JP2018122430A

JP2018122430A - Film body for holding glass substrate and method for polishing glass substrate

Info

Publication number: JP2018122430A
Application number: JP2018091277A
Authority: JP
Inventors: 尚宏堀田; Naohiro Hotta
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2017-12-15
Filing date: 2018-05-10
Publication date: 2018-08-09

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve quality of a glass substrate after polishing.SOLUTION: A film body for holding a glass substrate has: a self-adsorbable sheet that can adsorb and hold a glass substrate; a sheet-like base material stuck to a first face of the self-adsorbable sheet, the first face used for adsorbing the glass substrate; and an adhesive layer provided on a second face of an opposite side to the first face of the self-adsorbable sheet.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、ガラス基板を加工する際に、ガラス基板を保持するガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法に関する。 The present invention relates to a glass substrate holding film body that holds a glass substrate and a glass substrate polishing method when the glass substrate is processed.

液晶ディスプレイ用に適用されるガラス基板は、その表面の微小な凹凸やうねりが画像に歪みを与える原因となる。このため、その微小な凹凸やうねりを研磨装置によって除去することにより、所望の平坦度を有するガラス基板に加工される。 In a glass substrate applied for a liquid crystal display, fine irregularities and undulations on the surface cause distortion of the image. For this reason, it is processed into the glass substrate which has desired flatness by removing the micro unevenness | corrugation and waviness with a grinding | polishing apparatus.

特許文献１及び２は、このような研磨装置において、ガラス基板を研磨ヘッドに吸着保持させるための保持パッド（保持用膜体）を開示している。 Patent Documents 1 and 2 disclose a holding pad (holding film body) for adsorbing and holding a glass substrate to a polishing head in such a polishing apparatus.

特開２０１１−５５６２号公報JP 2011-5562 A 国際公開第２０１１／１２２４５４号International Publication No. 2011/122454

特許文献１及び２は、ガラス基板の平坦度を向上させることを狙っている。しかしながら、最近のガラス基板の一層の大型化等の理由に伴い、より平坦度の高いガラス基板が求められている。 Patent Documents 1 and 2 aim to improve the flatness of the glass substrate. However, a glass substrate with higher flatness is demanded with the recent increase in the size of glass substrates.

本発明は、研磨後のガラス基板の品質をさらに向上させることができるガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the film body for glass substrate holding | maintenance which can further improve the quality of the glass substrate after grinding | polishing, and the grinding | polishing method of a glass substrate.

本発明は、ガラス基板を吸着保持可能な自己吸着型シートと、前記ガラス基板を吸着保持する前記自己吸着型シートの第１の面に貼り付けられたシート状基材と、前記自己吸着型シートの前記第１の面の逆側の第２の面に設けられた粘着層と、を備えるガラス基板の保持用膜体を提供する。 The present invention provides a self-adsorbing sheet capable of adsorbing and holding a glass substrate, a sheet-like base material attached to a first surface of the self-adsorbing sheet for adsorbing and holding the glass substrate, and the self-adsorbing sheet And a pressure-sensitive adhesive layer provided on the second surface opposite to the first surface of the glass substrate.

本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。 According to the present invention, the quality of the polished glass substrate can be improved.

図１は、実施の形態のガラス基板の保持用膜体が適用されたガラス基板の研磨装置の概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram of a glass substrate polishing apparatus to which the glass substrate holding film body of the embodiment is applied. 図２は、実施の形態の保持用膜体の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the holding film body according to the embodiment. 図３は、実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the holding film body according to the embodiment. 図４は、実施の形態の保持用膜体の製造工程を示す概念図であり、（ａ）は切削工程を示す概念図であり、（ｂ）は貼り合わせ工程を示す概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a manufacturing process of the holding film body according to the embodiment, (a) is a conceptual diagram illustrating a cutting process, and (b) is a conceptual diagram illustrating a bonding process. 図５は、他の実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a holding film body according to another embodiment. 図６は、保持用膜体を引っ張って拡げるプロセスを示す概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram showing a process of pulling and expanding the holding film body. 図７は、保持用膜体の他の製造工程を示す概念図である。FIG. 7 is a conceptual diagram showing another manufacturing process of the holding film body. 図８は、保持用膜体の他の製造工程を示す概念図である。FIG. 8 is a conceptual diagram showing another manufacturing process of the holding film body. 図９は、他の実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a holding film body according to another embodiment. 図１０は、他の実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a holding film body according to another embodiment. 図１１は、他の実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a holding film body according to another embodiment. 図１２は、他の実施の形態の保持用膜体の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of a holding film body according to another embodiment.

以下、添付図面に従って本発明に係るガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法の好ましい実施の形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of a glass substrate holding film body and a glass substrate polishing method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図１は、実施の形態のガラス基板の保持用膜体が適用されたガラス基板の研磨装置１０の概念図が示されている。 FIG. 1 is a conceptual diagram of a glass substrate polishing apparatus 10 to which the glass substrate holding film body of the embodiment is applied.

研磨装置１０は、矩形状に製造されたマザーガラス基板（例えば、一辺が３１３０ｍｍ×２８８０ｍｍ（Ｇ１０サイズ）以上、厚み０．５ｍｍ）Ｇの被研磨面Ａを液晶ディスプレイ用ガラス基板に必要な平坦度に研磨する研磨装置である。研磨装置１０は、ガラス基板Ｇを、保持用膜体１２を介してその下面で保持する研磨ヘッド１４と、アルミニウム製のプレート１６を介して研磨パッド１８をその上面で保持する研磨テーブル２０とから構成されている。マザーガラス基板（以下、ガラス基板と称する）Ｇは、自己吸着作用のあるバッキング材等からなる保持用膜体１２に保持されるとともに、研磨ヘッド１４及びその下面に取り付けられた定盤１５によって被研磨面Ａが研磨パッド１８に押し付けられる。その結果、ガラス基板Ｇは、被研磨面Ａが必要な平坦度に研磨される。保持用膜体１２は、上記サイズの大型のガラス基板Ｇを吸着保持するために、３２００（ｍｍ）×３０００（ｍｍ）以上のサイズを有していることが好ましい。なお、保持用膜体１２の詳細構造については後述する。 The polishing apparatus 10 has a flatness necessary for a glass substrate for a liquid crystal display having a polished surface A having a mother glass substrate (for example, a side of 3130 mm × 2880 mm (G10 size) or more, thickness 0.5 mm) manufactured in a rectangular shape. It is a polishing apparatus for polishing. The polishing apparatus 10 includes a polishing head 14 that holds a glass substrate G on its lower surface via a holding film body 12, and a polishing table 20 that holds a polishing pad 18 on its upper surface via an aluminum plate 16. It is configured. A mother glass substrate (hereinafter referred to as a glass substrate) G is held by a holding film body 12 made of a self-adsorbing backing material or the like, and is covered by a polishing head 14 and a surface plate 15 attached to the lower surface thereof. The polishing surface A is pressed against the polishing pad 18. As a result, the glass substrate G is polished to a flatness that requires the surface A to be polished. The holding film body 12 preferably has a size of 3200 (mm) × 3000 (mm) or more in order to suck and hold the large glass substrate G having the above size. The detailed structure of the holding film body 12 will be described later.

研磨中においては、研磨テーブル２０とプレート１６とに貫通形成された多数のスラリ供給孔２２Ａ、２２Ｂ…から、酸化セリウム水溶液等の研磨スラリが研磨パッド１８の下面側から供給されている。これにより、研磨パッド１８が研磨スラリによって浸された状態となる。この状態でガラス基板Ｇが研磨される。スラリ供給孔２２Ａ、２２Ｂ…は、研磨テーブル２０とプレート１６とにおいて密にかつ均一に形成されている。このため、研磨パッド１８に研磨スラリが均一に供給されている。なお、研磨パッド１８としては、例えば発泡ポリウレタンタイプやスウェードタイプのものが使用され、プレート１６に貼着されている。研磨パッド１８は単一構成でもよいが、ガラス基板Ｇのサイズに対応してそのサイズも大きいことから、複数枚の分割パッドを組み合わせて１枚の研磨パッド１８としてもよい。更に、研磨テーブル２０には多数の吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…が貫通形成されており、これらの吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…は不図示のサクションポンプにバルブを介して接続されている。したがって、前記バルブを開放することにより、サクションポンプの吸引力が吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…に伝達されるので、プレート１６が研磨テーブル２０の上面に吸着保持される。前記バルブを閉鎖することにより、サクションポンプの吸引力が解除されるので、研磨パッド１８のメンテナンス、交換の際に研磨テーブル２０から研磨パッド１８をプレート１６とともに取り外すことができる。 During polishing, a polishing slurry such as a cerium oxide aqueous solution is supplied from the lower surface side of the polishing pad 18 through a large number of slurry supply holes 22A, 22B... Formed through the polishing table 20 and the plate 16. As a result, the polishing pad 18 is immersed in the polishing slurry. In this state, the glass substrate G is polished. The slurry supply holes 22A, 22B... Are formed densely and uniformly in the polishing table 20 and the plate 16. For this reason, the polishing slurry is uniformly supplied to the polishing pad 18. As the polishing pad 18, for example, a foamed polyurethane type or a suede type is used and is adhered to the plate 16. The polishing pad 18 may have a single structure, but since the size thereof is large corresponding to the size of the glass substrate G, a plurality of divided pads may be combined to form one polishing pad 18. Further, a large number of suction holes 24A, 24B... Are formed through the polishing table 20, and these suction holes 24A, 24B... Are connected to a suction pump (not shown) via a valve. Therefore, by opening the valve, the suction force of the suction pump is transmitted to the suction holes 24A, 24B..., So that the plate 16 is adsorbed and held on the upper surface of the polishing table 20. Since the suction force of the suction pump is released by closing the valve, the polishing pad 18 can be removed from the polishing table 20 together with the plate 16 during maintenance and replacement of the polishing pad 18.

図１に示すように研磨ヘッド１４の上部中央には、スピンドル２６が固定され、このスピンドル２６には回転／昇降装置２８が連結されている。回転／昇降装置２８は、研磨装置１０全体を統括制御する制御部３０によって、ガラス基板Ｇの研磨に好適な回転数及び下降動作（押圧力）が制御されている。制御部３０からの制御信号に基づき、回転／昇降装置２８は、図１の矢印に示す様にスピンドル２６及び研磨ヘッド１４を下降させ、ガラス基板Ｇの被研磨面Ａを研磨パッド１８に押し当てる。さらに制御部３０からの制御信号に基づき、スピンドル２６及び研磨ヘッド１４が回転し、ガラス基板Ｇの被研磨面Ａの研磨が行われる。 As shown in FIG. 1, a spindle 26 is fixed to the upper center of the polishing head 14, and a rotation / elevating device 28 is connected to the spindle 26. The rotation / lifting device 28 is controlled by a control unit 30 that performs overall control of the entire polishing apparatus 10, and the rotation speed and lowering operation (pressing force) suitable for polishing the glass substrate G are controlled. Based on the control signal from the control unit 30, the rotation / lifting device 28 lowers the spindle 26 and the polishing head 14 as shown by the arrows in FIG. 1 and presses the surface to be polished A of the glass substrate G against the polishing pad 18. . Further, based on a control signal from the control unit 30, the spindle 26 and the polishing head 14 rotate, and the surface A to be polished of the glass substrate G is polished.

図２には、実施の形態のガラス基板の保持用膜体１２の斜視図が示され、図３には、実施の形態の保持用膜体１２の断面図が示されている。 2 is a perspective view of the holding film body 12 of the glass substrate of the embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the holding film body 12 of the embodiment.

図２、図３に示すように保持用膜体１２は、１枚の自己吸着型シート３２の一面（第１の面３２ａ）にシート状の基材（シート状基材）３８、他の面（第２の面３２ｂ）に粘着層４０がそれぞれ設けられて形成される。 As shown in FIGS. 2 and 3, the holding film body 12 includes a sheet-like substrate (sheet-like substrate) 38 on one surface (first surface 32 a) of one self-adsorptive sheet 32, and the other surface. The adhesive layer 40 is provided and formed on the (second surface 32b).

自己吸着型シート３２は、例えばポリウレタン樹脂で形成されたポリウレタンシートであり、その厚さは約１．０ｍｍ以下であることが好ましい。このポリウレタンシートは、その表面層に微多孔が形成され、表面層に水等の液体や空気を含ませることにより、表面層の微多孔に浸入した液体の表面張力によってガラス基板Ｇを吸着保持することができる。後述するように、ガラス基板Ｇの吸着保持は、微多孔を有する自己吸着型シート３２の第１の面３２ａ（吸着面３２ａ）によって行われ、吸着保持時にはシート状の基材３８は取外される。 The self-adsorptive sheet 32 is a polyurethane sheet formed of, for example, a polyurethane resin, and the thickness thereof is preferably about 1.0 mm or less. This polyurethane sheet is formed with micropores in its surface layer, and by adsorbing a liquid such as water or air into the surface layer, the glass substrate G is adsorbed and held by the surface tension of the liquid that has entered the micropores of the surface layer. be able to. As will be described later, the adsorption holding of the glass substrate G is performed by the first surface 32a (adsorption surface 32a) of the self-adsorbing sheet 32 having micropores, and the sheet-like base material 38 is removed during the adsorption holding. The

シート状の基材３８は、所定の剛性を持つ素材、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の樹脂、金属等により形成される。粘着層４０は所定の接着剤が塗布等の手法により設けられることにより形成される。粘着層４０は、自己吸着型シート３２の第２の面３２ｂ（取付面３２ｂ）に設けられ、粘着層４０を介して、自己吸着型シート３２の取付面３２ｂが、定盤１５に取り付けられる。シート状の基材３８の厚さは５０〜２５０μｍであることが好ましく、粘着層４０の厚さは５０μｍ以下であることが好ましい。 The sheet-like base material 38 is formed of a material having a predetermined rigidity, for example, a resin such as polyethylene terephthalate (PET), a metal, or the like. The adhesive layer 40 is formed by providing a predetermined adhesive by a technique such as coating. The adhesive layer 40 is provided on the second surface 32 b (attachment surface 32 b) of the self-adsorptive sheet 32, and the attachment surface 32 b of the self-adsorptive sheet 32 is attached to the surface plate 15 via the adhesive layer 40. The thickness of the sheet-like substrate 38 is preferably 50 to 250 μm, and the thickness of the adhesive layer 40 is preferably 50 μm or less.

また、図２、図３に示す保持用膜体１２では、同一面内において、粘着層４０は、所定の隙間（Ｓ）をもって自己吸着型シート３２に設けられる。言い換えると、本粘着層４０は、自己吸着型シート３２の同一面内において所定の隙間をもって設けられた二枚の粘着層（複数の粘着層）４０ａ、４０ｂを含む。このような形態により、たとえ保持用膜体１２が大型化しても、粘着層４０の一枚当たりの面積が小さくなるため、保持用膜体１２に粘着層４０を塗布する作業が容易となる。隙間（Ｓ）の長さｘは０であってもよいが（二つの粘着層が接触した状態）、大きすぎると平坦度に影響を及ぼすと考えられるため、０ｍｍ≦ｘ≦１ｍｍの範囲に設定することが好ましい。尚、実施形態では、二枚の粘着層４０ａ、４０ｂの間に一つの隙間（Ｓ）が設けられているが、三枚以上の粘着層（複数の粘着層）を用意し、複数の隙間をこれらの粘着層の間に設けてもよい。ただし、所定の隙間（Ｓ）をもって複数の粘着層４０を設けることは必須ではなく、一枚の粘着層４０のみを自己吸着型シート３２に設けてもよい。 In the holding film body 12 shown in FIGS. 2 and 3, the adhesive layer 40 is provided on the self-adsorptive sheet 32 with a predetermined gap (S) in the same plane. In other words, the pressure-sensitive adhesive layer 40 includes two pressure-sensitive adhesive layers (a plurality of pressure-sensitive adhesive layers) 40 a and 40 b provided with a predetermined gap in the same plane of the self-adsorption sheet 32. With such a configuration, even if the holding film body 12 is enlarged, the area per sheet of the adhesive layer 40 is reduced, and therefore, the operation of applying the adhesive layer 40 to the holding film body 12 is facilitated. The length x of the gap (S) may be 0 (in the state where the two adhesive layers are in contact), but if it is too large, it is considered that the flatness is affected, so the range is set in the range of 0 mm ≦ x ≦ 1 mm. It is preferable to do. In the embodiment, one gap (S) is provided between the two adhesive layers 40a and 40b. However, three or more adhesive layers (a plurality of adhesive layers) are prepared, and a plurality of gaps are provided. You may provide between these adhesion layers. However, it is not essential to provide the plurality of adhesive layers 40 with a predetermined gap (S), and only one adhesive layer 40 may be provided on the self-adsorbing sheet 32.

また、粘着層４０の自己吸着型シート３２に対向する面と反対側の面には保護シート４２が設けられており、粘着層４０に異物が付着するのを防止している。この保護シート４２は、定盤１５への取り付け時に取り外される。保護シート４２はシリコーンコートした紙や樹脂素材が使用できる。 In addition, a protective sheet 42 is provided on the surface of the adhesive layer 40 opposite to the surface facing the self-adsorptive sheet 32 to prevent foreign matter from adhering to the adhesive layer 40. The protective sheet 42 is removed when attached to the surface plate 15. The protective sheet 42 can be made of silicone-coated paper or resin material.

図４は、実施の形態の保持用膜体の製造工程を示す概念図である。図４（ａ）は自己吸着型シート３２の原反の切削工程を示している。自己吸着型シート３２は、原材料のポリウレタンシートを所定の方法により発泡させて製造されるが、研磨後の硝子平坦度を向上させるために、発泡後の原反の一面を切削する必要がある。すなわち、この原反の第１の面である吸着面３２ａとは逆側の面を切削し、第２の面である取付面３２ｂを形成する。具体的には、図４（ａ）に示す様に、切削工程においては、グラインドカッタ３６を回転させながら、自己吸着型シート３２の吸着面３２ａとは逆側の面に沿って移動させることにより、原反の一部を破線に沿って切削し、取付面３２ｂを形成する。 FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a manufacturing process of the holding film body according to the embodiment. FIG. 4A shows a raw material cutting process of the self-adsorbing sheet 32. The self-adsorptive sheet 32 is produced by foaming a raw material polyurethane sheet by a predetermined method, but in order to improve the glass flatness after polishing, it is necessary to cut one side of the raw material after foaming. That is, the surface opposite to the suction surface 32a which is the first surface of the original fabric is cut to form the mounting surface 32b which is the second surface. Specifically, as shown in FIG. 4A, in the cutting process, the grind cutter 36 is rotated and moved along a surface opposite to the suction surface 32a of the self-adsorption type sheet 32. Then, a part of the original fabric is cut along the broken line to form the attachment surface 32b.

自己吸着型シート３２の原反は、発泡したポリウレタンシートであり、伸縮性のある素材であるため、シート状の基材３８が存在しない状態で切削を行うと、グラインドカッタ３６からの圧力やハンドリング手法等の要因により変形しやすい。この変形は、切削の位置を不安定にする可能性がある。切削の位置が不安定であると、切削した面の平坦度、すなわち取付面３２ｂの平坦度が低下し、ひいては保持用膜体１２そのものの平坦度が低下する事態を招くおそれがある。この事態は、最終的に、保持用膜体１２により保持される研磨後のガラス基板の平坦度の低下、すなわち品質の低下を招くおそれがある。 Since the original fabric of the self-adsorbing sheet 32 is a foamed polyurethane sheet and is a stretchable material, if cutting is performed in the absence of the sheet-like base material 38, the pressure and handling from the grind cutter 36 Deformable easily due to factors such as technique. This deformation may cause the cutting position to become unstable. If the cutting position is unstable, the flatness of the cut surface, that is, the flatness of the mounting surface 32b may be reduced, and as a result, the flatness of the holding film body 12 itself may be reduced. This situation may lead to a decrease in flatness of the polished glass substrate held by the holding film body 12, that is, a reduction in quality.

一方、本実施形態では、所定の剛性を有するシート状の基材３８が、自己吸着型シート３２の吸着面３２ａに設けられており、切削工程において、当該吸着面３２ａとは逆側の面から発生するグラインドカッタ３６の圧力に対して、抗力Ｆをもって対抗することができる。これにより、自己吸着型シート３２の位置を安定的に保つことが可能となり、形成される取付面３２ｂの平坦度の低下を抑制し、ひいては保持用膜体１２そのものの平坦度の低下を抑制することができる。結果的に、保持用膜体１２により保持される研磨後のガラス基板の平坦度の低下を抑制し、品質の向上を図ることができる。 On the other hand, in the present embodiment, a sheet-like base material 38 having a predetermined rigidity is provided on the suction surface 32a of the self-adsorptive sheet 32, and in the cutting process, from a surface opposite to the suction surface 32a. It is possible to counter the generated pressure of the grinding cutter 36 with a resistance F. As a result, the position of the self-adsorptive sheet 32 can be stably maintained, and a decrease in flatness of the mounting surface 32b to be formed is suppressed, and consequently a decrease in flatness of the holding film body 12 itself is suppressed. be able to. As a result, it is possible to suppress the decrease in flatness of the polished glass substrate held by the holding film body 12 and improve the quality.

図４（ｂ）は、図４（ａ）の切削工程の後において実施される、貼り合わせ工程を示す概念図である。本工程では、図４（ａ）の工程を経た自己吸着型シート３２の取付面３２ｂと、保護シート４２が設けられた粘着層４０が貼り合わされ、これにより、図２、図３に示す保持用膜体１２が完成する。 FIG.4 (b) is a conceptual diagram which shows the bonding process implemented after the cutting process of Fig.4 (a). In this step, the attachment surface 32b of the self-adsorptive sheet 32 having undergone the step of FIG. 4 (a) and the adhesive layer 40 provided with the protective sheet 42 are bonded together, whereby the holding surface shown in FIGS. The film body 12 is completed.

本実施形態では、シート状の基材３８が、製造工程の多くの時間で、自己吸着型シート３２の粘着層４０により覆われていない吸着面３２ａを覆うことになる。これにより、塵、ゴミ等に異物が製造工程において自己吸着型シート３２に吸着するのを抑制することができ、品質の高い保持用膜体１２を製造することができる。 In the present embodiment, the sheet-like base material 38 covers the suction surface 32a that is not covered with the adhesive layer 40 of the self-adsorption type sheet 32 in many times of the manufacturing process. Thereby, it can suppress that a foreign material adsorb | sucks to a self-adsorptive type | mold sheet | seat 32 in a manufacturing process at dust, dust, etc., and the film body 12 for high quality can be manufactured.

図２、図３に示す保持用膜体１２は、保護シート４２を取り外し、粘着層４０が露出した面（図１の保持用膜体１２の上面）が、研磨ヘッド１４（の定盤１５）に取り付けられる。一方、シート状の基材３８を取り外すことにより、自己吸着型シート３２が露出した面である吸着面３２ａ（図１の保持用膜体１２の下面）が、ガラス基板Ｇを吸着保持する。このガラス基板の保持用膜体１２によってガラス基板Ｇを吸着保持し、ガラス基板Ｇの被研磨面を研磨パッド１８に押し付けて、ガラス基板Ｇの被研磨面を必要な平坦度に研磨する。 The holding film body 12 shown in FIGS. 2 and 3 has the surface where the protective sheet 42 is removed and the adhesive layer 40 is exposed (the upper surface of the holding film body 12 in FIG. 1) is the polishing head 14 (the surface plate 15 thereof). Attached to. On the other hand, by removing the sheet-like base material 38, the suction surface 32a (the lower surface of the holding film body 12 in FIG. 1) on which the self-adsorptive sheet 32 is exposed sucks and holds the glass substrate G. The glass substrate G is sucked and held by the glass substrate holding film body 12, the surface to be polished of the glass substrate G is pressed against the polishing pad 18, and the surface to be polished of the glass substrate G is polished to a required flatness.

本実施形態の保持用膜体１２は、自己吸着型シート３２の吸着面３２ａにシート状の基材３８が設けられているため、その平坦度は高く、異物の混入も抑えられている。よって、保持用膜体１２は、品質の高いガラス基板の製造に適したものである。 Since the holding film body 12 of the present embodiment is provided with the sheet-like base material 38 on the suction surface 32a of the self-adsorptive sheet 32, the flatness thereof is high and contamination of foreign matters is also suppressed. Therefore, the holding film body 12 is suitable for manufacturing a high-quality glass substrate.

図５は、保持用膜体１２の他の実施形態を示す。本実施形態においては、二枚の粘着層４０ａ、４０ｂと同様に、保護シート４２も、自己吸着型シート３２の同一面内において隙間（Ｓ）をもって設けられた二枚の（複数の）保護シート４２ａ、４２ｂを含む。すなわち、複数の粘着層には、複数の保護シートが隙間をもって設けられている。この隙間の長さｘは、０ｍｍ≦ｘ≦１ｍｍの範囲に設定することが好ましい。そして、この隙間（Ｓ）を防ぐように粘着テープの如き薄いシート４４が貼付されている。 FIG. 5 shows another embodiment of the holding film body 12. In the present embodiment, similarly to the two adhesive layers 40a and 40b, the protective sheet 42 is also provided with two (a plurality of) protective sheets provided with a gap (S) in the same plane of the self-adsorptive sheet 32. 42a, 42b. That is, a plurality of protective sheets are provided with a gap in the plurality of adhesive layers. The length x of the gap is preferably set in the range of 0 mm ≦ x ≦ 1 mm. And the thin sheet | seat 44 like an adhesive tape is stuck so that this clearance gap (S) may be prevented.

図６は、保持用膜体１２をより広い面積のガラス基板に好適に使用するために用いられるプロセスの一例を模式的に示している。シート状の基材３８、保護シート４２が貼付されていない状態では、伸縮性のある自己吸着型シート３２は、面方向に引っ張り力を加えることにより、粘着層４０ともにその面積を拡げることができる（厚みは減少する）。よって、枚数を増やすことなく、より広い面積のガラス基板を保持することが可能となる。 FIG. 6 schematically shows an example of a process used for suitably using the holding film body 12 for a glass substrate having a larger area. In a state where the sheet-like base material 38 and the protective sheet 42 are not attached, the stretchable self-adsorptive sheet 32 can expand its area together with the adhesive layer 40 by applying a tensile force in the surface direction. (Thickness decreases). Therefore, it is possible to hold a glass substrate having a larger area without increasing the number of sheets.

図７は、保持用膜体１２の他の製造工程を示す概念図である。定盤１５の上に予め粘着層４０（４０ａ、４０ｂ）を配置しておき、自己吸着型シート３２を載せ、押圧ローラ５０で加圧することにより、自己吸着型シート３２と粘着層４０（４０ａ、４０ｂ）を接着することできる。 FIG. 7 is a conceptual diagram showing another manufacturing process of the holding film body 12. The pressure-sensitive adhesive layer 40 (40a, 40b) is placed on the surface plate 15 in advance, the self-adhesive sheet 32 is placed, and the pressure roller 50 presses the pressure-sensitive adhesive sheet 32 and the pressure-sensitive adhesive layer 40 (40a, 40b) can be glued.

図８は、保持用膜体１２の他の製造工程を示す概念図である。定盤１５の上に予め粘着層４０を、塗布装置５２を用いて塗布しておき、その後自己吸着型シート３２を載せ、押圧ローラ５０で加圧することにより、自己吸着型シート３２と粘着層４０を接着することできる。 FIG. 8 is a conceptual diagram showing another manufacturing process of the holding film body 12. The adhesive layer 40 is applied in advance on the surface plate 15 using the coating device 52, and then the self-adsorptive sheet 32 is placed and pressed by the pressing roller 50, whereby the self-adsorptive sheet 32 and the adhesive layer 40 are applied. Can be glued.

図９は、保持用膜体１２の他の実施の形態を示す。本実施形態においては、図６の右側に示した引っ張り操作後の保持用膜体１２の粘着層４０上に、離型紙として機能する保護シート４２が設けられている。 FIG. 9 shows another embodiment of the holding film body 12. In the present embodiment, a protective sheet 42 that functions as a release paper is provided on the adhesive layer 40 of the holding film body 12 after the pulling operation shown on the right side of FIG.

図１０は、保持用膜体１２の他の実施の形態を示す。本実施形態においては、図６の右側に示した引っ張り操作後の保持用膜体１２の粘着層４０上に保護シート４２が設けられるとともに、自己吸着型シート３２上にシート状の基材３８が設けられている。 FIG. 10 shows another embodiment of the holding film body 12. In this embodiment, a protective sheet 42 is provided on the adhesive layer 40 of the holding film body 12 after the pulling operation shown on the right side of FIG. 6, and a sheet-like substrate 38 is provided on the self-adsorptive sheet 32. Is provided.

図１１は、保持用膜体１２の他の実施の形態を示す。本実施形態においては、図６の右側に示した引っ張り操作後の保持用膜体１２の粘着層４０上にシート状の基材３８が設けられ、さらに他の粘着層４６及び保護シート４２が設けられる。図５に示した実施形態と同様に、他の粘着層４６及び保護シート４２には面内において隙間（Ｓ）が設けられている。 FIG. 11 shows another embodiment of the holding film body 12. In the present embodiment, a sheet-like base material 38 is provided on the adhesive layer 40 of the holding film body 12 after the pulling operation shown on the right side of FIG. 6, and another adhesive layer 46 and a protective sheet 42 are provided. It is done. Similar to the embodiment shown in FIG. 5, the other adhesive layer 46 and the protective sheet 42 are provided with a gap (S) in the plane.

図１２は、保持用膜体１２の他の実施の形態を示す。本実施形態においては、図６の右側に示した引っ張り操作後の保持用膜体１２の粘着層４０上にシート状の基材３８が設けられ、さらに他の粘着層４６及び保護シート４２が設けられる。他の粘着層４６には隙間（Ｓ）が設けられているが、保護シート４２には隙間（Ｓ）が設けられておらず、他の粘着層４６の隙間（Ｓ）が保護シート４２によって塞がれた形態になっている。 FIG. 12 shows another embodiment of the holding film body 12. In the present embodiment, a sheet-like base material 38 is provided on the adhesive layer 40 of the holding film body 12 after the pulling operation shown on the right side of FIG. 6, and another adhesive layer 46 and a protective sheet 42 are provided. It is done. The other adhesive layer 46 is provided with a gap (S), but the protective sheet 42 is not provided with a gap (S). It is in a stripped form.

尚、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。その他、上述した実施形態における各構成要素の材質、形状、寸法、数値、形態、数、配置箇所、等は本発明を達成できるものであれば任意であり、限定されない。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably. In addition, the material, shape, dimension, numerical value, form, number, arrangement location, and the like of each component in the above-described embodiment are arbitrary and are not limited as long as the present invention can be achieved.

１０…研磨装置、１２…（ガラス基板の）保持用膜体、１４…研磨ヘッド、１５…定盤、１６…プレート、１８…研磨パッド、２０…研磨テーブル、２２…スラリ供給孔、２４…吸引孔、２６…スピンドル、２８…回転／昇降装置、３０…制御部、３２…自己吸着型シート、３２ａ…第１の面（吸着面）、３２ｂ…第２の面（取付面）、３６…グラインドカッタ、３８…シート状の基材（シート状基材）、４０、４０ａ、４０ｂ…粘着層、４２…保護シート、Ｇ…ガラス基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Polishing apparatus, 12 ... Film | membrane for holding | maintenance (of glass substrate), 14 ... Polishing head, 15 ... Surface plate, 16 ... Plate, 18 ... Polishing pad, 20 ... Polishing table, 22 ... Slurry supply hole, 24 ... Suction Hole 26... Spindle 28. Rotation / lifting device 30 Control unit 32 Self-adhesive sheet 32 a First surface (suction surface) 32 b Second surface (mounting surface) 36 Grind Cutter, 38 ... sheet-like base material (sheet-like base material), 40, 40a, 40b ... adhesive layer, 42 ... protective sheet, G ... glass substrate

Claims

A self-adsorption sheet capable of adsorbing and holding a glass substrate;
A sheet-like base material affixed to the first surface of the self-adsorptive sheet for adsorbing and holding the glass substrate;
An adhesive layer provided on a second surface opposite to the first surface of the self-adsorptive sheet;
A film body for holding a glass substrate.

The adhesive layer includes a plurality of adhesive layers provided with a predetermined gap in the same plane of the self-adsorptive sheet,
The film body for holding a glass substrate according to claim 1, wherein the length x of the gap is set in a range of 0 mm ≦ x ≦ 1 mm.

The film body for holding a glass substrate according to claim 1, wherein a protective sheet is provided on the adhesive layer.

The adhesive layer includes a plurality of adhesive layers provided with a predetermined gap in the same plane of the self-adsorptive sheet,
In the plurality of adhesive layers, a plurality of protective sheets are provided with the predetermined gap,
The film body for holding a glass substrate according to claim 1, wherein the length x of the gap is set in a range of 0 mm ≦ x ≦ 1 mm.

The glass substrate is adsorbed and held by the glass substrate holding film body according to any one of claims 1 to 4, and the polished surface of the glass substrate is pressed against a polishing pad, so that the polished surface of the glass substrate is required. A method for polishing a glass substrate, comprising polishing to a flatness.