JP2018119184A - Electrolytic etching solution composition, electrolytic etching method, electrolytically etched base material, electrode material for aluminum electrolytic capacitor, and capacitor - Google Patents

Electrolytic etching solution composition, electrolytic etching method, electrolytically etched base material, electrode material for aluminum electrolytic capacitor, and capacitor Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrolytic etching solution composition capable of producing a base material containing aluminum having a large electrostatic capacity and suitable as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor.SOLUTION: The electrolytic etching solution composition according to the present invention is used for forming pits by performing electrochemical etching on a base material containing aluminum. The electrolytic etching solution composition contains 10 to 70 mass% of at least one selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid, 0.1 to 10 mass% of aluminum chloride, and water.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、アルミニウムを含有する基材に電気化学的エッチングによりピットを形成するために用いられる電解エッチング液組成物に関する。また、本発明は、前記電解エッチング液組成物を用いた電解エッチング方法、及び前記電解エッチング液組成物を用いて電解エッチングされた基材、並びにその基材を用いて製造されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びコンデンサに関する。   The present invention relates to an electrolytic etching solution composition used for forming pits by electrochemical etching on a substrate containing aluminum. The present invention also provides an electrolytic etching method using the electrolytic etching solution composition, a base material electrolytically etched using the electrolytic etching solution composition, and an aluminum electrolytic capacitor manufactured using the base material. The present invention relates to an electrode material and a capacitor.

アルミニウムを含有する基材は、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として用いられている。また、静電容量を増大させる目的で、電気化学的又は化学的エッチング処理を施してアルミニウムを含有する基材の実効面積を拡大することが行われている。   A base material containing aluminum is used as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor. In order to increase the capacitance, an effective area of a base material containing aluminum is increased by performing an electrochemical or chemical etching treatment.

例えば、特許文献1には、電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法に用いる電解エッチング液として、塩素イオンを含む水溶液、塩素イオンと硫酸イオンを含む水溶液、及び硝酸イオンあるいは塩素イオンを含む水溶液が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses an aqueous solution containing chlorine ions, an aqueous solution containing chlorine ions and sulfate ions, and an aqueous solution containing nitrate ions or chlorine ions as an electrolytic etching solution used in the method for etching an aluminum foil for electrolytic capacitors. ing.

また、特許文献2には、電解コンデンサ用アルミ箔の製造方法に用いるエッチング液として、塩酸及び硫酸を含有する水溶液が開示されている。   Patent Document 2 discloses an aqueous solution containing hydrochloric acid and sulfuric acid as an etching solution used in a method for producing an aluminum foil for electrolytic capacitors.

特開平08−264391号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-264391 特開平09−180966号公報JP 09-180966 A

従来の電解エッチング液を用いた電解エッチング方法では、アルミニウムを含有する基材の静電容量を増大させる効果が十分ではなかった。このため、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい、アルミニウムを含有する基材を製造することは困難であった。   In the conventional electrolytic etching method using the electrolytic etching solution, the effect of increasing the capacitance of the base material containing aluminum is not sufficient. For this reason, it has been difficult to produce a base material containing a large amount of aluminum and suitable as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor.

そこで、本発明は、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい、アルミニウムを含有する基材を製造することが可能な電解エッチング液組成物を提供しようとするものである。また、本発明は、上記電解エッチング液組成物を用いた電解エッチング方法を提供しようとするものである。さらに、本発明は、上記電解エッチング液組成物で電解エッチングされた基材、並びにその電解エッチングされた基材を用いて製造されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びコンデンサを提供しようとするものである。   Therefore, the present invention intends to provide an electrolytic etching solution composition that is suitable as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor and that can produce a substrate having a large capacitance and containing aluminum. The present invention also provides an electrolytic etching method using the above electrolytic etching solution composition. Furthermore, the present invention intends to provide a base material electrolytically etched with the above electrolytic etching solution composition, and an electrode material and a capacitor for an aluminum electrolytic capacitor manufactured using the base material subjected to the electrolytic etching. .

本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、特定の成分を特定範囲の量で含有する電解エッチング液組成物によって、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい、アルミニウムを含有する基材が得られることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive investigations, the inventors of the present invention contain an aluminum having a large electrostatic capacity suitable as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor by an electrolytic etching solution composition containing a specific component in an amount within a specific range. It was found that a base material to be obtained was obtained, and the present invention was achieved.

すなわち、本発明は、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングすることにより前記基材にピットを形成するために用いられる電解エッチング液組成物であって、酢酸及び乳酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を合計10〜70質量%、塩化アルミニウムを0.1〜10質量%、並びに水を含有する電解エッチング液組成物を提供する。   That is, the present invention is an electrolytic etchant composition used to form pits in the substrate by electrochemically etching the substrate containing aluminum, and is selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid An electrolytic etching solution composition containing 10 to 70 mass% in total, 0.1 to 10 mass% of aluminum chloride, and water is provided.

また、本発明は、上記電解エッチング液組成物を用いて、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングする工程を含む電解エッチング方法を提供する。   The present invention also provides an electrolytic etching method including a step of electrochemically etching a substrate containing aluminum using the electrolytic etching solution composition.

さらに、本発明は、アルミニウムを含有する基材が上記電解エッチング液組成物で電解エッチングされた基材、並びにその電解エッチングされた基材を用いて製造されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びコンデンサを提供する。   Furthermore, the present invention provides a substrate in which an aluminum-containing substrate is electrolytically etched with the electrolytic etching solution composition, and an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor and a capacitor manufactured using the electrolytically etched substrate. provide.

本発明によれば、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい、アルミニウムを含有する基材を製造することが可能な電解エッチング液組成物を提供することができる。また、本発明によれば、上記電解エッチング液組成物を用いた電解エッチング方法を提供することができる。さらに、本発明によれば、上記電解エッチング液組成物で電解エッチングされた基材、並びにその電解エッチングされた基材を用いて製造されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材及びコンデンサを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electrolytic etching liquid composition which can manufacture the base material containing aluminum with a large electrostatic capacitance suitable as an electrode material for aluminum electrolytic capacitors can be provided. Moreover, according to this invention, the electrolytic etching method using the said electrolytic etching liquid composition can be provided. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a base material electrolytically etched with the electrolytic etching solution composition, and an electrode material and a capacitor for an aluminum electrolytic capacitor manufactured using the base material subjected to the electrolytic etching. .

以下、本発明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の一実施形態の電解エッチング液組成物は、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングすることにより、その基材にピットを形成するために用いられるものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described. The electrolytic etching solution composition of one embodiment of the present invention is used for electrochemically etching a base material containing aluminum to form pits on the base material.

本明細書における「アルミニウムを含有する基材」(本明細書において、単に「基材」と記載することがある。)は、アルミニウムを含有していればよく、その形状は限定されない。好適な基材の材質としては、例えば、純アルミニウム(純度99%以上のアルミニウム)や、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金等を挙げることができる。基材の形状としては、例えば、箔、板、及びこれらを備える成形体等を挙げることができる。また、本明細書における「ピット」には、孔及び穴が含まれ、貫通及び非貫通を問うものではなく、その形状は限定されない。   The “base material containing aluminum” in this specification (in this specification, simply referred to as “base material”) may contain aluminum, and its shape is not limited. Suitable materials for the base material include, for example, pure aluminum (aluminum having a purity of 99% or more), an aluminum alloy mainly composed of aluminum, and the like. As a shape of a base material, foil, a board, a molded object provided with these, etc. can be mentioned, for example. In addition, the “pit” in the present specification includes a hole and a hole, and does not ask for penetration or non-penetration, and its shape is not limited.

本発明の一実施形態の電解エッチング液組成物は、酢酸及び乳酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を合計10〜70質量%、塩化アルミニウムを0.1〜10質量%、並びに水を含有する。この電解エッチング液組成物を用いて、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングすることにより、アルミニウム電解コンデンサ用電極材料として好適な、静電容量の大きい基材を製造することが可能となる。   The electrolytic etching solution composition of one embodiment of the present invention contains at least one selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid in a total of 10 to 70% by mass, aluminum chloride in an amount of 0.1 to 10% by mass, and water. . By using this electrolytic etching solution composition to electrochemically etch an aluminum-containing substrate, it is possible to produce a substrate having a large capacitance suitable as an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor. Become.

電解エッチング液組成物中の酢酸及び乳酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の濃度は、合計10〜70質量%である。酢酸及び乳酸のうちの少なくとも1種の濃度は、基材の静電容量を大きくする効果が高いことから、合計30〜60質量%であることが好ましく、合計40〜60質量%であることがより好ましく、合計45〜55質量%であることがさらに好ましい。酢酸及び乳酸のうち、酢酸を必須成分として用いることが好ましく、酢酸のみを用いた場合は、基材の静電容量を大きくする効果が高いことからより好ましい。   The concentration of at least one selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid in the electrolytic etching solution composition is 10 to 70% by mass in total. The concentration of at least one of acetic acid and lactic acid is preferably 30 to 60% by mass in total because the effect of increasing the capacitance of the substrate is high, and is preferably 40 to 60% by mass in total. More preferably, the total content is more preferably 45 to 55% by mass. Among acetic acid and lactic acid, it is preferable to use acetic acid as an essential component, and it is more preferable to use only acetic acid because the effect of increasing the capacitance of the substrate is high.

電解エッチング液組成物中の塩化アルミニウムの濃度は、0.1〜10質量%である。基材に直線状のピットを形成でき、また、静電容量を大きくする効果が高いことから、塩化アルミニウムの濃度は、0.3〜8質量%であることが好ましく、0.3〜5質量%であることがより好ましく、0.5〜2質量%であることがさらに好ましい。   The concentration of aluminum chloride in the electrolytic etching solution composition is 0.1 to 10% by mass. Since the linear pits can be formed on the substrate and the effect of increasing the capacitance is high, the concentration of aluminum chloride is preferably 0.3 to 8% by mass, and 0.3 to 5% by mass. % Is more preferable, and 0.5 to 2% by mass is even more preferable.

本発明の一実施形態の電解エッチング液組成物は、酢酸及び乳酸のうちの少なくとも1種、並びに塩化アルミニウムのほか、必須成分として、水を含有する。この電解エッチング液組成物は、酢酸及び乳酸うちの少なくとも1種、並びに塩化アルミニウムを、それぞれ上述した特定範囲の濃度で含有する水溶液であることが好ましい。電解エッチング液組成物中の水の含有量は、20質量%以上90質量%未満であることが好ましく、30質量%以上70質量%未満であることがより好ましく、30質量%以上60質量%未満であることがさらに好ましく、40質量%以上55質量%未満であることが特に好ましい。   The electrolytic etching solution composition of one embodiment of the present invention contains water as an essential component in addition to at least one of acetic acid and lactic acid, and aluminum chloride. This electrolytic etching solution composition is preferably an aqueous solution containing at least one of acetic acid and lactic acid, and aluminum chloride in a concentration in the specific range described above. The content of water in the electrolytic etching solution composition is preferably 20% by mass or more and less than 90% by mass, more preferably 30% by mass or more and less than 70% by mass, and more preferably 30% by mass or more and less than 60% by mass. More preferably, it is 40 mass% or more and less than 55 mass%.

本発明の一実施形態の電解エッチング液組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて、その他の添加剤を含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、安定化剤、消泡剤、pH調整剤、比重調整剤、粘度調整剤、濡れ性改善剤、キレート剤、酸化剤、還元剤、及び界面活性剤等を挙げることができる。これらの添加剤の1種又は2種以上を用いることができる。電解エッチング液組成物中のその他の添加剤の含有量は、添加剤1種類あたり0.01〜10質量%であることが好ましい。   The electrolytic etching solution composition of one embodiment of the present invention can contain other additives as necessary within a range not impairing the object of the present invention. Examples of other additives include stabilizers, antifoaming agents, pH adjusting agents, specific gravity adjusting agents, viscosity adjusting agents, wettability improving agents, chelating agents, oxidizing agents, reducing agents, and surfactants. be able to. One or more of these additives can be used. The content of other additives in the electrolytic etching solution composition is preferably 0.01 to 10% by mass per one type of additive.

本発明の一実施形態の電解エッチング液組成物が基材に形成するピットの形状は、電解エッチング液組成物の構成や条件によって変えることができる。例えば、ピットの直径又は対角線の長さが1nm〜10μmであるピットを形成した場合は静電容量の大きい基材を得ることができることから好ましく、ピットの直径又は対角線の長さが100nm〜5μmの範囲である場合がより好ましい。   The shape of the pit formed on the substrate by the electrolytic etching solution composition of one embodiment of the present invention can be changed depending on the configuration and conditions of the electrolytic etching solution composition. For example, when a pit having a pit diameter or diagonal length of 1 nm to 10 μm is formed, a substrate having a large capacitance can be obtained, and the pit diameter or diagonal length is preferably 100 nm to 5 μm. The range is more preferable.

本発明の一実施形態の電解エッチング方法は、上述の電解エッチング液組成物を用いて、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングする工程を含む。これにより、基材にピットを形成することができ、それにより、基材の実効表面積を拡大することができる。電解エッチングの方法は特に限定されるものではなく、公知の電解エッチングの方法を用いることができる。例えば、電解エッチング液組成物による電解エッチング浴に基材を浸漬させ、電解エッチング浴中で直流電流又は交流電流を印加することで、基材を電気化学的にエッチングすることができる。   The electrolytic etching method of one embodiment of the present invention includes a step of electrochemically etching a base material containing aluminum using the above-described electrolytic etching solution composition. Thereby, a pit can be formed in a base material and, thereby, the effective surface area of a base material can be expanded. The method of electrolytic etching is not particularly limited, and a known electrolytic etching method can be used. For example, the substrate can be electrochemically etched by immersing the substrate in an electrolytic etching bath with an electrolytic etching solution composition and applying a direct current or an alternating current in the electrolytic etching bath.

本発明の一実施形態の電解エッチング方法では、上述の電解エッチング液組成物の電解エッチング浴を用いることができ、電解エッチング浴の温度を40〜90℃の範囲にすることが好ましく、50〜80℃の範囲にすることがより好ましい。また、電解エッチングにおける電流密度は、0.01〜1.0A/cm2の範囲とすることが好ましく、0.05〜0.5A/cm2の範囲とすることがより好ましい。さらに、電解エッチングの時間は、10〜3000秒の範囲が好ましく、50〜500秒の範囲がより好ましい。 In the electrolytic etching method of one embodiment of the present invention, an electrolytic etching bath of the above-described electrolytic etching solution composition can be used, and the temperature of the electrolytic etching bath is preferably in the range of 40 to 90 ° C., and 50 to 80 More preferably, the temperature is in the range of ° C. The current density in electrolytic etching is preferably in the range of 0.01 to 1.0 A / cm 2 , and more preferably in the range of 0.05 to 0.5 A / cm 2 . Furthermore, the electrolytic etching time is preferably in the range of 10 to 3000 seconds, and more preferably in the range of 50 to 500 seconds.

本発明の一実施形態の電解エッチング方法は、基材を電気化学的にエッチングする前に、基材の表面を前処理する工程を含むことが好ましい。この前処理工程では、基材の表面の脱脂、自然酸化皮膜の除去、及び洗浄等を行うことができる。   The electrolytic etching method of one embodiment of the present invention preferably includes a step of pretreating the surface of the substrate before electrochemically etching the substrate. In this pretreatment step, degreasing of the surface of the substrate, removal of the natural oxide film, washing, and the like can be performed.

本発明の一実施形態の電解エッチング方法により、電解エッチングされた、アルミニウムを含有する基材を製造することができる。すわなち、アルミニウムを含有する基材が上述の電解エッチング液組成物で電解エッチングされた基材を提供することができる。この電解エッチングされた基材は、前述の電解エッチング液組成物を用いた電解エッチングによって形成されたピットを備えることができる。   By the electrolytic etching method of one embodiment of the present invention, an electrolytically etched base material containing aluminum can be manufactured. That is, the base material in which the base material containing aluminum was electrolytically etched with the above-described electrolytic etching solution composition can be provided. This electrolytically etched substrate can be provided with pits formed by electrolytic etching using the aforementioned electrolytic etching solution composition.

上述の電解エッチングされた基材を用いることにより、アルミニウム電解コンデンサ用電極材を製造することができる。具体的には、アルミニウムを含有する基材を上述の電解エッチング方法で電気化学的にエッチングした後、化成処理工程を経ることによって、基材の表面に酸化皮膜が形成されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材を製造することができる。上記化成処理工程は、アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法に採用される一般的な工程と同様の条件で実施すればよい。例えば、ホウ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、有機酸アンモニウム等の水溶液を化成用電解液として用い、その化成用電解液中に電解エッチングされた基材を浸漬し、電圧の付加により、基材の表面に酸化皮膜(酸化アルミニウム)を形成することができる。なお、上記化成処理工程を含む製造方法により、アルミニウム電解コンデンサ用の陽極材を製造することが好ましい。なお、陰極材の製造では、化成処理を行わなくてもよい。   By using the above-mentioned electrolytically etched base material, an electrode material for an aluminum electrolytic capacitor can be manufactured. Specifically, an electrode for an aluminum electrolytic capacitor in which an oxide film is formed on the surface of a base material by electrochemically etching a base material containing aluminum by the above-described electrolytic etching method and then undergoing a chemical conversion treatment step. The material can be manufactured. What is necessary is just to implement the said chemical conversion treatment process on the conditions similar to the general process employ | adopted as the manufacturing method of the electrode material for aluminum electrolytic capacitors. For example, an aqueous solution of ammonium borate, ammonium phosphate, organic acid ammonium, or the like is used as a chemical electrolyte for chemical conversion, and the electrolytically etched base material is immersed in the chemical electrolyte for chemical conversion. An oxide film (aluminum oxide) can be formed. In addition, it is preferable to manufacture the anode material for aluminum electrolytic capacitors by the manufacturing method including the chemical conversion treatment step. In addition, in manufacture of a cathode material, it is not necessary to perform a chemical conversion treatment.

また、上述の電解エッチングされた基材を用いることにより、コンデンサを製造することができる。好ましくは、電解エッチングされた基材を用いて、上述のアルミニウム電解コンデンサ用電極材を製造し、その電極材を用いて、アルミニウム電解コンデンサを製造することができる。アルミニウム電解コンデンサ用電極材を用いた電解コンデンサの製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。コンデンサは、電極材(陽極材及び陰極材)、電解液、及び電解紙等を備えることができる。   Moreover, a capacitor can be manufactured by using the above-mentioned electrolytically etched base material. Preferably, the electrode material for an aluminum electrolytic capacitor described above is manufactured using an electrolytically etched base material, and the aluminum electrolytic capacitor can be manufactured using the electrode material. The manufacturing method of the electrolytic capacitor using the electrode material for aluminum electrolytic capacitors is not particularly limited, and a known method can be used. The capacitor can include an electrode material (anode material and cathode material), an electrolytic solution, electrolytic paper, and the like.

以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、これらによって本発明が限定されるものではない。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention still in detail, the present invention is not limited by these.

<電解エッチング液組成物>
(実施例1〜5)
表1に示す配合となるように各成分を混合し、電解エッチング液組成物(実施例組成物No.1〜5)を製造した。なお、各実施例組成物の製造において、成分の合計が100質量%となるように水を配合した。
<Electrolytic etchant composition>
(Examples 1-5)
Each component was mixed so that it might become the mixing | blending shown in Table 1, and the electrolytic etching liquid composition (Example composition No. 1-5) was manufactured. In addition, in manufacture of each Example composition, water was mix | blended so that the sum total of a component might be 100 mass%.

Figure 2018119184
Figure 2018119184

(比較例1〜4)
表2に示す配合となるように各成分を混合し、電解エッチング液組成物(比較組成物1〜4)を製造した。なお、各比較組成物の製造において、成分の合計が100質量%となるように水を配合した。
(Comparative Examples 1-4)
Each component was mixed so that it might become the mixing | blending shown in Table 2, and the electrolytic etching liquid composition (comparative composition 1-4) was manufactured. In addition, in manufacture of each comparative composition, water was mix | blended so that the sum total of a component might be 100 mass%.

Figure 2018119184
Figure 2018119184

<基材>
電解エッチングを行う対象物である、アルミニウムを含有する基材として、縦20mm×横50mm×厚さ0.12mmのアルミニウム箔(UACJ社製)を用意した。このアルミニウム箔を、50℃の0.2質量%ヘキサフルオロケイ酸水溶液に60秒間浸漬し、次いで25℃の超純水に60秒間浸漬した後、乾燥空気により乾燥させることで処理済アルミニウム箔Aを製造した。
<Base material>
An aluminum foil (manufactured by UACJ) having a length of 20 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 0.12 mm was prepared as a base material containing aluminum, which is an object to be subjected to electrolytic etching. This aluminum foil is immersed in a 0.2% by mass hexafluorosilicic acid aqueous solution at 50 ° C. for 60 seconds, then immersed in ultrapure water at 25 ° C. for 60 seconds, and then dried with dry air to obtain a treated aluminum foil A Manufactured.

<電解エッチング方法>
(実施例6)
処理済アルミニウム箔Aに、電解エッチング電源(商品名「HA−151B」、北斗電子工業社製)、及び実施例組成物No.1の電解エッチング浴を使用し、0.2A/cm2、75℃、300秒の条件で電気化学的エッチングを行った。このようにして、電解エッチングされ、ピットが形成されたアルミニウム箔(実施例アルミニウム箔No.1)を製造した。
<Electrolytic etching method>
(Example 6)
To the treated aluminum foil A, an electrolytic etching power source (trade name “HA-151B”, manufactured by Hokuto Denshi Kogyo Co., Ltd.) and Example Composition No. Using the electrolytic etching bath No. 1, electrochemical etching was carried out under the conditions of 0.2 A / cm 2 , 75 ° C., and 300 seconds. Thus, the aluminum foil (Example aluminum foil No. 1) by which the electrolytic etching was performed and the pit was formed was manufactured.

(実施例7〜10)
実施例7〜10では、実施例6で使用された実施例組成物No.1の代わりに、それぞれ、実施例組成物No.2〜5を使用したこと以外は、実施例6と同様の方法により、電解エッチングされ、ピットが形成されたアルミニウム箔(実施例アルミニウム箔No.2〜5)を製造した。
(Examples 7 to 10)
In Examples 7 to 10, Example Composition No. used in Example 6 was used. In place of Example No. 1, Example Composition No. Except having used 2-5, the aluminum foil (Example aluminum foil No. 2-5) by which electrolytic etching was carried out and the pit was formed by the method similar to Example 6 was manufactured.

(比較例5〜8)
比較例5〜8では、実施例6で使用された実施例組成物No.1の代わりに、それぞれ、比較組成物1〜4を使用したこと以外は、実施例6と同様の方法により、電解エッチングされ、ピットが形成されたアルミニウム箔(比較アルミニウム箔1〜4)を製造した。
(Comparative Examples 5 to 8)
In Comparative Examples 5 to 8, the Example Composition No. used in Example 6 was used. In the same manner as in Example 6 except that comparative compositions 1 to 4 were used instead of 1, respectively, aluminum foils (comparative aluminum foils 1 to 4) that were electrolytically etched and formed with pits were produced. did.

<アルミニウム電解コンデンサ用電極材>
(実施例11)
実施例アルミニウム箔No.1に、硝酸5質量%及びホウ酸0.5質量%を溶解させた水溶液、並びに電解エッチング電源(商品名「HA−151B」、北斗電子工業社製)を使用し、0.1A/cm2、60℃、600秒の条件で後処理を行った。その処理後の実施例アルミニウム箔No.1に、ホウ酸4質量%及びホウ酸アンモニウム0.1質量%を溶解させた水溶液、並びに化成処理電源(商品名「PA600−0.1B」、テクシオテクノロジー社製)を使用し、25mA/cm2、90℃の条件下、定格電圧が580Vになるまで化成処理を行った。このようにして、アルミニウム電解コンデンサ用電極材(実施例評価用アルミニウム箔No.1)を製造した。
<Aluminum electrolytic capacitor electrode material>
(Example 11)
Example Aluminum foil No. 1, an aqueous solution in which 5% by mass of nitric acid and 0.5% by mass of boric acid were dissolved, and an electrolytic etching power source (trade name “HA-151B”, manufactured by Hokuto Denshi Kogyo Co., Ltd.) were used, and 0.1 A / cm 2 After-treatment was performed at 60 ° C. for 600 seconds. Example aluminum foil No. 1, an aqueous solution in which 4% by mass of boric acid and 0.1% by mass of ammonium borate were dissolved, and a chemical conversion treatment power source (trade name “PA600-0.1B”, manufactured by Techio Technology Co., Ltd.), 25 mA / Chemical conversion treatment was performed under conditions of cm 2 and 90 ° C. until the rated voltage reached 580V. Thus, the electrode material for aluminum electrolytic capacitors (aluminum foil No. 1 for example evaluation) was manufactured.

(実施例12〜15)
実施例12〜15では、実施例11で使用された実施例アルミニウム箔No.1の代わりに、それぞれ、実施例アルミニウム箔No.2〜5を使用したこと以外は、実施例11と同様の方法により、アルミニウム電解コンデンサ用電極材(実施例評価用アルミニウム箔No.2〜5)を製造した。
(Examples 12 to 15)
In Examples 12 to 15, the Example aluminum foil No. used in Example 11 was used. In place of Example 1, aluminum foil No. Except having used 2-5, the electrode material for aluminum electrolytic capacitors (Aluminum foil No. 2-5 for Example evaluation) was manufactured by the method similar to Example 11. FIG.

(比較例9〜12)
比較例9〜12では、実施例11で使用された実施例アルミニウム箔No.1の代わりに、それぞれ、比較アルミニウム箔1〜4を使用したこと以外は、実施例11と同様の方法により、アルミニウム電解コンデンサ用電極材(比較評価用アルミニウム箔1〜4)を製造した。
(Comparative Examples 9-12)
In Comparative Examples 9 to 12, the Example aluminum foil No. used in Example 11 was used. An electrode material for an aluminum electrolytic capacitor (aluminum foils 1 to 4 for comparative evaluation) was produced in the same manner as in Example 11 except that comparative aluminum foils 1 to 4 were used instead of 1, respectively.

<評価>
静電容量測定器(商品名「LCR−700」、三ツ和電気計器社製)を使用し、実施例評価用アルミニウム箔No.1〜5及び比較評価用アルミニウム箔1〜4の静電容量を測定した。そして、比較評価用アルミニウム箔1の静電容量に対する相対比(静電容量比)を算出した。結果を表3に示す。
<Evaluation>
An electrostatic capacity measuring instrument (trade name “LCR-700”, manufactured by Mitsuwa Electric Instruments Co., Ltd.) was used, and aluminum foil No. for Example evaluation was used. The electrostatic capacities of 1 to 5 and comparative evaluation aluminum foils 1 to 4 were measured. And the relative ratio (capacitance ratio) with respect to the electrostatic capacitance of the aluminum foil 1 for comparative evaluation was calculated. The results are shown in Table 3.

Figure 2018119184
Figure 2018119184

表3に示す通り、実施例11〜15で得られた実施例評価用アルミニウム箔No.1〜5の静電容量はいずれも、比較例9で得られた比較評価用アルミニウム箔1の静電容量に対して1.2倍以上であったことが確認された。なかでも、実施例13及び14で得られた実施例評価用アルミニウム箔No.3及び4の静電容量が大幅に増大し、そのなかでも実施例14で得られた実施例評価用アルミニウム箔No.4の静電容量が特に増大したことが確認された。   As shown in Table 3, the aluminum foil No. for Example evaluation obtained in Examples 11 to 15 was used. It was confirmed that the electrostatic capacities of 1 to 5 were 1.2 times or more of the electrostatic capacity of the comparative evaluation aluminum foil 1 obtained in Comparative Example 9. Especially, aluminum foil No. for Example evaluation obtained in Examples 13 and 14 was used. The capacitances of Nos. 3 and 4 were greatly increased, and among them, the aluminum foil No. 1 for Example evaluation obtained in Example 14 was used. It was confirmed that the capacitance of 4 increased particularly.

Claims (5)

アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングすることにより前記基材にピットを形成するために用いられる電解エッチング液組成物であって、
酢酸及び乳酸からなる群から選ばれる少なくとも1種を合計10〜70質量%、
塩化アルミニウムを0.1〜10質量%、並びに
水を含有する電解エッチング液組成物。
An electrolytic etchant composition used to form pits in the substrate by electrochemically etching the substrate containing aluminum,
A total of 10 to 70% by mass of at least one selected from the group consisting of acetic acid and lactic acid,
An electrolytic etching solution composition containing 0.1 to 10% by mass of aluminum chloride and water.
請求項1に記載の電解エッチング液組成物を用いて、アルミニウムを含有する基材を電気化学的にエッチングする工程を含む電解エッチング方法。   An electrolytic etching method comprising a step of electrochemically etching a base material containing aluminum using the electrolytic etching solution composition according to claim 1. アルミニウムを含有する基材が請求項1に記載の電解エッチング液組成物で電解エッチングされた基材。   The base material by which the base material containing aluminum was electrolytically etched with the electrolytic etching liquid composition of Claim 1. 請求項3に記載の電解エッチングされた基材を用いて製造されたアルミニウム電解コンデンサ用電極材。   An electrode material for an aluminum electrolytic capacitor produced using the electrolytically etched base material according to claim 3. 請求項3に記載の電解エッチングされた基材を用いて製造されたコンデンサ。   A capacitor manufactured using the electrolytically etched substrate according to claim 3.
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