JP2018140469A - Method for testing workpiece, apparatus for testing and processing workpiece - Google Patents

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元己 北野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To more suitably and easily detect grinding marks of a workpiece.SOLUTION: A testing method of this invention comprises: a processing step of processing a workpiece with a grindstone or an abrasive pad; a projection step of projecting, on a screen, a projection image, where an irregularity state formed on a processing target plane in processing step by irradiating the processing target plane of the workpiece with light from a light source, and by making the light reflected on the processing plane reach the screen; an imaging step of forming an imaging image by imaging the projection image on the screen; and a judgment step of judging the quality of the workpiece by grasping the irregularity state of the workpiece on the basis of the imaging image.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、被加工物に形成された研削痕を検査する検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置に関する。   The present invention relates to an inspection method for inspecting grinding marks formed on a workpiece, an inspection apparatus for a workpiece, and a processing apparatus.

シリコンやSiC、サファイア等の材料でなる各種平板状の被加工物を研削砥石で研削する加工や、研磨パッドで研磨する加工が知られている。該研削砥石は、ダイヤモンド等の砥粒が樹脂や金属等の結合材により固められて形成されている。また、不織布やウレタンパッドで構成される該研磨パッドは、砥粒とともに用いられて被加工物の被研磨面を研磨する。   There are known processes for grinding various flat plate-like workpieces made of materials such as silicon, SiC, and sapphire with a grinding wheel, and polishing with a polishing pad. The grinding wheel is formed by solidifying abrasive grains such as diamond with a binder such as resin or metal. Moreover, this polishing pad comprised with a nonwoven fabric or a urethane pad is used with an abrasive grain, and grind | polishes the to-be-polished surface of a to-be-processed object.

研削砥石を用いた研削加工や研磨パッドを用いた研磨加工では、研削砥石や研磨パッドが被加工物に触れることで加工が進行する。こうした加工においては、研削砥石から脱落した砥粒、被加工物から削り取られた研削屑や凝集した砥粒が、研削砥石や研磨パッドと、被加工物と、の間に入り込む場合があり、そのまま加工が進行すると被加工物に深くて長い研削痕(スクラッチ)が形成される。   In a grinding process using a grinding wheel or a polishing process using a polishing pad, the process proceeds when the grinding wheel or the polishing pad touches the workpiece. In such processing, abrasive grains that fall off from the grinding wheel, grinding scraps or agglomerated abrasive grains that have been scraped off from the workpiece may enter between the grinding wheel or polishing pad and the workpiece. As machining progresses, deep and long grinding marks (scratches) are formed on the workpiece.

該研削痕が形成された被加工物が分割されて個々のデバイスチップが形成されると、デバイスチップの抗折強度が低下してしまう。そこで、加工中または加工後の被加工物を撮像して研削痕を検出する方法や、レーザビームを被加工物に照射して反射されたレーザビームの強度に基づいて研削痕を検出する方法が提案されている。   When the workpiece on which the grinding marks are formed is divided to form individual device chips, the bending strength of the device chip is lowered. Therefore, there are a method for detecting a grinding mark by imaging a workpiece during or after processing, and a method for detecting a grinding mark based on the intensity of a reflected laser beam by irradiating the workpiece with a laser beam. Proposed.

特開2016−49581号公報JP 2016-49581 A 特開2010−17792号公報JP 2010-17792 A

しかしながら、いずれの方法を実施する場合においても研削痕の検出を実現する装置の構成が複雑であり、また、該装置が高価となることが問題である。   However, in any of the methods, the configuration of the apparatus that realizes the detection of grinding marks is complicated, and the problem is that the apparatus is expensive.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工物の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態をより適切かつ容易に検出できる被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and its object is to more appropriately and easily detect irregularities such as grinding marks (scratches) formed on the work surface of the work piece. A workpiece inspection method, a workpiece inspection device, and a processing device are provided.

本発明の第1態様によれば、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光がスクリーンに到達することで該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された投影像を該スクリーンに映す投影ステップと、該スクリーンの該投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法が提供される。   According to the first aspect of the present invention, a processing step of processing a workpiece with a grinding wheel or a polishing pad, and a light from a light source is irradiated on the processing surface of the workpiece and reflected by the processing surface. A projection step in which the projected light reflecting the state of the irregularities formed on the processing surface in the processing step is reflected on the screen by the light reaching the screen, and the projection image of the screen is captured. A workpiece comprising: an imaging step for forming a captured image; and a determination step for determining the quality of the workpiece by grasping the uneven state of the workpiece based on the captured image An inspection method is provided.

本発明の第2態様によれば、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光を撮像することで、該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された像が写る撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法が提供される。   According to the second aspect of the present invention, the processing step of processing the workpiece with a grinding wheel or a polishing pad, and the surface of the workpiece irradiated with light from the light source is reflected by the processing surface. An imaging step for imaging the reflected light to form a captured image in which an image of the unevenness formed on the processing surface is reflected in the processing step; and the workpiece based on the captured image A determination step of determining the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece.

本発明の第3態様によれば、該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする本発明の第1態様または第2態様に係る被加工物の検査方法が提供される。   According to the third aspect of the present invention, the captured image includes a central region of the processed surface including the center of the processed surface, and the captured image surrounds the central region. An inspection method for a workpiece according to the first aspect or the second aspect of the present invention is provided, wherein the outer peripheral area of the workpiece surface is not copied.

本発明の第4態様によれば、研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、該被加工面で反射された該光が照射されることで、該被加工物の該被加工面に該加工により形成された凹凸の状態が反映された投影像が映されるスクリーンと、該スクリーンに映される投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とする被加工物の検査装置が提供される。   According to the fourth aspect of the present invention, the holding table that holds the workpiece in a state in which the workpiece surface of the workpiece processed by the grinding wheel or the polishing pad is exposed, and the holding table held by the holding table. A light source that irradiates light on the surface to be processed of the workpiece and the light reflected by the surface to be processed irradiates the irregularities formed by the processing on the surface to be processed of the workpiece. Provided is a workpiece inspection apparatus comprising: a screen on which a projected image reflecting a state is projected; and an imaging unit that captures the projected image projected on the screen to form a captured image. Is done.

本発明の第5態様によれば、研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、該被加工面で反射された該光を検出して撮像画像を形成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とする被加工物の検査装置が提供される。   According to the fifth aspect of the present invention, the holding table that holds the workpiece in a state where the processing surface of the workpiece processed by the grinding wheel or the polishing pad is exposed, and the holding table held by the holding table An inspection of a workpiece, comprising: a light source that irradiates light on a workpiece surface of the workpiece; and an imaging unit that detects the light reflected by the workpiece surface and forms a captured image. An apparatus is provided.

本発明の第4態様及び第5態様において、該被加工物の検査装置は、該撮像画像に基づいて被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ユニットをさらに備えてもよい。該判定ユニットは、該被加工面の中心を含む中央領域と、該中央領域を囲繞する外周領域と、に連続した該凹凸が検出された場合、該被加工物を不良と判定してもよい。   In the fourth and fifth aspects of the present invention, the workpiece inspection apparatus includes a determination unit that determines the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece based on the captured image. Further, it may be provided. The determination unit may determine that the workpiece is defective when the concavity and convexity are detected continuously in a central region including the center of the processing surface and an outer peripheral region surrounding the central region. .

本発明の第4態様及び第5態様において、該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていなくてもよい。   In the fourth and fifth aspects of the present invention, the captured image includes a central region of the processing surface including the center of the processing surface, and the captured image surrounds the central region. The outer peripheral area of the surface to be processed may not be copied.

被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物を該研削砥石または該研磨パッドで加工する加工ユニットと、加工された該被加工物の被加工面を洗浄する洗浄ユニットと、洗浄された該被加工物の該被加工面に形成された加工痕の凹凸の状態を検査する検査ユニットと、を備え、該検査ユニットは、本発明に係る被加工物の検査装置であることを特徴とする加工装置もまた本発明の一態様である。   A chuck table for holding a workpiece, a processing unit for processing the workpiece held on the chuck table with the grinding wheel or the polishing pad, and a processing surface of the processed workpiece. A cleaning unit, and an inspection unit for inspecting the unevenness state of a processing mark formed on the processed surface of the cleaned workpiece, the inspection unit inspecting the workpiece according to the present invention. A processing apparatus that is an apparatus is also one embodiment of the present invention.

本発明の一態様に係る検査方法、検査装置及び加工装置によると、被加工物の被加工面に加工により形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を、光源と、スクリーン又は凹面鏡と、を含む簡便な構成を用いて撮像した撮像画像に基づいて把握できる。該撮像画像の撮像には、光源から被加工物の被加工面に照射され、該被加工面から反射された光が用いられる。   According to an inspection method, an inspection apparatus, and a processing apparatus according to an aspect of the present invention, a state of unevenness such as a grinding mark (scratch) formed on a processing surface of a workpiece by a light source, a screen, or a concave mirror Can be grasped based on a captured image captured using a simple configuration including. For capturing the captured image, light that is irradiated from the light source onto the processing surface of the workpiece and reflected from the processing surface is used.

被加工物の被加工面に加工により凹凸が形成されていると、該被加工面に照射され反射された光を用いて形成した撮像画像には、該凹凸の状態が強調された像が写る。そのため、被加工面に形成された凹凸の状態を容易に把握することができ、被加工物を容易に検査できる。被加工物の被加工面に許容される程度を超える凹凸が形成されていることが確認される場合、該被加工物を不良と判定し、加工を停止させて研削砥石や研磨パッドの状態を確認することができる。   When unevenness is formed on the processing surface of the workpiece by processing, an image in which the unevenness is emphasized appears in the captured image formed by using the light irradiated and reflected on the processing surface. . Therefore, the state of the unevenness formed on the processing surface can be easily grasped, and the workpiece can be easily inspected. When it is confirmed that unevenness exceeding the allowable level is formed on the work surface of the work piece, the work piece is determined to be defective, the processing is stopped, and the state of the grinding wheel or polishing pad is changed. Can be confirmed.

したがって、本発明の一態様によると、被加工物の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状況をより適切かつ容易に検出できる被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置が提供される。   Therefore, according to one aspect of the present invention, a workpiece inspection method capable of more appropriately and easily detecting the state of irregularities such as grinding marks (scratches) formed on a workpiece surface of the workpiece, An inspection device and a processing device are provided.

図1(A)は、被加工物を模式的に示す斜視図であり、図1(B)は、保護テープが貼着された被加工物を模式的に示す斜視図である。FIG. 1A is a perspective view schematically showing a workpiece, and FIG. 1B is a perspective view schematically showing the workpiece to which a protective tape is attached. 検査装置を含む加工装置を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the processing apparatus containing an inspection apparatus. 図3(A)は、研削加工を模式的に示す側面図であり、図3(B)は、研磨加工を模式的に示す側面図である。FIG. 3A is a side view schematically showing the grinding process, and FIG. 3B is a side view schematically showing the polishing process. 検査装置の構成例を模式的に示す図である。It is a figure which shows the structural example of an inspection apparatus typically. 図5(A)及び図5(B)は、検査装置の構成例を模式的に示す図である。FIG. 5A and FIG. 5B are diagrams schematically illustrating a configuration example of the inspection apparatus. 検査装置の構成例を模式的に示す図である。It is a figure which shows the structural example of an inspection apparatus typically.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1(A)は、本発明の一態様に係る実施形態に係る被加工物の検査方法、被加工物の検査装置、または、加工装置における被加工物を模式的に示す斜視図である。   Embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a perspective view schematically showing a workpiece inspection method, a workpiece inspection apparatus, or a workpiece in a machining apparatus according to an embodiment of the present invention.

図1(A)には、被加工物1が模式的に示されている。該被加工物1は、例えば、シリコン、SiC(シリコンカーバイド)、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板である。   FIG. 1A schematically shows the workpiece 1. The workpiece 1 is, for example, a substantially disk-shaped substrate made of a material such as silicon, SiC (silicon carbide), or another semiconductor, or a material such as sapphire, glass, or quartz.

被加工物1の表面1aは格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)3で複数の領域に区画されており、該複数の分割予定ライン3により区画された各領域にはIC等のデバイス5が形成されている。最終的に、被加工物1がストリート3に沿って分割されることで、個々のデバイスチップが形成される。   The surface 1a of the workpiece 1 is divided into a plurality of regions by a plurality of division lines (streets) 3 arranged in a lattice pattern, and each region divided by the plurality of division lines 3 has an IC or the like. The device 5 is formed. Finally, the workpiece 1 is divided along the streets 3 to form individual device chips.

次に、該被加工物1の表面1aに貼着される保護テープについて図1(B)を用いて説明する。図1(B)には、保護テープ7が模式的に示されている。保護テープ7は、該被加工物1の表面1aに形成されたデバイス5等を保護する機能を有する。保護テープ7は、被加工物1の裏面に対する加工や搬送等の際に加わる衝撃から被加工物1の表面1a側を保護し、デバイス5に損傷が生じるのを防止する。   Next, the protective tape stuck on the surface 1a of the workpiece 1 will be described with reference to FIG. FIG. 1B schematically shows the protective tape 7. The protective tape 7 has a function of protecting the device 5 and the like formed on the surface 1 a of the workpiece 1. The protective tape 7 protects the surface 1a side of the workpiece 1 from an impact applied during processing, conveyance, or the like on the back surface of the workpiece 1, and prevents the device 5 from being damaged.

保護テープ7は、可撓性を有するフィルム状の基材と、該基材の一方の面に形成された糊層(接着剤層)と、を有する。例えば、基材にはPO(ポリオレフィン)が用いられる。POよりも剛性の高いPET(ポリエチレンテレフタラート)、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等が用いられても良い。また、糊層(接着剤層)には、例えば、シリコーンゴム、アクリル系材料、エポキシ系材料等が用いられる。   The protective tape 7 has a flexible film-like substrate and a glue layer (adhesive layer) formed on one surface of the substrate. For example, PO (polyolefin) is used for the base material. PET (polyethylene terephthalate), polyvinyl chloride, polystyrene, or the like having higher rigidity than PO may be used. For the glue layer (adhesive layer), for example, silicone rubber, acrylic material, epoxy material or the like is used.

次に、凹凸が形成された被加工物1を検査する検査装置が組み込まれた加工装置について説明する。図2は、検査装置を含む加工装置の構成例として研削装置を模式的に示す斜視図である。   Next, a description will be given of a processing apparatus in which an inspection apparatus for inspecting the workpiece 1 on which irregularities are formed is incorporated. FIG. 2 is a perspective view schematically showing a grinding apparatus as a configuration example of a processing apparatus including an inspection apparatus.

研削装置2は、円盤状のターンテーブル6上に据え付けられたチャックテーブル8と、研削ユニット10及び研削ユニット10aと、を略直方体状の基台4上に備える。基台4の後部にはコラム12及びコラム12aが立設されており、このコラム12及びコラム12aにはそれぞれ研削ユニット10及び研削ユニット10aが設けられている。   The grinding apparatus 2 includes a chuck table 8 installed on a disk-like turntable 6, a grinding unit 10 and a grinding unit 10 a on a substantially rectangular parallelepiped base 4. A column 12 and a column 12a are erected on the rear portion of the base 4, and a grinding unit 10 and a grinding unit 10a are provided on the column 12 and the column 12a, respectively.

基台4上には、円盤状のターンテーブル6が水平面内において回転可能に設けられている。ターンテーブル6の上面には、円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル8が備えられており、ターンテーブル6を回転させることで各チャックテーブル8が、被加工物搬入・搬出領域、第1の研削領域、第2の研削領域にそれぞれ位置付けられるようになっている。第1の研削領域では、例えば、粗い研削が実施され、第2の研削領域では、例えば、仕上げ研削が実施される。   A disk-like turntable 6 is provided on the base 4 so as to be rotatable in a horizontal plane. Three chuck tables 8 are provided on the upper surface of the turn table 6 so as to be 120 degrees apart from each other in the circumferential direction. By rotating the turn table 6, each chuck table 8 has a workpiece loading / unloading area. The first grinding region and the second grinding region are positioned respectively. In the first grinding region, for example, rough grinding is performed, and in the second grinding region, for example, finish grinding is performed.

チャックテーブル8は、一端が吸引源(不図示)と接続された吸引路(不図示)を内部に有し、該吸引路の他端がチャックテーブル8上の保持面8aに接続されている。該保持面8aは多孔質部材によって構成され、該保持面8a上に載せ置かれた被加工物1に該多孔質部材を通して該吸引源により生じた負圧を作用させて、チャックテーブル8は被加工物を吸引保持する。   The chuck table 8 has a suction path (not shown) having one end connected to a suction source (not shown) inside, and the other end of the suction path is connected to a holding surface 8 a on the chuck table 8. The holding surface 8a is composed of a porous member, and a negative pressure generated by the suction source is applied to the workpiece 1 placed on the holding surface 8a through the porous member, so that the chuck table 8 is covered. Hold the workpiece by suction.

研削ユニット10は、スピンドルモータ14によって回転駆動される研削ホイール16に保持された研削砥石18を備えている。研削ユニット10aは、スピンドルモータ14aによって回転駆動される研削ホイール16aに保持された研削砥石18aを備えている。該研削ホイール16,16aに保持された研削砥石18,18aは、加工送りユニット20,20aにより上下移動されるように構成されており、チャックテーブル8上に保持される被加工物1に接触して該被加工物1を所定の厚さに研削する。   The grinding unit 10 includes a grinding wheel 18 held by a grinding wheel 16 that is rotationally driven by a spindle motor 14. The grinding unit 10a includes a grinding wheel 18a held by a grinding wheel 16a that is rotationally driven by a spindle motor 14a. The grinding wheels 18, 18 a held by the grinding wheels 16, 16 a are configured to be moved up and down by the processing feed units 20, 20 a, and contact the workpiece 1 held on the chuck table 8. The workpiece 1 is ground to a predetermined thickness.

基台4の前側となる部分はターンテーブル8が設けられた部分よりも一段高くなるように構成されており、基台4の前端にカセット載置台22,22aが固定されている。カセット載置台22上には研削加工前の被加工物1を収容したカセット22が載置され、カセット載置台22aには研削の終了した被加工物1を収容するためのカセット24aが載置される。   The portion on the front side of the base 4 is configured to be one step higher than the portion on which the turntable 8 is provided, and the cassette mounting tables 22 and 22 a are fixed to the front end of the base 4. A cassette 22 that accommodates the workpiece 1 before grinding is placed on the cassette placing table 22, and a cassette 24 a for placing the workpiece 1 that has been ground is placed on the cassette placing table 22 a. The

カセット載置台22,22aに隣接して基台4上に被加工物搬送ロボット26が据え付けられている。基台4の前側部分には更に、複数の位置決めピンを有する位置決めテーブル28と、被加工物搬入機構(ローディングアーム)30と、被加工物搬出機構(アンローディングアーム)32と、研削された被加工物を洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置34と、が配設されている。   A workpiece transfer robot 26 is installed on the base 4 adjacent to the cassette mounting tables 22 and 22a. The front portion of the base 4 further includes a positioning table 28 having a plurality of positioning pins, a workpiece loading mechanism (loading arm) 30, a workpiece unloading mechanism (unloading arm) 32, and a ground workpiece. And a spinner cleaning device 34 for cleaning and spin drying the workpiece.

研削装置2は、該スピンナ洗浄装置34と、カセット載置台22aと、の間に本実施形態に係る検査装置36を備える。該検査装置36は、検査の対象となる被加工物1を保持する保持テーブル38と、光源40と、スクリーン42と、撮像ユニット44と、を備える。   The grinding device 2 includes an inspection device 36 according to the present embodiment between the spinner cleaning device 34 and the cassette mounting table 22a. The inspection device 36 includes a holding table 38 that holds the workpiece 1 to be inspected, a light source 40, a screen 42, and an imaging unit 44.

保持テーブル38の斜め上方には、保持テーブル38によって保持される被加工物1の全体に光を放射するための光源40が配置されている。光源40としては、例えば、白熱電球やLED等が用いられる。ただし、光源40の種類や位置等に制限はない。また、該光は、平行光でも良いし非平行光でも良い。該光を平行光とする場合には、例えば、光源40に対して凹面鏡等の光学素子を組み合わせると良い。また、発光領域が小さく点光源とみなせる光源を用いて平行光又は非平行光を得てもよい。   A light source 40 for emitting light to the entire workpiece 1 held by the holding table 38 is disposed obliquely above the holding table 38. As the light source 40, for example, an incandescent bulb or LED is used. However, there are no restrictions on the type and position of the light source 40. The light may be parallel light or non-parallel light. When the light is parallel light, for example, an optical element such as a concave mirror may be combined with the light source 40. Alternatively, parallel light or non-parallel light may be obtained using a light source that has a small light emitting area and can be regarded as a point light source.

被加工物1で反射される光の経路(光路)上には、反射後の該光を照射することによって投影像が形成されるスクリーン42が設けられている。スクリーン42は、代表的には、平坦なスクリーンであり、被加工物1と同程度の大きさ又は被加工物の中央の領域が表示出来る程度の大きさに形成される。加工により該被加工面に形成される凹凸は被加工物の中央の領域を通りやすいため、例えば、被加工物の中心付近の直径約50mmの範囲を投影できるスクリーンを用いると、該凹凸の状態を確認しやすい。   A screen 42 on which a projection image is formed by irradiating the reflected light is provided on the light path (optical path) reflected by the workpiece 1. The screen 42 is typically a flat screen, and is formed to have the same size as the workpiece 1 or the size that can display the central area of the workpiece. Since the unevenness formed on the surface to be processed by processing easily passes through the central region of the workpiece, for example, if a screen capable of projecting a range of about 50 mm in diameter near the center of the workpiece is used, the state of the unevenness Easy to check.

本実施形態では、保持テーブル38の斜め上方に光源40を配置するとともに、被加工物1で反射される光の経路上に、スクリーン42を配置する。光源40から斜め下方に進行する光を被加工物1に放射すると、この光は、被加工物1の露出した面(ここでは、裏面11b)で反射されてスクリーン42に照射される。その結果、スクリーン42には、被加工物1の露出した面(すなわち、裏面1b)の状態を反映した投影像が形成される。   In the present embodiment, the light source 40 is disposed obliquely above the holding table 38, and the screen 42 is disposed on the light path reflected by the workpiece 1. When light traveling obliquely downward from the light source 40 is radiated to the workpiece 1, this light is reflected by the exposed surface (here, the back surface 11 b) of the workpiece 1 and is applied to the screen 42. As a result, a projected image reflecting the state of the exposed surface of the workpiece 1 (that is, the back surface 1b) is formed on the screen 42.

スクリーン42を見ることができる位置には、スクリーン42に形成される投影像を撮像して撮像画像を形成するための撮像ユニット(撮像手段)44が配置されている。この撮像ユニット44は、例えば、CCDやCMOS等の撮像素子にレンズ等の光学素子を組み合わせたデジタルカメラであり、投影像を撮像して形成した撮像画像(映像)を外部へと出力する。なお、この撮像ユニット44としては、静止画を形成するデジタルスチルカメラ、動画を形成するデジタルビデオカメラのいずれを用いることもできる。   At a position where the screen 42 can be seen, an image pickup unit (image pickup means) 44 for picking up a projected image formed on the screen 42 and forming a picked-up image is arranged. The imaging unit 44 is, for example, a digital camera in which an imaging element such as a CCD or CMOS is combined with an optical element such as a lens, and outputs a captured image (video) formed by capturing a projection image to the outside. As the imaging unit 44, either a digital still camera that forms a still image or a digital video camera that forms a moving image can be used.

ここで、図4を用いて、スクリーン42の傾き角について説明する。図4には、光源40と、被加工物1と、スクリーン42と、撮像ユニット44と、の位置関係が模式的に示されている。図4に示される通り、好ましくは被加工物1の裏面1bに反射された該光がスクリーン42に対して垂直に入射するようにスクリーン42が傾けられる。   Here, the inclination angle of the screen 42 will be described with reference to FIG. FIG. 4 schematically shows the positional relationship among the light source 40, the workpiece 1, the screen 42, and the imaging unit 44. As shown in FIG. 4, the screen 42 is preferably tilted so that the light reflected on the back surface 1 b of the workpiece 1 is perpendicularly incident on the screen 42.

すなわち、被加工物1に入射する光と該裏面1bのなす角度及び反射する光と該裏面1bのなす角度と、被加工物1の裏面1bと垂直な面からのスクリーン42の傾き角と、が一致するようにスクリーン42が傾けられる。この場合、極めて歪みの小さい投影像をスクリーン42に投影できるため、被加工物1の裏面1bに形成された凹凸の状態をより正確に把握できるようになる。このとき、撮像ユニット44で撮像されて形成される撮像画像を鮮明にするために、撮像ユニット44の被写界深度が適切に調整される。   That is, the angle formed by the light incident on the workpiece 1 and the back surface 1b and the angle formed by the reflected light and the back surface 1b, the inclination angle of the screen 42 from the surface perpendicular to the back surface 1b of the workpiece 1, The screen 42 is tilted so as to match. In this case, since a projection image with extremely small distortion can be projected onto the screen 42, the state of the unevenness formed on the back surface 1b of the workpiece 1 can be grasped more accurately. At this time, the depth of field of the imaging unit 44 is appropriately adjusted in order to make a captured image formed by being captured by the imaging unit 44 clear.

撮像ユニット44には、撮像ユニット44から出力される撮像画像から加工により被加工物1の被加工面(裏面1b)に形成される凹凸の状態を確認し、該凹凸の状態に基づいて被加工物1の良否を判定するための判定ユニット(不図示)が接続されている。   The imaging unit 44 confirms the state of unevenness formed on the processing surface (back surface 1b) of the workpiece 1 by processing from the captured image output from the imaging unit 44, and is processed based on the unevenness state. A determination unit (not shown) for determining the quality of the object 1 is connected.

なお、検査装置36は、スクリーン42に代えて凹面鏡を備えてもよい。スクリーン42に代えて凹面鏡が備えられると、該被加工物1の被加工面から反射した光を該凹面鏡により撮像ユニット44に集光できる。そのため、撮像ユニット44に到達する光量が増して撮像ユニット44はより鮮明な撮像画像を形成できる。   Note that the inspection apparatus 36 may include a concave mirror instead of the screen 42. If a concave mirror is provided in place of the screen 42, the light reflected from the processing surface of the workpiece 1 can be condensed on the imaging unit 44 by the concave mirror. Therefore, the amount of light reaching the imaging unit 44 increases and the imaging unit 44 can form a clearer captured image.

また、本実施形態に係る加工装置は、研削砥石を備える研削ユニットにより被加工物を研削する研削装置でなくてもよく、研磨パッドを備える研磨ユニットにより被加工物を研磨する研磨装置でもよい。   In addition, the processing apparatus according to the present embodiment may not be a grinding apparatus that grinds a workpiece with a grinding unit that includes a grinding wheel, and may be a polishing apparatus that polishes a workpiece with a polishing unit that includes a polishing pad.

次に、研削装置2に備えられた検査装置36により実施される本実施形態に係る被加工物の検査方法について説明する。該検査方法では、まず、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップを実施する。   Next, a workpiece inspection method according to this embodiment, which is performed by the inspection device 36 provided in the grinding device 2, will be described. In the inspection method, first, a processing step of processing a workpiece with a grinding wheel or a polishing pad is performed.

該加工ステップについて、図3(A)及び図3(B)を用いて説明する。図3(A)は、研削加工を模式的に示す側面図であり、図3(B)は、研磨加工を模式的に示す側面図である。   The processing steps will be described with reference to FIGS. 3 (A) and 3 (B). FIG. 3A is a side view schematically showing the grinding process, and FIG. 3B is a side view schematically showing the polishing process.

まず、図3(A)に示すように、研削装置2に備えられた研削ユニット10により被加工物1の裏面1b側を研削加工する場合について説明する。表面1a側を下方に向けた状態で保護テープ7を介して被加工物1をチャックテーブル8の保持面8a上に載せる。そして、チャックテーブル8に被加工物1を吸引保持させて、被加工物1の裏面1b側を上方に露出する。研削装置2のターンテーブル6(図2参照)を回転させてチャックテーブル8を研削ユニット10の下方に位置付ける。   First, as shown in FIG. 3A, a case where the back surface 1b side of the workpiece 1 is ground by the grinding unit 10 provided in the grinding device 2 will be described. The workpiece 1 is placed on the holding surface 8a of the chuck table 8 through the protective tape 7 with the front surface 1a facing downward. Then, the workpiece 1 is sucked and held on the chuck table 8, and the back surface 1b side of the workpiece 1 is exposed upward. The chuck table 8 is positioned below the grinding unit 10 by rotating the turntable 6 (see FIG. 2) of the grinding device 2.

次に、研削ユニット10のスピンドルモータ14を作動させて研削ホイール16を回転させる。また、チャックテーブル8を保持面8aに垂直な軸の周りに回転させる。そして、加工送りユニット20を作動させて研削ホイール16を被加工物1に向けて下降させ、回転する研削ホイール16に装着された研削砥石18が被加工物1の裏面1b側に触れると被加工物1が研削加工される。加工送りユニット20により所定の高さ位置に研削砥石18が位置付けられると、被加工物1が所定の厚さにまで薄化される。   Next, the spindle motor 14 of the grinding unit 10 is operated to rotate the grinding wheel 16. Further, the chuck table 8 is rotated around an axis perpendicular to the holding surface 8a. Then, when the machining feed unit 20 is operated to lower the grinding wheel 16 toward the workpiece 1 and the grinding wheel 18 mounted on the rotating grinding wheel 16 touches the back surface 1b side of the workpiece 1, the workpiece is processed. The object 1 is ground. When the grinding wheel 18 is positioned at a predetermined height by the processing feed unit 20, the workpiece 1 is thinned to a predetermined thickness.

なお、加工ステップでは、図3(B)に示すように、研磨ユニット10bにより被加工物1の裏面1b側を研磨加工してもよい。該研磨ユニット10bは、例えば、図2に示す研削装置2の研削ユニット10aに代えて研削装置2に備えられる。なお、該研磨ユニット10bは、研削ユニットを含まない研磨装置に備えられてもよい。   In the processing step, as shown in FIG. 3B, the back surface 1b side of the workpiece 1 may be polished by the polishing unit 10b. The polishing unit 10b is provided in the grinding device 2, for example, instead of the grinding unit 10a of the grinding device 2 shown in FIG. The polishing unit 10b may be provided in a polishing apparatus that does not include a grinding unit.

該研磨ユニット10bは、研磨ホイール16bに装着された研磨パッド18bを有する。一端が該研磨ホイール16bに接続されたスピンドルの他端に接続されたスピンドルモータ(不図示)を作動させることにより、研磨ホイール16bが回転される。   The polishing unit 10b has a polishing pad 18b attached to a polishing wheel 16b. By operating a spindle motor (not shown) having one end connected to the other end of the spindle connected to the polishing wheel 16b, the polishing wheel 16b is rotated.

研磨ユニット10bによる研磨加工の際には、上述の研削加工の際と同様に、被加工物1の表面1a側をチャックテーブル8に向けた状態で保護テープ7を介してチャックテーブル8の保持面8a上に被加工物1を置く。そして、チャックテーブル8に被加工物1を吸引保持させ、被加工物1の裏面1b側を上方に露出する。   In the polishing process by the polishing unit 10b, the holding surface of the chuck table 8 through the protective tape 7 with the surface 1a side of the workpiece 1 facing the chuck table 8 in the same manner as the above-described grinding process. The workpiece 1 is placed on 8a. Then, the workpiece 1 is sucked and held by the chuck table 8, and the back surface 1b side of the workpiece 1 is exposed upward.

そして、研磨ホイール16bを回転させ、チャックテーブル8を保持面8aに垂直な軸の周りに回転させ、研磨ホイール16bを被加工物1に向けて下降させる。該研磨ホイール16bに装着された研磨パッド18bが該被加工物1の裏面1b側に接触すると研磨加工が実施される。   Then, the polishing wheel 16b is rotated, the chuck table 8 is rotated around an axis perpendicular to the holding surface 8a, and the polishing wheel 16b is lowered toward the workpiece 1. When the polishing pad 18b attached to the polishing wheel 16b comes into contact with the back surface 1b side of the workpiece 1, polishing is performed.

研削砥石18を用いた研削加工や研磨パッド18bを用いた研磨加工においては、研削砥石18から脱落した砥粒、被加工物1から削り取られた研削屑や凝集した砥粒が研削砥石18や研磨パッド18bと、被加工物1と、の間に入り込む場合があり、そのまま加工が進行すると被加工物1に深くて長い研削痕(スクラッチ)が形成される。該研削痕が形成された被加工物1が分割されて個々のデバイスチップが形成されると、デバイスチップの抗折強度が低下したり、デバイスとして機能しない不良となってしまう。   In the grinding process using the grinding wheel 18 and the polishing process using the polishing pad 18b, the abrasive grains that have fallen off from the grinding wheel 18 and the grinding scraps and agglomerated grains that have been scraped off from the workpiece 1 are removed from the grinding wheel 18 or polished. In some cases, the pad 18b and the workpiece 1 may enter, and if the processing proceeds as it is, deep and long grinding marks (scratches) are formed on the workpiece 1. If the workpiece 1 on which the grinding marks are formed is divided and individual device chips are formed, the bending strength of the device chip is reduced, or the device chip does not function as a device.

そこで、本実施形態に係る被加工物の検査方法では、次に投影ステップと、撮像ステップと、判定ステップと、を実施して被加工物1の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。   Therefore, in the workpiece inspection method according to the present embodiment, a grinding mark (scratch) formed on the workpiece surface of the workpiece 1 by performing a projection step, an imaging step, and a determination step next. The quality of the workpiece is judged by grasping the unevenness state such as.

投影ステップでは、加工が完了した被加工物1の被加工面に光を照射して、反射した光をスクリーンに投影させる。まず、加工が完了した被加工物1をチャックテーブル8上から検査装置36(図2参照)の保持テーブル38上に移す。その過程で、スピンナ洗浄装置34により被加工物1の該被加工面を洗浄する。保持テーブル38に被加工物1の表面1a側を向けた状態で保護テープ7を介して被加工物1を保持テーブル38上に置き、被加工面(裏面1b)を上方に露出する。   In the projecting step, the processed surface of the workpiece 1 that has been processed is irradiated with light, and the reflected light is projected onto the screen. First, the workpiece 1 that has been processed is transferred from the chuck table 8 to the holding table 38 of the inspection device 36 (see FIG. 2). In the process, the processed surface of the workpiece 1 is cleaned by the spinner cleaning device 34. The workpiece 1 is placed on the holding table 38 via the protective tape 7 with the front surface 1a side of the workpiece 1 facing the holding table 38, and the processing surface (back surface 1b) is exposed upward.

次に、図4に示すように、光源40から光46を放射する。光源40は、保持テーブル38によって保持される被加工物1の全体に対して光46を照射できる態様(位置、向き等)で設けられている。よって、光源40から放射された光46は、被加工物1の被加工面(裏面1b)で反射される。   Next, as shown in FIG. 4, light 46 is emitted from the light source 40. The light source 40 is provided in a mode (position, orientation, etc.) capable of irradiating light 46 to the entire workpiece 1 held by the holding table 38. Therefore, the light 46 emitted from the light source 40 is reflected by the processing surface (back surface 1 b) of the workpiece 1.

また、被加工物1で反射される光46の経路上には、スクリーン42が配置されている。よって、被加工物1の被加工面(裏面1b)で反射された光46は、スクリーン42に照射され、加工により該被加工面に形成された凹凸の状態に応じた投影像が形成される。ここで、被加工物1で反射される光46と裏面1bとのなす角と、スクリーン42の加工物1の被加工面に垂直な面に対する傾き角と、が一致している場合、該投影像の歪みが極めて小さくなる。   A screen 42 is disposed on the path of the light 46 reflected by the workpiece 1. Therefore, the light 46 reflected by the processing surface (back surface 1b) of the workpiece 1 is irradiated to the screen 42, and a projection image corresponding to the uneven state formed on the processing surface is formed by processing. . Here, when the angle formed between the light 46 reflected by the workpiece 1 and the back surface 1b coincides with the inclination angle of the screen 42 with respect to the plane perpendicular to the workpiece surface, the projection is performed. Image distortion is extremely small.

その後、撮像ステップが実施される。撮像ユニット44で該投影像を撮像し、撮像画像を形成する。このとき、該撮像画像を鮮明にするために撮像ユニット(カメラ)44の被写界深度を適切に調整する。そして、撮像ユニット44によって形成された撮像画像が判定ユニット(不図示)に送られる。   Thereafter, an imaging step is performed. The projected image is captured by the imaging unit 44 to form a captured image. At this time, the depth of field of the imaging unit (camera) 44 is appropriately adjusted to make the captured image clear. Then, the captured image formed by the imaging unit 44 is sent to a determination unit (not shown).

撮像ステップの後には、撮像ユニット44で形成された該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップが実施される。本実施形態においては、該検査装置36の撮像ユニット44で形成される撮像画像には、被加工物1の被加工面(裏面1b)ではなく、スクリーン42に投影された投影像が写る。   After the imaging step, a determination step for determining the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece based on the captured image formed by the imaging unit 44 is performed. In the present embodiment, the captured image formed by the imaging unit 44 of the inspection apparatus 36 includes a projection image projected on the screen 42 instead of the processing surface (back surface 1 b) of the workpiece 1.

該投影像は、被加工物の被加工面に照射された光46が該被加工面に反射されてスクリーン42に照射されて形成された像である。ここで、該被加工面は略鏡面であり光46は該被加工面に鏡面反射されるが、該被加工面に微小な凹凸が形成されている場合、該光46は該凹凸により部分的に拡散又は収束される。   The projected image is an image formed by irradiating the screen 42 with the light 46 irradiated on the processing surface of the workpiece. Here, the surface to be processed is substantially a mirror surface, and the light 46 is specularly reflected on the surface to be processed. However, when the surface to be processed has minute irregularities, the light 46 is partially reflected by the irregularities. Is diffused or converged.

そのため、該投影像は、該被加工面に形成された微小な凹凸の状態を反映した明暗が現れた像となる。なお、このように鏡面反射された光をスクリーン等に投影して形成された像に該鏡面の凹凸の状態が反映された明暗が現れる現象は魔鏡現象と呼ばれる。そして、該被加工面を直接撮像して形成した撮像画像よりも、スクリーン42に投影された投影像を撮像して形成された撮像画像の方が、被加工面に形成された該凹凸の状態の把握にはより有用である。魔鏡現象により、該凹凸の状態が強調されるためである。   Therefore, the projected image is an image in which brightness and darkness reflecting the state of minute unevenness formed on the processing surface appears. Note that the phenomenon in which light and darkness in which the state of the unevenness of the mirror surface is reflected in an image formed by projecting the specularly reflected light onto a screen or the like is called a magic mirror phenomenon. The captured image formed by capturing the projection image projected on the screen 42 is more in the state of the unevenness formed on the processing surface than the captured image formed by directly capturing the processing surface. It is more useful for grasping. This is because the uneven state is emphasized by the magic mirror phenomenon.

したがって、該投影像が写る該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を容易に把握できる。例えば、被加工面に凹凸が形成されていない場合、該撮像画像に写された被加工面は全体に一様の明るさとなる。また、例えば、被加工面に凹凸が形成されている場合、該撮像画像に写された投影像には被加工面に形成された該凹凸の状態が強調された明暗模様が現れる。つまり、該撮像画像から被加工物の凹凸の状態を把握できる。   Therefore, the unevenness state of the workpiece can be easily grasped based on the captured image in which the projected image is captured. For example, when unevenness is not formed on the processing surface, the processing surface shown in the captured image has uniform brightness as a whole. For example, when unevenness is formed on the processing surface, a light and dark pattern in which the state of the unevenness formed on the processing surface is emphasized appears in the projected image captured in the captured image. That is, the uneven state of the workpiece can be grasped from the captured image.

ところで、撮像ユニット44に接続された判定ユニット(不図示)には、該撮像画像から把握される被加工面の凹凸の状態に基づいて、被加工物1の抗折強度が十分に確保されているか否かを判定するための条件が予め登録されている。該判定ユニットは、被加工物1の抗折強度が十分である場合に被加工物1を良品と判定する。その一方で、該判定ユニットは、被加工物1の被加工面に形成された凹凸の状態により被加工物1の抗折強度が不十分となる場合に、該被加工物1を不良品と判定する。   By the way, the determination unit (not shown) connected to the imaging unit 44 has a sufficient bending strength of the workpiece 1 based on the unevenness of the workpiece surface grasped from the captured image. A condition for determining whether or not there is registered in advance. The determination unit determines that the workpiece 1 is a non-defective product when the bending strength of the workpiece 1 is sufficient. On the other hand, when the bending strength of the work piece 1 is insufficient due to the unevenness formed on the work surface of the work piece 1, the determination unit determines that the work piece 1 is a defective product. judge.

例えば、該判定ユニットは、該被加工物1の該被加工面の中心を含む中央領域と、該中央領域を囲繞する外周領域と、に連続した凹凸(加工痕)が検出された場合、該被加工物1を不良と判定する。ここで、該中央領域とは、例えば該被加工面の中央から該被加工物の半径の3分の1乃至4分の1離れた位置までの円形の領域であり、該外周領域とは、被加工面の該中央領域以外の領域である。   For example, if the determination unit detects a continuous unevenness (processing trace) in a central region including the center of the processing surface of the workpiece 1 and an outer peripheral region surrounding the central region, The workpiece 1 is determined to be defective. Here, the central region is, for example, a circular region from the center of the processing surface to a position one third to one fourth of the radius of the workpiece, and the outer peripheral region is It is a region other than the central region of the work surface.

該中央領域と、該外周領域と、に連続した凹凸(加工痕)は正常な加工によっては形成されにくいため、そのような凹凸が検出される場合、加工装置に何らかの異常が生じたと判断できるため、判定ユニットは該凹凸が検出される被加工物1を不良と判定する。   Concavities and convexities (machining traces) continuous to the central region and the outer peripheral region are difficult to be formed by normal processing, so that when such irregularities are detected, it can be determined that some abnormality has occurred in the processing apparatus. The determination unit determines that the workpiece 1 in which the unevenness is detected is defective.

判定ユニットにより被加工物1が不良と判定された場合、該被加工物1をその後の工程に送らずに廃棄できる。そして、被加工面に形成された凹凸が加工ステップにおける加工に起因して生じたと断定される場合には、加工ステップにおける加工条件等を点検する。または、研削砥石または研磨パッド等に異常がないか確認する。   When the workpiece 1 is determined to be defective by the determination unit, the workpiece 1 can be discarded without being sent to a subsequent process. Then, when it is determined that the unevenness formed on the surface to be processed is caused by the processing in the processing step, the processing conditions and the like in the processing step are inspected. Also, check if there are any abnormalities in the grinding wheel or polishing pad.

以上の被加工物の検査方法を実施すると、被加工物1の被加工面に加工により形成された加工痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を、簡便な構成を用いて形成した撮像画像に基づいて容易に把握できる。   When the above-described inspection method for a workpiece is performed, the state of unevenness such as a processing mark (scratch) formed on the processing surface of the workpiece 1 by processing is based on a captured image formed using a simple configuration. Can be easily grasped.

なお、上記実施形態では、光源から光を直接被加工物1に照射しているが、光源から発せられた光を凹面鏡に照射して、該凹面鏡により反射された平行光を被加工物1に照射することもできる。そのような場合について、図5(A)を用いて説明する。   In the above embodiment, the workpiece 1 is directly irradiated with light from the light source. However, the parallel mirror reflected by the concave mirror is irradiated on the workpiece 1 by irradiating the concave mirror with the light emitted from the light source. Irradiation is also possible. Such a case will be described with reference to FIG.

図5(A)は、検査装置36aの構成例を模式的に示す図である。図5(A)に示す検査装置36aは、光源40aと、凹面鏡48aと、保持テーブル38aと、スクリーン42aと、撮像ユニット44と、PC50と、を備える。   FIG. 5A is a diagram schematically illustrating a configuration example of the inspection device 36a. The inspection apparatus 36a shown in FIG. 5A includes a light source 40a, a concave mirror 48a, a holding table 38a, a screen 42a, an imaging unit 44, and a PC 50.

該検査装置36aでは、光源40aから発せられた光は凹面鏡48aに照射される。該凹面鏡48aは保持テーブル38aに保持された被加工物1に向けて平行光を反射する。被加工物1は、該平行光が照射されると、該平行光をスクリーン42aに向けて反射し、該スクリーン42aには該被加工物の該凹凸の状態を反映した投影像が形成される。撮像ユニット44は該投影像を形成して撮像画像をPC50に送る。該PC50は、判定ユニットとしての機能を有し、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。   In the inspection device 36a, the light emitted from the light source 40a is applied to the concave mirror 48a. The concave mirror 48a reflects parallel light toward the workpiece 1 held by the holding table 38a. When the workpiece 1 is irradiated with the parallel light, the workpiece 1 reflects the parallel light toward the screen 42a, and a projection image reflecting the uneven state of the workpiece is formed on the screen 42a. . The imaging unit 44 forms the projection image and sends the captured image to the PC 50. The PC 50 functions as a determination unit, and determines the quality of the workpiece by grasping the unevenness state of the workpiece based on the captured image.

さらに、上記実施形態では、被加工物1により反射された光をスクリーンに照射させて投影像を形成し、該投影像を撮像ユニットに撮像させて撮像画像を形成している。しかし、該スクリーンに代えて凹面鏡を設置して、被加工物1により反射された光を該凹面鏡に照射させて、該光を撮像ユニットに向けて集光させてもよい。そのような場合について、図5(B)を用いて説明する。   Furthermore, in the said embodiment, the light reflected by the to-be-processed object 1 is irradiated to a screen, a projection image is formed, and this imaging image is imaged by an imaging unit, and the imaging image is formed. However, a concave mirror may be installed in place of the screen, and the light reflected by the workpiece 1 may be irradiated onto the concave mirror to collect the light toward the imaging unit. Such a case will be described with reference to FIG.

図5(B)は、検査装置36bの構成例を模式的に示す図である。図5(B)に示す検査装置36bは、光源40bと、凹面鏡48bと、保持テーブル38bと、凹面鏡48cと、撮像ユニット44と、PC50と、を備える。   FIG. 5B is a diagram schematically illustrating a configuration example of the inspection device 36b. The inspection apparatus 36b shown in FIG. 5B includes a light source 40b, a concave mirror 48b, a holding table 38b, a concave mirror 48c, an imaging unit 44, and a PC 50.

該検査装置36bでは、光源40bから発せられた光は凹面鏡48bに照射される。該凹面鏡48bは保持テーブル38bに保持された被加工物1に向けて平行光を反射する。被加工物1は、該平行光が照射されると、該平行光を凹面鏡48cに向けて反射する。該凹面鏡48cは、該凹面鏡48cに照射される該平行光を撮像ユニット44に向けて反射し集光させる。撮像ユニット44では、該凹面鏡48cに反射された光を検出する。   In the inspection device 36b, the light emitted from the light source 40b is applied to the concave mirror 48b. The concave mirror 48b reflects parallel light toward the workpiece 1 held on the holding table 38b. When the parallel light is irradiated, the workpiece 1 reflects the parallel light toward the concave mirror 48c. The concave mirror 48c reflects and condenses the parallel light applied to the concave mirror 48c toward the imaging unit 44. The imaging unit 44 detects the light reflected by the concave mirror 48c.

撮像ユニット44は撮像で得られた撮像画像をPC50に送る。該PC50は、判定ユニットとしての機能を有し、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。ここで、該撮像画像は、被加工物1により反射された光がスクリーンに照射されて形成される投影像を撮像した画像ではなく、該光が凹面鏡48cにより反射されて撮像ユニット44に集光された光を直接捉えた画像となる。   The imaging unit 44 sends a captured image obtained by imaging to the PC 50. The PC 50 functions as a determination unit, and determines the quality of the workpiece by grasping the unevenness state of the workpiece based on the captured image. Here, the captured image is not an image obtained by capturing a projection image formed by irradiating the screen with the light reflected by the workpiece 1, but the light is reflected by the concave mirror 48 c and condensed on the imaging unit 44. It is an image that directly captures the emitted light.

被加工物1により反射された光を撮像ユニット44に集光させるので、撮像画像に到達する光量は大きくなり、得られる撮像画像が比較的鮮明となる。すると、より正確に被加工物1の被加工面の凹凸の状態を評価することができ、判定ユニットとして機能するPC50により細かい判定を実施させることができる。   Since the light reflected by the workpiece 1 is condensed on the image pickup unit 44, the amount of light reaching the picked-up image increases, and the obtained picked-up image becomes relatively clear. Then, the uneven | corrugated state of the to-be-processed surface of the to-be-processed object 1 can be evaluated more correctly, and fine determination can be implemented by PC50 which functions as a determination unit.

さらに、被加工物1の裏面1bに対して垂直に光を入射させて、反射された光を被加工物1の裏面1bに対して正面に配置した撮像ユニット44で捉えることにより、歪みのない撮像画像を得ることができる。そのような歪みのない撮像画像が得られる検査装置36cについて、図6を用いて説明する。図6は、検査装置36cの構成例を模式的に示す図である。   Furthermore, light is incident perpendicularly to the back surface 1b of the workpiece 1, and the reflected light is captured by the imaging unit 44 disposed in front of the back surface 1b of the workpiece 1, so that there is no distortion. A captured image can be obtained. An inspection apparatus 36c that can obtain a captured image without such distortion will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a configuration example of the inspection device 36c.

検査装置36cは、光源40cと、ビームスプリッター52と、撮像ユニット44と、を備える。光源40cから放射された光は、光源40cと、ビームスプリッター52と、の間のレンズ56aにより平行光にされる。該平行光は、保持テーブル38cに保持された被加工物1の正面に配設された該ビームスプリッター52に入射すると、その一部が被加工物1に向けて反射される。   The inspection device 36c includes a light source 40c, a beam splitter 52, and an imaging unit 44. The light emitted from the light source 40 c is converted into parallel light by a lens 56 a between the light source 40 c and the beam splitter 52. When the parallel light is incident on the beam splitter 52 disposed in front of the workpiece 1 held by the holding table 38 c, a part of the parallel light is reflected toward the workpiece 1.

すると、図6に示す通り被加工物1の裏面1bに対して正面から光が入射される。このとき、被加工物1の裏面1bの全面に該光が照射されなくてもよく、例えば、裏面1bの中央を含む直径50mmの範囲に照射される。被加工物1は、裏面1bに入射した該光を該正面方向に反射させる。被加工物1に反射された該光は、ビームスプリッター52に入射し、その一部が透過する。   Then, as shown in FIG. 6, light is incident on the back surface 1b of the workpiece 1 from the front. At this time, it is not necessary to irradiate the entire surface of the back surface 1b of the workpiece 1 and, for example, the light is irradiated to a range of 50 mm in diameter including the center of the back surface 1b. The workpiece 1 reflects the light incident on the back surface 1b in the front direction. The light reflected by the workpiece 1 enters the beam splitter 52, and a part of the light is transmitted.

そして、ビームスプリッター52を透過した光は、該ビームスプリッター52と、撮像ユニット44と、の間に配設されたレンズ56bにより撮像ユニット44に集光される。撮像ユニット44に集光され入射した光は、撮像ユニット44が備えるレンズ56cにより最終的に集光されて受光素子54に到達する。撮像ユニット44は、受光素子54に到達した光を撮像することで撮像画像を形成する。   The light transmitted through the beam splitter 52 is condensed on the imaging unit 44 by a lens 56b disposed between the beam splitter 52 and the imaging unit 44. The light collected and incident on the imaging unit 44 is finally collected by the lens 56 c included in the imaging unit 44 and reaches the light receiving element 54. The imaging unit 44 forms a captured image by capturing the light that has reached the light receiving element 54.

検査装置36cを用いると、撮像ユニット44により形成される撮像画像の歪みは極めて小さくなるため、被加工物1の裏面1bの凹凸の状態をより正確に評価できる。   When the inspection device 36c is used, the distortion of the captured image formed by the imaging unit 44 becomes extremely small, so that the unevenness state of the back surface 1b of the workpiece 1 can be more accurately evaluated.

なお、該撮像画像には該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていなくてもよい。該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域には、研削加工等により被加工物の被加工面に形成される加工痕が通りやすいため、該中央領域に形成された凹凸の状態を把握することで被加工物の良否を判定できる場合がある。例えば、該中央領域は直径50mmの円形の領域である。   The captured image includes a central area of the processed surface including the center of the processed surface, and the captured image includes an outer peripheral area of the processed surface surrounding the central area. It does not have to be. In the central region of the processing surface including the center of the processing surface, since a processing mark formed on the processing surface of the workpiece is easily passed by grinding or the like, the state of unevenness formed in the central region It may be possible to determine the quality of the workpiece by grasping the above. For example, the central region is a circular region having a diameter of 50 mm.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

1 被加工物
1a 表面
1b 裏面
3 分割予定ライン
5 デバイス
7 保護テープ
2 研削装置
4 基台
6 ターンテーブル
8 チャックテーブル
8a 保持面
10,10a 研削ユニット
10b 研磨ユニット
12,12a コラム
14,14a スピンドルモータ
16,16a 研削ホイール
16b 研磨ホイール
18,18a 研削砥石
18b 研磨パッド
20,20a 加工送りユニット
22,22a カセット載置台
24,24a カセット
26 被加工物搬送ロボット
28 位置決めテーブル
30 被加工物搬入機構(ローディングアーム)
32 被加工物搬出機構(アンローディングアーム)
34 スピンナ洗浄装置
36,36a,36b,36c 検査装置
38,38a,38b,38c 保持テーブル
40,40a,40b,40c 光源
42,42a スクリーン
44 撮像ユニット
46 光
48a,48b,48c 凹面鏡
50 PC
52 ビームスプリッター
54 受光素子
56a,56b,56c レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Workpiece 1a Front surface 1b Back surface 3 Line to be divided 5 Device 7 Protective tape 2 Grinding device 4 Base 6 Turntable 8 Chuck table 8a Holding surface 10, 10a Grinding unit 10b Polishing unit 12, 12a Column 14, 14a Spindle motor 16 , 16a Grinding wheel 16b Polishing wheel 18, 18a Grinding wheel 18b Polishing pad 20, 20a Processing feed unit 22, 22a Cassette mounting table 24, 24a Cassette 26 Workpiece transport robot 28 Positioning table 30 Workpiece loading mechanism (loading arm)
32 Workpiece unloading mechanism (unloading arm)
34 Spinner cleaning device 36, 36a, 36b, 36c Inspection device 38, 38a, 38b, 38c Holding table 40, 40a, 40b, 40c Light source 42, 42a Screen 44 Imaging unit 46 Light 48a, 48b, 48c Concave mirror 50 PC
52 Beam splitter 54 Light receiving element 56a, 56b, 56c Lens

Claims (9)

被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、
光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光がスクリーンに到達することで該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された投影像を該スクリーンに映す投影ステップと、
該スクリーンの該投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、
該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法。
A processing step of processing the workpiece with a grinding wheel or a polishing pad;
Irradiation of the light from the light source onto the work surface of the workpiece, and the light reflected by the work surface reaches the screen, so that the unevenness formed on the work surface in the processing step is A projecting step of projecting the reflected projected image on the screen;
An imaging step of capturing the projected image of the screen to form a captured image;
A determination step of determining the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece based on the captured image, and a method for inspecting the workpiece.
被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、
光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光を撮像することで、該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された像が写る撮像画像を形成する撮像ステップと、
該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法。
A processing step of processing the workpiece with a grinding wheel or a polishing pad;
Irradiation of the light from the light source onto the work surface of the workpiece, and imaging the light reflected by the work surface reflects the state of irregularities formed on the work surface in the processing step. An imaging step for forming a captured image in which the captured image is shown;
A determination step of determining the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece based on the captured image, and a method for inspecting the workpiece.
該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、
該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする請求項1又は2記載の被加工物の検査方法。
In the captured image, a central region of the processing surface including the center of the processing surface is copied,
3. The workpiece inspection method according to claim 1, wherein the captured image does not include an outer peripheral area of the processing surface surrounding the central area.
研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、
該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、
該被加工面で反射された該光が照射されることで、該被加工物の該被加工面に該加工により形成された凹凸の状態が反映された投影像が映されるスクリーンと、
該スクリーンに映される投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ユニットと、
を備えることを特徴とする被加工物の検査装置。
A holding table for holding the work piece in a state in which a work surface of the work piece processed with a grinding wheel or a polishing pad is exposed;
A light source for irradiating light on a work surface of the work piece held by the holding table;
A screen on which a projection image reflecting the state of the irregularities formed by the processing is reflected on the processing surface of the workpiece by irradiating the light reflected by the processing surface;
An imaging unit that captures a projected image projected on the screen to form a captured image;
A workpiece inspection apparatus comprising:
研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、
該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、
該被加工面で反射された該光を検出して撮像画像を形成する撮像ユニットと、
を備えることを特徴とする被加工物の検査装置。
A holding table for holding the work piece in a state in which a work surface of the work piece processed with a grinding wheel or a polishing pad is exposed;
A light source for irradiating light on a work surface of the work piece held by the holding table;
An imaging unit that detects the light reflected by the processing surface and forms a captured image;
A workpiece inspection apparatus comprising:
該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項4又は5記載の被加工物の検査装置。   6. The workpiece inspection apparatus according to claim 4, further comprising a determination unit that determines the quality of the workpiece by grasping the state of the unevenness of the workpiece based on the captured image. . 該判定ユニットは、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域と、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域と、に連続した該凹凸が検出された場合、該被加工物を不良と判定することを特徴とする請求項6記載の被加工物の検査装置。   The determination unit detects the unevenness when the concavity and convexity are detected continuously in a central region of the processing surface including the center of the processing surface and an outer peripheral region of the processing surface surrounding the central region. The workpiece inspection apparatus according to claim 6, wherein the workpiece is determined to be defective. 該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、
該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする請求項4乃至6記載の被加工物の検査装置。
In the captured image, a central region of the processing surface including the center of the processing surface is copied,
7. The workpiece inspection apparatus according to claim 4, wherein an outer peripheral region of the processing surface surrounding the central region is not copied in the captured image.
被加工物を保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された該被加工物を該研削砥石または該研磨パッドで加工する加工ユニットと、
加工された該被加工物の被加工面を洗浄する洗浄ユニットと、
洗浄された該被加工物の該被加工面に形成された加工痕の凹凸の状態を検査する検査ユニットと、を備え、
該検査ユニットは、請求項4乃至8記載の被加工物の検査装置であることを特徴とする加工装置。
A chuck table for holding the workpiece;
A processing unit for processing the workpiece held on the chuck table with the grinding wheel or the polishing pad;
A cleaning unit for cleaning the processed surface of the processed workpiece;
An inspection unit for inspecting the unevenness state of the processing mark formed on the processing surface of the cleaned workpiece,
The processing apparatus according to claim 4, wherein the inspection unit is a workpiece inspection apparatus according to claim 4.
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