JP2018120823A - Method for manufacturing display panel - Google Patents

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盛右 新木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a display panel capable of suppressing a sharp rise in manufacturing cost or to provide a method for manufacturing a display panel capable of suppressing a longer manufacturing time.SOLUTION: A method for manufacturing a display panel comprises: a preparing step of preparing a display mother board including a display region and a pad region MT; a first sticking step of sticking a first resin substrate to the display region; a first resin applying step of applying a first curable resin RE1 to a first non-sticking region Ab1; a curing step of curing the first curable resin; a transporting step of transporting the display mother board after the curing step; a peeling step of peeling the first curable resin after the transporting step; and a cutting step of cutting the display mother board into a plurality of display panels after the transporting step.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明の実施形態は、表示パネルの製造方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to a method for manufacturing a display panel.

近年、フレキシブルな基板を用いたシート状の表示装置の製品化が進められている。シート状の表示装置は、軽量かつ薄型の表示デバイスとして注目されている。シート状の表示装置の表示パネルは、フレキシブルな絶縁層を有している。絶縁層には、例えば、PI膜(ポリイミド前駆体含有溶液の塗膜からなるポリイミド前駆体溶液フィルム)が使用されている。
表示パネルの製造工程において、上記絶縁層などを基材であるガラス基板の上に形成し、表示母基板を用意する。また、その後の製造工程において、絶縁層にレーザ光を当て、ガラス基板から絶縁層を剥離する。
In recent years, commercialization of sheet-like display devices using flexible substrates has been promoted. Sheet-like display devices are attracting attention as lightweight and thin display devices. A display panel of a sheet-like display device has a flexible insulating layer. For the insulating layer, for example, a PI film (polyimide precursor solution film made of a coating film of a polyimide precursor-containing solution) is used.
In the manufacturing process of the display panel, the insulating layer and the like are formed on a glass substrate as a base material to prepare a display mother substrate. In a subsequent manufacturing process, the insulating layer is peeled off from the glass substrate by applying laser light to the insulating layer.

ところで、ガラス基板が分離した状態の表示母基板は、強度が低く、ハンドリングが困難となる。そのため、ガラス基板を分離した後の製造工程を、表示母基板に実施することが困難となる。しかし、最終製品の表示母基板に貼り付けられる偏光板等のシート部材を、ガラス分離後に直ちに表示母基板に貼り付けすることは困難であった。その理由としては、このシート部材は、後述する図9や図12のように複数の開口部が設けられており、この開口部が製造工程中の表示母基板のハンドリングを困難とするからである。   By the way, the display mother substrate in a state where the glass substrate is separated has low strength and is difficult to handle. Therefore, it becomes difficult to implement the manufacturing process after separating the glass substrate on the display mother substrate. However, it is difficult to attach a sheet member such as a polarizing plate attached to the display mother board of the final product to the display mother board immediately after separating the glass. The reason is that the sheet member is provided with a plurality of openings as shown in FIGS. 9 and 12, which will be described later, and this opening makes it difficult to handle the display mother board during the manufacturing process. .

また、ガラス基板の分離後、一時的な間接材料として、開口部を有しない樹脂シートを表示母基板に貼り付ける技術も考えられている。これによって、ガラス基板が分離した状態の表示母基板を補強することが考えられる。
しかしながら、この間接材料は、上述のシート部材を貼り付けされる際に剥離及び破棄されるため、最終製品の一部としては使用されない。このため、上記のような間接材料の利用は、製造コストの高騰を招く。
また、製造時に、表示母基板に間接材料を取り付ける工程と、その後に表示母基板から間接材料を取り外す工程と、が必要となる。このため、上記のような間接材料の利用は、製造時間の長期化を招く。
In addition, a technique of attaching a resin sheet having no opening to a display mother substrate as a temporary indirect material after separating the glass substrate is also considered. It is conceivable to reinforce the display mother substrate with the glass substrate separated therefrom.
However, this indirect material is not used as part of the final product because it is peeled off and discarded when the above-described sheet member is applied. For this reason, the use of the indirect material as described above causes an increase in manufacturing cost.
Moreover, the process of attaching an indirect material to a display mother board | substrate at the time of manufacture, and the process of removing an indirect material from a display mother board | substrate after that are needed. For this reason, the use of the indirect material as described above leads to an increase in manufacturing time.

米国特許出願公開第2015/044442号明細書US Patent Application Publication No. 2015/044442

本実施形態は、製造コストの高騰を抑制することのできる表示パネルの製造方法を提供する。又は、製造時間の長期化を抑制することのできる表示パネルの製造方法を提供する。   The present embodiment provides a display panel manufacturing method capable of suppressing an increase in manufacturing cost. Alternatively, a method for manufacturing a display panel capable of suppressing an increase in manufacturing time is provided.

一実施形態に係る表示パネルの製造方法は、
表示領域とパッド領域とを有する表示母基板を準備する準備工程と、前記表示領域に第1樹脂基板を貼り付ける第1貼付工程と、前記パッド領域を含む領域であって前記第1樹脂基板が貼り付けられていない第1非貼付領域に、第1硬化型樹脂を塗布する第1樹脂塗布工程と、前記第1硬化型樹脂を硬化させる硬化工程と、前記硬化工程の後に、前記表示母基板を搬送する搬送工程と、前記搬送工程の後に、前記第1硬化型樹脂を前記第1非貼付領域から剥離する剥離工程と、前記搬送工程の後に、前記表示母基板を複数の表示パネルに切断する切断工程と、を備える。
A method of manufacturing a display panel according to an embodiment is as follows:
A preparation step of preparing a display mother substrate having a display region and a pad region; a first pasting step of attaching a first resin substrate to the display region; and a region including the pad region, wherein the first resin substrate is A first resin application step of applying a first curable resin to a first non-attached region that is not attached, a hardening step of hardening the first curable resin, and the display mother board after the hardening step A transport step for transporting the substrate, a stripping step for stripping the first curable resin from the first non-sticking region after the transport step, and cutting the display mother board into a plurality of display panels after the transport step. A cutting step.

図1は、一実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a display device according to an embodiment. 図2は、図1に示した表示装置の表示領域を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a display area of the display device shown in FIG. 図3は、図1に示した表示装置を示す他の断面図であり、非表示領域などを示す図である。FIG. 3 is another cross-sectional view showing the display device shown in FIG. 1, and shows a non-display area and the like. 図4は、上記表示装置を示す断面図であり、表示パネルの折り曲げ領域が折り曲がっている状態を示す図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the display device, and is a view showing a state in which a bending region of the display panel is bent. 図5は、上記実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するためのフロー図である。FIG. 5 is a flowchart for explaining the manufacturing method of the display device according to the embodiment. 図6は、上記実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、基板上に第1絶縁基板、第1パターン層、及び封止層が形成された状態を示す断面図である。FIG. 6 is a view for explaining the method of manufacturing the display device according to the embodiment, and is a cross-sectional view showing a state in which the first insulating substrate, the first pattern layer, and the sealing layer are formed on the substrate. is there. 図7は、図6に示した基板及び表示母基板を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing the substrate and the display mother substrate shown in FIG. 図8は、図7の線VIII−VIIIに沿った基板及び表示母基板を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing the substrate and the display mother substrate taken along line VIII-VIII in FIG. 図9は、上記製造方法を説明するための図であり、偏光板を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing the polarizing plate for explaining the manufacturing method. 図10は、図6乃至図9に続く上記製造方法を説明するための図であり、偏光板が表示母基板に貼り付けられている状態を示す断面図である。FIG. 10 is a view for explaining the manufacturing method subsequent to FIGS. 6 to 9, and is a cross-sectional view showing a state where a polarizing plate is attached to a display mother substrate. 図11は、図10に続く上記製造方法を説明するための図であり、第1非貼付領域に第1硬化型樹脂が塗布されている状態を示す断面図である。FIG. 11 is a view for explaining the manufacturing method following FIG. 10, and is a cross-sectional view showing a state in which the first curable resin is applied to the first non-sticking region. 図12は、上記製造方法を説明するための図であり、樹脂基板を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a resin substrate for explaining the manufacturing method. 図13は、図11及び図12に続く上記製造方法を説明するための図であり、樹脂基板が表示母基板に貼り付けられ、第2非貼付領域に第2硬化型樹脂が塗布されている状態と、単個の表示パネルに分離するために、表示母基板などを活断している状態と、を示す断面図である。FIG. 13 is a diagram for explaining the manufacturing method subsequent to FIGS. 11 and 12, in which a resin substrate is attached to a display mother substrate, and a second curable resin is applied to a second non-attached region. It is sectional drawing which shows a state and the state which has cut | disconnected the display mother board | substrate etc. in order to isolate | separate into a single display panel. 図14は、図13以降の上記製造方法を説明するための図であり、配線基板を表示パネルに圧着する工程及び保護層を形成する工程を説明するための断面図である。FIG. 14 is a view for explaining the manufacturing method after FIG. 13, and is a cross-sectional view for explaining the step of pressure-bonding the wiring board to the display panel and the step of forming the protective layer. 図15は、図14以降の上記製造方法を説明するための図であり、表示パネルの外形を調整するために、表示パネルを活断している状態を示す断面図である。FIG. 15 is a diagram for explaining the manufacturing method after FIG. 14 and is a cross-sectional view showing a state in which the display panel is cut off in order to adjust the outer shape of the display panel. 図16は、上記実施形態の変形例1に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、第1貼付領域及び第1非貼付領域の両方に第1硬化型樹脂が塗布されている状態を示す断面図である。FIG. 16 is a diagram for explaining a method of manufacturing a display device according to the first modification of the embodiment, in which the first curable resin is applied to both the first pasting region and the first non-sticking region. It is sectional drawing which shows a state. 図17は、上記実施形態の変形例2に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、第2貼付領域及び第2非貼付領域の両方に第2硬化型樹脂が塗布されている状態を示す断面図である。FIG. 17 is a diagram for explaining a method of manufacturing the display device according to the second modification of the embodiment, in which the second curable resin is applied to both the second pasting region and the second non-sticking region. It is sectional drawing which shows a state. 図18は、上記実施形態の変形例4に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、偏光板を示す斜視図である。FIG. 18 is a view for explaining the manufacturing method of the display device according to the modification 4 of the embodiment, and is a perspective view showing a polarizing plate. 図19は、上記実施形態の変形例6に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、偏光板を示す斜視図である。FIG. 19 is a perspective view illustrating a polarizing plate for explaining a method for manufacturing a display device according to the sixth modification of the embodiment. 図20は、上記実施形態の変形例8に係る表示装置を示す断面図であり、非表示領域などを示す図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a display device according to Modification 8 of the above-described embodiment, and shows a non-display area and the like. 図21は、上記変形例8に係る表示装置の製造方法を説明するための図であり、樹脂基板を示す斜視図である。FIG. 21 is a view for explaining the method for manufacturing the display device according to the modified example 8, and is a perspective view showing a resin substrate.

以下に、本発明の実施形態及び変形例について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。   Embodiments and modifications of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate modifications while maintaining the gist of the invention are naturally included in the scope of the present invention. In addition, for the sake of clarity, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, etc. of each part as compared to the actual embodiment, but are merely examples, and the interpretation of the present invention is not limited. It is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, elements similar to those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate.

また、本明細書において「αはA,B又はCを含む」、「αはA,B及びCのいずれかを含む」、「αはA,B及びCからなる群から選択される一つを含む」といった表現は、特に明示がない限り、αがA〜Cの複数の組み合わせを含む場合を排除しない。さらに、これらの表現は、αが他の要素を含む場合も排除しない。   Further, in this specification, “α includes A, B or C”, “α includes any of A, B and C”, “α is one selected from the group consisting of A, B and C” The expression “including” does not exclude the case where α includes a plurality of combinations of A to C unless otherwise specified. Furthermore, these expressions do not exclude the case where α includes other elements.

(一実施形態)
一実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。まず、上記製造方法により製造された表示装置の構成について説明する。図1は、一実施形態に係る表示装置DSPの構成を示す斜視図である。
(One embodiment)
A method for manufacturing a display device according to an embodiment will be described. First, the structure of the display device manufactured by the above manufacturing method will be described. FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a display device DSP according to an embodiment.

図1に示すように、第1方向X及び第2方向Yは互いに直交している。第3方向Zは、第1方向X及び第2方向Yにそれぞれ直交している。なお、本実施形態と異なり、第1方向X及び第2方向Yは、90°以外の角度で交差していてもよい。以下、本実施形態において、表示装置が有機エレクトロルミネッセンス(EL:Electro-Luminescent)表示装置である場合について説明する。   As shown in FIG. 1, the first direction X and the second direction Y are orthogonal to each other. The third direction Z is orthogonal to the first direction X and the second direction Y, respectively. Unlike the present embodiment, the first direction X and the second direction Y may intersect at an angle other than 90 °. Hereinafter, in this embodiment, the case where the display device is an organic electroluminescence (EL) display device will be described.

本実施形態においては、第1絶縁基板10から電気光学素子に向かう側(第3方向Zの矢印の先端に向かう方向)を上又は上方と定義し、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向とは反対側の方向を下又は下方と定義する。   In the present embodiment, the side from the first insulating substrate 10 toward the electro-optic element (the direction toward the tip of the arrow in the third direction Z) is defined as up or upward, and the direction toward the tip of the arrow in the third direction Z The direction opposite to is defined as down or down.

なお、以下の明細書(特許請求の範囲は除く)の説明においては、便宜的に以下のように定義をして用語を使用する。「第1部材の上方の第2部材」及び「第1部材の下方の第2部材」とした場合、第2部材は、第1部材に接していてもよく、又は第1部材から離れて位置していてもよい。後者の場合、第1部材と第2部材との間に、第3の部材が介在していてもよい。一方、「第1部材の上の第2部材」及び「第1部材の下の第2部材」とした場合、第2部材は第1部材に接している。   In the following description (excluding claims), the following terms are used for convenience and defined. In the case of “the second member above the first member” and “the second member below the first member”, the second member may be in contact with the first member, or located away from the first member. You may do it. In the latter case, a third member may be interposed between the first member and the second member. On the other hand, in the case of “second member above the first member” and “second member below the first member”, the second member is in contact with the first member.

表示装置DSPは、表示パネルPNLと、配線基板1と、配線基板2と、を備えている。表示パネルPNLは、平板状の第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された平板状の偏光板POLと、樹脂基板5と、を備えている。本実施形態において、表示パネルPNLは、電気光学層としての有機EL素子OLEDを有している有機EL表示パネルである。   The display device DSP includes a display panel PNL, a wiring board 1, and a wiring board 2. The display panel PNL includes a flat plate-like first substrate SUB1, a flat plate-like polarizing plate POL disposed to face the first substrate SUB1, and a resin substrate 5. In the present embodiment, the display panel PNL is an organic EL display panel having an organic EL element OLED as an electro-optic layer.

表示パネルPNLは、画像を表示する表示領域DAと、表示領域DA以外の非表示領域NDAと、を備えている。表示パネルPNLは、表示領域DAにおいて、複数の画素PXを備えている。複数の画素PXは、第1方向X及び第2方向Yに並べられ、マトリクス状に設けられている。   The display panel PNL includes a display area DA that displays an image and a non-display area NDA other than the display area DA. The display panel PNL includes a plurality of pixels PX in the display area DA. The plurality of pixels PX are arranged in the first direction X and the second direction Y and are provided in a matrix.

第1基板SUB1は、偏光板POLと重なる領域よりも外側に位置したパッド領域MTを有している。より具体的には、第1基板SUB1の3つの側縁は、第3方向Zにおいて、偏光板POLの3つの側縁とそろっている。第1基板SUB1の第1方向Xに平行な側縁の長さは、偏光板POLの第1方向Xに平行な側縁の長さと略等しい。また、第1基板SUB1の第2方向Yに平行な側縁の長さは、偏光板POLの第2方向Yに平行な側縁の長さより大きい。つまり、第1基板SUB1のX−Y平面に平行な面積は、偏光板POLのX−Y平面に平行な面積より大きい。ここで、X−Y平面は、第1方向Xと第2方向Yとで規定される平面である。   The first substrate SUB1 has a pad region MT located outside the region overlapping with the polarizing plate POL. More specifically, the three side edges of the first substrate SUB1 are aligned with the three side edges of the polarizing plate POL in the third direction Z. The length of the side edge parallel to the first direction X of the first substrate SUB1 is substantially equal to the length of the side edge parallel to the first direction X of the polarizing plate POL. Further, the length of the side edge parallel to the second direction Y of the first substrate SUB1 is larger than the length of the side edge parallel to the second direction Y of the polarizing plate POL. That is, the area parallel to the XY plane of the first substrate SUB1 is larger than the area parallel to the XY plane of the polarizing plate POL. Here, the XY plane is a plane defined by the first direction X and the second direction Y.

図示した例では、配線基板1は、非表示領域NDAにおいて、パッド領域MTの上方に実装されている。図示した例では、配線基板1の第1方向Xに平行な側縁の長さは、第1基板SUB1及び偏光板POLの第1方向Xに平行な側縁の長さに比べて小さいが、同等であってもよい。表示パネルPNL及び配線基板1は、互いに電気的に接続されている。配線基板2は、配線基板1の下方に配置されている。
配線基板1,2は、例えば可撓性を有するフレキシブル基板である。なお、本実施形態で適用可能なフレキシブル基板とは、その少なくとも一部分に、屈曲可能な材料によって形成されたフレキシブル部を備えていればよい。
In the illustrated example, the wiring board 1 is mounted above the pad area MT in the non-display area NDA. In the illustrated example, the length of the side edge parallel to the first direction X of the wiring board 1 is smaller than the length of the side edge parallel to the first direction X of the first substrate SUB1 and the polarizing plate POL. It may be equivalent. The display panel PNL and the wiring board 1 are electrically connected to each other. The wiring board 2 is disposed below the wiring board 1.
The wiring boards 1 and 2 are flexible boards having flexibility, for example. In addition, the flexible substrate applicable in this embodiment should just be provided with the flexible part formed with the material which can be bent in at least one part.

ここで、本実施形態においては、表示装置DSPは、電子機器等の筐体に収容される際に折り曲げられる領域である折り曲げ領域BAを有している。図中、折り曲げ領域BAに斜線を付している。すなわち、配線基板1及び配線基板2が表示領域DAの下方側に配置されるように、折り曲げ領域BAが折り曲げられる。折り曲げ領域BAは、非表示領域NDA内に位置している。
樹脂基板5は、表示パネルPNLの下方に位置し第1基板SUB1に貼り付けられている。なお、樹脂基板5は、第3方向Zに折り曲げ領域BAと対向する位置には配置されていない。
Here, in the present embodiment, the display device DSP has a bent area BA that is an area that is bent when the display apparatus DSP is accommodated in a housing of an electronic device or the like. In the figure, the bent area BA is hatched. That is, the folding area BA is bent so that the wiring board 1 and the wiring board 2 are arranged below the display area DA. The bending area BA is located in the non-display area NDA.
The resin substrate 5 is located below the display panel PNL and is attached to the first substrate SUB1. The resin substrate 5 is not disposed at a position facing the bending area BA in the third direction Z.

図2は、図1に示した表示装置DSPの表示領域DAを示す断面図である。
図2に示すように、第1基板SUB1は、第1絶縁基板10、複数のスイッチング素子SW、複数の光反射層4、複数の有機EL素子OLED、封止層41、樹脂基板5などを備えている。上記画素PXは、複数の副画素SPXを有している。本実施形態では、画素PXは、3個の副画素SPXを有している。各副画素SPXは、単個のスイッチング素子SW、単個の有機EL素子OLEDなどを備えている。図2の説明において、単個の副画素SPXの構成について説明するが、他の副画素SPXの構成も同様である。第1絶縁基板10は、有機絶縁材料を用いて形成され、例えば、ポリイミドを用いて形成される。このため、第1絶縁基板10を、有機絶縁基板(樹脂基板)と称した方が適当な場合があり得る。又は、第1絶縁基板10を、絶縁層、有機絶縁層、又は樹脂層と称した方が適当な場合があり得る。第1絶縁基板10は、第1面10Aと、第1面10Aとは反対側の第2面10Bとを有している。第1絶縁基板10は、第1絶縁膜11によって覆われている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the display area DA of the display device DSP shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the first substrate SUB1 includes a first insulating substrate 10, a plurality of switching elements SW, a plurality of light reflecting layers 4, a plurality of organic EL elements OLED, a sealing layer 41, a resin substrate 5, and the like. ing. The pixel PX has a plurality of sub-pixels SPX. In the present embodiment, the pixel PX has three subpixels SPX. Each subpixel SPX includes a single switching element SW, a single organic EL element OLED, and the like. In the description of FIG. 2, the configuration of a single subpixel SPX will be described, but the configurations of other subpixels SPX are the same. The first insulating substrate 10 is formed using an organic insulating material, for example, using polyimide. For this reason, it may be appropriate to refer to the first insulating substrate 10 as an organic insulating substrate (resin substrate). Or it may be appropriate to refer to the first insulating substrate 10 as an insulating layer, an organic insulating layer, or a resin layer. The first insulating substrate 10 has a first surface 10A and a second surface 10B opposite to the first surface 10A. The first insulating substrate 10 is covered with a first insulating film 11.

スイッチング素子SWは、第1絶縁膜11の上方に形成されている。図示した例では、スイッチング素子SWは、トップゲート型の薄膜トランジスタで構成されているが、ボトムゲート型の薄膜トランジスタで構成されていてもよい。スイッチング素子SWは、第1絶縁膜11の上に形成された半導体層SCを備えている。半導体層SCは、第2絶縁膜12によって覆われている。また、第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11の上にも配置されている。   The switching element SW is formed above the first insulating film 11. In the illustrated example, the switching element SW is composed of a top gate type thin film transistor, but may be composed of a bottom gate type thin film transistor. The switching element SW includes a semiconductor layer SC formed on the first insulating film 11. The semiconductor layer SC is covered with the second insulating film 12. The second insulating film 12 is also disposed on the first insulating film 11.

スイッチング素子SWのゲート電極WGは、第2絶縁膜12の上に形成され、半導体層SCの直上に位置している。ゲート電極WGは、第3絶縁膜13によって覆われている。また、第3絶縁膜13は、第2絶縁膜12の上にも配置されている。
このような第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、及び、第3絶縁膜13は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物等の無機系材料によって形成されている。
The gate electrode WG of the switching element SW is formed on the second insulating film 12 and is located immediately above the semiconductor layer SC. The gate electrode WG is covered with the third insulating film 13. The third insulating film 13 is also disposed on the second insulating film 12.
The first insulating film 11, the second insulating film 12, and the third insulating film 13 are formed of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, for example.

スイッチング素子SWのソース電極WS及びドレイン電極WDは、第3絶縁膜13の上に形成されている。ソース電極WS及びドレイン電極WDは、それぞれ第2絶縁膜12及び第3絶縁膜13を貫通するコンタクトホールを通して半導体層SCと電気的に接続されている。スイッチング素子SWは、第4絶縁膜14によって覆われている。第4絶縁膜14は、第3絶縁膜13の上にも配置されている。このような第4絶縁膜14は、例えば、透明な樹脂等の有機系材料によって形成されている。   The source electrode WS and the drain electrode WD of the switching element SW are formed on the third insulating film 13. The source electrode WS and the drain electrode WD are electrically connected to the semiconductor layer SC through contact holes that penetrate the second insulating film 12 and the third insulating film 13, respectively. The switching element SW is covered with the fourth insulating film 14. The fourth insulating film 14 is also disposed on the third insulating film 13. Such a fourth insulating film 14 is formed of, for example, an organic material such as a transparent resin.

光反射層4は、第4絶縁膜14の上に配置されている。光反射層4は、アルミニウムや銀等の光反射率の高い金属材料で形成される。なお、光反射層4の表面(つまり、偏光板POL側の面)は、平坦面であってもよいし、光散乱性を付与するための凹凸面であってもよい。   The light reflecting layer 4 is disposed on the fourth insulating film 14. The light reflecting layer 4 is formed of a metal material having a high light reflectance such as aluminum or silver. The surface of the light reflection layer 4 (that is, the surface on the polarizing plate POL side) may be a flat surface or an uneven surface for imparting light scattering properties.

有機EL素子OLEDは、第4絶縁膜14の上に形成されている。図示した例では、有機EL素子OLEDはスイッチング素子SWと電気的に接続されている。例えば、画素PXは、赤色光を放射する有機EL素子OLEDと、緑色光を放射する有機EL素子OLEDと、青色光を放射する有機EL素子OLEDと、を有している。但し、有機EL素子OLEDが放射する光の色は本実施形態に限定されるものではなく種々変形可能である。
なお、本実施形態と異なり、有機EL素子OLEDは、白色光を放射するように構成されていてもよい。この場合、表示パネルPNLは、カラーフィルタを備えていればよい。
The organic EL element OLED is formed on the fourth insulating film 14. In the illustrated example, the organic EL element OLED is electrically connected to the switching element SW. For example, the pixel PX includes an organic EL element OLED that emits red light, an organic EL element OLED that emits green light, and an organic EL element OLED that emits blue light. However, the color of the light emitted from the organic EL element OLED is not limited to this embodiment, and can be variously modified.
Unlike the present embodiment, the organic EL element OLED may be configured to emit white light. In this case, the display panel PNL only needs to include a color filter.

有機EL素子OLEDは、光反射層4の上に形成された画素電極PEを備えている。画素電極PEは、例えば、アルミニウム、銀等の金属材料やインジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)等の透明な導電材料によって形成されている。   The organic EL element OLED includes a pixel electrode PE formed on the light reflecting layer 4. The pixel electrode PE is made of, for example, a metal material such as aluminum or silver, or a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

第4絶縁膜14及び画素電極PEの上には、隔壁絶縁層15が設けられている。隔壁絶縁層15には、画素電極PEに対応した位置に貫通孔が設けられているか、或いは、画素電極PEが形成する列又は行に対応した位置にスリットが設けられている。ここでは、一例として、隔壁絶縁層15は、画素電極PEに対応した位置に貫通孔を有している。   A partition insulating layer 15 is provided on the fourth insulating film 14 and the pixel electrode PE. In the partition insulating layer 15, a through hole is provided at a position corresponding to the pixel electrode PE, or a slit is provided at a position corresponding to a column or row formed by the pixel electrode PE. Here, as an example, the partition insulating layer 15 has a through hole at a position corresponding to the pixel electrode PE.

有機EL素子OLEDは、さらに、有機発光層ORG及び共通電極CEを備えている。画素電極PE及び共通電極CEのうち、一方が陽極であり、他方が陰極である。有機発光層ORGは、画素電極PEの上に位置している。   The organic EL element OLED further includes an organic light emitting layer ORG and a common electrode CE. One of the pixel electrode PE and the common electrode CE is an anode, and the other is a cathode. The organic light emitting layer ORG is located on the pixel electrode PE.

共通電極CEは、有機発光層ORG及び隔壁絶縁層15の上に位置している。共通電極CEは、例えば、ITOやIZO等の透明な導電材料によって形成されている。図示した例では、有機EL素子OLEDは、それぞれ隔壁絶縁層15によって区画されている。なお、図示しないが、有機EL素子OLEDは、透明な封止膜によって封止されていることが望ましい。
なお、本実施形態と異なり、有機EL素子は、第1絶縁基板10の側に向かって光を放射するいわゆるボトムエミッションタイプとして構成されてもよい。この場合、光反射層4の位置など、種々調整される。
The common electrode CE is located on the organic light emitting layer ORG and the partition insulating layer 15. The common electrode CE is made of, for example, a transparent conductive material such as ITO or IZO. In the illustrated example, each organic EL element OLED is partitioned by a partition insulating layer 15. Although not shown, the organic EL element OLED is desirably sealed with a transparent sealing film.
Unlike the present embodiment, the organic EL element may be configured as a so-called bottom emission type that emits light toward the first insulating substrate 10 side. In this case, various adjustments such as the position of the light reflecting layer 4 are made.

封止層41は、酸素や水分の侵入を抑制するため、有機EL素子OLEDを覆い、素子の劣化を防止している。なお、封止層41は、無機膜と有機膜の積層体から構成されていてもよい。偏光板POLは、接着層AD5を介して封止層41の上方に配置されている。   The sealing layer 41 covers the organic EL element OLED in order to suppress intrusion of oxygen and moisture, and prevents the element from deteriorating. The sealing layer 41 may be composed of a laminate of an inorganic film and an organic film. The polarizing plate POL is disposed above the sealing layer 41 through the adhesive layer AD5.

樹脂基板5は、第1基板SUB1の下方に配置されている。樹脂基板5は、第1絶縁基板10の第2面10Bに接着層AD2によって接着されている。樹脂基板5の材料としては、例えば、耐熱性、ガス遮断性、防湿性、強度に優れ、尚且つ安価な材料が好ましい。樹脂基板5は、例えば、表示装置DSPを製造する過程でのプロセス温度にて変質、変形しない程度の耐熱性を有する。また、樹脂基板5は、例えば、第1絶縁基板10より大きな強度を有し、支持層として機能する。樹脂基板5を付加することにより、表示パネルPNLは、外部からの応力がかからない状態にて湾曲し難くなる。また、樹脂基板5は、例えば、第1絶縁基板10への水分等の侵入を抑制する防湿性やガスの侵入を抑制するガス遮断性等を有し、バリア層として機能する。本実施形態においては、樹脂基板5は、例えば、ポリエチレンテレフタラートを用いて形成されたフィルムである。
なお、図1に示した画素PXは、例えば、カラー画像を構成する最小単位であり、上記の有機EL素子OLEDを備えている。
The resin substrate 5 is disposed below the first substrate SUB1. The resin substrate 5 is bonded to the second surface 10B of the first insulating substrate 10 with an adhesive layer AD2. As a material of the resin substrate 5, for example, a material that is excellent in heat resistance, gas barrier property, moisture proof property, strength, and is inexpensive is preferable. The resin substrate 5 has heat resistance to such an extent that it does not change or deform at the process temperature in the process of manufacturing the display device DSP, for example. The resin substrate 5 has, for example, greater strength than the first insulating substrate 10 and functions as a support layer. By adding the resin substrate 5, the display panel PNL is difficult to bend in a state where no external stress is applied. Further, the resin substrate 5 has, for example, moisture resistance that suppresses intrusion of moisture or the like into the first insulating substrate 10 and gas barrier property that suppresses intrusion of gas, and functions as a barrier layer. In the present embodiment, the resin substrate 5 is a film formed using, for example, polyethylene terephthalate.
Note that the pixel PX illustrated in FIG. 1 is, for example, the smallest unit that forms a color image, and includes the organic EL element OLED.

図3は、図1に示した表示装置DSPを示す他の断面図であり、非表示領域NDAなどを示す図である。
図3に示すように、樹脂基板5は、第1部分5aと、第1部分5aに間隔を置いて配置された第2部分5bと、を有している。また、表示パネルPNLは、第1領域AR1と、第1領域AR1に隣接する第2領域AR2と、第2領域AR2に隣接する第3領域AR3と、を有している。第2領域AR2は、第1領域AR1と第3領域AR3との間に位置している。
FIG. 3 is another cross-sectional view showing the display device DSP shown in FIG. 1, and shows a non-display area NDA and the like.
As shown in FIG. 3, the resin substrate 5 includes a first portion 5 a and a second portion 5 b that is disposed at an interval from the first portion 5 a. The display panel PNL includes a first area AR1, a second area AR2 adjacent to the first area AR1, and a third area AR3 adjacent to the second area AR2. The second area AR2 is located between the first area AR1 and the third area AR3.

ここで、本実施形態においては、偏光板POLから第1基板SUB1を見ることを平面視と定義する。第1領域AR1は、平面視で第1部分5aと重なる領域に相当する。第2領域AR2は、平面視で樹脂基板5が配置されていない領域に相当する。第3領域AR3は、平面視で第2部分5bと重なる領域に相当する。また、第1部分5aは、接着層AD2によって第1領域AR1に接着され、第2部分5bは、接着層AD2によって第3領域AR3に接着されている。   Here, in the present embodiment, viewing the first substrate SUB1 from the polarizing plate POL is defined as a plan view. The first area AR1 corresponds to an area overlapping the first portion 5a in plan view. The second area AR2 corresponds to an area where the resin substrate 5 is not disposed in plan view. The third area AR3 corresponds to an area overlapping the second portion 5b in plan view. The first portion 5a is bonded to the first region AR1 by the adhesive layer AD2, and the second portion 5b is bonded to the third region AR3 by the adhesive layer AD2.

信号配線6は、第1領域AR1から第3領域AR3まで連続して配置されている。信号配線6は、電源線や各種制御用配線などに相当する。パッドPDは、第3領域AR3に配置されている。パッドPDは、第4絶縁膜14に形成されたコンタクトホールCHを通り信号配線6と電気的に接続されている。   The signal wiring 6 is continuously arranged from the first area AR1 to the third area AR3. The signal wiring 6 corresponds to a power supply line or various control wirings. The pad PD is arranged in the third area AR3. The pad PD is electrically connected to the signal wiring 6 through the contact hole CH formed in the fourth insulating film 14.

配線基板1は、導電材料である異方性導電膜8を介して第3領域AR3に実装されている。配線基板1は、コア基板200と、コア基板200の下面側に配置された接続配線100と、コア基板200の下面側に配置された駆動ICチップ3と、を備えている。駆動ICチップ3は、表示パネルPNLを駆動するのに必要な信号を供給する信号供給源等として機能する。   The wiring board 1 is mounted in the third region AR3 via an anisotropic conductive film 8 that is a conductive material. The wiring substrate 1 includes a core substrate 200, a connection wiring 100 disposed on the lower surface side of the core substrate 200, and a drive IC chip 3 disposed on the lower surface side of the core substrate 200. The driving IC chip 3 functions as a signal supply source that supplies signals necessary for driving the display panel PNL.

保護層PRは、信号配線6の上に配置されている。図示した例では、保護層PRは、隔壁絶縁層15の端部、封止層41の端部、配線基板1の端部を覆っている。
ここで、図1にも示した折り曲げ領域BAは、第2領域AR2に含まれている。もしくは、折り曲げ領域BAは、第2領域AR2と同等の領域である。折り曲げ領域BAが折り曲げられることによって、パッドPDは、表示パネルPNLの背面側へ配置される。
The protective layer PR is disposed on the signal wiring 6. In the illustrated example, the protective layer PR covers the end of the partition insulating layer 15, the end of the sealing layer 41, and the end of the wiring substrate 1.
Here, the bending area BA also shown in FIG. 1 is included in the second area AR2. Alternatively, the bent area BA is an area equivalent to the second area AR2. The pad PD is disposed on the back side of the display panel PNL by folding the folding area BA.

図4は、上記表示装置DSPを示す断面図であり、表示パネルPNLの折り曲げ領域BAが折り曲がっている状態を示す図である。
図4に示すように、折り曲げ領域BAは、表示パネルPNLの第1領域AR1と配線基板1とが対向するように折れ曲がっている。表示パネルPNLは、樹脂基板5が配置されていない第2領域AR2を有している。このため、折り曲げ領域BAの曲率半径を小さくする(例えば1.0mm以下)ことが可能である。台座部7は、第1領域AR1と配線基板1との間に配置されている。台座部7が配置されることにより、外部から衝撃が加わった場合にも、衝撃に対して表示パネルPNL又は配線基板1に台座部7からの応力が生じるため、表示パネルPNLや配線基板1が損傷し難くなる。また、台座部7が配置されることにより、第1領域AR1と配線基板1との間の接着性が向上する。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the display device DSP, and shows a state where the folding area BA of the display panel PNL is bent.
As shown in FIG. 4, the bent area BA is bent so that the first area AR1 of the display panel PNL and the wiring board 1 face each other. The display panel PNL has a second area AR2 where the resin substrate 5 is not disposed. For this reason, it is possible to make the curvature radius of the bending area BA small (for example, 1.0 mm or less). The pedestal portion 7 is disposed between the first area AR1 and the wiring board 1. Since the pedestal portion 7 is arranged, even when an impact is applied from the outside, stress from the pedestal portion 7 is generated in the display panel PNL or the wiring board 1 with respect to the impact. It becomes difficult to damage. Moreover, the adhesiveness between 1st area | region AR1 and the wiring board 1 improves by arrange | positioning the base part 7. FIG.

接着層A1は、第1領域AR1と台座部7との間に配置され、両者を接着している。また、接着層A2は、配線基板1と台座部7との間に配置され、両者を接着している。なお、接着層A1及びA2は、図示したようにつながって形成されていてもよいし、別々に形成されていてもよい。接着層A1及びA2は、例えば両面テープである。
表示装置DSPは、上記のように構成されている。
The adhesive layer A1 is disposed between the first region AR1 and the pedestal portion 7 and adheres both. The adhesive layer A2 is disposed between the wiring board 1 and the pedestal portion 7 and adheres both. The adhesive layers A1 and A2 may be connected to each other as illustrated, or may be formed separately. The adhesive layers A1 and A2 are, for example, double-sided tape.
The display device DSP is configured as described above.

上記のように、表示パネルPNLの折り曲げ部BAを折り曲げることによって、表示パネルPNLを収容する電子機器等を狭額縁化もしくは小型化することが可能となる。また、非表示領域NDAの幅を縮めることなく収容体積を縮小することができる。上記のように、表示パネルPNLを折り曲げる観点から、表示パネルPNLには樹脂基板5が配置されていない第2領域AR2が必要である。   As described above, by bending the bent portion BA of the display panel PNL, an electronic device or the like that accommodates the display panel PNL can be narrowed or downsized. Further, the accommodation volume can be reduced without reducing the width of the non-display area NDA. As described above, from the viewpoint of bending the display panel PNL, the display panel PNL requires the second region AR2 in which the resin substrate 5 is not disposed.

次に、上記表示装置DSPの製造方法について説明する。特に、表示パネルPNLの製造方法について説明する。図5は、本実施形態に係る表示装置DSPの製造方法を説明するためのフロー図である。但し、図5には、表示装置DSPの製造工程の全てを示していない。
図5に示すように、表示装置DSPの製造工程がスタートすると、ステップST1において、基板と、表示母基板と、偏光板とを準備し、続いてステップST2において、偏光板を表示母基板に貼り付ける。次いで、ステップST3に移行し、偏光板が貼り付けられた表示母基板に第1硬化型樹脂を塗布し、第1硬化型樹脂を硬化する。その後、ステップST4において、基板、表示母基板、偏光板などを含む接合体を搬送する。
なお、ステップST1については図6乃至図9を用い、ステップST2については図10を用い、ステップST3については図11を用い、それぞれ後述する。
Next, a method for manufacturing the display device DSP will be described. In particular, a method for manufacturing the display panel PNL will be described. FIG. 5 is a flowchart for explaining the manufacturing method of the display device DSP according to the present embodiment. However, FIG. 5 does not show the entire manufacturing process of the display device DSP.
As shown in FIG. 5, when the manufacturing process of the display device DSP starts, in step ST1, a substrate, a display mother substrate, and a polarizing plate are prepared, and in step ST2, the polarizing plate is pasted on the display mother substrate. wear. Next, the process proceeds to step ST3, where the first curable resin is applied to the display mother board on which the polarizing plate is attached, and the first curable resin is cured. Thereafter, in step ST4, a bonded body including a substrate, a display mother substrate, a polarizing plate, and the like is transported.
6 to 9 are used for step ST1, FIG. 10 is used for step ST2, and FIG. 11 is used for step ST3, which will be described later.

続いて、ステップST5において表示母基板から基板を剥離し、ステップST6において樹脂基板を表示母基板に貼り付ける。その後、ステップST7に移行し、樹脂基板が貼り付けられた表示母基板に第2硬化型樹脂を塗布し、第2硬化型樹脂を硬化する。次いで、ステップST8において接合体を複数の表示パネルに切断し、ステップST9において表示パネルから第1硬化型樹脂を剥離する。
なお、ステップST6,ST7,ST8については図13を用い、ステップST9については図14を用い、それぞれ後述する。
Subsequently, in step ST5, the substrate is peeled from the display mother substrate, and in step ST6, the resin substrate is attached to the display mother substrate. Thereafter, the process proceeds to step ST7, where the second curable resin is applied to the display mother substrate to which the resin substrate is attached, and the second curable resin is cured. Next, the joined body is cut into a plurality of display panels in step ST8, and the first curable resin is peeled from the display panel in step ST9.
Steps ST6, ST7, and ST8 will be described later using FIG. 13, and step ST9 will be described later using FIG.

その後、ステップST10において表示パネルに配線基板を実装し、ステップST11において表示パネルの外形を調整する。続いて、ステップST12に移行し、表示パネルから第2硬化型樹脂を剥離する。次いで、ステップST13において表示パネルを折り曲げることにより、表示装置DSPの製造工程が終了し、表示装置DSPが得られる。
なお、ステップST10については図14を用い、ステップST11については図15を用い、それぞれ後述する。
Thereafter, a wiring board is mounted on the display panel in step ST10, and the outer shape of the display panel is adjusted in step ST11. Then, it transfers to step ST12 and peels 2nd curable resin from a display panel. Next, by bending the display panel in step ST13, the manufacturing process of the display device DSP is completed, and the display device DSP is obtained.
Step ST10 will be described later with reference to FIG. 14, and step ST11 will be described later with reference to FIG.

次に、上記表示装置DSPの製造方法について詳述する。図6は、本実施形態に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、基板GL上に第1絶縁基板10、第1パターン層PT1、及び封止層41が形成された状態を示す断面図である。   Next, a method for manufacturing the display device DSP will be described in detail. FIG. 6 is a view for explaining the method for manufacturing the display device DSP according to the present embodiment, in which the first insulating substrate 10, the first pattern layer PT1, and the sealing layer 41 are formed on the substrate GL. FIG.

図6に示すように、まず、基板GLを用意する。例えば、基板GLはガラスによって形成されている。基板GL上に、第1絶縁基板10、第1パターン層PT1、及び封止層41を順に形成する。これにより、第1絶縁基板10、第1パターン層PT1、及び封止層41を有する表示母基板DIが、基板GLの上に形成される。ここで、上記第1パターン層PT1は、図2に示した第1絶縁基板10と封止層41との間に位置する複数の部材を含んでいる。このため、第1パターン層PT1は、有機EL素子OLEDなど、第1絶縁膜11から共通電極CEまでの複数の部材を含んでいる。基板GLの上方に形成される封止層41は連続的な層ではなく、第1パターン層PT1を部分的に露出させている。   As shown in FIG. 6, first, a substrate GL is prepared. For example, the substrate GL is made of glass. On the substrate GL, the first insulating substrate 10, the first pattern layer PT1, and the sealing layer 41 are sequentially formed. Thereby, the display mother substrate DI having the first insulating substrate 10, the first pattern layer PT1, and the sealing layer 41 is formed on the substrate GL. Here, the first pattern layer PT1 includes a plurality of members positioned between the first insulating substrate 10 and the sealing layer 41 shown in FIG. For this reason, the first pattern layer PT1 includes a plurality of members from the first insulating film 11 to the common electrode CE, such as an organic EL element OLED. The sealing layer 41 formed above the substrate GL is not a continuous layer but partially exposes the first pattern layer PT1.

図7は、図6に示した基板GL及び表示母基板DIを示す斜視図である。
図7に示すように、表示母基板DIは、複数の有効領域Caを有している。複数の有効領域Caは、第1方向X及び第2方向Yに並べられ、マトリクス状に設けられている。第1方向Xに並ぶ複数の有効領域Caにおいて、複数の有効領域Caの短辺は第1方向Xに揃っている。第2方向Yに並ぶ複数の有効領域Caにおいて、複数の有効領域Caの長辺は第2方向Yに揃っている。また、表示母基板DIは、有効領域Ca以外の領域である非有効領域Cbを有している。
FIG. 7 is a perspective view showing the substrate GL and the display mother substrate DI shown in FIG.
As shown in FIG. 7, the display mother board DI has a plurality of effective areas Ca. The plurality of effective areas Ca are arranged in the first direction X and the second direction Y, and are provided in a matrix. In the plurality of effective areas Ca arranged in the first direction X, the short sides of the plurality of effective areas Ca are aligned in the first direction X. In the plurality of effective areas Ca arranged in the second direction Y, the long sides of the plurality of effective areas Ca are aligned in the second direction Y. The display mother board DI has a non-effective area Cb which is an area other than the effective area Ca.

各々の有効領域Caは、上記第1基板SUB1に対応している。本実施形態では、1個の表示母基板DIに、12個分の第1基板SUB1が形成されている。全ての有効領域Caに図示していないが、各々の有効領域Caは、表示領域DA、折り曲げ領域BAなどを含んでいる。図中、折り曲げ領域BAには斜線を付している。例えば、第1方向Xに並ぶ複数の有効領域Caにおいて、複数の折り曲げ領域BAは第1方向Xに揃っている。   Each effective area Ca corresponds to the first substrate SUB1. In the present embodiment, twelve first substrates SUB1 are formed on one display mother substrate DI. Although not shown in all effective areas Ca, each effective area Ca includes a display area DA, a bent area BA, and the like. In the figure, the bent area BA is hatched. For example, in the plurality of effective areas Ca arranged in the first direction X, the plurality of bent areas BA are aligned in the first direction X.

表示母基板DIには、複数の第1アライメントマークM1と、複数の第2アライメントマークM2と、が形成されている。第1パターン層PT1は、第1アライメントマークM1及び第2アライメントマークM2を有している。第1アライメントマークM1は、表示母基板DIの全体の位置合わせに利用され、例えば、表示母基板DIの四隅に位置している。第2アライメントマークM2は、有効領域Caの位置合わせに利用され、例えば、各々の有効領域Caの周囲に形成されている。   A plurality of first alignment marks M1 and a plurality of second alignment marks M2 are formed on the display mother board DI. The first pattern layer PT1 has a first alignment mark M1 and a second alignment mark M2. The first alignment mark M1 is used for alignment of the entire display mother board DI, and is located at, for example, the four corners of the display mother board DI. The second alignment mark M2 is used for alignment of the effective areas Ca, and is formed around each effective area Ca, for example.

1個の表示母基板DIから複数の第1基板SUB1に分割する際、第1分断予定線e1及び第2分断予定線e2に沿って表示母基板DIが分断される。第1分断予定線e1は第1方向Xに平行であり、第2分断予定線e2は第2方向Yに平行である。本実施形態において、第1分断予定線e1は、第1方向Xに並んだ複数の有効領域Caの一辺(短辺)を通っている。   When dividing one display mother board DI into a plurality of first substrates SUB1, the display mother board DI is divided along the first dividing line e1 and the second dividing line e2. The first parting line e1 is parallel to the first direction X, and the second parting line e2 is parallel to the second direction Y. In the present embodiment, the first dividing line e1 passes through one side (short side) of the plurality of effective regions Ca arranged in the first direction X.

図8は、図7の線VIII−VIIIに沿った基板GL及び表示母基板DIを示す断面図である。
図8に示すように、有効領域Caは、表示領域DA、折り曲げ領域BA、及びパッド領域MTを有している。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the substrate GL and the display mother substrate DI along the line VIII-VIII in FIG.
As shown in FIG. 8, the effective area Ca has a display area DA, a bent area BA, and a pad area MT.

表示母基板DIの基板GLと対向する側とは反対側の面は、第1貼付領域Aa1及び第1非貼付領域Ab1を有している。第1貼付領域Aa1に表示領域DAが位置し、第1非貼付領域Ab1に折り曲げ領域BA及びパッド領域MTが位置している。
第1貼付領域Aa1は第1樹脂基板としての偏光板POLが貼り付けられる領域であり、第1非貼付領域Ab1は偏光板POLが貼り付けられることのない領域である。本実施形態において、第1非貼付領域Ab1は、有効領域Caに一対一の関係で設定されている。表示母基板DIの複数の第1非貼付領域Ab1は、互いに間隔を置いて設けられている。
The surface of the display mother board DI opposite to the side facing the substrate GL has a first pasting area Aa1 and a first non-sticking area Ab1. The display area DA is located in the first pasting area Aa1, and the folding area BA and the pad area MT are located in the first non-pasting area Ab1.
The first pasting area Aa1 is an area where the polarizing plate POL as the first resin substrate is pasted, and the first non-sticking area Ab1 is an area where the polarizing plate POL is not pasted. In the present embodiment, the first non-stick area Ab1 is set in a one-to-one relationship with the effective area Ca. The plurality of first non-sticking areas Ab1 of the display mother board DI are provided at intervals.

表示母基板DIの基板GLと対向する側の面は、第2貼付領域Aa2及び第2非貼付領域Ab2を有している。第2貼付領域Aa2に表示領域DA及びパッド領域MTが位置し、第2非貼付領域Ab2に折り曲げ領域BAが位置している。
第2貼付領域Aa2は第2樹脂基板としての樹脂基板5が貼り付けられる領域であり、第2非貼付領域Ab2は樹脂基板5が貼り付けられることのない領域である。本実施形態において、第2非貼付領域Ab2は、有効領域Caに一対一の関係で設定されている。表示母基板DIの複数の第2非貼付領域Ab2は、互いに間隔を置いて設けられている。
The surface of the display mother board DI facing the substrate GL has a second pasting area Aa2 and a second non-sticking area Ab2. The display area DA and the pad area MT are located in the second pasting area Aa2, and the bending area BA is located in the second non-pasting area Ab2.
The second pasting region Aa2 is a region where the resin substrate 5 as the second resin substrate is pasted, and the second non-pasting region Ab2 is a region where the resin substrate 5 is not pasted. In the present embodiment, the second non-stick region Ab2 is set in a one-to-one relationship with the effective region Ca. The plurality of second non-sticking areas Ab2 of the display mother board DI are provided at intervals.

第1分断予定線e1は、有効領域Caと非有効領域Cbとの境界を通っている。本実施形態において、第1分断予定線e1は、第1非貼付領域Ab1を通っている。
但し、本実施形態とは異なり、第1分断予定線e1は、第1貼付領域Aa1と、第1非貼付領域Ab1(パッド領域MT)との境界を通ってもよい。この場合、第1貼付領域Aa1は、第2方向Yにおいてパッド領域MTに接している。
The first dividing line e1 passes through the boundary between the effective area Ca and the ineffective area Cb. In the present embodiment, the first dividing line e1 passes through the first non-stick area Ab1.
However, unlike the present embodiment, the first dividing line e1 may pass through the boundary between the first pasting area Aa1 and the first non-pasting area Ab1 (pad area MT). In this case, the first pasting area Aa1 is in contact with the pad area MT in the second direction Y.

第3分断予定線e3は、有効領域Caと非有効領域Cbとの別の境界を通っている。
なお、図8には基板GLを示したが、後述するように、表示母基板DIから基板GLを剥離した後、表示母基板DIは、分断予定線(e1,e3)に沿って分断される。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、表示領域DA、パッド領域MTなどを有する表示母基板DIを準備する準備工程を含んでいる。
The third dividing line e3 passes through another boundary between the effective area Ca and the ineffective area Cb.
Although FIG. 8 shows the substrate GL, as will be described later, after the substrate GL is peeled from the display mother substrate DI, the display mother substrate DI is divided along the planned dividing lines (e1, e3). .
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a preparation process for preparing the display mother board DI having the display area DA, the pad area MT, and the like.

図9は、上記製造方法を説明するための図であり、偏光板POLを示す斜視図である。図9に示すように、偏光板POLは、上記第1貼付領域Aa1に貼り付けられ、複数の第1非貼付領域Ab1に貼り付けられない形状を有している。本実施形態において、偏光板POLは、複数の第1開口OP1を有している。第1開口OP1は、上記第1非貼付領域Ab1と一対一で対応している。平面視において、第1開口OP1は、第1非貼付領域Ab1のサイズと同一のサイズを有し、第1非貼付領域Ab1に完全に重なるように設けられている。   FIG. 9 is a perspective view showing the polarizing plate POL for explaining the manufacturing method. As shown in FIG. 9, the polarizing plate POL has a shape that is attached to the first pasting area Aa1 and cannot be pasted to the plurality of first non-sticking areas Ab1. In the present embodiment, the polarizing plate POL has a plurality of first openings OP1. The first opening OP1 has a one-to-one correspondence with the first non-sticking region Ab1. In plan view, the first opening OP1 has the same size as the first non-stick area Ab1, and is provided so as to completely overlap the first non-stick area Ab1.

さらに、本実施形態の偏光板POLは、複数の第2開口OP2と、複数の第3開口OP3と、を有している。第2開口OP2は、第1アライメントマークM1と一対一で対応している。平面視において、第2開口OP2は、第1アライメントマークM1に重なるように設けられている。第3開口OP3は、第2アライメントマークM2と一対一で対応している。平面視において、第3開口OP3は、第2アライメントマークM2に重なるように設けられている。第2開口OP2及び第3開口OP3を設けることにより、アライメントマーク(M1,M2)の良好な視認性を確保することができる。   Furthermore, the polarizing plate POL of the present embodiment has a plurality of second openings OP2 and a plurality of third openings OP3. The second opening OP2 has a one-to-one correspondence with the first alignment mark M1. In plan view, the second opening OP2 is provided so as to overlap the first alignment mark M1. The third opening OP3 has a one-to-one correspondence with the second alignment mark M2. In plan view, the third opening OP3 is provided so as to overlap the second alignment mark M2. By providing the second opening OP2 and the third opening OP3, it is possible to ensure good visibility of the alignment marks (M1, M2).

但し、本実施形態と異なり、偏光板POL越しにアライメントマーク(M1,M2)を視認することが可能である場合、偏光板POLは、第2開口OP2及び第3開口OP3を有していなくともよい。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、偏光板POLを準備する準備工程を含んでいる。
However, unlike the present embodiment, when the alignment marks (M1, M2) can be visually recognized through the polarizing plate POL, the polarizing plate POL may not have the second opening OP2 and the third opening OP3. Good.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a preparation process for preparing the polarizing plate POL.

図10は、図6乃至図9に続く上記製造方法を説明するための図であり、偏光板POLが表示母基板DIに貼り付けられている状態を示す断面図である。
図10に示すように、続いて、第1貼付工程において、表示母基板DIの少なくとも表示領域DAに第1樹脂基板としての偏光板POLを貼り付ける。表示母基板DIにおいて、表面Sfは封止層41側に位置し、裏面Sbは第1絶縁基板10側に位置している。偏光板POLは、表示母基板DIの表面Sf側に貼り付けられ、少なくとも封止層41に貼り付けられている。
FIG. 10 is a view for explaining the manufacturing method subsequent to FIGS. 6 to 9, and is a cross-sectional view showing a state in which the polarizing plate POL is attached to the display mother substrate DI.
As shown in FIG. 10, subsequently, in the first pasting step, a polarizing plate POL as a first resin substrate is pasted on at least the display area DA of the display mother substrate DI. In the display mother substrate DI, the front surface Sf is located on the sealing layer 41 side, and the back surface Sb is located on the first insulating substrate 10 side. The polarizing plate POL is attached to the surface Sf side of the display mother substrate DI, and is attached to at least the sealing layer 41.

表示母基板DIは、第1貼付領域Aa1及び第1非貼付領域Ab1を有している。このため、偏光板POLを、第1貼付領域Aa1に貼り付け、第1非貼付領域Ab1に貼り付けていない。
本実施形態において、表示母基板DIには、第1アライメントマークM1及び第2アライメントマークM2がある。このため、第2開口OP2及び第3開口OP3を利用し、偏光板POLを、第1アライメントマークM1と対向する領域に貼り付けておらず、さらに第2アライメントマークM2と対向する領域にも貼り付けていない。
The display mother board DI has a first pasting area Aa1 and a first non-pasting area Ab1. For this reason, the polarizing plate POL is pasted on the first pasting area Aa1, and is not pasted on the first non-sticking area Ab1.
In the present embodiment, the display mother board DI has a first alignment mark M1 and a second alignment mark M2. Therefore, the second opening OP2 and the third opening OP3 are used, and the polarizing plate POL is not attached to the region facing the first alignment mark M1, and is also attached to the region facing the second alignment mark M2. Not attached.

上記第1貼付工程に関して、具体的には、表面Sfと偏光板POLとの間に接着層AD5を配置した状態で、第1アライメントマークM1及び第2開口OP2を利用して表示母基板DIと偏光板POLとの位置合わせを行い、その後貼り付けをする。これにより、表示母基板DIと偏光板POLとの相対的な位置ズレの発生を抑制することができる。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、偏光板POLを貼り付ける第1貼付工程を含んでいる。
Regarding the first pasting step, specifically, with the adhesive layer AD5 disposed between the surface Sf and the polarizing plate POL, the display mother substrate DI and the display mother substrate DI are utilized using the first alignment mark M1 and the second opening OP2. Alignment with the polarizing plate POL is performed, followed by pasting. Thereby, generation | occurrence | production of the relative position shift of display mother board | substrate DI and polarizing plate POL can be suppressed.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes the first pasting step of pasting the polarizing plate POL.

図11は、図10に続く上記製造方法を説明するための図であり、第1非貼付領域Ab1に第1硬化型樹脂RE1が塗布されている状態を示す断面図である。
図11に示すように、パッド領域MTを含む領域であって偏光板POLが貼り付けられていない第1非貼付領域Ab1に、第1硬化型樹脂RE1を塗布する。本実施形態において、第1硬化型樹脂RE1は、第1非貼付領域Ab1毎に独立して塗布されている。第1硬化型樹脂RE1の層は、互いに間隔を置いて設けられている。
FIG. 11 is a view for explaining the manufacturing method subsequent to FIG. 10, and is a cross-sectional view showing a state in which the first curable resin RE1 is applied to the first non-bonding region Ab1.
As shown in FIG. 11, the first curable resin RE1 is applied to the first non-sticking area Ab1 that includes the pad area MT and is not attached with the polarizing plate POL. In the present embodiment, the first curable resin RE1 is applied independently for each first non-stick region Ab1. The layers of the first curable resin RE1 are provided at a distance from each other.

また、第1硬化型樹脂RE1は、第1開口OP1に充填され、第1開口OP1の外側に溢れる程度に塗布されている。言い換えると、第1硬化型樹脂RE1は、第1非貼付領域Ab1における第1パターン層PT1の上と、偏光板POLのうち第1非貼付領域Ab1を囲む領域の上と、に塗布されている。そして、第1硬化型樹脂RE1の層の側面S1は、第1開口OP1の外側に露出している。側面S1が第1開口OP1の外側に露出している方が、後続の製造工程において、第1硬化型樹脂RE1を第1パターン層PT1などからの剥離し易くなるためである。   The first curable resin RE1 is applied to such an extent that it fills the first opening OP1 and overflows outside the first opening OP1. In other words, the first curable resin RE1 is applied on the first pattern layer PT1 in the first non-sticking area Ab1 and on the area surrounding the first non-sticking area Ab1 in the polarizing plate POL. . The side surface S1 of the layer of the first curable resin RE1 is exposed outside the first opening OP1. This is because the side surface S1 exposed to the outside of the first opening OP1 makes it easier to peel the first curable resin RE1 from the first pattern layer PT1 and the like in the subsequent manufacturing process.

本実施形態において、第1硬化型樹脂RE1の塗布に、インクジェット法を採用した塗布装置を使用している。但し、本実施形態と異なり、第1硬化型樹脂RE1の塗布に、スリットコータを使用してもよい。なお、第1硬化型樹脂RE1は、熱硬化型樹脂、及び紫外線硬化型樹脂の何れであってもよい。   In the present embodiment, a coating apparatus employing an ink jet method is used for coating the first curable resin RE1. However, unlike this embodiment, a slit coater may be used to apply the first curable resin RE1. The first curable resin RE1 may be either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.

また、第1硬化型樹脂RE1に利用する材料としては、アクリル系材料やウレタン系材料が例示的に挙げられる。ウレタン系材料の場合、所望の剛性を得易く、第1非貼付領域Ab1の補強に好適である。但し、ウレタン系材料の場合、高い剛性を求めるほど、第1硬化型樹脂RE1が白濁する傾向にある。この場合、第1硬化型樹脂RE1を全体に塗布するとアライメントマークの読み取りが難しくなる場合があることに留意する。   Examples of the material used for the first curable resin RE1 include acrylic materials and urethane materials. In the case of a urethane-based material, it is easy to obtain a desired rigidity and is suitable for reinforcing the first non-stick area Ab1. However, in the case of a urethane-based material, the higher the rigidity is, the more the first curable resin RE1 tends to become cloudy. In this case, it should be noted that if the first curable resin RE1 is applied to the entire surface, it may be difficult to read the alignment mark.

なお、上記第1樹脂塗布工程の際に、第2開口OP2を含む第1アライメントマークM1と対向する領域、及び第3開口OP3を含む第2アライメントマークM2と対向する領域に、第1硬化型樹脂RE1を塗布していない。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第1硬化型樹脂RE1を塗布する第1樹脂塗布工程を含んでいる。
In the first resin coating step, the first curable mold is formed in a region facing the first alignment mark M1 including the second opening OP2 and a region facing the second alignment mark M2 including the third opening OP3. Resin RE1 is not applied.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes the first resin application process of applying the first curable resin RE1.

ここで、第1樹脂塗布工程において、第1硬化型樹脂RE1は、少なくとも第1非貼付領域Ab1に塗布されていればよい。このため、本実施形態と異なり、第1硬化型樹脂を第1非貼付領域Ab1のみに塗布してもよい。この場合、第1硬化型樹脂RE1の層の側面S1は、第1開口OP1の内部に形成される。
また、本実施形態と異なり、第1硬化型樹脂RE1を、第2開口OP2及び第3開口OP3に塗布してもよい。この場合、第1硬化型樹脂RE1は、アライメントマーク(M1,M2)の視認性を阻害しない程度の透明度を有していればよい。上記の透明度を考慮すると、例えば、第1硬化型樹脂RE1のヘイズは、5%以下であると望ましい。なお、剥離性を向上させるために、表示母基板DI全体に第1硬化型樹脂E1を塗布しても良い。
Here, in the first resin application step, the first curable resin RE1 only needs to be applied to at least the first non-stick area Ab1. For this reason, unlike this embodiment, you may apply | coat 1st curable resin only to 1st non-sticking area | region Ab1. In this case, the side surface S1 of the layer of the first curable resin RE1 is formed inside the first opening OP1.
Further, unlike the present embodiment, the first curable resin RE1 may be applied to the second opening OP2 and the third opening OP3. In this case, the first curable resin RE1 only needs to have a degree of transparency that does not hinder the visibility of the alignment marks (M1, M2). Considering the above transparency, for example, the haze of the first curable resin RE1 is desirably 5% or less. In order to improve the peelability, the first curable resin E1 may be applied to the entire display mother board DI.

次いで、硬化工程に移行し、第1硬化型樹脂RE1を硬化させる。例えば、第1硬化型樹脂RE1に紫外線を照射することにより行う。これにより、第1硬化型樹脂RE1で第1非貼付領域Ab1を補強することができる。表示母基板DIから基板GLを分離した後において、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体のハンドリングは容易になる。そのため、基板GLを分離した後の製造工程を、上記接合体に実施し易くすることができる。   Next, the process proceeds to a curing step, and the first curable resin RE1 is cured. For example, this is performed by irradiating the first curable resin RE1 with ultraviolet rays. Thereby, 1st non-sticking area | region Ab1 can be reinforced with 1st curable resin RE1. After the substrate GL is separated from the display mother substrate DI, it is easy to handle the joined body such as the display mother substrate DI and the polarizing plate POL. Therefore, the manufacturing process after separating the substrate GL can be easily performed on the joined body.

硬化工程を経た後において、第1硬化型樹脂RE1のヤング率は、0.4GPa乃至4GPaであると望ましい。上記のヤング率は、例えば、ウレタン系材料を利用することにより得ることができる。ヤング率が上記の範囲内にある場合、上記ハンドリングは、一層、容易になる。   After the curing process, the Young's modulus of the first curable resin RE1 is desirably 0.4 GPa to 4 GPa. The above Young's modulus can be obtained, for example, by using a urethane material. When the Young's modulus is within the above range, the handling is further facilitated.

また、表示母基板DIを、偏光板POL及び第1硬化型樹脂RE1で補強することができる。また、第1硬化型樹脂RE1が各開口を埋めるため、表示母基板DIのハンドリング性が向上する。このため、上記第1貼付工程、上記第1樹脂塗布工程、及び上記硬化工程の前の工程で、間接材料を利用して表示母基板DIを補強しなくともよい。
単位面積あたりにて、第1硬化型樹脂RE1と第1パターン層PT1との接着力は、偏光板POLと封止層41との接着力より低い。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第1硬化型樹脂RE1を硬化させる硬化工程を含んでいる。
Further, the display mother board DI can be reinforced with the polarizing plate POL and the first curable resin RE1. In addition, since the first curable resin RE1 fills the openings, the handling property of the display mother board DI is improved. For this reason, it is not necessary to reinforce the display mother board DI using an indirect material in the steps before the first pasting step, the first resin coating step, and the curing step.
The adhesive force between the first curable resin RE1 and the first pattern layer PT1 is lower than the adhesive force between the polarizing plate POL and the sealing layer 41 per unit area.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a curing process for curing the first curable resin RE1.

上記硬化工程の後に、搬送工程に移行し、基板GL、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体を搬送する。   After the curing process, the process proceeds to a transport process, and a joined body such as the substrate GL, the display mother substrate DI, and the polarizing plate POL is transported.

続いて、基板GLを洗浄する洗浄工程に移行する。基板GLの第1絶縁基板10と対向する側とは反対側の面を洗浄装置を用いて洗浄する。ここでは、基板GLを、ブラシなどを用いたドライ洗浄を行う。これにより、基板GLの裏面に存在し得る異物を除去することができる。その後、基板GL、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体を搬送する。   Subsequently, the process proceeds to a cleaning process for cleaning the substrate GL. The surface of the substrate GL opposite to the side facing the first insulating substrate 10 is cleaned using a cleaning device. Here, the substrate GL is dry-cleaned using a brush or the like. Thereby, the foreign material which may exist in the back surface of the board | substrate GL can be removed. Thereafter, a joined body such as the substrate GL, the display mother substrate DI, and the polarizing plate POL is transported.

次いで、レーザを用い、基板GLの裏面側から第1絶縁基板10にレーザ光を照射する。基板GLを洗浄したことにより、レーザ光は第1絶縁基板10に良好に照射される。レーザ光が第1絶縁基板10に到達すると、第1絶縁基板10と基板GLとの間の界面で、レーザ光を吸収して分解するアブレーションを生じる。これにより、基板GL及び第1絶縁基板10の界面に空間が生じ、第1絶縁基板10から基板GLが剥離される。その後、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体を搬送する。   Next, using a laser, the first insulating substrate 10 is irradiated with laser light from the back side of the substrate GL. By cleaning the substrate GL, the first insulating substrate 10 is favorably irradiated with the laser light. When the laser light reaches the first insulating substrate 10, ablation that absorbs and decomposes the laser light occurs at the interface between the first insulating substrate 10 and the substrate GL. Thereby, a space is generated at the interface between the substrate GL and the first insulating substrate 10, and the substrate GL is peeled from the first insulating substrate 10. Thereafter, a joined body such as the display mother substrate DI and the polarizing plate POL is transported.

図12は、上記製造方法を説明するための図であり、樹脂基板5を示す斜視図である。図12に示すように、第2樹脂基板としての樹脂基板5を準備する。樹脂基板5は、上記第2貼付領域Aa2に貼り付けられ、複数の第2非貼付領域Ab2に貼り付けられない形状を有している。本実施形態において、樹脂基板5は、複数の第4開口OP4を有している。第4開口OP4は、上記第2非貼付領域Ab2と一対一で対応している。平面視において、第4開口OP4は、第2非貼付領域Ab2のサイズと同一のサイズを有し、第2非貼付領域Ab2に完全に重なるように設けられている。   FIG. 12 is a perspective view showing the resin substrate 5 for explaining the manufacturing method. As shown in FIG. 12, a resin substrate 5 as a second resin substrate is prepared. The resin substrate 5 has a shape that is pasted on the second pasting area Aa2 and cannot be pasted on the plurality of second non-pasting areas Ab2. In the present embodiment, the resin substrate 5 has a plurality of fourth openings OP4. The fourth opening OP4 has a one-to-one correspondence with the second non-sticking region Ab2. In plan view, the fourth opening OP4 has the same size as the second non-stick area Ab2, and is provided so as to completely overlap the second non-stick area Ab2.

本実施形態において、樹脂基板5は、アライメントマーク(M1,M2)と対向した領域に開口を有していない。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、樹脂基板5を準備する準備工程を含んでいる。
In the present embodiment, the resin substrate 5 does not have an opening in a region facing the alignment marks (M1, M2).
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a preparation process for preparing the resin substrate 5.

図14は、図12及び図13に続く上記製造方法を説明するための図であり、樹脂基板5が表示母基板DIに貼り付けられ、第2非貼付領域Ab2に第2硬化型樹脂RE2が塗布されている状態と、単個の表示パネルに分離するために、表示母基板DIなどを活断している状態と、を示す断面図である。
図13に示すように、続いて、第2貼付工程において、表示母基板DIの少なくとも表示領域DAに第2樹脂基板としての樹脂基板5を貼り付ける。樹脂基板5は、表示母基板DIの裏面Sb側である第1絶縁基板10に貼り付けられている。
FIG. 14 is a view for explaining the manufacturing method subsequent to FIGS. 12 and 13, in which the resin substrate 5 is attached to the display mother board DI, and the second curable resin RE2 is provided in the second non-attached area Ab2. It is sectional drawing which shows the state which is apply | coated, and the state which cuts off display mother board DI etc. in order to isolate | separate into a single display panel.
As shown in FIG. 13, subsequently, in the second pasting step, the resin substrate 5 as the second resin substrate is pasted on at least the display area DA of the display mother board DI. The resin substrate 5 is attached to the first insulating substrate 10 on the back surface Sb side of the display mother substrate DI.

表示母基板DIは、第2貼付領域Aa2及び第2非貼付領域Ab2を有している。このため、樹脂基板5を、第2貼付領域Aa2に貼り付け、第2非貼付領域Ab2に貼り付けていない。平面視において、第2非貼付領域Ab2は、樹脂基板5によって囲まれている。本実施形態において、樹脂基板5は、第1アライメントマークM1と対向する領域と、第2アライメントマークM2と対向する領域と、に貼り付けている。   The display mother board DI has a second pasting area Aa2 and a second non-sticking area Ab2. For this reason, the resin substrate 5 is affixed on 2nd sticking area | region Aa2, and is not stuck on 2nd non-sticking area | region Ab2. In a plan view, the second non-stick area Ab2 is surrounded by the resin substrate 5. In the present embodiment, the resin substrate 5 is attached to a region facing the first alignment mark M1 and a region facing the second alignment mark M2.

上記第2貼付工程に関して、具体的には、第1絶縁基板10と樹脂基板5との間に接着層AD2を配置した状態で、表示母基板DIと樹脂基板5との位置合わせを行った後、樹脂基板5を表示母基板DIに貼り付ける。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、樹脂基板5を貼り付ける第2貼付工程を含んでいる。
Regarding the second pasting step, specifically, after the alignment between the display mother substrate DI and the resin substrate 5 is performed in a state where the adhesive layer AD2 is disposed between the first insulating substrate 10 and the resin substrate 5. The resin substrate 5 is attached to the display mother substrate DI.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes the second pasting step for pasting the resin substrate 5.

次いで、第2樹脂塗布工程に移行し、第1非貼付領域Ab1と対向する領域であって樹脂基板5が貼り付けられていない第2非貼付領域Ab2に、第2硬化型樹脂RE2を塗布する。本実施形態において、第2硬化型樹脂RE2は、第2非貼付領域Ab2毎に独立して塗布されている。第2硬化型樹脂RE2の層は、互いに間隔を置いて設けられている。   Next, the process proceeds to the second resin application step, and the second curable resin RE2 is applied to the second non-adhesion region Ab2 that is opposite to the first non-adhesion region Ab1 and to which the resin substrate 5 is not attached. . In the present embodiment, the second curable resin RE2 is applied independently for each second non-stick region Ab2. The layers of the second curable resin RE2 are provided at a distance from each other.

また、第2硬化型樹脂RE2は、第4開口OP4に充填され、第4開口OP4の外側に溢れる程度に塗布されている。言い換えると、第2硬化型樹脂RE2は、第2非貼付領域Ab2における第1絶縁基板10側と、樹脂基板5側のうち第2非貼付領域Ab2を囲む領域と、に塗布されている。そして、第2硬化型樹脂RE2の層の側面S2は、第4開口OP4の外側に露出している。側面S2が第4開口OP4の外側に露出している方が、後続の製造工程において、第2硬化型樹脂RE2を樹脂基板5などからの剥離し易くなるためである。   The second curable resin RE2 is applied to such an extent that it fills the fourth opening OP4 and overflows outside the fourth opening OP4. In other words, the second curable resin RE2 is applied to the first insulating substrate 10 side in the second non-sticking region Ab2 and the region surrounding the second non-sticking region Ab2 on the resin substrate 5 side. The side surface S2 of the layer of the second curable resin RE2 is exposed outside the fourth opening OP4. This is because the side surface S2 exposed to the outside of the fourth opening OP4 is easy to peel the second curable resin RE2 from the resin substrate 5 or the like in the subsequent manufacturing process.

第2樹脂塗布工程では、第1樹脂塗布工程で使用した塗布装置を利用することができる。また、第2硬化型樹脂RE2に利用する材料に関しては、第1硬化型樹脂RE1に利用する材料と同一である。例えば、第2硬化型樹脂RE2にウレタン系材料を利用することができる。   In the second resin coating process, the coating device used in the first resin coating process can be used. The material used for the second curable resin RE2 is the same as the material used for the first curable resin RE1. For example, a urethane-based material can be used for the second curable resin RE2.

但し、表示母基板DIの表面Sf側と異なり、表示母基板DIの裏面Sb側に関しては、視認性を確保しなくともよい。このため、第2硬化型樹脂RE2の透明度は低くてもよく、第2硬化型樹脂RE2は白濁していてもよい。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第2硬化型樹脂RE2を塗布する第2樹脂塗布工程を含んでいる。
However, unlike the front surface Sf side of the display mother board DI, the visibility need not be ensured on the rear surface Sb side of the display mother board DI. For this reason, the transparency of the second curable resin RE2 may be low, and the second curable resin RE2 may be clouded.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes the second resin application process of applying the second curable resin RE2.

ここで、第2樹脂塗布工程において、第2硬化型樹脂RE2は、少なくとも第2非貼付領域Ab2に塗布されていればよい。このため、本実施形態と異なり、第2硬化型樹脂を第2非貼付領域Ab2のみに塗布してもよい。この場合、第2硬化型樹脂RE2の層の側面S2は、第4開口OP4の内部に形成される。   Here, in the second resin application step, the second curable resin RE2 only needs to be applied to at least the second non-stick area Ab2. For this reason, unlike this embodiment, you may apply | coat 2nd curable resin only to 2nd non-sticking area | region Ab2. In this case, the side surface S2 of the layer of the second curable resin RE2 is formed inside the fourth opening OP4.

次いで、硬化工程に移行し、第2硬化型樹脂RE2を硬化させる。例えば、第2硬化型樹脂RE2に紫外線を照射することにより行う。これにより、第2硬化型樹脂RE2で第2非貼付領域Ab2を補強することができる。表示母基板DI、偏光板POL、樹脂基板5などの接合体のハンドリングは容易になる。そのため、樹脂基板5を貼り付けた後の製造工程を、上記接合体に実施し易くすることができる。
硬化工程としては、第1硬化型樹脂RE1を硬化させる硬化工程と、第2硬化型樹脂RE2を硬化させる硬化工程と、がある。硬化工程を経た後において、第2硬化型樹脂RE2のヤング率は、0.4GPa乃至4GPaであると望ましい。
Next, the process proceeds to a curing step, and the second curable resin RE2 is cured. For example, the second curable resin RE2 is irradiated with ultraviolet rays. Thereby, 2nd non-sticking area | region Ab2 can be reinforced with 2nd curable resin RE2. Handling of the joined body such as the display mother substrate DI, the polarizing plate POL, and the resin substrate 5 becomes easy. Therefore, the manufacturing process after the resin substrate 5 is attached can be easily performed on the joined body.
The curing process includes a curing process for curing the first curable resin RE1 and a curing process for curing the second curable resin RE2. After the curing process, the Young's modulus of the second curable resin RE2 is desirably 0.4 GPa to 4 GPa.

また、表示母基板DIを、樹脂基板5及び第2硬化型樹脂RE2で補強することができる。このため、上記第2貼付工程、上記第2樹脂塗布工程、及び上記第2硬化型樹脂RE2の硬化工程の前の工程で、間接材料を利用して表示母基板DIを補強しなくともよい。
単位面積あたりにて、第2硬化型樹脂RE2と第1絶縁基板10との接着力は、樹脂基板5と第1絶縁基板10との接着力より低い。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第2硬化型樹脂RE2を硬化させる硬化工程を含んでいる。
Further, the display mother board DI can be reinforced with the resin substrate 5 and the second curable resin RE2. For this reason, it is not necessary to reinforce the display mother board DI using the indirect material in the steps before the second pasting step, the second resin coating step, and the curing step of the second curable resin RE2.
The adhesive force between the second curable resin RE2 and the first insulating substrate 10 is lower than the adhesive force between the resin substrate 5 and the first insulating substrate 10 per unit area.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a curing process for curing the second curable resin RE2.

上記第2硬化型樹脂RE2の硬化工程の後に、搬送工程に移行し、樹脂基板5、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体を搬送する。
ここで、上記接合体のハンドリングの観点から、上記接合体から第1硬化型樹脂RE1を剥がす前に、第2硬化型樹脂RE2が不所望に剥がれる事態を回避した方が望ましい。そのため、第2硬化型樹脂RE2の表示母基板DIに対する密着力は、第1硬化型樹脂RE1の表示母基板DIに対する密着力よりも高い方が望ましい。詳しくは、第2硬化型樹脂RE2と第1絶縁基板10との接着力は、第1硬化型樹脂RE1と第1パターン層PT1との接着力より高い方が望ましい。
After the curing process of the second curable resin RE2, the process proceeds to a transporting process, and a bonded body such as the resin substrate 5, the display mother substrate DI, and the polarizing plate POL is transported.
Here, from the viewpoint of handling the joined body, it is desirable to avoid the situation where the second curable resin RE2 is undesirably peeled before the first curable resin RE1 is peeled from the joined body. For this reason, it is desirable that the adhesion of the second curable resin RE2 to the display mother board DI is higher than the adhesion of the first curable resin RE1 to the display mother board DI. Specifically, the adhesive force between the second curable resin RE2 and the first insulating substrate 10 is preferably higher than the adhesive force between the first curable resin RE1 and the first pattern layer PT1.

例えば、第2硬化型樹脂RE2に利用する材料と、第1硬化型樹脂RE1に利用する材料と、を異ならせることにより、実現することができる。
又は、第1絶縁基板10及び樹脂基板5に対する第2硬化型樹脂RE2の接着面積を、第1パターン層PT1及び偏光板POLに対する第1硬化型樹脂RE1の接着面積より大きくすることにより、実現することができる。
For example, this can be realized by making the material used for the second curable resin RE2 different from the material used for the first curable resin RE1.
Alternatively, it is realized by making the adhesion area of the second curable resin RE2 to the first insulating substrate 10 and the resin substrate 5 larger than the adhesion area of the first curable resin RE1 to the first pattern layer PT1 and the polarizing plate POL. be able to.

その後、切断工程に移行し、樹脂基板5、表示母基板DI、偏光板POLなどの接合体を、第1分断予定線e1に沿って分割する。さらに、この切断工程において、上記接合体を、図6などに示した第2分断予定線e2に沿って分割する。これにより、上記接合体を、複数の表示パネルPNLに切断することができる。   Thereafter, the cutting process is performed, and the joined body such as the resin substrate 5, the display mother substrate DI, and the polarizing plate POL is divided along the first dividing line e1. Further, in this cutting step, the joined body is divided along a second parting planned line e2 shown in FIG. Thereby, the joined body can be cut into a plurality of display panels PNL.

本実施形態において、上記接合体を分割する際、上記接合体に、分断予定線に沿ってスクライブラインを引いている。但し、本実施形態と異なり、上記接合体を分割する際、上記接合体に、分断予定線に沿ってレーザ光を照射してもよい。   In the present embodiment, when the joined body is divided, a scribe line is drawn along the planned dividing line. However, unlike the present embodiment, when the joined body is divided, the joined body may be irradiated with a laser beam along a planned dividing line.

その後、剥離工程に移行し、第1硬化型樹脂RE1を第1非貼付領域Ab1から剥離する。この際、上述したように、第1硬化型樹脂RE1の層の側面S1は露出しているため、第1硬化型樹脂RE1を偏光板POLなどから容易に剥離することができる。   Then, it transfers to a peeling process and peels 1st curable resin RE1 from 1st non-sticking area | region Ab1. At this time, as described above, since the side surface S1 of the layer of the first curable resin RE1 is exposed, the first curable resin RE1 can be easily peeled off from the polarizing plate POL or the like.

上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第1硬化型樹脂RE1を剥離する剥離工程を含んでいる。
上述したように、本実施形態では、切断工程を経た後に第1硬化型樹脂RE1を剥離する剥離工程を設けている。但し、本実施形態と異なり、第1硬化型樹脂RE1を剥離する剥離工程を経た後に切断工程を設けてもよい。
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a peeling process for peeling the first curable resin RE1.
As described above, in the present embodiment, a peeling process for peeling the first curable resin RE1 after the cutting process is provided. However, unlike the present embodiment, a cutting step may be provided after a peeling step for peeling the first curable resin RE1.

続いて、点灯検査に移行する。第1硬化型樹脂RE1を剥離するとパッド領域MTのパッドPDなどが露出する。点灯検査の際、パッドPDにプロービングを行い、輝点となる有機EL素子の有無を検査したり、滅点となる有機EL素子の有無を検査したりする。   Then, it shifts to lighting inspection. When the first curable resin RE1 is removed, the pad PD in the pad region MT is exposed. In the lighting inspection, the pad PD is probed to inspect the presence or absence of an organic EL element serving as a bright spot or the presence or absence of an organic EL element serving as a dark spot.

図14は、図13以降の上記製造方法を説明するための図であり、配線基板1を表示パネルPNLに圧着する工程及び保護層PRを形成する工程を説明するための断面図である。
図14に示すように、上記点灯検査を通過した表示パネルPNLは、その後、表示パネルPNLに配線基板1を実装し、表示パネルPNLに保護層PRを形成する。
配線基板1と表示パネルPNLとの間であってパッドPDと重なる位置に、異方性導電膜8を配置し、配線基板1の上方及び表示パネルPNLの下方から、圧力を加え加熱する。これにより、異方性導電膜8が溶融して、配線基板1及び表示パネルPNLが電気的及び物理的に接続される。
FIG. 14 is a view for explaining the manufacturing method after FIG. 13 and is a cross-sectional view for explaining a step of pressure-bonding the wiring substrate 1 to the display panel PNL and a step of forming the protective layer PR.
As shown in FIG. 14, the display panel PNL that has passed the above-described lighting inspection then mounts the wiring board 1 on the display panel PNL and forms a protective layer PR on the display panel PNL.
An anisotropic conductive film 8 is disposed between the wiring board 1 and the display panel PNL and overlaps the pad PD, and is heated by applying pressure from above the wiring board 1 and below the display panel PNL. Thereby, the anisotropic conductive film 8 is melted, and the wiring substrate 1 and the display panel PNL are electrically and physically connected.

次いで、信号配線6上に、保護層PRを形成する。図示した例では、保護層PRは、隔壁絶縁層15の端部15E、封止層41の端部41Eを覆っている。また、配線基板1の端部1Eを覆っている。保護層PRは、例えば、エポキシ樹脂等の有機絶縁材料を用いて形成され、UV照射や熱によって硬化されることにより形成される。   Next, the protective layer PR is formed on the signal wiring 6. In the illustrated example, the protective layer PR covers the end 15E of the partition insulating layer 15 and the end 41E of the sealing layer 41. Further, the end 1E of the wiring board 1 is covered. The protective layer PR is formed using, for example, an organic insulating material such as an epoxy resin, and is formed by being cured by UV irradiation or heat.

表示パネルPNLに配線基板1を実装した後、再度、検査を行う。この検査では、配線基板1、配線基板2、及び駆動ICチップ3を利用して表示パネルPNLを駆動することにより行なう。   After the wiring board 1 is mounted on the display panel PNL, the inspection is performed again. This inspection is performed by driving the display panel PNL using the wiring substrate 1, the wiring substrate 2, and the driving IC chip 3.

図15は、図14以降の上記製造方法を説明するための図であり、表示パネルPNLの外形を調整するために、表示パネルPNLを活断している状態を示す断面図である。
図15に示すように、配線基板1などを実装した後の検査を通過した表示パネルPNLは、その後、切断工程に移行する。切断工程において、第3分断予定線e3、第4分断予定線e4、及び第5分断予定線e5に沿って表示パネルPNLを分割するため、第2アライメントマークM2及び第3開口OP3を利用して、これらの分断予定線の位置を調整することができる。第3分断予定線e3は第1方向Xに平行であり、第4分断予定線e4及び第5分断予定線e5は第2方向Yに平行である。
FIG. 15 is a view for explaining the manufacturing method after FIG. 14 and is a cross-sectional view showing a state in which the display panel PNL is cut off in order to adjust the outer shape of the display panel PNL.
As shown in FIG. 15, the display panel PNL that has passed the inspection after mounting the wiring board 1 or the like proceeds to a cutting process thereafter. In the cutting process, the second alignment mark M2 and the third opening OP3 are used to divide the display panel PNL along the third division planned line e3, the fourth division planned line e4, and the fifth division planned line e5. The position of these planned dividing lines can be adjusted. The third dividing line e3 is parallel to the first direction X, and the fourth dividing line e4 and the fifth dividing line e5 are parallel to the second direction Y.

本実施形態において、第3分断予定線e3は、有効領域Caの第1方向Xに平行な短辺を通っている。このため、有効領域Caのうち、一方の短辺を上述した第1分断予定線e1が通り、他方の短辺を第3分断予定線e3が通る。また、有効領域Caのうち、一方の長辺を上述した第4分断予定線e4が通り、他方の長辺を第5分断予定線e5が通る。   In the present embodiment, the third planned dividing line e3 passes through a short side parallel to the first direction X of the effective area Ca. For this reason, in the effective area Ca, the above-described first dividing line e1 passes through one short side, and the third dividing line e3 passes through the other short side. Further, in the effective area Ca, the above-described fourth dividing line e4 passes through one long side, and the fifth dividing line e5 passes through the other long side.

切断工程において、まず、表示パネルPNLを、第3分断予定線e3に沿って分割する。表示パネルPNLに第2アライメントマークM2は、まだ残っている。そのため、第2アライメントマークM2を利用し、第4分断予定線e4、及び第5分断予定線e5の位置を調整しつつ、表示パネルPNLを、第4分断予定線e4、及び第5分断予定線e5に沿って分割する。   In the cutting step, first, the display panel PNL is divided along the third scheduled dividing line e3. The second alignment mark M2 still remains on the display panel PNL. Therefore, the display panel PNL is adjusted using the second alignment mark M2 while adjusting the positions of the fourth and fifth planned dividing lines e4 and e5. Divide along e5.

本実施形態において、上記表示パネルPNLを分割する際、上記表示パネルPNLに、分断予定線に沿ってスクライブラインを引いている。但し、本実施形態と異なり、上記表示パネルPNLを分割する際、上記接合体に、分断予定線に沿ってレーザ光を照射してもよい。   In the present embodiment, when the display panel PNL is divided, a scribe line is drawn along the planned dividing line on the display panel PNL. However, unlike the present embodiment, when the display panel PNL is divided, the joined body may be irradiated with a laser beam along a planned dividing line.

これにより、表示パネルPNLの外形を、有効領域Caと対向させることができる。
上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、表示パネルPNLを分割する切断工程を含んでいる。
図3に示すように、続いて、剥離工程に移行し、第2硬化型樹脂RE2を第2非貼付領域Ab2から剥離する。第1硬化型樹脂RE1の層と同様、第2硬化型樹脂RE2の層の側面S2も露出しているため、第2硬化型樹脂RE2を第1絶縁基板10などから容易に剥離することができる。
Thereby, the external shape of the display panel PNL can be made to oppose the effective area | region Ca.
As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a cutting process for dividing the display panel PNL.
As shown in FIG. 3, subsequently, the process proceeds to a peeling step, and the second curable resin RE2 is peeled from the second non-sticking region Ab2. Similar to the layer of the first curable resin RE1, the side surface S2 of the layer of the second curable resin RE2 is also exposed, so that the second curable resin RE2 can be easily peeled from the first insulating substrate 10 or the like. .

上述したことから、表示装置DSPの製造工程は、第2硬化型樹脂RE2を剥離する剥離工程を含んでいる。剥離工程としては、第1硬化型樹脂RE1を剥離する剥離工程と、第2硬化型樹脂RE2を剥離する剥離工程と、がある。   As described above, the manufacturing process of the display device DSP includes a peeling process for peeling the second curable resin RE2. The peeling step includes a peeling step for peeling the first curable resin RE1 and a peeling step for peeling the second curable resin RE2.

図4に示すように、続いて、台座部7の位置合わせを行った後に、台座部7を第1部分5aに接着層ADによって接着する。その後、パッドPDが、表示パネルPNLの下方に配置されるように、表示パネルPNLの折り曲げ領域BAが折り曲げられる。つまり、台座部7を基点として、配線基板1が台座部7の下方に配置されるように折り曲げ領域BAを折り曲げ、接着層A2によって配線基板1を台座部7に貼り付ける。
以上の製造工程により、表示装置DSPは完成する。
As shown in FIG. 4, subsequently, after positioning the pedestal portion 7, the pedestal portion 7 is bonded to the first portion 5a by the adhesive layer AD. Thereafter, the folding area BA of the display panel PNL is bent so that the pad PD is disposed below the display panel PNL. That is, with the pedestal portion 7 as a base point, the folding area BA is folded so that the wiring substrate 1 is disposed below the pedestal portion 7, and the wiring substrate 1 is attached to the pedestal portion 7 with the adhesive layer A2.
The display device DSP is completed by the above manufacturing process.

上記のように構成された一実施形態に係る表示装置DSPの製造方法によれば、製造工程において、間接材料を利用すること無しに、表示母基板DIを、偏光板POLで補強したり、樹脂基板5で補強したり、することができる。また、偏光板POLに第1開口OP1を形成した分は、第1硬化型樹脂RE1で補強することができる。樹脂基板5に第4開口OP4を形成した分は、第2硬化型樹脂RE2で補強することができる。
上記のことから、製造コストの高騰を抑制することのできる表示パネルPNLの製造方法及び表示装置DSPの製造方法を得ることができる。また、製造時間の長期化を抑制することのできる表示パネルPNLの製造方法及び表示装置DSPの製造方法を得ることができる。
According to the method of manufacturing the display device DSP according to the embodiment configured as described above, the display mother substrate DI is reinforced with the polarizing plate POL or the resin without using an indirect material in the manufacturing process. It can be reinforced with the substrate 5. Further, the first opening OP1 formed in the polarizing plate POL can be reinforced with the first curable resin RE1. The amount of the fourth opening OP4 formed in the resin substrate 5 can be reinforced with the second curable resin RE2.
From the above, it is possible to obtain a manufacturing method of the display panel PNL and a manufacturing method of the display device DSP that can suppress an increase in manufacturing cost. Moreover, the manufacturing method of the display panel PNL and the manufacturing method of the display device DSP which can suppress the prolongation of manufacturing time can be obtained.

(上記実施形態の変形例1)
次に、上記実施形態の変形例1について説明する。図16は、本変形例1に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、第1貼付領域Aa1及び第1非貼付領域Ab1の両方に第1硬化型樹脂RE1が塗布されている状態を示す断面図である。
(Modification 1 of the above embodiment)
Next, the modification 1 of the said embodiment is demonstrated. FIG. 16 is a diagram for explaining a method of manufacturing the display device DSP according to the first modification, in which the first curable resin RE1 is applied to both the first pasting area Aa1 and the first non-sticking area Ab1. It is sectional drawing which shows the state which exists.

図16に示すように、第1樹脂塗布工程において、第1硬化型樹脂RE1を、偏光板POLに全体的に塗布してもよい。第1硬化型樹脂RE1の単一層が複数の第1開口OP1に充填されるため、第1硬化型樹脂RE1の単一層で複数の第1非貼付領域Ab1を補強することができる。この場合、第1硬化型樹脂RE1の単一層は、複数の第2開口OP2及び複数の第3開口OP3に充填され得る。このため、第1硬化型樹脂RE1の単一層で、複数の第2開口OP2と対向した領域と、複数の第3開口OP3と対向した領域と、を補強することもできる。但し、第1硬化型樹脂RE1が第2開口OP2及び第3開口OP3に充填される場合、アライメントマークの視認性を維持するため、第1硬化型樹脂RE1の透明度に留意する必要がある。
第1硬化型樹脂RE1を偏光板POLに全体的に塗布する場合、第1硬化型樹脂RE1の単一層の表面は平坦でなくともよい。なお、第1硬化型樹脂RE1の単一層の表面は、第1硬化型樹脂RE1の単一層の偏光板POLと対向する側とは反対側の面である。
As shown in FIG. 16, in the first resin application step, the first curable resin RE1 may be entirely applied to the polarizing plate POL. Since the single layer of the first curable resin RE1 is filled in the plurality of first openings OP1, the plurality of first non-sticking regions Ab1 can be reinforced with the single layer of the first curable resin RE1. In this case, the single layer of the first curable resin RE1 can be filled into the plurality of second openings OP2 and the plurality of third openings OP3. For this reason, it is also possible to reinforce the region facing the plurality of second openings OP2 and the region facing the plurality of third openings OP3 with a single layer of the first curable resin RE1. However, when the first curable resin RE1 is filled in the second opening OP2 and the third opening OP3, it is necessary to pay attention to the transparency of the first curable resin RE1 in order to maintain the visibility of the alignment mark.
When the first curable resin RE1 is entirely applied to the polarizing plate POL, the surface of the single layer of the first curable resin RE1 may not be flat. The surface of the single layer of the first curable resin RE1 is the surface opposite to the side facing the polarizing plate POL of the single layer of the first curable resin RE1.

第1硬化型樹脂RE1を剥離する剥離工程では、第1硬化型樹脂RE1の単一層を偏光板POLから剥離すればよい。これにより、複数の第1非貼付領域Ab1などから、第1硬化型樹脂RE1を、一括して剥離することができる。本変形例1においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。   In the peeling step of peeling the first curable resin RE1, a single layer of the first curable resin RE1 may be peeled from the polarizing plate POL. Thereby, the 1st curable resin RE1 can be peeled off collectively from several 1st non-sticking area | region Ab1. Also in the first modification, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

(上記実施形態の変形例2)
次に、上記実施形態の変形例2について説明する。図17は、本変形例2に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、第2貼付領域Aa2及び第2非貼付領域Ab2の両方に第2硬化型樹脂RE2が塗布されている状態を示す断面図である。
(Modification 2 of the above embodiment)
Next, Modification 2 of the above embodiment will be described. FIG. 17 is a diagram for explaining a method of manufacturing the display device DSP according to the second modification, in which the second curable resin RE2 is applied to both the second pasting area Aa2 and the second non-sticking area Ab2. It is sectional drawing which shows the state which exists.

図17に示すように、第2樹脂塗布工程において、第2硬化型樹脂RE2を、樹脂基板5に全体的に塗布してもよい。第2硬化型樹脂RE2の単一層が複数の第4開口OP4に充填されるため、第2硬化型樹脂RE2の単一層で複数の第2非貼付領域Ab2を補強することができる。なお、表示母基板DIの裏面Sb側に関しては、上述したように第2硬化型樹脂RE2の透明度は第1硬化型樹脂RE1の透明度より低くともよい。
第2硬化型樹脂RE2を樹脂基板5に全体的に塗布する場合、第2硬化型樹脂RE2の単一層の表面は平坦である方が望ましい。第2硬化型樹脂RE2を設けた後の製造工程を、上記接合体に実施し易くなるためである。なお、第2硬化型樹脂RE2の単一層の表面は、第2硬化型樹脂RE2の単一層の樹脂基板5と対向する側とは反対側の面である。
As shown in FIG. 17, the second curable resin RE <b> 2 may be entirely applied to the resin substrate 5 in the second resin application step. Since the single layer of the second curable resin RE2 is filled in the plurality of fourth openings OP4, the plurality of second non-sticking regions Ab2 can be reinforced with the single layer of the second curable resin RE2. As described above, the transparency of the second curable resin RE2 may be lower than the transparency of the first curable resin RE1 on the back surface Sb side of the display mother board DI.
When the second curable resin RE2 is applied to the resin substrate 5 as a whole, the surface of the single layer of the second curable resin RE2 is preferably flat. This is because the manufacturing process after providing the second curable resin RE2 can be easily performed on the joined body. The surface of the single layer of the second curable resin RE2 is the surface opposite to the side facing the single layer resin substrate 5 of the second curable resin RE2.

第2硬化型樹脂RE2を剥離する剥離工程では、第2硬化型樹脂RE2の単一層を樹脂基板5から剥離すればよい。これにより、複数の第2非貼付領域Ab2などから、第2硬化型樹脂RE2を、一括して剥離することができる。本変形例2においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。また、第2硬化型樹脂RE2が不所望に剥がれる事態を回避する観点からも、本変形例2のように第2硬化型樹脂RE2を塗布してもよい。   In the peeling step of peeling the second curable resin RE2, a single layer of the second curable resin RE2 may be peeled from the resin substrate 5. Thereby, the second curable resin RE2 can be peeled off collectively from the plurality of second non-sticking areas Ab2. Also in the second modification, the same effect as in the above embodiment can be obtained. Also, from the viewpoint of avoiding the situation where the second curable resin RE2 is undesirably peeled off, the second curable resin RE2 may be applied as in the second modification.

(上記実施形態の変形例3)
次に、上記実施形態の変形例3について説明する。図示しないが、本変形例3では、上記変形例1(図16)に示したように第1硬化型樹脂RE1を塗布し、上記変形例2(図17)に示したように第2硬化型樹脂RE2を塗布してもよい。
(Modification 3 of the above embodiment)
Next, Modification 3 of the above embodiment will be described. Although not shown, in the third modification, the first curable resin RE1 is applied as shown in the first modification (FIG. 16), and the second curable resin is used as shown in the second modification (FIG. 17). Resin RE2 may be applied.

(上記実施形態の変形例4)
次に、上記実施形態の変形例4について説明する。図18は、本変形例4に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、偏光板POLを示す斜視図である。
図18に示すように、偏光板POLを準備する準備工程において、偏光板POLは、シートSHに貼り付けられ、短冊状に分割して形成されていてもよい。偏光板POLには、上述した第1開口OP1などの替わりに、第1方向Xに延びた複数のスリットSLが形成されている。
(Modification 4 of the above embodiment)
Next, Modification 4 of the above embodiment will be described. FIG. 18 is a diagram for explaining the method for manufacturing the display device DSP according to the fourth modification, and is a perspective view showing the polarizing plate POL.
As shown in FIG. 18, in the preparatory process for preparing the polarizing plate POL, the polarizing plate POL may be attached to the sheet SH and divided into strips. In the polarizing plate POL, a plurality of slits SL extending in the first direction X are formed instead of the first opening OP1 described above.

第1方向Xに並ぶ複数の有効領域Caにおいて、第1非貼付領域Ab1は第1方向Xに揃っている。このため、表示母基板DIのうち、第1方向Xに並ぶ複数の第1非貼付領域Ab1と複数の第2アライメントマークM2とに、偏光板POLのスリットSLを対向させることができる。第1硬化型樹脂RE1を塗布する際は、スリットSLのうち、少なくとも第1非貼付領域Ab1に塗布すればよい。第1硬化型樹脂RE1の透明度次第では、第1硬化型樹脂RE1をスリットSLの全体に塗布してもよい。この場合、第1硬化型樹脂RE1は、第2アライメントマークM2と対向する領域にも塗布される。   In the plurality of effective areas Ca arranged in the first direction X, the first non-stick area Ab1 is aligned in the first direction X. Therefore, the slit SL of the polarizing plate POL can be opposed to the plurality of first non-sticking regions Ab1 and the plurality of second alignment marks M2 arranged in the first direction X in the display mother board DI. When the first curable resin RE1 is applied, it may be applied to at least the first non-stick area Ab1 in the slit SL. Depending on the transparency of the first curable resin RE1, the first curable resin RE1 may be applied to the entire slit SL. In this case, the first curable resin RE1 is also applied to a region facing the second alignment mark M2.

上記のようなシートSHを利用する場合、シートSHと偏光板POLとの接着力は、表示母基板DIと偏光板POLとの接着力より低く設定される。本変形例4においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。   When the sheet SH as described above is used, the adhesive force between the sheet SH and the polarizing plate POL is set lower than the adhesive force between the display mother substrate DI and the polarizing plate POL. Also in the fourth modification, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

(上記実施形態の変形例5)
次に、上記実施形態の変形例5について説明する。図示しないが、樹脂基板5を準備する準備工程において、樹脂基板5は、シートに貼り付けられ、短冊状に分割して形成されている。樹脂基板5には、上述した第4開口OP4の替わりに、第1方向Xに延びた複数のスリットが形成されている。このため、表示母基板DIのうち、第1方向Xに並ぶ複数の第2非貼付領域Ab2に、樹脂基板5のスリットを対向させることができる。第2硬化型樹脂RE2を塗布する際は、スリットの全体に第2硬化型樹脂RE2を塗布することができる。
(Modification 5 of the above embodiment)
Next, Modification 5 of the above embodiment will be described. Although not shown, in the preparation step for preparing the resin substrate 5, the resin substrate 5 is bonded to a sheet and is divided into strips. In the resin substrate 5, a plurality of slits extending in the first direction X are formed instead of the above-described fourth opening OP4. For this reason, the slit of the resin substrate 5 can be made to oppose the some 2nd non-sticking area | region Ab2 arranged in the 1st direction X among the display mother boards DI. When applying the second curable resin RE2, the second curable resin RE2 can be applied to the entire slit.

(上記実施形態の変形例6)
次に、上記実施形態の変形例6について説明する。図19は、本変形例6に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、偏光板POLを示す斜視図である。
図19に示すように、偏光板POLを準備する準備工程において、上記変形例4のように、偏光板POLは、シートSHに貼り付けられ、短冊状に分割して形成されている。本変形例6において、第1方向Xに並ぶ有効領域Caは互いに接している。このように、有効領域Caが互いに接している場合、偏光板POLにスリットSLを形成する手法は有効である。
(Modification 6 of the above embodiment)
Next, Modification 6 of the above embodiment will be described. FIG. 19 is a view for explaining the method for manufacturing the display device DSP according to the sixth modification, and is a perspective view showing the polarizing plate POL.
As shown in FIG. 19, in the preparatory process for preparing the polarizing plate POL, as in the above-described modification example 4, the polarizing plate POL is attached to the sheet SH and formed into strips. In the sixth modification, the effective areas Ca arranged in the first direction X are in contact with each other. As described above, when the effective areas Ca are in contact with each other, the method of forming the slit SL in the polarizing plate POL is effective.

また、第2分断予定線e2に沿って表示母基板DIなどが分断されることで、有効領域Caの長辺を得ることができる。このため、変形例6では、上述した実施形態と異なり、第4分断予定線e4及び第5分断予定線e5を設定して表示母基板DIなどを分断しなくともよい。本変形例6においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。   Moreover, the long side of the effective area | region Ca can be obtained by parting the display mother board DI etc. along the 2nd parting plan line e2. For this reason, in the modified example 6, unlike the above-described embodiment, it is not necessary to set the fourth dividing planned line e4 and the fifth dividing planned line e5 to divide the display mother board DI and the like. Also in the sixth modification, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

(上記実施形態の変形例7)
次に、上記実施形態の変形例7について説明する。図示しないが、樹脂基板5を準備する準備工程において、樹脂基板5は、シートに貼り付けられ、短冊状に分割して形成されている。樹脂基板5には、上述した第4開口OP4の替わりに、第1方向Xに延びた複数のスリットが形成されている。本変形例7において、第1方向Xに並ぶ有効領域Caは互いに接している。このように、有効領域Caが互いに接している場合、樹脂基板5にスリットを形成する手法は有効である。
(Modification 7 of the above embodiment)
Next, Modification 7 of the above embodiment will be described. Although not shown, in the preparation step for preparing the resin substrate 5, the resin substrate 5 is bonded to a sheet and is divided into strips. In the resin substrate 5, a plurality of slits extending in the first direction X are formed instead of the above-described fourth opening OP4. In the seventh modification, the effective areas Ca arranged in the first direction X are in contact with each other. As described above, when the effective areas Ca are in contact with each other, a method of forming a slit in the resin substrate 5 is effective.

(上記実施形態の変形例8)
次に、上記実施形態の変形例8について説明する。まず、本変形例8に係る表示装置DSPの構成について説明する。図20は、本変形例8に係る表示装置DSPを示す断面図であり、非表示領域NDAなどを示す図である。
(Modification 8 of the above embodiment)
Next, Modification 8 of the above embodiment will be described. First, the configuration of the display device DSP according to Modification 8 will be described. FIG. 20 is a cross-sectional view showing a display device DSP according to the modification 8 and shows a non-display area NDA and the like.

図20に示すように、本変形例8の表示装置DSPは、上述した実施形態とは異なり、封止層41と偏光板POLとの間に設けられた樹脂基板30をさらに備えている。本変形例8では、偏光板POLではなく樹脂基板30が第1樹脂基板として機能する。樹脂基板30は、封止層41に接着層AD6によって接着されている。偏光板POLは、樹脂基板30に接着層AD5によって接着されている。   As shown in FIG. 20, the display device DSP of the present modification 8 further includes a resin substrate 30 provided between the sealing layer 41 and the polarizing plate POL, unlike the above-described embodiment. In the present modification 8, not the polarizing plate POL but the resin substrate 30 functions as the first resin substrate. The resin substrate 30 is bonded to the sealing layer 41 with an adhesive layer AD6. The polarizing plate POL is bonded to the resin substrate 30 with an adhesive layer AD5.

次に、本変形例8に係る表示装置DSPの製造方法について説明する。ここでは、上述した実施形態の表示装置DSPの製造方法(図6乃至図15)と対比しながら説明する。
本変形例8に係る表示装置DSPの製造工程は、樹脂基板30を準備する準備工程を含んでいる。図21は、本変形例8に係る表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、樹脂基板30を示す斜視図である。
Next, a method for manufacturing the display device DSP according to Modification 8 will be described. Here, it demonstrates, contrasting with the manufacturing method (FIG. 6 thru | or FIG. 15) of the display apparatus DSP of embodiment mentioned above.
The manufacturing process of the display device DSP according to Modification 8 includes a preparation process for preparing the resin substrate 30. FIG. 21 is a view for explaining the method for manufacturing the display device DSP according to the present modification 8, and is a perspective view showing the resin substrate 30.

図21に示すように、樹脂基板30は、上記第1貼付領域Aa1に貼り付けられ、複数の第1非貼付領域Ab1に貼り付けられない形状を有している。本変形例8において、樹脂基板30は、複数の第1開口OP1と、複数の第2開口OP2と、複数の第3開口OP3と、を有している。
但し、本変形例8と異なり、樹脂基板30は、第2開口OP2及び第3開口OP3を有していなくともよい。樹脂基板30は、透明度が高く、偏光板POLよりアライメントマーク(M1,M2)の視認が容易になるためである。
As shown in FIG. 21, the resin substrate 30 has a shape that is attached to the first pasting area Aa1 and cannot be pasted to the plurality of first non-sticking areas Ab1. In the present modification 8, the resin substrate 30 has a plurality of first openings OP1, a plurality of second openings OP2, and a plurality of third openings OP3.
However, unlike the present modification 8, the resin substrate 30 may not have the second opening OP2 and the third opening OP3. This is because the resin substrate 30 has high transparency, and the alignment marks (M1, M2) can be easily viewed from the polarizing plate POL.

上述した実施形態では、図10に示したように、接着層AD5を利用して偏光板POLを表示母基板DIに貼り付けている。しかしながら、本変形例8では、上述した実施形態と異なり、接着層AD6を利用して樹脂基板30を表示母基板DIに貼り付ける。本変形例8では、以降、上述した実施形態と同様に製造を行い、第1硬化型樹脂RE1を剥離する工程と、プロービングによる点灯検査と、まで行う。   In the embodiment described above, as shown in FIG. 10, the polarizing plate POL is bonded to the display mother board DI using the adhesive layer AD5. However, in the present modification 8, unlike the above-described embodiment, the resin substrate 30 is attached to the display mother board DI using the adhesive layer AD6. In the present modification 8, after that, manufacturing is performed in the same manner as in the above-described embodiment, and the process of peeling the first curable resin RE1 and the lighting inspection by probing are performed.

続いて、接着層AD5を利用して偏光板POLを樹脂基板30に貼り付ける。
その後、表示パネルPNLに配線基板1を実装し、以降、上述した実施形態と同様に製造を行い、表示装置DSPを完成させる。本変形例8においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
Subsequently, the polarizing plate POL is attached to the resin substrate 30 using the adhesive layer AD5.
Thereafter, the wiring board 1 is mounted on the display panel PNL, and thereafter, manufacturing is performed in the same manner as in the above-described embodiment to complete the display device DSP. Also in this modification 8, the effect similar to the said embodiment can be acquired.

本発明の実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上記の新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。上記実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   Although the embodiment of the present invention has been described, the above embodiment is presented as an example, and is not intended to limit the scope of the invention. The above-described novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. The above-described embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and equivalents thereof.

上述した表示パネルの製造方法及び表示装置の製造方法は、有機EL表示パネルの製造方法及び有機EL表示装置の製造方法に限定されるものではない。例えば、上述した製造方法は、電気光学素子として液晶素子を有する液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法に適用することも可能である。その場合、表示パネルPNLは、液晶表示パネルであり、例えば、第1基板SUB1と、第2基板と、第1基板と第2基板との間に挟持された液晶層と、を備えている。また、電気光学素子は無機EL素子であっても良い。   The display panel manufacturing method and the display device manufacturing method described above are not limited to the organic EL display panel manufacturing method and the organic EL display device manufacturing method. For example, the above-described manufacturing method can be applied to a manufacturing method of a liquid crystal display panel having a liquid crystal element as an electro-optical element and a manufacturing method of a liquid crystal display device. In that case, the display panel PNL is a liquid crystal display panel, and includes, for example, a first substrate SUB1, a second substrate, and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate. The electro-optical element may be an inorganic EL element.

表示パネルPNLは、第2基板側から入射する光を選択的に反射することで画像を表示する反射型の液晶表示パネルであってもよい。又は、表示パネルPNLは、第1基板SUB1側から入射する光を選択的に透過することで画像を表示する透過型の液晶表示パネルであってもよい。なお、平面視で、表示領域DAと配線基板1とが重なる場合には、反射型が好適であるが、第1基板SUB1と配線基板1との間にバックライトユニットを配置することが可能であれば、透過型であってもよい。なお、本発明の実施形態に関する主要な構成については、表示装置DSPが液晶表示装置であった場合にも略同一である。   The display panel PNL may be a reflective liquid crystal display panel that displays an image by selectively reflecting light incident from the second substrate side. Alternatively, the display panel PNL may be a transmissive liquid crystal display panel that displays an image by selectively transmitting light incident from the first substrate SUB1 side. When the display area DA and the wiring board 1 overlap in plan view, a reflective type is suitable, but a backlight unit can be disposed between the first board SUB1 and the wiring board 1. If it exists, it may be a transmission type. The main configuration relating to the embodiment of the present invention is substantially the same even when the display device DSP is a liquid crystal display device.

DSP…表示装置、PNL…表示パネル、POL…偏光板、1,2…配線基板、
GL…基板、DI…表示母基板、10…第1絶縁基板、PT1…第1パターン層、
41…封止層、5…樹脂基板、30…樹脂基板、Sf…表面、Sb…裏面、
AD2,AD5,AD6…接着層、M1,M2…アライメントマーク、
RE1…第1硬化型樹脂、RE2…第2硬化型樹脂、S1,S2…側面、
OP1,OP2,OP3,OP4…開口、Ca…有効領域、Cb…非有効領域、
DA…表示領域、BA…折り曲げ領域、MT…パッド領域、
Aa1…第1貼付領域、Ab1…第1非貼付領域、
Aa2…第2貼付領域、Ab2…第2非貼付領域、
e1,e2,e3,e4,e5…分断予定線、X…第1方向、Y…第2方向。
DSP ... display device, PNL ... display panel, POL ... polarizing plate, 1,2 ... wiring board,
GL ... substrate, DI ... display mother substrate, 10 ... first insulating substrate, PT1 ... first pattern layer,
41 ... sealing layer, 5 ... resin substrate, 30 ... resin substrate, Sf ... front surface, Sb ... back surface,
AD2, AD5, AD6 ... adhesive layer, M1, M2 ... alignment mark,
RE1: first curable resin, RE2: second curable resin, S1, S2: side surfaces,
OP1, OP2, OP3, OP4 ... opening, Ca ... effective region, Cb ... non-effective region,
DA ... display area, BA ... bent area, MT ... pad area,
Aa1 ... first pasting area, Ab1 ... first non-pasting area,
Aa2 ... second pasting area, Ab2 ... second non-sticking area,
e1, e2, e3, e4, e5... planned dividing line, X ... first direction, Y ... second direction.

Claims (10)

表示領域とパッド領域とを有する表示母基板を準備する準備工程と、
前記表示領域に第1樹脂基板を貼り付ける第1貼付工程と、
前記パッド領域を含む領域であって前記第1樹脂基板が貼り付けられていない第1非貼付領域に、第1硬化型樹脂を塗布する第1樹脂塗布工程と、
前記第1硬化型樹脂を硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程の後に、前記表示母基板を搬送する搬送工程と、
前記搬送工程の後に、前記第1硬化型樹脂を前記第1非貼付領域から剥離する剥離工程と、
前記搬送工程の後に、前記表示母基板を複数の表示パネルに切断する切断工程と、を備えた表示パネルの製造方法。
Preparing a display mother board having a display area and a pad area;
A first attaching step of attaching a first resin substrate to the display area;
A first resin application step of applying a first curable resin to a first non-adhesion region that includes the pad region and is not attached to the first resin substrate;
A curing step of curing the first curable resin;
After the curing step, a transport step for transporting the display mother board;
After the transporting step, a peeling step of peeling the first curable resin from the first non-sticking area;
A cutting process for cutting the display mother substrate into a plurality of display panels after the transporting process.
前記第1樹脂塗布工程は、前記第1非貼付領域及び前記第1樹脂基板上に前記第1硬化型樹脂を塗布する工程である、請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   2. The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the first resin application step is a step of applying the first curable resin onto the first non-stick region and the first resin substrate. 前記剥離工程の際に、前記第1硬化型樹脂の層は側面が露出している、請求項2に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 2, wherein a side surface of the first curable resin layer is exposed during the peeling step. 前記第1樹脂基板は偏光板である、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the first resin substrate is a polarizing plate. 前記表示領域に第2樹脂基板を貼り付ける第2貼付工程と、
前記第1非貼付領域と対向する領域であって前記第2樹脂基板が貼り付けられていない第2非貼付領域に、第2硬化型樹脂を塗布する第2樹脂塗布工程と、をさらに備え、
前記硬化工程は、前記第2硬化型樹脂を硬化させる工程を含み、
前記剥離工程は、前記第2硬化型樹脂を前記第2非貼付領域から剥離する工程を含み、
前記表示母基板は表面と裏面とを有し、
前記第1樹脂基板は前記表面側に貼り付けられており、前記第2樹脂基板は前記裏面側に貼り付けられている、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
A second attaching step of attaching a second resin substrate to the display area;
A second resin application step of applying a second curable resin to a second non-adhesion region that is opposite to the first non-adhesion region and to which the second resin substrate is not attached;
The curing step includes a step of curing the second curable resin,
The peeling step includes a step of peeling the second curable resin from the second non-sticking region,
The display mother board has a front surface and a back surface,
The display panel manufacturing method according to claim 1, wherein the first resin substrate is attached to the front surface side, and the second resin substrate is attached to the back surface side. .
前記第1樹脂塗布工程は、前記第1非貼付領域のみに前記第1硬化型樹脂を塗布する工程であり、
前記第2樹脂塗布工程は、前記第2非貼付領域及び前記第2樹脂基板上に前記第2硬化型樹脂を塗布する工程であり、
平面視において、前記第2非貼付領域は、前記第2樹脂基板によって囲まれており、
前記剥離工程の際に、前記第1硬化型樹脂の層は側面が露出している、請求項5に記載の表示パネルの製造方法。
The first resin application step is a step of applying the first curable resin only to the first non-stick area.
The second resin application step is a step of applying the second curable resin on the second non-stick region and the second resin substrate,
In plan view, the second non-stick region is surrounded by the second resin substrate,
The display panel manufacturing method according to claim 5, wherein a side surface of the layer of the first curable resin is exposed during the peeling step.
前記第2硬化型樹脂の前記表示母基板に対する密着力は、前記第1硬化型樹脂の前記表示母基板に対する密着力よりも高い、請求項5又は6に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 5, wherein an adhesion force of the second curable resin to the display mother substrate is higher than an adhesion force of the first curable resin to the display mother substrate. 前記第1硬化型樹脂のヤング率は0.4GPa乃至4GPaである、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。   The display panel manufacturing method according to claim 1, wherein a Young's modulus of the first curable resin is 0.4 GPa to 4 GPa. 前記表示母基板にはアライメントマークがあり、
前記第1樹脂塗布工程の際に、前記アライメントマークと対向する領域に前記第1硬化型樹脂を塗布しない、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
The display mother board has an alignment mark,
9. The method of manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the first curable resin is not applied to a region facing the alignment mark during the first resin application step. 10.
前記表示母基板にはアライメントマークがあり、
前記第1貼付工程の際に、前記第1樹脂基板を、前記アライメントマークと対向する領域に貼り付けない、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
The display mother board has an alignment mark,
The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the first resin substrate is not attached to a region facing the alignment mark in the first attaching step.
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