JP2018133127A - 発光装置 - Google Patents

発光装置

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Abstract

【課題】CGLの高耐熱性を実現する。【解決手段】CGL400は、層410(第1層)及び層420(第2層)を含んでいる。層410は、電子輸送材料及び金属を含んでいる。層420は、正孔注入材料を含んでいる。第1発光ユニット200は、層202(第3層)を含んでいる。層202は、CGL400に接している。第2発光ユニット300は、層302(第4層)を含んでいる。層302は、CGL400に接している。層202及び層302のそれぞれのガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高くなっている。【選択図】図1

Description

本発明は、発光装置に関する。
近年、発光装置として、有機発光ダイオード(OLED)が開発されている。OLEDは、第1電極、有機層及び第2電極を備えている。例えば特許文献1に記載されているように、OLEDの有機層は、正孔輸送層(HTL)、発光層(EML)及び電子輸送層(ETL)を含んでいる。HTLを介してEMLに正孔が注入され、ETLを介してEMLに電子が注入され、正孔及び電子はEMLで再結合して光を発する。
さらに、近年、例えば特許文献2及び3に記載されているように、OLEDについてマルチフォトンエミッション(MPE)構造が開発されている。MPE構造は、複数の発光ユニットを備えており、隣り合う発光ユニットの間に電荷発生層(CGL)が位置している。特に特許文献2には、CGLは、n型有機層及びp型有機層を含むことが記載されている。
特表2003−519432号公報 特開2004−39617号公報 特開2016−171047号公報
OLEDのMPE構造では、上述したように、CGLが用いられる。さらに、近年、OLEDを高温の環境(例えば、自動車の車内)に置く機会が増えている。MPE構造を有するOLEDを高温の環境に置く場合、OLEDの高耐熱性、特にOLEDのCGLの高耐熱性が求められる。
本発明が解決しようとする課題としては、CGLの高耐熱性を実現することが一例として挙げられる。
請求項1に記載の発明は、
第1電極と第2電極の間に位置し、それぞれが発光層を含む第1発光ユニット及び第2発光ユニットと、
前記第1発光ユニットと前記第2発光ユニットの間に位置する電荷発生層と、
を備え、
前記電荷発生層は、電子輸送材料及び金属を含む第1層と、正孔注入材料を含む第2層と、を含み、
前記第1発光ユニット及び前記第2発光ユニットは、前記電荷発生層に接する第3層及び第4層をそれぞれ含み、
前記第3層及び前記第4層のそれぞれのガラス転移点は、前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点より高い発光装置である。
実施形態に係る発光装置を示す断面図である。 実施形態に係る発光装置の輝度及び比較例1から3に係る発光装置の輝度の測定結果を示す図である。 図2に示した実施形態及び比較例1から3の条件を示す表である。 実施形態に係る発光装置の電圧及び比較例1から3に係る発光装置の電圧の測定結果を示す図である。 実施例に係る発光装置を示す平面図である。 図5から有機層及び第2電極を取り除いた図である。 図6から絶縁層を取り除いた図である。 図5のA−A断面図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
図1は、実施形態に係る発光装置10を示す断面図である。図1では、第1電極110から第2電極130までの各層の厚さを説明のため等しく示しているが、図1は、これらの層の実際の厚さを示唆するものではない。
図1を用いて、発光装置10の概要について説明する。発光装置10は、第1発光ユニット200、第2発光ユニット300及び電荷発生層(CGL)400を備えている。第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300は、第1電極110と第2電極130の間に位置している。第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300は、発光層(EML)240及び発光層(EML)340をそれぞれ含んでいる。CGL400は、第1発光ユニット200と第2発光ユニット300の間に位置している。CGL400は、層410(第1層)及び層420(第2層)を含んでいる。層410は、電子輸送材料及び金属を含んでいる。層420は、正孔注入材料を含んでいる。第1発光ユニット200は、層202(第3層)を含んでいる。層202は、CGL400に接している。第2発光ユニット300は、層302(第4層)を含んでいる。層302は、CGL400に接している。
本実施形態においては、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高くなっている。
上述した構成によれば、CGL400の高耐熱性が実現される。具体的には、図2及び図4を用いて後述するように、本発明者は、上記金属、上記電子輸送材料及び上記正孔注入材料を含むCGLを、この電子輸送材料のガラス転移点未満の温度にある程度の時間置いた場合でも、CGLの特性が変化する場合があることを見出した。CGLの特性の変化は、ガラス転移点近傍の温度下で膜を保持できなくなったことによる隣接層間の混合や上述した金属の移動によるキャリアバランスの崩れに起因していると推測される。図2及び図4を用いて後述するように、本発明者は、CGLに接する層のガラス転移点が上述した電子輸送材料のガラス転移点より高いとき、CGLの特性の変化が抑えられることを見出した。本実施形態においては、上述したように、層202及び層302がCGL400に接しており、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高くなっている。このため、上述した構成によれば、CGL400の高耐熱性が実現される。
図1に示す例では、正孔阻止層(HBL)250がCGL400に接し、層202となっており、正孔輸送層(HTL)310がCGL400に接し、層302となっている。つまり、層202(第3層)は、層410の電子輸送材料のガラス転移点よりも高いガラス転移点を有する正孔阻止材料(電子輸送材料)を含んでおり、層420(第2層)は、層410の電子輸送材料のガラス転移点よりも高いガラス転移点を有する正孔輸送材料(電子阻止材料)を含んでいる。他の例においては、第1発光ユニット200においてHBLとは異なる機能を有する層がCGL400に接し、層202となってもよく、第2発光ユニット300においてHTLとは異なる機能を有する層がCGL400に接し、層302となっていてもよい。
図1を用いて、発光装置10の詳細について説明する。発光装置10は、基板100、第1電極110、有機層120及び第2電極130を備えている。図1に示す例では、第1電極110は、陽極として機能しており、第2電極130は、陰極として機能している。
発光装置10は、マルチフォトンエミッション(MPE)構造を有しており、具体的には、複数の発光ユニットを備えており、隣り合う発光ユニットの間には、CGLが位置している。特に図1に示す例では、発光装置10は、2つの発光ユニット、すなわち、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300を備えており、第1発光ユニット200と第2発光ユニット300の間には、CGL400が位置している。つまり、発光装置10は、タンデム構造を有している。なお、他の例において、発光装置10は、3つ以上の発光ユニットを備えていてもよい。
発光装置10は、ボトムエミッションであってもよいし、又はトップエミッションであってもよい。発光装置10がボトムエミッションである場合、発光装置10は、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300からの光を基板100側から出射する。したがって、発光装置10がボトムエミッションである場合、基板100及び第1電極110は、透光性を有する必要がある。これに対して、発光装置10がトップエミッションである場合、発光装置10は、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300からの光を第2電極130側から出射する。したがって、発光装置10がトップエミッションである場合、第2電極130は、透光性を有する必要がある。
基板100は、第1面102及び第2面104を備えている。第2面104は、第1面102の反対側にある。第1電極110、有機層120及び第2電極130は、基板100の第1面102から順に並んでいる。
有機層120は、第1電極110から、第1発光ユニット200、CGL400及び第2発光ユニット300を順に含んでいる。
第1発光ユニット200は、第1電極110から、正孔注入層(HIL)210、正孔輸送層(HTL)220、電子阻止層(EBL)230、発光層(EML)240及び正孔阻止層(HBL)250を順に含んでいる。
CGL400は、第1発光ユニット200から、層410及び層420を順に含んでいる。
第2発光ユニット300は、CGL400から、正孔輸送層(HTL)310、電子阻止層(EBL)320、発光層(EML)330、正孔阻止層(HBL)340、電子輸送層(ETL)350及び電子注入層(EIL)360を順に含んでいる。
基板100は、発光装置10がボトムエミッションであるとき、透光性を有しており、例えば、ガラス基板又は樹脂基板とすることができる。発光装置10は、発光装置10がトップエミッションであるとき、透光性を有していてもよいし、又は有していなくてもよく、例えば、金属基板とすることができる。
基板100が樹脂基板であるとき、第1面102及び第2面104の少なくとも一方、好ましくは双方を、無機バリア層(例えば、シリコン窒化物(SiN)又はシリコン酸窒化物(SiON))によって覆うことができる。このような構成においては、水分が基板100を経由して第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300に達することを無機バリア層によって防止することができる。
第1電極110は、発光装置10がボトムエミッションであるとき、透光性を有しており、例えば、酸化物半導体、より具体的には、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、IWZO(Indium Tungsten Zinc Oxide)又はZnO(Zinc Ocide)を含んでいる。第1電極110は、発光装置10がトップエミッションであるとき、透光性を有していてもよいし、又は有していなくてもよく、例えば、金属、より具体的には、例えば、Al、Au、Ag、Pt、Mg、Sn、Zn及びInからなる群から選択される少なくとも一つを含んでいてもよい。
第2電極130は、発光装置10がボトムエミッションであるとき、透光性を有していてもよいし、又は有していなくてもよく、例えば、金属、より具体的には、例えば、Al、Au、Ag、Pt、Mg、Sn、Zn及びInからなる群から選択される少なくとも一つを含んでいてもよい。第2電極130は、発光装置10がボトムエミッションであるとき、遮光性、より具体的には、光反射性を有することが好ましい。この場合、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300から発せられた光を第2電極130によって基板100側に向けて反射することができる。第2電極130は、発光装置10がトップエミッションであるとき、透光性を有しており、例えば、酸化物半導体、より具体的には、例えば、ITO、IZO、IWZO又はZnOを含んでいる。
HIL210は、正孔注入材料を含んでいる。HIL210の正孔注入材料の例としては、ヘキサアザトフェニレン誘導体、具体的には、HAT−CN(1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル)が挙げられる。また、モリブデン酸化物等の金属酸化物、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物、PEDOT/PSS(3,4−エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の混合物)等の高分子化合物等も挙げられる。
HTL220は、正孔輸送材料を含んでいる。HTL220の正孔輸送材料の例としては、トリフェニルアミン誘導体、具体的には、α−NPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル)が挙げられる。また、TCTA(4,4’,4”−トリス(カルバゾール−9−イル)−トリフェニルアミン)などの芳香族アミン化合物;1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼンなどのカルバゾール誘導体;Spiro−NPB(N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9’−スピロビスフルオレン)などのスピロ化合物等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
EBL230は、電子阻止材料を含んでいる。言い換えると、EBL230は、正孔輸送層としても機能しており、電子阻止材料は、正孔輸送材料として機能する。EBL230の電子阻止材料(正孔輸送材料)の例としては、トリフェニルアミン誘導体、具体的には、α−NPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル)が挙げられる。また、TCTA(4,4’,4”−トリス(カルバゾール−9−イル)−トリフェニルアミン)などの芳香族アミン化合物、Spiro−NPB(N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9’−スピロビスフルオレン)などのスピロ化合物等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
EML240は、発光材料を含んでいる。EML240の発光材料の例としては、蛍光性有機金属化合物のAlq3(トリス(8−キ ノリノラト)アルミニウム)、DPVBi(4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル)などの芳香族ジメチリデン化合物が挙げられる。また、発光層の形成材料として、ホスト材料中に発光性のドーパント材料をドープしたものを用いてもよい。ホスト材料としては、例えば、上述の低分子発光材料や、TCP(1,3,5−トリス(カルバゾ−9−イル)ベンゼン)、トリス[4−(9−フェニルフルオレン−9−イル)フェニル]アミン、DMFL−CBP(4,4’−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジメチル−フルオレン)等が挙げられる。ドーパント材料としては、例えば、スチリル誘導体、ペリレン誘導体、Ir(ppy)3(トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム(III))、Ir(piq)2(acac)(ビス(1−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトナト)イリジウム(III))等の有機イリジウム錯体等の燐光発光性金属錯体等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
HBL250は、正孔阻止材料を含んでいる。言い換えると、HBL250は、電子輸送層としても機能しており、正孔阻止材料は、電子輸送材料として機能する。図1に示す例では、HBL250は、CGL400の層410に接しており、層202となっている。後述するように、HBL250の正孔阻止材料(電子輸送材料)は、高いガラス転移点を有することが好ましい。HBL250の正孔阻止材料(電子輸送材料)の例としては、フルオレン誘導体であるBpy−FOXD(2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン)(Tg=134℃)、フェナントロリン誘導体である4,7−ジ[9H−カルバゾール−9−イル]1,10−フェナトロリン(Tg=153℃)等が挙げられる。その他、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
HTL310は、正孔輸送材料を含んでいる。図1に示す例では、HTL310は、CGL400の層420に接しており、層302となっている。後述するように、HTL310の正孔輸送材料は、高いガラス転移点を有することが好ましい。HTL310の正孔輸送材料の例としては、TPT−1(N,N’−ビス[4’−(N,N−ジフェニルアミノ)−4−ビフェニリル]−N,N’−ジフェニルベンジジン)(Tg=144℃)、TCTA(4,4’,4”−トリス(カルバゾール−9−イル)−トリフェニルアミン)(Tg=151℃)等が挙げられる。その他、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
EBL320は、電子阻止材料を含んでいる。言い換えると、EBL320は、正孔輸送層としても機能しており、電子阻止材料は、正孔輸送材料として機能する。EBL320の電子阻止材料(正孔輸送材料)の例としては、トリフェニルアミン誘導体、具体的には、α−NPD(4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル)が挙げられる。また、TCTA(4,4’,4”−トリス(カルバゾール−9−イル)−トリフェニルアミン)などの芳香族アミン化合物、Spiro−NPB(N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9’−スピロビスフルオレン)などのスピロ化合物等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
EML330は、発光材料を含んでいる。EML330の発光材料の例としては、蛍光性有機金属化合物のAlq3(トリス(8−キ ノリノラト)アルミニウム)、DPVBi(4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル)などの芳香族ジメチリデン化合物が挙げられる。また、発光層の形成材料として、ホスト材料中に発光性のドーパント材料をドープしたものを用いてもよい。ホスト材料としては、例えば、上述の低分子発光材料や、TCP(1,3,5−トリス(カルバゾ−9−イル)ベンゼン)、トリス[4−(9−フェニルフルオレン−9−イル)フェニル]アミン、DMFL−CBP(4,4’−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジメチル−フルオレン)等が挙げられる。ドーパント材料としては、例えば、スチリル誘導体、ペリレン誘導体、Ir(ppy)3(トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム(III))、Ir(piq)2(acac)(ビス(1−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトナト)イリジウム(III))等の有機イリジウム錯体等の燐光発光性金属錯体等を用いることができる。
HBL340は、正孔阻止材料を含んでいる。言い換えると、HBL340は、電子輸送層としても機能しており、正孔阻止材料は、電子輸送材料として機能する。HBL340の正孔阻止材料(電子輸送材料)の例としては、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)等の有機金属錯体、TPBi(2,2’,2’'−(1,3,5−フェニレン)−トリス(1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール))等のベンダイミダゾール誘導体、Bpy−FOXD(2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン)等のフルオレン誘導体、BPhen(4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)、4,7−ジ[9H−カルバゾール−9−イル]1,10−フェナトロリン等のフェナトロリン誘導体等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
ETL350は、電子輸送材料を含んでいる。ETL350の電子輸送材料の例としては、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)等の有機金属錯体、TPBi(2,2’,2’'−(1,3,5−フェニレン)−トリス(1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール))等のベンダイミダゾール誘導体、Bpy−FOXD(2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン)等のフルオレン誘導体、BPhen(4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)、4,7−ジ[9H−カルバゾール−9−イル]1,10−フェナトロリン等のフェナトロリン誘導体等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
EIL360は、電子注入材料を含んでいる。EIL360の電子注入材料の例としては、LiFなどのアルカリ土類金属化合物、酸化アルミニウムに代表される金属酸化物、又はリチウム8−ヒドロキシキノレート(Liq)等に代表される金属錯体、Ca、Li、Na、K、Rb、Cs及びMgのアルカリ金属又はアルカリ土類金属等が挙げられる。これらの材料は電子輸送層に添加して用いてもよい。
層410は、n型有機層として機能している。具体的には、層410は、電子輸送材料及び金属を含んでいる。
層410の電子輸送材料の例としては、TPBi(2,2’,2’'−(1,3,5−フェニレン)−トリス(1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール))等のベンダイミダゾール誘導体、Bpy−FOXD(2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン)等のフルオレン誘導体、BPhen(4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)、4,7−ジ[9H−カルバゾール−9−イル]1,10−フェナトロリン等のフェナトロリン誘導体等、従来有機EL素子の作製に使用されている公知のものを適宜用いることができる。
層410の金属は、n型ドーパントとして機能している。層410の金属の例としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属、具体的には、Ca、Li、Na、K、Rb、Cs及びMgのいずれか一つが挙げられる。特に、層410の金属は、Caであることが好ましい。
層420は、p型有機層として機能している。具体的には、層420は、正孔注入材料を含んでいる。
層420の正孔注入材料の例としては、ヘキサアザトフェニレン誘導体、具体的には、HAT−CN(1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル)が挙げられる。
HBL250(図1に示す例では、層202)の正孔阻止材料(電子輸送材料)のガラス転移点及びHTL310(図1に示す例では、層302)の正孔輸送材料のガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高くなっており、より具体的には、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点よりも高くてもよい。
次に、図1に示した発光装置10の使用方法の一例について説明する。この例において、発光装置10は、高温の環境に置かれ、具体的には、自動車の車内に置かれる。
自動車の車内において、発光装置10は、60℃以上80℃以下の周囲温度に置かれることがある。言い換えると、周囲温度は、発光装置10の置かれる環境の最高温度である。言い換えると、周囲温度は、当該環境に置かれるその他の部品、製品の耐熱温度である。
第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300の機能を確保する観点からすると、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300の各層(特に、層202及び層302)のガラス転移点は、上述した周囲温度より15℃以上高いことが望ましい。
さらに、上述した周囲温度で使用される発光装置10は、周囲温度での動作の信頼性をより向上させるため、周囲温度以上の高温に耐えうるかを検査するための耐熱試験を受けることがある。たとえば、発光装置10の試験温度の上限温度は、80℃以上125℃以下である。
第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300の機能を確保する観点からすると、第1発光ユニット200及び第2発光ユニット300の各層(特に、層202及び層302)のガラス転移点は、発光装置10の試験温度の上限温度より15℃以上高いことが望ましい。これに対して、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点は、試験温度の上限温度より低くてもよい。これは、上述したように、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点がCGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高いことによって、当該電子輸送材料の耐熱性が向上しているためである。
本実施形態においては、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点がHBL250(図1に示す例では、層202)の正孔阻止材料(電子輸送材料)のガラス転移点及びHTL310(図1に示す例では、層302)の正孔輸送材料のガラス転移点より低くても、CGL400の特性の変化を抑えることができる。一例において、HBL250の正孔阻止材料(電子輸送材料)のガラス転移点及びHTL310の正孔輸送材料のガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より15℃以上高くてもよい。
図2は、実施形態に係る発光装置10の輝度及び比較例1から3に係る発光装置10の輝度の測定結果を示す図である。図3は、図2に示した実施形態及び比較例1から3の条件を示す表である。特に図2に示す例では、初期時刻(0時間)における輝度L0を測定し、初期時刻から一定時間が経過した時点の輝度Ltを測定し、輝度L0に対する輝度Ltの比Lt/L0を算出している。図2に示す例では、実施形態に係る発光装置10及び比較例1から3に係る発光装置10を125℃の温度に置いた。
図2に示す例において、実施形態に係る発光装置10の条件は、図3に示すとおりとした。具体的には、以下のようになる。
層202(HBL)のガラス転移点は、140℃以上とした。
層302(HTL)のガラス転移点は、140℃以上とした。
CGL400の層410のガラス転移点は、125℃以上130℃以下とした。
図2に示す例において、比較例1に係る発光装置10の条件は、図3に示すように、層202(HBL)のガラス転移点が125℃以上130℃以下、層302(HTL)のガラス転移点が125℃以上130℃以下である点を除いて、実施形態に係る発光装置10の条件と同様とした。
図2に示す例において、比較例2に係る発光装置10の条件は、図3に示すように、層302(HTL)のガラス転移点が125℃以上130℃以下である点を除いて、実施形態に係る発光装置10の条件と同様とした。
図2に示す例において、比較例3に係る発光装置10の条件は、図3に示すように、層202(HBL)のガラス転移点が125℃以上130℃以下である点を除いて、実施形態に係る発光装置10の条件と同様とした。
図2に示すように、実施形態の比Lt/L0は、時間によらずおおよそ一定であった。これに対して、比較例1から3の比Lt/L0は、100時間以降は時間の経過につれて低下した。
図2に示す結果は、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点がCGL400の層410のガラス転移点よりも高いと、発光装置10の輝度の変化が抑えられることを示唆する。
図4は、実施形態に係る発光装置10の電圧及び比較例1から3に係る発光装置10の電圧の測定結果を示す図である。特に図4に示す例では、初期時刻(0時間)において所定の電流を流すために必要な電圧V0を測定し、初期時刻から一定時間が経過した時点で所定の電流を流すために必要な電圧Vtを測定し、電圧Vtと電圧V0の差ΔV(Vt−V0)を算出している。図4に示す例では、実施形態に係る発光装置10及び比較例に係る発光装置10を125℃の温度に置いた。
図4における実施形態に係る発光装置10の条件は、図2における実施形態に係る発光装置10の条件と同様であり、図4における比較例1から3に係る発光装置10の条件は、図2における比較例1から3に係る発光装置10の条件とそれぞれ同様である。
図4に示すように、実施形態の差ΔVは、時間によらずおおよそ一定であった。これに対して、比較例1から3の差ΔVは、500時間以降は時間の経過につれて低下した。
図4に示す結果は、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点がCGL400の層410のガラス転移点よりも高いと、発光装置10の電圧の変化が抑えられることを示唆する。
以上、本実施形態によれば、CGL400の高耐熱性が実現される。
図5は、実施例に係る発光装置10を示す平面図である。図6は、図5から有機層120及び第2電極130を取り除いた図である。図7は、図6から絶縁層160を取り除いた図である。図8は、図5のA−A断面図である。
図8を用いて発光装置10の概要について説明する。図1に示した例と同様にして、発光装置10は、基板100、第1電極110、有機層120及び第2電極130を備えている。図1に示した例と同様にして、有機層120は、第1発光ユニット200、第2発光ユニット300及びCGL400を含んでいる。図1を用いて説明したように、層202及び層302のそれぞれのガラス転移点は、CGL400の層410の電子輸送材料のガラス転移点より高くなっている。このような構成によって、CGL400の高耐熱性が実現される。
次に、図5から図7を用いて、発光装置10の平面レイアウトの詳細について説明する。発光装置10は、基板100、複数の第1電極110、複数の第1接続部112、第1配線114、複数の有機層120、複数の第2電極130、複数の第2接続部132、第2配線134及び複数の絶縁層160を備えている。
基板100の形状は、第1面102に垂直な方向から見た場合、一対の長辺及び一対の短辺を有する矩形である。ただし、基板100の形状は、矩形に限定されるものではない。基板100の形状は、第1面102に垂直な方向から見た場合、例えば円でもよいし、又は矩形以外の多角形であってもよい。
複数の第1電極110は、互いに離間して位置しており、具体的には、基板100の長辺に沿って一列に並んでいる。複数の第1電極110のそれぞれは、基板100の短辺に沿って延伸している。
複数の第1電極110のそれぞれは、複数の第1接続部112のそれぞれを介して、第1配線114に接続している。第1配線114は、基板100の一対の長辺の一方に沿って延伸している。外部からの電圧は、第1配線114及び第1接続部112を介して第1電極110に供給される。なお、図7に示す例において、第1電極110及び第1接続部112は、互いに一体となっている。
複数の第2電極130のそれぞれは、複数の第1電極110のそれぞれに重なっている。複数の第2電極130は、互いに離間して位置しており、具体的には、基板100の長辺に沿って一列に並んでいる。複数の第2電極130のそれぞれは、基板100の短辺に沿って延伸しており、具体的には、基板100の短辺に沿って延伸する一対の長辺及び基板100の長辺に沿って延伸する一対の短辺を有している。
複数の第2電極130のそれぞれは、複数の第2接続部132のそれぞれを介して、第2配線134に接続している。第2配線134は、基板100の一対の長辺の他方に沿って延伸している。外部からの電圧は、第2配線134及び第2接続部132を介して第2電極130に供給される。
複数の絶縁層160のそれぞれは、複数の第1電極110のそれぞれに重なっている。複数の絶縁層160は、互いに離間して位置しており、具体的には、基板100の長辺に沿って一列に並んでいる。複数の絶縁層160のそれぞれは、基板100の短辺に沿って延伸しており、具体的には、基板100の短辺に沿って延伸する一対の長辺及び基板100の長辺に沿って延伸する一対の短辺を有している。
複数の絶縁層160のそれぞれは、開口162を有している。図7を用いて後述するように、開口162内において、第1電極110、有機層120及び第2電極130は、発光部152として機能する領域を有している。言い換えると、絶縁層160は、発光部152を画定している。発光部152(開口162)は、基板100の短辺に沿って延伸しており、具体的には、基板100の短辺に沿って延伸する一対の長辺及び基板100の長辺に沿って延伸する一対の短辺を有している。
次に、図8を用いて、発光装置10の断面の詳細を説明する。発光装置10は、基板100、第1電極110、有機層120、第2電極130及び絶縁層160を備えている。基板100は、第1面102及び第2面104を有している。第2面104は、第1面102の反対側にある。第1電極110、有機層120、第2電極130及び絶縁層160は、基板100の第1面102上にある。絶縁層160の開口162内において、第1電極110、有機層120及び第2電極130は、発光部152として機能する領域を有している。
基板100は、透光性を有している。一例において、基板100は、ガラスを含んでいる。他の例において、基板100は、樹脂を含んでいてもよい。
第1電極110は、透光性及び導電性を有している。具体的には、第1電極110は、透光性及び導電性を有する材料を含んでおり、無機材料、例えば金属酸化物、具体的には例えば、ITO(Indium Tin Oxide)及びIZO(Indium Zinc Oxide)からなる群から選択される少なくとも1つを含んでいる。このため、有機層120からの光は、第1電極110を透過することができる。
有機層120は、図1を用いて説明したように、第1発光ユニット200、第2発光ユニット300及びCGL400を含んでいる。
第2電極130は、遮光性、より具体的には光反射性を有し、さらに、導電性を有している。具体的には、第2電極130は、光反射性及び導電性を有する材料を含んでおり、例えば金属、具体的には例えば、Al、Ag及びMgAgの少なくとも1つを含んでいる。このため、有機層120からの光は、第2電極130をほとんど透過することなく、第2電極130で反射される。このため、第2電極130は、MC構造の反射層として機能することができる。
絶縁層160は、透光性を有している。一例において、絶縁層160は、有機絶縁材料、具体的には例えばポリイミドを含んでいる。他の例において、絶縁層160は、無機絶縁材料、具体的には例えば、シリコン酸化物(SiO)、シリコン酸窒化物(SiON)又はシリコン窒化物(SiN)を含んでいてもよい。
第2電極130は端部130a及び端部130bを有し、絶縁層160は端部160a及び端部160bを有している。端部130a及び端部160aは、互いに同じ方向を向いている。端部130b及び端部160bは、互いに同じ方向を向いており、それぞれ、端部130a及び端部160aの反対側にある。
第1面102に垂直な方向から見た場合、基板100の第1面102は、複数の領域102a、複数の領域102b複数の領域102cを有している。複数の領域102aのそれぞれは、第2電極130の端部130aと重なる位置から端部130bと重なる位置まで広がっている。複数の領域102bのそれぞれは、第2電極130の端部130aと重なる位置から絶縁層160の端部160aと重なる位置まで(又は第2電極130の端部130bと重なる位置から絶縁層160の端部160bと重なる位置まで)広がっている。複数の領域102cのそれぞれは、互いに隣接する2つの絶縁層160のうちの一方の絶縁層160の端部160aと重なる位置から他方の絶縁層160の端部160bと重なる位置まで広がっている。
領域102aは、第2電極130と重なっており、このため、発光装置10は、領域102a、領域102b及び領域102cと重なる領域のうち、領域102aと重なる領域で最も低い光線透過率を有している。領域102cは、第2電極130及び絶縁層160のいずれとも重なっておらず、このため、発光装置10は、領域102a、領域102b及び領域102cと重なる領域のうち、領域102cと重なる領域で最も高い光線透過率を有している。領域102bは、第2電極130と重ならず絶縁層160と重なっており、このため、発光装置10は、領域102bと重なる領域においては、領域102aと重なる領域における光線透過率よりも高く、かつ領域102cと重なる領域における光線透過率よりも低い光線透過率を有している。
上述した構成においては、発光装置10の全体としての光線透過率が高いものとなっている。詳細には、光線透過率の高い領域の幅、すなわち、領域102cの幅d3が広くなっており、具体的には、領域102cの幅d3は、領域102bの幅d2よりも広くなっている(d3>d2)。このようにして、発光装置10の全体としての光線透過率は、高いものとなっている。
上述した構成においては、発光装置10が特定の波長の光を多く吸収することが防止されている。詳細には、光が絶縁層160を透過する領域の幅、すなわち、領域102bの幅d2が狭くなっており、具体的には、領域102bの幅d2は、領域102cの幅d3よりも狭くなっている(d2<d3)。絶縁層160は、特定の波長の光を吸収することがある。このような場合においても、上述した構成においては、絶縁層160を透過する光の量を少なくすることができる。このようにして、発光装置10が特定の波長の光を多く吸収することが防止されている。
なお、領域102cの幅d3は、領域102aの幅d1よりも広くてもよいし(d3>d1)、領域102aの幅d1よりも狭くてもよいし(d3<d1)、又は領域102aの幅d1と等しくてもよい(d3=d1)。
一例において、領域102aの幅d1に対する領域102bの幅d2の比d2/d1は、0以上0.2以下であり(0≦d2/d1≦0.2)、領域102aの幅d1に対する領域102cの幅d3の比d3/d1は、0.3以上2以下である(0.3≦d3/d1≦2)。より具体的には、一例において、領域102aの幅d1は、50μm以上500μm以下であり、領域102bの幅d2は、0μm以上100μm以下であり、領域102cの幅d3は、15μm以上1000μm以下である。
発光装置10は、半透過OLEDとして機能している。具体的には、第2電極130と重ならない領域は、透光部154として機能している。このようにして、発光装置10では、複数の発光部152及び複数の透光部154が交互に並んでいる。複数の発光部152から光が発せられていない場合、人間の視覚では、第1面102側の物体が第2面104側から透けて見え、第2面104側の物体が第1面102側から透けて見える。さらに、複数の発光部152からの光は、第2面104側から主に出力され、第1面102側からはほとんど出力されない。複数の発光部152から光が発せられている場合、人間の視覚では、第2面104側の物体が第1面102側から透けて見える。
一例において、発光装置10は、自動車のハイマウントストップランプとして用いることができる。この場合、発光装置10は、自動車のリアウインドウに貼り付けることができる。さらに、この場合、発光装置10は、例えば、赤色の光を発する。
次に、図5から図8に示した発光装置10の製造方法について説明する。
まず、基板100の第1面102上に、第1電極110、第1接続部112及び第2接続部132を形成する。一例において、第1電極110、第1接続部112及び第2接続部132は、スパッタリングにより形成された導電層をパターニングすることにより形成される。
次いで、絶縁層160を形成する。一例において、絶縁層160は、基板100の第1面102上に塗布された感光性樹脂をパターニングすることにより形成される。
次いで、有機層120を形成する。一例において、有機層120は、蒸着により形成される。他の例において、有機層120は、塗布により形成されてもよい。この場合、絶縁層160の開口162内に有機層120の材料を塗布する。
次いで、第2電極130を形成する。一例において、第2電極130は、マスクを用いた真空蒸着により形成される。
このようにして、図5から図8に示した発光装置10が製造される。
本実施例においても、CGL400(図1)の高耐熱性が実現される。
以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
10 発光装置
100 基板
102 第1面
102a 領域
102b 領域
102c 領域
104 第2面
110 第1電極
112 第1接続部
114 第1配線
120 有機層
130 第2電極
130a 端部
130b 端部
132 第2接続部
134 第2配線
152 発光部
154 透光部
160 絶縁層
160a 端部
160b 端部
162 開口
200 第1発光ユニット
202 層
210 HIL
220 HTL
230 EBL
240 EML
250 HBL
300 第2発光ユニット
302 層
310 HTL
320 EBL
330 EML
340 HBL
350 ETL
360 EIL
400 CGL
410 層
420 層

Claims (9)

  1. 第1電極と第2電極の間に位置し、それぞれが発光層を含む第1発光ユニット及び第2発光ユニットと、
    前記第1発光ユニットと前記第2発光ユニットの間に位置する電荷発生層と、
    を備え、
    前記電荷発生層は、電子輸送材料及び金属を含む第1層と、正孔注入材料を含む第2層と、を含み、
    前記第1発光ユニット及び前記第2発光ユニットは、前記電荷発生層に接する第3層及び第4層をそれぞれ含み、
    前記第3層及び前記第4層のそれぞれのガラス転移点は、前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点より高い発光装置。
  2. 請求項1に記載の発光装置において、
    前記第3層は、前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点よりも高いガラス転移点を有する前記第3層の電子輸送材料を含み、
    前記第4層は、前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点よりも高いガラス転移点を有する前記第4層の正孔輸送材料を含む発光装置。
  3. 請求項1又は2に記載の発光装置において、
    前記電荷発生層の前記第1層の前記金属は、Ca、Li、Na、K、Rb、Cs及びMgのいずれか一つである発光装置。
  4. 請求項1から3までのいずれか一項に記載の発光装置において、
    前記第3層及び前記第4層のそれぞれのガラス転移点は、周囲温度より15℃以上高い発光装置。
  5. 請求項4に記載の発光装置において、
    前記周囲温度は、前記発光装置の置かれる環境の最高温度である発光装置。
  6. 請求項1から3までのいずれか一項に記載の発光装置において、
    前記第3層及び前記第4層のそれぞれのガラス転移点は、試験温度の上限温度より15℃以上高い発光装置。
  7. 請求項6に記載の発光装置において、
    前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点は、前記試験温度の上限温度より低い発光装置。
  8. 請求項1から7までのいずれか一項に記載の発光装置において、
    前記第3層及び前記第4層のそれぞれのガラス転移点は、前記第1層の前記電子輸送材料のガラス転移点より15℃以上高い発光装置。
  9. 請求項1に記載の発光装置において、
    前記第1発光ユニットの前記第3層は、正孔阻止材料を含み、
    前記第2発光ユニットの前記第4層は、正孔輸送材料を含む発光装置。
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