JP4925263B2 - Polyhydroxyether resin having allyl group in side chain, method for producing the same, and resin composition thereof - Google Patents

Polyhydroxyether resin having allyl group in side chain, method for producing the same, and resin composition thereof Download PDF

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Description

本発明は塗料、電子材料、接着剤、感光材料、インキなどの広い分野に於いて使用できる側鎖にアリル基を有する新規な機能性ポリヒドロキシエーテル樹脂、及びその製造方法、その樹脂組成物を提供するものである。
より詳細には熱又は光などの活性エネルギー源で架橋可能な側鎖にアリル基を有する機能性ポリヒドロキシエーテル樹脂、その製造方法及びその樹脂組成物を提供するものである。
The present invention relates to a novel functional polyhydroxy ether resin having an allyl group in a side chain which can be used in a wide range of fields such as paints, electronic materials, adhesives, photosensitive materials, inks, and a method for producing the same, and a resin composition thereof. It is to provide.
More specifically, the present invention provides a functional polyhydroxy ether resin having an allyl group in a side chain that can be cross-linked by an active energy source such as heat or light, a production method thereof, and a resin composition thereof.

2価フェノール類とエピクロルヒドリンの反応縮合物、若しくは、2価フェノール類と2価グリシジルエーテルの付加重合反応に依って得られるポリヒドロキシエーテルは、一般に「フェノキシ樹脂」とも称されて、その接着性、電気絶縁性、塗膜やフイルムの強靭性、低い酸素ガス透過性等の特徴あり、プライマー塗料、缶塗料、自己融着性電線、磁性材料バインダー、フイルム状接着剤、接着剤付銅箔、印刷回路板、各種ポリマーアロイなどの用途に使用されている。
しかしながら、かかるフェノキシ樹脂はそれ自身では熱可塑性樹脂であり架橋しない。従来ポリヒドロキシエーテル樹脂(以下PHEと略記)を架橋する場合はペンダントに存在する2級水酸基を利用し、イソシアネート化合物又はブロックイソシアネート化合物で架橋する。更に、ブチル化レゾール(フェノール)樹脂やメチロール化メラミン樹脂などとの焼付け時に縮合反応をして架橋させる方法が採られている。その他には低分子量のエポキシ樹脂と併用してエポキシ樹脂の架橋構造の中に組み込ませる方法が採られている。
A polyhydroxy ether obtained by a reaction condensate of a dihydric phenol and epichlorohydrin or an addition polymerization reaction of a dihydric phenol and a divalent glycidyl ether is generally referred to as “phenoxy resin”, and its adhesiveness, Features such as electrical insulation, toughness of coating film and film, low oxygen gas permeability, primer paint, can paint, self-bonding electric wire, magnetic material binder, film adhesive, copper foil with adhesive, printing It is used for applications such as circuit boards and various polymer alloys.
However, such phenoxy resins are themselves thermoplastic resins and do not crosslink. Conventionally, when a polyhydroxy ether resin (hereinafter abbreviated as PHE) is crosslinked, a secondary hydroxyl group present in the pendant is used and crosslinked with an isocyanate compound or a blocked isocyanate compound. Furthermore, a method is adopted in which a condensation reaction is performed at the time of baking with a butylated resol (phenol) resin, a methylolated melamine resin, or the like. In addition, a method in which a low molecular weight epoxy resin is used in combination with the crosslinked structure of the epoxy resin is employed.

係るPHEのペンダントの2級水酸基を変性する試みは、特許文献1に開示されている。それに依れば該PHEのペンダント2級水酸基に、ジイソシアネートと2−ヒドロキシアクリレートの反応物であるモノイソシアネートを反応させ、側鎖にα−β不飽和結合を有する放射線硬化性PHEを得ている。しかしながら、この方法は、温度及び水分管理が難しく、製造に長時間を要するなどの問題点があった。
特許文献2には、PHEのペンダントの2級水酸基にグリシジルメタクリレート(以下GMAと略記)を付加反応し、側鎖にα−β不飽和結合を有する感光性樹脂を得ている。しかしながら、この方法では、過剰のGMAにPHEを溶解し、付加反応し、その後、大量のメタノール中でポリマーを沈殿させているので、安定したGMAの付加率が得られないし、沈殿させたPHEの取り扱い性が悪く工業化に不向きで、更に高価なGMAの原単位が悪くコスト高になると言う問題点があった。
一方、特許文献3には、PHEの2級水酸基にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどを付加させた後、更に多塩基酸無水物を付加し、更にGMAと反応させ、感光性樹脂組成物の成分としている。この方法は製造工程が長く、官能基数が少なくなり硬化性が悪いため単独での使用ができない等の問題点があった。
An attempt to modify the secondary hydroxyl group of the PHE pendant is disclosed in Patent Document 1. Accordingly, the Pendant secondary hydroxyl group of PHE is reacted with monoisocyanate, which is a reaction product of diisocyanate and 2-hydroxy acrylate, to obtain radiation curable PHE having an α-β unsaturated bond in the side chain. However, this method has problems such as difficulty in temperature and moisture management, and a long time for production.
In Patent Document 2, a glycidyl methacrylate (hereinafter abbreviated as GMA) is added to a secondary hydroxyl group of a PHE pendant to obtain a photosensitive resin having an α-β unsaturated bond in the side chain. However, in this method, since PHE is dissolved in excess GMA and subjected to addition reaction, and then the polymer is precipitated in a large amount of methanol, a stable addition rate of GMA cannot be obtained. There was a problem that handling property was poor and unsuitable for industrialization, and that the basic unit of expensive GMA was poor and the cost was high.
On the other hand, in Patent Document 3, after adding ethylene oxide, propylene oxide or the like to the secondary hydroxyl group of PHE, polybasic acid anhydride is further added, and further reacted with GMA, as a component of the photosensitive resin composition. Yes. This method has problems such as a long manufacturing process, a small number of functional groups, and poor curability, so that it cannot be used alone.

特許文献4では、PHEに多塩基酸無水物を付加させ、その後GMAを付加させて側鎖にα−β不飽和結合を有する感光性樹脂を得ている。そして、該樹脂を成分とする感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを得ている。しかしながら、官能基数が少なくなり硬化性が悪いため単独での使用ができない等の問題点があった。
また、PHEのような数平均分子量が10,000以上ある高分子樹脂に、反応性の高いα−β不飽和結合を有する基を導入する場合、硬化性を良くするために導入する官能基数をより多くしようとすればゲル粒子が発生したり、官能基同士が反応して粘度上昇が著しくなったり、極端の場合には反応途中でゲル化が起る。そのため、官能基濃度を減少させるか又は重合禁止剤を通常より多くしたり、反応中に空気を吹き込むなどの手法を採らざるを得ない問題があった。その結果として、単独では感光性が不十分であり、多量の低分子多官能感光性樹脂の併用を必須とする等の問題があった。
特開平1−292022号 特開昭59−53534号 特開平5−281733号 WO2004/006235
In Patent Document 4, a polybasic acid anhydride is added to PHE, and then GMA is added to obtain a photosensitive resin having an α-β unsaturated bond in the side chain. And the photosensitive resin composition and photosensitive element which use this resin as a component are obtained. However, since the number of functional groups is small and the curability is poor, there is a problem that it cannot be used alone.
In addition, when a group having a highly reactive α-β unsaturated bond is introduced into a polymer resin having a number average molecular weight of 10,000 or more such as PHE, the number of functional groups to be introduced is improved in order to improve curability. If the amount is increased, gel particles are generated, the functional groups react with each other to increase the viscosity remarkably, or in an extreme case, gelation occurs during the reaction. Therefore, there has been a problem that a technique such as reducing the functional group concentration or increasing the polymerization inhibitor more than usual or blowing air during the reaction has been required. As a result, the photosensitivity by itself is insufficient, and there is a problem that a large amount of low-molecular polyfunctional photosensitive resin must be used in combination.
JP-A-1-2902022 JP 59-53534 A JP-A-5-281733 WO2004 / 006235

本発明者らは、上記の問題点を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、重合禁止剤や反応中の空気の吹き込みをしなくてもゲル粒子の発生、著しい増粘、ゲル化を起すことが無く、且つ官能基数を多く導入できて、保存安定性がよく、強靭で良好な造膜性を有し、良好な基材密着性、耐久性を有し、熱または光で架橋可能な機能性ポリヒドロキシエーテルを見出し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have caused generation of gel particles, significant increase in viscosity, and gelation without blowing a polymerization inhibitor or air during the reaction. And has a high number of functional groups, good storage stability, toughness, good film-forming properties, good substrate adhesion and durability, and can be crosslinked by heat or light The present inventors have found a functional polyhydroxy ether and have completed the present invention.

一般式(1)で示される側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂で、その主鎖ポリヒドロキシエーテルの数平均分子量が1,000以上200,000以下である側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂。   A polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain represented by the general formula (1), wherein the main chain polyhydroxy ether has a number average molecular weight of 1,000 or more and 200,000 or less. Hydroxy ether resin.

Figure 0004925263

(式中、R1は多塩基酸無水物残基、Rはアリル基含有グリシジル化合物残基、Mは2価フェノール残基であり、同一でも異なっていてもよく、l、m、nは整数であって、mは0の場合があっても良い。pは1〜3の整数である。)
即ち、本発明は、主鎖ポリマーであるPHEの数平均分子量が1,000〜200,000で分子内に2級水酸基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(a)と多塩基酸無水物(b)の反応に基づく半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル樹脂(A)を得る。次に、半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル樹脂(A)中のカルボキシル基とアリル基含有グリシジル化合物(c)を反応せしめて側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル(B)を得る。
本発明における主鎖ポリマーの数平均分子量が1,000〜200,000で分子内に2級水酸基を有するポリヒドロキシエーテル(a)は2価フェノール類とエピクロルヒドリン(以下ECHと略記)の縮合反応によって製造されるか、2価フェノール類と2価グリシジルエーテル類との付加反応により製造されるPHEである。主鎖の数平均分子量が小さいとフイルム形成能が無く、塗膜の強靭性に欠け、あまり数平均分子量が大きすぎると溶剤に溶解したときの溶解性の悪化や、粘度が高くなり取り扱いづらい。好ましい数平均分子量は1,000〜200,000、より好ましくは2,000〜100,000、更に好ましくは4,000〜60,000である。尚、本発明の数平均分子量は標準ポリスチレンを標準物質として、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)に依って測定された数平均分子量を言う。
Figure 0004925263

(In the formula, R 1 is a polybasic acid anhydride residue, R 2 is an allyl group-containing glycidyl compound residue, M is a divalent phenol residue, which may be the same or different, and l, m and n are (It may be an integer and m may be 0. p is an integer of 1 to 3.)
That is, the present invention relates to a polyhydroxy ether resin (a) having a number average molecular weight of PHE as a main chain polymer of 1,000 to 200,000 and having a secondary hydroxyl group in the molecule and a polybasic acid anhydride (b). A half-esterified modified polyhydroxyether resin (A) based on the reaction is obtained. Next, the carboxyl group in the half-esterified modified polyhydroxy ether resin (A) is reacted with the allyl group-containing glycidyl compound (c) to obtain a polyhydroxy ether (B) having an allyl group in the side chain.
The polyhydroxy ether (a) having a number average molecular weight of 1,000 to 200,000 in the present invention and having a secondary hydroxyl group in the molecule is obtained by a condensation reaction of a dihydric phenol and epichlorohydrin (hereinafter abbreviated as ECH). PHE produced by addition reaction of dihydric phenols and divalent glycidyl ethers. If the number average molecular weight of the main chain is small, there is no film-forming ability and the toughness of the coating film is lacking. If the number average molecular weight is too large, the solubility when dissolved in a solvent is deteriorated and the viscosity becomes high and difficult to handle. The number average molecular weight is preferably 1,000 to 200,000, more preferably 2,000 to 100,000, and still more preferably 4,000 to 60,000. The number average molecular weight of the present invention refers to the number average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using standard polystyrene as a standard substance.

本発明における主鎖ポリマーであるPHE(a)は、一般式(2)で示される。   PHE (a) which is a main chain polymer in the present invention is represented by the general formula (2).

Figure 0004925263
Figure 0004925263

ここでMは2価フェノール残基を示す。PHEを構成する2価フェノールは一種類で構成されているホモポリマーで有ってもよく、また、2種類以上の2価フェノールから構成されるランダムコポリマーまたはブロックコポリマーで有っても良い。更には、本発明の目的を阻害しない範囲での長鎖分岐或いは短鎖分岐をしていても差し支えない。   Here, M represents a divalent phenol residue. The dihydric phenol constituting PHE may be a homopolymer composed of one kind, or may be a random copolymer or a block copolymer composed of two or more kinds of dihydric phenols. Furthermore, long-chain branching or short-chain branching within the range not impairing the object of the present invention may be used.

具体的に本発明で使用される2価フェノール類を例示すると、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、2,5−ジターシャリブチルハイドロキノン等の2価単核フェノール類、ビスフェノールA(以下BPAと略記),ビスフェノールF(以下BPFと略記)、ビスフェノールB、ビスフェノールE、ビスフェノールK、ビスフェノールS(以下BPSと略記)、3,3’,5,5’−テトラメチルビスフェノールF等の2価多核ビスフェノール類、1,4−ナフタレンジオール、1,6−ナフタレンジオール等のナフタレンジオール類、テトラブロムビスフェノールA(以下TBBAと略記),テトラクロルビスフェノールA、ヘキサフルオロビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、4,4’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール等のビフェノール類、ビスフェノールフルオレイン等の環を有するビスフェノール類、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナントレン−10−オキサイドと1,4−ベンゾキノン又は1,4−ナフトキノンの付加反応である式(3)及び式(4)に示される含リン2価フェノール類(以下HCA−HQ、HCA−NQと略記)などを例示することが出来るが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of dihydric phenols used in the present invention include dihydric mononuclear phenols such as hydroquinone, resorcin, catechol, 2,5-ditertiarybutyl hydroquinone, bisphenol A (hereinafter abbreviated as BPA), bisphenol. Divalent polynuclear bisphenols such as F (hereinafter abbreviated as BPF), bisphenol B, bisphenol E, bisphenol K, bisphenol S (hereinafter abbreviated as BPS), 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbisphenol F, 1, Naphthalenediols such as 4-naphthalenediol and 1,6-naphthalenediol, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A (hereinafter abbreviated as TBBA), tetrachlorobisphenol A and hexafluorobisphenol A, 4,4′-biphenol , 3, 3 ', 5, Biphenols such as' -tetramethylbiphenol, bisphenols having a ring such as bisphenol fluorin, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and 1,4-benzoquinone or 1,4 -Examples include, but are not limited to, phosphorus-containing dihydric phenols (hereinafter abbreviated as HCA-HQ and HCA-NQ) represented by formula (3) and formula (4), which are addition reactions of naphthoquinone. It is not something.

Figure 0004925263
HCA−HQ
Figure 0004925263
HCA-HQ

Figure 0004925263
HCA−NQ
Figure 0004925263
HCA-NQ

具体的に本発明に使用できる2価グリシジルエーテル類を例示すると、段落番号0010に示された2価フェノール類とECHの縮合反応により得られるジグリシジルエーテルであれば特に限定されないが、末端のグリシジル(エポキシ)基純度の高いものが好ましい。具体的な市販品としては東都化成株式会社製「エポトートYD−8125」、「エポトートYD−127」、「エポトートYD−128」、「エポトートYD−134」、「エポトートYD−011」、「エポトートYD−012」、「エポトートYD−013」、「エポトートYD−014」、「エポトートYD−901」、「エポトートYD−902」、「エポトートYD−903」、「エポトートYD−904」等の重合度の異なるBPA型ジグリシジルエーテル類、「エポトートYDB−400」、「エポトートYDB−460」等のTBBA型ジグリシジルエーテル類、「エポトートYDF−170」、「エポトートYDF−8170」等のBPF型のジグリシジルエーテル類、2,5−ジターシャリブチルハイドロキノン型の「エポトートYDC−1312」、3,3’,5,5’−テトラメチルビスフェノールF型の「エポトートYSLV−80XY」、ビスフェノールフルオレイン型の「エポトートESF−300」等を例示する事が出来る。   Specific examples of divalent glycidyl ethers that can be used in the present invention are not particularly limited as long as they are diglycidyl ethers obtained by the condensation reaction of divalent phenols and ECH shown in paragraph No. 0010. Those having a high (epoxy) group purity are preferred. Specific commercially available products include “Epototo YD-8125”, “Epototo YD-127”, “Epototo YD-128”, “Epototo YD-134”, “Epototo YD-011”, “Epototo YD” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. -012 "," Epototo YD-013 "," Epototo YD-014 "," Epototo YD-901 "," Epototo YD-902 "," Epototo YD-903 "," Epototo YD-904 ", etc. Different BPA type diglycidyl ethers, TBBA type diglycidyl ethers such as “Epototo YDB-400”, “Epototo YDB-460”, BPF type diglycidyl such as “Epototo YDF-170”, “Epototo YDF-8170” Ethers of 2,5-ditertiarybutyl hydroquinone type Pototo YDC-1312 ", 3,3 ', 5,5'-tetramethyl bisphenol F type" EPOTOHTO YSLV-80XY "bisphenol full oleic type" EPOTOHTO ESF-300 ", etc. can be exemplified.

本発明に用いられる主鎖ポリマーであるPHE(a)の具体的な市販品としては東都化成株式会社製BPA型PHE 「フェノトートYP−40」、「フェノトートYP−50」、「フェノトートYP−50S」、BPA/BPF共重合型PHE「フェノトートYP−70」、TBBA型PHE「フェノトートYPB−40」、「フェノトートYPB−43」、リン含有PHE「フェノトートERF−001」、ビスフェノールスルフォン型「フェノトートYOS−007」等を例示することが出来る。
本発明に用いられる多塩基酸無水物(b)としては、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸、無水クロレンド酸、無水コハク酸、アルケニル無水コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロペンタジエンの無水マレイン酸付加物等を例示することができる。2種類以上の酸無水物を併せて用いることもできる。
Specific commercial products of PHE (a), which is the main chain polymer used in the present invention, include BPA type PHE “Phenototo YP-40”, “Phenototo YP-50”, “Phenototo YP” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. -50S ", BPA / BPF copolymer type PHE" Phenothoto YP-70 ", TBBA type PHE" Phenothoto YPB-40 "," Phenothoto YPB-43 ", Phosphorus-containing PHE" Phenothoto ERF-001 ", Bisphenol A sulfone type “phenotote YOS-007” and the like can be exemplified.
Examples of the polybasic acid anhydride (b) used in the present invention include maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, chlorendic anhydride, succinic anhydride, alkenyl succinic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydroanhydride. Examples include phthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, polyadipic anhydride, polyazeline anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride adduct of methylcyclopentadiene, etc. be able to. Two or more types of acid anhydrides can be used in combination.

本発明に用いられるアリル基含有グリシジル化合物(c)としては、分子中にアリル基とグリシジル(エポキシ基)を持つ化合物であればよく、アリルグリシジルエーテル、ジアリルモノグリシジルイソシアヌル酸、下記のスキームで得られる(アルキル)モノフェノール類とアリルクロライドをアルカリ金属水酸化物の存在下でアリルエーテル化し、それを加熱下でクライゼン転位して得られるアリル化フェノールを、更にエピクロルヒドリンとアルカリ金属水酸化物の存在下でグリシジルエーテル化して得られる化合物類を挙げることが出来る。   The allyl group-containing glycidyl compound (c) used in the present invention may be any compound having an allyl group and a glycidyl (epoxy group) in the molecule, and allyl glycidyl ether, diallyl monoglycidyl isocyanuric acid is obtained by the following scheme. (Alkyl) monophenols and allyl chloride obtained in the presence of an alkali metal hydroxide, and allylated phenol obtained by Claisen rearrangement under heating, and further presence of epichlorohydrin and alkali metal hydroxide Mention may be made of compounds obtained by glycidyl etherification below.

Figure 0004925263
Figure 0004925263

ここで、MeOHはアルカリ金属水酸化物を示す。
係るフェノール類のアリル化は特開昭53−134099号、特開昭58−159436号の記載を参考にすれば容易に得られる。また、特開平5−065239号、特開平5−065240号にはクライゼン転位により、アリル化フェノール類の高収率の製法が開示されている。USP−2,910,455、特開平11−279257号にはアリル化多価フェノール化合物からのエポキシ樹脂の製法が開示されている。更には特開2000−191572号にはアリル化フェノールの製法としてジアリルカーボネートを使用する方法が開示されている。いずれの方法であっても本発明のアリル化フェニルグリシジルエーテルの製造に使用できるが、グリシジル基が一官能であればよく、アリル基は複数個含有していてもかまわない。したがって、フェノール源としては、モノフェノールでアルキル基の未及び複数置換があってもさしつかえない。フェノール源としては、フェノール、クレゾール類、キシレノール類、p−tert−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール等を例示することができる。
また、感光性の初期反応開始を促進する目的でグリシジルメタクリレートの様なα−β不飽和グリシジル化合物を本発明の意図を超えない範囲で併用することを妨げない。
Here, MeOH represents an alkali metal hydroxide.
Allylation of such phenols can be easily obtained by referring to the descriptions in JP-A-53-134099 and JP-A-58-159436. JP-A-5-065239 and JP-A-5-0665240 disclose a method for producing allylated phenols in high yield by Claisen rearrangement. USP-2,910,455 and JP-A-11-279257 disclose a method for producing an epoxy resin from an allylated polyphenol compound. Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-191572 discloses a method using diallyl carbonate as a method for producing an allylated phenol. Any method can be used for producing the allylated phenyl glycidyl ether of the present invention, but the glycidyl group may be monofunctional, and a plurality of allyl groups may be contained. Thus, the phenol source may be monophenol with unalkylated or multiple substituted alkyl groups. Examples of the phenol source include phenol, cresols, xylenols, p-tert-butylphenol, octylphenol, nonylphenol and the like.
Further, it does not prevent the combined use of an α-β unsaturated glycidyl compound such as glycidyl methacrylate within the range not exceeding the intention of the present invention for the purpose of promoting the initiation of the photosensitive initial reaction.

本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂は、製造段階でゲル粒子などを発生することなく、その組成物は良好な光硬化性と熱硬化性及び接着強度に優れるので、インキ、塗料、接着剤、電子材料等に有効な樹脂である。   The polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain of the present invention does not generate gel particles or the like in the production stage, and the composition is excellent in good photocurability and thermosetting and adhesive strength. It is an effective resin for paints, adhesives, electronic materials, etc.

以下順次本発明の実施態様に沿って説明する。本発明の第一段階である主鎖ポリマーであるPHE(a)の2級水酸基に対する多塩基酸無水物(b)の付加反応について説明する。
この反応は非反応性の溶剤の存在下で行なわれる。好ましい溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソフォロン等のケトン類、1,4−ジオキサン、テトラハイドロフラン等の環状エーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の直鎖エーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等の非プロトン溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類である。これらの溶剤は単独もしくは混合して使用してもかまわない。
また、多塩基酸無水物の副反応を避けるため使用する溶剤及び使用するPHE中の水分量を極力少なくする必要がある。そのため事前にPHEを70〜80℃程度で24時間以上乾燥させた後に使用するか、溶剤に溶解後に脱水して目的を達成する。
係る付加反応は無触媒でも進行するが、付加反応を短時間で完結させるためには触媒を使用することが望ましい。使用できる触媒としては、トリエチルアミン、N,N’−ジメチルピペラジン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン類、それらの4級アンモニウム塩類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のアルキルイミダゾール類、更にはトリフェニルフォスフィン、トリサイクロヘキシルフォスフィン等のフォスフィン類、それらの4級ホスホニウム塩類が使用できる。これらの触媒の使用量は全固形分に対して10〜10,000ppm、より好ましくは100〜8,000ppm、更に好ましくは500〜7,000ppmである。
Hereinafter, it demonstrates along the embodiment of this invention sequentially. The addition reaction of the polybasic acid anhydride (b) to the secondary hydroxyl group of PHE (a), which is the main chain polymer, which is the first stage of the present invention will be described.
This reaction is carried out in the presence of a non-reactive solvent. Preferred solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and isophorone, cyclic ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, linear ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, ethyl acetate and butyl acetate. An aprotic solvent such as dimethyl sulfoxide, dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and an aromatic hydrocarbon such as toluene and xylene. These solvents may be used alone or in combination.
Further, in order to avoid side reactions of polybasic acid anhydrides, it is necessary to reduce the amount of water in the solvent used and the PHE used as much as possible. Therefore, PHE is used after being dried at about 70 to 80 ° C. for 24 hours or more in advance or dehydrated after being dissolved in a solvent to achieve the object.
Such an addition reaction proceeds even without a catalyst, but it is desirable to use a catalyst in order to complete the addition reaction in a short time. Catalysts that can be used include tertiary amines such as triethylamine, N, N′-dimethylpiperazine, and benzyldimethylamine, quaternary ammonium salts thereof, and alkylimidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. Furthermore, phosphines such as triphenylphosphine and tricyclophosphine, and quaternary phosphonium salts thereof can be used. The amount of these catalysts used is 10 to 10,000 ppm, more preferably 100 to 8,000 ppm, still more preferably 500 to 7,000 ppm, based on the total solid content.

係る付加反応は反応に影響を与えない溶剤の存在下に、PHEを溶解させた後に、多塩基酸無水物を一括、又は、分割して加えて反応する。反応温度は50〜150℃、好ましくは90〜150℃、さらに好ましくは100〜130℃である。付加反応の追跡はFT−IRにより多塩基酸無水物の吸収スペクトルの測定により行い、その消失により反応完了を容易に決定することができる。反応生成物の濃度が20〜60重量%、更に好ましくは30〜50重量%の範囲となるように逐次溶剤を追加して用いられる。反応時間は通常2〜20時間程度でよく、触媒量、反応温度、固形分濃度により調節することが可能である。   In such an addition reaction, PHE is dissolved in the presence of a solvent that does not affect the reaction, and then the polybasic acid anhydride is added in a batch or dividedly to react. The reaction temperature is 50 to 150 ° C, preferably 90 to 150 ° C, more preferably 100 to 130 ° C. The addition reaction can be traced by measuring the absorption spectrum of the polybasic acid anhydride by FT-IR, and the completion of the reaction can be easily determined by the disappearance. Sequentially, a solvent is added so that the concentration of the reaction product is in the range of 20 to 60% by weight, more preferably 30 to 50% by weight. The reaction time may normally be about 2 to 20 hours, and can be adjusted by the amount of catalyst, reaction temperature, and solid content concentration.

本発明におけるPHE(a)と多塩基酸無水物(b)の付加比率は、(a)の水酸基1モルに対して0.1〜0.9モル、より好ましくは0.2〜0.7モル、更に好ましくは0.3〜0.6モルである。付加比率が少ないと硬化性が劣り、付加比率が多すぎると硬化物が硬く靭性に欠ける。官能基数は付加比率のみで決定されるものではなく、無水酸の塩基数、及び、アリル基含有グリシジル化合物のアリル基数に因っても変化するので多様な樹脂設計が可能である。
本発明の第二段階である半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル樹脂(A)中のカルボキシル基とアリル基含有グリシジル化合物(c)との反応は、カルボキシル基とグリシジル基の開環付加反応である。この反応は無触媒でも進行するが、より好ましくは触媒を使用することが好ましい。好ましい触媒としては段落番号0019に記載の触媒を使用することが出来る。すなわち、第一段階の半エステル化時の触媒と第二段階の触媒は同一のもが使用できる。第一段階の触媒活性が残っている場合は、この反応の為に新たに添加する事は必要としない。もちろん、必要があれば追加することを妨げるものではない。
In the present invention, the addition ratio of PHE (a) and polybasic acid anhydride (b) is 0.1 to 0.9 mol, more preferably 0.2 to 0.7 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group of (a). Mol, more preferably 0.3 to 0.6 mol. If the addition ratio is small, the curability is inferior, and if the addition ratio is too large, the cured product is hard and lacks toughness. Since the number of functional groups is not determined only by the addition ratio, but varies depending on the number of bases of anhydride and the number of allyl groups of the allyl group-containing glycidyl compound, various resin designs are possible.
The reaction of the carboxyl group and the allyl group-containing glycidyl compound (c) in the half-esterified modified polyhydroxy ether resin (A), which is the second stage of the present invention, is a ring-opening addition reaction of the carboxyl group and the glycidyl group. Although this reaction proceeds even without catalyst, it is more preferable to use a catalyst. As a preferred catalyst, the catalyst described in paragraph 0019 can be used. That is, the same catalyst can be used for the first stage half-esterification and the second stage catalyst. If the first stage catalyst activity remains, no additional addition is required for this reaction. Of course, it does not prevent you from adding if necessary.

係る反応中アリル基含有グリシジル化合物(c)は比較的安定であるので、重合を防ぐため少量の空気をバブリングさせて重合を防いだり、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどの重合禁止剤を使用する必要はないが、その使用を妨げるものではない。
係る付加反応は50〜150℃、好ましくは60〜130℃、さらに好ましくは60〜120℃の温度で行うのが良い。反応の追跡はFT−IRによるエポキシ基の消失の確認、及び、HPLCまたはGPCの測定によりアリル基含有グリシジル化合物(c)のピーク消失により容易に決定できる。
係る半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル樹脂(A)中のカルボキシル基に対するアリル基含有グリシジル化合物(c)の付加比率は、カルボキシル基1モル当たり(c)を0.5モル以上で有ればよく、過剰モルを使用しても差し支えないが、過剰部分は未反応となり硬化物性が硬く、脆くなる傾向が強くなるので好ましくはない。また、0.5モル以下ではアリル基の含有率が下がり、半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル樹脂(A)の性質が強くなり本発明の効果が発揮できない。
本発明で得られる最終樹脂(B)中にはペンダントに2級水酸基、アリル基が混在することになるが、(c)の付加モル比を0.5〜1.0モルの間とした場合、最終樹脂(B)中には遊離カルボキシル基が存在することになる。遊離カルボキシル基が必要か否かは目的及び用途に依って決定されるべきである。カルボキシル基を利用して水性化する場合、レジストの様なアルカリ水溶液可溶性を付与する場合、金属に対する接着力が要求される場合等は遊離カルボキシル基が存在した方がよい。また、耐水性、耐薬品性、電食などが心配される用途では存在しない方が良い。
Since the allyl group-containing glycidyl compound (c) is relatively stable during the reaction, the polymerization is prevented by bubbling a small amount of air to prevent polymerization, such as hydroquinone, methylhydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pyrogallol, phenothiazine, etc. Although it is not necessary to use a polymerization inhibitor, it does not prevent its use.
Such an addition reaction may be carried out at a temperature of 50 to 150 ° C, preferably 60 to 130 ° C, more preferably 60 to 120 ° C. The tracking of the reaction can be easily determined by confirming the disappearance of the epoxy group by FT-IR and by the disappearance of the peak of the allyl group-containing glycidyl compound (c) by HPLC or GPC measurement.
The addition ratio of the allyl group-containing glycidyl compound (c) to the carboxyl group in the half-esterified modified polyhydroxy ether resin (A) may be such that (c) is 0.5 mol or more per mol of the carboxyl group, Although an excess mole may be used, it is not preferable because the excess portion is unreacted and the cured material properties are hard and the tendency to become brittle becomes strong. On the other hand, if it is 0.5 mol or less, the allyl group content decreases, the properties of the half-esterified modified polyhydroxy ether resin (A) become strong, and the effects of the present invention cannot be exhibited.
In the final resin (B) obtained in the present invention, a secondary hydroxyl group and an allyl group are mixed in the pendant, but the addition molar ratio of (c) is between 0.5 and 1.0 mol. In the final resin (B), free carboxyl groups are present. Whether a free carboxyl group is required should be determined by purpose and use. In the case of making aqueous using a carboxyl group, in the case of imparting alkali aqueous solubility such as a resist, or in the case where adhesion to a metal is required, it is preferable that a free carboxyl group exists. In addition, it should not exist in applications where water resistance, chemical resistance, electrolytic corrosion, etc. are a concern.

本発明の樹脂組成物に付いて説明する。特に熱硬化性樹脂組成物とするためには、必須成分としてラジカル重合開始剤を配合する必要がある。ラジカル重合開始剤としてはエチルメチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、tert−ブチル−α―クミルパーオキサイド等の過酸化物を例示することができる。ラジカル重合開始剤の使用量は本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B)100重量部に対して、0.1〜10重量部、好ましくは1〜5重量部である。
熱硬化性樹脂組成物として、他の熱硬化性モノマー及びオリゴマーを添加して使用することが出来るが、本発明で得られる最終樹脂(B)が少なくとも5重量%、好ましくは20重量%以上含有することが望ましい。併用し得るモノマーの具体例として、ジアリルフタレート、アリルグリシジルエーテル、トリアリルイソシアネート、アクリル酸エステル類等、オリゴマーの具体例としてジアリルフタレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルエステルオリゴマー、エポキシアクリレート樹脂等を挙げることができる。
The resin composition of the present invention will be described. In particular, in order to obtain a thermosetting resin composition, it is necessary to blend a radical polymerization initiator as an essential component. As radical polymerization initiators, ethyl methyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, isobutyryl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, di-tert-butyl Examples thereof include peroxides and peroxides such as tert-butyl-α-cumyl peroxide. The usage-amount of a radical polymerization initiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of polyhydroxy ether resin (B) which has an allyl group in the side chain of this invention, Preferably it is 1-5 weight part.
As the thermosetting resin composition, other thermosetting monomers and oligomers can be added and used, but the final resin (B) obtained in the present invention is contained at least 5% by weight, preferably 20% by weight or more. It is desirable to do. Specific examples of monomers that can be used in combination include diallyl phthalate, allyl glycidyl ether, triallyl isocyanate, acrylates, etc. Specific examples of oligomers include diallyl phthalate resin, unsaturated polyester resin, acrylic ester oligomer, epoxy acrylate resin, etc. be able to.

本発明の樹脂組成物として、特に感光性樹脂組成物とするためには、必須成分として光硬化開始剤を配合する必要がある。係る光硬化開始剤の具体例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインブチルエーテル、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン及びその誘導体、メチルベンゾイルホルメート、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン(チバ・スペシャリテーケミカルス社製、イルガキュアー907)などであるが、使用する露光機の紫外線に吸収波長を有する化合物を選択するのが良い。これらの光硬化開始剤の使用量は本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B)100重量部に対して、0.1〜20重量部、好ましくは1〜10重量部である。これらは単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。さらには、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤を単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることが出来る。   In order to make the resin composition of the present invention particularly a photosensitive resin composition, it is necessary to blend a photocuring initiator as an essential component. Specific examples of such a photocuring initiator include acetophenone, benzophenone, 4,4′-bisdimethylaminobenzophenone, benzoin butyl ether, benzophenone such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and derivatives thereof, thioxanthone, and 2,4-dimethyl. Thioxanthone such as thioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone and derivatives thereof, methylbenzoylformate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals) It is preferable to select a compound having an absorption wavelength in the ultraviolet rays of an exposure machine to be used. The amount of these photocuring initiators used is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyhydroxy ether resin (B) having an allyl group in the side chain of the present invention. is there. These can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, photosensitizers such as tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, 4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine, etc. It can be used alone or in combination of two or more.

本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B)を感光性樹脂組成物として使用する場合、光重合性不飽和モノマーを添加して使用することができる。モノマーの添加は流動性及びタック性の調節機能を有する。光重合性不飽和モノマーの例示としては、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンとり(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B)を使用した樹脂組成物には、必要に応じて、溶剤、顔料、染料、着色剤、耐炎剤、消泡剤、湿潤剤、分散剤、防錆剤、静電防止剤、表面処理剤、熱可塑性樹脂、エラストマー、アクリル酸モノマー類、アクリル酸オリゴマー類、エポキシアクリレート類、シランカップリング剤、無機充填剤、繊維強化材などを配合することが可能である。
When using polyhydroxy ether resin (B) which has an allyl group in the side chain of this invention as a photosensitive resin composition, a photopolymerizable unsaturated monomer can be added and used. The addition of monomer has a function of controlling fluidity and tackiness. Examples of photopolymerizable unsaturated monomers include (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, Examples include ethylene glycol (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate and the like.
In the resin composition using the polyhydroxyether resin (B) having an allyl group in the side chain of the present invention, a solvent, a pigment, a dye, a colorant, a flame retardant, an antifoaming agent, a wetting agent, Dispersants, rust inhibitors, antistatic agents, surface treatment agents, thermoplastic resins, elastomers, acrylic acid monomers, acrylic acid oligomers, epoxy acrylates, silane coupling agents, inorganic fillers, fiber reinforcements, etc. It is possible to mix.

本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B)を使用した感光性樹脂組成物は、可視光線、紫外線、X線、電子線等のエネルギー線照射により硬化させることができる。可視光線、紫外線、X線、電子線等のエネルギー線照射による硬化は常法により行うことが出来る。例えば、紫外線を照射する場合、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、紫外線発光レーザー等の紫外線発生機を用いればよい。
本発明の樹脂組成物の用途としては、UV又は熱硬化インキとして、ブリキ、アルミなどの金属印刷、ラベル印刷、ビジネスフォーム印刷などの印刷インキ材料としての用途。プリント配線基板のソルダーマスク、マーキングインキ、接着剤付き銅箔、ドライフイルムレジスト、半導体チップと配線基板用フイルム接着剤、アデテイブ法による多層回路板等の電子分野の用途、モーターコイルの絶縁含浸ワニス、自己融着絶縁電線ワニス等の電気分野の用途、木工家具、合板などのクリア塗料、紙の表面艶出し加工、プラスチックのハードコート剤等の塗料用途、光学レンズの接着剤、光ファイバー用接着剤、フイルム状接着剤(熱、光架橋型)等の接着剤用途、架橋フイルムとして酸素透過率の低いラミネート、コーテイング剤として食品包装材料の用途などに使用できる。
〔実施例、比較例〕
The photosensitive resin composition using the polyhydroxy ether resin (B) having an allyl group in the side chain of the present invention can be cured by irradiation with energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays and electron beams. Curing by irradiation with energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, and electron beams can be performed by a conventional method. For example, in the case of irradiating ultraviolet rays, an ultraviolet generator such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or an ultraviolet light emitting laser may be used.
The resin composition of the present invention is used as a printing ink material for UV or thermosetting ink, metal printing such as tinplate and aluminum, label printing and business form printing. Solder mask for printed wiring board, marking ink, copper foil with adhesive, dry film resist, film adhesive for semiconductor chip and wiring board, multilayer circuit board by additive method, motor coil insulation impregnation varnish, Electric field applications such as self-bonding insulated electric wire varnish, wood furniture, plywood and other clear coatings, paper surface glazing, plastic hard coats and other coatings, optical lens adhesives, optical fiber adhesives, It can be used for adhesives such as a film-like adhesive (heat, photocrosslinking type), a laminate having a low oxygen permeability as a crosslinked film, and a food packaging material as a coating agent.
Examples and comparative examples

以下、合成例、実施例及び比較例に基づき本発明を具体的に説明する。尚、本発明は実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on synthesis examples, examples, and comparative examples. In addition, this invention is not limited only to an Example.

合成例1(40%MeHHPA付加)
BPAとECHから得られたPHE、具体的にはフェノトートYP−50S(東都化成株式会社製、数平均分子量15,000、水酸基当量284g/eq)を70℃に保持した真空デシケーター中で24時間乾燥した後で、1リッターセパラブルフラスコに213g(水酸基0.75モル)、予め脱水したジエチレングリコールジメチルエーテル(以下、MDMと略記)320g(固形分濃度40%)を加え、攪拌しながら約50℃に加温して完全に溶解した。次にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸(MeHHPA無水酸当量168g/eq)50.4g(0.30モル)、触媒としてトリフェニルフォスフィン(以下TPPと略記)を0.26g(1,000ppm/全固体量)を追加して、110℃で7時間攪拌し付加反応を完了した。メチルエチルケトン(以下MEKと略記)75gを追加して変性ポリヒドキシエーテル樹脂溶液(A1)を得た。この樹脂の性状を表1に示した。
Synthesis example 1 (40% MeHHPA addition)
PHE obtained from BPA and ECH, specifically phenototoy YP-50S (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., number average molecular weight 15,000, hydroxyl group equivalent 284 g / eq) in a vacuum desiccator maintained at 70 ° C. for 24 hours After drying, 213 g (hydroxyl group 0.75 mol) and 320 g of diethylene glycol dimethyl ether (hereinafter abbreviated as MDM) (solid content concentration 40%) dehydrated in advance are added to a 1-liter separable flask, and the mixture is stirred at about 50 ° C. Warmed to dissolve completely. Next, 50.4 g (0.30 mol) of methylhexahydrophthalic anhydride (MeHHPA anhydride equivalent weight 168 g / eq) and 0.26 g (1,000 ppm / total solid) of triphenylphosphine (hereinafter abbreviated as TPP) as a catalyst. The reaction was completed at 110 ° C. for 7 hours to complete the addition reaction. 75 g of methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as MEK) was added to obtain a modified polyhydroxy ether resin solution (A1). The properties of this resin are shown in Table 1.

合成例2(30%TMA付加)
合成例1でMeHHPAに変えて、トリメリット酸無水物(TMA、無水酸当量=192g/eq)43.2g(0.225モル)、TPPを0.26g、MEK64.3gを使用した他は同様に操作して変性ポリヒドキシエーテル樹脂溶液(A2)を得た。この樹脂の性状を表1に示す。
Synthesis example 2 (30% TMA addition)
It is the same except that instead of MeHHPA in Synthesis Example 1, trimellitic anhydride (TMA, anhydride equivalent = 192 g / eq) 43.2 g (0.225 mol), TPP 0.26 g, and MEK 64.3 g were used. To obtain a modified polyhydroxy ether resin solution (A2). The properties of this resin are shown in Table 1.

合成例3(50%THPA付加)
ビスフェノールAジグリシジルエーテルとビスフェノールFの共重合物であるPHE、具体的にはフェノトートYP−70(東都化成株式会社製、数平均分子量10,000、水酸基当量270g/eq、)を216g(水酸基0.80モル)、MDM324gを加え50℃にて攪拌して溶解した。これにテトラヒドロキシ無水フタル酸(THPA、無水酸当量152g/eq)を60.8g(0.40モル)、触媒として2−エチル−4−メチルイミダゾール0.14gを仕込み、攪拌しながら110℃まで徐々に昇温した。反応温度105℃〜125℃を保ちながら7時間攪拌した後、MEK91gを加え変性ポリヒドキシエーテル樹脂溶液(A3)を得た。この樹脂の性状を表1に示す。
Synthesis example 3 (50% THPA addition)
PHE which is a copolymer of bisphenol A diglycidyl ether and bisphenol F, specifically, phenotoate YP-70 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., number average molecular weight 10,000, hydroxyl group equivalent 270 g / eq, 216 g) 0.80 mol) and 324 g of MDM were added and dissolved by stirring at 50 ° C. This was charged with 60.8 g (0.40 mol) of tetrahydroxyphthalic anhydride (THPA, acid anhydride equivalent of 152 g / eq) and 0.14 g of 2-ethyl-4-methylimidazole as a catalyst, and the temperature was increased to 110 ° C. with stirring. The temperature gradually increased. After stirring for 7 hours while maintaining the reaction temperature of 105 ° C to 125 ° C, 91 g of MEK was added to obtain a modified polyhydroxy ether resin solution (A3). The properties of this resin are shown in Table 1.

合成例4(アルキルフェノールからのアリル基含有グリシジル化合物)
1リッターの攪拌機付きフラスコにオルソクレゾール108g(1モル)、アリルクロライド229.5g(3モル)n−ブタノール200g、トルエン75gを加え、75〜82℃に温度制御しながら49%苛性カリ水溶液137g(1.2モル)を4時間かけて滴下した。この間、還流により発生する水を分離除去した。さらに75〜88℃にて3時間熟成した。室温まで冷却後吸引ろ過して副成塩化カリウムを除去した。ろ液を120〜130℃、5torrの減圧下で未反応物と溶剤を除去した。転位促進剤としてN,N’−ジメチルアセトアミド10gを添加し、窒素気流下200℃±5℃で6時間クライゼン転位を行った。淡黄色の液状のo−アリル化クレゾールを得た。これをECH62.5g(5モル)に溶解し、45〜55℃で、49%苛性ソーダ水溶液81.6g(1モル)を4時間で滴下した。この間、140〜160torrの減圧環流下で発生する水を分離除去した。更に1時間同温度に保持後、120℃、5torrの減圧でECHを回収した。メチルイソブチルケトン370g、水230gを加えて食塩を溶解し分離除去した。同量の水で2回洗浄後希燐酸でPH6.0〜6.5とし、吸引ろ過してから130℃、5torrで30分間減圧乾燥して淡黄色液体のアリル化クレゾールグリシジルエーテル(以下ACGEと略記)195gを得た。この物はエポキシ当量208.2g/eq、沃素価167.4I/100gであった。
Synthesis Example 4 (Allyl group-containing glycidyl compound from alkylphenol)
To a 1-liter flask equipped with a stirrer, 108 g (1 mol) of orthocresol, 229.5 g (3 mol) of allyl chloride, 200 g of n-butanol and 75 g of toluene were added, and 137 g (1%) of a 49% aqueous solution of caustic potash was controlled at 75 to 82 ° C. 2 mol) was added dropwise over 4 hours. During this time, water generated by reflux was separated and removed. Further, the mixture was aged at 75 to 88 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, suction filtration was performed to remove byproduct potassium chloride. Unreacted substances and the solvent were removed from the filtrate at 120 to 130 ° C. under a reduced pressure of 5 torr. 10 g of N, N′-dimethylacetamide was added as a rearrangement accelerator, and Claisen rearrangement was performed at 200 ° C. ± 5 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. A pale yellow liquid o-allylated cresol was obtained. This was dissolved in 62.5 g (5 mol) of ECH, and 81.6 g (1 mol) of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 45 to 55 ° C. over 4 hours. During this period, water generated under a reduced pressure reflux of 140 to 160 torr was separated and removed. After maintaining the same temperature for 1 hour, ECH was recovered at 120 ° C. under reduced pressure of 5 torr. 370 g of methyl isobutyl ketone and 230 g of water were added to dissolve and remove the salt. After washing twice with the same amount of water, the pH was adjusted to 6.0 to 6.5 with dilute phosphoric acid, suction filtered, and dried under reduced pressure at 130 ° C. and 5 torr for 30 minutes. (Abbreviation) 195 g was obtained. This product had an epoxy equivalent of 208.2 g / eq and an iodine value of 167.4 I / 100 g.

Figure 0004925263
Figure 0004925263

実施例1(カルボン酸基にAGE等モル付加)
500mlセパラブルフラスコに合成例1で得られた変性ポリヒドキシエーテル樹脂溶液(A1)250g(カルボキシル基0.114モル)、アリルグリシジルエーテル(日本油脂株式会社製AGE)13g(エポキシ基0.114モル)、触媒としてTPP0.011g、MDM13gを加え、100℃で5時間反応後、TPPを0.11g追加してさらに5時間反応して本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B1)を得た。MEKで固形分調節して約30wt%とした。この樹脂の性状を表2に示す。
Example 1 (AGE equimolar addition to a carboxylic acid group)
In a 500 ml separable flask, 250 g of the modified polyhydroxy ether resin solution (A1) obtained in Synthesis Example 1 (0.114 mol of carboxyl group), 13 g of allyl glycidyl ether (AGE manufactured by NOF Corporation) (epoxy group 0.114) Mol), 0.011 g of TPP and 13 g of MDM were added as catalysts, reacted at 100 ° C. for 5 hours, added with 0.11 g of TPP, and further reacted for 5 hours to react with the polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain of the present invention ( B1) was obtained. The solid content was adjusted to about 30 wt% with MEK. Table 2 shows the properties of this resin.

実施例2(カルボン酸基にAGE0.6モル付加)
合成例1で得られた変性ポリヒドキシポリエーテル樹脂溶液(A1)250g(カルボキシル基0.114モル)、AGE7.8g(エポキシ基0.068モル)、MDM8gを加え実施例1と同様にして本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B2)を得た。この樹脂の性状を表2に示す。
Example 2 (0.6 mol addition of AGE to carboxylic acid group)
250 g (carboxyl group 0.114 mol), AGE 7.8 g (epoxy group 0.068 mol), and MDM 8 g obtained in Synthesis Example 1 were added in the same manner as in Example 1 except that 250 g (carboxyl group 0.114 mol) was obtained. A polyhydroxy ether resin (B2) having an allyl group in the side chain of the present invention was obtained. Table 2 shows the properties of this resin.

実施例3(カルボン酸基にAGE0.5モル付加)
合成例2で得られた変性ポリヒドキシポリエーテル樹脂溶液(A2)250g(カルボキシル基0.167モル)、AGE9.59g(エポキシ基0.084モル)、MDM20gを加え実施例1と同様にして本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B3)を得た。この樹脂の性状を表2に示す。
Example 3 (0.5 mol addition of AGE to carboxylic acid group)
250 g (carboxyl group 0.167 mol), AGE 9.59 g (epoxy group 0.084 mol), and MDM 20 g obtained in Synthesis Example 2 were added in the same manner as in Example 1 except for 250 g (A2) of the modified polyhydroxypolyether resin solution (A2). A polyhydroxy ether resin (B3) having an allyl group in the side chain of the present invention was obtained. Table 2 shows the properties of this resin.

実施例4(カルボン酸基にACGE等モル付加)
合成例2で得られた変性ポリヒドキシポリエーテル樹脂溶液(A2)250g(カルボキシル基0.222モル)、合成例4で製造したACGE46.2g(エポキシ基0.222)、MDM47g、TPPを0.014gを加え、80℃で5時間反応後、TPPを0.014g追加してさらに5時間反応した。最終的にMEKで固形分調節して約30wt%として本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂(B4)を得た。この樹脂の性状を表2に示す。
Example 4 (ACGE equimolar addition to a carboxylic acid group)
250 g (carboxyl group 0.222 mol) of the modified polyhydroxypolyether resin solution (A2) obtained in Synthesis Example 2, 46.2 g of ACGE (epoxy group 0.222) produced in Synthesis Example 4, MDM 47 g, and TPP 0 .014 g was added and reacted at 80 ° C. for 5 hours, and then 0.014 g of TPP was added and reacted for another 5 hours. Finally, the solid content was adjusted to about 30 wt% with MEK to obtain a polyhydroxy ether resin (B4) having an allyl group in the side chain of the present invention. Table 2 shows the properties of this resin.

比較例1(カルボン酸基にGMA等モル付加)
合成例2で得られた変性ポリヒドキシエーテル樹脂溶液(A2)250g(カルボキシル基0.222モル)、グリシジルメタクリレート(日本油脂株式会社製GMA)31.5g(エポキシ基0.222モル)、MDM32gとハイドロキノンモノメチルエーテル19mgを加え、空気を吹き込みながら95℃で5時間反応後、TPPを0.013g追加してさらに5時間反応して、α−β不飽和基含有半エステル化変性ポリヒドロキシエーテル(B5)を得たが、著しく増粘していた。この樹脂の性状を表2に示す。
Comparative Example 1 (GMA equimolar addition to carboxylic acid group)
250 g of modified polyhydroxy ether resin solution (A2) obtained in Synthesis Example 2 (carboxyl group 0.222 mol), 31.5 g of glycidyl methacrylate (Nippon Yushi Co., Ltd. GMA) (epoxy group 0.222 mol), MDM 32 g And 19 mg of hydroquinone monomethyl ether were added, reacted for 5 hours at 95 ° C. while blowing air, added 0.013 g of TPP and further reacted for 5 hours to produce an α-β unsaturated group-containing half-esterified modified polyhydroxy ether ( B5) was obtained, but the viscosity was significantly increased. Table 2 shows the properties of this resin.

Figure 0004925263
Figure 0004925263

実施例5(感光性樹脂組成物)
実施例3で得られた側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル(B3)200g、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート(EA−7120/PGMAC新中村化学株式会社製、固形分70%)57.1g光重合開始剤としてイルガキュアー907を5g、MEKで希釈して固形分濃度20%とし、この溶液をPETフイルム上にバーコーターを用いて塗布し、40℃の熱風乾燥機で乾燥し、膜厚10〜15ミクロンの透明フイルムを得た。このフイルムをUV照射装置(オーク製作所社製HMW−590)で露光量500J/cmで露光し、更に160℃で30分加熱したところ、MEKに溶解しない強靭で可撓性のある架橋フイルムが得られた。
Example 5 (photosensitive resin composition)
200 g of polyhydroxy ether (B3) having an allyl group in the side chain obtained in Example 3, 57.1 g of cresol novolac epoxy acrylate (EA-7120 / PGMAC Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., solid content 70%) 57.1 g photopolymerization As an initiator, 5 g of Irgacure 907 was diluted with MEK to a solid content concentration of 20%. This solution was applied onto a PET film using a bar coater and dried with a hot air dryer at 40 ° C. A 15 micron transparent film was obtained. When this film was exposed with a UV irradiation apparatus (HMW-590 manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd.) at an exposure amount of 500 J / cm 2 and further heated at 160 ° C. for 30 minutes, a tough and flexible crosslinked film that did not dissolve in MEK was obtained. Obtained.

実施例6、比較例2(熱硬化性樹脂組成物)
実施例1〜4で得られた側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル(B1〜B4)100部(固形分30%)、過酸化物としてジ−tert−ブチルパーオキサイド(日本油脂株式会社製パーブチルD)1.2部、MEK50g、シクロヘキサノン50gを加えて均一に混合した。これをPETフイルムにバーコーターを用いて塗布し、80℃の熱風乾燥機で乾燥し、剥離して膜厚約10〜15ミクロンの透明熱接着フイルムを得た。
この透明熱接着フイルム5枚を予め脱脂した25mm×150mm×1mmの軟鋼板2枚の間に挟み180℃のホットプレスにて接触圧で5分間硬化した。比較のため、側鎖にアリル基のないPHE(フェノトートYP−50S(東都化成株式会社製 BPA型PHE)を過酸化物を添加しないで同様なフイルムを作成し接着試験片を得た。剪断接着強度を25℃と100℃で測定した結果は表3の通りであった。
Example 6 and Comparative Example 2 (thermosetting resin composition)
100 parts of polyhydroxy ether (B1 to B4) having an allyl group in the side chain obtained in Examples 1 to 4 (solid content: 30%), di-tert-butyl peroxide (manufactured by NOF Corporation) as a peroxide Perbutyl D) 1.2 parts, MEK 50 g, and cyclohexanone 50 g were added and mixed uniformly. This was applied to a PET film using a bar coater, dried with a hot air dryer at 80 ° C., and peeled to obtain a transparent heat-bonding film having a film thickness of about 10 to 15 microns.
The five transparent heat-bonding films were sandwiched between two previously degreased 25 mm × 150 mm × 1 mm mild steel plates and cured with a hot press at 180 ° C. for 5 minutes. For comparison, a PHE (phenototo YP-50S (BPA-type PHE manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.)) having no allyl group in the side chain was prepared without adding a peroxide to obtain an adhesion test piece. The results of measuring the adhesive strength at 25 ° C. and 100 ° C. are shown in Table 3.

Figure 0004925263
Figure 0004925263

本発明の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂は、製造段階でゲル粒子などを発生することなく、その組成物は良好な光硬化性と熱硬化性及び接着強度に優れるので、インキ、塗料、接着剤、電子材料等に有効な樹脂である。   The polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain of the present invention does not generate gel particles or the like in the production stage, and the composition is excellent in good photocurability and thermosetting and adhesive strength. It is an effective resin for paints, adhesives, electronic materials, etc.

合成例2に使用した主鎖PHEの各ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)チャートEach gel permeation chromatograph (GPC) chart of the main chain PHE used in Synthesis Example 2 実施例3の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル(B3)のゲル浸透クロマトグラフ(GPC)チャートGel permeation chromatograph (GPC) chart of polyhydroxy ether (B3) having an allyl group in the side chain of Example 3 合成例2に使用した主鎖PHEのFT−IRスペクトルFT-IR spectrum of main chain PHE used in Synthesis Example 2 実施例3の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル(B3)のFT−IRスペクトルFT-IR spectrum of polyhydroxy ether (B3) having an allyl group in the side chain of Example 3

Claims (10)

一般式(1)で示される側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂で、その主鎖ポリヒドロキシエーテルの数平均分子量が1,000以上200,000以下である側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂。
Figure 0004925263
(式中、R1は多塩基酸無水物残基、Rはアリル基含有グリシジル化合物残基、Mは2価フェノール残基であり、同一でも異なっていてもよく、l、m、nは整数であって、mは0の場合があっても良い。pは1〜3の整数である。)
A polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain represented by the general formula (1), wherein the main chain polyhydroxy ether has a number average molecular weight of 1,000 or more and 200,000 or less. Hydroxy ether resin.
Figure 0004925263
(In the formula, R 1 is a polybasic acid anhydride residue, R 2 is an allyl group-containing glycidyl compound residue, M is a divalent phenol residue, which may be the same or different, and l, m and n are (It may be an integer and m may be 0. p is an integer of 1 to 3.)
主鎖ポリヒドロキシエーテルが、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型、テトラブロムビスフェノールA型、ビスフェノールスルフォン型、ビフェニル型、含リン二価フェノール型から選択されるポリヒドロキシエーテルである請求項1記載のポリヒドロキシエーテル樹脂。 A polyhydroxy ether whose main chain polyhydroxy ether is selected from bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol A / bisphenol F copolymer type, tetrabromobisphenol A type, bisphenol sulfone type, biphenyl type, and phosphorus-containing dihydric phenol type 2. The polyhydroxy ether resin according to claim 1, wherein 多塩基酸無水物がトリメリット酸無水物であり、アリル基含有グリシジル化合物がアリルグリシジルエーテルである請求項1記載のポリヒドロキシエーテル樹脂。 2. The polyhydroxy ether resin according to claim 1, wherein the polybasic acid anhydride is trimellitic acid anhydride, and the allyl group-containing glycidyl compound is allyl glycidyl ether. アリル基含有グリシジル化合物が、アリル化(アルキル)モノフェノールのグリシジルエーテル類である請求項1〜3のいずれの項に記載のポリヒドロキシエーテル樹脂。 The polyhydroxy ether resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the allyl group-containing glycidyl compound is a glycidyl ether of an allylated (alkyl) monophenol. 2価フェノールとエピクロルヒドリンの縮合物反応、若しくは、2価フェノールと2価グリシジル化合物の付加重合反応のいずれかの製造法により得られたポリヒドロキシエーテル樹脂の水酸基1モルに対して0.1から0.9モルの範囲内で多塩基酸無水物を付加させ、しかる後に生成したカルボキシル基に対して0.5モル以上のアリル基含有グリシジル化合物を反応させる事からなる請求項1記載の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂の製造方法。 0.1 to 0 with respect to 1 mol of hydroxyl group of the polyhydroxy ether resin obtained by either the condensation reaction of dihydric phenol and epichlorohydrin or the addition polymerization reaction of dihydric phenol and divalent glycidyl compound. The side chain according to claim 1, comprising adding a polybasic acid anhydride within a range of 9.9 moles, and reacting a carboxyl group produced thereafter with 0.5 mole or more of an allyl group-containing glycidyl compound. A method for producing a polyhydroxy ether resin having an allyl group. 主鎖ポリヒドロキシエーテルが、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型、テトラブロムビスフェノールA型、ビスフェノールスルフォン型、ビフェニル型、含リン二価フェノール型から選択されるポリヒドロキシエーテルである請求項5記載のポリヒドロキシエーテル樹脂の製造方法。 A polyhydroxy ether whose main chain polyhydroxy ether is selected from bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol A / bisphenol F copolymer type, tetrabromobisphenol A type, bisphenol sulfone type, biphenyl type, and phosphorus-containing dihydric phenol type The method for producing a polyhydroxy ether resin according to claim 5. 多塩基酸無水物がトリメリット酸無水物であり、アリル基含有グリシジル化合物がアリルグリシジルエーテルである請求項5記載のポリヒドロキシエーテル樹脂の製造方法。 The method for producing a polyhydroxy ether resin according to claim 5, wherein the polybasic acid anhydride is trimellitic acid anhydride and the allyl group-containing glycidyl compound is allyl glycidyl ether. アリル基含有グリシジル化合物が、アリル化(アルキル)モノフェノールのグリシジルエーテル類である請求項5〜7のいずれの項に記載のポリヒドロキシエーテル樹脂の製造方法。 The method for producing a polyhydroxy ether resin according to any one of claims 5 to 7, wherein the allyl group-containing glycidyl compound is a glycidyl ether of an allylated (alkyl) monophenol. 請求項1項記載の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂を少なくとも5重量%以上含有することを特徴とする樹脂組成物。 2. A resin composition comprising at least 5% by weight or more of a polyhydroxy ether resin having an allyl group in a side chain according to claim 1. 請求項1項記載の側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂を少なくとも5重量%以上含有し、有機過酸化物又は光重合開始剤を含有することを特徴とする樹脂組成物から得られる感熱又は感光性樹脂フイルム。 2. A heat-sensitive material obtained from a resin composition comprising at least 5% by weight or more of a polyhydroxy ether resin having an allyl group in the side chain according to claim 1, and containing an organic peroxide or a photopolymerization initiator. Or a photosensitive resin film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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GB1431583A (en) * 1973-06-29 1976-04-07 Ilford Ltd Subbing layer for polyester base
JPS6335609A (en) * 1986-07-30 1988-02-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd Production of curable resin composition having ethylenically unsaturated group
JPH08120072A (en) * 1994-10-24 1996-05-14 Showa Highpolymer Co Ltd Production of curable resin and resin composition
US6376081B1 (en) * 2000-10-02 2002-04-23 Valspar Corporation Self-crosslinking resin and coating compositions made therefrom
TW200401949A (en) * 2002-07-05 2004-02-01 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
US7182995B2 (en) * 2002-09-09 2007-02-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Plated-polyester article and production process thereof

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