JP2018123320A - Resin, varnish composition, offset-printing ink, and printed matter - Google Patents

Resin, varnish composition, offset-printing ink, and printed matter Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin, a varnish composition, an offset-printing ink, and printed matter.SOLUTION: This disclosure provides a resin with a molecular-weight distribution (Mw/Mn) of 1.5-55 produced from monomers including (poly)pentaerythritol poly(alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth)acrylate, (poly)trimethylolpropane poly(alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth)acrylate, (poly)glycerine poly(alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth)acrylate, or alkylene di(alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth)acrylate. Also provided are a varnish composition, an offset-printing ink and printed matter that comprise the resin.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、樹脂、ワニス組成物、オフセット印刷インキ及び印刷物に関する。   The present disclosure relates to resins, varnish compositions, offset printing inks and printed matter.

紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する活性エネルギー線硬化型印刷インキは、反応性希釈剤、樹脂、光重合開始剤及び添加剤を含むことがある。そして、反応性希釈剤として、硬化性や皮膜硬度等が優れていることから、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートやジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等の多官能アクリレートが汎用されている。   An active energy ray-curable printing ink that is cured with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams may contain a reactive diluent, a resin, a photopolymerization initiator, and an additive. As a reactive diluent, polyfunctional acrylates such as dipentaerythritol hexaacrylate and ditrimethylolpropane tetraacrylate are widely used because of excellent curability and film hardness.

一方、印刷適性を出すことを目的として、ジアリルフタレート樹脂やスチレンアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が広く用いられている。   On the other hand, diallyl phthalate resin, styrene acrylic resin, polyester resin, and the like are widely used for the purpose of providing printability.

特許第5683757号公報Japanese Patent No. 5683757

従来のスチレンアクリル樹脂やポリエステル樹脂ではインキ流動性と耐ミスチング性はトレードオフの関係にあり、これらの性能を両立した樹脂が得られていないのが現状である。一方、ジアリルフタレート樹脂は、ジアリルフタレートモノマーを重合させたものであり、ヒドロキシル基やカルボキシル基等を有しないため、利用態様が限られる。また、樹脂中に残存する未反応のジアリルフタレートモノマーが変異原性の高懸念物質である(上記特許文献1の段落[0009]を参照。)ことから、ジアリルフタレート樹脂に代替し得る樹脂が求められている。   Conventional styrene acrylic resins and polyester resins have a trade-off relationship between ink fluidity and misting resistance, and the present situation is that no resin having both of these performances has been obtained. On the other hand, the diallyl phthalate resin is obtained by polymerizing a diallyl phthalate monomer and does not have a hydroxyl group, a carboxyl group, or the like, so that the usage mode is limited. In addition, since unreacted diallyl phthalate monomer remaining in the resin is a highly mutagenic substance (see paragraph [0009] of Patent Document 1 above), a resin that can replace diallyl phthalate resin is desired. It has been.

本発明が解決しようとする課題は、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有する印刷インキの原料である樹脂を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a resin which is a raw material of printing ink having excellent ink fluidity and misting resistance.

本発明者らは、鋭意検討した結果、所定の樹脂により上記課題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above-described problems can be solved by a predetermined resin.

本開示により以下の項目が提供される。
(項目1)
下記構成単位1及び2を含む、分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜55である樹脂であって、前記構成単位1は、
[式中、Ra1は水素原子又はアルキル基であり、Ra2は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基又は
{式中、aは1以上の整数であり、bは0以上の整数であり、Raaは水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のアリールオキシ基であり、Rabは置換若しくは非置換のアリーレン基、置換若しくは非置換のアルキレン基、又は置換若しくは非置換のアルケニレン基である。}
である。]
であり、
前記構成単位2は一般式
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1〜Rb17は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に前記構成単位1を含む構成単位群から選択される構成単位である。}
であり、
b18〜Rb19は、それぞれ独立に
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
であり、
b20はアルキレン基であり、
b4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
が2個以上含まれる。]
である、樹脂。
(項目2)
前記構成単位群に構成単位3
(式中、Rc1は水素原子又はアルキル基であり、Rc2〜Rc6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
が含まれる、上記項目に記載の樹脂。
(項目3)
前記構成単位群に構成単位4
(式中、Rは水素原子又はアルキル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素原子であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素原子、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
が含まれる、上記項目のいずれか1項に記載の樹脂。
(項目4)
構成単位5
(式中、Re1〜Re3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、又はアルケニル基である。)
を含む、上記項目のいずれか1項に記載の樹脂。
(項目5)
(メタ)アクリル酸エステル、並びに(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)トリメチロープロパンルポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、及びアルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートからなる群から選択される1種以上を含むモノマーを、モノマー濃度10〜70質量%で、該モノマー100質量部に対して3〜50質量部の重合開始剤存在下、70〜200℃で重合させる工程を含む、上記項目のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法。
(項目6)
上記項目のいずれか1項に記載の樹脂、及び反応性希釈剤を含む、ワニス組成物。
(項目7)
前記反応性希釈剤が
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1’〜Rb17 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b18’〜Rb19 ’は、それぞれ独立に
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b20’はアルキレン基であり、
b4’、Rb5’、Rb9’、及びRb13’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
である、上記項目に記載のワニス組成物。
(項目8)
オフセット印刷インキに用いられる、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目9)
上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。
(項目10)
上記項目に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。
The present disclosure provides the following items.
(Item 1)
A resin having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.5 to 55 including the following structural units 1 and 2, wherein the structural unit 1 is:
[Wherein, R a1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R a2 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or
{Wherein, a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, and Raa is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted group R ab is an aryloxy group, R ab is a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group. }
It is. ]
And
The structural unit 2 is a general formula
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b17 are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are structural units independently selected from the structural unit group including the structural unit 1. }
And
R b18 to R b19 are each independently
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
And
R b20 is an alkylene group,
R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A) to (D)
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
2 or more are included. ]
Is resin.
(Item 2)
Structural unit 3 in the structural unit group
(Wherein R c1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R c2 to R c6 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group.)
The resin according to the above item, comprising:
(Item 3)
Structural unit 4 in the structural unit group
(Wherein R D is a hydrogen atom or an alkyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
A group selected from the group consisting of:
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or a hydrogen atom, or R d1 and R d2 together form a ring structure, k is an integer of 1 or more, and R d3 Is a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxyl group, and R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is a hydroxyl group It is. )
The resin according to any one of the above items, wherein
(Item 4)
Structural unit 5
(In formula, R <e1> -R <e3> is a nitrile group, an alkyl group, or an alkenyl group each independently.)
The resin according to any one of the above items, comprising:
(Item 5)
(Meth) acrylic acid ester, (poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate, (poly) trimethylopropanel poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate, (poly ) A monomer containing at least one monomer selected from the group consisting of glycerin poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate and alkylenedi (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate. The method for producing a resin according to any one of the above items, comprising a step of polymerizing at 70 to 200 ° C. in the presence of 3 to 50 parts by mass of a polymerization initiator at 100% by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer. .
(Item 6)
A varnish composition comprising the resin according to any one of the above items and a reactive diluent.
(Item 7)
The reactive diluent is
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 ′ to R b17 ′ are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a group different for each unit. }
And
R b18 ′ to R b19 ′ are each independently
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
And
R b20 ′ is an alkylene group,
R b4 ′ , R b5 ′ , R b9 ′ , and R b13 ′ may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A ) to (D )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
The varnish composition as described in the above item.
(Item 8)
The varnish composition according to any one of the above items, which is used in an offset printing ink.
(Item 9)
An offset printing ink comprising the varnish composition according to any one of the above items and a pigment.
(Item 10)
A printed matter having a cured layer of the offset printing ink described in the above item.

本開示において、上述した1又は複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得る。当業者は、必要に応じて以下の詳細な説明を読んで理解することにより、上記以外のさらなる実施形態及び利点を認識することができる。   In the present disclosure, one or more of the features described above may be provided in further combinations in addition to the express combinations. Those skilled in the art will recognize additional embodiments and advantages other than those described above upon reading and understanding the following detailed description as necessary.

本発明の樹脂を用いれば、インキ諸性能(密着性、塗膜硬度、乳化性、画像再現性、光沢性、耐ブロッキング性、塗膜の平滑性等)を有しつつ、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有するオフセット印刷インキを得ることができる。   By using the resin of the present invention, it has excellent ink fluidity while having various ink performances (adhesion, coating film hardness, emulsifying property, image reproducibility, glossiness, blocking resistance, coating film smoothness, etc.). An offset printing ink having misting resistance can be obtained.

[1.樹脂]
本開示は、下記構成単位1及び2を含む、分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜55である樹脂であって、前記構成単位1は、
[式中、Ra1は水素原子又はアルキル基であり、Ra2は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基又は
{式中、aは1以上の整数であり、bは0以上の整数であり、Raaは水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のアリールオキシ基であり、Rabは置換若しくは非置換のアリーレン基、置換若しくは非置換のアルキレン基、又は置換若しくは非置換のアルケニレン基である。}
である。]
であり、
前記構成単位2は一般式
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1〜Rb17は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に前記構成単位1を含む構成単位群から選択される構成単位である。}
であり、
b18〜Rb19は、それぞれ独立に
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
であり、
b20はアルキレン基であり、
b4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
が2個以上含まれる。]
である、樹脂を提供する。
[1. resin]
The present disclosure is a resin having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.5 to 55 including the following structural units 1 and 2, wherein the structural unit 1 includes:
[Wherein, R a1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R a2 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or
{Wherein, a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, and Raa is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted group R ab is an aryloxy group, R ab is a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group. }
It is. ]
And
The structural unit 2 is a general formula
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b17 are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are structural units independently selected from the structural unit group including the structural unit 1. }
And
R b18 to R b19 are each independently
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
And
R b20 is an alkylene group,
R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A) to (D)
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
2 or more are included. ]
A resin is provided.

本開示において「樹脂」は、ポリマーと同義である。   In the present disclosure, “resin” is synonymous with polymer.

1つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位3
(式中、Rc1は水素原子又はアルキル基であり、Rc2〜Rc6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
が含まれる。
In one embodiment, the structural unit group includes structural units 3
(Wherein R c1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R c2 to R c6 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group.)
Is included.

1つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位4
(式中、Rは水素原子又はアルキル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素原子であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素原子、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
が含まれる。
In one embodiment, the structural unit group includes 4 structural units.
(Wherein R D is a hydrogen atom or an alkyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
A group selected from the group consisting of:
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or a hydrogen atom, or R d1 and R d2 together form a ring structure, k is an integer of 1 or more, and R d3 Is a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxyl group, and R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is a hydroxyl group It is. )
Is included.

1つの実施形態において、上記樹脂は、構成単位5
(式中、Re1〜Re3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、又はアルケニル基である。)
を含む。
In one embodiment, the resin comprises structural unit 5
(In formula, R <e1> -R <e3> is a nitrile group, an alkyl group, or an alkenyl group each independently.)
including.

アルキル基は、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基等が例示される。   Examples of the alkyl group include a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cycloalkyl group.

直鎖アルキル基は、−C2n+1(nは1以上の整数)の一般式で表現できる。直鎖アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デカメチル基等が例示される。 The linear alkyl group can be represented by a general formula of —C n H 2n + 1 (n is an integer of 1 or more). Straight chain alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decamethyl, etc. Is exemplified.

分岐アルキル基は、直鎖アルキル基の少なくとも1つの水素がアルキル基によって置換された基である。分岐アルキル基は、ジエチルペンチル基、トリメチルブチル基、トリメチルペンチル基、トリメチルヘキシル基(トリメチルヘキサメチル基)等が例示される。   A branched alkyl group is a group in which at least one hydrogen of a linear alkyl group is substituted with an alkyl group. Examples of the branched alkyl group include a diethylpentyl group, a trimethylbutyl group, a trimethylpentyl group, a trimethylhexyl group (trimethylhexamethyl group), and the like.

シクロアルキル基は、単環シクロアルキル基、架橋環シクロアルキル基、縮合環シクロアルキル基等が例示される。   Examples of the cycloalkyl group include a monocyclic cycloalkyl group, a bridged ring cycloalkyl group, and a condensed ring cycloalkyl group.

本開示において、単環は、炭素の共有結合により形成された内部に橋かけ構造を有しない環状構造を意味する。また、縮合環は、2つ以上の単環が2個の原子を共有している(すなわち、それぞれの環の辺を互いに1つだけ共有(縮合)している)環状構造を意味する。架橋環は、2つ以上の単環が3個以上の原子を共有している環状構造を意味する。   In the present disclosure, a single ring means a cyclic structure having no bridge structure inside formed by a covalent bond of carbon. Further, the condensed ring means a cyclic structure in which two or more monocycles share two atoms (that is, only one side of each ring is shared (condensed) with each other). A bridged ring means a cyclic structure in which two or more monocycles share three or more atoms.

単環シクロアルキル基は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基、3,5,5−トリメチルシクロヘキシル基等が例示される。   Examples of the monocyclic cycloalkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclodecyl group, and a 3,5,5-trimethylcyclohexyl group.

架橋環シクロアルキル基は、トリシクロデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等が例示される。   Examples of the bridged ring cycloalkyl group include a tricyclodecyl group, an adamantyl group, and a norbornyl group.

縮合環シクロアルキル基は、ビシクロデシル基等が例示される。   Examples of the fused ring cycloalkyl group include a bicyclodecyl group.

アルケニル基は、直鎖アルケニル基、分岐アルケニル基、シクロアルケニル基等が例示される。   Examples of the alkenyl group include a straight alkenyl group, a branched alkenyl group, a cycloalkenyl group, and the like.

直鎖アルケニル基は、ビニル基、プロペニル基、n−ブテニル基等が例示される。   Examples of the linear alkenyl group include a vinyl group, a propenyl group, and an n-butenyl group.

分岐アルケニル基は、直鎖アルケニル基の少なくとも1つの水素がアルキル基によって置換された基であり、1−メチルビニル基、1−メチルプロペニル基、1−メチルブテニル基等が例示される。   The branched alkenyl group is a group in which at least one hydrogen of a linear alkenyl group is substituted with an alkyl group, and examples thereof include a 1-methylvinyl group, a 1-methylpropenyl group, and a 1-methylbutenyl group.

シクロアルケニル基は、単環シクロアルケニル基等が例示される。   Examples of the cycloalkenyl group include a monocyclic cycloalkenyl group.

単環シクロアルケニル基は、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロデセニル基、3,5,5−トリメチルシクロヘキセニル基等が例示される。   Examples of the monocyclic cycloalkenyl group include a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, a cycloheptenyl group, a cyclodecenyl group, and a 3,5,5-trimethylcyclohexenyl group.

アルコキシ基は、−ORAl(RAlはアルキル基である)の一般式で表現できる。上記一般式中のアルキル基は上述のもの等が例示される。 The alkoxy group can be represented by a general formula of —OR Al (R Al is an alkyl group). Examples of the alkyl group in the above general formula include those described above.

アリール基は、単環アリール基、縮合環アリール基等が例示される。単環アリール基は、フェニル基が例示され、縮合環アリール基は、ナフチル基等が例示される。置換アリール基は、トリル基、キシリル基等が例示される。   Examples of the aryl group include a monocyclic aryl group and a condensed ring aryl group. The monocyclic aryl group is exemplified by a phenyl group, and the condensed ring aryl group is exemplified by a naphthyl group. Examples of the substituted aryl group include a tolyl group and a xylyl group.

アリールオキシ基は、−ORAr(RArはアリール基である)の一般式で表現できる。上記一般式中のアリール基は上述のもの等が例示される。 The aryloxy group can be represented by a general formula of —OR Ar (R Ar is an aryl group). Examples of the aryl group in the above general formula include those described above.

アリーレン基は、単環アリーレン基、縮合環アリーレン基等が例示される。単環アリーレン基は、フェニレン基が例示され、縮合環アリーレン基は、ナフチレン基等が例示される。置換アリーレン基は、トリレン基、キシリレン基等が例示される。   Examples of the arylene group include a monocyclic arylene group and a condensed ring arylene group. The monocyclic arylene group is exemplified by a phenylene group, and the condensed ring arylene group is exemplified by a naphthylene group. Examples of the substituted arylene group include a tolylene group and a xylylene group.

アルキレン基は、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基等が例示される。   Examples of the alkylene group include a linear alkylene group, a branched alkylene group, and a cycloalkylene group.

直鎖アルキレン基は、−(CH−(nは1以上の整数)の一般式で表現できる。直鎖アルキレン基は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、n−ブチレン基、n−ペンチレン基、n−ヘキシレン基、n−ヘプチレン基、n−オクチレン基、n−ノニレン基、n−デカメチレン基等が例示される。 The linear alkylene group can be represented by a general formula of — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 or more). Straight chain alkylene groups include methylene, ethylene, propylene, n-butylene, n-pentylene, n-hexylene, n-heptylene, n-octylene, n-nonylene, n-decamethylene, etc. Is exemplified.

分岐アルキレン基は、直鎖アルキレン基の少なくとも1つの水素がアルキル基によって置換された基である。分岐アルキレン基は、ジエチルペンチレン基、トリメチルブチレン基、トリメチルペンチレン基、トリメチルヘキシレン基(トリメチルヘキサメチレン基)等が例示される。   A branched alkylene group is a group in which at least one hydrogen of a linear alkylene group is substituted with an alkyl group. Examples of the branched alkylene group include a diethylpentylene group, a trimethylbutylene group, a trimethylpentylene group, a trimethylhexylene group (trimethylhexamethylene group), and the like.

シクロアルキレン基は、単環シクロアルキレン基、架橋環シクロアルキレン基、縮合環シクロアルキレン基等が例示される。   Examples of the cycloalkylene group include a monocyclic cycloalkylene group, a bridged ring cycloalkylene group, and a condensed ring cycloalkylene group.

単環シクロアルキレン基は、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロデシレン基、3,5,5−トリメチルシクロヘキシレン基等が例示される。   Examples of the monocyclic cycloalkylene group include a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclodecylene group, and a 3,5,5-trimethylcyclohexylene group.

架橋環シクロアルキレン基は、トリシクロデシレン基、アダマンチレン基、ノルボルニレン基等が例示される。   Examples of the bridged cycloalkylene group include a tricyclodecylene group, an adamantylene group, and a norbornylene group.

縮合環シクロアルキレン基は、ビシクロデシレン基等が例示される。   Examples of the fused ring cycloalkylene group include a bicyclodecylene group.

アルケニレン基は、直鎖アルケニレン基、分岐アルケニレン基、シクロアルケニレン基等が例示される。   The alkenylene group is exemplified by a linear alkenylene group, a branched alkenylene group, a cycloalkenylene group, and the like.

直鎖アルケニレン基は、ビニレン基、プロペニレン基、n−ブテニレン基等が例示される。   Examples of the linear alkenylene group include a vinylene group, a propenylene group, and an n-butenylene group.

分岐アルケニレン基は、直鎖アルケニレン基の少なくとも1つの水素がアルキル基によって置換された基であり、1−メチルビニレン基、1−メチルプロペニレン基、1−メチルブテニレン基等が例示される。   The branched alkenylene group is a group in which at least one hydrogen of a linear alkenylene group is substituted with an alkyl group, and examples thereof include a 1-methylvinylene group, a 1-methylpropenylene group, and a 1-methylbutenylene group.

シクロアルケニレン基は、単環シクロアルケニレン基等が例示される。   Examples of the cycloalkenylene group include a monocyclic cycloalkenylene group.

単環シクロアルケニレン基は、シクロペンテニレン基、シクロヘキセニレン基、シクロヘプテニレン基、シクロデセニレン基、3,5,5−トリメチルシクロヘキセニレン基等が例示される。   Examples of the monocyclic cycloalkenylene group include a cyclopentenylene group, a cyclohexenylene group, a cycloheptenylene group, a cyclodecenylene group, and a 3,5,5-trimethylcyclohexenylene group.

本開示において「置換のA基」とは、A基が有する1個以上の水素原子が水素原子以外の基(一価の置換基等)に置換された基を意味する。例えば置換のアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子1個以上が水素原子以外の基に置換された基を意味する。また、置換のA基は、複数の置換基が一緒になって環構造を形成する基も含まれる。   In the present disclosure, the “substituted A group” means a group in which one or more hydrogen atoms of the A group are substituted with groups other than hydrogen atoms (monovalent substituents and the like). For example, a substituted alkyl group means a group in which one or more hydrogen atoms contained in the alkyl group are substituted with a group other than a hydrogen atom. The substituted A group also includes a group in which a plurality of substituents are combined to form a ring structure.

上記一価の置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、水酸基並びにこれらの基及び必要に応じてエーテル結合、エステル結合等を組み合わせた基等が例示される。上記これらの基を組み合わせた基は、アルキルアルコキシ基、アルキルアリール基(ベンジル基等)、アルキルオキシアリール基、アルキルオキシアリールアリール基、アルキルオキシアルキルアリール基等が例示され、より具体的には、
(式中、vは1以上の整数を表す。)
等が例示される。
なお、構成単位1のRa2に該当する部分の置換基は、
が好ましいものとして例示される。また、構成単位1中のRaa及びRabの置換基は、
が好ましいものとして例示される。
Examples of the monovalent substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkenyl group, a hydroxyl group, and a group obtained by combining these groups and, if necessary, an ether bond and an ester bond. Examples of the group obtained by combining these groups include an alkylalkoxy group, an alkylaryl group (such as a benzyl group), an alkyloxyaryl group, an alkyloxyarylaryl group, and an alkyloxyalkylaryl group. More specifically,
(In the formula, v represents an integer of 1 or more.)
Etc. are exemplified.
Note that the substituent of the portion corresponding to R a2 of the structural unit 1 is
Is illustrated as preferred. In addition, the substituents of R aa and R ab in the structural unit 1 are
Is illustrated as preferred.

<構成単位1>
構成単位1は、モノマーとして、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステルを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルは、単独で又は2種以上が用いられ得る。
<Structural unit 1>
The structural unit 1 is a structural unit contained in a polymer chain when (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid ester is used as a monomer. (Meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester may be used alone or in combination of two or more.

本開示において「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。同様に「(メタ)アクリル」とは「アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。   In the present disclosure, “(meth) acrylate” means “at least one selected from the group consisting of acrylate and methacrylate”. Similarly, “(meth) acryl” means “at least one selected from the group consisting of acryl and methacryl”.

(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸直鎖アルキルエステル、(メタ)アクリル酸分岐アルキルエステル、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸置換アルキルエステル等が例示される。   (Meth) acrylic acid ester is exemplified by (meth) acrylic acid linear alkyl ester, (meth) acrylic acid branched alkyl ester, (meth) acrylic acid cycloalkyl ester, (meth) acrylic acid substituted alkyl ester, and the like.

(メタ)アクリル酸直鎖アルキルエステルは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸n−へキシル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ラウリル等が例示される。   (Meth) acrylic acid linear alkyl esters are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, n- (meth) acrylic acid. Examples include pentyl, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and the like.

(メタ)アクリル酸分岐アルキルエステルは、(メタ)アクリル酸iso−プロピル、(メタ)アクリル酸iso−ブチル、(メタ)アクリル酸sec−ブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸iso−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル等が例示される。   (Meth) acrylic acid branched alkyl esters are iso-propyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic. Examples include acid iso-octyl, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and the like.

(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルは、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等が例示される。   Examples of the (meth) acrylic acid cycloalkyl ester include cyclopentyl (meth) acrylate and cyclohexyl (meth) acrylate.

(メタ)アクリル酸置換アルキルエステルは、(メタ)アクリル酸グリシジル等が例示される。   Examples of the (meth) acrylic acid-substituted alkyl ester include glycidyl (meth) acrylate.

全構成単位に占める構成単位1の割合の上限は、全構成単位の質量(全構成単位100質量%)に対して99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21質量%等が例示され、下限は、98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、全構成単位100質量%に占める構成単位1の割合は、20〜99質量%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 1 to the total structural units is 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, with respect to the mass of all structural units (100% by mass of all structural units). 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21% by mass, etc. are exemplified, and the lower limit is 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35. , 30, 25, 21, 20% by mass and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of suppressing gelation, the proportion of the structural unit 1 in 100% by mass of all the structural units is preferably 20 to 99% by mass.

なお、本開示において、「全構成単位の質量」とは樹脂の質量と同義である。   In the present disclosure, the “mass of all structural units” is synonymous with the mass of the resin.

全構成単位に占める構成単位1の割合の上限は、全構成単位100モル%に対して99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21モル%等が例示され、下限は、98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、全構成単位100モル%に占める構成単位1の割合は、20〜99モル%が好ましい。   The upper limit of the ratio of structural unit 1 to all structural units is 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35 with respect to 100 mol% of all structural units. , 30, 25, 21 mol%, etc., and the lower limit is 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21, 20 mol% etc. are illustrated. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of suppressing gelation, the proportion of the structural unit 1 occupying 100 mol% of all the structural units is preferably 20 to 99 mol%.

<構成単位2>
構成単位2は、下記に説明する多官能性モノマーに由来する構成単位である。なお、多官能性モノマーは、単独で又は2種以上が用いられ得る。
<Structural unit 2>
The structural unit 2 is a structural unit derived from a polyfunctional monomer described below. In addition, a polyfunctional monomer may be used individually or in mixture of 2 or more types.

(構成単位2A)
構成単位2Aは、モノマーとして、一般式A’
[式中、nは0〜2の整数であり、Rb1’〜Rb6 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b4’、及びRb5’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
で示される(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
(Structural unit 2A)
The structural unit 2A has a general formula A ′ as a monomer.
[Wherein, n is an integer of 0 to 2, and R b1 ′ to R b6 ′ each independently represent a hydrogen atom,
{In the formula, q is each independently an integer of 0 to 16, R 1 'to R 3' are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ' may be different for each unit. Good. }
And
R b4 ′ and R b5 ′ may have different groups for each structural unit,
In the general formula (A ' )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
When the (poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate represented by the formula (1) is used, it is a structural unit contained in the polymer chain.

なお、本開示において「各構成単位ごとに基が異なっていてもよい」とは、例えば一般式(A)において、nが2であるとき、
b4AとRb4Bとは異なる基であってよく、Rb5AとRb5Bとは異なる基であってよいことを意味する。
In the present disclosure, “the group may be different for each structural unit” means, for example, in the general formula (A), when n is 2,
This means that R b4A and R b4B may be different groups, and R b5A and R b5B may be different groups.

本開示において「(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「ペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。   In the present disclosure, “(poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate” means “pentaerythritol poly (meth) acrylate, pentaerythritol polyalkylene oxide modified (meth) acrylate, pentaerythritol polyepoxy modified”. Means "at least one selected from the group consisting of (meth) acrylate, polypentaerythritol poly (meth) acrylate, polypentaerythritol polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate, and polypentaerythritol polyepoxy-modified (meth) acrylate" To do.

ペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートは、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が例示される。   Pentaerythritol poly (meth) acrylate includes pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Illustrated.

ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、ペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Pentaerythritol polyalkylene oxide modified (meth) acrylate is pentaerythritol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), pentaerythritol tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), pentaerythritol tetra (ethylene oxide modified (meth) acrylate) , Pentaerythritol penta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), pentaerythritol hexa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), pentaerythritol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), pentaerythritol tri (propylene oxide modified (meth)) Acrylate), pentaerythritol tetra (propylene oxide modified (meth) acrylate), pentae Sri penta (propylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol hexa (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like.

ペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、ペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Pentaerythritol polyepoxy modified (meth) acrylate is pentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol triepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol pentaepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol hexa An epoxy (meth) acrylate etc. are illustrated.

ポリペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートは、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールノナ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート等が例示される。   Polypentaerythritol poly (meth) acrylate is dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hepta (meth) acrylate, dipentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol di (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, Tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaeryth Toruheputa (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol nona (meth) acrylate, tripentaerythritol deca (meth) acrylate and the like.

ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、ジペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘプタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールオクタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘプタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールオクタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘプタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールオクタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールノナ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールデカ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘプタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールオクタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールノナ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールデカ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Polypentaerythritol polyalkylene oxide modified (meth) acrylate is dipentaerythritol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tetra (ethylene oxide modified (ethylene oxide modified) (Meth) acrylate), dipentaerythritol penta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hexa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hepta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol Octa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol di (propylene oxide modified (meth) acrylic) Dipentaerythritol tri (propylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tetra (propylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol penta (propylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hexa (Propylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hepta (propylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol octa (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate) ), Tripentaerythritol tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol tetra (ethylene Oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol penta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hexa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hepta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), Tripentaerythritol octa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol nona (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol deca (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol di (propylene oxide modified) (Meth) acrylate), tripentaerythritol tri (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentae Rithritol tetra (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol penta (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hexa (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hepta (propylene oxide modified ( (Meth) acrylate), tripentaerythritol octa (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol nona (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol deca (propylene oxide modified (meth) acrylate), etc. The

ポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、ジペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールノナエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールデカエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Polypentaerythritol polyepoxy modified (meth) acrylate is dipentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol triepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaepoxy (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexaepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol heptaepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol octaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol triepoxy (meth) Acrylate, tripentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol pen Epoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol hexaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol heptaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol octaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol nonaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol deca An epoxy (meth) acrylate etc. are illustrated.

<構成単位2B>
構成単位2Bは、モノマーとして、一般式B’
[式中、mは0〜2の整数であり、Rb7’〜Rb10 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b9’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(B)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
で示される(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
<Structural unit 2B>
The structural unit 2B is represented by the general formula B ′ as a monomer.
[Wherein, m is an integer of 0 to 2, and R b7 ′ to R b10 ′ each independently represent a hydrogen atom,
{In the formula, q is each independently an integer of 0 to 16, R 1 'to R 3' are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ' may be different for each unit. Good. }
And
R b9 ′ may have a different group for each structural unit;
In the general formula (B )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
When (poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate represented by the formula (1) is used, it is a structural unit contained in the polymer chain.

本開示において「(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」とは、「トリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。   In the present disclosure, “(poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate” means “trimethylolpropane poly (meth) acrylate, trimethylolpropane polyalkylene oxide modified (meth) acrylate, Selected from the group consisting of methylolpropane polyepoxy modified (meth) acrylate, polytrimethylolpropane poly (meth) acrylate, polytrimethylolpropane polyalkylene oxide modified (meth) acrylate, and polytrimethylolpropane polyepoxy modified (meth) acrylate Means at least one of

トリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレートは、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of trimethylolpropane poly (meth) acrylate include trimethylolpropane di (meth) acrylate and trimethylolpropane tri (meth) acrylate.

トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、トリメチロールプロパンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Trimethylolpropane polyalkylene oxide modified (meth) acrylate is trimethylolpropane di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), trimethylolpropane tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), trimethylolpropane di (propylene oxide modified (propylene oxide modified ( (Meth) acrylate), trimethylolpropane tri (propylene oxide modified (meth) acrylate) and the like.

トリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、トリメチロールプロパンジエポキシ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of the trimethylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylate include trimethylolpropane diepoxy (meth) acrylate and trimethylolpropane triepoxy (meth) acrylate.

ポリトリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of the polytrimethylolpropane poly (meth) acrylate include ditrimethylolpropane di (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate.

ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Polytrimethylolpropane polyalkylene oxide modified (meth) acrylate is ditrimethylolpropane di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), ditrimethylolpropane tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), ditrimethylolpropane di (propylene oxide modified) (Meth) acrylate), ditrimethylolpropane tri (propylene oxide modified (meth) acrylate) and the like.

ポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジエポキシ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of the polytrimethylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylate include ditrimethylolpropane diepoxy (meth) acrylate and ditrimethylolpropane triepoxy (meth) acrylate.

<構成単位2C>
構成単位2Cは、モノマーとして、一般式C’
[式中、pは0〜7の整数であり、Rb11’〜Rb14 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b13’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(C)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
で示されるような(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
<Structural unit 2C>
The structural unit 2C is represented by the general formula C ′ as a monomer.
[Wherein, p is an integer of 0 to 7, and R b11 ′ to R b14 ′ each independently represent a hydrogen atom,
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a group different for each unit. }
And
R b13 ′ may have a different group for each structural unit;
In the general formula (C )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
When a (poly) glycerin poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate as shown in (2) is used, it is a structural unit contained in the polymer chain.

本開示において「(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「グリセリンポリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、グリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリグリセリンポリ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリグリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。   In the present disclosure, “(poly) glycerin poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate” means “glycerin poly (meth) acrylate, glycerin polyalkylene oxide modified (meth) acrylate, glycerin polyepoxy modified (meth) acrylate”. , At least one selected from the group consisting of polyglycerin poly (meth) acrylate, polyglycerin polyalkylene oxide modified (meth) acrylate, and polyglycerin polyepoxy modified (meth) acrylate.

グリセリンポリ(メタ)アクリレートは、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of glycerin poly (meth) acrylate include glycerin di (meth) acrylate and glycerin tri (meth) acrylate.

グリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、グリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Glycerin polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate is glycerin di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), glycerin tri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), glycerin di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), glycerin tri ( And propylene oxide-modified (meth) acrylate).

グリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、グリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、グリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of the glycerin polyepoxy-modified (meth) acrylate include glycerin diepoxy (meth) acrylate and glycerin triepoxy (meth) acrylate.

ポリグリセリンポリ(メタ)アクリレートは、ジグリセリンジ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンジ(メタ)アクリレート、トリグリセリントリ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンペンタ(メタ)アクリレート等が例示される。 Polyglycerin poly (meth) acrylate is diglycerin di (meth) acrylate, diglycerin tri (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, triglycerin di (meth) acrylate, triglycerin tri (meth) acrylate, triglycerin tetra Examples include (meth) acrylate and triglycerin penta (meth) acrylate.

ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、ジグリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリンテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)ジグリセリンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリンテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Polyglycerin polyalkylene oxide modified (meth) acrylate is diglycerin di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), diglycerin tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), diglycerin tetra (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tri Glycerin di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tetra (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin penta (ethylene oxide modified (meth) acrylate) Diglycerin di (propylene oxide modified (meth) acrylate), diglycerin tri (propylene oxide modified (meth) acrylate), diglycerin tetra La (propylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin di (propylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tri (propylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tetra (propylene oxide modified (meth) acrylate), Triglycerin penta (propylene oxide modified (meth) acrylate) and the like are exemplified.

ポリグリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートは、ジグリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンペンタエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   Polyglycerin polyepoxy modified (meth) acrylate is diglycerin diepoxy (meth) acrylate, diglycerin triepoxy (meth) acrylate, diglycerin tetraepoxy (meth) acrylate, triglycerin diepoxy (meth) acrylate, triglycerin tri Examples include epoxy (meth) acrylate, triglycerin tetraepoxy (meth) acrylate, and triglycerin pentaepoxy (meth) acrylate.

<構成単位2D>
構成単位2Dは、モノマーとして、一般式D’
[式中、Rb15’〜Rb17 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、一般式(D)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
で示されるようなイソシアヌレート構造含有モノマーを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
<Structural unit 2D>
The structural unit 2D has a general formula D ′ as a monomer.
[ Wherein , R b15 ′ to R b17 ′ each independently represent a hydrogen atom,
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a group different for each unit. }
And in the general formula (D )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
Is a structural unit contained in the polymer chain when an isocyanurate structure-containing monomer as shown in FIG.

上記イソシアヌレート構造含有モノマーは、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of the isocyanurate structure-containing monomer include isocyanuric acid ethylene oxide-modified di (meth) acrylate and isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri (meth) acrylate.

<構成単位2E>
構成単位2Eは、モノマーとして、一般式E’
[式中、Rb18’〜Rb19 ’は、それぞれ独立に
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b20’は、アルキレン基である。]
で示されるようなアルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
<Structural unit 2E>
The structural unit 2E is represented by the general formula E ′ as a monomer.
[ Wherein , R b18 ′ to R b19 ′ are each independently
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
And
R b20 ′ is an alkylene group. ]
When the alkylene di (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate is used, it is a structural unit contained in the polymer chain.

本開示において「アルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「アルキレンジ(メタ)アクリレート、アルキレンジアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びアルキレンジエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。   In the present disclosure, “alkylene di (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate” is composed of “alkylene di (meth) acrylate, alkylene dialkylene oxide modified (meth) acrylate, and alkylene diepoxy modified (meth) acrylate”. Means at least one selected from the group ".

アルキレンジ(メタ)アクリレートは、1,2−エチレンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,7−ヘプタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート等が例示される。   Alkylene di (meth) acrylate is 1,2-ethylenediol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol Di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,7-heptanediol di (meth) acrylate, 1,8-octanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di ( Examples include (meth) acrylate and 1,10-decanediol di (meth) acrylate.

アルキレンジアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、1,2−エチレンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,3−プロパンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,4−ブタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,5−ペンタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,6−ヘキサンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,7−ヘプタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,8−オクタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,9−ノナンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,10−デカンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,2−エチレンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,3−プロパンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,4−ブタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,5−ペンタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,6−ヘキサンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,7−ヘプタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,8−オクタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,9−ノナンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,10−デカンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が例示される。   Alkylene dialkylene oxide modified (meth) acrylate is 1,2-ethylenediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,3-propanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,4-butane. Diol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,5-pentanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,6-hexanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,7- Heptanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,8-octanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,9-nonanediol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,10 -Decandi Di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), 1,2-ethylenediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,3-propanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,4-butane Diol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,5-pentanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,6-hexanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,7- Heptanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,8-octanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,9-nonanediol di (propylene oxide modified (meth) acrylate), 1,1 - such decanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate) is exemplified.

アルキレンジエポキシ変性(メタ)アクリレートは、1,2−エチレンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,7−ヘプタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,8−オクタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。   The alkylene diepoxy-modified (meth) acrylates are 1,2-ethylenediol diepoxy (meth) acrylate, 1,3-propanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,4-butanediol diepoxy (meth) acrylate, 1 , 5-pentanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,6-hexanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,7-heptanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,8-octanediol diepoxy (meth) acrylate 1,9-nonanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,10-decanediol diepoxy (meth) acrylate, and the like.

全構成単位に占める構成単位2(構成単位2A、2B、2C、2D及び2Eからなる群の1種以上)の割合の上限は、全構成単位の質量に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位2(構成単位2A、2B、2C、2D及び2Eからなる群の1種以上)の割合は、1〜50質量%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 2 (one or more members of the group consisting of the structural units 2A, 2B, 2C, 2D, and 2E) to the total structural units is 50, 45, 40, 35, based on the mass of all the structural units. 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2% by mass and the like are exemplified, and the lower limit is 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass, etc. Illustrated. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the proportion of the structural unit 2 (one or more members of the group consisting of the structural units 2A, 2B, 2C, 2D, and 2E) in all the structural units is preferably 1 to 50% by mass.

全構成単位に占める構成単位2(構成単位2A、2B、2C、2D及び2Eからなる群の1種以上)の割合の上限は、全構成単位100モル%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位2(構成単位2A、2B、2C、2D及び2Eからなる群の1種以上)の割合は、1〜50モル%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 2 (one or more members of the group consisting of the structural units 2A, 2B, 2C, 2D, and 2E) to all the structural units is 50, 45, 40, 35 with respect to 100 mol% of all the structural units. , 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mol%, etc. The lower limit is 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1 mol%, etc. Is exemplified. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the proportion of the structural unit 2 (one or more members selected from the group consisting of the structural units 2A, 2B, 2C, 2D, and 2E) in all the structural units is preferably 1 to 50 mol%.

(構成単位3)
構成単位3は、モノマーとして、アルケニルアリールを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。アルケニルアリールは、1種又は2種以上を使用可能である。アルケニルアリールは、スチレン、α−メチルスチレン等の他、芳香環に少なくとも1つの炭素数1〜2のアルキル基を有するスチレン等が例示される。
(Structural unit 3)
The structural unit 3 is a structural unit contained in the polymer chain when alkenylaryl is used as the monomer. 1 type (s) or 2 or more types can be used for alkenyl aryl. Examples of the alkenyl aryl include styrene and α-methylstyrene, and styrene having at least one alkyl group having 1 to 2 carbon atoms in the aromatic ring.

全構成単位に占める構成単位3の割合の上限は、全構成単位の質量に対して79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が例示され、下限は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1、0質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位3を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位3の割合は、1〜79質量%が好ましい。   The upper limit of the ratio of structural unit 3 to all structural units is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, with respect to the mass of all structural units. 10, 5, 2% by mass, etc. are exemplified, and the lower limit is 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1, , 0% by mass and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). When the structural unit 3 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 3 in all the structural units is preferably 1 to 79% by mass.

全構成単位に占める構成単位3の割合の上限は、全構成単位100モル%に対して79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が例示され、下限は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1、0モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位3を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位3の割合は、1〜79モル%が好ましい。   The upper limit of the ratio of structural unit 3 to all structural units is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15 with respect to 100 mol% of all structural units. 10, 5, 2 mol% and the like are exemplified, and the lower limit is 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, Examples thereof include 1 and 0 mol%. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). When the structural unit 3 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 3 in all the structural units is preferably 1 to 79 mol%.

(構成単位4)
構成単位4は、モノマーとして、(メタ)アクリル酸、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキルアミンアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
(Structural unit 4)
The structural unit 4 is a polymer chain when (meth) acrylic acid, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-dialkylamine alkyl (meth) acrylate, or hydroxyalkyl (meth) acrylate is used as a monomer. Is a structural unit included in.

N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミドは、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等が例示される。   Examples of N, N-dialkyl (meth) acrylamide include dimethylacrylamide, diethylacrylamide, acryloylmorpholine and the like.

N,N−ジアルキルアミンアルキル(メタ)アクリレートは、N,N−ジメチルアミンエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミンエチル(メタ)アクリレート等が例示される。窒素上のアルキル基の炭素数(すなわち、構成単位4中のRd1及びRd2の炭素数)は1〜2が好ましい。 Examples of the N, N-dialkylamine alkyl (meth) acrylate include N, N-dimethylamine ethyl (meth) acrylate and N, N-diethylamine ethyl (meth) acrylate. As for carbon number (namely, carbon number of Rd1 and Rd2 in the structural unit 4) of the alkyl group on nitrogen, 1-2 are preferable.

(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルは、(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチル、(メタ)アクリル酸1−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸1−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル等が例示される。   Hydroxyalkyl (meth) acrylate is hydroxymethyl (meth) acrylate, 1-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) Examples include acrylic 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like.

全構成単位に占める構成単位4の割合の上限は、全構成単位の質量に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1、0質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位4を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位4の割合は、1〜50質量%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 4 to the total structural units is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2% by mass, etc. with respect to the mass of all structural units, Examples of the lower limit include 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1, 0% by mass and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In the case where the structural unit 4 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 4 in all the structural units is preferably 1 to 50% by mass.

全構成単位に占める構成単位4の割合の上限は、全構成単位100モル%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1、0モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位4を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位4の割合は、1〜50モル%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 4 to the total structural units is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mole%, etc. with respect to 100 mole% of all structural units. The lower limit is exemplified by 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1, 0 mol% and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In the case where the structural unit 4 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 4 in all the structural units is preferably 1 to 50 mol%.

(構成単位5)
構成単位5は、例えば、下記の構造を有する
(式中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、又はアルケニル基である。)アゾ開始剤に由来する構成単位である。
(Structural unit 5)
The structural unit 5 has the following structure, for example.
(Wherein R e1 , R e2 , and R e3 are each independently a nitrile group, an alkyl group, or an alkenyl group.) A structural unit derived from an azo initiator.

アゾ開始剤は、アゾニトリル開始剤、アゾアミジン開始剤、アゾアミド開始剤が例示される。   Examples of the azo initiator include an azonitrile initiator, an azoamidine initiator, and an azoamide initiator.

アゾニトリル開始剤は、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等が例示される。   Azonitrile initiators include 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (isobutyrate). Ronitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like.

アゾアミジン開始剤は、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二硫酸塩二水和物、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]n水和物等が例示される。   Azoamidine initiators are 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] 2 Sulfate dihydrate, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′- Examples thereof include azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] n hydrate.

アゾアミド開始剤は、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)等が例示される。   Azoamide initiators include 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], Examples include 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide).

その他のアゾ開始剤は、ジメチル2,2’−アゾビス(イソブチレート)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)等が例示される。   Examples of other azo initiators include dimethyl 2,2'-azobis (isobutyrate), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), and the like.

全構成単位に占める構成単位5の割合の上限は、全構成単位の質量に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、4質量%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、4、3、0質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位5を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位に占める構成単位5の割合は、全構成単位の質量に対して3〜50質量%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 5 to the total structural units is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 4 mass%, etc. with respect to the mass of all structural units, Examples of the lower limit include 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 4, 3, 0% by mass and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). When the structural unit 5 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 5 in all the structural units is preferably 3 to 50% by mass with respect to the mass of all the structural units.

全構成単位に占める構成単位5の割合の上限は、全構成単位100モル%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、4モル%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、4、3、0モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。構成単位5を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位100モル%に占める構成単位5の割合は、3〜50モル%が好ましい。   The upper limit of the ratio of the structural unit 5 to all the structural units is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 4 mole%, etc. with respect to 100 mole% of all structural units. The lower limit is exemplified by 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 4, 3, 0 mol% and the like. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In the case where the structural unit 5 is included, in one embodiment, the proportion of the structural unit 5 in 100% by mole of all the structural units is preferably 3 to 50% by mole.

(その他の構成単位)
本開示の樹脂には、構成単位1〜5以外のその他の構成単位も含んでもよい。その他の構成単位は、構成単位1〜4以外の(メタ)アクリル酸誘導体に由来する構成単位、連鎖移動剤に由来する構成単位等が例示される。
(Other structural units)
The resin of the present disclosure may include other structural units other than the structural units 1 to 5. Examples of other structural units include structural units derived from (meth) acrylic acid derivatives other than structural units 1 to 4, structural units derived from chain transfer agents, and the like.

その他の構成単位を含む場合、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の上限は、30、25、20、15、10、5、2質量%等が例示され、下限は、29、25、20、15、10、5、2、1質量%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合は、1〜30質量%、30質量%未満、20質量%未満、10質量%未満、9質量%未満、5質量%未満、4質量%未満、1質量%未満、0.1質量%未満、0.01質量%未満、0.001質量%未満、0.0001質量%未満、0質量%等が例示される。   When other structural units are included, the upper limit of the ratio of the other structural units in all the structural units is exemplified by 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2% by mass, etc., and the lower limit is 29, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass and the like are exemplified. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the proportion of other structural units in the total structural units is 1-30% by weight, less than 30% by weight, less than 20% by weight, less than 10% by weight, less than 9% by weight, less than 5% by weight, Examples include less than 4% by mass, less than 1% by mass, less than 0.1% by mass, less than 0.01% by mass, less than 0.001% by mass, less than 0.0001% by mass, and 0% by mass.

全構成単位100モル%に占めるその他の構成単位の割合の上限は、30、25、20、15、10、5、2モル%等が例示され、下限は、29、25、20、15、10、5、2、1、0モル%等が例示される。上記割合の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、全構成単位100モル%に占めるその他の構成単位の割合は、1〜30モル%、30モル%未満、20モル%未満、10モル%未満、9モル%未満、5モル%未満、4モル%未満、1モル%未満、0.1モル%未満、0.01モル%未満、0.001モル%未満、0.0001モル%未満、0モル%等が例示される。その他の構成単位を含む場合、1つの実施形態において、全構成単位100モル%に占めるその他の構成単位の割合は、1〜30モル%が好ましい。   The upper limit of the proportion of other structural units in the total structural units of 100 mol% is exemplified by 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mol%, and the lower limit is 29, 25, 20, 15, 10 5, 2, 1, 0 mol% and the like are exemplified. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the proportion of other structural units in 100 mol% of all the structural units is 1 to 30 mol%, less than 30 mol%, less than 20 mol%, less than 10 mol%, less than 9 mol%, less than 9 mol%, and 5 mol %, Less than 4 mol%, less than 1 mol%, less than 0.1 mol%, less than 0.01 mol%, less than 0.001 mol%, less than 0.0001 mol%, 0 mol% and the like. When other structural units are included, in one embodiment, the proportion of the other structural units in the total structural units of 100 mol% is preferably 1 to 30 mol%.

構成単位1と構成単位2との質量比(構成単位1の質量/構成単位2の質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4等が例示される。上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位1と構成単位2との質量比(構成単位1の質量/構成単位2の質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.4〜99.0が好ましい。   The upper limit of the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 2 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 2) is 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75. 0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0. 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5 0.0, 1.0, 0.5, 0.4 and the like. The range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 2 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 2) is preferably 0.4 to 99.0 from the viewpoint of gelation suppression.

構成単位1と構成単位2とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位2の物質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4等が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位1と構成単位2とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位2の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.4〜99.0が好ましい。   The upper limit of the molar ratio between the structural unit 1 and the structural unit 2 (amount of substance of the structural unit 1 / amount of substance of the structural unit 2) is 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70. 0.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0 , 5.0, 1.0, 0.5, 0.4 and the like. The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio between the structural unit 1 and the structural unit 2 (amount of substance of the structural unit 1 / amount of substance of the structural unit 2) is preferably 0.4 to 99.0 from the viewpoint of suppressing gelation. .

構成単位3を含む場合、構成単位1と構成単位3との質量比(構成単位1の質量/構成単位3の質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25等が例示される。上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位3を含む場合、構成単位1と構成単位3との質量比(構成単位1の質量/構成単位3の質量)は、極性調整の観点から、0.25〜99.0が好ましい。   When the structural unit 3 is included, the upper limit of the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 3 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 3) is 99.0, 95.0, 90.0, 85.0. 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20 0.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. Examples are 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25 and the like. The range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the structural unit 3 is included, the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 3 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 3) is 0.25 to 99 from the viewpoint of polarity adjustment. 0.0 is preferred.

構成単位3を含む場合、構成単位1と構成単位3とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位3の物質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25等が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位3を含む場合、構成単位1と構成単位3とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位3の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.25〜99.0が好ましい。   When the structural unit 3 is included, the upper limit of the molar ratio of the structural unit 1 to the structural unit 3 (the amount of substance of the structural unit 1 / the amount of substance of the structural unit 3) is 99.0, 95.0, 90.0, 85 0.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80. 0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, Examples are 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25 and the like. The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the constitutional unit 3 is included, the molar ratio between the constitutional unit 1 and the constitutional unit 3 (the amount of the substance of the constitutional unit 1 / the amount of the substance of the constitutional unit 3) is 0. 25-99.0 is preferred.

構成単位4を含む場合、構成単位1と構成単位4との質量比(構成単位1の質量/構成単位4の質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4等が例示される。上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位4を含む場合、極性調整の観点から、構成単位1と構成単位4との質量比(構成単位1の質量/構成単位4の質量)は、0.4〜99.0が好ましい。   When the structural unit 4 is included, the upper limit of the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 4 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 4) is 99.0, 95.0, 90.0, 85.0 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20 0.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. Examples are 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4 and the like. The range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the structural unit 4 is included, the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 4 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 4) is 0.4 to 99 from the viewpoint of polarity adjustment. 0.0 is preferred.

構成単位4を含む場合、構成単位1と構成単位4とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位4の物質量)の上限は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4等が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位4を含む場合、構成単位1と構成単位4とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位4の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.4〜99.0が好ましい。   When the constitutional unit 4 is included, the upper limit of the molar ratio of the constitutional unit 1 to the constitutional unit 4 (substance amount of constitutional unit 1 / substance amount of constitutional unit 4) is 99.0, 95.0, 90.0, 85 0.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 98.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80. 0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, Examples are 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4 and the like. The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the constitutional unit 4 is included, the molar ratio between the constitutional unit 1 and the constitutional unit 4 (amount of substance of the constitutional unit 1 / amount of substance of the constitutional unit 4) is 0. 4-99.0 is preferred.

構成単位5を含む場合、構成単位1と構成単位5との質量比(構成単位1の質量/構成単位5の質量)の上限は、33.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は32.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.4等が例示される。上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5を含む場合、構成単位1と構成単位5との質量比(構成単位1の質量/構成単位5の質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.4〜33.0が好ましい。   When the structural unit 5 is included, the upper limit of the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 5 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 5) is 33.0, 30.0, 25.0, 20.0. 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5 etc. are exemplified, and the lower limit is 32.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0. , 5.0, 1.0, 0.4 and the like. The range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the structural unit 5 is included, the mass ratio of the structural unit 1 to the structural unit 5 (mass of the structural unit 1 / mass of the structural unit 5) is 0.4 to 33.0 is preferred.

構成単位5を含む場合、構成単位1と構成単位5とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位5の物質量)の上限は、33.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5等が例示され、下限は32.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.4等が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5を含む場合、構成単位1と構成単位5とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位5の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.4〜33.0が好ましい。   When the structural unit 5 is included, the upper limit of the molar ratio between the structural unit 1 and the structural unit 5 (the amount of substance of the structural unit 1 / the amount of substance of the structural unit 5) is 33.0, 30.0, 25.0, 20 0.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 32.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10 0.0, 5.0, 1.0, 0.4 and the like. The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the constitutional unit 5 is included, the molar ratio of the constitutional unit 1 to the constitutional unit 5 (the amount of substance of the constitutional unit 1 / the amount of substance of the constitutional unit 5) is 0. 4-33.0 is preferred.

構成単位5を含む場合、構成単位2と構成単位5との質量比(構成単位2の質量/構成単位5の質量)の上限は、16.7、16、15、10、5、1、0.5、0.1、0.05が例示され、下限は、16、15、10、5、1、0.5、0.1、0.05、0.02が例示される。上記比率の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5を含む場合、構成単位2と構成単位5との質量比(構成単位2の質量/構成単位5の質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.02〜16.7が好ましい。   When the structural unit 5 is included, the upper limit of the mass ratio between the structural unit 2 and the structural unit 5 (mass of the structural unit 2 / mass of the structural unit 5) is 16.7, 16, 15, 10, 5, 1, 0 .5, 0.1, 0.05 are exemplified, and the lower limit is exemplified by 16, 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.05, 0.02. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, when the structural unit 5 is included, the mass ratio between the structural unit 2 and the structural unit 5 (mass of the structural unit 2 / mass of the structural unit 5) is 0.02 to 0.02 from the viewpoint of gelation suppression. 16.7 is preferred.

構成単位5を含む場合、構成単位2と構成単位5とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位5の物質量)の上限は、16.7、16、15、10、5、1、0.5、0.1、0.05が例示され、下限は、16、15、10、5、1、0.5、0.1、0.05、0.02が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5を含む場合、構成単位2と構成単位5とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位5の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.02〜16.7が好ましい。   When the structural unit 5 is included, the upper limit of the molar ratio between the structural unit 2 and the structural unit 5 (substance amount of the structural unit 2 / substance amount of the structural unit 5) is 16.7, 16, 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.05 are exemplified, and the lower limit is exemplified by 16, 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.05, 0.02. The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, when the structural unit 5 is included, the molar ratio of the structural unit 2 to the structural unit 5 (amount of substance of the structural unit 2 / amount of substance of the structural unit 5) is 0. 02 to 16.7 are preferable.

構成単位2と単官能性モノマーに由来する構成単位(構成単位1、3、4等)との質量比(構成単位2の質量/単官能性モノマーに由来する構成単位の質量)の上限は、1.00、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05等が例示され、下限は、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05、0.01等が例示される。上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位2と単官能性モノマーに由来する構成単位(構成単位1、3、4等)との質量比(構成単位2の質量/単官能性モノマーに由来する構成単位の質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.01〜1.00が好ましい。   The upper limit of the mass ratio (the mass of the structural unit 2 / the mass of the structural unit derived from the monofunctional monomer) between the structural unit 2 and the structural unit derived from the monofunctional monomer (structural units 1, 3, 4, etc.) 1.00, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, etc. are exemplified, and the lower limit is 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, 0.01 and the like. The range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the structural unit 2 and the structural unit derived from the monofunctional monomer (structural units 1, 3, 4, etc.) (mass of the structural unit 2 / the structural unit derived from the monofunctional monomer) The mass) is preferably 0.01 to 1.00 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と単官能性モノマーに由来する構成単位(構成単位1、3、4等)とのモル比(構成単位2の物質量/単官能性モノマーに由来する構成単位の物質量)の上限は、1.00、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05等が例示され、下限は、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05、0.01等が例示される。上記モル比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位2と単官能性モノマーに由来する構成単位とのモル比(構成単位1の物質量/単官能性モノマーに由来する構成単位の物質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.01〜1.00が好ましい。   Upper limit of molar ratio of constituent unit 2 and constituent unit derived from monofunctional monomer (constituent units 1, 3, 4, etc.) (substance amount of constituent unit 2 / substance amount of constituent unit derived from monofunctional monomer) Is exemplified by 1.00, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, etc. The lower limit is exemplified by 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, 0.01, etc. The The range of the molar ratio can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio between the structural unit 2 and the structural unit derived from the monofunctional monomer (the amount of the structural unit 1 / the amount of the structural unit derived from the monofunctional monomer) From the viewpoint, 0.01 to 1.00 is preferable.

(樹脂の変性)
上記樹脂は変性させることができる。変性は、樹脂に含まれるカルボキシル基又は水酸基に対し、エポキシドのみ、又はエポキシドと無水カルボン酸とを反応させる変性等が例示される。
(Modification of resin)
The resin can be modified. Examples of the modification include a modification in which only an epoxide or an epoxide and a carboxylic anhydride are reacted with a carboxyl group or a hydroxyl group contained in the resin.

上記樹脂に含まれるカルボキシル基に対し、エポキシドのみ、又はエポキシドと無水カルボン酸とを反応させる変性によって生じる構成単位は、
[式中、Ra1−1は水素原子又はアルキル基であり、Ra1−2は、
{式中、a1は1以上の整数であり、b1は0以上の整数であり、Ra1−aは水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のアリールオキシ基であり、Ra1−bは置換若しくは非置換のアリーレン基、置換若しくは非置換のアルキレン基、又は置換若しくは非置換のアルケニレン基である。}
である。]
等が例示される。
For the carboxyl group contained in the resin, the structural unit produced by modification of reacting epoxide alone or epoxide with carboxylic anhydride,
[Wherein, R a1-1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R a1-2 represents
{Wherein, a1 is an integer of 1 or more, b1 is an integer of 0 or more, and R a1-a is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or non-substituted group. R a1-b is a substituted aryloxy group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group. }
It is. ]
Etc. are exemplified.

上記樹脂に含まれる水酸基に対し、エポキシドのみ、又はエポキシドと無水カルボン酸とを反応させる変性によって生じる構成単位は、変性前の樹脂に含まれる構成単位
[式中、Ra2−1’は水素原子又はアルキル基であり、Ra2−2’は、アルキレン基である]
に対し、エポキシドのみ、又はエポキシドと無水カルボン酸とを反応させることにより生じる、
[式中、Ra2−1は水素原子又はアルキル基であり、Ra2−2は、アルキレン基であり、Ra2−3は、
{式中、a2は1以上の整数であり、b2は0以上の整数であり、Ra2−aは水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のアリールオキシ基であり、Ra2−bは置換若しくは非置換のアリーレン基、置換若しくは非置換のアルキレン基、又は置換若しくは非置換のアルケニレン基である。}
である。]
等が例示される。
The structural unit produced by modification of reacting epoxide alone or epoxide and carboxylic anhydride with respect to the hydroxyl group contained in the resin is a structural unit contained in the resin before modification.
[Wherein, R a2-1 ′ is a hydrogen atom or an alkyl group, and R a2-2 ′ is an alkylene group]
On the other hand, it is produced by reacting epoxide alone or epoxide with carboxylic anhydride,
[Wherein, R a2-1 is a hydrogen atom or an alkyl group, R a2-2 is an alkylene group, and R a2-3 is
{Wherein a2 is an integer of 1 or more, b2 is an integer of 0 or more, and R a2-a is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or non-substituted group. A substituted aryloxy group, and R a2-b is a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group. }
It is. ]
Etc. are exemplified.

(エポキシド)
エポキシドは2種以上を併用できる。エポキシドは、重合性二重結合非含有芳香族エポキシド、重合性二重結合含有芳香族エポキシド等が例示される。
(Epoxide)
Two or more epoxides can be used in combination. Examples of the epoxide include a polymerizable double bond-free aromatic epoxide, a polymerizable double bond-containing aromatic epoxide, and the like.

(重合性二重結合非含有芳香族エポキシド)
重合性二重結合非含有芳香族エポキシドは、芳香環含有モノグリシジルエーテル、芳香族含有ジグリシジルエーテル、ビスフェノール型エポキシ樹脂等が例示される。
芳香環含有モノグリシジルエーテルは、フェニルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド等が例示される。
芳香族含有ジグリシジルエーテルは、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル等が例示される。
ビスフェノール型エポキシ樹脂は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が例示される。これらの中でも得られる樹脂と後述の反応性希釈剤との相溶性や、本発明のインキの硬化性、及び光沢等の観点から芳香族環含有モノグリシジルエーテルが好ましく、フェニルグリシジルエーテルが特に好ましい。
(Polymerizable double bond-free aromatic epoxide)
Examples of the polymerizable double bond-free aromatic epoxide include aromatic ring-containing monoglycidyl ether, aromatic-containing diglycidyl ether, and bisphenol type epoxy resin.
Examples of aromatic ring-containing monoglycidyl ethers include phenyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, and styrene oxide.
Examples of the aromatic-containing diglycidyl ether include resorcinol diglycidyl ether and hydroquinone diglycidyl ether.
Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Among these, an aromatic ring-containing monoglycidyl ether is preferable, and phenyl glycidyl ether is particularly preferable from the viewpoints of compatibility between the obtained resin and a reactive diluent described later, curability of the ink of the present invention, and gloss.

(重合性二重結合含有エポキシド)
重合性二重結合含有エポキシドは、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、ロジングリシジルエステル等が例示される。
(Polymerizable double bond-containing epoxide)
Examples of the polymerizable double bond-containing epoxide include allyl glycidyl ether, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and rosin glycidyl ester.

(重合性二重結合非含有芳香族エポキシドでも重合性二重結合含有エポキシドでもないエポキシド)
変性の際には、上記重合性二重結合非含有芳香族エポキシド、重合性二重結合含有エポキシド以外のエポキシドを使用してもよい。重合性二重結合非含有芳香族エポキシドでも重合性二重結合含有エポキシドでもないエポキシドは、グリシジルトリエチルエーテル、ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、ネオデカン酸グリシジルエステル等の脂肪族エポキシド;
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル等のジエポキシド;
ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、エポキシ化大豆油等のポリエポキシド等が例示される。これらの中でも、得られる樹脂と後述の反応性希釈剤との相溶性、本発明のインキの硬化性、光沢等の観点から特にエポキシ化大豆油が好ましい。
(Epoxides that are neither a polymerizable double bond-containing aromatic epoxide nor a polymerizable double bond-containing epoxide)
In the modification, an epoxide other than the polymerizable double bond-containing aromatic epoxide and the polymerizable double bond-containing epoxide may be used. Epoxides that are neither a polymerizable double bond-containing aromatic epoxide nor a polymerizable double bond-containing epoxide are aliphatic epoxides such as glycidyl triethyl ether, butylene oxide, cyclohexene oxide, neodecanoic acid glycidyl ester;
Diepoxides such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether and butanediol diglycidyl ether;
Examples include sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, and polyepoxides such as epoxidized soybean oil. Among these, epoxidized soybean oil is particularly preferable from the viewpoints of compatibility between the obtained resin and a reactive diluent described later, curability of the ink of the present invention, gloss, and the like.

重合性二重結合非含有芳香族エポキシドと、重合性二重結合含有エポキシド及び/又は重合性二重結合非含有芳香族エポキシドでも重合性二重結合含有エポキシドでもないエポキシドとを併用する場合、それらの使用比率は特に限定されないが、モル比[重合性二重結合非含有芳香族エポキシド/{重合性二重結合含有エポキシド及び/又は重合性二重結合非含有芳香族エポキシドでも重合性二重結合含有エポキシドでもないエポキシド}]で1/9〜9/1程度が好ましい。   When a polymerizable double bond-free aromatic epoxide is used in combination with a polymerizable double bond-containing epoxide and / or an epoxide that is neither a polymerizable double bond-free aromatic epoxide nor a polymerizable double bond-containing epoxide Is not particularly limited, but the molar ratio [polymerizable double bond-free aromatic epoxide / {polymerizable double bond-containing epoxide and / or polymerizable double bond-free aromatic epoxide is polymerizable double bond The epoxide which is not a contained epoxide}] is preferably about 1/9 to 9/1.

エポキシドの使用量は特に限定されないが、反応性希釈剤との相溶性や、インキの硬化性等の観点より、樹脂100質量部に対し、エポキシドの使用量は10〜200質量部程度が好ましく、10〜150質量部程度がより好ましい。   The amount of epoxide used is not particularly limited, but the amount of epoxide used is preferably about 10 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of resin from the viewpoint of compatibility with reactive diluents, ink curability, and the like. About 10-150 mass parts is more preferable.

(カルボン酸無水物)
カルボン酸無水物は、2種以上を併用できる。カルボン酸無水物は、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水マレイン酸、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物及びベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族カルボン酸無水物;
ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の脂環族カルボン酸無水物;
無水グルタル酸、無水ピロメリット酸、無水アジピン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸及びブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族カルボン酸無水物;
上記酸無水物を原料とする重合体(無水マレイン酸単独重合体、無水マレイン酸−酢酸ビニル重合体、無水マレイン酸−スチレン重合体、無水マレイン酸−アクリロニトリル重合体等)等が例示される。
これらの中でも、得られる樹脂と後述の反応性希釈剤との相溶性や硬化性等の観点より前記芳香族カルボン酸無水物が、特に無水フタル酸が好ましい。
(Carboxylic anhydride)
Two or more carboxylic acid anhydrides can be used in combination. Carboxylic anhydrides are aromatic carboxylic anhydrides such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride and benzophenone tetracarboxylic dianhydride. object;
Alicyclic carboxylic anhydrides such as hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride;
Aliphatic carboxylic anhydrides such as glutaric anhydride, pyromellitic anhydride, adipic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride and butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride;
Examples include polymers made from the above acid anhydrides (maleic anhydride homopolymer, maleic anhydride-vinyl acetate polymer, maleic anhydride-styrene polymer, maleic anhydride-acrylonitrile polymer, etc.) and the like.
Among these, the aromatic carboxylic acid anhydride is preferable, and phthalic anhydride is particularly preferable from the viewpoint of compatibility between the obtained resin and a reactive diluent described later, curability, and the like.

カルボン酸無水物を使用する場合、カルボン酸無水物の使用量は特に限定されないが、反応性希釈剤との相溶性や、インキの硬化性等の観点より樹脂100質量部に対し、カルボン酸無水物の使用量は10〜200質量部程度が好ましく、10〜150質量部程度がより好ましい。   When the carboxylic acid anhydride is used, the amount of the carboxylic acid anhydride is not particularly limited, but the carboxylic acid anhydride is used with respect to 100 parts by mass of the resin from the viewpoints of compatibility with the reactive diluent and ink curability. The amount of the product used is preferably about 10 to 200 parts by weight, more preferably about 10 to 150 parts by weight.

変性の際、樹脂、エポキシド及びカルボン酸無水物を反応させる順番や反応条件は特に限定されない。具体的には[1]全成分をワンポットで反応させる方法、[2]樹脂の存在下、カルボン酸無水物を反応させた後、更にエポキシド及びカルボン酸無水物を反応させる方法が例示される。また、反応条件は、例えば温度が100〜210℃程度、反応時間が30分〜8時間程度である。また、各成分の反応途中又は反応終了後に反応系を減圧し、残留モノマーを除いても良い。   At the time of modification, the order of reacting the resin, epoxide and carboxylic anhydride and the reaction conditions are not particularly limited. Specifically, [1] a method of reacting all components in one pot, and [2] a method of reacting a carboxylic acid anhydride in the presence of a resin and further reacting an epoxide and a carboxylic acid anhydride are exemplified. The reaction conditions are, for example, a temperature of about 100 to 210 ° C. and a reaction time of about 30 minutes to 8 hours. In addition, the reaction system may be decompressed during or after the reaction of each component to remove residual monomers.

また、前記変性には、各種公知の触媒下で行われ得る。触媒は2種以上を併用できる。触媒は、トリフェニルホスフィン、2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、ジフェニルアミン、ジアザビシクロウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酸化亜鉛及びオクチル酸亜鉛等が例示される。触媒の使用量は特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して0.01〜5質量部程度が好ましく、0.10〜2質量部程度がより好ましい。   The modification can be performed under various known catalysts. Two or more catalysts can be used in combination. Catalysts are triphenylphosphine, 2-methylimidazole, 1-methylimidazole, triethylamine, diphenylamine, diazabicycloundecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate Zinc oxide and zinc octylate are exemplified. Although the usage-amount of a catalyst is not specifically limited, About 0.01-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, and about 0.10-2 mass parts is more preferable.

<本発明の樹脂の物性等>
分子量分布(Mw/Mn)は、例えば重量平均分子量及び数平均分子量を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により適切な溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求め、求めた分子量の値から計算するという手順により導出される。
<Physical properties of the resin of the present invention>
The molecular weight distribution (Mw / Mn) is obtained, for example, by calculating the weight average molecular weight and the number average molecular weight as polystyrene conversion values measured under an appropriate solvent by gel permeation chromatography (GPC) and calculating from the obtained molecular weight values. Derived by the procedure.

本開示における樹脂の分子量分布(Mw/Mn)の上限は、55、50、45、40、35、32、30、25、20、19、18.3、15、14.3、10、5、4.5、4.2、4.1、3.8、3.3、3.2、2等が例示され、下限は、54、50、45、40、35、32、30、25、20、19、18.3、15、14.3、10、5、4.5、4.2、4.1、3.8、3.3、3.2、3、2、1.5等が例示される。上記分子量分布(Mw/Mn)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、1.5〜55が好ましい。   The upper limit of the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resin in the present disclosure is 55, 50, 45, 40, 35, 32, 30, 25, 20, 19, 18.3, 15, 14.3, 10, 5, 4.5, 4.2, 4.1, 3.8, 3.3, 3.2, 2 etc. are exemplified, and the lower limit is 54, 50, 45, 40, 35, 32, 30, 25, 20 19, 18.3, 15, 14.3, 10, 5, 4.5, 4.2, 4.1, 3.8, 3.3, 3.2, 3, 2, 1.5, etc. Illustrated. The range of the molecular weight distribution (Mw / Mn) can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, 1.5 to 55 is preferred.

本開示における樹脂の重量平均分子量(Mw)の上限は、500,000、450,000、400,000、350,000、300,000、250,000、200,000、150,000、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、32,000、30,000、27,000、20,000、15,000、13,000、11,000、10,000、9,000、8,000、7,000、6,000、5,500等が例示され、下限は、490,000、450,000、400,000、350,000、300,000、250,000、200,000、150,000、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、32,000、30,000、27,000、20,000、15,000、13,000、11,000、10,000、9,000、8,000、7,000、6,000、5,500、5,000、4,500、4,000等が例示される。上記重量平均分子量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、上記樹脂の重量平均分子量は、4,000〜500,000が好ましい。   The upper limit of the weight average molecular weight (Mw) of the resin in the present disclosure is 500,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, 200,000, 150,000, 100,000. 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 32,000, 30,000, 27,000, 20,000, 15,000, 13,000, 11 , 10,000, 9,000, 8,000, 7,000, 6,000, 5,500, etc., and the lower limit is 490,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, 200,000, 150,000, 100,000, 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 32,000, 30,000 000 27,000, 20,000, 15,000, 13,000, 11,000, 10,000, 9,000, 8,000, 7,000, 6,000, 5,500, 5,000, 4, 500, 4,000, etc. are exemplified. The range of the weight average molecular weight can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the weight average molecular weight of the resin is preferably 4,000 to 500,000.

本開示における樹脂の数平均分子量(Mn)の上限は、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、30,000、20,000、15,000、10,000、5,000、4,000、3,000、2,000、1,000、900等が例示され、下限は100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、30,000、20,000、19,000、15,000、10,000、5,000、4,000、3,000、2,000、1,000、900、800等が例示される。上記数平均分子量(Mn)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、上記樹脂の数平均分子量は、800〜100,000が好ましい。   The upper limit of the number average molecular weight (Mn) of the resin in the present disclosure is 100,000, 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 30,000, 20,000. 15,000, 10,000, 5,000, 4,000, 3,000, 2,000, 1,000, 900, etc., and the lower limit is 100,000, 90,000, 80,000, 70, etc. , 60,000, 50,000, 40,000, 30,000, 20,000, 19,000, 15,000, 10,000, 5,000, 4,000, 3,000, 2,000 , 1,000, 900, 800 and the like. The range of the number average molecular weight (Mn) can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the number average molecular weight of the resin is preferably 800 to 100,000.

本開示における樹脂の水酸基価の上限は、483、480、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、5、1mgKOH/g等が例示され、下限は、480、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、5、1、0mgKOH/g等が例示される。上記水酸基価の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の水酸基価は、0〜483mgKOH/gが好ましい。樹脂の水酸基価は、試料にアセチル化試薬を加え加熱し、放冷後,指示薬として,フェノールフタレイン溶液を加え,水酸化カリウムエタノール溶液で滴定して測定され得る。   Examples of the upper limit of the hydroxyl value of the resin in the present disclosure include 483, 480, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 5, 1 mg KOH / g, and the lower limit is 480, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 5, 1, 0 mg KOH / g and the like are exemplified. The range of the hydroxyl value can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the hydroxyl value of the resin is preferably 0 to 483 mgKOH / g. The hydroxyl value of the resin can be measured by adding an acetylating reagent to the sample, heating, allowing to cool, adding a phenolphthalein solution as an indicator, and titrating with a potassium hydroxide ethanol solution.

本開示における樹脂の酸価の上限は、799、750、700、650、600、550、500、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、1mgKOH/g等が例示され、下限は790、750、700、650、600、550、500、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、1、0mgKOH/g等が例示される。上記酸価の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の酸価は、0〜799mgKOH/gが好ましい。樹脂の酸価は、試料を水又はアセトン又はトルエン/エタノール=20/80(容積比)混合溶液に溶解させ、指示薬としてフェノールフタレイン指示薬を加え、水酸化カリウムの水又はエタノール溶液で滴定して測定され得る。   The upper limit of the acid value of the resin in the present disclosure is 799, 750, 700, 650, 600, 550, 500, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 1 mgKOH / g, etc. The lower limit is exemplified by 790, 750, 700, 650, 600, 550, 500, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 1, 0 mg KOH / g, and the like. The range of the acid value can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the acid value of the resin is preferably 0 to 799 mgKOH / g. The acid value of the resin is determined by dissolving the sample in water or acetone or toluene / ethanol = 20/80 (volume ratio) mixed solution, adding phenolphthalein indicator as an indicator, and titrating with water or ethanol solution of potassium hydroxide. Can be measured.

本開示における樹脂の軟化点の上限は、150、140、130、120、110、100、90、80℃等が例示され、下限は140、130、120、110、100、90、80、75℃等が例示される。上記軟化点の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の軟化点は、75〜150℃が好ましい。樹脂の軟化点は、自動軟化点測定装置(EX−719PD、SIENTIFIC製)により測定され得る。   The upper limit of the softening point of the resin in the present disclosure is exemplified by 150, 140, 130, 120, 110, 100, 90, 80 ° C., and the lower limit is 140, 130, 120, 110, 100, 90, 80, 75 ° C. Etc. are exemplified. The range of the softening point can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, the softening point of the resin is preferably 75 to 150 ° C. The softening point of the resin can be measured by an automatic softening point measuring device (EX-719PD, manufactured by SIENTIFIC).

本開示における樹脂の絶対分子量(M)50,000に対する固有粘度(η)の上限は、0.20、0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02等が例示され、下限は0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02、0.01等が例示される。上記固有粘度(η)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の絶対分子量(M)50,000に対する固有粘度(η)は、0.01〜0.20が好ましい。樹脂の絶対分子量(M)50,000に対する固有粘度(η)は、トリプル検出GPC(ViscoteK TDA305,Malvern製)により測定され得る。   In the present disclosure, the upper limit of the intrinsic viscosity (η) with respect to the absolute molecular weight (M) of 50,000 of the resin is 0.20, 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14. 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0.02 etc. The lower limit is 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14, 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0.02, 0.01, etc. are exemplified. The range of the intrinsic viscosity (η) can be appropriately set (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, the intrinsic viscosity (η) with respect to the absolute molecular weight (M) of 50,000 of the resin is preferably 0.01 to 0.20. The intrinsic viscosity (η) for an absolute molecular weight (M) of 50,000 of the resin can be measured by triple detection GPC (Viscote K TDA305, produced by Malvern).

本開示における樹脂のガラス転移温度(Tg)の上限は、230、200、150、100、50、0、−50、−70℃等が例示され、下限は225、200、150、100、50、0、−50、−80℃等が例示される。上記ガラス転移温度(Tg)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂のガラス転移温度は、−80〜230℃が好ましい。樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量測定により測定され得る。   The upper limit of the glass transition temperature (Tg) of the resin in the present disclosure is exemplified by 230, 200, 150, 100, 50, 0, −50, −70 ° C., and the lower limit is 225, 200, 150, 100, 50, Examples are 0, −50, −80 ° C. and the like. The range of the glass transition temperature (Tg) can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, the glass transition temperature of the resin is preferably -80 to 230 ° C. The glass transition temperature of the resin can be measured by differential scanning calorimetry.

1つの実施形態において、本発明の樹脂は、好ましくはインキ用樹脂、より好ましくはオフセット印刷インキ用樹脂として用いられる。オフセット印刷はローラーからローラーへインキを転写させながら使用するものである。そしてインキジェット印刷はタンクからインキを吸って、細いノズルから噴射させて行う印刷手法である。そのため、オフセット印刷に用いられる樹脂とインキジェット印刷に用いられる樹脂とでは、求められる物性(粘度等)が異なることは周知の事実である。   In one embodiment, the resin of the present invention is preferably used as an ink resin, more preferably as an offset printing ink resin. Offset printing is used while transferring ink from roller to roller. Ink jet printing is a printing technique in which ink is sucked from a tank and ejected from a thin nozzle. For this reason, it is a well-known fact that the required physical properties (viscosity, etc.) differ between the resin used for offset printing and the resin used for ink jet printing.

[2.樹脂の製造方法]
(メタ)アクリル酸エステル等の単官能モノマー及び、(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性)(メタ)アクリレート又はアルキレンジ(アルキレンオキサイド変性)(メタ)アクリレート等の多官能モノマーを含むモノマーを、適切なモノマー濃度で、適切な量の重合開始剤存在下、適切な反応温度で重合させる工程を含む、製造方法により、ゲル化しない、すなわち分子量分布(Mw/Mn)が狭い樹脂が製造される。
[2. Resin production method]
Monofunctional monomers such as (meth) acrylic acid esters, (poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide modified) (meth) acrylate, (poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide modified) (meth) acrylate, (poly) glycerin A monomer containing a polyfunctional monomer such as poly (alkylene oxide-modified) (meth) acrylate or alkylenedi (alkylene oxide-modified) (meth) acrylate is used at an appropriate monomer concentration and in the presence of an appropriate amount of a polymerization initiator. By the production method including the step of polymerizing at the reaction temperature, a resin that does not gel, that is, has a narrow molecular weight distribution (Mw / Mn) is produced.

1つの実施形態において、重合開始剤は、ラジカル重合開始剤である。ラジカル重合開始剤はアゾ開始剤、過酸化物開始剤等が例示される。   In one embodiment, the polymerization initiator is a radical polymerization initiator. Examples of the radical polymerization initiator include azo initiators and peroxide initiators.

本開示において、「過酸化物開始剤」とは有機過酸化物、すなわち分子内にペルオキシ基(−O−O−)を有する化合物である。過酸化物開始剤は、(2−エチルヘキサノイル)(tert−ブチル)ペルオキシド、過酸化ベンゾイル、ジ−tert−ブチルペルオキシド、ジメチルジオキシラン、過酸化アセトン、メチルエチルケトンペルオキシド、ヘキサメチレントリペルオキシドジアミン、クメンヒドロペルオキシド、tert−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノエイト等が例示される。   In the present disclosure, the “peroxide initiator” is an organic peroxide, that is, a compound having a peroxy group (—O—O—) in the molecule. Peroxide initiators include (2-ethylhexanoyl) (tert-butyl) peroxide, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, dimethyldioxirane, acetone peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, hexamethylene triperoxide diamine, cumene. Examples include hydroperoxide, tert-hexylperoxy-2-ethylhexanoate and the like.

1つの実施形態において、アルケニルアリールをモノマーとして用いる。   In one embodiment, alkenyl aryl is used as the monomer.

1つの実施形態において、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキルアミンアルキル(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル等の極性基含有単官能モノマーをモノマーとして用いる。   In one embodiment, a polar group-containing monofunctional monomer such as N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-dialkylamine alkyl (meth) acrylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate is used as a monomer.

上記製造方法において、使用されるモノマー、重合開始剤等の具体例、製造される樹脂の分子量分布(Mw/Mn)の範囲等は、(1.樹脂)の項目に記載のものに準じる。   In the above production method, specific examples of the monomer and polymerization initiator used, the range of the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the produced resin, and the like are the same as those described in (1. Resin).

上記製造方法におけるモノマー濃度の上限は、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11質量%等が例示され、下限は、69、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11、10質量%等が例示される。上記製造方法におけるモノマー濃度の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、モノマー濃度は、10〜70質量%が好ましい。なお、本開示において「モノマー濃度」とはモノマーの質量/(溶媒の質量+モノマーの質量)により計算される濃度である。   The upper limit of the monomer concentration in the above production method is exemplified by 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11% by mass, and the lower limit is 69, 65, 60. 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11, 10% by mass, and the like. The range of the monomer concentration in the above production method can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the monomer concentration is preferably 10 to 70% by mass. In the present disclosure, “monomer concentration” is a concentration calculated by the mass of monomer / (mass of solvent + mass of monomer).

上記製造方法における重合開始剤量の上限は、モノマー全量(100質量%)に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、6、5.1、5、4質量%等が例示され、下限はモノマー100質量%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、6、5.1、5、4、3質量%等が例示される。上記製造方法における重合開始剤量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、重合開始剤量は、モノマー100質量%に対して3〜50質量%が好ましい。   The upper limit of the amount of polymerization initiator in the above production method is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 6, 5.1, 5, 4 mass with respect to the total amount of monomer (100 mass%). The lower limit is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 6, 5.1, 5, 4, 3 mass%, etc. with respect to 100 mass% of the monomer. The The range of the polymerization initiator amount in the production method can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, 3-50 mass% is preferable with respect to 100 mass% of monomers for the amount of polymerization initiators.

上記製造方法における反応温度の上限は、200、190、180、170、160、150、140、130、121、120、110、100、90、85℃等が例示され、下限は、195、190、180、170、160、150、140、130、121、120、110、100、90、85、80、70℃が例示される。上記製造方法における反応温度の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、反応温度は、70〜200℃が好ましい。   The upper limit of the reaction temperature in the above production method is exemplified by 200, 190, 180, 170, 160, 150, 140, 130, 121, 120, 110, 100, 90, 85 ° C., etc. The lower limit is 195, 190, Examples include 180, 170, 160, 150, 140, 130, 121, 120, 110, 100, 90, 85, 80, and 70 ° C. The range of the reaction temperature in the above production method can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the reaction temperature is preferably 70 to 200 ° C.

上記製造方法において、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量の上限は、モノマー全量(100質量%)に対し、99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21質量%等が例示され、下限は98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20質量%等が例示される。上記使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量は、モノマー全量(100質量%)に対し、20〜99質量%が好ましい。   In the said manufacturing method, the upper limit of the usage-amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid is 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65 with respect to monomer whole quantity (100 mass%). 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21% by mass, etc. are exemplified, and the lower limit is 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20% by mass and the like are exemplified. The range of the amount used can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the use amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid is preferably 20 to 99% by mass with respect to the total amount of monomer (100% by mass).

上記製造方法において、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量の上限は、モノマー全量(100モル%)に対し、99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21モル%等が例示され、下限は98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20モル%等が例示される。上記使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量は、モノマー全量(100モル%)に対し、20〜99モル%が好ましい。   In the said manufacturing method, the upper limit of the usage-amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid is 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65 with respect to monomer whole quantity (100 mol%). 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21 mol% and the like are exemplified, and the lower limit is 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20 mol% and the like are exemplified. The range of the amount used can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the use amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid is preferably 20 to 99 mol% with respect to the total amount of monomers (100 mol%).

上記製造方法において、多官能モノマーの使用量の上限は、モノマー全量(100質量%)に対し、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5質量%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、1質量%等が例示される。上記製造方法において、多官能モノマーの使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、多官能モノマーの使用量は、モノマー全量(100質量%)に対し、1〜50質量%が例示される。   In the said manufacturing method, the upper limit of the usage-amount of a polyfunctional monomer is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5 mass% etc. with respect to monomer whole quantity (100 mass%). The lower limit is 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1% by mass, or the like. In the above production method, the range of the amount of the polyfunctional monomer used can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of gelation suppression, the usage amount of the polyfunctional monomer is exemplified by 1 to 50% by mass with respect to the total amount of the monomer (100% by mass).

上記製造方法において、多官能モノマーの使用量の上限は、モノマー全量(100モル%)に対し、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5モル%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、1モル%等が例示される。上記製造方法において、多官能モノマーの使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、多官能モノマーの使用量は、モノマー全量(100モル%)に対し、1〜50モル%が例示される。   In the above production method, the upper limit of the usage amount of the polyfunctional monomer is exemplified by 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5 mol%, etc. with respect to the total amount of the monomer (100 mol%). The lower limit is exemplified by 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1 mol%, and the like. In the above production method, the range of the amount of the polyfunctional monomer used can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, 1-50 mol% is illustrated with respect to the monomer whole quantity (100 mol%) from the viewpoint of gelatinization suppression, and the usage-amount of a polyfunctional monomer is illustrated.

上記製造方法において、アルケニルアリールの使用量の上限は、モノマー全量(100質量%)に対し、79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5質量%等が例示され、下限は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、1質量%等が例示される。上記製造方法において、アルケニルアリールの使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、アルケニルアリールの使用量は、モノマー全量(100質量%)に対し、1〜79質量%が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the amount of alkenyl aryl used is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, with respect to the total amount of the monomer (100% by mass). 15, 10, 5% by mass and the like are exemplified, and the lower limit is 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1% by mass. Etc. are exemplified. In the above production method, the range of the amount of alkenyl aryl used can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the amount of alkenyl aryl used is preferably 1 to 79% by mass relative to the total amount of monomers (100% by mass).

上記製造方法において、アルケニルアリールの使用量の上限は、モノマー全量(100モル%)に対し、79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5モル%等が例示され、下限は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、1モル%等が例示される。上記製造方法において、アルケニルアリールの使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、アルケニルアリールの使用量は、モノマー全量(100モル%)に対し、1〜79モル%が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the amount of alkenyl aryl used is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, with respect to the total amount of monomers (100 mol%). 15, 10, 5 mol% and the like are exemplified, and the lower limit is 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1 mol%. Etc. are exemplified. In the above production method, the range of the amount of alkenyl aryl used can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the amount of alkenyl aryl used is preferably 1 to 79 mol% with respect to the total amount of monomers (100 mol%).

上記製造方法において、極性基含有単官能モノマーの使用量の上限は、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が例示され、下限は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1質量%等が例示される。上記製造方法において、極性基含有単官能モノマーの使用量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、極性基含有単官能モノマーの使用量は、モノマー全量に対し、1〜50質量%が好ましい。   In the said manufacturing method, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mass% etc. are illustrated for the upper limit of the usage-amount of a polar group containing monofunctional monomer, and a minimum is 49 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass, and the like. In the said manufacturing method, the range of the usage-amount of a polar group containing monofunctional monomer can be set suitably (for example, selecting from the value of the said upper limit and minimum). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the usage amount of the polar group-containing monofunctional monomer is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total amount of monomers.

上記製造方法において、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量と多官能モノマーの使用量との質量比(重合に使用する(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の質量/重合に使用する多官能モノマーの質量)の上限は、99.0、90、80、70、60、50、40、30、20、10、5、1、0.5等が例示され、下限は95、90、80、70、60、50、40、30、20、10、5、1、0.5、0.4等が例示される。上記製造方法において、上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の使用量と多官能モノマーの使用量との質量比(重合に使用する(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリル酸の質量/重合に使用する多官能モノマーの質量)は、0.4〜99.0が好ましい。   In the above production method, the mass ratio of the amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid used to the amount of polyfunctional monomer (the mass of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid used for polymerization) / 9, 90, 80, 70, 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5, 1, 0.5, etc. are exemplified as the upper limit of / mass of the polyfunctional monomer used for polymerization) 95, 90, 80, 70, 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5, 1, 0.5, 0.4, and the like. In the manufacturing method, the range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of gelation suppression, the mass ratio of the amount of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid to the amount of polyfunctional monomer used ((meth) acrylic acid ester used for polymerization) Further, the mass of (meth) acrylic acid / mass of polyfunctional monomer used for polymerization is preferably 0.4 to 99.0.

上記製造方法において、アクリル酸エステルの使用量とアルケニルアリールの使用量との比(重合に使用するアクリル酸エステルの質量/重合に使用するアルケニルアリールの質量)の上限は、9.90、9、8、7、6、5、4、3、2、1、0.5等が例示され、下限は、9.50、9、8、7、6、5、4、3、2、1、0.5、0.33等が例示される。上記製造方法において、上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、アクリル酸エステルの使用量とアルケニルアリールの使用量との比(重合に使用するアクリル酸エステルの質量/重合に使用するアルケニルアリールの質量)は、0.33〜9.90が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the ratio of the amount of acrylate ester used to the amount of alkenyl aryl (mass of acrylate ester used for polymerization / mass of alkenyl aryl used for polymerization) is 9.90, 9, 8, 7, 6, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 9.50, 9, 8, 7, 6, 5, 4, 3, 2, 1, 0 .5, 0.33, etc. In the manufacturing method, the range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the ratio of the amount of acrylate ester used to the amount of alkenyl aryl used (mass of acrylate ester used for polymerization / mass of alkenyl aryl used for polymerization) is 0. .33 to 9.90 are preferred.

上記製造方法において、アクリル酸エステルの使用量と極性基含有単官能モノマーの使用量との比(重合に使用するアクリル酸エステルの質量/重合に使用する極性基含有単官能モノマーの質量)の上限は、1.0、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5等が例示され、下限は0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4等が例示される。上記製造方法において、上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、アクリル酸エステルの使用量と極性基含有単官能モノマーの使用量との比(重合に使用するアクリル酸エステルの質量/重合に使用する極性基含有単官能モノマーの質量)は、0.4〜1.0が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the ratio of the amount of acrylic ester used and the amount of polar group-containing monofunctional monomer (mass of acrylic ester used for polymerization / mass of polar group-containing monofunctional monomer used for polymerization) 1.0, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, etc. are exemplified, and the lower limit is 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0,. 5, 0.4, etc. are exemplified. In the manufacturing method, the range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of polarity adjustment, the ratio of the amount of acrylic ester used to the amount of polar group-containing monofunctional monomer (mass of acrylic ester used for polymerization / polar group-containing single group used for polymerization). The mass of the functional monomer is preferably 0.4 to 1.0.

上記製造方法において、多官能モノマーの使用量と開始剤の使用量との比(重合に使用する多官能モノマーの質量/重合に使用する開始剤の質量)の上限は、16.67、16、15、13、10、5、1、0.5、0.1、0.05等が例示され、下限は、16、15、13、10、5、1、0.5、0.1、0.05、0.02等が例示される。上記製造方法において、上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、多官能モノマーの使用量と開始剤の使用量との比(重合に使用する多官能モノマーの質量/重合に使用する開始剤の質量)は、0.02〜16.67が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the ratio between the amount of the polyfunctional monomer used and the amount of the initiator used (the mass of the polyfunctional monomer used for the polymerization / the mass of the initiator used for the polymerization) is 16.67, 16, 15, 13, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.05, etc. are exemplified, and the lower limit is 16, 15, 13, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0 .05, 0.02, etc. In the manufacturing method, the range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of suppressing gelation, the ratio of the amount of polyfunctional monomer used and the amount of initiator used (mass of polyfunctional monomer used for polymerization / mass of initiator used for polymerization) is: 0.02 to 16.67 is preferable.

上記製造方法において、多官能モノマーの使用量と単官能モノマーの使用量との比(多官能モノマーの質量/単官能モノマーの質量)の上限は、1.00、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05等が例示され、下限は、0.95、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05、0.01等が例示される。上記製造方法において、上記質量比の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、多官能モノマーの使用量と単官能モノマーの使用量との比(多官能モノマーの質量/単官能モノマーの質量)は、ゲル化抑制の観点から、0.01〜1.00が好ましい。   In the above production method, the upper limit of the ratio of the amount of the polyfunctional monomer to the amount of the monofunctional monomer (the mass of the polyfunctional monomer / the mass of the monofunctional monomer) is 1.00, 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, etc. are exemplified, and the lower limit is 0.95, 0.9, 0.8 , 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1, 0.05, 0.01 and the like. In the manufacturing method, the range of the mass ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, the ratio of the usage amount of the polyfunctional monomer and the usage amount of the monofunctional monomer (the mass of the polyfunctional monomer / the mass of the monofunctional monomer) is 0.01 to 1. 00 is preferred.

上記製造方法において用いられる溶媒は特に制限されないが、水、有機溶媒等が例示される。有機溶媒はシクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチル−n−ブチルケトン、ダイアセトンアルコール等のケトン溶媒、ダイアセトンアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール溶媒、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、キシレン、トルエン等の芳香族溶媒、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソペンチル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−プロピル、酢酸−n−ペンチル等の酢酸エステル溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド溶媒等が例示される。   Although the solvent used in the said manufacturing method is not restrict | limited in particular, Water, an organic solvent, etc. are illustrated. The organic solvent is cyclohexanone, methylcyclohexanone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl-n-butyl ketone, ketone solvent such as diacetone alcohol, diacetone alcohol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, isopentyl alcohol, 1-butanol, 2 -Alcohol solvents such as butanol, ether solvents such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether, aromatic solvents such as xylene and toluene, isobutyl acetate, isopropyl acetate, isopentyl acetate, Acetic acid ester solvents such as acetic acid-n-butyl, acetic acid-n-propyl, acetic acid-n-pentyl, and solvents such as N, N-dimethylformamide De solvents and the like.

上記製造方法においては、モノマー、重合開始剤、溶媒以外の添加剤を本発明の効果を損なわない程度に用いることができる。モノマー、重合開始剤、溶媒以外の添加剤は、乳化剤、連鎖移動剤、RAFT試薬、ATRP重合試薬等が例示される。添加剤の使用量は、モノマー100質量部に対して、1〜5質量部、1質量部未満、0.1質量部未満、0.01質量部未満、0.001質量部未満、0.0001質量部未満、0質量部等が例示される。なお添加剤を使用せずとも、本開示に記載の樹脂を製造することができる。   In the said manufacturing method, additives other than a monomer, a polymerization initiator, and a solvent can be used to such an extent that the effect of this invention is not impaired. Examples of additives other than monomers, polymerization initiators and solvents include emulsifiers, chain transfer agents, RAFT reagents, ATRP polymerization reagents, and the like. The additive is used in an amount of 1 to 5 parts by weight, less than 1 part by weight, less than 0.1 part by weight, less than 0.01 part by weight, less than 0.001 part by weight, and 0.0001 to 100 parts by weight of the monomer. Examples are less than part by mass, 0 part by mass, and the like. Note that the resin described in the present disclosure can be manufactured without using an additive.

なお、[1.樹脂]に記載の事項と[2.樹脂の製造方法]に記載の事項は相互に参照することができる。   In addition, [1. Resin] and [2. The items described in [Production method of resin] can be referred to each other.

[3.反応性希釈剤]
反応性希釈剤は、各種公知のものを用いることができ、1種又は2種以上を併用できる。反応性希釈剤は、
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1’〜Rb17 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b18’〜Rb19 ’は、それぞれ独立に
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b20’はアルキレン基であり、
b4’、Rb5’、Rb9’、及びRb13’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
等が例示される。
[3. Reactive diluent]
As the reactive diluent, various known ones can be used, and one kind or two or more kinds can be used in combination. Reactive diluent is
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 ′ to R b17 ′ are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a group different for each unit. }
And
R b18 ′ to R b19 ′ are each independently
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
And
R b20 ′ is an alkylene group,
R b4 ′ , R b5 ′ , R b9 ′ , and R b13 ′ may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A ) to (D )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
Etc. are exemplified.

なお、上記一般式(A)〜(E)により表わされた反応性希釈剤は、[1.樹脂]の<構成単位2>の項目において記載した、一般式(A)〜(E)により表わされた多官能性モノマーと同じものである。 The reactive diluents represented by the above general formulas (A ) to (E ) are [1. Resin] is the same as the polyfunctional monomer represented by the general formulas (A ) to (E ) described in <Constitutional unit 2>.

[4.ワニス組成物]
ワニス組成物中の樹脂の含有量の上限は、ワニス組成物の合計質量に対して、60、59、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11質量%等が例示され、下限は、59、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11、10質量%等が例示される。ワニス組成物中の樹脂の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、ワニス組成物中の樹脂の含有量は、ワニス組成物の合計質量に対して、10〜60質量%が好ましい。
[4. Varnish composition]
The upper limit of the content of the resin in the varnish composition is 60, 59, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11% by mass or the like with respect to the total mass of the varnish composition. The lower limit is exemplified by 59, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11, 10% by mass and the like. The range of the content of the resin in the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of film strength and curability, the content of the resin in the varnish composition is preferably 10 to 60% by mass with respect to the total mass of the varnish composition.

ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の上限は、ワニス組成物中の合計質量に対して、90、89、85、80、75、70、65、60、55、50、45、41質量%等が例示され、下限は、89、85、80、75、70、65、60、55、50、45、41、40質量%等が例示される。ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量は、ワニス組成物中の合計質量に対して、40〜90質量%が好ましい。   The upper limit of the content of the reactive diluent in the varnish composition is 90, 89, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 41 with respect to the total mass in the varnish composition. Examples of the lower limit include 89, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 41, and 40% by mass. The range of the content of the reactive diluent in the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of film strength and curability, the content of the reactive diluent in the varnish composition is preferably 40 to 90% by mass with respect to the total mass in the varnish composition.

樹脂と反応性希釈剤との比率(樹脂の質量/反応性希釈剤の質量)の上限は、1.50、1.40、1.30、1.20、1.10、1.00、0.90、0.80、0.70、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.15等が例示され、下限は1.40、1.30、1.20、1.10、1.00、0.90、0.80、0.70、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.15、0.11等が例示される。上記比率の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、樹脂と反応性希釈剤との比率(樹脂の質量/反応性希釈剤の質量)は、0.11〜1.50が好ましい。   The upper limit of the ratio of resin to reactive diluent (resin mass / reactive diluent mass) is 1.50, 1.40, 1.30, 1.20, 1.10, 1.00, 0. .90, 0.80, 0.70, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.15, etc., and the lower limit is 1.40, 1.30, 1 .20, 1.10, 1.00, 0.90, 0.80, 0.70, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.15, 0.11 Etc. are exemplified. The range of the ratio can be set as appropriate (for example, selected from the upper and lower limit values). In one embodiment, from the viewpoint of film strength and curability, the ratio of resin to reactive diluent (resin mass / reactive diluent mass) is preferably 0.11 to 1.50.

ワニス組成物中には、樹脂、反応性希釈剤以外の成分(以下その他の成分ともいう)を含有してもよい。樹脂、及び反応性希釈剤の合計質量に対して、その他の成分の含有量の上限は20、15、10、5、1質量%等が例示され、下限は15、10、5、1、0質量%等が例示される。上記含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、その他の成分の含有量は、樹脂、及び反応性希釈剤の合計質量に対して、0〜20質量%が好ましい。   The varnish composition may contain components other than the resin and the reactive diluent (hereinafter also referred to as other components). The upper limit of the content of other components is exemplified by 20, 15, 10, 5, 1% by mass, etc. with respect to the total mass of the resin and the reactive diluent, and the lower limit is 15, 10, 5, 1, 0. Examples include mass%. The range of the content can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, as for content of another component, 0-20 mass% is preferable with respect to the total mass of resin and a reactive diluent.

またワニス組成物全体の合計質量に対してその他の成分の含有量の上限は、17、15、10、5、1質量%等が例示され、下限は15、10、5、1、0質量%等が例示される。上記含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、その他の成分の含有量はワニス組成物全体の合計質量に対して0〜17質量%が好ましい。   Further, the upper limit of the content of other components with respect to the total mass of the varnish composition is exemplified by 17, 15, 10, 5, 1% by mass, and the lower limit is 15, 10, 5, 1, 0% by mass. Etc. are exemplified. The range of the content can be set as appropriate (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, as for content of another component, 0-17 mass% is preferable with respect to the total mass of the whole varnish composition.

上記ワニス組成物の粘度の上限は、800、750、700、600、500、400、300、200、100、50、10Pa・s/25℃であり、下限は750、700、600、500、400、300、200、100、50、10、5Pa・s/25℃である。ワニス組成物の粘度の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ローラーへの転写性や作業性の観点からワニス組成物の粘度は、5〜800Pa・s/25℃が好ましく、10〜200Pa・s/25℃がより好ましい。   The upper limit of the viscosity of the varnish composition is 800, 750, 700, 600, 500, 400, 300, 200, 100, 50, 10 Pa · s / 25 ° C., and the lower limit is 750, 700, 600, 500, 400. 300, 200, 100, 50, 10, 5 Pa · s / 25 ° C. The range of the viscosity of the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper limit and lower limit values). In one embodiment, the viscosity of the varnish composition is preferably 5 to 800 Pa · s / 25 ° C., more preferably 10 to 200 Pa · s / 25 ° C. from the viewpoint of transferability to a roller and workability.

1つの実施形態において、本発明のワニス組成物は、活性エネルギー線硬化性であり、好ましくはインキ用、より好ましくはオフセット印刷インキに用いられる。   In one embodiment, the varnish composition of the present invention is active energy ray curable and is preferably used for ink, more preferably for offset printing ink.

[5.オフセット印刷インキ]
本開示は上記ワニス組成物、必要に応じて光重合開始剤、及び顔料を含む、オフセット印刷インキを提供する。
[5. Offset printing ink]
The present disclosure provides an offset printing ink comprising the varnish composition, optionally a photopolymerization initiator, and a pigment.

光重合開始剤としては、特に限定されず、各種公知のものを使用することができる。その具体例としては、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エステル、p−ジメチルアセトフェノン、チオキサントン、アルキルチオキサントン、アミン類等があげられる。また、イルガキュア1173、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア2959、イルガキュア127、イルガキュア369、イルガキュア369E、イルガキュア379、イルガキュア379EG、イルガキュアTPO、イルガキュア819(いずれもBASFジャパン社製)等の市販のものをそのまま使用しても良い。光重合開始剤の使用量としては、乾燥性の観点から1〜15%程度用いることが好ましい。   It does not specifically limit as a photoinitiator, Various well-known things can be used. Specific examples thereof include benzophenone, o-benzoylbenzoic acid methyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ester, p-dimethylacetophenone, thioxanthone, alkylthioxanthone, amines and the like. Also, Irgacure 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 2959, Irgacure 127, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379, Irgacure 379EG, Irgacure TPO, Irgacure 819 manufactured by BASF Japan May be used as they are. As a usage-amount of a photoinitiator, it is preferable to use about 1 to 15% from a dry viewpoint.

本発明のオフセット印刷用インキに使用する顔料としては、特に限定されず通常使用される無機又は有機の顔料を配合することができる。具体例としては、酸化チタン、亜鉛華、鉛白、リトボン、酸化アンチモン等の白色顔料、アニリンブラック、鉄黒、カーボンブラック等の黒色顔料、黄鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、ハンザイエロー(10G、5G、3G、その他)、ジスアゾイエロー、ベンジジンイエロー、パーマネントイエロー等の黄色顔料、クロームバーミリオン、パーマネントオレンジ、バルカンファーストオレンジ、インダンスレンブリリアントオレンジ等の橙色顔料、酸化鉄、パーマネントブラウン、パラブラウン等の褐色顔料、ベンガラ、カドミウムレッド、アンチモン朱、パーマネントレッド、ローダミンレーキ、アリザリンレーキ、チオインジゴレッド、PVカーミン、モノライトファーストレッド、キナクドリン系赤色顔料等の赤色顔料、コバルト紫、マンガン紫、ファーストバイオレット、メチルバイオレットレーキ、インダンスレンブリリアントバイオレット、ジオキサジンバイオレット等の紫色顔料、群青、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ピーコックブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、銅フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、インジゴ等の青色顔料、クロムグリーン、酸化クロム、エメラルドグリーン、ナフトールグリーン、グリーンゴールド、アシッドグリーンレーキ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、ポリクロルブロム銅フタロシアニン等の緑色顔料の他、各種の蛍光顔料、金属粉顔料等が例示される。これらの顔料は、オフセット印刷用インキ100質量部に対して1〜50質量部程度が好ましく、5〜30質量部程度がより好ましい。   The pigment used in the offset printing ink of the present invention is not particularly limited, and a commonly used inorganic or organic pigment can be blended. Specific examples include white pigments such as titanium oxide, zinc white, lead white, lithobon, and antimony oxide, black pigments such as aniline black, iron black, and carbon black, yellow lead, yellow iron oxide, titanium yellow, and Hansa Yellow (10G 5G, 3G, etc.), yellow pigments such as disazo yellow, benzidine yellow and permanent yellow, orange pigments such as chrome vermilion, permanent orange, balkan first orange, indanthrene brilliant orange, iron oxide, permanent brown, para brown Brown pigments such as Bengala, Cadmium Red, Antimony Zhu, Permanent Red, Rhodamine Lake, Alizarin Lake, Thioindigo Red, PV Carmine, Monolite First Red, Quinacdrine Red Pigment, etc.Cobalt , Manganese Purple, First Violet, Methyl Violet Lake, Indanthrene Brilliant Violet, Dioxazine Violet and other purple pigments, ultramarine, bitumen, cobalt blue, alkali blue lake, peacock blue lake, Victoria blue lake, metal-free phthalocyanine blue, copper Blue pigments such as phthalocyanine blue, indanthrene blue, indigo, and other green pigments such as chromium green, chromium oxide, emerald green, naphthol green, green gold, acid green lake, malachite green lake, phthalocyanine green, polychlorobrom copper phthalocyanine Examples include various fluorescent pigments and metal powder pigments. These pigments are preferably about 1 to 50 parts by weight, more preferably about 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the offset printing ink.

本発明の活性エネルギー線硬化型のオフセット印刷インキは、本発明の印刷インキ用樹脂、重合性モノマー及び顔料を含有するものであるが、さらに表面調整剤、消泡剤、光増感剤、酸化防止剤、光安定剤、レベリング剤を使用することもできる。これらの任意成分は、オフセット印刷用インキ100質量部に対して、それらの合計量が100質量部程度以下の範囲となる量(具体的には95、90、80、50、40、30、20、10、5、1質量部程度以下)で配合することが好ましい。さらにハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジンン及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等の重合禁止剤を配合することもできる。重合禁止剤を配合する場合には、オフセット印刷用インキ100質量部に対して0.01〜2質量部程度の範囲で使用することが好ましい。   The active energy ray curable offset printing ink of the present invention contains the printing ink resin of the present invention, a polymerizable monomer, and a pigment, and further includes a surface conditioner, an antifoaming agent, a photosensitizer, an oxidation agent. An inhibitor, a light stabilizer, and a leveling agent can also be used. These optional components are in an amount (specifically 95, 90, 80, 50, 40, 30, 20) in which the total amount thereof is in the range of about 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the offset printing ink. 10, 5, 1 or less by mass or less). Furthermore, polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt can be blended. When blending a polymerization inhibitor, it is preferably used in the range of about 0.01 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the offset printing ink.

[6.印刷物]
本開示は、上記活性エネルギー線硬化型印刷インキの硬化層を有する、印刷物を提供する。
[6. Printed matter]
The present disclosure provides a printed matter having a cured layer of the active energy ray-curable printing ink.

基材は、各種公知のものを特に制限なく用いることができる。基材は、紙(アート紙、キャストコート紙、フォーム用紙、PPC紙、上質コート紙、クラフト紙、ポリエチレンラミネート紙、グラシン紙等)の他、プラスチック基材(ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ノルボルネン系樹脂等)等が例示される。   Various known materials can be used as the substrate without particular limitation. In addition to paper (art paper, cast coated paper, foam paper, PPC paper, high-quality coated paper, craft paper, polyethylene laminated paper, glassine paper, etc.), the plastic substrate (polyolefin, polycarbonate, polymethacrylate, polyester, Epoxy resin, melamine resin, triacetyl cellulose resin, ABS resin, AS resin, norbornene resin, etc.).

印刷方法(塗工方法)は、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工等が例示される。また、塗工量は特に限定されないが、乾燥後の質量が0.1〜30g/m程度が好ましく、1〜20g/m程度がより好ましい。 Examples of the printing method (coating method) include offset printing, flexographic printing, screen printing, bar coater coating, Mayer bar coating, air knife coating, and gravure coating. Although not coated amount particularly limited, the mass after drying is preferably about 0.1 to 30 g / m 2, about from 1 to 20 g / m 2 is more preferable.

硬化手段は、電子線又は紫外線が例示される。紫外線の光源は、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、UV−LED等が例示される。光量や光源配置、搬送速度は特に限定されないが、高圧水銀灯を使用する場合には、80〜160W/cm程度の光量を有するランプ1灯に対して、搬送速度が5〜50m/分程度が好ましい。   The curing means is exemplified by an electron beam or ultraviolet rays. Examples of the ultraviolet light source include a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a UV-LED. The amount of light, light source arrangement, and conveyance speed are not particularly limited, but when a high-pressure mercury lamp is used, the conveyance speed is preferably about 5 to 50 m / min for one lamp having a light amount of about 80 to 160 W / cm. .

以下、実施例及び比較例を通じて本発明を具体的に説明する。但し、上述の好ましい実施形態における説明及び以下の実施例は、例示の目的のみに提供され、本発明を限定する目的で提供するものではない。従って、本発明の範囲は、本開示に具体的に記載された実施形態にも実施例にも限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。   Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples and comparative examples. However, the description in the above preferred embodiment and the following examples are provided for illustrative purposes only and are not intended to limit the present invention. Accordingly, the scope of the present invention is not limited to the embodiments or examples specifically described in the present disclosure, but is limited only by the claims.

重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりTHF溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求めた。GPC装置としてはHLC−8020(東ソー(株)製)を、カラムとしてはTSKgel superHZM(東ソー(株)製)を用い、流速:1.00mL/min、試料濃度:0.5%という条件で測定した。求めた数平均分子量と重量平均分子量より分子量分布(Mw/Mn)を算出した。   The weight average molecular weight and the number average molecular weight were determined as polystyrene conversion values measured under a THF solvent by gel permeation chromatography (GPC). Using HLC-8020 (manufactured by Tosoh Corporation) as the GPC device and TSKgel superHZM (manufactured by Tosoh Corporation) as the column, measurement was performed under the conditions of flow rate: 1.00 mL / min, sample concentration: 0.5%. did. The molecular weight distribution (Mw / Mn) was calculated from the obtained number average molecular weight and weight average molecular weight.

実施例1−1
攪拌機、分水器付き還流冷却管及び温度計と滴下ロートを備えた反応容器にアノン(シクロヘキサノン)680g仕込んだ。滴下ロートにメチルメタクリレート217.6g、アクリル酸を32g、2−エチルヘキシルアクリレートを60.8g、ペンタエリスリトールテトラアクリレートを9.6g仕込み、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを25.6g添加した。窒素雰囲気下、121℃、3.0時間 攪拌下滴下重合反応を行い、1時間保温した。その後、温度を190℃に上げ常圧で攪拌を続けながら溶媒を留去して、更に同温度で50mHg以下に減圧し、完全に溶媒を留去して、樹脂1を320g得た。重量平均分子量(Mw)は、11,000、数平均分子量Mnは2,900、分子量分布(Mw/Mn)は3.8であった。結果を表1に示す。
Example 1-1
A reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser with a water separator, a thermometer, and a dropping funnel was charged with 680 g of anone (cyclohexanone). The dropping funnel was charged with 217.6 g of methyl methacrylate, 32 g of acrylic acid, 60.8 g of 2-ethylhexyl acrylate, 9.6 g of pentaerythritol tetraacrylate, and 25.6 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added. . Under a nitrogen atmosphere, a drop polymerization reaction was performed with stirring at 121 ° C. for 3.0 hours, and the temperature was kept for 1 hour. Thereafter, the temperature was raised to 190 ° C., and the solvent was distilled off while stirring at normal pressure. The pressure was further reduced to 50 mHg or less at the same temperature, and the solvent was completely distilled off to obtain 320 g of Resin 1. The weight average molecular weight (Mw) was 11,000, the number average molecular weight Mn was 2,900, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3.8. The results are shown in Table 1.

実施例1−2〜1−27及び比較例1−1〜1−5
組成を下記表に記載したものに変更したことを除き、実施例1と同様の手順により樹脂の製造を行った。
Examples 1-2 to 1-27 and Comparative Examples 1-1 to 1-5
A resin was produced according to the same procedure as in Example 1 except that the composition was changed to that shown in the following table.

上記表の原料の略号は以下の通りである。
A−1 メチルメタクリレート
A−2 アクリル酸
A−3 メタクリル酸ブチル
A−4 2−エチルヘキシルアクリレート
A−5 フェノキシエチルメタクリレート
A−6 ベンジルメタクリレート
A−7 テトラヒドロフルリルメタクリレート
A−8 イソボルニルメタクリレート
B−1 ペンタエリスリトールテトラアクリレート
B−2 ジペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート
B−3 トリペンタエリスリトールオクタアクリレート
B−4 トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート
B−5 ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
B−6 グリセリンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート
B−7 ジグリセリンエチレンオキサイド変性アクリレート
B−8 グリセリントリエポキシアクリレート
B−9 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
B−10 イソシアヌル酸変性ジ及びトリアクリレート
C−1 スチレン
D−1 アクリロイルモルホリン
D−2 N,N−ジメチルアクリルアミド
D−3 N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート
E−1 2−ヒドロキシエチルメタクリレート
E−2 ヒドロキシプロピルアクリレート
E−3 2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
E−4 4−ヒドロキシブチルアクリレート
F−1 2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)
F−2 t−ブチル パーオキシ−2−エチルヘキサノエイト
F−3 4,4’−アゾビズ(4−シアノ吉草酸)
F−4 2,2’−アゾビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メチルプロピオンアミド]
Abbreviations of raw materials in the above table are as follows.
A-1 Methyl methacrylate A-2 Acrylic acid A-3 Butyl methacrylate A-4 2-Ethylhexyl acrylate A-5 Phenoxyethyl methacrylate A-6 Benzyl methacrylate A-7 Tetrahydrofurryl methacrylate A-8 Isobornyl methacrylate B- 1 Pentaerythritol tetraacrylate B-2 Dipentaerythritol (tri / tetra) acrylate B-3 Tripentaerythritol octaacrylate B-4 Trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate B-5 Ditrimethylolpropane tetraacrylate B-6 Glycerol propylene oxide Modified Triacrylate B-7 Diglycerol Ethylene Oxide Modified Acrylate B-8 Glycerin Triepoxy Acrylate B-9 , 6-hexanediol diacrylate B-10 isocyanuric acid modified di and triacrylate C-1 styrene D-1 acryloylmorpholine D-2 N, N-dimethylacrylamide D-3 N, N-dimethylaminoethyl methacrylate E-1 2 -Hydroxyethyl methacrylate E-2 Hydroxypropyl acrylate E-3 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate E-4 4-hydroxybutyl acrylate F-1 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile)
F-2 t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate F-3 4,4′-azobiz (4-cyanovaleric acid)
F-4 2,2′-Azobis [N- (2-hydroxyethyl) -2-methylpropionamide]

実施例1−28
攪拌機、分水器付き還流冷却管及び温度計と滴下ロートを備えた反応容器に窒素雰囲気下、実施例1−21で得た樹脂を100g、無水フタル酸86g、フェニルグリシジルエーテル114g、酢酸ブチル300gを仕込み、120℃まで昇温した。次いで、トリフェニルホスフィン0.3部を添加した後、8時間撹拌した。その後、常圧で160℃まで昇温しながら溶剤を留去して、160mmHg以下で減圧しながら溶剤を完全に留去して樹脂を得た。
Example 1-28
100 g of the resin obtained in Example 1-21, 86 g of phthalic anhydride, 114 g of phenylglycidyl ether, 300 g of butyl acetate in a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser with a water separator, a thermometer and a dropping funnel under a nitrogen atmosphere. Was heated up to 120 ° C. Subsequently, after adding 0.3 part of triphenylphosphine, it stirred for 8 hours. Thereafter, the solvent was distilled off while raising the temperature to 160 ° C. at normal pressure, and the solvent was completely distilled off under reduced pressure at 160 mmHg or less to obtain a resin.

実施例1−29〜1−31
組成を下記表に記載したものに変更したことを除き、実施例1−28と同様の手順により樹脂の製造を行った。
Examples 1-29 to 1-31
A resin was produced by the same procedure as in Example 1-28, except that the composition was changed to the one described in the following table.

実施例2−1
実施例1−1で得られた樹脂(25.8g)に対して反応性希釈剤ジペンタエリスリトール(ペンタ/ヘキサ)アクリレート(134.2g)、4−メトキシフェノール(0.2g)、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム(0.1g)を加え、エアーバブリング下、130℃、1時間攪拌溶解し、ワニス組成物を得た。得られたワニス組成物に対して、イルガキュア907(BASF製)を10g、MA100(三菱ケミカル(株)製)を30g仕込み、3本ローラーで錬肉してインキを調製した。上記配合に基づいて40℃、400rpmにおけるタック値が9±0.5となるよう適宜調整し、インキを得た。このインキは、インキ100質量部に対し、樹脂12.9質量部、反応性希釈剤67.1質量部、開始剤5質量部、顔料15質量部を含む。
Example 2-1
Reactive diluent dipentaerythritol (penta / hexa) acrylate (134.2 g), 4-methoxyphenol (0.2 g), N-nitroso with respect to the resin (25.8 g) obtained in Example 1-1 -N-Phenylhydroxylamine ammonium (0.1 g) was added and dissolved by stirring under air bubbling at 130 ° C for 1 hour to obtain a varnish composition. The resulting varnish composition was charged with 10 g of Irgacure 907 (manufactured by BASF) and 30 g of MA100 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and slaughtered with three rollers to prepare ink. Based on the above formulation, the tack value at 40 ° C. and 400 rpm was appropriately adjusted to 9 ± 0.5 to obtain an ink. This ink contains 12.9 parts by mass of resin, 67.1 parts by mass of reactive diluent, 5 parts by mass of initiator, and 15 parts by mass of pigment with respect to 100 parts by mass of ink.

実施例2−2〜実施例2−13、比較例2−1〜2−3
樹脂と反応性希釈剤の種類と使用比率を下記表に記載のように代えたこと以外は、実施例2−1と同様に調製した。
Example 2-2 to Example 2-13, Comparative Examples 2-1 to 2-3
It was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the types and usage ratios of the resin and reactive diluent were changed as shown in the following table.

上記表の希釈モノマーの略号は以下の通りである。
R−1 ペンタエリスリトールテトラアクリレート
R−2 ジペンタエリスリトール(ペンタ/ヘキサ)アクリレート
R−3 トリペンタエリスリトールオクタアクリレート
R−4 トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート
R−5 ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
R−6 グリセリンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート
R−7 ジグリセリンエチレンオキサイド変性アクリレート
R−8 グリセリントリエポキシアクリレート
イルガキュア907 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン (BASF製)
MA100 カーボンブラック(三菱ケミカル(株)製)
Abbreviations for the dilution monomers in the above table are as follows.
R-1 pentaerythritol tetraacrylate R-2 dipentaerythritol (penta / hexa) acrylate R-3 tripentaerythritol octaacrylate R-4 trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate R-5 ditrimethylolpropane tetraacrylate R-6 glycerin Propylene oxide modified triacrylate R-7 Diglycerin ethylene oxide modified acrylate R-8 Glycerin triepoxyacrylate Irgacure 907 2-Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one (manufactured by BASF)
MA100 carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

(流動性の測定)
60°に傾けたガラス板の上にインキ1.30mlをのせて、30分放置後のインキの流れを計測した。評価基準は以下の通り。
□◎:301mm以上
○:300〜201mm
△:200〜101mm
×:100mm以下
(Measurement of fluidity)
1.30 ml of ink was placed on a glass plate inclined at 60 °, and the ink flow after being left for 30 minutes was measured. The evaluation criteria are as follows.
□ ◎: 301 mm or more ○: 300-201 mm
Δ: 200 to 101 mm
×: 100 mm or less

(耐ミスチング性)
13cm×21cm角に切り取ったOHPフィルムをインコメーターのローラー裏の壁面に貼り付け、ローラー温度を40℃に調整後、ローラーの上にインキを2.6mlのせた。ローラーを1200rpm×2分 回転させフィルムに付着したインキの質量を秤量した。評価基準は以下の通り。
□◎:19mg以下
○:20〜59mg
△:60〜99mg
×:100mg以上
(Missing resistance)
An OHP film cut into a 13 cm × 21 cm square was attached to the wall surface behind the roller of the incometer, the roller temperature was adjusted to 40 ° C., and 2.6 ml of ink was placed on the roller. The roller was rotated at 1200 rpm × 2 minutes, and the mass of the ink adhered to the film was weighed. The evaluation criteria are as follows.
□ ◎: 19 mg or less ○: 20-59 mg
Δ: 60-99 mg
X: 100 mg or more

実施例2−2〜実施例2−13、比較例2−1〜2−3
樹脂と反応性希釈剤の種類と使用比率を下記表に記載のように代えたこと以外は、実施例2−1と同様に調製した。樹脂1〜10は実施例1−1〜1−10の樹脂であり、樹脂11〜13は比較例1−1〜1−3の樹脂である。
Example 2-2 to Example 2-13, Comparative Examples 2-1 to 2-3
It was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the types and usage ratios of the resin and reactive diluent were changed as shown in the following table. Resins 1 to 10 are resins of Examples 1-1 to 1-10, and resins 11 to 13 are resins of Comparative Examples 1-1 to 1-3.

Claims (10)

下記構成単位1及び2を含む、分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜55である樹脂であって、前記構成単位1は、
[式中、Ra1は水素原子又はアルキル基であり、Ra2は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基又は
{式中、aは1以上の整数であり、bは0以上の整数であり、Raaは水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のアリールオキシ基であり、Rabは置換若しくは非置換のアリーレン基、置換若しくは非置換のアルキレン基、又は置換若しくは非置換のアルケニレン基である。}
である。]
であり、
前記構成単位2は一般式
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1〜Rb17は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に前記構成単位1を含む構成単位群から選択される構成単位である。}
であり、
b18〜Rb19は、それぞれ独立に
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
であり、
b20はアルキレン基であり、
b4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、q及びrはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、s及びtはそれぞれ独立に1以上の整数であり、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R及びRは各単位ごとに基が異なっていてもよく、R〜Rはそれぞれ独立に該構成単位1を含む構成単位である。}
が2個以上含まれる。]
である、樹脂。
A resin having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.5 to 55 including the following structural units 1 and 2, wherein the structural unit 1 is:
[Wherein, R a1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R a2 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or
{Wherein, a is an integer of 1 or more, b is an integer of 0 or more, and Raa is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted group R ab is an aryloxy group, R ab is a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group. }
It is. ]
And
The structural unit 2 is a general formula
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b17 are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are structural units independently selected from the structural unit group including the structural unit 1. }
And
R b18 to R b19 are each independently
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
And
R b20 is an alkylene group,
R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A) to (D)
{In the formula, q and r are each independently an integer of 0 to 16, s and t are each independently an integer of 1 or more, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 and R 3 may have different groups for each unit, and R A to R B are each a structural unit including the structural unit 1 independently. }
2 or more are included. ]
Is resin.
前記構成単位群に構成単位3
(式中、Rc1は水素原子又はアルキル基であり、Rc2〜Rc6はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
が含まれる、請求項1に記載の樹脂。
Structural unit 3 in the structural unit group
(Wherein R c1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R c2 to R c6 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group.)
The resin according to claim 1, wherein
前記構成単位群に構成単位4
(式中、Rは水素原子又はアルキル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素原子であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素原子、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
が含まれる、請求項1又は2に記載の樹脂。
Structural unit 4 in the structural unit group
(Wherein R D is a hydrogen atom or an alkyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
A group selected from the group consisting of:
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or a hydrogen atom, or R d1 and R d2 together form a ring structure, k is an integer of 1 or more, and R d3 Is a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxyl group, and R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is a hydroxyl group It is. )
The resin according to claim 1 or 2, wherein
構成単位5
(式中、Re1〜Re3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、又はアルケニル基である。)
を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂。
Structural unit 5
(In formula, R <e1> -R <e3> is a nitrile group, an alkyl group, or an alkenyl group each independently.)
The resin according to any one of claims 1 to 3, comprising:
(メタ)アクリル酸エステル、並びに(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、及びアルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートからなる群から選択される1種以上を含むモノマーを、モノマー濃度10〜70質量%で、該モノマー100質量部に対して3〜50質量部の重合開始剤存在下、70〜200℃で重合させる工程を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法。 (Meth) acrylic acid ester, and (poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate, (poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate, (poly) Monomers having a monomer concentration of 10 to 70 are monomers containing at least one selected from the group consisting of glycerin poly (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate and alkylene di (alkylene oxide modified or epoxy modified) (meth) acrylate. The resin according to any one of claims 1 to 4, comprising a step of polymerizing at 70 to 200 ° C in the presence of 3 to 50 parts by mass of a polymerization initiator with respect to 100 parts by mass of the monomer. Production method. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂、及び反応性希釈剤を含む、ワニス組成物。 A varnish composition comprising the resin according to any one of claims 1 to 4 and a reactive diluent. 前記反応性希釈剤が
[式中、n及びmはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、pは0〜7の整数であり、Rb1’〜Rb17 ’は、それぞれ独立に水素原子、
{式中、qはそれぞれ独立に0〜16の整数であり、R1’〜R3’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b18’〜Rb19 ’は、それぞれ独立に
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
であり、
b20’はアルキレン基であり、
b4’、Rb5’、Rb9’、及びRb13’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
一般式(A)〜(D)中において
{式中、qは0〜16の整数であり、R1’〜R3 ’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、R1’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。}
が2個以上含まれる。]
である、請求項6に記載のワニス組成物。
The reactive diluent is
[ Wherein , n and m are each independently an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 ′ to R b17 ′ are each independently a hydrogen atom,
{In the formula, q is each independently an integer of 0 to 16, R 1 'to R 3' are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ' may be different for each unit. Good. }
And
R b18 ′ to R b19 ′ are each independently
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
And
R b20 ′ is an alkylene group,
R b4 ′ , R b5 ′ , R b9 ′ , and R b13 ′ may have different groups for each structural unit,
In the general formulas (A ) to (D )
{In the formula, q is an integer of 0 to 16, R 1 ′ to R 3 ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 ′ may have a different group for each unit. }
2 or more are included. ]
The varnish composition according to claim 6, wherein
オフセット印刷インキに用いられる、請求項6又は7に記載のワニス組成物。 The varnish composition of Claim 6 or 7 used for offset printing ink. 請求項6〜8のいずれか1項に記載のワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。 Offset printing ink containing the varnish composition and pigment of any one of Claims 6-8. 請求項9に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。 A printed matter comprising a cured layer of the offset printing ink according to claim 9.
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