JP2018105977A - Display - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display that can improve display quality.SOLUTION: A display comprises: an insulating substrate; a support base material; and a protective member. The insulating substrate has a first lower surface and a first upper surface. The support base material has a second lower surface and a second upper surface. The first lower surface is opposed to the second upper surface. The protective member is opposed to the first upper surface. In this case, the second upper surface is smaller than the first upper surface, the first upper surface is smaller than the protective member.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明の実施形態は、表示装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to a display device.

表示装置は、表示パネルと、表示パネルを保護するカバーガラスと、を備えている。表示パネルは、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子や液晶層等の光学素子が形成されたシート状の基板を備えている。   The display device includes a display panel and a cover glass that protects the display panel. The display panel includes a sheet-like substrate on which optical elements such as an organic electroluminescence (EL) element and a liquid crystal layer are formed.

表示装置の製造工程では、生産性を向上するために、同一基板上に複数のセル基板を同時に形成し、レーザー光や回転歯によって単個のセルにカットする技術が知られている(例えば、特許文献1乃至3参照)。個片化された基板の端面は、当該基板の表示面側の第1上面と鈍角をなし、背面側の第2下面と鋭角をなしている。   In the manufacturing process of a display device, in order to improve productivity, a technique is known in which a plurality of cell substrates are simultaneously formed on the same substrate and cut into a single cell by laser light or rotating teeth (for example, (See Patent Documents 1 to 3). The separated end face of the substrate forms an obtuse angle with the first upper surface on the display surface side of the substrate, and forms an acute angle with the second lower surface on the back surface side.

そのような基板にカバーガラスを貼り合せると、カバーガラスの裏面と基板の端面との間に楔状の隙間ができるため、当該隙間を起点にして気泡が浸入し易く、また接着面積も小さくなる。とりわけ、画像を表示する表示領域が湾曲している表示装置の場合、カバーガラスの曲面に沿って湾曲している基板の復元力により、接着面積が小さいと、カバーガラスから剥がれてしまうおそれがある。   When a cover glass is bonded to such a substrate, a wedge-shaped gap is formed between the back surface of the cover glass and the end surface of the substrate, so that bubbles can easily enter from the gap and the bonding area is reduced. In particular, in the case of a display device in which a display area for displaying an image is curved, if the bonding area is small due to the restoring force of the substrate that is curved along the curved surface of the cover glass, the cover glass may be peeled off. .

特開2016−143594号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-143594 特開2016−11994号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-11994 特開2015−103467号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-103467

本開示の目的は、表示品位の向上を可能にする表示装置を提供することである。   An object of the present disclosure is to provide a display device capable of improving display quality.

一実施形態に係る表示装置は、支持基材と、絶縁基板と、保護部材と、を有している。支持基材は、第1下面及び第1上面を有している。絶縁基板は、第2下面及び第2上面を有している。第2下面は、第1上面と対向している。保護部材は、第2上面と対向している。このとき、第1上面は、第2上面よりも小さい。絶縁基板は、保護部材よりも小さい。   A display device according to an embodiment includes a support base, an insulating substrate, and a protection member. The support base has a first lower surface and a first upper surface. The insulating substrate has a second lower surface and a second upper surface. The second lower surface faces the first upper surface. The protection member is opposed to the second upper surface. At this time, the first upper surface is smaller than the second upper surface. The insulating substrate is smaller than the protective member.

図1は、表示装置の概略的な構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of the display device. 図2は、表示領域における表示パネルの概略的な構成を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the display panel in the display area. 図3は、図1中のF3−F3線に沿う表示装置の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the display device taken along line F3-F3 in FIG. 図4は、表示パネルの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the display panel. 図5は、図1中のF4−F4線に沿う表示装置の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the display device taken along line F4-F4 in FIG. 図6は、保護部材に接着される前の表示パネルの平面図である。FIG. 6 is a plan view of the display panel before being bonded to the protective member. 図7は、アレイ基板の端面の一例を拡大して示す断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the end surface of the array substrate. 図8は、アレイ基板の端面の他の一例を拡大して示す断面図である。FIG. 8 is an enlarged sectional view showing another example of the end surface of the array substrate. 図9は、表示装置の製造方法の一例を示すフロー図である。FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing a display device. 図10は、図5との対比のために示す比較例の表示装置の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a display device of a comparative example shown for comparison with FIG. 図11は、図7及び図8との対比のために示す比較例に係るアレイ基板の端面の一例を拡大して示す断面図である。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the end surface of the array substrate according to the comparative example shown for comparison with FIGS. 7 and 8.

いくつかの実施形態について、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者が発明の主旨を保って適宜変更について容易に想到し得るものは、当然に本発明の範囲に含まれる。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素について符号を省略することがある。また、本明細書及び各図において、既に説明した図と同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
Several embodiments will be described with reference to the drawings.
It should be noted that the disclosure is merely an example, and those that can be easily conceived by a person skilled in the art while keeping the gist of the invention and appropriately coming into consideration are naturally included in the scope of the present invention. In addition, the drawings may be schematically represented in comparison with actual modes in order to clarify the description, but are merely examples, and do not limit the interpretation of the present invention. In each figure, reference numerals may be omitted for the same or similar elements arranged in succession. In addition, in the present specification and each drawing, components that perform the same or similar functions as those already described are denoted by the same reference numerals, and redundant detailed description may be omitted.

各実施形態において、表示装置の一例として有機EL表示装置である表示装置DSPを開示する。表示装置DSPは、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器、ウェアラブル端末等の種々の装置に用いることができる。   In each embodiment, a display device DSP that is an organic EL display device is disclosed as an example of a display device. The display device DSP can be used for various devices such as a smartphone, a tablet terminal, a mobile phone terminal, a personal computer, a television receiver, an in-vehicle device, a game machine, and a wearable terminal.

図1は、表示装置DSPの概略的な構成を示す平面図である。図1は、第1方向Xと、第1方向Xに垂直な第2方向Yとで規定されるX−Y平面を示している。また、第3方向Zは、第1方向X及び第2方向Yに垂直な方向である。図示した例では、第1方向X、第2方向Y及び第3方向Zは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していてもよい。   FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of the display device DSP. FIG. 1 shows an XY plane defined by a first direction X and a second direction Y perpendicular to the first direction X. The third direction Z is a direction perpendicular to the first direction X and the second direction Y. In the illustrated example, the first direction X, the second direction Y, and the third direction Z are orthogonal to each other, but may intersect at an angle other than 90 degrees.

図1に示すように、表示装置DSPは、表示パネルPNLと、第1配線基板1と、第2配線基板2と、保護部材4と、を備えている。図示しないが、表示パネルは、表示パネルPNLに重ねられたタッチパネル等をさらに備えてもよい。   As shown in FIG. 1, the display device DSP includes a display panel PNL, a first wiring board 1, a second wiring board 2, and a protection member 4. Although not shown, the display panel may further include a touch panel or the like superimposed on the display panel PNL.

表示パネルPNLは、第1方向Xに沿った一対の端部E1及びE2と、第2方向Yに沿った一対の端部E3及びE4と、を有している。表示パネルPNLは、画像を表示する表示領域DAと、表示領域DAを囲む非表示領域NDAと、を有している。
表示パネルPNLは、表示領域DAにおいて、第1方向X及び第2方向Yにマトリクス状に配列された複数の画素PXを有している。画素PXは、カラー画像を構成する最小単位であり、後述する有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3を含んでいる。
The display panel PNL has a pair of end portions E1 and E2 along the first direction X and a pair of end portions E3 and E4 along the second direction Y. The display panel PNL includes a display area DA that displays an image and a non-display area NDA that surrounds the display area DA.
The display panel PNL includes a plurality of pixels PX arranged in a matrix in the first direction X and the second direction Y in the display area DA. The pixel PX is a minimum unit constituting a color image, and includes organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3 described later.

第1配線基板1は、例えばフレキシブル配線基板であり、画像データに基づいて表示パネルPNLに信号を供給する外部の信号供給源と電気的に接続されている。
第2配線基板2は、非表示領域NDAに実装され、表示パネルPNLと第1配線基板1とを電気的に接続している。第2配線基板2は、例えば表示パネルPNLを駆動する駆動ICチップ3を搭載している。なお、駆動ICチップ3は、表示パネルPNLや第1配線基板1に実装してもよい。駆動ICチップ3及び信号供給源は、それぞれ表示パネルPNLを駆動する駆動部品の一例である。
The first wiring board 1 is a flexible wiring board, for example, and is electrically connected to an external signal supply source that supplies a signal to the display panel PNL based on image data.
The second wiring board 2 is mounted in the non-display area NDA and electrically connects the display panel PNL and the first wiring board 1. The second wiring board 2 is mounted with a driving IC chip 3 that drives the display panel PNL, for example. The drive IC chip 3 may be mounted on the display panel PNL or the first wiring board 1. The drive IC chip 3 and the signal supply source are examples of drive components that drive the display panel PNL.

保護部材4は、X−Y平面において、表示パネルPNLと重なっている。第1方向Xにおいて、保護部材4の長さLX1は、表示パネルの長さLX2よりも長い。第2方向Yにおいて、保護部材4の長さLY1は、表示パネルPNLの長さLY2と略同一である。   The protection member 4 overlaps the display panel PNL in the XY plane. In the first direction X, the length LX1 of the protection member 4 is longer than the length LX2 of the display panel. In the second direction Y, the length LY1 of the protection member 4 is substantially the same as the length LY2 of the display panel PNL.

図2は、表示領域DAにおける表示パネルPNLの概略的な構成を示す断面図である。保護部材4及び支持基材6は、第3方向Zにおいて対向している。以下、支持基材6から見て保護部材4を上側Z1と定義し、保護部材4から見て支持基材6を下側Z2と定義する。
図2に示すように、表示パネルPNLは、絶縁基板10、スイッチング素子SW1,SW2,SW3、反射層31、有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3、封止材40、支持基材6等を備えている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the display panel PNL in the display area DA. The protection member 4 and the support base 6 are opposed in the third direction Z. Hereinafter, the protection member 4 is defined as the upper side Z1 when viewed from the support base material 6, and the support base material 6 is defined as the lower side Z2 when viewed from the protection member 4.
As shown in FIG. 2, the display panel PNL includes an insulating substrate 10, switching elements SW1, SW2, and SW3, a reflective layer 31, organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3, a sealing material 40, a support base 6, and the like. Yes.

絶縁基板10は、例えばポリイミド樹脂から形成され、第1上面10Aと、第1上面10Aとは反対側の第1下面10Bと、を有している。絶縁基板10の第1上面10Aは、第1絶縁膜21によって覆われている。   The insulating substrate 10 is made of, for example, a polyimide resin, and has a first upper surface 10A and a first lower surface 10B opposite to the first upper surface 10A. The first upper surface 10 </ b> A of the insulating substrate 10 is covered with the first insulating film 21.

スイッチング素子SW1,SW2,SW3は、第1絶縁膜21の上に形成されている。図示した例では、スイッチング素子SW1,SW2,SW3はトップゲート型の薄膜トランジスタとして構成されているが、ボトムゲート型の薄膜トランジスタとして構成されてもよい。スイッチング素子SW1,SW2,SW3は、同一構成であるため、以下、スイッチング素子SW1に着目してその構造をより詳細に説明する。スイッチング素子SW1は、第1絶縁膜21の上に形成された半導体層SCを備えている。半導体層SCは、第2絶縁膜22によって覆われている。また、第2絶縁膜22は、第1絶縁膜21の上にも配置されている。   The switching elements SW1, SW2, SW3 are formed on the first insulating film 21. In the illustrated example, the switching elements SW1, SW2, and SW3 are configured as top-gate thin film transistors, but may be configured as bottom-gate thin film transistors. Since the switching elements SW1, SW2, and SW3 have the same configuration, the structure thereof will be described in detail below with a focus on the switching element SW1. The switching element SW1 includes a semiconductor layer SC formed on the first insulating film 21. The semiconductor layer SC is covered with the second insulating film 22. The second insulating film 22 is also disposed on the first insulating film 21.

スイッチング素子SW1のゲート電極WGは、半導体層SCと対向する第2絶縁膜22の上に形成されている。ゲート電極WGは、第3絶縁膜23によって覆われている。また、第3絶縁膜23は、第2絶縁膜22の上にも配置されている。第1乃至第3絶縁膜21,22,23は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物等の無機系材料で形成されている。   The gate electrode WG of the switching element SW1 is formed on the second insulating film 22 facing the semiconductor layer SC. The gate electrode WG is covered with the third insulating film 23. The third insulating film 23 is also disposed on the second insulating film 22. The first to third insulating films 21, 22, and 23 are made of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, for example.

スイッチング素子SW1のソース電極WS及びドレイン電極WDは、第3絶縁膜23の上に形成されている。ソース電極WS及びドレイン電極WDは、それぞれ第2及び第3絶縁膜22,23を貫通するコンタクトホールを通じて半導体層SCと電気的に接続されている。スイッチング素子SW1は、第4絶縁膜24によって覆われている。第4絶縁膜24は、第3絶縁膜23の上にも配置されている。第4絶縁膜24は、例えば、アクリル系有機膜やポリイミド系有機膜等の透明な樹脂等の有機系材料によって形成されている。   The source electrode WS and the drain electrode WD of the switching element SW1 are formed on the third insulating film 23. The source electrode WS and the drain electrode WD are electrically connected to the semiconductor layer SC through contact holes that penetrate the second and third insulating films 22 and 23, respectively. The switching element SW1 is covered with a fourth insulating film 24. The fourth insulating film 24 is also disposed on the third insulating film 23. The fourth insulating film 24 is formed of an organic material such as a transparent resin such as an acrylic organic film or a polyimide organic film.

反射層31は、第4絶縁膜24の上に形成されている。反射層31は、例えば、アルミニウムや銀等の光反射率の高い金属材料で形成されている。なお、反射層31の表面は、平坦面であってもよいし、光散乱性を付与するために凹凸面であってもよい。   The reflective layer 31 is formed on the fourth insulating film 24. The reflection layer 31 is made of a metal material having a high light reflectance such as aluminum or silver. The surface of the reflective layer 31 may be a flat surface or an uneven surface in order to impart light scattering properties.

有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3は、第4絶縁膜24の上に形成され、例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の光をそれぞれ放射する。有機EL素子OLED1は、画素電極PE1と、有機発光層ORG1と、を含んでいる。同様に、有機EL素子OLED2は、画素電極PE2と、有機発光層ORG2と、を含んでいる。有機EL素子OLED3は、画素電極PE3と、有機発光層ORG3と、を含んでいる。一例では、有機発光層ORG1は赤色波長の光を放射する材料によって形成され、有機発光層ORG2は緑色波長の光を放射する材料によって形成され、有機発光層ORG3は青色波長の光を放射する材料によって形成されている。図示した例では、有機EL素子OLED1乃至OLED3は、それぞれリブ32によって区画されている。   The organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3 are formed on the fourth insulating film 24 and emit, for example, red (R), green (G), and blue (B) light, respectively. The organic EL element OLED1 includes a pixel electrode PE1 and an organic light emitting layer ORG1. Similarly, the organic EL element OLED2 includes a pixel electrode PE2 and an organic light emitting layer ORG2. The organic EL element OLED3 includes a pixel electrode PE3 and an organic light emitting layer ORG3. In one example, the organic light emitting layer ORG1 is formed of a material that emits light of red wavelength, the organic light emitting layer ORG2 is formed of a material of emitting light of green wavelength, and the organic light emitting layer ORG3 is a material that emits light of blue wavelength. Is formed by. In the illustrated example, the organic EL elements OLED1 to OLED3 are partitioned by ribs 32, respectively.

画素電極PE1,PE2,PE3は、反射層31の上に形成されている。有機EL素子OLED1は、スイッチング素子SW1と電気的に接続されている。同様に、有機EL素子OLED2は、スイッチング素子SW2と電気的に接続されている。有機EL素子OLED3は、スイッチング素子SW3と電気的に接続されている。   The pixel electrodes PE1, PE2, and PE3 are formed on the reflective layer 31. The organic EL element OLED1 is electrically connected to the switching element SW1. Similarly, the organic EL element OLED2 is electrically connected to the switching element SW2. The organic EL element OLED3 is electrically connected to the switching element SW3.

有機発光層ORG1は、画素電極PE1の上に形成されている。同様に、有機発光層ORG2は、画素電極PE2の上に形成され、有機発光層OGR3は、画素電極PE3の上に形成されている。   The organic light emitting layer ORG1 is formed on the pixel electrode PE1. Similarly, the organic light emitting layer ORG2 is formed on the pixel electrode PE2, and the organic light emitting layer OGR3 is formed on the pixel electrode PE3.

有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3は、共通電極CEをさらに含んでいる。共通電極CEは、有機発光層ORG1乃至ORG3の上に形成されている。また、共通電極CEは、リブ32の上にも形成されている。画素電極PE1及び共通電極CEのうち、一方がアノードであり、他方がカソードである。画素電極PE2,PE3についても同様である。画素電極PE1,PE2,PE3及び共通電極CEは、インジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)等の透光性を有する導電材料から形成されている。なお、反射層31、有機EL素子OLED,OLED2,OLED3及びリブ32を合わせて、有機EL構造体層30とする。   The organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3 further include a common electrode CE. The common electrode CE is formed on the organic light emitting layers ORG1 to ORG3. Further, the common electrode CE is also formed on the rib 32. One of the pixel electrode PE1 and the common electrode CE is an anode, and the other is a cathode. The same applies to the pixel electrodes PE2 and PE3. The pixel electrodes PE1, PE2, PE3 and the common electrode CE are made of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). The reflective layer 31, the organic EL elements OLED, OLED2, OLED3, and the rib 32 are combined to form an organic EL structure layer 30.

封止材40は、有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3の上を覆っている。封止材40は、有機EL素子OLED1,OLED2,OLED3への水分やガスの浸入を防止し、それらの劣化を抑制する。封止材40は、例えば有機膜と無機膜との積層体から構成されている。   The sealing material 40 covers the organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3. The sealing material 40 prevents intrusion of moisture and gas into the organic EL elements OLED1, OLED2, and OLED3 and suppresses deterioration thereof. The sealing material 40 is comprised from the laminated body of an organic film and an inorganic film, for example.

支持基材6は、第2上面6Aと、第2上面6Aとは反対側の第2下面6Bと、を有している。支持基材6の第2上面6Aは、接着層AD2によって絶縁基板10の第1下面10Bに接着されている。支持基材6は、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の樹脂から形成され、絶縁基板10よりも大きな強度を有している。支持基材6は、表示パネルPNLの変形を抑えるとともに、絶縁基板10への水分やガスの浸入を防ぐ。   The support base 6 has a second upper surface 6A and a second lower surface 6B opposite to the second upper surface 6A. The second upper surface 6A of the support base 6 is bonded to the first lower surface 10B of the insulating substrate 10 by the adhesive layer AD2. The support base 6 is formed of a resin such as polyethylene terephthalate (PET), for example, and has a strength higher than that of the insulating substrate 10. The support base 6 suppresses deformation of the display panel PNL and prevents moisture and gas from entering the insulating substrate 10.

保護部材4は、絶縁基板10の第1上面10Aと対向する側に位置し、表示パネルPNLを保護する。保護部材4は、透明なカバー部材41を備えている。カバー部材41は、例えばガラス製であり、カバーガラスと称される場合もある。なお、カバー部材41は、樹脂製であってもよい。また、図示した例では、保護部材4は、フロントフィルム42を備えている。   The protection member 4 is located on the side facing the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 and protects the display panel PNL. The protection member 4 includes a transparent cover member 41. The cover member 41 is made of glass, for example, and may be referred to as a cover glass. The cover member 41 may be made of resin. In the illustrated example, the protection member 4 includes a front film 42.

フロントフィルム42は、接着層AD1によって封止材40の上面40Aに接着され且つ接着層AD3によってカバー部材41の下面41Bに接着されている。フロントフィルム42は、例えば外光による影響を抑制する偏光板である。なお、フロントフィルム42は、円偏光板の位相差を補償する位相差板であってもよいし、封止材40を保護する光透過性フィルムであってもよいし、それらの積層フィルムであってもよい。   The front film 42 is bonded to the upper surface 40A of the sealing material 40 by the adhesive layer AD1, and is bonded to the lower surface 41B of the cover member 41 by the adhesive layer AD3. The front film 42 is a polarizing plate that suppresses the influence of external light, for example. The front film 42 may be a phase difference plate that compensates for the phase difference of the circularly polarizing plate, a light transmissive film that protects the sealing material 40, or a laminated film thereof. May be.

保護部材4としては、カバー部材41及びフロントフィルム42の少なくとも一方が機能すればよい。保護部材4は、平面視でアレイ基板ARよりも大きく形成されている。
接着層AD1,AD2,AD3は、それぞれ接着剤から形成されている。接着剤には、粘着剤(感圧性接着剤)が含まれる。接着層AD1,AD2,AD3は、フィルム状の基材の両面に接着剤が塗布された両面テープ等であってもよい。
As the protection member 4, at least one of the cover member 41 and the front film 42 may function. The protective member 4 is formed larger than the array substrate AR in plan view.
The adhesive layers AD1, AD2, AD3 are each formed from an adhesive. The adhesive includes a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive). The adhesive layers AD1, AD2, AD3 may be a double-sided tape or the like in which an adhesive is applied to both surfaces of a film-like substrate.

図3は、図1中のF3−F3線に沿う表示装置DSPの断面図である。ここでは、第1方向X及び第3方向Zで規定されるX−Z平面における表示装置DSPの断面について説明する。
絶縁基板10について、第1上面10Aは、第1下面10Bよりも大きい。つまり、第1方向Xにおいて、第1上面10Aの長さL1は、第1下面10Bの長さL2よりも長い。絶縁基板10は、第1側面10C,10Dを有している。第1側面10C,10Dは、いずれも第3方向Zに対して傾斜した傾斜面である。なお、第1側面10Cは、アレイ基板ARの端面53に含まれ、第2側面10Dはアレイ基板ARの端面54に含まれる。端面53は、図1に示した表示パネルPNLの端部E3に沿った面であり、端面54は、表示パネルPNLの端部E4に沿った面である。図7を参照して後述するが、第1側面10C,10Dと第2上面10Aとのなす角度は鋭角であり、第1側面10C,10Dと第1下面10Bとのなす角度は鈍角である。第1上面10Aの端部E21は、第1下面10Bの端部E22よりも外側、つまり表示領域DAから離れる側に位置している。なお、第1側面10C,10Dとは、第1上面10Aの端部E21と第1下面10Bの端部E22とを直線で結んでできる面である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the display device DSP along the line F3-F3 in FIG. Here, a cross section of the display device DSP in the XZ plane defined by the first direction X and the third direction Z will be described.
Regarding the insulating substrate 10, the first upper surface 10A is larger than the first lower surface 10B. That is, in the first direction X, the length L1 of the first upper surface 10A is longer than the length L2 of the first lower surface 10B. The insulating substrate 10 has first side surfaces 10C and 10D. The first side surfaces 10C and 10D are both inclined surfaces inclined with respect to the third direction Z. The first side surface 10C is included in the end surface 53 of the array substrate AR, and the second side surface 10D is included in the end surface 54 of the array substrate AR. The end surface 53 is a surface along the end E3 of the display panel PNL shown in FIG. 1, and the end surface 54 is a surface along the end E4 of the display panel PNL. As will be described later with reference to FIG. 7, the angle formed between the first side surfaces 10C and 10D and the second upper surface 10A is an acute angle, and the angle formed between the first side surfaces 10C and 10D and the first lower surface 10B is an obtuse angle. The end E21 of the first upper surface 10A is located outside the end E22 of the first lower surface 10B, that is, on the side away from the display area DA. The first side surfaces 10C and 10D are surfaces formed by connecting the end E21 of the first upper surface 10A and the end E22 of the first lower surface 10B with a straight line.

支持基材6において、第2上面6Aは、第2下面6Bよりも大きい。つまり、第1方向Xにおいて、第2上面6Aの長さL3は、第2下面6Bの長さL4よりも長い。支持基材6は、第1側面6C,6Dを有している。第2側面6C,6Dは、いずれも第3方向Zに対して傾斜した傾斜面である。後述するが、第2側面6C,6Dと第2上面6Aとのなす角度は鋭角であり、第2側面6C,6Dと第2下面6Bとのなす角度は鈍角である。第2上面6Aの端部E31は、第2下面6Bの端部E32よりも外側、つまり表示領域DAから離れる側に位置している。なお、第2側面6C,6Dとは、第2上面6Aの端部E31と第2下面6Bの端部E32とを直線で結んでできる面である。   In the support substrate 6, the second upper surface 6A is larger than the second lower surface 6B. That is, in the first direction X, the length L3 of the second upper surface 6A is longer than the length L4 of the second lower surface 6B. The support base 6 has first side surfaces 6C and 6D. The second side surfaces 6C and 6D are both inclined surfaces inclined with respect to the third direction Z. As will be described later, the angle formed between the second side surfaces 6C and 6D and the second upper surface 6A is an acute angle, and the angle formed between the second side surfaces 6C and 6D and the second lower surface 6B is an obtuse angle. The end E31 of the second upper surface 6A is located outside the end E32 of the second lower surface 6B, that is, on the side away from the display area DA. The second side surfaces 6C and 6D are surfaces formed by connecting the end E31 of the second upper surface 6A and the end E32 of the second lower surface 6B with a straight line.

換言すると、絶縁基板10及び支持基材6は、いずれも第3方向Zの下から上に向かうに従って第1方向Xの長さが拡大する逆テーパー形状の断面を有している。
また、絶縁基板10と支持基材6との大小関係に着目すると、第2上面6Aは、第1上面10Aよりも小さい。つまり、第2上面6Aの長さL3は、第1上面10Aの長さL1よりも短い。また、第1下面10Bの長さL2は、第2上面6Aの長さL3と略同一である。また、第1下面10Bの端部E22は、第2上面6Aの端部E31とほぼ一致している。
In other words, each of the insulating substrate 10 and the support base 6 has an inversely tapered cross section in which the length in the first direction X increases as it goes from the bottom to the top in the third direction Z.
When attention is paid to the magnitude relationship between the insulating substrate 10 and the support base 6, the second upper surface 6 </ b> A is smaller than the first upper surface 10 </ b> A. That is, the length L3 of the second upper surface 6A is shorter than the length L1 of the first upper surface 10A. The length L2 of the first lower surface 10B is substantially the same as the length L3 of the second upper surface 6A. Further, the end E22 of the first lower surface 10B substantially coincides with the end E31 of the second upper surface 6A.

絶縁基板10及び支持基材6は、第1方向Xにおいていずれも保護部材4よりも小さい。つまり、保護部材4の長さL5は、第1上面10Aの長さL1、及び第2上面6Aの長さL3よりも長い。
第2配線基板2は、絶縁基板10と保護部材4との間に実装され、樹脂60によって接着されている。第2配線基板2は、第1配線基板1が第2下面6Bと対向するように折り曲げられる。
The insulating substrate 10 and the support base 6 are both smaller than the protective member 4 in the first direction X. That is, the length L5 of the protection member 4 is longer than the length L1 of the first upper surface 10A and the length L3 of the second upper surface 6A.
The second wiring board 2 is mounted between the insulating substrate 10 and the protection member 4 and bonded by a resin 60. The second wiring board 2 is bent so that the first wiring board 1 faces the second lower surface 6B.

図4は、図1中のF4−F4線に沿う表示パネルPNLの断面図である。ここでは、第2方向Y及び第3方向Zで規定されるY−Z平面において、保護部材4に接着される前の表示パネルPNLの断面について説明する。
絶縁基板10について、第1上面10Aは、第1下面10Bよりも大きい。つまり、第2方向Yにおいて、第1上面10Aの長さ(符号L9)は、第1下面10Bの長さ(符号L8)よりも長い。絶縁基板10は、第3側面10E,10Fを有している。第3側面10E,10Fは、いずれも第3方向Zに対して傾斜した傾斜面である。なお、第3側面10Eは、アレイ基板ARの端面55に含まれ、第3側面10Fは、アレイ基板ARの端面56に含まれる。端面55は、図1に示した表示パネルPNLの端部E1に沿った面であり、端面56は、表示パネルPNLの端部E2に沿った面である。後述するが、第3側面10E,10Fと第1上面10Aとのなす角度は鋭角であり、第3側面10E,10Fと第1下面10Bとのなす角度は鈍角である。第1上面10Aの端部E21は、第1下面10Bの端部E22よりも外側、つまり表示領域DAから離れる側に位置している。なお、第3側面10E,10Fとは、第1上面10Aの端部E21と第1下面10Bの端部E32とを直線で結んでできる面である。
4 is a cross-sectional view of the display panel PNL along the line F4-F4 in FIG. Here, a cross section of the display panel PNL before being bonded to the protective member 4 in the YZ plane defined by the second direction Y and the third direction Z will be described.
Regarding the insulating substrate 10, the first upper surface 10A is larger than the first lower surface 10B. That is, in the second direction Y, the length of the first upper surface 10A (symbol L9) is longer than the length of the first lower surface 10B (symbol L8). The insulating substrate 10 has third side surfaces 10E and 10F. The third side surfaces 10E and 10F are both inclined surfaces inclined with respect to the third direction Z. The third side surface 10E is included in the end surface 55 of the array substrate AR, and the third side surface 10F is included in the end surface 56 of the array substrate AR. The end surface 55 is a surface along the end E1 of the display panel PNL shown in FIG. 1, and the end surface 56 is a surface along the end E2 of the display panel PNL. As will be described later, the angle formed between the third side surfaces 10E and 10F and the first upper surface 10A is an acute angle, and the angle formed between the third side surfaces 10E and 10F and the first lower surface 10B is an obtuse angle. The end E21 of the first upper surface 10A is located outside the end E22 of the first lower surface 10B, that is, on the side away from the display area DA. The third side surfaces 10E and 10F are surfaces formed by connecting the end E21 of the first upper surface 10A and the end E32 of the first lower surface 10B with a straight line.

支持基材6において、第2上面6Aは、第2下面6Bよりも大きい。つまり、第2方向Yにおいて、第2上面6Aの長さL7は、第2下面6Bの長さL6よりも長い。支持基材6は、第4側面6E,6Fを有している。第4側面6E,6Fは、いずれも第3方向Zに対して傾斜した傾斜面である。後述するが、第4側面6E,6Fと第2上面6Aとのなす角度は鋭角であり、第4側面6E,6Fと第2下面6Bとのなす角度は鈍角である。第2上面6Aの端部E31は、第2下面6Bの端部E32よりも外側、つまり表示領域DAから離れる側に位置している。換言すると、絶縁基板10及び支持基材6は、いずれも、第3方向Zの下側Z2から上側Z1に向かうに従って第2方向Yの長さが拡大する逆テーパー形状の断面を有している。なお、第4側面6E,6Fとは、第2上面6Aの端部E31と第2下面6Bの端部E32とを直線で結んでできる面である。   In the support substrate 6, the second upper surface 6A is larger than the second lower surface 6B. That is, in the second direction Y, the length L7 of the second upper surface 6A is longer than the length L6 of the second lower surface 6B. The support base 6 has fourth side surfaces 6E and 6F. The fourth side surfaces 6E and 6F are both inclined surfaces inclined with respect to the third direction Z. As will be described later, the angle formed between the fourth side surfaces 6E and 6F and the second upper surface 6A is an acute angle, and the angle formed between the fourth side surfaces 6E and 6F and the second lower surface 6B is an obtuse angle. The end E31 of the second upper surface 6A is located outside the end E32 of the second lower surface 6B, that is, on the side away from the display area DA. In other words, each of the insulating substrate 10 and the support base 6 has a reverse tapered cross section in which the length in the second direction Y increases from the lower side Z2 of the third direction Z toward the upper side Z1. . The fourth side surfaces 6E and 6F are surfaces formed by connecting the end E31 of the second upper surface 6A and the end E32 of the second lower surface 6B with a straight line.

また、絶縁基板10と支持基材6との大小関係に着目すると、第2上面6Aの長さL7は、第1上面10Aの長さL9よりも短い。また、第1下面10Bの長さL7は、第1上面6Aの長さL8と略同一である。   When attention is paid to the magnitude relationship between the insulating substrate 10 and the support base 6, the length L7 of the second upper surface 6A is shorter than the length L9 of the first upper surface 10A. The length L7 of the first lower surface 10B is substantially the same as the length L8 of the first upper surface 6A.

図5は、図1中のF4−F4線に沿う表示装置DSPの断面図である。ここでは、図4に示した表示パネルPNLを保護部材4に接着した状態の断面を示している。図5に示すように、保護部材4は、中央部9と、その両側の第1及び第2側部7,8を有している。中央部9は、X−Y平面と平行である。第1及び第2側部7,8は、それぞれ中央部9よりも下側Z2に向かって湾曲している。表示パネルPNLは、保護部材4に沿って接着されており第1及び第2側部7,8と同様に下側Z2に向かって湾曲している。なお、保護基材4は、平板状に形成されているものを用いてもよい。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the display device DSP taken along line F4-F4 in FIG. Here, a cross section in a state where the display panel PNL shown in FIG. 4 is bonded to the protective member 4 is shown. As shown in FIG. 5, the protection member 4 has a central portion 9 and first and second side portions 7 and 8 on both sides thereof. The central portion 9 is parallel to the XY plane. The 1st and 2nd side parts 7 and 8 are curving toward lower Z2 rather than the center part 9, respectively. The display panel PNL is bonded along the protective member 4 and is curved toward the lower side Z2 like the first and second side portions 7 and 8. In addition, you may use the protective base material 4 formed in flat form.

表示パネルPNLは、第1及び第2側部7,8に対応する部分において、図2に示した有機EL構造体層30を含んでおり、表示領域DAに重なっている。端面55とカバー部材41の下面41Bとのなす角度θ11、及び端面56とカバー部材41の下面41Bとのなす角度θ12は、いずれも鈍角である。   The display panel PNL includes the organic EL structure layer 30 shown in FIG. 2 in portions corresponding to the first and second side portions 7 and 8, and overlaps the display area DA. The angle θ11 formed by the end surface 55 and the lower surface 41B of the cover member 41 and the angle θ12 formed by the end surface 56 and the lower surface 41B of the cover member 41 are both obtuse.

第1及び第2側部7,8のそれぞれの法線方向Wから見て、表示領域DAの端部E10は、支持基材6の第2下面6Bの端部E32とほぼ一致している。また、端部E21,E22,E31は、端部E10と端部E32とを結ぶ図5中の破線よりも下側Z2に位置している。
また、図5に示すように、表示パネルPNLを保護部材4に接着した状態で、絶縁基板10及び支持基材6は、第2方向Yにおいていずれも保護部材4よりも小さい。
When viewed from the normal direction W of each of the first and second side portions 7 and 8, the end portion E10 of the display area DA substantially coincides with the end portion E32 of the second lower surface 6B of the support base 6. Further, the end portions E21, E22, E31 are located on the lower side Z2 with respect to the broken line in FIG. 5 connecting the end portion E10 and the end portion E32.
As shown in FIG. 5, the insulating substrate 10 and the support base 6 are both smaller than the protective member 4 in the second direction Y in a state where the display panel PNL is bonded to the protective member 4.

図6は、保護部材4に接着される前の表示パネルPNLの平面図である。図6に示す例では、フロントフィルム42は、アレイ基板ARと略同一の大きさに形成されている。なお、フロントフィルム42の大きさはこれに限らず、保護部材として構成するためにアレイ基板ARよりも大きく形成してもよいし、表示領域DAのみ覆うようにアレイ基板ARよりも小さく形成してもよい。
表示領域DAの端部E10は、第2下面6Bの端部E32とほぼ重なるように位置している。つまり、支持基材6の第2下面6Bは、表示領域DAと略同一の面積を有している。
FIG. 6 is a plan view of the display panel PNL before being bonded to the protection member 4. In the example shown in FIG. 6, the front film 42 is formed to have substantially the same size as the array substrate AR. The size of the front film 42 is not limited to this, and may be formed larger than the array substrate AR so as to be configured as a protective member, or may be formed smaller than the array substrate AR so as to cover only the display area DA. Also good.
The end E10 of the display area DA is located so as to substantially overlap the end E32 of the second lower surface 6B. That is, the second lower surface 6B of the support base 6 has substantially the same area as the display area DA.

第1上面10Aの端部E21は、第1下面10Bの端部E22よりも外側に位置している。つまり、第1上面10Aは、第1下面10Bよりも大きい。第2上面6Aの端部E31は、第2下面6Bの端部E32よりも外側に位置している。つまり、第2上面6Aは、第2下面6Bよりも大きい。第1下面10Bの端部E22は、第2上面6Aの端部E31とほぼ重なるように位置している。つまり、第1下面10Bは、第2上面6Aと略同一の面積を有している。   The end E21 of the first upper surface 10A is located outside the end E22 of the first lower surface 10B. That is, the first upper surface 10A is larger than the first lower surface 10B. The end E31 of the second upper surface 6A is located outside the end E32 of the second lower surface 6B. That is, the second upper surface 6A is larger than the second lower surface 6B. The end E22 of the first lower surface 10B is positioned so as to substantially overlap the end E31 of the second upper surface 6A. That is, the first lower surface 10B has substantially the same area as the second upper surface 6A.

図7は、アレイ基板ARの端面53,54,55,56の一例を拡大して示す断面図である。なお、端面53,55は、端面56と略同一の形状を有している。端面54は、第2配線基板2が実装されていることを除き、端面56と略同一の形状を有している。そのため、代表して端面56を詳しく説明し、端面53,54,55については重複する説明を省略することがある。   FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the end faces 53, 54, 55, and 56 of the array substrate AR. Note that the end surfaces 53 and 55 have substantially the same shape as the end surface 56. The end face 54 has substantially the same shape as the end face 56 except that the second wiring board 2 is mounted. Therefore, the end surface 56 will be described in detail as a representative, and the overlapping description of the end surfaces 53, 54, and 55 may be omitted.

図4及び図5を参照して説明したように、本実施形態に係るアレイ基板ARの端面56は、絶縁基板10の第3側面10F及びバリア膜20の側面20Fを含む。第3側面10Fと第1上面10Aとのなす角度θ1は鋭角であり、第3側面10Fと第1下面10Bとのなす角度θ2は鈍角である。また、図7に示した例では、バリア膜20の側面20Fは、バリア膜20の主面(上面)20Aと鋭角をなし、主面(下面)20Bと鈍角をなしている。なお、封止材40から露出した主面20Aは、前述の接着層AD1(図2に示す)によって覆われている。また、支持基材6において、第4側面6Fと第2上面6Aとのなす角度θ3は鋭角であり、第4側面6Fと第2下面6Bとのなす角度θ4は、鈍角である。   As described with reference to FIGS. 4 and 5, the end surface 56 of the array substrate AR according to the present embodiment includes the third side surface 10 </ b> F of the insulating substrate 10 and the side surface 20 </ b> F of the barrier film 20. The angle θ1 formed between the third side surface 10F and the first upper surface 10A is an acute angle, and the angle θ2 formed between the third side surface 10F and the first lower surface 10B is an obtuse angle. In the example shown in FIG. 7, the side surface 20F of the barrier film 20 forms an acute angle with the main surface (upper surface) 20A of the barrier film 20, and forms an obtuse angle with the main surface (lower surface) 20B. The main surface 20A exposed from the sealing material 40 is covered with the above-described adhesive layer AD1 (shown in FIG. 2). Further, in the support base 6, an angle θ3 formed between the fourth side surface 6F and the second upper surface 6A is an acute angle, and an angle θ4 formed between the fourth side surface 6F and the second lower surface 6B is an obtuse angle.

表示パネルPNLの端面は、表示装置DSPの端面を構成している。アレイ基板ARの端面56は、支持基材6の第4側面6Eとともに表示パネルPNLの端面を構成している。そのため、本実施形態に係る表示パネルPNLの端面は、上側Z1から下側Z2に向かうに従い内側に向かって傾斜した形状を有している。以下の説明において、当該形状を逆テーパー形状と称する。   The end face of the display panel PNL constitutes the end face of the display device DSP. The end surface 56 of the array substrate AR constitutes the end surface of the display panel PNL together with the fourth side surface 6E of the support base 6. Therefore, the end surface of the display panel PNL according to the present embodiment has a shape inclined inward as it goes from the upper side Z1 to the lower side Z2. In the following description, the shape is referred to as an inverted taper shape.

図8は、アレイ基板ARの端面53,54,55,56の他の一例を拡大して示す断面図である。図8に示す端面56は、曲面に形成されている点が図7に示された端面56と異なる。図7に示された一例と同様に、図8に示す他の一例では、端面56が第1上面10Aと鋭角をなし、第1下面10Bと鈍角をなしている。図7及び図8において、バリア膜20で覆われた絶縁基板10の第1上面10Aの端部E21と、有機EL構造体層30の端部E30との距離を参照符号D1,D2で示す。   FIG. 8 is an enlarged sectional view showing another example of the end faces 53, 54, 55, 56 of the array substrate AR. The end face 56 shown in FIG. 8 is different from the end face 56 shown in FIG. Similar to the example shown in FIG. 7, in the other example shown in FIG. 8, the end face 56 forms an acute angle with the first upper surface 10A and forms an obtuse angle with the first lower surface 10B. 7 and 8, the distances between the end E21 of the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 covered with the barrier film 20 and the end E30 of the organic EL structure layer 30 are denoted by reference numerals D1 and D2.

図9は、表示装置DSPの製造方法の一例を示すフロー図である。図9を参照して本実施形態の表示装置DSPを製造する製造方法について説明する。
表示装置DSPの製造方法は、まず、ステップS1乃至S7のマザー基板形成を経て、複数のセルが形成されたマザー基板を形成する。次いで、ステップS8のセルカット工程を経て、マザー基板のセルを個片化する。カットされた単個のセルは、前述のアレイ基板ARに相当する。さらにステップS9乃至S12の工程を経て、表示装置DSPの組み立てを行うと、図1に示された表示装置DSPが完成する。
FIG. 9 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the display device DSP. A manufacturing method for manufacturing the display device DSP of the present embodiment will be described with reference to FIG.
In the manufacturing method of the display device DSP, first, a mother substrate on which a plurality of cells are formed is formed through mother substrate formation in steps S1 to S7. Next, the cells of the mother substrate are separated into pieces through the cell cutting process in step S8. The single cut cell corresponds to the array substrate AR described above. Further, when the display device DSP is assembled through steps S9 to S12, the display device DSP shown in FIG. 1 is completed.

もう少し詳しく説明すると、ステップS1の絶縁基板形成工程では、例えば、ガラス基板等の支持基板の上に絶縁基板10の材料を塗布し、硬化させて絶縁基板10を形成する。
ステップS2のバリア膜形成工程では、絶縁基板10の第2上面10Aに第1乃至第4絶縁膜21,22,23,24を順に積層し、バリア膜20を形成する。なお、この工程では、図2に示したスイッチング素子SW1等も形成される。
More specifically, in the insulating substrate forming step of step S1, for example, the insulating substrate 10 is formed by applying and curing the material of the insulating substrate 10 on a support substrate such as a glass substrate.
In the barrier film forming step of step S2, the first to fourth insulating films 21, 22, 23, and 24 are sequentially stacked on the second upper surface 10A of the insulating substrate 10 to form the barrier film 20. In this step, the switching element SW1 shown in FIG. 2 and the like are also formed.

ステップS3の有機EL構造形成では、バリア膜20の第2主面20Aに画素電極PE1、有機発光層ORG1、共通電極CEを順に積層し、有機EL構造体層30を形成する。
ステップS4の封止材形成では、有機EL構造体層30を覆う封止材40を形成する。
ステップS5の養生フィルム貼着では、封止材40の上面40Aを養生フィルムで覆う。養生フィルムは、製造工程において、封止材40を保護するとともに、絶縁基板10が変形しないように剛性を付与する。
In the formation of the organic EL structure in step S3, the pixel electrode PE1, the organic light emitting layer ORG1, and the common electrode CE are sequentially stacked on the second main surface 20A of the barrier film 20 to form the organic EL structure layer 30.
In the formation of the sealing material in step S4, the sealing material 40 that covers the organic EL structure layer 30 is formed.
In the curing film sticking of step S5, the upper surface 40A of the sealing material 40 is covered with the curing film. The curing film protects the sealing material 40 and provides rigidity so that the insulating substrate 10 is not deformed in the manufacturing process.

ステップS6のレーザーリフトオフでは、絶縁基板10からガラス基板を剥離する。ガラス基板に下側Z2からレーザー光を照射すると、絶縁基板10の第1下面10Bがレーザー光を吸収して僅かに分解する。ガラス基板と絶縁基板10との界面に空隙が発生し、絶縁基板10からガラス基板が剥離される。   In the laser lift-off in step S6, the glass substrate is peeled from the insulating substrate 10. When the glass substrate is irradiated with laser light from the lower side Z2, the first lower surface 10B of the insulating substrate 10 absorbs the laser light and is slightly decomposed. A gap is generated at the interface between the glass substrate and the insulating substrate 10, and the glass substrate is peeled from the insulating substrate 10.

ステップS7の支持基材貼り合わせでは、絶縁基板10の第1下面10Bに支持基材6を接着する。
ステップS8のセルカット工程では、複数のアレイ基板ARが形成されたマザー基板を切断して個片のアレイ基板ARを形成する。
In the bonding of the support base material in step S <b> 7, the support base material 6 is bonded to the first lower surface 10 </ b> B of the insulating substrate 10.
In the cell cut process of step S8, the mother substrate on which the plurality of array substrates AR are formed is cut to form individual array substrates AR.

ステップS9の養生フィルム剥離では、一部の養生フィルムを剥離して非表示領域NDAに第2配線基板2を実装するための端子部を形成する。その後、残った養生フィルムを剥離する。
ステップS10のフロントフィルム貼り合わせ工程では、露出した封止材40の上面40Aにフロントフィルム42を接着する。
In the curing film peeling in step S9, a part of the curing film is peeled to form a terminal portion for mounting the second wiring board 2 in the non-display area NDA. Thereafter, the remaining curing film is peeled off.
In the front film bonding step in step S10, the front film 42 is bonded to the exposed upper surface 40A of the sealing material 40.

ステップS11の第2配線基板実装工程では、第1配線基板1と電気的に接続された第2配線基板2をアレイ基板ARの端子部に実装する。
ステップS12のカバー部材貼り合わせ工程では、フロントフィルム42の上面5Aにカバー部材41を接着し、図1に示す表示装置DSPが完成する。
In the second wiring board mounting step in step S11, the second wiring board 2 electrically connected to the first wiring board 1 is mounted on the terminal portion of the array substrate AR.
In the cover member bonding step in step S12, the cover member 41 is bonded to the upper surface 5A of the front film 42, and the display device DSP shown in FIG. 1 is completed.

図7及び図8に示された逆テーパー形状の表示パネルPNLの端面を形成するには、ステップS8のセルカット工程の際に、一例では、マザー基板(個片化される前のアレイ基板AR)に下側Z2からレーザー光を照射すればよい。レーザー光の波長は、例えば266nmや532nmである。
このステップS8のセルカット工程において、個片化される前のアレイ基板ARと、個片化される前の支持基材6とは、ステップS7の支持基材貼り合わせ工程を経て一体的に接着されている。下側Z2から照射されたレーザー光は、一体化されたアレイ基板ARと支持基材6とを同時に蒸発させる。そのため、アレイ基板ARの端面56と、支持基材6の第4側面6Eとは、略面一の逆テーパー形状に形成される。
In order to form the end face of the inversely tapered display panel PNL shown in FIGS. 7 and 8, in one example, in the cell cutting process of step S8, a mother substrate (array substrate AR before being singulated) is used. ) May be irradiated with laser light from the lower side Z2. The wavelength of the laser light is, for example, 266 nm or 532 nm.
In the cell cut process of step S8, the array substrate AR before being singulated and the support base material 6 before being singulated are bonded together through the support base material bonding process of step S7. Has been. The laser light emitted from the lower side Z2 evaporates the integrated array substrate AR and the support base 6 simultaneously. Therefore, the end surface 56 of the array substrate AR and the fourth side surface 6E of the support base 6 are formed in a substantially flush reverse taper shape.

図10は、図5との対比のために示す比較例の表示装置DSPの断面図である。図10に示す比較例では、アレイ基板ARの端面55,56は、カバー部材41の下面41Bと鋭角をなしている。そのような表示装置では、図10に示すように、カバー部材41の下面41Bと、アレイ基板ARの端面55,56との間に楔状の隙間Sが形成される。   FIG. 10 is a cross-sectional view of a display device DSP of a comparative example shown for comparison with FIG. In the comparative example shown in FIG. 10, the end surfaces 55 and 56 of the array substrate AR form an acute angle with the lower surface 41 </ b> B of the cover member 41. In such a display device, as shown in FIG. 10, a wedge-shaped gap S is formed between the lower surface 41B of the cover member 41 and the end surfaces 55 and 56 of the array substrate AR.

図11は、図7及び図8との対比のために示す比較例に係るアレイ基板ARの端面の一例を拡大して示す断面図である。バリア膜20で覆われた絶縁基板10の第1上面10Aの端部E21と、有機EL構造体層30との距離を参照符号D3で示す。図11に示すように、比較例の距離D3は、図7及び図8に示された距離D1,D2よりも短い。   FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the end surface of the array substrate AR according to the comparative example shown for comparison with FIGS. 7 and 8. A distance between the end E21 of the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 covered with the barrier film 20 and the organic EL structure layer 30 is indicated by a reference symbol D3. As shown in FIG. 11, the distance D3 of the comparative example is shorter than the distances D1 and D2 shown in FIGS.

以上のように構成された本実施形態の表示装置DSPは、支持基材6が絶縁基板10よりも小さく、絶縁基板10がカバー部材41又はフロントフィルム42よりも小さい。つまり、表示装置DSPの端面は、巨視的に見ると、上側Z1から下側Z2に向かうに従い内側に向かう逆テーパー形状を有している。そのため、カバー部材41の下面41Bとアレイ基板ARの端面53,54,55,56との間に楔状の隙間が形成されづらい。   In the display device DSP of the present embodiment configured as described above, the support base 6 is smaller than the insulating substrate 10, and the insulating substrate 10 is smaller than the cover member 41 or the front film 42. That is, when viewed macroscopically, the end surface of the display device DSP has an inversely tapered shape that goes inward as it goes from the upper side Z1 to the lower side Z2. Therefore, it is difficult to form a wedge-shaped gap between the lower surface 41B of the cover member 41 and the end surfaces 53, 54, 55, 56 of the array substrate AR.

本実施形態では、表示装置DSPの端部に含まれるアレイ基板ARの端面56及び支持基材6の第4側面6Eが略面一に形成された逆テーパー形状を有している。同様に、アレイ基板ARの端面53及び支持基材6の第2側面6C、アレイ基板ARの端面54及び支持基材6の第2側面6D、アレイ基板ARの端面55及び支持基材6の第4側面6Fは、それぞれ略面一に形成された逆テーパー形状を有している。そのため、図5に一例を示すように、カバー部材41の下面41Bとアレイ基板ARの端面55,56との間に楔状の隙間が形成されない。   In the present embodiment, the end surface 56 of the array substrate AR included in the end portion of the display device DSP and the fourth side surface 6E of the support base 6 have an inversely tapered shape formed substantially flush with each other. Similarly, the end surface 53 of the array substrate AR and the second side surface 6C of the support substrate 6, the end surface 54 of the array substrate AR and the second side surface 6D of the support substrate 6, the end surface 55 of the array substrate AR and the first surface of the support substrate 6. Each of the four side surfaces 6F has an inversely tapered shape formed substantially flush with each other. Therefore, as shown in FIG. 5, no wedge-shaped gap is formed between the lower surface 41B of the cover member 41 and the end surfaces 55 and 56 of the array substrate AR.

仮に、図10に示す比較例のように、カバー部材41の下面41Bとアレイ基板ARの端面55,56との間に楔状の隙間Sが形成されると、当該隙間Sを起点にしてアレイ基板ARが剥がれ易い。とりわけ、図10に示すように、画像を表示する表示領域DAが湾曲している表示装置の場合、カバー部材41の曲面に沿って湾曲しているアレイ基板ARの復元力により、カバー部材41から剥がれていくおそれがある。   As in the comparative example shown in FIG. 10, if a wedge-shaped gap S is formed between the lower surface 41B of the cover member 41 and the end faces 55 and 56 of the array substrate AR, the array substrate starts from the gap S. AR is easy to peel off. In particular, as shown in FIG. 10, in the case of a display device in which the display area DA for displaying an image is curved, the display member DA is removed from the cover member 41 by the restoring force of the array substrate AR that is curved along the curved surface of the cover member 41. There is a risk of peeling.

本実施形態によれば、カバー部材41やフロントフィルム42のような保護フィルムと、絶縁基板10を含むアレイ基板ARとの間に隙間が形成されず、且つ、カバー部材41等と絶縁基板10との接着面積を拡大することができ、カバー部材41からの剥がれを抑制できる。   According to the present embodiment, no gap is formed between the protective film such as the cover member 41 or the front film 42 and the array substrate AR including the insulating substrate 10, and the cover member 41 and the insulating substrate 10 Can be expanded, and peeling from the cover member 41 can be suppressed.

また、本実施形態では、アレイ基板ARの端面50A,50Bが、絶縁基板10の第1上面10Aと鋭角をなし、第1下面10Bと鈍角をなすように構成している。このような構成によれば、端面50Cが、絶縁基板10の第1上面10Aと鈍角をなし、第1下面10Bと鋭角をなす場合と比較して、バリア膜20で覆われた絶縁基板10の第1上面10Aの端部E21と、有機EL構造体層30との距離が長くなる。   In the present embodiment, the end surfaces 50A and 50B of the array substrate AR are configured to form an acute angle with the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 and to form an obtuse angle with the first lower surface 10B. According to such a configuration, the end surface 50C has an obtuse angle with the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 and an acute angle with the first lower surface 10B, compared with the case where the insulating substrate 10 covered with the barrier film 20 is covered. The distance between the end E21 of the first upper surface 10A and the organic EL structure layer 30 is increased.

絶縁基板10を介して有機EL構造体層30に向かう水分は、バリア膜20によって有機EL構造体層30への浸透を阻止される。本実施形態によれば、バリア膜20で覆われた絶縁基板10の第1上面10Aの端部E21と、有機EL構造体層30との距離D1,D2を長くできるため、バリア膜20による水分遮断の信頼性を向上できる。その結果、表示装置DSPの信頼性を向上させることができる。
その他、本実施形態からは、種々の好適な効果を得ることができる。
Moisture flowing toward the organic EL structure layer 30 through the insulating substrate 10 is prevented from penetrating into the organic EL structure layer 30 by the barrier film 20. According to the present embodiment, the distances D1 and D2 between the end portion E21 of the first upper surface 10A of the insulating substrate 10 covered with the barrier film 20 and the organic EL structure layer 30 can be increased. The reliability of interruption can be improved. As a result, the reliability of the display device DSP can be improved.
In addition, various suitable effects can be obtained from this embodiment.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。各実施形態にて開示した構成は、適宜に組み合わせることができる。   Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and equivalents thereof. The configurations disclosed in the embodiments can be combined as appropriate.

例えば、有機発光層が白色光を照射するように構成し、有機発光層に対応する位置においてアレイ基板やフロントフィルムにカラーフィルターを設けてもよい。カラーフィルターに代えて色変換層を設けてもよい。例えば、トップゲート型の薄膜トランジスタとしてスイッチング素子を構成したが、ボトムゲート型の薄膜トランジスタとしてスイッチング素子を構成してもよい。例えば、上方に向かって光を放射するトップエミッション型として有機EL素子を構成したが、下方に向かって光を放射するボトムエミッション型として有機EL素子を構成してもよい。   For example, the organic light emitting layer may be configured to emit white light, and a color filter may be provided on the array substrate or the front film at a position corresponding to the organic light emitting layer. A color conversion layer may be provided instead of the color filter. For example, although the switching element is configured as a top-gate thin film transistor, the switching element may be configured as a bottom-gate thin film transistor. For example, although the organic EL element is configured as a top emission type that emits light upward, the organic EL element may be configured as a bottom emission type that emits light downward.

また、例えば、表示装置が液晶表示装置であってもよい。その場合、アレイ基板は絶縁基板10に相当し、対向基板はフロントフィルム42に相当する。アレイ基板及び対向基板が可撓性を有していてもよい。表示装置が液晶表示装置の場合であっても、本実施形態と同様に、カバー部材と表示装置との接着面積を拡大することができ、カバー部材からの剥がれを抑制することができる。   For example, the display device may be a liquid crystal display device. In that case, the array substrate corresponds to the insulating substrate 10, and the counter substrate corresponds to the front film 42. The array substrate and the counter substrate may have flexibility. Even when the display device is a liquid crystal display device, the bonding area between the cover member and the display device can be increased and peeling from the cover member can be suppressed as in the present embodiment.

4…保護部材、6…支持基材、6A…第2上面、6B…第2下面、6C,6D…第2側面、6E,6F…第4側面、7…保護部材の第1側部、8…保護部材の第2側部、10…絶縁基板、10A…第1上面、10B…第1下面、10C,10D…第1側面、10E,10F…第3側面、41B…保護部材の下面、AD1,AD2…接着層、DA…表示領域、DSP…表示装置、E10…表示領域の端部、E32…第2下面の端部、Z2…下側、θ1…第1側面と第1上面とのなす角度、θ2…第1側面と第1下面とのなす角度、θ3…第2側面と第2上面とのなす角度、θ4…第2側面と第2下面とのなす角度、θ11,θ12…第1側面と保護部材の下面とのなす角度。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 ... Protection member, 6 ... Support base material, 6A ... 2nd upper surface, 6B ... 2nd lower surface, 6C, 6D ... 2nd side surface, 6E, 6F ... 4th side surface, 7 ... 1st side part of a protection member, 8 2nd side of protection member, 10 ... insulating substrate, 10A ... first upper surface, 10B ... first lower surface, 10C, 10D ... first side surface, 10E, 10F ... third side surface, 41B ... lower surface of protection member, AD1 , AD2 ... adhesive layer, DA ... display area, DSP ... display device, E10 ... end of display area, E32 ... end of second lower surface, Z2 ... lower side, θ1 ... first side surface and first upper surface. Angle, θ2: Angle formed between the first side surface and the first lower surface, θ3: Angle formed between the second side surface and the second upper surface, θ4: Angle formed between the second side surface and the second lower surface, θ11, θ12: First The angle between the side and the lower surface of the protective member.

Claims (12)

第1上面と、前記第1上面とは反対側の第1下面を有する絶縁基板と、
前記第1下面と対向し接着層を介して接着される第2上面と、前記第2上面とは反対側の第2下面と、を有する支持基材と、
前記第1上面と対向し接着層を介して接着する保護部材と、を有する表示装置であって、
前記第2上面は、前記第1上面よりも小さく、
前記第1上面は、前記保護部材よりも小さい、表示装置。
An insulating substrate having a first upper surface and a first lower surface opposite to the first upper surface;
A support base material having a second upper surface facing the first lower surface and bonded via an adhesive layer, and a second lower surface opposite to the second upper surface;
A protective member that opposes the first upper surface and adheres via an adhesive layer,
The second upper surface is smaller than the first upper surface;
The display device, wherein the first upper surface is smaller than the protective member.
前記第2下面は、前記第2上面よりも小さい、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the second lower surface is smaller than the second upper surface. 前記絶縁基板は、第1側面を有し、
前記第1側面と前記第1上面とのなす角度は鋭角である、請求項1又は2に記載の表示装置。
The insulating substrate has a first side surface;
The display device according to claim 1, wherein an angle formed between the first side surface and the first upper surface is an acute angle.
前記保護部材は、前記第1上面と対向する下面を有し、
前記第1側面と前記下面とのなす角度は鈍角である、請求項3に記載の表示装置。
The protective member has a lower surface facing the first upper surface,
The display device according to claim 3, wherein an angle formed between the first side surface and the lower surface is an obtuse angle.
前記支持基材は、第2側面を有し、
前記第2側面と前記第2上面とのなす角度は鋭角である、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の表示装置。
The support substrate has a second side surface;
The display device according to claim 1, wherein an angle formed between the second side surface and the second upper surface is an acute angle.
前記保護部材は、第1部分と、前記第1部分の両側に位置する第1側部及び第2側部と、を有し、
前記第1側部及び前記第2側部は、前記第1部分よりも下側に位置するように湾曲しており、
前記絶縁基板及び前記支持基材は、前記保護部材に沿って湾曲している、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の表示装置。
The protective member has a first part, and a first side part and a second side part located on both sides of the first part,
The first side portion and the second side portion are curved so as to be positioned below the first portion,
The display device according to claim 1, wherein the insulating substrate and the support base material are curved along the protective member.
保護部材と、
前記保護部材と対向し接着層を介して接着される絶縁基板と、
前記絶縁基板と対向し接着層を介して接着される支持基材と、を有する表示装置であって、
前記保護部材は、前記絶縁基板と対向する下面を有し、
前記絶縁基板は、第1側面を有し、
前記下面と前記第1側面とのなす角度は鈍角である、表示装置。
A protective member;
An insulating substrate facing the protective member and bonded via an adhesive layer;
A support substrate that is opposed to the insulating substrate and bonded through an adhesive layer,
The protective member has a lower surface facing the insulating substrate,
The insulating substrate has a first side surface;
The display device, wherein an angle formed between the lower surface and the first side surface is an obtuse angle.
前記保護部材は、第1部分と、前記第1部分の両側に位置する第1側部及び第2側部と、を有し、
前記第1側部及び前記第2側部は、前記第1部分よりも下側に位置するように湾曲している、請求項7に記載の表示装置。
The protective member has a first part, and a first side part and a second side part located on both sides of the first part,
The display device according to claim 7, wherein the first side portion and the second side portion are curved so as to be positioned below the first portion.
前記絶縁基板及び前記支持基材は、前記保護部材に沿って湾曲している、請求項8に記載の表示装置。   The display device according to claim 8, wherein the insulating substrate and the support base material are curved along the protection member. 前記絶縁基板は、前記保護部材と接着する第1上面と、前記第1上面とは反対側の第1下面と、を有し、
前記第1下面は、前記第1上面よりも小さい、請求項7乃至9のいずれか1項に記載の表示装置。
The insulating substrate has a first upper surface that adheres to the protection member, and a first lower surface opposite to the first upper surface,
The display device according to claim 7, wherein the first lower surface is smaller than the first upper surface.
前記支持基材は、前記絶縁基板と接着する第2上面と、前記第2上面とは反対側の第2下面と、を有し、
前記第2下面は、前記第2上面よりも小さい、請求項10に記載の表示装置。
The support base has a second upper surface that adheres to the insulating substrate, and a second lower surface opposite to the second upper surface,
The display device according to claim 10, wherein the second lower surface is smaller than the second upper surface.
前記第1下面と、前記第2上面とは、略同じ大きさである、請求項11に記載の表示装置。   The display device according to claim 11, wherein the first lower surface and the second upper surface have substantially the same size.
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