし、COF18を流路基板11上に配置する。このとき、複数の個別接点12fと複数の個別配線18fとがそれぞれ対向し、複数のダミー接点12f’と複数のダミー配線18f’とがそれぞれ対向し、一対の共通接点12gと一対の共通配線18gとがそれぞれ対向する状態とする。そして、この状態で、COF18及び流路基板11を、接着剤Aの硬化温度よりも低く接着剤Aが硬化しない未硬化温度(例えば70〜80℃)で加熱する。このとき、接着剤Aは粘着性が発現するが硬化しない。またこのとき、加圧は行われないため、複数の個別接点12fと複数の個別配線18fとはそれぞれ電気的に接続されず、複数のダミー接点12f’と複数のダミー配線18f’とはそれぞれ電気的に接続されず、一対の共通接点12gと一対の共通配線18gとはそれぞれ電気的に接続されない。   Regarding S5, specifically, as shown in FIG. 6A, first, the COF 18 is formed using a pair of alignment marks M in a state where the adhesive A is interposed between the flow path substrate 11 and the COF 18. The COF 18 is placed on the flow path substrate 11 in alignment with the flow path substrate 11. At this time, the plurality of individual contacts 12f and the plurality of individual wires 18f face each other, the plurality of dummy contacts 12f ′ and the plurality of dummy wires 18f ′ face each other, and the pair of common contacts 12g and the pair of common wires 18g. Are in a state of facing each other. In this state, the COF 18 and the flow path substrate 11 are heated at an uncured temperature (for example, 70 to 80 ° C.) that is lower than the curing temperature of the adhesive A and does not cure the adhesive A. At this time, the adhesive A exhibits tackiness but does not cure. At this time, since pressurization is not performed, the plurality of individual contacts 12f and the plurality of individual wires 18f are not electrically connected to each other, and the plurality of dummy contacts 12f ′ and the plurality of dummy wires 18f ′ are respectively electrically connected. The pair of common contacts 12g and the pair of common wires 18g are not electrically connected to each other.

次に、COF18を流路基板11に接着する(S6:接着工程)。   Next, the COF 18 is bonded to the flow path substrate 11 (S6: bonding step).

S6では、流路基板11とCOF18との間に接着剤Aを介在させ、複数の個別接点12fと複数の個別配線18fとをそれぞれ対向させ、複数のダミー接点12f’と複数のダミー配線18f’とをそれぞれ対向させ、一対の共通接点12gと一対の共通配線18gとをそれぞれ対向させた状態で、COF18及び流路基板11を加熱加圧し、接着剤Aを硬化させる。加熱加圧に際しては、100℃以下に保持されたステージの上にCOF18及び流路基板11を配置し、その後、加熱加圧ツール51,52(図6(b),(c)参照)をCOF18及び流路基板11に押し当てて、COF18及び流路基板11の接着部分を150〜200℃にする。これにより、接着剤Aが溶融し、さらにその後硬化することで、複数の個別接点12fと複数の個別配線18fとがそれぞれ電気的に接続され、複数のダミー接点12f’と複数のダミー配線18f’とがそれぞれ電気的に接続され、一対の共通接点12gと一対の共通配線18gとがそれぞれ電気的に接続される。   In S6, the adhesive A is interposed between the flow path substrate 11 and the COF 18, the plurality of individual contacts 12f and the plurality of individual wirings 18f are opposed to each other, the plurality of dummy contacts 12f ′ and the plurality of dummy wirings 18f ′. And the pair of common contacts 12g and the pair of common wirings 18g are opposed to each other, the COF 18 and the flow path substrate 11 are heated and pressurized to cure the adhesive A. In heating and pressing, the COF 18 and the flow path substrate 11 are placed on a stage held at 100 ° C. or lower, and then the heating and pressing tools 51 and 52 (see FIGS. 6B and 6C) are placed in the COF 18. And it presses against the flow path substrate 11, and the adhesion part of COF18 and the flow path substrate 11 is 150-200 degreeC. As a result, the adhesive A is melted and then cured, whereby the plurality of individual contacts 12f and the plurality of individual wirings 18f are electrically connected to each other, and the plurality of dummy contacts 12f ′ and the plurality of dummy wirings 18f ′ are electrically connected. Are electrically connected to each other, and the pair of common contacts 12g and the pair of common wires 18g are electrically connected to each other.

S6について、具体的には、先ず、図6(b)に示すように、COF18における一対の第1領域R1上に加熱加圧ツール51を配置し、一対の第1領域R1を接着剤Aが硬化する硬化温度で加熱加圧する(S6a:第1接着工程)。一対の第1領域R1は、COF18における流路基板11と重なる重複領域における、複数の個別配線18fを含まずかつ各共通配線18gの少なくとも一部を含む領域であり、配列方向に互いに離隔している。   Regarding S6, specifically, as shown in FIG. 6B, first, the heating and pressing tool 51 is disposed on the pair of first regions R1 in the COF 18, and the adhesive A is placed on the pair of first regions R1. Heating and pressing is performed at a curing temperature for curing (S6a: first bonding step). The pair of first regions R1 is a region that does not include the plurality of individual wires 18f and includes at least a part of each common wire 18g in an overlapping region that overlaps the flow path substrate 11 in the COF 18, and is separated from each other in the arrangement direction. Yes.

各第1領域R1は、複数の個別配線18fから配列方向に大きく離隔している。具体的には、各第1領域R1の外縁から複数の個別配線18fまでの最短距離(距離S)は、複数の個別配線18f同士の最小間隔(間隔D)以上である。より詳細には、距離Sは、15個以上の個別配線18fが配列可能な距離(350μm以上)である。   Each first region R1 is greatly separated from the plurality of individual wirings 18f in the arrangement direction. Specifically, the shortest distance (distance S) from the outer edge of each first region R1 to the plurality of individual wirings 18f is equal to or greater than the minimum distance (interval D) between the plurality of individual wirings 18f. More specifically, the distance S is a distance (350 μm or more) at which 15 or more individual wirings 18f can be arranged.

また、各第1領域R1の幅(配列方向の長さ)は各共通配線18gの幅よりも小さく、各第1領域R1は各共通配線18gの配列方向中央に位置している。即ち、各第1領域R1は、各共通配線18gにおける複数の個別配線18fに隣接する端部(図6(b)において内側の端部)18gxを含まない。ただし、各共通配線18gの加圧面積(即ち、各共通配線18gにおける各第1領域R1と重なる面積)は、各共通配線18gの接触抵抗を低減するために必要な面積以上とすることが好ましい。   In addition, the width (length in the arrangement direction) of each first region R1 is smaller than the width of each common wiring 18g, and each first region R1 is located at the center in the arrangement direction of each common wiring 18g. That is, each first region R1 does not include an end portion (an inner end portion in FIG. 6B) 18gx adjacent to the plurality of individual wirings 18f in each common wiring 18g. However, it is preferable that the pressurization area of each common wiring 18g (that is, the area overlapping each first region R1 in each common wiring 18g) be equal to or larger than the area necessary for reducing the contact resistance of each common wiring 18g. .

S6aでは、接着剤Aにおいて、第1領域R1が硬化し、第1領域R1の周囲領域が半硬化する。   In S6a, in the adhesive A, the first region R1 is cured and the peripheral region of the first region R1 is semi-cured.

次に、図6(c)に示すように、COF18における第2領域R2に加熱加圧ツール52を配置し、第2領域R2を接着剤Aが硬化する硬化温度(S6aの硬化温度と同じであってもよいし異なってもよい。)で加熱加圧する(S6b:第2接着工程)。第2領域R2は、COF18における流路基板11と重なる重複領域における、複数の個別配線18fの全てを含みかつ一対の第1領域R1に配列方向に挟まれた領域であり、複数のダミー配線18f’及び一対の共通配線18gを含まない。   Next, as shown in FIG. 6C, the heating and pressing tool 52 is disposed in the second region R2 of the COF 18, and the curing temperature at which the adhesive A cures the second region R2 (the same as the curing temperature of S6a). Or may be different.) (S6b: second bonding step). The second region R2 is a region that includes all of the plurality of individual wires 18f in the overlapping region of the COF 18 that overlaps the flow path substrate 11, and is sandwiched between the pair of first regions R1 in the arrangement direction, and includes a plurality of dummy wires 18f. 'And the pair of common wires 18g are not included.

COF18における流路基板11と重なる重複領域における第1領域R1と第2領域R2との間には、加熱加圧されない非加圧領域Rnが設けられている。非加圧領域Rnに、ダミー配線18f’が設けられている。また、非加圧領域Rnに対応する部分に、アラインメントマークMが設けられている。   A non-pressurized region Rn that is not heated and pressurized is provided between the first region R1 and the second region R2 in the overlapping region of the COF 18 that overlaps the flow path substrate 11. A dummy wiring 18f 'is provided in the non-pressurized region Rn. An alignment mark M is provided in a portion corresponding to the non-pressurized region Rn.

S6bでは、接着剤Aにおいて、第2領域R2が硬化し、第2領域R2の周囲領域が半硬化する。   In S6b, in the adhesive A, the second region R2 is cured and the peripheral region of the second region R2 is semi-cured.

上記の工程S1〜S6により、ヘッド1が完成する。   The head 1 is completed by the above steps S1 to S6.

以上に述べたように、本実施形態によれば、接着工程S6において、加熱加圧を2段階で行う(図5のS6a,S6b参照)。これにより、第2接着工程S6bを行うときに既に第1接着工程S6aで固定された部分(図6(b)に示す一対の第1領域R1)が存在することとなり、流路基板11とCOF18との位置ずれ(ひいては、接着不良や信頼性の低下)を抑制することができる。   As described above, according to this embodiment, in the bonding step S6, heating and pressing are performed in two stages (see S6a and S6b in FIG. 5). Thereby, when performing 2nd adhesion process S6b, the part (a pair of 1st field R1 shown in Drawing 6 (b)) already fixed by 1st adhesion process S6a will exist, and channel board 11 and COF18 are included. Misalignment (as a result, poor adhesion and reduced reliability) can be suppressed.

しかも、各第1領域R1が各共通配線18gの少なくとも一部を含み、かつ、第2領域R2が複数の個別配線18fの全てを含む(図6(c)参照)。したがって、流路基板11及びCOF18に、接着工程S6のための余分な領域が不要であり、ヘッド1の大型化を回避できる。また、各第1領域R1の外縁から複数の個別配線18fまでの最短距離(距離S)を、複数の個別配線18f同士の最小間隔(間隔D)以上としている。これにより、第1領域R1の外側の半硬化が生じる部分に個別配線18fが存在することが回避され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続を確実に行うことが可能である。   Moreover, each first region R1 includes at least a part of each common wiring 18g, and the second region R2 includes all of the plurality of individual wirings 18f (see FIG. 6C). Therefore, the flow path substrate 11 and the COF 18 do not require an extra area for the bonding step S6, and the head 1 can be prevented from being enlarged. Further, the shortest distance (distance S) from the outer edge of each first region R1 to the plurality of individual wirings 18f is set to be equal to or larger than the minimum distance (interval D) between the plurality of individual wirings 18f. Thereby, it is possible to avoid the presence of the individual wiring 18f in a portion where the semi-curing outside the first region R1 occurs, and it is possible to reliably perform the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f.

距離Sを、15個以上の個別配線18fが配列可能な距離(350μm以上)としている。この場合、第1領域R1が個別配線18fからより離隔することとなり、第1領域R1の外側の半硬化が生じる部分に個別配線18fが存在することがより確実に回避され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続をより確実に行うことができる。   The distance S is a distance (350 μm or more) at which 15 or more individual wirings 18 f can be arranged. In this case, the first region R1 is further separated from the individual wiring 18f, and it is more reliably avoided that the individual wiring 18f exists in a portion where the semi-curing outside the first region R1 occurs. Electrical connection with the contact point 12f can be performed more reliably.

第1領域R1と複数の個別配線18fとの間に、ダミー配線18f’を設けている(図6(c)参照)。形成位置によって個別配線18fの形状に差が出ること(ひいては、吐出特性(ノズル11nから吐出されるインク滴の大きさ、吐出速度、吐出方向等)に差が生じること)を抑制するため、ダミー配線18f’を設けることがある。上記構成によれば、第1領域R1と複数の個別配線18fとの間にダミー配線18f’を設けることで、第1領域R1の外縁から複数の個別配線18fまでの距離を確保しつつ、領域を無駄にせず有効利用することができる。   A dummy wiring 18f 'is provided between the first region R1 and the plurality of individual wirings 18f (see FIG. 6C). In order to suppress a difference in the shape of the individual wiring 18f depending on the formation position (as a result, a difference occurs in the ejection characteristics (the size of the ink droplet ejected from the nozzle 11n, the ejection speed, the ejection direction, etc.)) A wiring 18f ′ may be provided. According to the above configuration, by providing the dummy wiring 18f ′ between the first region R1 and the plurality of individual wirings 18f, the area from the outer edge of the first region R1 to the plurality of individual wirings 18f is secured. Can be used effectively without wasting it.

第1領域R1と複数の個別配線18fとの間に対応する部分に、アラインメントマークMを設けている(図6(c)参照)。この場合、上記と同様、第1領域R1の外縁から複数の個別配線18fまでの距離を確保しつつ、領域を無駄にせず有効利用することができる。アラインメントマークMは、COF18と流路基板11との位置合わせに有用である。   An alignment mark M is provided in a portion corresponding to between the first region R1 and the plurality of individual wirings 18f (see FIG. 6C). In this case, as described above, it is possible to effectively use the area without wasting it while securing the distance from the outer edge of the first area R1 to the plurality of individual wirings 18f. The alignment mark M is useful for alignment between the COF 18 and the flow path substrate 11.

各第1領域R1に、各共通配線18gにおける複数の個別配線18fに隣接する端部(図6(b)において内側の端部)18gxを含めない。この場合、第1領域R1が個別配線18fからより離隔することとなる。これにより、第1領域R1の外側の半硬化が生じる部分に個別配線18fが存在することがより確実に回避され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続をより確実に行うことができる。なお、共通配線18gは個別配線18fに比べて幅が広いため、共通配線18gの全体を加圧しなくとも、共通配線18gと共通接点12gとの電気的接続を実現することができる。   Each first region R1 does not include the end portion (the inner end portion in FIG. 6B) adjacent to the plurality of individual wirings 18f in each common wiring 18g. In this case, the first region R1 is further away from the individual wiring 18f. Thereby, it is possible to more reliably avoid the presence of the individual wiring 18f in the portion where the semi-curing outside the first region R1 occurs, and the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f can be more reliably performed. . Since the common wiring 18g is wider than the individual wiring 18f, it is possible to realize electrical connection between the common wiring 18g and the common contact 12g without pressurizing the entire common wiring 18g.

COF18における流路基板11と重なる重複領域における第1領域R1と第2領域R2との間に、加熱加圧されない非加圧領域Rnを設けている(図6(c)参照)。各第1領域R1の他の領域との境界、及び、第2領域R2の他の領域との境界には、それぞれ、加圧による段差が生じ得る。このような段差がある部分を加圧すると、加熱加圧が適正に行われず、接着不良が生じ得る。この点、上記構成によれば、段差が生じ得る部分を非加圧領域Rnとすることで、当該問題を抑制することができる。   A non-pressurized region Rn that is not heated and pressurized is provided between the first region R1 and the second region R2 in the overlapping region that overlaps the flow path substrate 11 in the COF 18 (see FIG. 6C). Steps due to pressurization may occur at the boundary between each first region R1 and another region and the boundary between the second region R2 and another region. When a portion having such a step is pressed, heat and pressure are not properly performed, and adhesion failure may occur. In this regard, according to the above configuration, the problem can be suppressed by setting the portion where the step can occur as the non-pressurized region Rn.

各共通配線18gの幅を、各個別配線18fの幅よりも大きくしている。この場合、共通配線18gの接触抵抗を低減することができる。   The width of each common wiring 18g is larger than the width of each individual wiring 18f. In this case, the contact resistance of the common wiring 18g can be reduced.

COF18において配列方向に互いに離隔した一対の第1領域R1を加熱加圧する。この場合、COF18における配列方向の一端のみでなく両端を加熱加圧することで、COF18の接着を配列方向に均等に行うことができる。   A pair of first regions R1 separated from each other in the arrangement direction in the COF 18 are heated and pressurized. In this case, not only one end of the COF 18 in the arrangement direction but also both ends are heated and pressurized, so that the COF 18 can be evenly bonded in the arrangement direction.

COF18において配列方向に互いに離隔した一対の第1領域R1を加熱加圧した後、COF18において一対の第1領域R1に配列方向に挟まれた第2領域R2を加熱加圧する。この場合、第2領域R2の加熱加圧時に流路基板11とCOF18との位置ずれが生じることが抑制され、中央に配置された個別配線18fの接着を確実に行うことができる。   After the pair of first regions R1 separated from each other in the arrangement direction in the COF 18 are heated and pressurized, the second region R2 sandwiched in the arrangement direction by the pair of first regions R1 in the COF 18 is heated and pressurized. In this case, the positional displacement between the flow path substrate 11 and the COF 18 during the heating and pressurization of the second region R2 is suppressed, and the individual wiring 18f disposed in the center can be securely bonded.

接着工程S6の前に、仮接着工程S5を行う(図5及び図6(a)参照)。この場合、接着工程S6において流路基板11とCOF18との位置ずれが生じることが抑制される。より詳細には、第1接着工程S6aにおいて一対の第1領域R1を加熱加圧すると、各第1領域R1の接着剤Aは硬化前に先ず溶融して液体となり、このときに流路基板11とCOF18との位置ずれが生じ得る。しかし、このとき第2領域R2の接着剤Aは、仮接着工程S5により仮接着されており、さらに加熱加圧されないため固体のままである。そのため、第1接着工程S6aにおいて一対の第1領域R1を加熱加圧したときに、各第1領域R1の接着剤Aの溶融により位置ずれが生じることが抑制される。   Prior to the bonding step S6, a temporary bonding step S5 is performed (see FIGS. 5 and 6A). In this case, the positional deviation between the flow path substrate 11 and the COF 18 in the bonding step S6 is suppressed. More specifically, when the pair of first regions R1 are heated and pressurized in the first bonding step S6a, the adhesive A in each first region R1 is first melted into a liquid before curing, and at this time, the flow path substrate 11 And COF 18 may be misaligned. However, at this time, the adhesive A in the second region R2 is temporarily bonded by the temporary bonding step S5, and is not solidified because it is not heated and pressurized. For this reason, when the pair of first regions R1 is heated and pressurized in the first bonding step S6a, the occurrence of displacement due to melting of the adhesive A in each first region R1 is suppressed.

<第2実施形態>
続いて、図7を参照し、本発明の第2実施形態に係るヘッド201について説明する。
Second Embodiment
Subsequently, a head 201 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態は、第1接着工程S6a及び第2接着工程S6bで加熱加圧する領域が、第1実施形態と逆である。具体的には、本実施形態では、第1接着工程S6a(上記第2の観点における第3接着工程)で第2領域R2を加熱加圧し(図7(a)参照)、第2接着工程S6b(上記第2の観点における第4接着工程)で一対の第1領域R1を加熱加圧する(図7(b)参照)。   In the present embodiment, the region to be heated and pressed in the first bonding step S6a and the second bonding step S6b is opposite to that in the first embodiment. Specifically, in the present embodiment, the second region R2 is heated and pressurized in the first bonding step S6a (the third bonding step in the second aspect) (see FIG. 7A), and the second bonding step S6b. The pair of first regions R1 is heated and pressurized in the (fourth bonding step in the second aspect) (see FIG. 7B).

本実施形態においても、第1実施形態と同様、加熱加圧を2段階で行うことで、流路基板11とCOF18との位置ずれ(ひいては、接着不良や信頼性の低下)を抑制することができる。また、本実施形態では、複数の個別配線18fの全てを含む第2領域R2を先に加熱加圧し、その後、複数の個別配線18fを含まずかつ共通配線18gの少なくとも一部を含む第1領域R1を加熱加圧する。このように、先に加熱加圧する領域に複数の個別配線18fの全てを含めることで、加圧領域外の接着剤Aが半硬化することによる個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続不良が抑制され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続を確実に行うことができる。   Also in the present embodiment, as in the first embodiment, by performing heating and pressurization in two stages, it is possible to suppress misalignment between the flow path substrate 11 and the COF 18 (and hence poor adhesion and reduced reliability). it can. In the present embodiment, the second region R2 including all of the plurality of individual wirings 18f is first heated and pressurized, and then the first region including the plurality of individual wirings 18f and including at least a part of the common wiring 18g. R1 is heated and pressurized. In this way, by including all of the plurality of individual wirings 18f in the region to be heated and pressurized first, the electrical connection failure between the individual wirings 18f and the individual contacts 12f due to the semi-curing of the adhesive A outside the pressing region. Is suppressed, and the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f can be reliably performed.

COF18において一対の第1領域R1に配列方向に挟まれた第2領域R2を加熱加圧した後、COF18において配列方向に互いに離隔した一対の第1領域R1を加熱加圧する。この場合、共通配線18gと比べてピッチが狭く位置合わせが難しい個別配線18fを先に固定し、後で他の部分を加熱加圧することで、個別配線18fが設けられた接着剤Aの部分が半硬化したりすることがなく、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続の信頼性が向上する。   After heating and pressurizing the second region R2 sandwiched between the pair of first regions R1 in the COF 18 in the arrangement direction, the pair of first regions R1 separated from each other in the arrangement direction in the COF 18 is heated and pressurized. In this case, the portion of the adhesive A provided with the individual wiring 18f is fixed by fixing the individual wiring 18f whose pitch is narrower than that of the common wiring 18g and is difficult to align first, and then heating and pressing the other portions later. The reliability of electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f is improved without being semi-cured.

本実施形態においても、第1実施形態と同様、接着工程S6の前に、仮接着工程S5を行う(図5及び図6(a)参照)。この場合、接着工程S6において流路基板11とCOF18との位置ずれが生じることが抑制される。より詳細には、第1接着工程S6aにおいて第2領域R2を加熱加圧すると、第2領域R2の接着剤Aは硬化前に先ず溶融して液体となり、このときに流路基板11とCOF18との位置ずれが生じ得る。しかし、このとき一対の第1領域R1の接着剤Aは、仮接着工程S5により仮接着されており、さらに加熱加圧されないため固体のままである。そのため、第1接着工程S6aにおいて第2領域R2を加熱加圧したときに、第2領域R2の接着剤Aの溶融により位置ずれが生じることが抑制される。   Also in the present embodiment, as in the first embodiment, the temporary bonding step S5 is performed before the bonding step S6 (see FIGS. 5 and 6A). In this case, the positional deviation between the flow path substrate 11 and the COF 18 in the bonding step S6 is suppressed. More specifically, when the second region R2 is heated and pressurized in the first bonding step S6a, the adhesive A in the second region R2 is first melted into a liquid before curing, and at this time, the flow path substrate 11 and the COF 18 Can be misaligned. However, at this time, the adhesive A in the pair of first regions R1 is temporarily bonded by the temporary bonding step S5, and is not heated and pressurized, and thus remains solid. For this reason, when the second region R2 is heated and pressurized in the first bonding step S6a, it is possible to suppress the occurrence of displacement due to the melting of the adhesive A in the second region R2.

さらに、第2領域R2に、一対の共通配線18gを含めない。この場合、第1接着工程S6aにおいて一対の共通配線18gが配置された領域に段差が生じることが抑制される。   Further, the pair of common wirings 18g is not included in the second region R2. In this case, it is suppressed that a level | step difference arises in the area | region where a pair of common wiring 18g is arrange | positioned in 1st adhesion process S6a.

<第3実施形態>
続いて、図8を参照し、本発明の第3実施形態に係るヘッド301について説明する。
<Third Embodiment>
Next, a head 301 according to a third embodiment of the invention will be described with reference to FIG.

本実施形態では、第2実施形態と同様、第1接着工程S6a(上記第2の観点における第3接着工程)で配列方向中央の領域を加熱加圧し、第2接着工程S6b(上記第2の観点における第4接着工程)で配列方向の両端近傍を加熱加圧するが、第1接着工程S6aで加熱加圧する第2領域R2’が第2実施形態の第2領域R2よりも大きく(図7(a)及び図8(a)参照)、第2接着工程S6bで加熱加圧する一対の第1領域R1’のそれぞれが第2実施形態の各第1領域R1よりも大きい(図7(b)及び図8(b)参照)。   In the present embodiment, as in the second embodiment, a region in the center in the arrangement direction is heated and pressurized in the first bonding step S6a (third bonding step in the second aspect), and the second bonding step S6b (the second bonding step described above). In the fourth bonding step in view), the vicinity of both ends in the arrangement direction is heated and pressurized, but the second region R2 ′ heated and pressurized in the first bonding step S6a is larger than the second region R2 of the second embodiment (FIG. 7 ( a) and FIG. 8A), each of the pair of first regions R1 ′ heated and pressurized in the second bonding step S6b is larger than each first region R1 of the second embodiment (FIG. 7B and FIG. 8A). (Refer FIG.8 (b)).

第2領域R2’は、各共通配線18gにおける配列方向に複数の個別配線18fに隣接する端部(図8(a)において内側の端部)18gxを含む。つまり、第1接着工程S6aにおいて一対の共通配線18gの上記端部を加熱加圧し、さらに第2接着工程S6bにおいて一対の共通配線18gの残りの一部を加熱加圧する。これにより、一対の共通配線18gの接着を確実に行うことができる。   The second region R2 'includes an end portion (an inner end portion in FIG. 8A) 18gx adjacent to the plurality of individual wires 18f in the arrangement direction of each common wire 18g. That is, in the first bonding step S6a, the end portions of the pair of common wirings 18g are heated and pressurized, and in the second bonding step S6b, the remaining part of the pair of common wirings 18g is heated and pressurized. Thereby, a pair of common wiring 18g can be adhere | attached reliably.

一対の第1領域R1’は、重複領域における第2領域R2’の配列方向両外側の領域である。一対の第1領域R1’と第2領域R2’とは互いに重複することなく配列方向に接しており、一対の第1領域R1’と第2領域R2’とで重複領域の全体となる。つまり、第1接着工程S6aで配列方向中央の第2領域R2’を加熱加圧した後、第2接着工程S6bで一対の第1領域R1’を加熱加圧することで、重複領域の全体が加熱加圧され、接着剤Aの未硬化部分を硬化させることができる。そのため、未硬化部分が吸湿して剥離することが防止され、電気的接続の信頼性が向上する。接着工程S6の後、接着剤Aの未硬化部分が残っていると、全体を加熱する工程がさらに必要となるが、本実施形態では当該工程が不要であり、工程数を低減することができる。   The pair of first regions R1 'are regions on both outer sides in the arrangement direction of the second region R2' in the overlapping region. The pair of first region R1 'and second region R2' are in contact with each other in the arrangement direction without overlapping each other, and the pair of first region R1 'and second region R2' constitute the entire overlapping region. That is, after the second region R2 ′ at the center in the arrangement direction is heated and pressed in the first bonding step S6a, the entire overlapping region is heated by heating and pressing the pair of first regions R1 ′ in the second bonding step S6b. The uncured portion of the adhesive A can be cured by being pressurized. Therefore, the uncured portion is prevented from absorbing moisture and peeling off, and the reliability of electrical connection is improved. After the bonding step S6, if an uncured portion of the adhesive A remains, a step of heating the whole is further required. However, in the present embodiment, this step is unnecessary and the number of steps can be reduced. .

<第4実施形態>
続いて、図9を参照し、本発明の第4実施形態に係るヘッド401について説明する。
<Fourth embodiment>
Subsequently, a head 401 according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態では、COF18における流路基板11と重なる重複領域において、複数の個別配線18fの全てを含みかつ共通配線18gの少なくとも一部を含まない領域を第3領域R3とし、重複領域の全体を第4領域R4とする。そして、第3領域R3を接着剤Aが硬化する硬化温度で加熱加圧する第5接着工程(図9(a)参照)と、第5接着工程の後、第4領域R4を接着剤Aが硬化する硬化温度(第5接着工程の硬化温度と同じであってもよいし異なってもよい。)で加熱加圧する第6接着工程(図9(b)参照)とを行う。   In the present embodiment, in the overlapping region overlapping the flow path substrate 11 in the COF 18, the region including all of the plurality of individual wires 18f and not including at least a part of the common wire 18g is defined as the third region R3, and the entire overlapping region is defined. Let it be the fourth region R4. And after the 5th adhesion process (refer to Drawing 9 (a)) which heats and pressurizes the 3rd field R3 at the curing temperature which adhesives A cure, and adhesive 5 A cures 4th field R4 And a sixth bonding step (see FIG. 9B) for heating and pressing at the curing temperature (which may be the same as or different from the curing temperature in the fifth bonding step).

第3領域R3は、第3実施形態の第2領域R2’(図8(a)参照)と同様、各共通配線18gにおける配列方向に複数の個別配線18fに隣接する端部(図9(a)において内側の端部)18gxを含む。   Similarly to the second region R2 ′ (see FIG. 8A) of the third embodiment, the third region R3 has end portions adjacent to the plurality of individual wires 18f in the arrangement direction of the common wires 18g (see FIG. 9A). ) Including the inner end) 18gx.

このように、本実施形態によれば、第3領域R3が複数の個別配線18fの全てを含み、第4領域R4が複数の個別配線18f及び一対の共通配線18gを含む。したがって、第1実施形態と同様、流路基板11及びCOF18に、接着工程S6のための余分な領域が不要であり、ヘッド401の大型化を回避できる。また、第3領域R3及び第4領域R4の各々の領域に、複数の個別配線18fの全てが含まれる。これにより、加圧領域外の接着剤Aが半硬化することによる個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続不良が抑制され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続を確実に行うことが可能である。また、重複領域の全体(第4領域R4)を後で加熱加圧することで、接着剤Aの未硬化部分を硬化させることができる。そのため、未硬化部分が吸湿して剥離することが防止され、電気的接続の信頼性が向上する。接着工程S6の後、接着剤Aの未硬化部分が残っていると、全体を加熱する工程がさらに必要となるが、本実施形態では当該工程が不要であり、工程数を低減することができる。   Thus, according to the present embodiment, the third region R3 includes all of the plurality of individual wires 18f, and the fourth region R4 includes the plurality of individual wires 18f and the pair of common wires 18g. Therefore, as in the first embodiment, the flow path substrate 11 and the COF 18 do not need an extra area for the bonding step S6, and the enlargement of the head 401 can be avoided. Further, each of the third region R3 and the fourth region R4 includes all of the plurality of individual wirings 18f. Thereby, poor electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f due to the semi-curing of the adhesive A outside the pressurizing region is suppressed, and the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f is reliably performed. It is possible. Moreover, the uncured portion of the adhesive A can be cured by heating and pressurizing the entire overlapping region (fourth region R4) later. Therefore, the uncured portion is prevented from absorbing moisture and peeling off, and the reliability of electrical connection is improved. After the bonding step S6, if an uncured portion of the adhesive A remains, a step of heating the whole is further required. However, in the present embodiment, this step is unnecessary and the number of steps can be reduced. .

<第5実施形態>
続いて、図10を参照し、本発明の第5実施形態に係るヘッド501について説明する。
<Fifth Embodiment>
Subsequently, a head 501 according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態では、第4実施形態と同様、第5接着工程で配列方向中央の領域を加熱加圧し、第6接着工程で重複領域の全体(第4領域R4)を加熱加圧するが、第5接着工程で加熱加圧する第3領域R3’が第4実施形態の第3領域R3よりも小さい(図9(a)及び図10(a)参照)。第3領域R3’は、第1実施形態の第2領域R2(図6(c)参照)と同様、複数の個別配線18fの全てを含み、複数のダミー配線18f’及び一対の共通配線18gを含まない。   In the present embodiment, as in the fourth embodiment, the central region in the arrangement direction is heated and pressurized in the fifth bonding step, and the entire overlapping region (fourth region R4) is heated and pressurized in the sixth bonding step. The third region R3 ′ that is heated and pressurized in the bonding step is smaller than the third region R3 of the fourth embodiment (see FIGS. 9A and 10A). Similar to the second region R2 (see FIG. 6C) of the first embodiment, the third region R3 ′ includes all of the plurality of individual wirings 18f, and includes the plurality of dummy wirings 18f ′ and the pair of common wirings 18g. Not included.

ダミー配線18f’は、第3領域R3’に含まれず、第3領域R3’の周囲領域の半硬化が生じる部分に含まれることとなる。このように、半硬化が生じる部分にダミー配線18f’を設けることで、領域を無駄にせず有効利用することができ、ひいては、個別配線18fと共通配線18gとの配列方向の間隔を縮め、流路基板11を配列方向に小型化できる。   The dummy wiring 18f 'is not included in the third region R3', but is included in a portion where the peripheral region of the third region R3 'is semi-cured. As described above, by providing the dummy wiring 18f ′ in the portion where the semi-curing occurs, the area can be effectively used without wasting, and as a result, the distance between the individual wiring 18f and the common wiring 18g in the arrangement direction can be reduced, and the flow can be reduced. The road substrate 11 can be reduced in size in the arrangement direction.

本実施形態によれば、第3領域R3’が複数の個別配線18fの全てを含み、第4領域R4が複数の個別配線18f及び一対の共通配線18gを含むことから、第4実施形態と同様、ヘッド401の大型化を回避できる。また、第3領域R3’及び第4領域R4の各々の領域に、複数の個別配線18fの全てが含まれることから、第4実施形態と同様、加圧領域外の接着剤Aが半硬化することによる個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続不良が抑制され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続を確実に行うことが可能である。   According to the present embodiment, the third region R3 ′ includes all of the plurality of individual wirings 18f, and the fourth region R4 includes the plurality of individual wirings 18f and a pair of common wirings 18g. The enlargement of the head 401 can be avoided. Further, since each of the third region R3 ′ and the fourth region R4 includes all of the plurality of individual wirings 18f, the adhesive A outside the pressure region is semi-cured as in the fourth embodiment. Thus, the electrical connection failure between the individual wiring 18f and the individual contact 12f is suppressed, and the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f can be reliably performed.

<第6実施形態>
続いて、図11を参照し、本発明の第6実施形態に係るヘッド601について説明する。
<Sixth Embodiment>
Subsequently, a head 601 according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態では、第1実施形態と同様、第1接着工程S6aで配列方向の両端近傍を加熱加圧し、第2接着工程S6bで配列方向中央の領域(第2領域R2)を加熱加圧するが、第1接着工程S6aで加熱加圧する領域(第1領域R61)の幅が、第1実施形態の第1領域R1の幅よりも大きく、各共通配線18gの幅の略半分である(図6(b)及び図11(a)参照)。また、第1実施形態の各第1領域R1は、各共通配線18gの配列方向中央に位置しているのに対し、本実施形態の各第1領域R61は、各共通配線18gの配列方向において個別配線18fから離隔した部分に位置している。これにより、各第1領域R61の外縁から複数の個別配線18fまでの最短距離(距離S’)は、第1実施形態の距離Sよりも大きくなっている。そのため、第1領域R1の外側の半硬化が生じる部分に個別配線18fが存在することがより確実に回避され、個別配線18fと個別接点12fとの電気的接続をより確実に行うことができる。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the vicinity of both ends in the arrangement direction is heated and pressurized in the first bonding step S6a, and the central region (second region R2) in the arrangement direction is heated and pressurized in the second bonding step S6b. The width of the region (first region R61) to be heated and pressurized in the first bonding step S6a is larger than the width of the first region R1 of the first embodiment and is approximately half the width of each common wiring 18g (FIG. 6). (See (b) and FIG. 11 (a)). In addition, each first region R1 of the first embodiment is located at the center of the common wiring 18g in the arrangement direction, whereas each first region R61 of the present embodiment is in the arrangement direction of the common wiring 18g. It is located in a part separated from the individual wiring 18f. As a result, the shortest distance (distance S ′) from the outer edge of each first region R61 to the plurality of individual wirings 18f is larger than the distance S of the first embodiment. Therefore, the existence of the individual wiring 18f in the portion where the semi-curing outside the first region R1 occurs is more reliably avoided, and the electrical connection between the individual wiring 18f and the individual contact 12f can be more reliably performed.

<第7実施形態>
続いて、図12を参照し、本発明の第7実施形態に係るヘッド701について説明する。
<Seventh embodiment>
Subsequently, a head 701 according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態では、第1実施形態と同様、第1接着工程S6aで配列方向の両端近傍を加熱加圧し、第2接着工程S6bで配列方向中央の領域(第2領域R2)を加熱加圧するが、第1接着工程S6aで加熱加圧する領域(第1領域R71)の幅が、第1実施形態の第1領域R1の幅よりも大きく、各共通配線18gの幅と略同じである(図6(b)及び図12(a)参照)。これにより、共通配線18gと共通接点12gとの電気的接続をより確実にすることができる。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the vicinity of both ends in the arrangement direction is heated and pressurized in the first bonding step S6a, and the central region (second region R2) in the arrangement direction is heated and pressurized in the second bonding step S6b. The width of the region (first region R71) to be heated and pressed in the first bonding step S6a is larger than the width of the first region R1 of the first embodiment and is substantially the same as the width of each common wiring 18g (FIG. 6). (See (b) and FIG. 12 (a)). Thereby, the electrical connection between the common wiring 18g and the common contact 12g can be further ensured.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な設計変更が可能なものである。   The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various design changes can be made as long as they are described in the claims.

<変形例>
接着剤は、熱硬化性である限り、NCF、ACF等に限定されず、その他任意の接着剤であってよい。また、接着剤は、フィルム状に限定されず、ペースト状であってもよい。
<Modification>
The adhesive is not limited to NCF, ACF, etc. as long as it is thermosetting, and may be any other adhesive. Further, the adhesive is not limited to a film shape, and may be a paste shape.

仮接着工程を行わなくてもよい。   The temporary bonding process may not be performed.

第1領域と複数の個別配線との間に、ダミー配線やアラインメントマークを設けなくてもよい。アラインメントマークは、例えばアクチュエータ基板の表面の凹凸で構成されてもよい。第1領域と第2領域との間に非加圧領域を設けなくてもよい(即ち、第1領域と第2領域とが接してもよい)。また、第1領域と第2領域とが部分的に重なり合ってもよい。   Dummy wirings and alignment marks need not be provided between the first region and the plurality of individual wirings. For example, the alignment mark may be formed by unevenness on the surface of the actuator substrate. The non-pressurized region may not be provided between the first region and the second region (that is, the first region and the second region may be in contact). Further, the first region and the second region may partially overlap.

ダミー配線、ダミー接点、ダミー圧力室及び/又はダミーノズルを省略してもよい。   The dummy wiring, dummy contact, dummy pressure chamber, and / or dummy nozzle may be omitted.

共通配線は、配列方向に複数の個別配線を挟むように配置されることに限定されない。例えば、複数の個別配線に対して、配列方向の一方に共通配線が配置され、配列方向の他方に共通配線が配置されなくてもよい。この場合、第1領域は、配列方向に互いに離隔した一対の領域ではなく、複数の個別配線に対して配列方向の一方に配置された領域となる。   The common wiring is not limited to being arranged so as to sandwich a plurality of individual wirings in the arrangement direction. For example, with respect to a plurality of individual wirings, the common wiring may be arranged on one side in the arrangement direction and the common wiring may not be arranged on the other side in the arrangement direction. In this case, the first area is not a pair of areas separated from each other in the arrangement direction, but is an area arranged in one of the arrangement directions with respect to a plurality of individual wirings.

第2領域は、複数の個別配線の全てと、共通配線とを含む領域(例えば、重複領域の全体)であってもよい。つまり、例えば第1実施形態において、第2接着工程(図6(c)参照)で、COF18における配列方向中央の第2領域R2を加熱加圧する代わりに、COF18の全体を加熱加圧してもよい。   The second area may be an area including all of the plurality of individual wirings and the common wiring (for example, the entire overlapping area). That is, for example, in the first embodiment, in the second bonding step (see FIG. 6C), instead of heating and pressurizing the second region R2 at the center in the arrangement direction of the COF 18, the entire COF 18 may be heated and pressurized. .

アクチュエータは、上述の実施形態のような圧電素子を用いたピエゾ方式のものに限定されず、その他の方式(例えば、発熱素子を用いたサーマル方式、静電力を用いた静電方式等)のものであってもよい。   The actuator is not limited to the piezo type using the piezoelectric element as in the above-described embodiment, but other types (for example, a thermal type using a heating element, an electrostatic type using an electrostatic force, etc.) It may be.

ヘッドは、ライン式に限定されず、シリアル式であってもよい。プリンタ等の装置は、複数のヘッドを含むヘッドユニットを備えることに限定されず、単一のヘッドを備えてもよい。ヘッドが吐出する液体は、インクに限定されず、任意の液体(例えば、インク中の成分を凝集又は析出させる処理液等)であってよい。記録媒体は、用紙に限定されず、記録可能な任意の媒体(例えば、布等)であってよい。本発明は、プリンタに限定されず、ファクシミリ、コピー機、複合機等にも適用可能である。また、本発明は、インクジェット式のヘッドに限定されず、任意のアクチュエータ装置(例えば、液晶パネル等)に適用可能である。   The head is not limited to the line type, and may be a serial type. An apparatus such as a printer is not limited to including a head unit including a plurality of heads, and may include a single head. The liquid ejected by the head is not limited to ink, and may be any liquid (for example, a treatment liquid that aggregates or deposits components in the ink). The recording medium is not limited to paper, and may be any recordable medium (for example, cloth). The present invention is not limited to a printer, but can also be applied to a facsimile machine, a copier, a multifunction machine, and the like. The present invention is not limited to an ink jet head, and can be applied to any actuator device (for example, a liquid crystal panel).

1;201;301;401;501;601;701 ヘッド(アクチュエータ装置)
12 アクチュエータ
11 流路基板(アクチュエータ基板)
12f 個別接点
12f’ ダミー接点
12g 共通接点
18 COF(配線基板)
18f 個別配線
18f’ ダミー配線
18g 共通配線
A 接着剤
M アラインメントマーク
R1,R1’,R61,R71 第1領域
R2,R2’ 第2領域
R3,R3’ 第3領域
R4 第4領域
Rn 非加圧領域
1; 201; 301; 401; 501; 601; 701 Head (actuator device)
12 Actuator 11 Flow path substrate (Actuator substrate)
12f Individual contact 12f 'Dummy contact 12g Common contact 18 COF (wiring board)
18f Individual wiring 18f 'Dummy wiring 18g Common wiring A Adhesive M Alignment mark R1, R1', R61, R71 First region R2, R2 'Second region R3, R3' Third region R4 Fourth region Rn Non-pressurized region

Claims (16)

複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、
前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線を含まずかつ前記共通配線の少なくとも一部を含む領域を第1領域とし、前記複数の個別配線の全てを含む領域を第2領域とした場合に、
前記接着工程は、
前記第1領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第1接着工程と、
前記第1接着工程の後、前記第2領域を前記硬化温度で加熱加圧する第2接着工程とを含み、
前記第1領域の外縁から前記複数の個別配線までの最短距離を前記複数の個別配線同士の最小間隔以上とすることを特徴とするアクチュエータ装置の製造方法。
An actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire are bonded via a thermosetting adhesive, and the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires are bonded together. A bonding step of electrically connecting each of the common contacts and the common wiring;
In the overlapping region of the wiring board that overlaps the actuator substrate, a region that does not include the plurality of individual wires and includes at least a part of the common wires is a first region, and a region that includes all of the plurality of individual wires is a first region. In case of 2 areas,
The bonding step includes
A first bonding step of heating and pressing the first region at a curing temperature at which the adhesive is cured;
A second bonding step of heating and pressurizing the second region at the curing temperature after the first bonding step;
A method of manufacturing an actuator device, wherein a shortest distance from an outer edge of the first region to the plurality of individual wires is equal to or greater than a minimum distance between the plurality of individual wires.
前記最短距離を、350μm以上とすることを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The method for manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein the shortest distance is 350 μm or more. 前記複数の個別配線を、配列方向に等間隔で配列し、
前記最短距離を、15個以上の前記個別配線が配列可能な距離とすることを特徴とする請求項1又は2に記載のアクチュエータ装置の製造方法。
Arranging the plurality of individual wires at equal intervals in the arrangement direction,
3. The method of manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein the shortest distance is a distance at which 15 or more of the individual wirings can be arranged. 4.
前記第1領域と前記複数の個別配線との間に、前記複数の個別配線及び前記共通配線と異なるダミー配線を設けることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   4. The actuator device according to claim 1, wherein a dummy wiring different from the plurality of individual wirings and the common wiring is provided between the first region and the plurality of individual wirings. 5. Manufacturing method. 前記複数の個別配線と、前記複数の個別接点及び前記共通接点と電気的に接続されない前記ダミー配線とを、等間隔で、前記ダミー配線が前記複数の個別配線の配列方向の末端に位置するように、設けることを特徴とする請求項4に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The plurality of individual wires and the dummy wires that are not electrically connected to the plurality of individual contacts and the common contact are arranged at equal intervals so that the dummy wires are positioned at the ends of the plurality of individual wires in the arrangement direction. The method of manufacturing an actuator device according to claim 4, wherein the actuator device is provided. 前記第1領域と前記複数の個別配線との間に対応する部分に、前記配線基板を前記アクチュエータ基板に位置合わせするためのアラインメントマークを設けることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The alignment mark for aligning the said wiring board with the said actuator board | substrate is provided in the part corresponding between the said 1st area | region and these individual wiring, The any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of the actuator apparatus as described in a term. 前記第1領域に、前記共通配線における前記複数の個別配線に隣接する端部を含めないことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The method for manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein the first region does not include an end portion of the common wiring adjacent to the plurality of individual wirings. 複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、
前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線を含まずかつ前記共通配線の少なくとも一部を含む領域を第1領域とし、前記複数の個別配線の全てを含む領域を第2領域とした場合に、
前記接着工程は、
前記第2領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第3接着工程と、
前記第3接着工程の後、前記第1領域を前記硬化温度で加熱加圧する第4接着工程とを含むことを特徴とするアクチュエータ装置の製造方法。
An actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire are bonded via a thermosetting adhesive, and the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires are bonded together. A bonding step of electrically connecting each of the common contacts and the common wiring;
In the overlapping region of the wiring board that overlaps the actuator substrate, a region that does not include the plurality of individual wires and includes at least a part of the common wires is a first region, and a region that includes all of the plurality of individual wires is a first region. In case of 2 areas,
The bonding step includes
A third bonding step of heating and pressing the second region at a curing temperature at which the adhesive is cured;
A method for manufacturing an actuator device, comprising: a fourth bonding step of heating and pressurizing the first region at the curing temperature after the third bonding step.
前記重複領域における前記第1領域と前記第2領域との間に、加熱加圧されない非加圧領域を設けることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The actuator device according to any one of claims 1 to 8, wherein a non-pressurized region that is not heated and pressurized is provided between the first region and the second region in the overlapping region. Method. 前記共通配線の幅を、前記複数の個別配線の各々の幅よりも大きくすることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   10. The method of manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein a width of the common wiring is larger than a width of each of the plurality of individual wirings. 前記複数の個別配線及び前記共通配線を、配列方向に配列し、一対の前記共通配線が前記配列方向に前記複数の個別配線を挟むように配置し、
前記第1領域を、前記配列方向に互いに離隔した一対の領域とすることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。
The plurality of individual wires and the common wires are arranged in an arrangement direction, and a pair of the common wires are arranged so as to sandwich the plurality of individual wires in the arrangement direction,
11. The method of manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein the first region is a pair of regions separated from each other in the arrangement direction.
前記第2領域を、前記一対の領域に前記配列方向に挟まれた領域とすることを特徴とする請求項11に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The method for manufacturing an actuator device according to claim 11, wherein the second region is a region sandwiched between the pair of regions in the arrangement direction. 前記第2領域に、前記一対の共通配線を含めないことを特徴とする請求項12に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   The method for manufacturing an actuator device according to claim 12, wherein the pair of common wires are not included in the second region. 前記第2領域に、前記一対の共通配線の各々における前記配列方向に前記複数の個別配線に隣接する端部を含めることを特徴とする請求項12に記載のアクチュエータ装置の製造方法。   13. The method of manufacturing an actuator device according to claim 12, wherein the second region includes an end portion adjacent to the plurality of individual wires in the arrangement direction of each of the pair of common wires. 複数の個別接点及び共通接点を有するアクチュエータ基板と複数の個別配線及び共通配線を有する配線基板とを熱硬化性の接着剤を介して接着し、前記複数の個別接点と前記複数の個別配線とをそれぞれ電気的に接続しかつ前記共通接点と前記共通配線とを電気的に接続する接着工程を備え、
前記配線基板における前記アクチュエータ基板と重なる重複領域において、前記複数の個別配線の全てを含みかつ前記共通配線の少なくとも一部を含まない領域を第3領域とし、前記重複領域の全体を第4領域とした場合に、
前記接着工程は、
前記第3領域を前記接着剤が硬化する硬化温度で加熱加圧する第5接着工程と、
前記第5接着工程の後、前記第4領域を前記硬化温度で加熱加圧する第6接着工程とを含むことを特徴とするアクチュエータ装置の製造方法。
An actuator substrate having a plurality of individual contacts and a common contact and a wiring substrate having a plurality of individual wires and a common wire are bonded via a thermosetting adhesive, and the plurality of individual contacts and the plurality of individual wires are bonded together. A bonding step of electrically connecting each of the common contacts and the common wiring;
In the overlapping region of the wiring board that overlaps the actuator substrate, a region that includes all of the plurality of individual wires and does not include at least a part of the common wire is defined as a third region, and the entire overlapping region is defined as a fourth region. If
The bonding step includes
A fifth bonding step of heating and pressing the third region at a curing temperature at which the adhesive is cured;
A method of manufacturing an actuator device comprising: a sixth bonding step of heating and pressing the fourth region at the curing temperature after the fifth bonding step.
前記接着工程の前に、
前記アクチュエータ基板と前記配線基板との間に前記接着剤を介在させ、前記硬化温度よりも低く前記接着剤が硬化しない未硬化温度で前記配線基板を前記アクチュエータ基板に仮接着する仮接着工程をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載のアクチュエータ装置の製造方法。
Before the bonding process,
A temporary bonding step of interposing the adhesive between the actuator substrate and the wiring substrate, and temporarily bonding the wiring substrate to the actuator substrate at an uncured temperature lower than the curing temperature at which the adhesive is not cured. The method for manufacturing an actuator device according to claim 1, wherein the actuator device is provided.
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