JP7027730B2 - Varnish composition, offset printing inks and printed matter - Google Patents

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JP7027730B2 JP2017164175A JP2017164175A JP7027730B2 JP 7027730 B2 JP7027730 B2 JP 7027730B2 JP 2017164175 A JP2017164175 A JP 2017164175A JP 2017164175 A JP2017164175 A JP 2017164175A JP 7027730 B2 JP7027730 B2 JP 7027730B2
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Description

本開示は、ワニス組成物、オフセット印刷インキ及び印刷物に関する。 The present disclosure relates to varnish compositions, offset printing inks and printed matter.

紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂組成物(以下、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物ともいう。)は、通常、反応性希釈剤、樹脂、光重合開始剤及び添加剤から構成されており、省エネルギー型の工業材料としてコーティング剤や塗料、印刷インキ等様々な分野で利用されている。 A resin composition that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams (hereinafter, also referred to as an active energy ray-curable resin composition) is usually composed of a reactive diluent, a resin, a photopolymerization initiator, and an additive. As an energy-saving industrial material, it is used in various fields such as coating agents, paints, and printing inks.

特に活性エネルギー線硬化型印刷インキにおいては、反応性希釈剤として、硬化性や皮膜硬度等が優れていることから、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートやジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等の多官能アクリレートが汎用されている。 In particular, in active energy ray-curable printing inks, polyfunctional acrylates such as dipentaerythritol hexaacrylate and ditrimethylolpropane tetraacrylate are widely used as reactive diluents because they have excellent curability and film hardness. There is.

一方、印刷適性を出すことを目的として、ジアリルフタレート樹脂やスチレンアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が広く用いられている。 On the other hand, diallyl phthalate resin, styrene acrylic resin, polyester resin and the like are widely used for the purpose of improving printability.

特許第5683757号公報Japanese Patent No. 5683757

従来のスチレンアクリル樹脂やポリエステル樹脂ではインキ流動性と耐ミスチング性はトレードオフの関係にあり、これらの性能を両立した樹脂が得られていないのが現状である。一方、アリルフタレート樹脂は、ジアリルフタレートモノマーを重合させたものであり、ヒドロキシル基やカルボキシル基等の極性官能基を有しないため、利用態様が限られる。また、樹脂中に残存する未反応のジアリルフタレートモノマーが変異原性の高懸念物質である(上記特許文献1の段落[0009]を参照。)ことから、ジアリルフタレート樹脂に代替し得る樹脂が求められている。 In the conventional styrene acrylic resin and polyester resin, there is a trade-off relationship between ink fluidity and misting resistance, and the current situation is that a resin having both of these performances has not been obtained. On the other hand, the allyl phthalate resin is obtained by polymerizing a diallyl phthalate monomer and does not have a polar functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, so that the usage mode is limited. Further, since the unreacted diallyl phthalate monomer remaining in the resin is a substance of very high concern with mutagenicity (see paragraph [0009] of Patent Document 1 above), a resin that can replace the diallyl phthalate resin is required. Has been done.

本発明が解決しようとする課題は、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有し、極性官能基の導入が可能な印刷インキの原料であるワニス組成物、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有するオフセット印刷インキ及び上記インキを用いた印刷物を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is a varnish composition which has excellent ink fluidity and misting resistance and is a raw material of a printing ink capable of introducing a polar functional group, and excellent ink fluidity and misting resistance. It is an object of the present invention to provide an offset printing ink having the above ink and a printed matter using the above ink.

本発明者らは、鋭意検討した結果、チオール系連鎖移動剤を用いて製造した樹脂及び複数の(メタ)アクリロイル基を有する反応性希釈剤を含むワニス組成物を用いることにより上記課題を解決できることを見出した。 As a result of diligent studies, the present inventors can solve the above-mentioned problems by using a varnish composition containing a resin produced by using a thiol-based chain transfer agent and a reactive diluent having a plurality of (meth) acryloyl groups. I found.

本開示により以下の項目が提供される。
(項目1)
構成単位1

Figure 0007027730000001
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rは、水素又はアルキル基である)
及び構成単位2
Figure 0007027730000002
(式中、Rはアルキレン基である)
を含む、樹脂(1)、並びに
反応性希釈剤(2)を含む、ワニス組成物。
(項目2)
前記樹脂(1)が構成単位3
Figure 0007027730000003
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rc1~Rc5はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
を含む、上記項目に記載のワニス組成物。
(項目3)
前記樹脂(1)が構成単位4
Figure 0007027730000004
(式中、Rは水素又はメチル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
Figure 0007027730000005
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
を含む、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目4)
前記樹脂(1)が構成単位5
Figure 0007027730000006
(式中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。)
をポリマー鎖末端に含む、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目5)
前記樹脂(1)が構成単位6
Figure 0007027730000007
(式中、Rは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。)
をポリマー鎖末端に含む、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目6)
前記反応性希釈剤(2)が
Figure 0007027730000008
(式中、nは0~2の整数であり、mは0~2の整数であり、pは0から7の整数であり、Rb1~Rb14は、それぞれ独立に水素原子、
Figure 0007027730000009
であり、
b15~Rb16は、それぞれ独立に
Figure 0007027730000010
であり、Rb16はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
構造式(A)~(C)中、Rb1~Rb14から選択される2個以上の基が
Figure 0007027730000011
であり、
qはそれぞれ独立に0~16の整数であり、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Rb4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。)
である、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目7)
オフセットインキ用に用いられる、上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物。
(項目8)
上記項目のいずれか1項に記載のワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。
(項目9)
上記項目に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。 The disclosure provides the following items:
(Item 1)
Configuration unit 1
Figure 0007027730000001
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group and Ra is a hydrogen or alkyl group).
And constituent unit 2
Figure 0007027730000002
(In the formula, R b is an alkylene group)
A varnish composition comprising a resin (1) and a reactive diluent (2).
(Item 2)
The resin (1) is the constituent unit 3
Figure 0007027730000003
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, and R c1 to R c5 are independently selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl group and an aryl group.)
The varnish composition according to the above item, which comprises.
(Item 3)
The resin (1) is the constituent unit 4
Figure 0007027730000004
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
Figure 0007027730000005
It is a group selected from the group consisting of
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or hydrogen, or R d1 and R d2 are groups that form a ring structure together, k is an integer of 1 or more, and R d3 is. , Hydrogen, methyl group or hydroxyl group, where R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is the hydroxyl group. .. )
The varnish composition according to any one of the above items, which comprises.
(Item 4)
The resin (1) is a constituent unit 5
Figure 0007027730000006
(In the formula, R e1 , R e2 , and R e3 are independently nitrile groups, alkyl groups, polar group-substituted alkyl groups, alkenyl groups, or polar groups, respectively.)
The varnish composition according to any one of the above items, which comprises at the end of the polymer chain.
(Item 5)
The resin (1) is a constituent unit 6
Figure 0007027730000007
(In the formula, R f is an acyl group, an alkyl group, or an aryl group.)
The varnish composition according to any one of the above items, which comprises at the end of the polymer chain.
(Item 6)
The reactive diluent (2)
Figure 0007027730000008
(In the equation, n is an integer of 0 to 2, m is an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b14 are independently hydrogen atoms, respectively.
Figure 0007027730000009
And
R b15 to R b16 are independent of each other.
Figure 0007027730000010
R b16 is an alkylene group independently of each other.
In the structural formulas (A) to (C), two or more groups selected from R b1 to R b14 are
Figure 0007027730000011
And
q is an independently integer from 0 to 16, and R 1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group. The groups of R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may be different for each structural unit. )
The varnish composition according to any one of the above items.
(Item 7)
The varnish composition according to any one of the above items, which is used for offset ink.
(Item 8)
An offset printing ink containing the varnish composition and pigment according to any one of the above items.
(Item 9)
A printed matter having a cured layer of the offset printing ink according to the above item.

本開示において、上述した1又は複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得る。当業者は、必要に応じて以下の詳細な説明を読んで理解することにより、上記以外のさらなる実施形態及び利点を認識することができる。 In the present disclosure, the above-mentioned one or more features may be provided in combination in addition to the specified combinations. One of ordinary skill in the art can recognize further embodiments and advantages other than the above by reading and understanding the following detailed description as necessary.

本発明に係るワニス組成物を用いれば、インキ諸性能(密着性、塗膜硬度、乳化性、画像再現性、光沢性、耐ブロッキング性、塗膜の平滑性等)を有しつつ、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有するオフセット印刷インキを得ることができる。上記インキを用いることによりオフセット印刷時の生産性向上をさせることが可能になる。 When the varnish composition according to the present invention is used, it is excellent while having various ink performances (adhesion, coating film hardness, emulsifying property, image reproducibility, glossiness, blocking resistance, coating film smoothness, etc.). It is possible to obtain an offset printing ink having ink flowability and misting resistance. By using the above ink, it becomes possible to improve the productivity at the time of offset printing.

(1.樹脂(1))
本開示は、構成単位1

Figure 0007027730000012
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rは、水素又はアルキル基である)
及び構成単位2
Figure 0007027730000013
(式中、Rはアルキレン基である)
を含む樹脂を提供する。本開示において「樹脂」は、ポリマーと同義の意味を有する。 (1. Resin (1))
The present disclosure is based on structural unit 1.
Figure 0007027730000012
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group and Ra is a hydrogen or alkyl group).
And constituent unit 2
Figure 0007027730000013
(In the formula, R b is an alkylene group)
To provide a resin containing. In the present disclosure, "resin" has the same meaning as a polymer.

(構成単位1)
構成単位1は、モノマーとして、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。
(Structure unit 1)
The structural unit 1 is a structural unit contained in the polymer chain when (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester is used as the monomer.

本開示において「(メタ)アクリル」は「アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」は「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。また「(メタ)アクリロイル」は「アクリロイル及びメタクリロイルからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。 In the present disclosure, "(meth) acrylic" means "at least one selected from the group consisting of acrylic and methacrylic". Similarly, "(meth) acrylate" means "at least one selected from the group consisting of acrylates and methacrylates". Further, "(meth) acryloyl" means "at least one selected from the group consisting of acryloyl and methacryloyl".

(メタ)アクリル酸アルキルエステルの例は、(メタ)アクリル酸直鎖アルキルエステル、(メタ)アクリル酸分岐アルキルエステル等が挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは2種以上を併用できる。 Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include (meth) acrylic acid linear alkyl ester, (meth) acrylic acid branched alkyl ester and the like. Two or more kinds of (meth) acrylic acid alkyl esters can be used in combination.

(メタ)アクリル酸直鎖アルキルエステルの例は、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸へキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylic acid linear alkyl esters are methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, n-propyl (meth) acrylic acid, n-butyl (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid. Examples thereof include pentyl, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate.

(メタ)アクリル酸分岐アルキルエステルの例は、(メタ)アクリル酸iso-プロピル、(メタ)アクリル酸iso-ブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸iso-オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylic acid branched alkyl esters are (meth) acrylic acid iso-propyl, (meth) acrylic acid iso-butyl, (meth) acrylic acid sec-butyl, (meth) acrylic acid tert-butyl, (meth) acrylic acid. ) Iso-octyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like.

全構成単位に占める構成単位1の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20、15、10質量%等が挙げられ、下限の例は、98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20、15、10、5質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位1の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、モノマー溶解性や顔料分散性の観点から構成単位1は全構成単位100質量%に対して5~99質量%が好ましい。 An example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 1 to all the constituent units is 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40 with respect to 100 mass% of all the constituent units. , 35, 30, 25, 21, 20, 15, 10% by mass, etc., and examples of the lower limit are 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21, 20, 15, 10, 5 mass% and the like can be mentioned. The range of the ratio of the structural unit 1 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 1 is preferably 5 to 99% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units from the viewpoint of monomer solubility and pigment dispersibility.

なお、本開示において、「全構成単位100質量%」とは樹脂の質量と同義である。 In the present disclosure, "100% by mass of all constituent units" is synonymous with the mass of the resin.

全構成単位に占める構成単位1の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して99、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20、15、10モル%等が挙げられ、下限の例は、98、95、90、85、80、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、21、20、15、10、5モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位1の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、モノマー溶解性や顔料分散性の観点から構成単位1は全構成単位100モル%に対して5~99モル%が好ましい。 Examples of the upper limit of the ratio of the constituent unit 1 to all the constituent units are 99, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40 with respect to 100 mol% of all the constituent units. , 35, 30, 25, 21, 20, 15, 10 mol%, etc., examples of the lower limit are 98, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 21, 20, 15, 10, 5 mol% and the like can be mentioned. The range of the ratio of the structural unit 1 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 1 is preferably 5 to 99 mol% with respect to 100 mol% of all constituent units from the viewpoint of monomer solubility and pigment dispersibility.

(構成単位2)
構成単位2は、チオール系連鎖移動剤に由来する構成単位である。チオール系連鎖移動剤は2種以上を併用できる。
(Structure unit 2)
The structural unit 2 is a structural unit derived from a thiol-based chain transfer agent. Two or more types of thiol chain transfer agents can be used in combination.

構成単位2の例は、構成単位2A

Figure 0007027730000014
(式中、Rb1~Rb2は、それぞれ独立にアルキレン基であり、RB1はアルキレン基又は
Figure 0007027730000015
(式中、bは0以上の整数であり、Rb’はアルキレン基である)
である。)
構成単位2B
Figure 0007027730000016
(式中、Rb3~Rb5は、それぞれ独立にアルキレン基であり、RB2は3価の炭化水素基又は
Figure 0007027730000017
(式中、Rba~Rbcは、それぞれ独立にアルキレン基である)
である。)
構成単位2C
Figure 0007027730000018
(式中、Rb6~Rb9は、それぞれ独立にアルキレン基であり、RB3は4価の炭化水素基である。)
構成単位2D
Figure 0007027730000019
(式中、Rb10~Rb15は、それぞれ独立にアルキレン基であり、RB4は6価の炭化水素基又は
Figure 0007027730000020
である。)
で示されるもの等が挙げられる。 An example of structural unit 2 is structural unit 2A.
Figure 0007027730000014
(In the formula, R b1 to R b2 are independently alkylene groups, and R B1 is an alkylene group or
Figure 0007027730000015
(In the formula, b is an integer of 0 or more, and R b'is an alkylene group).
Is. )
Configuration unit 2B
Figure 0007027730000016
(In the formula, R b3 to R b5 are independently alkylene groups, and R B2 is a trivalent hydrocarbon group or
Figure 0007027730000017
(In the formula, R ba to R bc are independently alkylene groups).
Is. )
Configuration unit 2C
Figure 0007027730000018
(In the formula, R b6 to R b9 are independently alkylene groups, and R B3 is a tetravalent hydrocarbon group.)
Configuration unit 2D
Figure 0007027730000019
(In the formula, R b10 to R b15 are independently alkylene groups, and R B4 is a hexavalent hydrocarbon group or
Figure 0007027730000020
Is. )
Examples include those indicated by.

構成単位2Aは、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラプロピレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ポリエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ポリプロピレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)等に由来する構成単位である。 The constituent unit 2A is tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), tetrapropylene glycol bis (3-mercaptopropionate), polyethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), and polypropylene glycol bis (3-mercapto). It is a structural unit derived from propionate) and the like.

構成単位2Bは、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]-イソシアヌレート等に由来する構成単位である。 The structural unit 2B is a structural unit derived from trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), tris-[(3-mercaptopropionyloxy) ethyl] -isocyanurate and the like.

構成単位2Cは、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)等に由来する構成単位である。 The structural unit 2C is a structural unit derived from pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) or the like.

構成単位2Dは、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)等に由来する構成単位である。 The structural unit 2D is a structural unit derived from dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) or the like.

全構成単位に占める構成単位2の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が挙げられ、下限の例は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位2の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位2は全構成単位100質量%に対して1~50質量%が好ましい。 An example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 2 to all the constituent units is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mass%, etc. with respect to 100 mass% of all the constituent units. Examples of the lower limit include 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass and the like. The range of the ratio of the structural unit 2 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 2 is preferably 1 to 50% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units.

全構成単位に占める構成単位2の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が挙げられ、下限の例は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位2の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位2は全構成単位100モル%に対して1~50モル%が好ましい。 An example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 2 to all the constituent units is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mol%, etc. with respect to 100 mol% of all the constituent units. Examples of the lower limit are 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1 mol% and the like. The range of the ratio of the structural unit 2 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 2 is preferably 1 to 50 mol% with respect to 100 mol% of all constituent units.

(構成単位3)
1つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位3

Figure 0007027730000021
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rc1~Rc5はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
を含む。 (Structure unit 3)
In one embodiment, the constituent units 3 are added to the constituent unit group.
Figure 0007027730000021
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, and R c1 to R c5 are independently selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl group and an aryl group.)
including.

構成単位3は、モノマーとして、スチレン系化合物を用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。スチレン系化合物の例は、スチレン、α-メチルスチレン等の他、芳香環に少なくとも1つの炭素数1~2のアルキル基を有するスチレン等が挙げられる。スチレン系化合物は2種以上を併用できる。 The structural unit 3 is a structural unit contained in the polymer chain when a styrene-based compound is used as the monomer. Examples of the styrene-based compound include styrene, α-methylstyrene, and the like, as well as styrene having at least one alkyl group having 1 to 2 carbon atoms in the aromatic ring. Two or more kinds of styrene compounds can be used in combination.

構成単位3を含む場合、全構成単位に占める構成単位3の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が挙げられ、下限の例は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位3の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位3は全構成単位100質量%に対して1~79質量%が好ましい。 When the constituent unit 3 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 3 to all the constituent units is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, with respect to 100 mass% of all the constituent units. 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mass% and the like, and examples of the lower limit are 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25. , 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass and the like. The range of the ratio of the structural unit 3 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 3 is preferably 1 to 79% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units.

構成単位3を含む場合、全構成単位に占める構成単位3の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して79、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が挙げられ、下限の例は、78、75、70、65、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位3の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位3は全構成単位100モル%に対して1~79モル%が好ましい。 When the constituent unit 3 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 3 to all the constituent units is 79, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, with respect to 100 mol% of all the constituent units. 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mol% and the like, and examples of the lower limit are 78, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25. , 20, 15, 10, 5, 2, 1 mol% and the like. The range of the ratio of the structural unit 3 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 3 is preferably 1 to 79 mol% with respect to 100 mol% of all constituent units.

(構成単位4)
1つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位4

Figure 0007027730000022
(式中、Rは水素又はメチル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
Figure 0007027730000023
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
を含む。 (Structure unit 4)
In one embodiment, the constituent units 4 are added to the constituent unit group.
Figure 0007027730000022
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
Figure 0007027730000023
It is a group selected from the group consisting of
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or hydrogen, or R d1 and R d2 are groups that form a ring structure together, k is an integer of 1 or more, and R d3 is. , Hydrogen, methyl group or hydroxyl group, where R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is the hydroxyl group. .. )
including.

構成単位4は、例えばモノマーとして、N,N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジアルキル(メタ)アクリル酸アルキルアミン、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル等を用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。 The structural unit 4 is contained in the polymer chain when, for example, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylate alkylamine, (meth) acrylate hydroxyalkyl or the like is used as the monomer. It is a structural unit.

N,N-ジアルキル(メタ)アクリルアミドの例は、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。 Examples of N, N-dialkyl (meth) acrylamide include dimethylacrylamide, diethylacrylamide, acryloylmorpholine and the like.

N,N-ジアルキル(メタ)アクリル酸アルキルアミンの例は、N,N-ジメチルエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。窒素上のアルキル基の炭素数(すなわち、構成単位4中のRb1及びRb2それぞれの炭素数)は1~2が好ましい。 Examples of N, N-dialkyl (meth) acrylate alkylamines include N, N-dimethylethyl (meth) acrylate, N, N-diethylethyl (meth) acrylate and the like. The number of carbon atoms of the alkyl group on nitrogen (that is, the number of carbon atoms of each of R b1 and R b2 in the constituent unit 4) is preferably 1 to 2.

(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルの例として

Figure 0007027730000024
等が挙げられる。 As an example of hydroxyalkyl (meth) acrylate
Figure 0007027730000024
And so on.

構成単位4を含む場合、全構成単位に占める構成単位4の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2質量%等が挙げられ、下限の例は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位4の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位4は全構成単位100質量%に対して1~50質量%が好ましい。 When the constituent unit 4 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 4 to all the constituent units is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, with respect to 100 mass% of all the constituent units. 5, 2% by mass and the like, and examples of the lower limit include 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass and the like. The range of the ratio of the structural unit 4 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 4 is preferably 1 to 50% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units.

構成単位4を含む場合、全構成単位に占める構成単位4の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して50、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2モル%等が挙げられ、下限の例は、49、45、40、35、30、25、20、15、10、5、2、1モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位4の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位4は全構成単位100モル%に対して1~50モル%が好ましい。 When the constituent unit 4 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 4 to all the constituent units is 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, with respect to 100 mol% of all the constituent units. 5, 2 mol% and the like, and examples of the lower limit include 49, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1 mol% and the like. The range of the ratio of the structural unit 4 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 4 is preferably 1 to 50 mol% with respect to 100 mol% of all constituent units.

(構成単位5)
1つの実施形態において、上記樹脂は、構成単位5

Figure 0007027730000025
(式中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、極性基である。)
をポリマー鎖に含む。 (Structure unit 5)
In one embodiment, the resin is a constituent unit 5
Figure 0007027730000025
(In the formula, R e1 , R e2 , and R e3 are independently a nitrile group, an alkyl group, a polar group-substituted alkyl group, and a polar group, respectively.)
Is included in the polymer chain.

構成単位5は、例えば、下記の構造を有する

Figure 0007027730000026
(式中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。)アゾ開始剤に由来する構成単位である。アゾ開始剤は2種以上を併用できる。 The structural unit 5 has, for example, the following structure.
Figure 0007027730000026
(In the formula, R e1 , R e2 , and R e3 are each independently a nitrile group, an alkyl group, a polar group-substituted alkyl group, an alkenyl group, or a polar group.) A structural unit derived from an azo initiator. be. Two or more azo initiators can be used in combination.

「極性基」の例は、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、スルホニル基、リン酸基、ニトロ基、及びアミド基等が挙げられる。 Examples of the "polar group" include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a sulfonyl group, a phosphoric acid group, a nitro group, an amide group and the like.

アゾ開始剤の例は、アゾニトリル系開始剤、アゾアミジン系開始剤、アゾアミド系開始剤が挙げられる。 Examples of the azo initiator include an azonitrile-based initiator, an azoamidin-based initiator, and an azoamide-based initiator.

アゾニトリル系開始剤の例は、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)等が挙げられる。 Examples of azonitrile-based initiators are 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis. (Isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like can be mentioned.

アゾアミジン系開始剤の例は、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]二硫酸塩二水和物、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’-アゾビス[N-(2-カルボキシエチル)-2-メチルプロピオンアミジン]n水和物等が挙げられる。 Examples of azoamidin-based initiators are 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl)). Propane] disulfate dihydrate, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2, Examples thereof include 2'-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] n hydrate and the like.

アゾアミド系開始剤の例は、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-(2-ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’-アゾビス[N-(2-プロペニル)-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビス(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)等が挙げられる。 Examples of azoamide-based initiators are 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide] and 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropion. Amide], 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide) and the like.

その他のアゾ開始剤の例は、ジメチル2,2’-アゾビス(イソブチレート)、4,4’-アゾビス(4-シアノ吉草酸)等が挙げられる。 Examples of other azo initiators include dimethyl 2,2'-azobis (isobutyrate), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) and the like.

構成単位5を含む場合、全構成単位に占める構成単位5の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して20、15、10、5、4、3、2、1質量%等が挙げられ、下限の例は、19、15、10、5、4、3、2、1、0.5質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位5の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5は全構成単位100質量%に対して0.5~20質量%が好ましい。 When the constituent unit 5 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 5 to all the constituent units is 20, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1 mass%, etc. with respect to 100 mass% of all the constituent units. Examples of the lower limit include 19, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5% by mass and the like. The range of the ratio of the structural unit 5 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 5 is preferably 0.5 to 20% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units.

構成単位5を含む場合、全構成単位に占める構成単位5の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して20、15、10、5、4、3、2、1モル%等が挙げられ、下限の例は、19、15、10、5、4、3、2、1、0.5モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位5の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位5は全構成単位100モル%に対して0.5~20モル%が好ましい。 When the constituent unit 5 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 5 to all the constituent units is 20, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1 mol%, etc. with respect to 100 mol% of all the constituent units. Examples of the lower limit include 19, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5 mol% and the like. The range of the ratio of the structural unit 5 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 5 is preferably 0.5 to 20 mol% with respect to 100 mol% of all the constituent units.

(構成単位6)
1つの実施形態において、上記樹脂は、構成単位6

Figure 0007027730000027
(式中、Rは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。)
をポリマー鎖末端に含む。 (Structure unit 6)
In one embodiment, the resin is a constituent unit 6
Figure 0007027730000027
(In the formula, R f is an acyl group, an alkyl group, or an aryl group.)
Is included at the end of the polymer chain.

構成単位6は、例えば、下記の構造を有する
-O-O-R
(式中、Rは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。)過酸化物系開始剤に由来する構成単位である。過酸化物系開始剤は2種以上を併用できる。
The structural unit 6 is, for example, R f-O-O-R f having the following structure.
(In the formula, R f is an acyl group, an alkyl group, or an aryl group.) A structural unit derived from a peroxide-based initiator. Two or more types of peroxide-based initiators can be used in combination.

過酸化物系開始剤の例は、(2-エチルヘキサノイル)(tert-ブチル)ペルオキシド、過酸化ベンゾイル、ジ-tert-ブチルペルオキシド、ジメチルジオキシラン、過酸化アセトン、メチルエチルケトンペルオキシド、ヘキサメチレントリペルオキシドジアミン、クメンヒドロペルオキシド、tert-ヘキシルペルオキシ-2-エチルヘキサノエイト等が挙げられる。 Examples of peroxide-based initiators are (2-ethylhexanoyl) (tert-butyl) peroxide, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, dimethyldioxylane, acetone peroxide, methylethylketone peroxide, hexamethylenetripeloxide. Examples thereof include diamine, cumenehydroperoxide, tert-hexylperoxy-2-ethylhexanoate and the like.

構成単位6を含む場合、全構成単位に占める構成単位6の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して20、15、10、5、4、3、2、1質量%等が挙げられ、下限の例は、19、15、10、5、4、3、2、1、0.5質量%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位6の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位6は全構成単位100質量%に対して0.5~20質量%が好ましい。 When the constituent unit 6 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 6 to all the constituent units is 20, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1 mass%, etc. with respect to 100 mass% of all the constituent units. Examples of the lower limit include 19, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5% by mass and the like. The range of the ratio of the structural unit 6 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the structural unit 6 is preferably 0.5 to 20% by mass with respect to 100% by mass of all the structural units.

構成単位6を含む場合、全構成単位に占める構成単位6の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して20、15、10、5、4、2、1モル%等が挙げられ、下限の例は、19、15、10、5、4、3、2、1、0.5モル%等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位6の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位6は全構成単位100モル%に対して0.5~20モル%が好ましい。 When the constituent unit 6 is included, an example of the upper limit of the ratio of the constituent unit 6 to all the constituent units is 20, 15, 10, 5, 4, 2, 1 mol%, etc. with respect to 100 mol% of all the constituent units. Examples of the lower limit include 19, 15, 10, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5 mol% and the like. The range of the ratio of the structural unit 6 to all the structural units can be appropriately set (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the constituent unit 6 is preferably 0.5 to 20 mol% with respect to 100 mol% of all the constituent units.

(その他の構成単位)
1つの実施形態において、上記樹脂には、構成単位1~6以外の構成単位(以下その他の構成単位ともいう)も含まれ得る。その他の構成単位の例は、構成単位1でも4でもない(メタ)アクリル酸誘導体に由来する構成単位等が挙げられる。構成単位1でも4でもない(メタ)アクリル酸誘導体に由来する構成単位の例は、後述の(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、アルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートに由来する構成単位等が挙げられる。1つの実施形態において、上記樹脂は、架橋性基(エチレン性不飽和結合基、アミノ基(例えば第1級アミノ基(-NH))、エポキシ基、チオール基(-SH)、ハロゲン基)を有さない樹脂である。
(Other building blocks)
In one embodiment, the resin may also contain structural units other than the structural units 1 to 6 (hereinafter, also referred to as other structural units). Examples of other structural units include structural units derived from (meth) acrylic acid derivatives that are neither structural units 1 nor 4. Examples of structural units derived from (meth) acrylic acid derivatives that are neither structural units 1 nor 4 include (poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylates and (poly) trimethylolpropane poly, which will be described later. Constituent units derived from (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate, (poly) glycerin poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate, alkylene di (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate. And so on. In one embodiment, the resin is a crosslinkable group (ethylenically unsaturated bond group, amino group (eg, primary amino group (-NH 2 )), epoxy group, thiol group (-SH), halogen group). It is a resin that does not have.

その他の構成単位を含む場合、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の上限の例は、全構成単位100質量%に対して30、25、20、15、10、5、2質量%等が挙げられ、下限の例は、29、25、20、15、10、5、2、1質量%等が挙げられる。全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、その他の構成単位は全構成単位100質量%に対して1~30質量%が好ましいが、1質量%未満、0.1質量%未満、0.01質量%未満、0.001質量%未満、0.0001質量%未満であってもよい。 When including other structural units, an example of the upper limit of the ratio of other structural units to all structural units is 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mass%, etc. with respect to 100 mass% of all structural units. Examples of the lower limit include 29, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1% by mass and the like. The range of the ratio of other constituent units to all the constituent units can be set as appropriate (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the other structural units are preferably 1 to 30% by mass based on 100% by mass of all the structural units, but less than 1% by mass, less than 0.1% by mass, less than 0.01% by mass, and 0. It may be less than 001% by mass and less than 0.0001% by mass.

その他の構成単位を含む場合、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の上限の例は、全構成単位100モル%に対して30、25、20、15、10、5、2モル%等が挙げられ、下限の例は、29、25、20、15、10、5、2、1モル%等が挙げられる。全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、その他の構成単位は全構成単位100モル%に対して1~30モル%が好ましいが、1モル%未満、0.1モル%未満、0.01モル%未満、0.001モル%未満、0.0001モル%未満であってもよい。 When including other constituent units, an example of the upper limit of the ratio of other constituent units to all constituent units is 30, 25, 20, 15, 10, 5, 2 mol%, etc. with respect to 100 mol% of all constituent units. Examples of the lower limit include 29, 25, 20, 15, 10, 5, 2, 1 mol% and the like. The range of the ratio of other constituent units to all the constituent units can be set as appropriate (for example, by selecting from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the other constituent units are preferably 1 to 30 mol% relative to 100 mol% of all constituent units, but less than 1 mol%, less than 0.1 mol%, less than 0.01 mol%, 0. It may be less than 001 mol% and less than 0.0001 mol%.

(構成単位間の相対比)
構成単位1と構成単位2との質量比(構成単位1の質量/構成単位2の質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.3、0.2等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.3、0.2、0.1等が挙げられる。構成単位1と構成単位2との質量比(構成単位1の質量/構成単位2の質量)の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位2との質量比は0.1~99.0が好ましい。
(Relative ratio between constituent units)
Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 2 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 2) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.3, 0.2, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95.0, 90.0, 85.0. , 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20 .0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.3, 0.2, 0.1 and the like. The range of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 2 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 2) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the structural unit 1 to the structural unit 2 is preferably 0.1 to 99.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位1と構成単位2とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位2の物質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.3、0.2等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1等が挙げられる。構成単位1と構成単位2とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位2の物質量)の範囲は、適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位2とのモル比は0.1~99.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 2 (the amount of the substance of the constituent unit 1 / the amount of the substance of the constituent unit 2) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80. 0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.3, 0.2, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95.0, 90.0, 85. .0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0 , 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and the like. The range of the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 2 (the amount of substance of the constituent unit 1 / the amount of substance of the constituent unit 2) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 2 is preferably 0.1 to 99.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位1と構成単位3との質量比(構成単位1の質量/構成単位3の質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25、0.10、0.08、0.07等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25、0.10、0.08、0.07、0.06等が挙げられる。構成単位1と構成単位3との質量比(構成単位1の質量/構成単位3の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、構成単位1と構成単位3との質量比は0.06~99.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 3 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 3) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25, 0.10, 0.08, 0.07, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95.0. , 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30 .0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25, 0.10, 0.08, 0.07, 0.06 And so on. The range of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 3 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 3) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio between the structural unit 1 and the structural unit 3 is preferably 0.06 to 99.0 from the viewpoint of polarity adjustment.

構成単位1と構成単位3とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位3の物質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25、0.10、0.08、0.07等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.25、0.10、0.08、0.07、0.06等が挙げられる。構成単位1と構成単位3とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位3の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、極性調整の観点から、構成単位1と構成単位3とのモル比は0.06~99.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 3 (the amount of the substance of the constituent unit 1 / the amount of the substance of the constituent unit 3) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80. 0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25, 0.10, 0.08, 0.07, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95. .0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0 , 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.25, 0.10, 0.08, 0.07, 0 .06 and the like can be mentioned. The range of the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 3 (the amount of substance of the constituent unit 1 / the amount of substance of the constituent unit 3) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the structural unit 1 to the structural unit 3 is preferably 0.06 to 99.0 from the viewpoint of polarity adjustment.

構成単位1と構成単位4との質量比(構成単位1の質量/構成単位4の質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1等が挙げられる。構成単位1と構成単位4との質量比(構成単位1の質量/構成単位4の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位1と構成単位4との質量比は極性調整の観点から、0.1~99.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 4 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 4) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15. 0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95.0, 90.0. , 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25 .0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and the like. The range of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 4 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 4) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the structural unit 1 to the structural unit 4 is preferably 0.1 to 99.0 from the viewpoint of polarity adjustment.

構成単位1と構成単位4とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位4の物質量)の上限の例は、99.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2等が挙げられ、下限の例は、98.0、95.0、90.0、85.0、80.0、75.0、70.0、65.0、60.0、55.0、50.0、45.0、40.0、35.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1等が挙げられる。構成単位1と構成単位4とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位4の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、構成単位1と構成単位4とのモル比は極性調整の観点から、0.1~99.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 4 (the amount of the substance of the constituent unit 1 / the amount of the substance of the constituent unit 4) are 99.0, 95.0, 90.0, 85.0, 80. 0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 98.0, 95.0, 90. .0, 85.0, 80.0, 75.0, 70.0, 65.0, 60.0, 55.0, 50.0, 45.0, 40.0, 35.0, 30.0 , 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and the like. The range of the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 4 (the amount of substance of the constituent unit 1 / the amount of substance of the constituent unit 4) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the structural unit 1 to the structural unit 4 is preferably 0.1 to 99.0 from the viewpoint of polarity adjustment.

構成単位1と構成単位5との質量比(構成単位1の質量/構成単位5の質量)の上限の例は、198.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.26等が挙げられ、下限の例は197.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.25等が挙げられる。構成単位1と構成単位5との質量比(構成単位1の質量/構成単位5の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位5との質量比は0.25~198.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 5 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 5) are 198.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30. 0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.26 and the like. Examples of the lower limit are 197.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90. 0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, Examples thereof include 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.25 and the like. The range of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 5 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 5) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the structural unit 1 to the structural unit 5 is preferably 0.25 to 198.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位1と構成単位5とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位5の物質量)の上限の例は、198.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.26等が挙げられ、下限の例は197.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.25等が挙げられる。構成単位1と構成単位5とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位5の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位5とのモル比は0.25~198.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 5 (the amount of the substance of the constituent unit 1 / the amount of the substance of the constituent unit 5) are 198.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160. 0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.26 and the like. Examples of the lower limit are 197.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1. Examples thereof include 0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.25 and the like. The range of the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 5 (the amount of substance of the constituent unit 1 / the amount of substance of the constituent unit 5) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 5 is preferably 0.25 to 198.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位1と構成単位6との質量比(構成単位1の質量/構成単位6の質量)の上限の例は、198.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.26等が挙げられ、下限の例は197.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.25等が挙げられる。構成単位1と構成単位6との質量比(構成単位1の質量/構成単位6の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位6との質量比は0.25~198.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 6 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 6) are 198.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30. 0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.26 and the like. Examples of the lower limit are 197.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90. 0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, Examples thereof include 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.25 and the like. The range of the mass ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 6 (mass of the constituent unit 1 / mass of the constituent unit 6) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 6 is preferably 0.25 to 198.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位1と構成単位6とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位6の物質量)の上限の例は、198.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.26等が挙げられ、下限の例は197.0、190.0、180.0、170.0、160.0、150.0、140.0、130.0、120.0、110.0、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、25.0、20.0、15.0、10.0、5.0、1.0、0.50、0.40、0.35、0.30、0.25等が挙げられる。構成単位1と構成単位6とのモル比(構成単位1の物質量/構成単位6の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位1と構成単位6とのモル比は0.25~198.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 1 and the constituent unit 6 (the amount of the substance of the constituent unit 1 / the amount of the substance of the constituent unit 6) are 198.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160. 0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.26 and the like. Examples of the lower limit are 197.0, 190.0, 180.0, 170.0, 160.0, 150.0, 140.0, 130.0, 120.0, 110.0, 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 25.0, 20.0, 15.0, 10.0, 5.0, 1. Examples thereof include 0, 0.50, 0.40, 0.35, 0.30, 0.25 and the like. The range of the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 6 (the amount of substance of the constituent unit 1 / the amount of substance of the constituent unit 6) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 1 to the constituent unit 6 is preferably 0.25 to 198.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位3との質量比(構成単位2の質量/構成単位3の質量)の上限の例は、79.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.03が挙げられ、下限の例は、78.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.02が挙げられる。構成単位2と構成単位3との質量比(構成単位2の質量/構成単位3の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位3との質量比は0.02~79.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 3 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 3) are 79.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, Examples include 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04, 0.03, and the lower limit. 78.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, Examples thereof include 0.08, 0.06, 0.04 and 0.02. The range of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 3 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 3) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 3 is preferably 0.02 to 79.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位3とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位3の物質量)の上限の例は、79.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.03が挙げられ、下限の例は78.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.02が挙げられる。構成単位2と構成単位3とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位3の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位3とのモル比は0.02~79.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 3 (the amount of the substance of the constituent unit 2 / the amount of the substance of the constituent unit 3) are 79.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40. 0, 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04, 0.03, and the lower limit Examples are 78.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0. , 0.08, 0.06, 0.04, 0.02. The range of the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 3 (the amount of substance of the constituent unit 2 / the amount of substance of the constituent unit 3) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 3 is preferably 0.02 to 79.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位4との質量比(構成単位2の質量/構成単位4の質量)の上限の例は、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.03が挙げられ、下限の例は、49.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.02が挙げられる。構成単位2と構成単位4との質量比(構成単位2の質量/構成単位4の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位4との質量比は0.02~50.0が好ましい。 An example of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 4 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 4) is 50.0, 40.0, 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04, 0.03 are given, and examples of the lower limit are 49.0, 40.0, 30. 0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04, 0.02. The range of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 4 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 4) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the structural unit 2 to the structural unit 4 is preferably 0.02 to 50.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位4とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位4の物質量)の上限の例は、50.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.03が挙げられ、下限の例は、49.0、40.0、30.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、1.0、0.08、0.06、0.04、0.02が挙げられる。構成単位2と構成単位4とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位4の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位4とのモル比は0.02~50.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 4 (the amount of the substance of the constituent unit 2 / the amount of the substance of the constituent unit 4) are 50.0, 40.0, 30.0, 40.0, 30. 0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04, 0.03, and examples of the lower limit are 49.0, 40.0, Examples thereof include 30.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 1.0, 0.08, 0.06, 0.04 and 0.02. The range of the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 4 (the amount of substance of the constituent unit 2 / the amount of substance of the constituent unit 4) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 4 is preferably 0.02 to 50.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位5との質量比(構成単位2の質量/構成単位5の質量)の上限の例は、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.06が挙げられ、下限の例は、99.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05が挙げられる。構成単位2と構成単位5との質量比(構成単位2の質量/構成単位5の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位5との質量比は0.05~100.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 5 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 5) are 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0. 1, 0.06 are mentioned, and examples of the lower limit are 99.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, Examples thereof include 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and 0.05. The range of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 5 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 5) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 5 is preferably 0.05 to 100.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位5とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位5の物質量)の上限の例は、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.06が挙げられ、下限の例は、99.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05が挙げられる。構成単位2と構成単位5とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位5の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位5とのモル比は0.05~100.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 5 (the amount of the substance of the constituent unit 2 / the amount of the substance of the constituent unit 5) are 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60. 0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, Examples of the lower limit are 99.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20. Examples thereof include 0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and 0.05. The range of the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 5 (the amount of substance of the constituent unit 2 / the amount of substance of the constituent unit 5) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 5 is preferably 0.05 to 100.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位6との質量比(構成単位2の質量/構成単位6の質量)の上限の例は、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.06が挙げられ、下限の例は、99.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05が挙げられる。構成単位2と構成単位6との質量比(構成単位2の質量/構成単位6の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位6との質量比は0.05~100.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 6 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 6) are 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0. 1, 0.06 are mentioned, and examples of the lower limit are 99.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, Examples thereof include 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and 0.05. The range of the mass ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 6 (mass of the constituent unit 2 / mass of the constituent unit 6) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 6 is preferably 0.05 to 100.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

構成単位2と構成単位6とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位6の物質量)の上限の例は、100.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05が挙げられ、下限の例は、99.0、90.0、80.0、70.0、60.0、50.0、40.0、30.0、20.0、10.0、5.0、3.0、1.0、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1、0.05が挙げられる。構成単位2と構成単位6とのモル比(構成単位2の物質量/構成単位6の物質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位2と構成単位6とのモル比は0.05~100.0が好ましい。 Examples of the upper limit of the molar ratio between the constituent unit 2 and the constituent unit 6 (the amount of the substance of the constituent unit 2 / the amount of the substance of the constituent unit 6) are 100.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60. 0, 50.0, 40.0, 30.0, 20.0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, Examples of the lower limit are 99.0, 90.0, 80.0, 70.0, 60.0, 50.0, 40.0, 30.0, 20. Examples thereof include 0, 10.0, 5.0, 3.0, 1.0, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.1 and 0.05. The range of the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 6 (the amount of substance of the constituent unit 2 / the amount of substance of the constituent unit 6) can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molar ratio of the constituent unit 2 to the constituent unit 6 is preferably 0.05 to 100.0 from the viewpoint of suppressing gelation.

(樹脂の物性等)
本発明に係る樹脂の重量平均分子量(Mw)は、特に制限されないが、例えばその上限の例は、500,000、450,000、400,000、350,000、300,000、250,000、200,000、150,000、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、32,000、30,000、27,000、20,000、15,000、13,000、11,000、10,000、9,000、8,000、7,000、6,000、5,500、5,000、4,500等が挙げられ、下限の例は、490,000、450,000、400,000、350,000、300,000、250,000、200,000、150,000、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、32,000、30,000、27,000、20,000、15,000、13,000、11,000、10,000、9,000、8,000、7,000、6,000、5,500、5,000、4,500、4,000等が挙げられる。本発明に係る樹脂の重量平均分子量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の重量平均分子量(Mw)は、4,000~500,000が好ましい。
(Physical characteristics of resin, etc.)
The weight average molecular weight (Mw) of the resin according to the present invention is not particularly limited, but examples of the upper limit thereof are 500,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, and so on. 200,000, 150,000, 100,000, 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 32,000, 30,000, 27,000, 20,000, 000, 15,000, 13,000, 11,000, 10,000, 9,000, 8,000, 7,000, 6,000, 5,500, 5,000, 4,500 and the like can be mentioned. Examples of the lower limit are 490,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, 200,000, 150,000, 100,000, 90,000, 80,000, 70. , 000, 60,000, 50,000, 40,000, 32,000, 30,000, 27,000, 20,000, 15,000, 13,000, 11,000, 10,000, 9,000 , 8,000, 7,000, 6,000, 5,500, 5,000, 4,500, 4,000 and the like. The range of the weight average molecular weight of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 4,000 to 500,000.

本発明に係る樹脂の数平均分子量(Mn)の上限の例は、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、30,000、20,000、15,000、10,000、5,000、4,000、3,000、2,000、1,000、900等が挙げられ、下限の例は95,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、30,000、20,000、19,000、15,000、10,000、5,000、4,000、3,000、2,000、1,000、900、800等が挙げられる。本発明に係る樹脂の数平均分子量(Mn)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の数平均分子量(Mn)は800~100,000が好ましい。 Examples of the upper limit of the number average molecular weight (Mn) of the resin according to the present invention are 100,000, 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 30,000, Examples include 20,000, 15,000, 10,000, 5,000, 4,000, 3,000, 2,000, 1,000, 900, and examples of the lower limit are 95,000, 90,000, 80,000, 70,000, 60,000, 50,000, 40,000, 30,000, 20,000, 19,000, 15,000, 10,000, 5,000, 4,000, 3, 000, 2,000, 1,000, 900, 800 and the like can be mentioned. The range of the number average molecular weight (Mn) of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the number average molecular weight (Mn) of the resin is preferably 800 to 100,000.

重量平均分子量及び数平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により適切な溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求められる。 The weight average molecular weight and the number average molecular weight are determined as polystyrene-equivalent values measured under an appropriate solvent by, for example, gel permeation chromatography (GPC).

分子量分布(Mw/Mn)の上限の例は、55、50、45、40、35、32、30、25、20、19、18.3、15、14.3、10、5、4.5、4.2、4.1、3.8、3.3、3.2、2、1.5等が挙げられ、下限の例は、54、50、45、40、35、32、30、25、20、19、18.3、15、14.3、10、5、4.5、4.2、4.1、3.8、3.3、3.2、3、2、1.5、1.0等が挙げられる。本発明に係る樹脂の分子量分布(Mw/Mn)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、分子量分布(Mw/Mn)は1.0~55が好ましい。 Examples of the upper limit of the molecular weight distribution (Mw / Mn) are 55, 50, 45, 40, 35, 32, 30, 25, 20, 19, 18.3, 15, 14.3, 10, 5, 4.5. 4.2, 4.1, 3.8, 3.3, 3.2, 2, 1.5, etc., and examples of the lower limit are 54, 50, 45, 40, 35, 32, 30, 25, 20, 19, 18.3, 15, 14.3, 10, 5, 4.5, 4.2, 4.1, 3.8, 3.3, 3.2, 3, 2, 1. 5, 1.0 and the like can be mentioned. The range of the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably 1.0 to 55.

本発明に係る樹脂の水酸基価の上限の例は、483、480、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、5、1等が挙げられ、下限の例は、480、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、5、1、0等が挙げられる。本発明に係る樹脂の水酸基価の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の水酸基価は0~483が好ましい。 Examples of the upper limit of the hydroxyl value of the resin according to the present invention include 483, 480, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 5, 1, etc., and examples of the lower limit are 480, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 5, 1, 0 and the like can be mentioned. The range of the hydroxyl value of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the hydroxyl value of the resin is preferably 0 to 483.

本発明に係る樹脂の酸価の上限の例は、799、750、700、650、600、550、500、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、1等が挙げられ、下限の例は790、750、700、650、600、550、500、450、400、350、300、250、200、150、100、50、25、1、0等が挙げられる。本発明に係る樹脂の酸価の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の酸価は0~799が好ましい。 Examples of the upper limit of the acid value of the resin according to the present invention are 799, 750, 700, 650, 600, 550, 500, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 1, etc. Examples of the lower limit include 790, 750, 700, 650, 600, 550, 500, 450, 400, 350, 300, 250, 200, 150, 100, 50, 25, 1, 0 and the like. The range of the acid value of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the acid value of the resin is preferably 0 to 799.

本発明に係る樹脂の軟化点の上限の例は、150、140、130、120、110、100、90、80℃等が挙げられ、下限の例は140、130、120、110、100、90、80、75℃等が挙げられる。本発明に係る樹脂の軟化点の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂の軟化点は75~150℃が好ましい。 Examples of the upper limit of the softening point of the resin according to the present invention include 150, 140, 130, 120, 110, 100, 90, 80 ° C., and examples of the lower limit are 140, 130, 120, 110, 100, 90. , 80, 75 ° C. and the like. The range of the softening point of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the softening point of the resin is preferably 75 to 150 ° C.

本発明に係る樹脂の絶対分子量(M)50,000に対する固有粘度(η)の上限の例は、0.20、0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02等が挙げられ、下限の例は0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02、0.01等が挙げられる。本発明に係る樹脂の絶対分子量(M)50,000に対する固有粘度(η)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、上記固有粘度(η)は0.01~0.20が好ましい。 Examples of the upper limit of the intrinsic viscosity (η) with respect to the absolute molecular weight (M) of 50,000 according to the present invention are 0.20, 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14, 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0. 02 etc. are mentioned, and examples of the lower limit are 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14, 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, Examples thereof include 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0.02, 0.01 and the like. The range of the intrinsic viscosity (η) with respect to the absolute molecular weight (M) 50,000 of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the intrinsic viscosity (η) is preferably 0.01 to 0.20.

本発明に係る樹脂のガラス転移温度(Tg)の上限の例は、230、200、150、100、50、0、-50、-70℃等が挙げられ、下限の例は225、200、150、100、50、0、-50、-80℃等が挙げられる。本発明に係る樹脂のガラス転移温度(Tg)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ガラス転移温度(Tg)は-80~230℃が好ましい。 Examples of the upper limit of the glass transition temperature (Tg) of the resin according to the present invention include 230, 200, 150, 100, 50, 0, −50, −70 ° C., and examples of the lower limit are 225, 200, 150. , 100, 50, 0, -50, -80 ° C and the like. The range of the glass transition temperature (Tg) of the resin according to the present invention can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the glass transition temperature (Tg) is preferably −80 to 230 ° C.

(樹脂の製造方法)
本発明に係る樹脂の製造方法は、チオール系連鎖移動剤及び重合開始剤存在下、(メタ)アクリル酸エステル及び必要に応じて、スチレン等を含むモノマーを、適切な反応温度で重合させる工程を含む。
(Resin manufacturing method)
The method for producing a resin according to the present invention comprises a step of polymerizing a (meth) acrylic acid ester and, if necessary, a monomer containing styrene or the like at an appropriate reaction temperature in the presence of a thiol-based chain transfer agent and a polymerization initiator. include.

上記製造方法における反応温度の上限の例は、200、195、190、180、170、160、150、140、130、121、120、110、100、90、85、80℃等が挙げられ、下限の例は、195、190、180、170、160、150、140、130、121、120、110、100、90、85、80、70℃が挙げられる。上記製造方法における反応温度の範囲は上記上限及び下限の値から適宜選択して設定され得る。1つの実施形態において、反応温度は70~200℃が好ましい。 Examples of the upper limit of the reaction temperature in the above production method include 200, 195, 190, 180, 170, 160, 150, 140, 130, 121, 120, 110, 100, 90, 85, 80 ° C., and the lower limit. Examples of the above include 195, 190, 180, 170, 160, 150, 140, 130, 121, 120, 110, 100, 90, 85, 80 and 70 ° C. The range of the reaction temperature in the above-mentioned production method can be appropriately selected and set from the above-mentioned upper limit and lower limit values. In one embodiment, the reaction temperature is preferably 70-200 ° C.

上記製造方法において用いられる溶媒は特に制限されないが、例えば、水、有機溶媒等が例として挙げられる。有機溶媒の例はシクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチル-n-ブチルケトン、ダイアセトンアルコール等のケトン溶媒、ダイアセトンアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、1-ブタノール、2-ブタノール等のアルコール溶媒、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル等のエーテル溶媒、キシレン、トルエン等の芳香族溶媒、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソペンチル、酢酸-n-ブチル、酢酸-n-プロピル、酢酸-n-ペンチル等の酢酸エステル溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド溶媒等が挙げられる。 The solvent used in the above production method is not particularly limited, and examples thereof include water and organic solvents. Examples of organic solvents are cyclohexanone, methylcyclohexanone, methylisobutylketone, methylethylketone, methyl-n-butylketone, ketone solvents such as diacetone alcohol, diacetone alcohol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, isopentyl alcohol, 1-butanol. , 2-butanol and other alcohol solvents, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether and other ether solvents, xylene, toluene and other aromatic solvents, isobutyl acetate, isopropyl acetate, acetic acid. Examples thereof include acetate solvents such as isopentyl, acetate-n-butyl, acetate-n-propyl and acetate-n-pentyl, and amide solvents such as N, N-dimethylformamide.

上記製造方法においては、モノマー、重合開始剤、溶媒以外の添加剤を本発明の効果を損なわない程度に用いることができる。モノマー、重合開始剤以外の添加剤の例は、乳化剤、ATRP重合試薬等が挙げられる。添加剤を使用する場合、モノマー100質量部に対して、通常、1~5質量部であるが、1質量部未満、0.1質量部未満、0.01質量部未満、0.001質量部未満、0.0001質量部未満であってもよい。また添加剤を使用せずとも、本開示に記載の樹脂を製造することができる。 In the above production method, additives other than the monomer, the polymerization initiator, and the solvent can be used to the extent that the effects of the present invention are not impaired. Examples of additives other than monomers and polymerization initiators include emulsifiers, ATRP polymerization reagents and the like. When an additive is used, it is usually 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer, but less than 1 part by mass, less than 0.1 parts by mass, less than 0.01 parts by mass, 0.001 parts by mass. It may be less than, less than 0.0001 parts by mass. Further, the resin described in the present disclosure can be produced without using an additive.

(2.反応性希釈剤(2))
上記反応性希釈剤が

Figure 0007027730000028
(式中、nは0~2の整数であり、mは0~2の整数であり、pは0から7の整数であり、Rb1~Rb14は、それぞれ独立に水素原子、
Figure 0007027730000029
であり、
b15~Rb16は、それぞれ独立に
Figure 0007027730000030
であり、 b17 はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
構造式(A)~(C)中、Rb1~Rb14から選択される2個以上の基が
Figure 0007027730000031
であり、
qはそれぞれ独立に0~16の整数であり、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Rb4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。)
である。 (2. Reactive diluent (2))
The above reactive diluent
Figure 0007027730000028
(In the equation, n is an integer of 0 to 2, m is an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b14 are independently hydrogen atoms, respectively.
Figure 0007027730000029
And
R b15 to R b16 are independent of each other.
Figure 0007027730000030
R b17 is an alkylene group independently of each other.
In the structural formulas (A) to (C), two or more groups selected from R b1 to R b14 are
Figure 0007027730000031
And
q is an independently integer from 0 to 16, and R 1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group. The groups of R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may be different for each structural unit. )
Is.

なお、本開示において「各構成単位ごとに基が異なっていてもよい」とは、例えば構造式(A)において、nが2であるとき、

Figure 0007027730000032
b4AとRb4Bとは異なる基であってよく、Rb5AとRb5Bとは異なる基であってよいことを意味する。 In the present disclosure, "the group may be different for each structural unit" means, for example, when n is 2 in the structural formula (A).
Figure 0007027730000032
It means that R b4A and R b4B may be different groups, and R b5A and R b5B may be different groups.

(A (ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート)
本開示において「(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「ペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1つ」を意味する。(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートは(A)式に示される構造式により表わされる。
(A (Poly) Pentaerythritol Poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate)
In the present disclosure, "(poly) pentaerythritol poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate" refers to "pentaerythritol poly (meth) acrylate, pentaerythritol polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate, pentaerythritol polyepoxy-modified". Means at least one selected from the group consisting of (meth) acrylate, polypentaerythritol poly (meth) acrylate, polypentaerythritol polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate, and polypentaerythritol polyepoxy-modified (meth) acrylate. do. (Poly) Pentaerythritol Poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate is represented by the structural formula represented by the formula (A).

ペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of pentaerythritol poly (meth) acrylates are pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, and pentaerythritol hexa (meth) acrylate. And so on.

ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of pentaerythritol polyalkylene oxide-modified acrylates include pentaerythritol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol tri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), and pentaerythritol tetra (ethylene oxide-modified (meth) acrylate). Pentaerythritol Penta (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol hexa (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate) ), Pentaerythritol tetra (propylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol penta (propylene oxide-modified (meth) acrylate), pentaerythritol hexa (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like.

ペンタエリスリトールポリエポキシ変性アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of pentaerythritol polyepoxy-modified acrylates are pentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol triepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, pentaerythritol pentaepoxy (meth) acrylate, and pentaerythritol hexaepoxy. Examples thereof include (meth) acrylate.

ポリペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールノナ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of polypentaerythritol poly (meth) acrylates are dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta. Elythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hepta (meth) acrylate, dipentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol di (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) Acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol nona (meth) acrylate, tripentaerythritol Examples include deca (meth) acrylate.

ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘプタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールオクタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールヘプタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジペンタエリスリトールオクタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールトリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘキサ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘプタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールオクタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールノナ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールデカ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘキサ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールヘプタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールオクタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールノナ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリペンタエリスリトールデカ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of polypentaerythritol polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates are dipentaerythritol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), and dipentaerythritol tetra (ethylene oxide). Modified (meth) acrylate), dipentaerythritol penta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hexa (ethylene oxide modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hepta (ethylene oxide modified (meth) acrylate), di Pentaerythritol octa (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol tetra (propylene oxide-modified (propylene oxide-modified)) Meta) acrylate), dipentaerythritol penta (propylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hexa (propylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol hepta (propylene oxide-modified (meth) acrylate), dipentaerythritol Octa (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), tripentaerythritol tetra (ethylene oxide modified (meth)) Acrylate), tripentaerythritol penta (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hexa (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hepta (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol octa ( Ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol nona (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol deca (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate) , Pentaerythritol tri (propylene oxide modified (meth) acrylate), tripentae Lithritol tetra (propylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol penta (propylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hexa (propylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol hepta (propylene oxide-modified (propylene oxide-modified)) Meta) acrylate), tripentaerythritol octa (propylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol nona (propylene oxide-modified (meth) acrylate), tripentaerythritol deca (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like. ..

ポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタエポキシ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールジエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールノナエポキシ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールデカエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of polypentaerythritol polyepoxy-modified (meth) acrylates are dipentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol triepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaepoxy (dipentaerythritol pentaepoxy (meth) acrylate). Meta) acrylate, dipentaerythritol hexaepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol heptaepoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol octaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol diepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol triepoxy (meth) Meta) acrylate, tripentaerythritol tetraepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol pentaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol hexaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol heptaepoxy (meth) acrylate, tripentaerythritol octaepoxy (meth) acrylate Examples thereof include meta) acrylate, tripentaerythritol nonaepoxy (meth) acrylate, and tripentaerythritol decaepoxy (meth) acrylate.

(B (ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート)
本開示において「(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」とは、「トリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートは(B)式に示される構造式により表わされる。
(B (Poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate)
In the present disclosure, "(poly) trimethylolpropane poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate" means "trimethylolpropane poly (meth) acrylate, trimethylolpropane polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate, tri. Select from the group consisting of methylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylates, polytrimethylolpropane poly (meth) acrylates, polytrimethylolpropane polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates, and polytrimethylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylates. It means "at least one that is done". (Poly) Trimethylolpropane Poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate is represented by the structural formula represented by the formula (B).

トリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the trimethylolpropane poly (meth) acrylate include trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and the like.

トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリメチロールプロパントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of trimethylolpropane polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates include trimethylolpropane di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), trimethylolpropane tri (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), and trimethylolpropane di (propylene oxide). Modified (meth) acrylate), trimethylolpropane tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like.

トリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジエポキシ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリエポキシ(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of the trimethylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylate include trimethylolpropane diepoxy (meth) acrylate and trimethylolpropane triepoxy (meth) acrylate).

ポリトリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the polytrimethylolpropane poly (meth) acrylate include ditrimethylolpropane di (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate.

ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of polytrimethylolpropane polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates are ditrimethylolpropane di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), ditrimethylolpropane tri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), and ditrimethylolpropane di (propylene). Oxide-modified (meth) acrylate), ditrimethylolpropane tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like can be mentioned.

ポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジエポキシ(メタ)アクリレート)、ジトリメチロールプロパントリエポキシ(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of the polytrimethylolpropane polyepoxy-modified (meth) acrylate include ditrimethylolpropane diepoxy (meth) acrylate) and ditrimethylolpropane triepoxy (meth) acrylate).

(C (ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート)
本開示において「(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「グリセリンポリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、グリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリグリセリンポリ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びポリグリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートは(C)式に示される構造式により表わされる。
(C (Poly) Glycerin Poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate)
In the present disclosure, "(poly) glycerin poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate" refers to "glycerin poly (meth) acrylate, glycerin polyalkylene oxide-modified (meth) acrylate, and glycerin polyepoxy-modified (meth) acrylate. , At least one selected from the group consisting of polyglycerin poly (meth) acrylates, polyglycerin polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates, and polyglycerin polyepoxy-modified (meth) acrylates. " (Poly) Glycerin Poly (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate is represented by the structural formula represented by the formula (C).

グリセリンポリ(メタ)アクリレートの例は、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of glycerin poly (meth) acrylate include glycerin di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate and the like.

ポリグリセリンポリ(メタ)アクリレートの例は、ジグリセリンジ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンジ(メタ)アクリレート、トリグリセリントリ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of polyglycerin poly (meth) acrylates are diglycerin di (meth) acrylate, diglycerin tri (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, triglycerin di (meth) acrylate, triglycerin tri (meth) acrylate, and tri. Examples thereof include glycerin tetra (meth) acrylate and triglycerin penta (meth) acrylate.

グリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、グリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリンジリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、グリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of glycerin polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates are glycerindi (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), glycerintri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), glycerinjiri (propylene oxide-modified (meth) acrylate), and glycerin. Examples thereof include tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate).

グリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、グリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、グリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the glycerin polyepoxy-modified (meth) acrylate include glycerin diepoxy (meth) acrylate and glycerin triepoxy (meth) acrylate.

ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、ジグリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリンテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリントリ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンテトラ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンペンタ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)ジグリセリンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、ジグリセリンテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリントリ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンテトラ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、トリグリセリンペンタ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of polyglycerin polyalkylene oxide-modified (meth) acrylates are diglycerin di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), diglycerin tri (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), and diglycerin tetra (ethylene oxide-modified (meth) acrylate). , Triglycerin di (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tri (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin tetra (ethylene oxide modified (meth) acrylate), triglycerin penta (ethylene oxide modified (meth)) Acrylic) Diglycerin di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), diglycerintri (propylene oxide-modified (meth) acrylate), diglycerin tetra (propylene oxide-modified (meth) acrylate), triglycerindi (propylene oxide-modified (meth) acrylate) ), Triglycerin tri (propylene oxide-modified (meth) acrylate), triglycerin tetra (propylene oxide-modified (meth) acrylate), triglycerin penta (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like.

ポリグリセリンポリエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、ジグリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンジエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリントリエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラエポキシ(メタ)アクリレート、トリグリセリンペンタエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of polyglycerin polyepoxy-modified (meth) acrylates are diglycerin diepoxy (meth) acrylate, diglycerin triepoxy (meth) acrylate, diglycerin tetraepoxy (meth) acrylate, triglycerin diepoxy (meth) acrylate, and tri. Examples thereof include glycerin triepoxy (meth) acrylate, triglycerin tetraepoxy (meth) acrylate, and triglycerin pentaepoxy (meth) acrylate.

(D アルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート)
本開示において「アルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート」は、「アルキレンジ(メタ)アクリレート、アルキレンジアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、及びアルキレンジエポキシ変性(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つ」を意味する。アルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレートは(D)式に示される構造式により表わされる。
(D alkylene di (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate)
In the present disclosure, the "alkylene di (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate" comprises "alkylene di (meth) acrylate, alkylene dialkylene oxide-modified (meth) acrylate, and alkylene diepoxy-modified (meth) acrylate. It means "at least one selected from the group". The alkylene di (alkylene oxide-modified or epoxy-modified) (meth) acrylate is represented by the structural formula represented by the formula (D).

アルキレンジ(メタ)アクリレートの例は、1,2-エチレンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,7-ヘプタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8-オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of alkylene di (meth) acrylates are 1,2-ethylenediol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,5-. Pentandiol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,7-heptanediol di (meth) acrylate, 1,8-octanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol Examples thereof include di (meth) acrylate and 1,10-decanediol di (meth) acrylate.

アルキレンジアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの例は、1,2-エチレンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,3-プロパンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,4-ブタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,5-ペンタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,6-ヘキサンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,7-ヘプタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,8-オクタンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,9-ノナンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,10-デカンジオールジ(エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,2-エチレンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,3-プロパンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,4-ブタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,5-ペンタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,6-ヘキサンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,7-ヘプタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,8-オクタンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,9-ノナンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)、1,10-デカンジオールジ(プロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート)等が挙げられる。 Examples of alkylenedialkylene oxide-modified (meth) acrylates are 1,2-ethylenedioldi (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), 1,3-propanedioldi (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), 1,4. -Butandioldi (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), 1,5-pentanedioldi (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), 1,6-hexanedioldi (ethyleneoxide-modified (meth) acrylate), 1, 7-Heptanediol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,8-octanediol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,9-nonanediol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), 1 , 10-decanediol di (ethylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,2-ethylenediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,3-propanedioldi (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,4-Butanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,5-pentanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,6-hexanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate) , 1,7-Heptanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,8-octanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate), 1,9-nonanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate) ), 1,10-decanediol di (propylene oxide-modified (meth) acrylate) and the like.

アルキレンジエポキシ変性(メタ)アクリレートの例は、1,2-エチレンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,3-プロパンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,5-ペンタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,7-ヘプタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,8-オクタンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of alkylene diepoxy-modified (meth) acrylates are 1,2-ethylenediol diepoxy (meth) acrylates, 1,3-propanediol diepoxy (meth) acrylates, and 1,4-butanediol diepoxy (meth) acrylates. , 1,5-Pentanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,6-hexanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,7-heptanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,8-octanediol diepoxy (meth) ) Acrylate, 1,9-nonanediol diepoxy (meth) acrylate, 1,10-decanediol diepoxy (meth) acrylate and the like.

(3.ワニス組成物)
本開示は上記樹脂及び上記反応性希釈剤を含むワニス組成物を提供する。
(3. Varnish composition)
The present disclosure provides a varnish composition containing the above resin and the above reactive diluent.

ワニス組成物中の樹脂の含有量の上限の例は、ワニス組成物の合計質量に対して、60、59、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11質量%等が挙げられ、下限の例は、59、55、50、45、40、35、30、25、20、15、11、10質量%等が挙げられる。ワニス組成物中の樹脂の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、樹脂の含有量はワニス組成物の合計質量に対して、10~60質量%が好ましい。 An example of the upper limit of the resin content in the varnish composition is 60, 59, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11% by mass with respect to the total mass of the varnish composition. Etc., and examples of the lower limit include 59, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 11, 10% by mass and the like. The range of the resin content in the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the resin content is preferably 10 to 60% by mass with respect to the total mass of the varnish composition from the viewpoint of film strength and curability.

ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の上限の例は、ワニス組成物中の合計質量に対して、90、89、85、80、75、70、65、60、55、50、55、50、45、41質量%等が挙げられ、下限の例は、89、85、80、75、70、65、60、55、50、55、50、45、41、40質量%等が挙げられる。ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、反応性希釈剤の含有量はワニス組成物中の合計質量に対して、40~90質量%が好ましい。 Examples of the upper limit of the content of the reactive diluent in the varnish composition are 90, 89, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 55 with respect to the total mass in the varnish composition. , 50, 45, 41% by mass and the like, and examples of the lower limit include 89, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55, 50, 55, 50, 45, 41, 40% by mass and the like. Will be. The range of the content of the reactive diluent in the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the content of the reactive diluent is preferably 40 to 90% by mass with respect to the total mass in the varnish composition from the viewpoint of film strength and curability.

ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比(樹脂の質量/反応性希釈剤の質量)の上限の例は、1.50、1.40、1.30、1.20、1.10、1.00、0.90、0.80、0.70、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.15等が挙げられ、下限の例は1.49、1.40、1.30、1.20、1.10、1.00、0.90、0.80、0.70、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.15、0.11等が挙げられる。ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比(樹脂の質量/反応性希釈剤の質量)の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比は0.11~1.50が好ましい。 Examples of the upper limit of the mass ratio (mass of resin / mass of reactive diluent) between the resin and the reactive diluent in the varnish composition are 1.50, 1.40, 1.30, 1.20, 1. .10, 1.00, 0.90, 0.80, 0.70, 0.6, 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, 0.15, etc., and examples of the lower limit Is 1.49, 1.40, 1.30, 1.20, 1.10, 1.00, 0.90, 0.80, 0.70, 0.6, 0.5, 0.4, 0 .3, 0.2, 0.15, 0.11 and the like can be mentioned. The range of the mass ratio (mass of resin / mass of reactive diluent) between the resin and the reactive diluent in the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the mass ratio of the resin to the reactive diluent in the varnish composition is preferably 0.11 to 1.50 from the viewpoint of film strength and curability.

上記ワニス組成物の粘度の上限の例は、800、750、700、600、500、400、300、200、100、50、10Pa・s/25℃等が挙げられ、下限の例は750、700、600、500、400、300、200、100、50、10、5Pa・s/25℃等が挙げられる。ワニス組成物の粘度の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、ローラーへの転写性や作業性の観点からワニス組成物の粘度5~800Pa・s/25℃が好ましく、10~200Pa・s/25℃がより好ましい。 Examples of the upper limit of the viscosity of the varnish composition include 800, 750, 700, 600, 500, 400, 300, 200, 100, 50, 10 Pa · s / 25 ° C., and examples of the lower limit are 750 and 700. , 600, 500, 400, 300, 200, 100, 50, 10, 5 Pa · s / 25 ° C. and the like. The range of viscosity of the varnish composition can be appropriately set (for example, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the viscosity of the varnish composition is preferably 5 to 800 Pa · s / 25 ° C., more preferably 10 to 200 Pa · s / 25 ° C. from the viewpoint of transferability to a roller and workability.

ワニス組成物中には、樹脂、反応性希釈剤以外の成分(以下「その他の成分」ともいう)を含有してもよい。樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分の含有量の上限の例は20、15、10、5、1、0.5、0.1、0.01質量%等が挙げられ、下限の例は15、10、5、1、0.5、0.1、0.01、0質量%等が挙げられる。樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分は0~20質量%が好ましい。 The varnish composition may contain components other than the resin and the reactive diluent (hereinafter, also referred to as “other components”). Examples of the upper limit of the content of other components with respect to the total mass of the resin and the reactive diluent include 20, 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.01 mass% and the like, and the lower limit. Examples of the above include 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.01, 0% by mass and the like. The range of the content of other components with respect to the total mass of the resin and the reactive diluent can be set as appropriate (eg, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the other components are preferably 0 to 20% by weight based on the total weight of the resin and the reactive diluent.

またワニス組成物全体の合計質量に対するその他の成分の含有量の上限の例は、17、15、10、5、1、0.5、0.1、0.01質量%等が挙げられ、下限の例は15、10、5、1、0.5、0.1、0.01、0質量%等が挙げられる。その他の成分の含有量の範囲は適宜(例えば上記上限及び下限の値から選択して)設定され得る。1つの実施形態において、その他の成分の含有量は、ワニス組成物全体の合計質量に対して0~17質量%が好ましい。 Examples of the upper limit of the content of other components with respect to the total mass of the varnish composition include 17, 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.01 mass% and the like, and the lower limit. Examples of the above include 15, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.01, 0% by mass and the like. The range of content of other components can be set as appropriate (eg, selected from the above upper and lower limit values). In one embodiment, the content of the other components is preferably 0 to 17% by mass with respect to the total mass of the entire varnish composition.

1つの実施形態において、本発明に係るワニス組成物は、活性エネルギー線硬化型であり、例えばインキ用、好ましくはオフセットインキ用に用いられる。オフセット印刷はローラーからローラーへインキを転写させながら使用するものであるため、高粘度のインキにする必要がある。本発明に係るワニス組成物を用いて作製したインキの粘度は高くなるため、オフセットインキに適している。なおインキジェット印刷はタンクからインキを吸って、細いノズルから噴射させて行う印刷手法であるため、低粘度インキにする必要があることが知られている。 In one embodiment, the varnish composition according to the present invention is an active energy ray curable type and is used, for example, for inks, preferably offset inks. Since offset printing is used while transferring ink from roller to roller, it is necessary to use high-viscosity ink. Since the viscosity of the ink produced by using the varnish composition according to the present invention is high, it is suitable for offset ink. Since ink jet printing is a printing method in which ink is sucked from a tank and ejected from a fine nozzle, it is known that it is necessary to use low-viscosity ink.

1つの実施形態において、本発明に係るワニス組成物は、基材(支持体)が親水性ではないものに好ましく用いられる、非親水性基材用ワニス組成物である。 In one embodiment, the varnish composition according to the present invention is a varnish composition for a non-hydrophilic substrate, which is preferably used for those whose substrate (support) is not hydrophilic.

(4.オフセット印刷インキ)
本開示は上記ワニス組成物、必要に応じて光重合開始剤、及び顔料を含む、オフセット印刷インキを提供する。
(4. Offset printing ink)
The present disclosure provides an offset printing ink containing the above varnish composition, optionally a photopolymerization initiator, and a pigment.

光重合開始剤としては、特に限定されず、各種公知のものを使用することができる。その具体例は、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチルエステル、p-ジメチルアミノ安息香酸エステル、p-ジメチルアセトフェノン、チオキサントン、アルキルチオキサントン、アミン類等があげられる。また、イルガキュアー1173、イルガキュアー651、イルガキュアー184、イルガキュアー907、イルガキュアー2959、イルガキュアー127、イルガキュアー369、イルガキュアー369E、イルガキュアー379、イルガキュアー379EG、イルガキュアーTPO、イルガキュアー819(いずれもBASFジャパン社製)等の市販のものをそのまま使用しても良い。光重合開始剤の使用量としては、通常、乾燥性の観点から1~15%程度用いることが好ましい。 The photopolymerization initiator is not particularly limited, and various known ones can be used. Specific examples thereof include benzophenone, o-benzoylbenzoic acid methyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ester, p-dimethylacetophenone, thioxanthone, alkylthioxanthone, amines and the like. In addition, Irgacure 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 2959, Irgacure 127, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379, Irgacure 379EG, Irgacure TPO, Irgacure 819 ( In either case, a commercially available product such as (manufactured by BASF Japan) may be used as it is. The amount of the photopolymerization initiator used is usually preferably about 1 to 15% from the viewpoint of dryness.

本発明に係るオフセット印刷インキに使用する顔料としては、特に限定されず通常使用される無機又は有機の顔料を配合することができる。具体例は、酸化チタン、亜鉛華、鉛白、リトボン、酸化アンチモン等の白色顔料、アニリンブラック、鉄黒、カーボンブラック等の黒色顔料、黄鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、ハンザイエロー(10G、5G、3G、その他)、ジスアゾイエロー、ベンジンイエロー、パーマネントイエロー等の黄色顔料、クロームバーミリオン、パーマネントオレンジ、バルカンファーストオレンジ、インダンスレンブリリアントオレンジ等の橙色顔料、酸化鉄、パーマネントブラウン、パラブラウン等の褐色顔料、ベンガラ、カドミウムレッド、アンチモン朱、パーマネントレッド、ローダミンレーキ、アリザリンレーキ、チオインジゴレッド、PVカーミン、モノライトファーストレッド、キナクドリン系赤色顔料等の赤色顔料、コバルト紫、マンガン紫、ファーストバイオレット、メチルバイオレットレーキ、インダンスレンブリリアントバイオレット、ジオキサジンバイオレット等の紫色顔料、群青、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ピーコックブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、銅フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、インジゴ等の青色顔料、クロムグリーン、酸化クロム、エメラルドグリーン、ナフトールグリーン、グリーンゴールド、アシッドグリーンレーキ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、ポリクロルブロム銅フタロシアニン等の緑色顔料の他、各種の蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。これらの顔料は、オフセット印刷インキ100質量部に対して1~50質量部程度の範囲で配合することが好ましく、5~30質量部とすることが更に好ましい。 The pigment used in the offset printing ink according to the present invention is not particularly limited, and an inorganic or organic pigment usually used can be blended. Specific examples include white pigments such as titanium oxide, zinc flower, lead white, lithobon, and antimony oxide, black pigments such as aniline black, iron black, and carbon black, yellow lead, yellow iron oxide, titanium yellow, and Hansa yellow (10G,). 5G, 3G, etc.), yellow pigments such as disazo yellow, benzine yellow, permanent yellow, orange pigments such as chrome vermillion, permanent orange, vulcan first orange, indance lembrilliant orange, iron oxide, permanent brown, para brown, etc. of brown pigment, red iron oxide, cadmium red, antimony vermilion, permanent red, rhodamine lake, alizarin lake, thioindigo red, PV Carmine, mono light fast red, red pigments such as quinacridone red pigment, cobalt violet, manganese violet, fast violet , Methyl Violet Lake, Indance Rem Brilliant Violet, Dioxazine Violet, etc. , Blue pigments such as indigo, chrome green, chromium oxide, emerald green, naphthol green, green gold, acid green lake, malakite green lake, phthalocyanine green, polychlorobrom copper phthalocyanine and other green pigments, as well as various fluorescent pigments, Examples include metal powder pigments. These pigments are preferably blended in the range of about 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the offset printing ink, and more preferably 5 to 30 parts by mass.

本発明に係るオフセット印刷インキは、活性エネルギー線硬化型であり、そして本発明に係る印刷インキ用樹脂、重合性モノマー及び顔料を含有するものであるが、さらに表面調整剤、消泡剤、光増感剤、酸化防止剤、光安定剤、レベリング剤を使用することもできる。これらの任意成分は、オフセット印刷インキ100質量部に対して、それらの合計量が100質量部程度以下の範囲となる量(具体的には95、90、80、50、40、30、20、10、5、2.1、0.1質量部程度以下)で配合することが好ましい。さらにハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジンン及びN-ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等の重合禁止剤を配合することもできる。重合禁止剤を配合する場合には、オフセット印刷インキに対して0.01~2質量部程度の範囲で使用することが好ましい。 The offset printing ink according to the present invention is an active energy ray-curable type and contains a resin for printing ink, a polymerizable monomer and a pigment according to the present invention, but further includes a surface conditioner, a defoaming agent, and light. A sensitizer, an antioxidant, a light stabilizer, and a leveling agent can also be used. These optional components are in an amount in which the total amount thereof is in the range of about 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the offset printing ink (specifically, 95, 90, 80, 50, 40, 30, 20, 10, 5, 2.1, 0.1 part by mass or less) is preferable. Further, a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt can be blended. When a polymerization inhibitor is blended, it is preferably used in the range of about 0.01 to 2 parts by mass with respect to the offset printing ink.

(5.印刷物)
本開示は、上記オフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物を提供する。
(5. Printed matter)
The present disclosure provides a printed matter having a cured layer of the offset printing ink.

基材は、各種公知のものを特に制限なく用いることができる。基材の例は、紙(アート紙、キャストコート紙、フォーム用紙、PPC紙、上質コート紙、クラフト紙、ポリエチレンラミネート紙、グラシン紙等)、プラスチック基材(ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ノルボルネン系樹脂等)等が挙げられる。 As the base material, various known materials can be used without particular limitation. Examples of base materials include paper (art paper, cast coated paper, foam paper, PPC paper, high quality coated paper, kraft paper, polyethylene laminated paper, glassin paper, etc.), plastic base materials (polyolefin, polycarbonate, polymethacrylate, polyester, etc.). (Epoxy resin, melamine resin, triacetyl cellulose resin, ABS resin, AS resin, norbornene-based resin, etc.) and the like can be mentioned.

印刷方法(塗工方法)の例は、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工等が挙げられる。また、塗工量は特に限定されないが、乾燥後の質量が0.1~30g/m程度が好ましく、1~20g/m程度がより好ましい。 Examples of the printing method (coating method) include offset printing, flexographic printing, screen printing bar coater coating, Mayer bar coating, air knife coating, gravure coating and the like. The amount of coating is not particularly limited, but the mass after drying is preferably about 0.1 to 30 g / m 2 , and more preferably about 1 to 20 g / m 2 .

硬化手段としては、例えば電子線又は紫外線が挙げられる。紫外線の光源としては、例えば高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、UV-LED等が挙げられる。光量や光源配置、搬送速度は特に限定されないが、高圧水銀灯を使用する場合には、80~160W/cm程度の光量を有するランプ1灯に対して、搬送速度が5~50m/分程度が好ましい。 Examples of the curing means include electron beams and ultraviolet rays. Examples of the light source of ultraviolet rays include high-pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, UV-LEDs, and the like. The amount of light, the arrangement of the light source, and the transport speed are not particularly limited, but when a high-pressure mercury lamp is used, the transport speed is preferably about 5 to 50 m / min for one lamp having a light amount of about 80 to 160 W / cm. ..

以下、実施例及び比較例を通じて本発明を具体的に説明する。但し、本発明の範囲は、本開示に具体的に記載された実施形態にも実施例にも限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。なお、以下において「部」及び「%」は、特に説明がない限り、それぞれ質量部及び質量%を意味する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. However, the scope of the present invention is not limited to the embodiments and examples specifically described in the present disclosure, and is limited only by the scope of claims. In the following, "parts" and "%" mean parts by mass and% by mass, respectively, unless otherwise specified.

重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりTHF溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求めた。GPC装置としてはHLC-8020(東ソー(株)製)を、カラムとしてはTSKgel superHZM(東ソー(株)製)を用いた。求めた数平均分子量と重量平均分子量より分子量分布(Mw/Mn)を算出した。 The weight average molecular weight and the number average molecular weight were determined as polystyrene-equivalent values measured under a THF solvent by gel permeation chromatography (GPC). An HLC-8020 (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the GPC apparatus, and a TSKgel superHZM (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column. The molecular weight distribution (Mw / Mn) was calculated from the obtained number average molecular weight and weight average molecular weight.

製造例1
攪拌機、分水器付き還流冷却管及び温度計と滴下ロートを備えた反応容器にキシレン400g仕込んだ。滴下ロートにメタクリル酸メチルを390g、アクリル酸を90g、2-エチルヘキシルアクリレートを60g、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メスカプトプロピオネート)60g仕込み、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを6g添加し、90℃、2時間 攪拌下滴下重合反応を行い、6時間保温した。その後、温度を170℃に上げ常圧で攪拌を続けながら溶媒を留除し、更に同温度で50mHg以下に減圧し、完全に溶媒を留去して、樹脂1を600g得た。重量平均分子量(Mw)は、10,000、数平均分子量(Mn)は3,570、Mw/Mnは2.8であった。結果を表1に示す。
Production Example 1
400 g of xylene was charged in a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser with a water divider, a thermometer and a dropping funnel. Add 390 g of methyl methacrylate, 90 g of acrylic acid, 60 g of 2-ethylhexyl acrylate and 60 g of pentaerythritol tetrakis (3-mescaptopropionate) to the dropping funnel, and add 6 g of azobisisobutyronitrile as an initiator. A dropping polymerization reaction was carried out under stirring at 90 ° C. for 2 hours, and the temperature was kept warm for 6 hours. Then, the temperature was raised to 170 ° C., the solvent was distilled off while continuing stirring at normal pressure, the pressure was further reduced to 50 mHg or less at the same temperature, and the solvent was completely distilled off to obtain 600 g of the resin 1. The weight average molecular weight (Mw) was 10,000, the number average molecular weight (Mn) was 3,570, and Mw / Mn was 2.8. The results are shown in Table 1.

製造例2~5並びに比較製造例1及び2
樹脂組成を表1に記載したものに変更したことを除き、製造例1と同様の手順により樹脂2~5及び比較樹脂1~2の製造を行った。

Figure 0007027730000033
Production Examples 2 to 5 and Comparative Production Examples 1 and 2.
Resins 2 to 5 and comparative resins 1 and 2 were manufactured by the same procedure as in Production Example 1 except that the resin composition was changed to that shown in Table 1.
Figure 0007027730000033

表1の略号は以下の通りである。
A-1:メチルメタクリレート
A-2:アクリル酸
A-3:メタクリル酸ブチル
A-4:2-エチルヘキシルアクリレート
B-1:スチレン
C-1:アクリロイルモルホリン
C-2:N,N-ジメチルアクリルアミド
C-3:N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート
D-1:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
D-2:2-ヒドロキシプロピルアクリレート
D-3:2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート
E-1:トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)
E-2:トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]-イソシアヌレート
E-3:ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)
E-4:ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)
F-1:2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)
F-2:t-ブチル パーオキシ-2-エチルヘキサノエイト
The abbreviations in Table 1 are as follows.
A-1: Methyl Methacrylate A-2: Acrylic Acid A-3: Butyl methacrylate A-4: 2-Ethylhexyl acrylate B-1: Styrene C-1: Acryloylmorpholin C-2: N, N-Dimethylacrylamide C- 3: N, N-dimethylaminoethyl methacrylate D-1: 2-hydroxyethyl methacrylate D-2: 2-hydroxypropyl acrylate D-3: 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate E-1: trimethyl propanthris ( 3-Mercaptopropionate)
E-2: Tris-[(3-mercaptopropionyloxy) ethyl] -isocyanurate E-3: pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)
E-4: Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate)
F-1: 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile)
F-2: t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate

実施例1
得られた樹脂1(14.5g)して反応性希釈剤であるジペンタエリスリトール(29.5g)、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(26.0g)、トリメチロールプロパントリアクリレート(10.0g)をそれぞれ加え、重合禁止剤であるメトキノンを0.1g加えエアーバブリング下、120℃、1時間攪拌溶解し、65.6gのオフセット印刷用ワニスを得た。得られたワニス65.6gに対して、墨顔料であるMA100を15g、光重合開始剤であるイルガキュア907を5g仕込み、3本ローラーで錬肉後、インコメーターを用い、40℃、400rpmにおけるタック値が9±0.5となるよう適宜調整し表2の実施例1に示すオフセット印刷インキを得た。
Example 1
The obtained resin 1 (14.5 g) was used as a reactive diluent to contain dipentaerythritol (29.5 g), trimethylolpropane tetraacrylate (26.0 g), and trimethylolpropane triacrylate (10.0 g), respectively. In addition, 0.1 g of methquinone, which is a polymerization inhibitor, was added and dissolved by stirring at 120 ° C. for 1 hour under air bubbling to obtain 65.6 g of an offset printing varnish. To 65.6 g of the obtained varnish, 15 g of MA100, which is a black pigment, and 5 g of Irgacure 907, which is a photopolymerization initiator, are charged, and after smelting with three rollers, a tack at 40 ° C. and 400 rpm is used. The offset printing ink shown in Example 1 of Table 2 was obtained by appropriately adjusting the value to 9 ± 0.5.

実施例2~実施例5、比較例1~2
樹脂と反応性希釈剤の使用比率を代えたこと以外は、実施例1と同様に調製した。
Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 2
It was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the resin and the reactive diluent was changed.

Figure 0007027730000034
Figure 0007027730000034

表2の略号は以下の通りである。
G-1:ジペンタエリスリトールテトラアクリレート
G-2:ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
G-3:トリメチロールプロパントリアクリレート
The abbreviations in Table 2 are as follows.
G-1: Dipentaerythritol Tetraacrylate G-2: Ditrimethylolpropane Tetraacrylate G-3: Trimethylolpropane Triacrylate

(流動性の測定)
60°に傾けたガラス板の上にインキ1.30mlをのせて、30分放置後のインキの流れた距離を計測した。評価基準を以下に示す。
○:201mm以上
△:200~101mm
×:100mm以下
(Measurement of liquidity)
1.30 ml of ink was placed on a glass plate tilted at 60 °, and the distance through which the ink flowed after being left for 30 minutes was measured. The evaluation criteria are shown below.
◯: 201 mm or more Δ: 200 to 101 mm
×: 100 mm or less

(耐ミスチング性)
13cm×21cm角に切り取ったOHPフィルムをインコメーターのローラー裏の壁面に貼り付け、ローラー温度を40℃に調整後、ローラーの上に調整したインキを2.6mlのせた。ローラーを1200rpm×2分 回転させフィルムに付着したインキの質量を秤量した。評価基準を以下に示す。
○:59mg以下
△:60~99mg
×:100mg以上
(Misching resistance)
An OHP film cut into a 13 cm × 21 cm square was attached to the wall surface behind the roller of the incometer, the roller temperature was adjusted to 40 ° C., and then 2.6 ml of the adjusted ink was placed on the roller. The roller was rotated at 1200 rpm × 2 minutes and the mass of the ink adhering to the film was weighed. The evaluation criteria are shown below.
◯: 59 mg or less Δ: 60 to 99 mg
×: 100 mg or more

Claims (8)

構成単位1
Figure 0007027730000035
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rは、水素又はアルキル基である)
及び構成単位2
Figure 0007027730000036
(式中、Rはアルキレン基である)
を含み、
前記構成単位2が、構成単位2B、構成単位2C及び構成単位2Dからなる群から選択される1つ以上であり、前記構成単位1と前記構成単位2とが共有結合により結合している構造を含む、樹脂(1)、並びに
反応性希釈剤(2)を含む、オフセットインキ用ワニス組成物。
構成単位2B
Figure 0007027730000037
(式中、R b3 ~R b5 は、それぞれ独立にアルキレン基であり、R B2 は3価の炭化水素基又は
Figure 0007027730000038
(式中、R ba ~R bc は、それぞれ独立にアルキレン基である)
である。)
構成単位2C
Figure 0007027730000039
(式中、R b6 ~R b9 は、それぞれ独立にアルキレン基であり、R B3 は4価の炭化水素基である。)
構成単位2D
Figure 0007027730000040
(式中、R b10 ~R b15 は、それぞれ独立にアルキレン基であり、R B4 は6価の炭化水素基又は
Figure 0007027730000041
である。)
Configuration unit 1
Figure 0007027730000035
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group and Ra is a hydrogen or alkyl group).
And constituent unit 2
Figure 0007027730000036
(In the formula, R b is an alkylene group)
Including
The structural unit 2 is one or more selected from the group consisting of the structural unit 2B, the structural unit 2C, and the structural unit 2D, and the structural unit 1 and the structural unit 2 are bonded by a covalent bond. A varnish composition for offset inks comprising the resin (1) and the reactive diluent (2).
Configuration unit 2B
Figure 0007027730000037
(In the formula, R b3 to R b5 are independently alkylene groups, and R B2 is a trivalent hydrocarbon group or
Figure 0007027730000038
(In the formula, R ba to R bc are independently alkylene groups).
Is. )
Configuration unit 2C
Figure 0007027730000039
(In the formula, R b6 to R b9 are independently alkylene groups, and R B3 is a tetravalent hydrocarbon group.)
Configuration unit 2D
Figure 0007027730000040
(In the formula, R b10 to R b15 are independently alkylene groups, and R B4 is a hexavalent hydrocarbon group or
Figure 0007027730000041
Is. )
前記樹脂(1)が構成単位3
Figure 0007027730000042
(式中、Rは水素又はメチル基であり、Rc1~Rc5はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。)
を含む、請求項1に記載のオフセットインキ用ワニス組成物。
The resin (1) is the constituent unit 3
Figure 0007027730000042
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, and R c1 to R c5 are independently selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl group and an aryl group.)
The varnish composition for offset ink according to claim 1.
前記樹脂(1)が構成単位4
Figure 0007027730000043
(式中、Rは水素又はメチル基であり、RはCONRd1d2、COO(CHNRd1d2及び
Figure 0007027730000044
からなる群から選択される基であり、
式中、Rd1及びRd2は、アルキル基若しくは水素であるか、又はRd1及びRd2が一緒になって環構造を形成する基であり、kは1以上の整数であり、Rd3は、水素、メチル基又は水酸基であり、Rd4は、OH、CHOH、CHCHOH、CHOCH又はCHOPhであるが、Rd3又はRd4のどちらかが水酸基である。)
を含む、請求項1又は2に記載のオフセットインキ用ワニス組成物。
The resin (1) is the constituent unit 4
Figure 0007027730000043
(In the formula, R 1 is a hydrogen or methyl group, R d is CONR d1 R d2 , COO (CH 2 ) 2 NR d1 R d2 and
Figure 0007027730000044
It is a group selected from the group consisting of
In the formula, R d1 and R d2 are an alkyl group or hydrogen, or R d1 and R d2 are groups that form a ring structure together, k is an integer of 1 or more, and R d3 is. , Hydrogen, methyl group or hydroxyl group, where R d4 is OH, CH 2 OH, CH 2 CH 2 OH, CH 2 OCH 3 or CH 2 OPh, but either R d3 or R d4 is the hydroxyl group. .. )
The varnish composition for offset ink according to claim 1 or 2.
前記樹脂(1)が構成単位5
Figure 0007027730000045
(式中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。)
をポリマー鎖末端に含む、請求項1~3のいずれか1項に記載のオフセットインキ用ワニス組成物。
The resin (1) is a constituent unit 5
Figure 0007027730000045
(In the formula, R e1 , R e2 , and R e3 are independently nitrile groups, alkyl groups, polar group-substituted alkyl groups, alkenyl groups, or polar groups, respectively.)
The varnish composition for offset ink according to any one of claims 1 to 3, wherein the varnish composition for offset ink is contained at the end of the polymer chain.
前記樹脂(1)が構成単位6
Figure 0007027730000046
(式中、Rは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。)
をポリマー鎖末端に含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のオフセットインキ用ワニス組成物。
The resin (1) is a constituent unit 6
Figure 0007027730000046
(In the formula, R f is an acyl group, an alkyl group, or an aryl group.)
The varnish composition for offset ink according to any one of claims 1 to 4, wherein the varnish composition for offset ink is contained at the end of the polymer chain.
前記反応性希釈剤(2)が
Figure 0007027730000047
(式中、nは0~2の整数であり、mは0~2の整数であり、pは0から7の整数であり、Rb1~Rb14は、それぞれ独立に水素原子、
Figure 0007027730000048
であり、
b15~Rb16は、それぞれ独立に
Figure 0007027730000049
であり、Rb17はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
構造式(A)~(C)中、Rb1~Rb14から選択される2個以上の基が
Figure 0007027730000050
であり、
qはそれぞれ独立に0~16の整数であり、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Rb4、Rb5、Rb9、及びRb13は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。)
である、請求項1~5のいずれか1項に記載のオフセットインキ用ワニス組成物。
The reactive diluent (2)
Figure 0007027730000047
(In the equation, n is an integer of 0 to 2, m is an integer of 0 to 2, p is an integer of 0 to 7, and R b1 to R b14 are independently hydrogen atoms, respectively.
Figure 0007027730000048
And
R b15 to R b16 are independent of each other.
Figure 0007027730000049
R b17 is an alkylene group independently of each other.
In the structural formulas (A) to (C), two or more groups selected from R b1 to R b14 are
Figure 0007027730000050
And
q is an independently integer from 0 to 16, and R 1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group. The groups of R b4 , R b5 , R b9 , and R b13 may be different for each structural unit. )
The varnish composition for offset ink according to any one of claims 1 to 5.
請求項1~6のいずれか1項に記載のオフセットインキ用ワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。 An offset printing ink comprising the varnish composition for offset ink and the pigment according to any one of claims 1 to 6. 請求項7に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。 A printed matter having a cured layer of the offset printing ink according to claim 7.
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