JP2018101719A - Drainage mechanism - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、平板上に溜まった水を排水するための排水機構に関する。 The present invention relates to a drainage mechanism for draining water accumulated on a flat plate.
半導体デバイス等の製造工程において、被加工物を吸着保持しながら搬送する搬送パッドの吸着面の洗浄や、被加工物の洗浄等を行うための洗浄装置が用いられる(例えば、特許文献1)。この種の洗浄装置では、洗浄水を供給しながら搬送パッドの吸着面や被加工物を洗浄し、洗浄後に搬送パッドの吸着面や被加工物を乾燥させる。 In a manufacturing process of a semiconductor device or the like, a cleaning device is used for cleaning a suction surface of a transport pad that transports a workpiece while sucking and holding the workpiece, cleaning the workpiece, and the like (for example, Patent Document 1). In this type of cleaning apparatus, the suction surface of the transport pad and the workpiece are cleaned while supplying cleaning water, and the suction surface of the transport pad and the workpiece are dried after cleaning.
洗浄装置で洗浄に用いられた水は、所定の流路を通して排水される。ところが、洗浄装置を構成する平板部分の表面に水が付着した場合に、表面張力によって平板部分の表面上に水が溜まる場合がある。こうした平板部分が搬送パッドの吸着面や被加工物に近い位置にある場合、平板部分の表面に溜まった水が何らかの理由で巻き上がって、パッドの吸着面や被加工物を濡らしてしまうおそれがある。例えば、噴出する空気によって搬送パッドの吸着面や被加工物を乾燥させようとした場合に、噴出された空気が原因で、平板上での水の巻き上がりが生じる可能性がある。 The water used for cleaning by the cleaning device is drained through a predetermined flow path. However, when water adheres to the surface of the flat plate portion constituting the cleaning device, water may accumulate on the surface of the flat plate portion due to surface tension. If such a flat plate portion is located near the suction surface of the transport pad or the workpiece, the water accumulated on the surface of the flat plate portion may roll up for some reason and wet the suction surface of the pad or the workpiece. is there. For example, when the suction surface of the transport pad and the workpiece are dried by the air that is ejected, the air that is ejected may cause water to roll up on the flat plate.
上記のような平板部分への水の滞留を防ぐべく、水が付着する可能性のある部分を全て下方に水が流れやすい傾斜面で構成する、平板部分の表面上に特殊な撥水加工を施す、等の対策が考えられる。しかし、傾斜面を用いる構成は、上下方向のスペースが制約される場合に適用が難しいという問題がある。また、撥水加工を行っても、表面張力による水の溜まりが十分に解消されないおそれがあり、コストも高くなる。 In order to prevent the water from staying in the flat plate part as described above, a special water-repellent finish is formed on the surface of the flat plate part, which is composed of inclined surfaces where water can easily flow downward. Measures such as applying can be considered. However, the configuration using the inclined surface has a problem that it is difficult to apply when the vertical space is restricted. Moreover, even if water-repellent processing is performed, there is a possibility that the accumulation of water due to surface tension may not be sufficiently eliminated, resulting in an increase in cost.
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、平板の上に溜まった水を省スペースな構成で確実に排水可能な排水機構を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a point, and it aims at providing the drainage mechanism which can drain | drain the water collected on the flat plate reliably by a space-saving structure.
本発明は、平板の上面に表面張力で溜まった水を排水する排水機構であって、表面張力で溜まった水の厚み以下の高さで平板の上面から離間させ平板の外周部分に配設する案内板を備え、案内板は、平板の外周縁より外側にはみ出したはみ出し部を備え、平板の上面と案内板の下面とで形成される隙間で毛細管現象を作用させ平板の上面に溜まった水を平板の外側に誘導させ、はみ出し部に到達した水を自重落下させることで平板の上に溜まった水を排水させることを特徴とする。 The present invention is a drainage mechanism for draining water accumulated on the upper surface of a flat plate by surface tension, and is disposed at the outer peripheral portion of the flat plate at a height equal to or less than the thickness of the water accumulated by surface tension and spaced from the upper surface of the flat plate A guide plate is provided, and the guide plate has a protruding portion that protrudes outward from the outer peripheral edge of the flat plate, and water collected on the upper surface of the flat plate is caused by capillary action in a gap formed by the upper surface of the flat plate and the lower surface of the guide plate The water collected on the flat plate is drained by guiding the water to the outside of the flat plate and dropping the water reaching the protruding portion by its own weight.
この排水機構によれば、平板の上面へ対向する部分と、平板の外周縁の外側に位置するはみ出し部とを備えた簡単な構成の案内板によって、平板上の水を確実に排水することができる。 According to this drainage mechanism, the water on the flat plate can be surely drained by the guide plate having a simple configuration including the portion facing the upper surface of the flat plate and the protruding portion located outside the outer peripheral edge of the flat plate. it can.
本発明によれば、平板の上に溜まった水を省スペースな構成で確実に排水可能な排水機構を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the drainage mechanism which can drain reliably the water collected on the flat plate with a space-saving structure can be obtained.
以下、添付図面を参照して、本実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態に係る排水機構を備えた洗浄装置10と、洗浄装置10によって洗浄される搬送パッド12を備えた搬送機構11とを示す断面図である。図2は、洗浄装置10と搬送パッド12の関係を示す斜視図である。図2では、本発明に係る構成を見やすくするために、洗浄装置10を構成する洗浄ブラシ20を、図1における実際の位置よりも上方に位置をずらせて一点鎖線で仮想的に示している。
Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a
図1に示すように、搬送パッド12は、枠体13と、枠体13の下面に形成した凹部内に保持される吸着保持部14を備え、吸着保持部14の下面である吸着面15を下方に向けている。吸着保持部14はポーラスセラミックス等の多孔質部材からなり、図1に概念的に示す吸引手段16を作動することにより吸着保持部14に吸引力が作用して、図示を省略する板状の被加工物を吸着面15に吸着保持することができる。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、搬送機構11は、搬送パッド12を支持する作動アーム17を有している。作動アーム17は昇降手段18によって上下方向に移動可能であり、さらに水平駆動手段19によって水平方向に移動可能である。水平駆動手段19による水平方向の移動は、上下方向に向く回転軸を中心とする回転(旋回)や直線移動等、任意のものとすることができる。昇降手段18及び水平駆動手段19による作動アーム17の動作によって、搬送パッド12に保持された状態の被加工物が搬送される。
As shown in FIG. 1, the transport mechanism 11 has an
図1に示すように、洗浄装置10は、搬送パッド12の下方に位置する洗浄ブラシ20と、洗浄ブラシ20を回転駆動する回転手段21を備えている。洗浄ブラシ20は、保持部材22上にブラシ部23を保持した構成である。回転手段21は、上方に向けて延びる回転軸24をモータによって回転駆動させる。回転軸24の先端に保持部材22が支持されており、回転軸24の回転に伴って洗浄ブラシ20が回転する。洗浄ブラシ20の近傍には、洗浄水噴射ノズル25が設けられている。洗浄水噴射ノズル25には洗浄水供給源26から洗浄水が供給され、洗浄水噴射ノズル25は、搬送パッド12の吸着面15が位置する斜め上方に向けて洗浄水を噴出する。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、洗浄ブラシ20の下方には、カバー30と防水ケース40が設けられている。防水ケース40には上下方向に貫通する開口41が形成されており、開口41の下方に回転手段21が位置する。回転軸24は、開口41を通して防水ケース40の上方に突出する。カバー30が開口41を覆っており、回転軸24は、カバー30を貫通すると共にカバー30に対して固定される。従って、カバー30は回転軸24と共に回転する。
As shown in FIG. 1, a
図2に示すように、搬送パッド12の吸着面15は円形である。これに対して洗浄ブラシ20は、円形をなす吸着面15の径方向に細長い直方体形状である。洗浄ブラシ20の長さは吸着面15の直径にほぼ等しい。洗浄装置10により吸着面15を洗浄する際には、回転軸24の回転中心に吸着面15の中心を位置合わせした状態で、昇降手段18によって搬送パッド12を下降させて吸着面15をブラシ部23に接触させる。そして、洗浄水噴射ノズル25から洗浄水を噴出させながら、回転手段21によって洗浄ブラシ20を回転させる。これにより、吸着面15が洗浄される。
As shown in FIG. 2, the
搬送パッド12により保持されて搬送される被加工物は、半導体基板、無機材料基板、デバイスが形成された半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等、様々なものを適用可能である。また、搬送機構11による被加工物の搬送は様々な用途に適用可能であり、一例として、被加工物を研削砥石で研削加工する研削装置への搬入及び搬出に搬送機構11を用いることができる。この場合、被加工物の研削加工後に吸着面15に付着した研削屑等を、洗浄装置10によって洗い流すことができる。
Various objects such as a semiconductor substrate, an inorganic material substrate, a semiconductor wafer on which a device is formed, an optical device wafer, and the like can be applied to the workpiece held and conveyed by the
図1及び図2に示すように、カバー30は、洗浄ブラシ20の下方で水平に配置される円板状の平板31と、平板31の外周縁から下方に向けて延びる円筒部32とを有し、円筒部32の底部が開放されている。平板31の中心に、回転軸24が貫通する貫通穴が形成されている。この貫通穴と回転軸24の間は水密状態で塞がれている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
図1及び図2に示すように、防水ケース40は、カバー30の下方で水平に配置される平らな底面部42と、底面部42から上方に向けて突出する円筒部43とを有しており、円筒部43の内周面が、先に述べた開口41を構成している。円筒部43はカバー30の円筒部32よりも径が小さく、円筒部32の内側に円筒部43が位置している。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
洗浄装置10では、洗浄時に洗浄水噴射ノズル25から供給した洗浄水が、洗浄ブラシ20の下方に流れ落ちる。特に、円形の吸着面15の下方に位置しているのが細長い直方体形状の洗浄ブラシ20であるため、洗浄水は、洗浄ブラシ20では止水されずにカバー30の平板31上まで流れやすい。カバー30の平板31上に流れた洗浄水は、平板31の表面から外周側に流れて防水ケース40の底面部42に落ちる。平板31の貫通穴と回転軸24との間が水密状態になっているため、平板31の貫通穴から防水ケース40の開口41内へ洗浄水が入り込むことはない。また、円筒部32の内側位置に円筒部43が設けられているので、円筒部32の外周面に沿って底面部42に向けて流れる洗浄水は、開口41内に流れ込まない。従って、回転手段21が設けられている防水ケース40の内部空間は、水密に保たれている。そして、底面部42上に落ちた洗浄水は、図示を省略する排水路を経て洗浄装置10外に排出される。
In the
洗浄水噴射ノズル25から洗浄水が継続的に供給されている洗浄中は、以上に述べた流れで、洗浄水が洗浄装置10の外側に排水される。しかし、カバー30の平板31上には、表面張力で水が溜まる可能性がある。特に、洗浄装置10による吸着面15の洗浄作業が完了して洗浄水の供給が停止された後に、吸着面15や洗浄ブラシ20に付着した水滴が落下することにより、平板31上に水が溜まりやすい。図1は、平板31の上面に表面張力で水Wが溜まった状態を示している。
During the cleaning in which the cleaning water is continuously supplied from the cleaning
洗浄後の搬送パッド12の吸着面15は、次に被加工物を搬送するときに備えて、乾燥した状態にする必要がある。ここで、噴出する空気を用いて吸着面15を乾燥させようとした場合に、この空気の勢いで、平板31の上面に溜まった水Wが巻き上がり、吸着面15等を濡らしてしまうおそれがある。また、乾燥用の空気の噴出以外の原因によっても、平板31上の水Wが巻き上がる可能性がある。そのため、洗浄の完了後には、平板31上に溜まっている水Wを排水することが求められる。
The
本実施の形態の洗浄装置10は、カバー30の平板31上に溜まった水を確実に排水するために、排水案内板50が設けられている。図1及び図2に示すように、排水案内板50は、平板31の外周縁付近の上方に水平に配置される第1板部51と、平板31よりも径方向の外側に位置して下方向に延びる第2板部52とを有している。第1板部51と第2板部52はそれぞれ矩形の平板形状をなしており、排水案内板50は、第1板部51と第2板部52の互いの端部が接続するL字型の部材である。図2に示すように、排水案内板50は、カバー30の周方向の一部分に一つのみが設けられている。
The
なお、排水案内板50における第2板部52は、図示のような平板でなく、円弧板や棒状の形状等でもよい。また、図示の排水案内板50は、第1板部51の端部から第2板部52が下方向に延びるL字型であるが、第2板部52は第1板部51に対して下方向に延びていればよく、第1板部51の端部に第2板部52が接続するL字型に限定されるものではない。
In addition, the
図1において、排水案内板50周りの構造を、丸囲み部分に拡大して示した。第1板部51は、平板31の上面に対して上下方向に所定の隙間D1を空けて支持されている。図1中の丸囲み部分に拡大して示すように、第1板部51の下面と平板31の上面とで形成される隙間D1(平板31の上面に対する第1板部51の高さ)は、平板31上に表面張力で溜まる水Wの厚みT以下(T≧D1)に設定されている。
In FIG. 1, the structure around the
第1板部51は、隙間D1をもって平板31の上面に対向する部分と、平板31の外周縁よりも径方向の外側に突出する部分とを有しており、径方向外側に突出する第1板部51の端部から下方に向けて第2板部52が突出している。第2板部52は、その全体が平板31の外周縁よりも径方向の外側にはみ出して位置するはみ出し部であり、カバー30の円筒部32の外周面に対して所定の隙間D2を空けて対向している。円筒部32の外周面と第2板部52とで形成される隙間D2は、先に述べた第1板部51と平板31との間の隙間D1の間隔よりも大きく設定されている。
The
排水案内板50は、第1板部51と平板31を接続する支持部53を介してカバー30に支持されている。支持部53は、第1板部51の幅方向の一部の領域にのみ設けられており、支持部53が存在しない部分では、第1板部51の下面と平板31の上面の間に上記の隙間D1が確保されている。
The
以上の構成を備える洗浄装置10では、平板31の上面に表面張力で水Wが溜まると、排水案内板50の第1板部51の下面と平板31の上面とで形成される隙間D1で毛細管現象が作用して、平板31の上面に溜まった水Wが平板31の外側に誘導される。毛細管現象によって導かれた水Wは、平板31の外縁部を超えて、円筒部32と第2板部52との間を通って下方に自重落下する。このように、平板31の上面に溜まる水Wを、簡単な構成の排水案内板50を用いて底面部42側へ排水することができる。
In the
毛細管現象によって狭い隙間D1に誘導された水Wを、隙間D1から自重落下する状態にさせやすくするために、水Wに作用する水圧や重力に加えて、洗浄装置10に加わる振動や、カバー30の回転により生じる遠心力のような外力を用いることができる。
In order to make the water W guided to the narrow gap D1 by the capillary phenomenon easily fall into a state where the water W falls from the gap D1, the vibration applied to the
また、円筒部32の外周面と第2板部52との間の隙間D2が、第1板部51の下面と平板31の上面との間の隙間D1よりも大きく設定されているため、自重落下する水Wを停滞させずにスムーズに下方へ流すことができる。
Further, since the gap D2 between the outer peripheral surface of the
なお、洗浄ブラシ20を回転させる際にカバー30が共に回転するが、洗浄時の洗浄ブラシ20の回転速度は高速でないため、カバー30に働く遠心力は小さい。従って、回転手段21の駆動力に基づく遠心力のみで、平板31上の水Wを全て振り落とすことは難しい。これに対して、本実施の形態の排水機構によれば、排水案内板50を用いて平板31の外周縁まで水Wを導くことができるので、カバー30の回転速度のような条件に依存せずに、確実に平板31上から水Wを排出させることができる。
Note that the
仮に、本実施の形態とは異なり、平板31の上面を、中心から外周側に向けて底面部42からの高さが小さくなるような傾斜面にすることで、水が溜まりにくくなる。しかし、このような傾斜面は水平面に比して上下方向に占める範囲が大きくなるため、上下方向のスペースに余裕が無い構造では採用が難しい。特に、水をスムーズに流すためには傾斜面の傾斜角を大きくする必要があり、上下方向により大きなスペースを要する。
Temporarily, unlike this Embodiment, it becomes difficult for water to collect by making the upper surface of the
また、本実施の形態とは異なり、平板31の上面に溜まる水を、空気の噴射等を用いて吹き飛ばす手段を設けると、構造が複雑になってしまう。加えて、吹き飛ばされた水滴が、吸着面15等の意図しない箇所に付着するリスクもある。
Unlike the present embodiment, if a means for blowing off the water accumulated on the upper surface of the
これらの構成に対して、本実施の形態に係る洗浄装置10では、カバー30上に排水案内板50を設けた簡単な構成で、平板31の上面から下方へのスムーズな排水を実現することができる。平板31に対する排水案内板50の上方への突出量は、ごく狭い隙間D1(平板31上に表面張力で溜まる水Wの厚みT以下)に対応する小さいものである。そのため、平板31の上面を傾斜面とする上記の構成に比べて、狭い上下方向のスペースに配設することが可能である。加えて、排水案内板50はカバー30の周方向の一部分にのみ設けられているので(図2参照)、周方向に占めるスペースも小さくて済む。従って、小型軽量で省スペースな排水機構とすることができる。また、排水案内板50を備えた排水機構は、毛細管現象を利用して平板31上の水Wを誘導して自由落下させるものであるため、排水に際して水滴が大きく飛び散る等のリスクもない。
In contrast to these configurations, in the
上記実施の形態とは異なる変形例を採用することも可能である。例えば、上記実施の形態では、排水案内板50の第1板部51の下面は、カバー30の平板31の上面と平行な平面形状であるが、先に述べた条件T≧D1(平板31上に表面張力で溜まる水Wの厚みT≧隙間D1)を満たすものであれば、このような平面以外の構成を選択してもよい。一例として、第1板部51の下面を、平板31の上面に対して傾斜する面や、一部に凹凸を有する面、等にすることも可能である。こうした第1板部51の下面に関する変形例は、毛細管現象による水の誘導作用を向上させる形態を選択することが好ましい。
It is also possible to adopt a modified example different from the above embodiment. For example, in the above embodiment, the lower surface of the
上記実施の形態における排水案内板50の第2板部52は、平板31の外縁部まで到達した水Wを自重落下させる流路を形成する部分であり、水Wを滞りなく自重落下させることができれば、任意の構成を選択できる。例えば、上記実施の形態では、第2板部52が平板形状であるが、第2板部52を、先に述べたような円弧板(カバー30の円筒部32に沿う円筒形状等)や棒状の形状にしてもよい。さらに、第2板部52を、下方に進むにつれて径を大きくする円錐形状等に変更してもよい。
The
また、上記実施の形態とは異なり、排水案内板50の第2板部52とカバー30の円筒部32との間の隙間D2を、第1板部51と平板31との間の隙間D1と同程度の大きさにしてもよい。この構成では、毛細管現象による水Wの誘導が第2板部52の下端の位置まで行われ、第2板部52の下端位置を超えたところで水Wが自重落下する。
Unlike the above embodiment, the gap D2 between the
上記実施の形態では、排水案内板50の支持を支持部53によって行っているが、これ以外の箇所によって排水案内板50を支持してもよい。例えば、カバー30の円筒部32に接続する支持部を第2板部52に設けたり、回転軸24から延ばした支持アームにより排水案内板50を支持させたりすることも可能である。
In the above-described embodiment, the
上記実施の形態では、洗浄ブラシ20と共に回転するカバー30の平板31の上面からの排水を対象としているが、表面張力によって平板の上面に水が溜まる構成であれば、平板が回転するか否かを問わずに本発明を適用することができる。例えば、本発明の排水機構は、平板が水平方向に直線移動を行うタイプ、平板が固定されていて移動しないタイプ等にも適用可能である。
In the above embodiment, drainage from the upper surface of the
上記実施の形態では、円形状の平板31に対して周方向の一箇所に排水案内板50を設けているが、排水機構の構成はこれに限定されない。案内板の数や配置は、要求される排水性能や周辺の構造に応じて適宜選択可能である。例えば、周方向の複数箇所に排水用の案内板を設ける形態や、図示の排水案内板50よりも周方向に幅広または幅狭な排水用の案内板を設ける形態にすることもできる。
In the said embodiment, although the
また、排水案内板50における、平板31の径方向への第1板部51の長さや、上下方向への第2板部52の長さについても、適宜変更可能である。
Further, the length of the
本発明は、排水の対象となる水が溜まる平板として、上記実施の形態の平板31のような円板形状以外にも、矩形などの任意の形状の平板に適用が可能である。
The present invention can be applied to a flat plate having an arbitrary shape such as a rectangle as well as a circular plate shape like the
上記実施の形態は、搬送パッド12の吸着面15を洗浄ブラシ20で洗浄する洗浄装置10に適用したものである。これと異なり、搬送パッドの吸着面に吸引保持される被加工物(例えば、半導体基板、無機材料基板、デバイスが形成された半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等)を洗浄の対象とする洗浄装置にも、本発明の排水機構を適用することもできる。この変形例では、上記実施の形態の洗浄ブラシ20に代えて、スポンジ等の洗浄部材を用いて被加工物を洗浄する。そして、本発明に係る排水機構を適用することにより、上記実施の形態と同様に、平板の上面から被加工物への水の巻き上がりを防ぐことができる。
The above embodiment is applied to the
また、洗浄装置に限定されず、切削装置のチャックテーブルや研削装置のチャックテーブルにおける排水機構や、その他各種の加工装置における排水機構等にも、本発明は適用が可能である。 Further, the present invention is not limited to the cleaning device, and the present invention can be applied to a drainage mechanism in a chuck table of a cutting device, a chuck table of a grinding device, a drainage mechanism in other various processing devices, and the like.
また、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態や変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。 Moreover, although the embodiment of the present invention has been described, as another embodiment of the present invention, the above embodiment and modifications may be combined in whole or in part.
また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施態様をカバーしている。 The embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various changes, substitutions, and modifications may be made without departing from the spirit of the technical idea of the present invention. Furthermore, if the technical idea of the present invention can be realized in another way by technological advancement or another derived technique, the method may be used. Accordingly, the claims cover all embodiments that can be included within the scope of the technical idea of the present invention.
以上説明したように、本発明は、平板の上面に溜まった水を省スペースで確実に排出することができるという効果を有し、特に、洗浄装置や各種の加工装置等に搭載される排水機構に有用である。 As described above, the present invention has an effect that the water accumulated on the upper surface of the flat plate can be surely discharged in a space-saving manner, and in particular, a drainage mechanism mounted on a cleaning device or various processing devices. Useful for.
10 洗浄装置
11 搬送機構
12 搬送パッド
14 吸着保持部
15 吸着面
20 洗浄ブラシ
21 回転手段
25 洗浄水噴射ノズル
30 カバー
31 平板
32 円筒部
40 防水ケース
41 開口
42 底面部
43 円筒部
50 排水案内板
51 第1板部
52 第2板部(はみ出し部)
53 支持部
D1 隙間
D2 隙間
W 水
DESCRIPTION OF
53 Support D1 Gap D2 Gap W Water
Claims (1)
表面張力で溜まった水の厚み以下の高さで該平板の上面から離間させ該平板の外周部分に配設する案内板を備え、
該案内板は、該平板の外周縁より外側にはみ出したはみ出し部を備え、
該平板の上面と該案内板の下面とで形成される隙間で毛細管現象を作用させ該平板の上面に溜まった水を該平板の外側に誘導させ、該はみ出し部に到達した水を自重落下させることで該平板の上に溜まった水を排水させることを特徴とする排水機構。 A drainage mechanism for draining water accumulated by surface tension on the upper surface of a flat plate,
A guide plate disposed at an outer peripheral portion of the flat plate separated from the upper surface of the flat plate at a height equal to or less than the thickness of water accumulated by surface tension;
The guide plate includes a protruding portion that protrudes outward from the outer peripheral edge of the flat plate,
Capillary action is caused by a gap formed between the upper surface of the flat plate and the lower surface of the guide plate to induce water accumulated on the upper surface of the flat plate to the outside of the flat plate, and the water reaching the protruding portion is dropped by its own weight. A drainage mechanism characterized by draining water accumulated on the flat plate.
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2016
- 2016-12-21 JP JP2016247743A patent/JP2018101719A/en active Pending
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