JP2018092813A - Probe pin and IC socket - Google Patents

Probe pin and IC socket Download PDF

Info

Publication number
JP2018092813A
JP2018092813A JP2016235913A JP2016235913A JP2018092813A JP 2018092813 A JP2018092813 A JP 2018092813A JP 2016235913 A JP2016235913 A JP 2016235913A JP 2016235913 A JP2016235913 A JP 2016235913A JP 2018092813 A JP2018092813 A JP 2018092813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
contact portion
coil spring
conductive
probe pin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016235913A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
大熊 真史
Masashi Okuma
真史 大熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Neverg Co Ltd
Original Assignee
Neverg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Neverg Co Ltd filed Critical Neverg Co Ltd
Priority to JP2016235913A priority Critical patent/JP2018092813A/en
Priority to PCT/JP2017/040683 priority patent/WO2018105316A1/en
Publication of JP2018092813A publication Critical patent/JP2018092813A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R13/00Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
    • H01R13/02Contact members
    • H01R13/22Contacts for co-operating by abutting
    • H01R13/24Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R33/00Coupling devices specially adapted for supporting apparatus and having one part acting as a holder providing support and electrical connection via a counterpart which is structurally associated with the apparatus, e.g. lamp holders; Separate parts thereof
    • H01R33/74Devices having four or more poles, e.g. holders for compact fluorescent lamps
    • H01R33/76Holders with sockets, clips, or analogous contacts adapted for axially-sliding engagement with parallely-arranged pins, blades, or analogous contacts on counterpart, e.g. electronic tube socket

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe pin which is wiping operated during using of the probe pin, and has excellent economical efficiency.SOLUTION: An anisotropic conductive member (a probe pin 1) comprises a contact member having a coil spring 13, a first contact 11, and a second contact 12. When a force compressing the coil spring is applied to a direction along an electrical conduction direction using a first electrode contact part 111 of the first contact 11, a second electrode contact part 121 of the second contact 12, and a substrate contact part 141 as a contact part, the first contact 11 can perform an operation that is incline to a first direction as one of a plate width direction while contacting to the coil spring 13 in a first inner part contact part 114. The second contact 12 can perform an operation that is inclined to a second direction that is the other plate width direction and is opposite to the first direction, while contacting to the coil spring 13 in a second inner part contact part 124.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、IC(Integrated Circuit、集積回路)の検査などに使用されるプローブピンおよびICソケットに関する。   The present invention relates to a probe pin and an IC socket used for inspection of an IC (Integrated Circuit).

多数の端子を備えるICを検査するときには、ICにおける隣接する端子同士での電気的接続を抑制しつつ、ICの各端子と、ICを検査するための検査装置(ICテスター)に接続された検査用基板における各端子に対応する電極とを電気的に接続するために、プローブピンが使用される。   When inspecting an IC having a large number of terminals, an inspection connected to each terminal of the IC and an inspection device (IC tester) for inspecting the IC while suppressing electrical connection between adjacent terminals in the IC. Probe pins are used to electrically connect the electrodes corresponding to the respective terminals on the circuit board.

プローブピンの代表的な構成は、両端が部分的に閉塞されつつ開口された管状体と、この管状体の内部に配置されたコイルバネと、このコイルバネに付勢されながら前記の部分的な閉塞部に係止された状態で管状体から部分的に突出する二つの接触部材とからなる。その他の構成として、板材をプレス加工やエッチング加工して得られる板状の2つの接触部材およびコイルバネで構成されたプローブピンがある。管状体が不要となるため、プローブピンの部品コストを削減することができる。   A typical configuration of the probe pin includes a tubular body that is opened while being partially closed at both ends, a coil spring disposed inside the tubular body, and the partially closed portion that is urged by the coil spring. And two contact members partially protruding from the tubular body in a state of being locked to each other. As another configuration, there is a probe pin constituted by two plate-like contact members obtained by pressing or etching a plate material and a coil spring. Since the tubular body is not necessary, the cost of parts of the probe pin can be reduced.

ここで検査対象であるICの各端子は、球状のはんだボールやリードフレームにはんだめっき、あるいは錫メッキされたものが一般的であり、表面が酸化している。酸化した表面は電気抵抗が大きいため、ICを検査するためのプローブピンは、例えばプローブピンの先端を鋭利な突起状に加工し、酸化皮膜を突き破るような構造を備える。また、その他の酸化皮膜を除去する方法として、ICの端子と接触する接触部材の接点部分を、ICの端子の表面上を摺動させる方法が知られている。接点部分の摺動は、極僅か(十um程度)でも効果があり、接点部分を摺動させることをワイピング動作と呼ぶ。このようなワイピング動作を備えるプローブピンとしては、特許文献1、および特許文献2に開示されたプローブピンなどがある。   Here, each terminal of the IC to be inspected is generally a solder ball or a lead frame solder-plated or tin-plated, and the surface is oxidized. Since the oxidized surface has a large electric resistance, a probe pin for inspecting an IC has a structure in which, for example, the tip of the probe pin is processed into a sharp protrusion to break through the oxide film. As another method for removing the oxide film, a method is known in which a contact portion of a contact member that contacts an IC terminal is slid on the surface of the IC terminal. The sliding of the contact portion is effective even with very little (about 10 μm), and sliding the contact portion is called a wiping operation. Examples of probe pins having such a wiping operation include the probe pins disclosed in Patent Literature 1 and Patent Literature 2.

特許文献1に開示されたプローブピンは、導電性金属からなるスリーブと、スリーブ内の軸方向に収容されるスプリングと、導電性金属からなるプランジャーを有するプローブピンであって、スリーブにプランジャーの軸方向の移動を規制する細長のガイド穴が形成され、ガイド穴はスリーブの軸方向と一定の傾斜角で延在し、プランジャーには、ガイド穴内に挿入される突起が形成され、プローブピンのプランジャーが軸方向に移動するとき、プランジャーに回転運動や水平運動のワイピング動作を与えることができる、とされる。   The probe pin disclosed in Patent Document 1 is a probe pin having a sleeve made of a conductive metal, a spring accommodated in an axial direction in the sleeve, and a plunger made of a conductive metal, and the plunger is attached to the sleeve. An elongated guide hole that restricts the axial movement of the guide is formed, the guide hole extends at a constant inclination angle with respect to the axial direction of the sleeve, and a protrusion that is inserted into the guide hole is formed on the plunger. When the plunger of the pin moves in the axial direction, the plunger can be given a wiping operation such as a rotational motion and a horizontal motion.

また、特許文献2に開示されたプローブピンは、半導体素子の電極部が接触される接点部を有するプランジャと、プランジャを半導体素子の電極部に向けて付勢するコイルスプリングを備え、接点部は、プランジャに設けられプローブ収容孔の軸方向に延びた片持形状の接触片の先端に設けられ、接触片は、プローブ収容孔より接点部側の位置に軸方向と直交する方向に突出した突起部を有し、突起部の頂点の位置が、軸方向で見てプローブ収容孔より外側にあるプローブピンであって、プランジャがコイルスプリングの付勢力に対抗して軸方向に変位すると、突起部が収容孔の縁部に対して接触して摺動することにより接触片が軸方向と直交する方向に変位することを特徴とする半導体素子用ソケット、とされる。 Further, the probe pin disclosed in Patent Document 2 includes a plunger having a contact portion with which the electrode portion of the semiconductor element is contacted, and a coil spring that biases the plunger toward the electrode portion of the semiconductor element. , Provided at the tip of a cantilever-shaped contact piece that is provided on the plunger and extends in the axial direction of the probe receiving hole, and the contact piece protrudes in a direction perpendicular to the axial direction at a position closer to the contact portion than the probe receiving hole The probe pin is located outside the probe receiving hole when viewed in the axial direction and the plunger is displaced in the axial direction against the urging force of the coil spring. Is a socket for a semiconductor element, wherein the contact piece is displaced in a direction orthogonal to the axial direction by sliding in contact with the edge of the accommodation hole.

特開2012−145593号公報JP 2012-145593 A 特開2012−252893号公報JP 2012-252893 A

しかしながら、特許文献1に開示されたプローブピンは、スリーブに細長のガイド穴を形成するため、スリーブが高価となる。また、スプリングがスリーブ内に収容されるため、スプリングの外径が小さくなり、ICの端子との接点部の接触圧力が不足する虞がある。   However, since the probe pin disclosed in Patent Document 1 forms an elongated guide hole in the sleeve, the sleeve is expensive. Further, since the spring is accommodated in the sleeve, the outer diameter of the spring is reduced, and the contact pressure of the contact portion with the IC terminal may be insufficient.

また、特許文献2に開示されたプローブピンは、プローブピンの突起部がソケット本体のプローブ収容孔の縁部と摺動するため、プローブ収容孔が摩耗し、ソケット本体の交換が必要となる虞がある。   Further, in the probe pin disclosed in Patent Document 2, since the protruding portion of the probe pin slides with the edge of the probe housing hole of the socket body, the probe housing hole may be worn and the socket body may need to be replaced. There is.

かかる技術背景に鑑み、本発明は、上記の問題を解決し、プローブピンの使用時においてワイピング動作し、経済性にも優れたプローブピンを提供することを課題とする。   In view of such a technical background, an object of the present invention is to provide a probe pin that solves the above-described problems, performs a wiping operation when the probe pin is used, and is excellent in economy.

上記の課題を解決するために提案される本発明は次のとおりである。
(1)棒状の概形を有しその長軸に沿った導電方向を有する異方導電性部材(プローブピン)であって、前記導電方向に沿った巻回軸を有し、少なくとも一つの粗巻き部を有するコイルバネ;および前記導電方向に沿った長軸を有する板形状を有し、前記長軸に沿った方向の一端部に第1電極接触部および前記長軸方向と直交する板幅方向の成分を含んで突出する第1フランジ部を有する導電性の第1コンタクトと、前記導電方向に沿った長軸を有する板形状を有し、前記長軸に沿った方向の一端部に第2電極接触部および前記長軸方向と直交する板幅方向の成分を含んで突出する第2フランジ部を有する導電性の第2コンタクトと、を有するコンタクト部材を備え、前記異方導電性部材は、前記導電方向で前記コンタクト部材が位置する側とは反対側の端部を含むように基板接触部を有し、前記第1コンタクトは、前記長軸に沿った方向の他端部側に位置する第1内部接触部を含む部分を有し、前記第1内部接触部を含む部分が前記コイルバネにおける前記基板接触部に遠位な方の端部から前記コイルバネ内に挿入され、前記第1フランジ部において前記コイルバネに対して係止され、前記第2コンタクトは、前記長軸に沿った方向の他端部側に位置する第2内部接触部を含む部分を有し、前記第2内部接触部を含む部分が前記コイルバネにおける前記基板接触部に遠位な方の端部から前記コイルバネ内に挿入され、前記第2フランジ部において前記コイルバネに対して係止され、前記第1コンタクトおよび前記第2コンタクトは板厚方向に並んで配置されて、前記導電方向に互いに独立に変位可能であって、前記異方導電性部材は、前記導電方向で前記粗巻き部と前記基板接触部との間に設けられ、前記粗巻き部と前記導電方向で同軸上に位置する導電性筒状体をさらに備え、前記第1電極接触部および前記第2電極接触部ならびに前記基板接触部を接触部として前記導電方向に沿った方向に前記コイルバネを圧縮する力が付与されたときに、前記第1コンタクトは、前記第1内部接触部において前記コイルバネまたは前記導電性筒状体に接触しつつ、前記板幅方向の一方である第1の向きに傾く動作が可能であって、前記第2コンタクトは、前記第2内部接触部において前記コイルバネまたは前記導電性筒状体に接触しつつ、前記板幅方向の他方であって前記第1の向きとは反対向きの第2の向きに傾く動作が可能であることを特徴とする異方導電性部材。
The present invention proposed to solve the above problems is as follows.
(1) An anisotropic conductive member (probe pin) having a rod-shaped general shape and having a conductive direction along its long axis, and having a winding axis along the conductive direction, and at least one rough A coil spring having a winding portion; and a plate shape having a long axis along the conductive direction, and a plate width direction perpendicular to the first electrode contact portion and the long axis direction at one end in the direction along the long axis A conductive first contact having a first flange portion that protrudes including the component, and a plate shape having a long axis along the conductive direction, and a second end at one end in the direction along the long axis. A conductive second contact having an electrode contact portion and a second flange portion projecting including a component in the plate width direction orthogonal to the major axis direction, and the anisotropic conductive member comprises: Side on which the contact member is located in the conductive direction Has a substrate contact portion so as to include an opposite end portion, and the first contact has a portion including a first internal contact portion located on the other end side in the direction along the long axis, A portion including the first internal contact portion is inserted into the coil spring from an end portion of the coil spring that is distal to the substrate contact portion, and is locked to the coil spring at the first flange portion. The two contacts have a portion including a second internal contact portion located on the other end side in the direction along the long axis, and the portion including the second internal contact portion is far from the substrate contact portion in the coil spring. Inserted into the coil spring from the end on the upper side, locked to the coil spring at the second flange portion, and the first contact and the second contact are arranged side by side in the plate thickness direction, In the direction of conduction The anisotropic conductive member is provided between the rough winding portion and the substrate contact portion in the conductive direction, and is coaxially positioned in the rough winding portion and the conductive direction. And a force for compressing the coil spring in a direction along the conductive direction with the first electrode contact portion, the second electrode contact portion, and the substrate contact portion as contact portions. Sometimes, the first contact is capable of inclining in a first direction that is one of the plate width directions while contacting the coil spring or the conductive cylindrical body in the first internal contact portion. The second contact is in contact with the coil spring or the conductive cylindrical body at the second internal contact portion, and is the second of the other in the plate width direction and opposite to the first direction. It can be tilted An anisotropic conductive member characterized by that.

(2)前記コイルバネは、前記コンタクト部材が挿入される側に位置する第1粗巻き部と、当該第1粗巻き部における前記基板接触部に近位な端部側に延設された密着巻き部を備え、当該密着巻き部が前記導電性筒状体を構成する、上記(1)に記載の異方導電性部材。 (2) The coil spring includes a first rough winding portion positioned on the side where the contact member is inserted, and a tight winding that is extended to an end portion of the first rough winding portion that is proximal to the substrate contact portion. The anisotropic conductive member according to (1) above, wherein the tightly wound portion constitutes the conductive cylindrical body.

(3)前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記密着巻き部に接触可能となるように、前記コイルバネおよび前記コンタクトの形状は設定される、上記(2)に記載の異方導電性部材。 (3) The shape of the coil spring and the contact is set so that at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion can contact the tightly wound portion in use (2) ) An anisotropic conductive member described in the above.

(4)前記コイルバネは、前記コンタクト部材が挿入される側に位置する第1粗巻き部を備え、前記導電性筒状体は、当該第1粗巻き部における前記基板接触部に近位な端部側に設けられて、少なくとも使用時には当該第1粗巻き部に接触する、上記(1)に記載の異方導電性部材。 (4) The coil spring includes a first rough winding portion positioned on a side where the contact member is inserted, and the conductive cylindrical body is an end proximal to the substrate contact portion in the first rough winding portion. The anisotropic conductive member according to (1) above, which is provided on the portion side and is in contact with the first coarsely wound portion at least in use.

(5)前記導電性筒状体は、柱状の形状を有し、少なくとも前記基板接触部側とは反対側の端部に開口を有する中空部を備え、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記中空部の内側面に接触可能となるように、前記コイルバネおよび前記コンタクトならびに前記導電性筒状体の形状は設定される、上記(4)に記載の異方導電性部材。 (5) The conductive cylindrical body has a columnar shape, and includes a hollow portion having an opening at least on an end opposite to the substrate contact portion side, and the first internal contact portion and the second internal contact portion. The shape of the coil spring, the contact, and the conductive cylindrical body is set so that at least one of the internal contact portions can contact the inner surface of the hollow portion in use, according to (4) above. Anisotropic conductive member.

(6)前記基板接触部は前記密着巻き部の一部からなる、上記(3)に記載の異方導電性部材。 (6) The anisotropic conductive member according to (3), wherein the substrate contact portion includes a part of the tightly wound portion.

(7)前記基板接触部と、前記導電方向に沿って延在する柱状の形状を有し、前記導電性筒状体の他端側から前記導電性筒状体内に挿入された挿入部と、前記導電方向で前記基板接触部と前記挿入部との間に設けられ、前記導電方向に直交する成分を含んで突出する第3フランジ部と、を有するプランジャーをさらに備える、上記(1)から(5)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (7) The substrate contact portion, a columnar shape extending along the conductive direction, and an insertion portion inserted into the conductive cylindrical body from the other end side of the conductive cylindrical body, From the above (1), further comprising a plunger having a third flange portion provided between the substrate contact portion and the insertion portion in the conductive direction and protruding including a component orthogonal to the conductive direction. The anisotropic conductive member according to any one of (5).

(8)前記基板接触部は前記導電性筒状体の一部からなる、上記(5)に記載の異方導電性部材。 (8) The anisotropic conductive member according to (5), wherein the substrate contact portion is formed of a part of the conductive cylindrical body.

(9)前記導電性筒状体と前記基板接触部との間に設けられて、前記第1粗巻き部と前記導電方向で同軸上に位置する第2粗巻き部をさらに有する、上記(2)から(5)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (9) The above-described (2), further including a second rough winding portion provided between the conductive cylindrical body and the substrate contact portion and positioned coaxially with the first rough winding portion in the conductive direction. The anisotropic conductive member according to any one of (5) to (5).

(10)前記基板接触部と、前記導電方向に沿って延在する板状の形状を有し、前記第2粗巻き部の他端側から前記第2粗巻き部内に挿入された挿入部と、前記導電方向で前記基板接触部と前記挿入部との間に設けられ、前記導電方向に直交する成分を含んで突出する第3フランジ部と、を有するプランジャーをさらに備え、前記挿入部は前記導電方向に沿って延在する2枚の舌片部を有し、前記2枚の舌片部は、互いに近づくように変形した状態で前記第2粗巻き部内に位置し、前記第2粗巻き部を拡径する側に付勢する、上記(9)に記載の異方導電性部材。 (10) The substrate contact portion and an insertion portion having a plate shape extending along the conductive direction and inserted into the second rough winding portion from the other end side of the second rough winding portion; A plunger having a third flange portion provided between the substrate contact portion and the insertion portion in the conductive direction and projecting including a component orthogonal to the conductive direction, Two tongue pieces extending along the conductive direction, the two tongue pieces being positioned in the second rough winding portion in a state of being deformed so as to approach each other; The anisotropic conductive member according to (9), wherein the winding portion is biased toward the side of expanding the diameter.

(11)前記導電性筒状体は、その内径が前記第1粗巻き部の内径よりも大きい拡径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記拡径部分と接触するように、前記拡径部分は位置する、上記(2)から(10)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (11) The conductive cylindrical body has an enlarged diameter portion whose inner diameter is larger than the inner diameter of the first coarsely wound portion, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is used. The anisotropic conductive member according to any one of (2) to (10), wherein the enlarged diameter portion is positioned so as to come into contact with the enlarged diameter portion in a state.

(12)前記導電性筒状体は、その内径が前記第1粗巻き部の内径よりも小さい縮径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記縮径部分と接触するように、前記縮径部分は位置する、上記(2)から(10)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (12) The conductive cylindrical body has a reduced diameter portion whose inner diameter is smaller than the inner diameter of the first rough winding portion, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is used. The anisotropic conductive member according to any one of (2) to (10), wherein the reduced diameter portion is positioned so as to come into contact with the reduced diameter portion in a state.

(13)前記第1粗巻き部は、前記導電性筒状体側の端部近傍の内径が他方の端部近傍の内径よりも大きい拡径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記導電性筒状体と接触するように、前記拡径部分は位置する、上記(2)から(10)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (13) The first rough winding portion has an enlarged diameter portion in which an inner diameter in the vicinity of the end portion on the conductive cylindrical body side is larger than an inner diameter in the vicinity of the other end portion, and the first internal contact portion and the first 2. The anisotropically conductive member according to any one of (2) to (10), wherein the enlarged diameter portion is positioned such that at least one of the two internal contact portions is in contact with the conductive cylindrical body in use. .

(14)前記第1粗巻き部は、前記導電性筒状体の端部近傍の内径が他方の端部近傍の内径よりも小さい縮径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記導電性筒状体と接触するように、前記縮径部分は位置する、上記(2)から(10)のいずれか)に記載の異方導電性部材。 (14) The first rough winding portion includes a reduced diameter portion in which an inner diameter in the vicinity of the end portion of the conductive cylindrical body is smaller than an inner diameter in the vicinity of the other end portion, and the first internal contact portion and the first 2. The anisotropic conductivity according to any one of (2) to (10), wherein the reduced diameter portion is positioned such that at least one of the two internal contact portions is in contact with the conductive cylindrical body in a use state. Element.

(15)前記導電性筒状体は、前記基板接触部側の端部近傍に内径が漸次変化するテーパー部を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記テーパー部と接触するように、前記テーパー部は位置する、上記(2)から(10)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (15) The conductive cylindrical body has a tapered portion whose inner diameter gradually changes in the vicinity of the end on the substrate contact portion side, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is used. The anisotropic conductive member according to any one of (2) to (10), wherein the tapered portion is positioned so as to come into contact with the tapered portion in a state.

(16)前記第1電極接触部は、前記第1コンタクトの前記長軸方向の中心線から前記第1の向きにオフセットした位置で前記導電方向に沿った方向の成分を含んで突出すること;および前記第2電極接触部は、前記第2コンタクトの前記長軸方向の中心線から前記第2の向きにオフセットした位置で前記導電方向に沿った方向の成分を含んで突出することの少なくとも一方を満たす、上記(1)から(15)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (16) The first electrode contact portion protrudes including a component in a direction along the conductive direction at a position offset in the first direction from a center line in the major axis direction of the first contact; And the second electrode contact portion protrudes including a component in a direction along the conductive direction at a position offset in the second direction from the long-axis center line of the second contact. The anisotropic conductive member according to any one of (1) to (15), wherein

(17)前記第1フランジ部は、前記第1の向きに突出する第1突出部と前記第2の向きに突出する第1対向突出部とを有し、前記コイルバネの前記第1電極接触部側の端部が前記第1対向突出部によって優先的に係止されるように、前記第1突出部と前記第1対向突出部との前記導電方向の配置は設定されること;および、前記第2フランジ部は、前記第2の向きに突出する第2突出部と前記第1の向きに突出する第2対向突出部とを有し、前記コイルバネの前記第2電極接触部側の端部が前記第2対向突出部によって優先的に係止されるように、前記第2突出部と前記第2対向突出部との前記導電方向の配置は設定されることの少なくとも一方を満たす、上記(1)から(16)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (17) The first flange portion includes a first projecting portion projecting in the first direction and a first opposing projecting portion projecting in the second direction, and the first electrode contact portion of the coil spring. The arrangement of the conductive direction of the first projecting portion and the first opposing projecting portion is set so that the end on the side is preferentially locked by the first opposing projecting portion; and The second flange portion has a second projecting portion projecting in the second direction and a second opposing projecting portion projecting in the first direction, and an end portion of the coil spring on the second electrode contact portion side The arrangement of the conductive direction of the second projecting portion and the second opposing projecting portion satisfies at least one of the above, so that the second projecting portion is preferentially locked by the second facing projecting portion, The anisotropic conductive member according to any one of 1) to (16).

(18)前記第1粗巻き部の前記コンタクトが挿入される側の端部には座巻き部が設けられ、前記第1コンタクトは、前記第1フランジ部と前記第1内部接触部との間に前記板幅方向に突出する第1突起部を備え、前記コイルバネのコイル線の間隙であって前記座巻き部よりも前記基板接触部側に位置する間隙に、前記第1突起部が挿入されて、前記第1コンタクトの前記コイルバネに対する相対位置が規制されること;および前記第2コンタクトは、前記第2フランジ部と前記第2内部接触部との間に前記板幅方向に突出する第2突起部を備え、前記コイルバネのコイル線の間隙であって前記座巻き部よりも前記基板接触部側に位置する間隙に、前記第2突起部が挿入されて、前記第2コンタクトの前記コイルバネに対する相対位置が規制されることの少なくとも一方を満たす、上記(2)から(17)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (18) An end winding portion is provided at an end of the first rough winding portion on the side where the contact is inserted, and the first contact is between the first flange portion and the first internal contact portion. Provided with a first protrusion protruding in the plate width direction, and the first protrusion is inserted into a gap between the coil wires of the coil spring and located closer to the substrate contact portion than the end turn portion. The relative position of the first contact with respect to the coil spring is restricted; and the second contact protrudes in the plate width direction between the second flange portion and the second internal contact portion. A projection portion, wherein the second projection portion is inserted into a gap between the coil wires of the coil spring and located closer to the substrate contact portion than the end turn portion, and the second contact with respect to the coil spring Regulated relative position At least one meeting the anisotropically conductive member according to any one of the above (2) to (17) of be.

(19)前記第1内部接触部は前記第2の向きの成分を有するように突出すること;および前記第2内部接触部は前記第1の向きの成分を有するように突出することの少なくとも一方を満たす、上記(1)から(18)のいずれかに記載の異方導電性部材。 (19) At least one of the first internal contact portion protruding so as to have a component in the second direction; and the second internal contact portion protruding so as to have a component in the first direction. The anisotropic conductive member according to any one of (1) to (18), wherein:

(20)上記(1)から(19)のいずれかに記載される異方導電性部材と、前記導電方向に貫通する複数の第1貫通孔を有する板状の第1ハウジングと、前記導電方向に貫通する複数の第2貫通孔を有する板状の第2ハウジングと、を備え、前記第1ハウジングと前記第2ハウジングとは、第1貫通孔と第2貫通孔とが連通して貫通孔が形成されるように接触配置されてハウジングを構成し、前記貫通孔のそれぞれには、前記第1貫通孔内に前記コンタクト側の一部が位置するように前記異方導電性部材が配置され、前記第1電極接触部および前記第2電極接触部は前記第1ハウジングから突出することを特徴とするソケット。 (20) The anisotropic conductive member according to any one of (1) to (19), a plate-like first housing having a plurality of first through holes penetrating in the conductive direction, and the conductive direction A plate-like second housing having a plurality of second through-holes penetrating through the first housing and the second housing, wherein the first through-hole and the second through-hole communicate with each other. The anisotropic conductive member is disposed in each of the through holes so that a part of the contact side is located in the first through hole. The first electrode contact portion and the second electrode contact portion protrude from the first housing.

(21)前記異方導電性部材が分離することを抑制する抜け止めを前記貫通孔に有する、上記(20)に記載のソケット。 (21) The socket according to (20), wherein the through hole has a retaining member that prevents the anisotropic conductive member from separating.

なお、本明細書においては、絶縁性の剛体からなり、検査対象であるICの端子に対応した配列の貫通孔を有し、貫通孔内にプローブピンを保持するための部材をハウジングと呼び、このハウジングにプローブピンが保持された組立体をICソケットと呼ぶ。   In the present specification, a member made of an insulating rigid body, having a through hole in an array corresponding to the terminal of the IC to be inspected, and a member for holding the probe pin in the through hole is called a housing, An assembly in which the probe pin is held in the housing is called an IC socket.

図1(a)は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1の、第1コンタクト11の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図1(b)は、第1コンタクト11の板状体の板面に垂直な面における断面図であり、図1(c)は、図1(a)の一部の拡大図である。また、図1(d)は、プローブピン1の外観図であり、図1(e)は、第1コンタクト11および第2コンタクト12の外観図である。FIG. 1A is a cross-sectional view of the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11, and FIG. It is sectional drawing in the surface perpendicular | vertical to the plate | board surface of the plate-shaped body of 1 contact 11, FIG.1 (c) is a partial enlarged view of Fig.1 (a). FIG. 1D is an external view of the probe pin 1, and FIG. 1E is an external view of the first contact 11 and the second contact 12. 図2(a)は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図2(b)は、図2(a)の一部の拡大図である。2A is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 holding the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. FIG. 3 is an enlarged view of a part of FIG. 図3は、図2のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 2 reaches the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object. 図4は、図2のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 2 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 本発明の第1実施形態の変形例に係るプローブピン1を保持したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which inspects IC2000 which is the measuring object by the IC socket 2 holding the probe pin 1 which concerns on the modification of 1st Embodiment of this invention. 図6(a)は、本発明の第1実施形態の変形例に係るプローブピン1の、第1コンタクト11の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図6(b)は、第1コンタクト11の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図6(c)は、プローブピン1の外観図であり、図6(d)は、第1コンタクト11および第2コンタクト12の外観図である。FIG. 6A is a cross-sectional view of a probe pin 1 according to a modification of the first embodiment of the present invention on a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11, and FIG. These are sectional views in a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11. FIG. 6C is an external view of the probe pin 1, and FIG. 6D is an external view of the first contact 11 and the second contact 12. 図7(a)は、本発明の第2実施形態に係るプローブピン3の、第1コンタクト31の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図7(b)は、第1コンタクト31の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図7(c)は、プローブピン3の外観図である。FIG. 7A is a cross-sectional view of the probe pin 3 according to the second embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 31, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of one contact 31. FIG. 7C is an external view of the probe pin 3. 図8(a)は、本発明の第3実施形態に係るプローブピン4の、第1コンタクト41の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図8(b)は、第1コンタクト41の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図8(c)は、プローブピン4の外観図である。FIG. 8A is a cross-sectional view of the probe pin 4 according to the third embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 41, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of a plate-like body of one contact 41; FIG. 8C is an external view of the probe pin 4. 図9は、本発明の第2実施形態に係るプローブピン4を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 4 according to the second embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000. 図10は、図9のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 9 reaches the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object. 図11は、図9のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 9 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 図12(a)は、本発明の第4実施形態に係るプローブピン5の、第1コンタクト51の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図12(b)は、第1コンタクト51の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図12(c)は、プローブピン5の外観図である。12A is a cross-sectional view of the probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention on a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 51, and FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of one contact 51. FIG. 12C is an external view of the probe pin 5. 図13は、本発明の第4実施形態に係るプローブピン5を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 5 according to the fourth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000. 図14は、図13のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 13 reaches the state of inspecting the IC 2000 that is the measurement object. 図15は、図13のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 13 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 図16(a)は、本発明の第5実施形態に係るプローブピン6の、第1コンタクト61の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図16(b)は、第1コンタクト61の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図16(c)は、プローブピン6の外観図であり、図16(d)は、第1コンタクト61および第2コンタクト62の外観図である。FIG. 16A is a cross-sectional view of the probe pin 6 according to the fifth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61, and FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a surface of a contact 61 perpendicular to the plate surface of a plate-like body. FIG. 16C is an external view of the probe pin 6, and FIG. 16D is an external view of the first contact 61 and the second contact 62. 図17は、本発明の第5実施形態に係るプローブピン6を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 6 according to the fifth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000. 図18は、図17のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 17 reaches the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object. 図19は、図17のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 of FIG. 17 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 図20(a)は、本発明の第5実施形態の変形例に係るプローブピン6の、第1コンタクト61の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図20(b)は、第1コンタクト61の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図20(c)は、プランジャー64の初期の状態の外観図である。FIG. 20A is a cross-sectional view of the probe pin 6 according to a modification of the fifth embodiment of the present invention on a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61, and FIG. These are sectional views in a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61. FIG. 20C is an external view of the plunger 64 in the initial state. 図21(a)は、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7の、第1コンタクト71の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図21(b)は、第1コンタクト71の板状体の板面に垂直な面における断面図であり、図21(c)は、図21(a)の一部の拡大図である。また、図21(d)は、プローブピン7の外観図であり、図21(e)は、第1コンタクト71および第2コンタクト72の外観図である。FIG. 21A is a cross-sectional view of the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 71, and FIG. It is sectional drawing in the surface perpendicular | vertical to the plate | board surface of the plate-shaped body of 1 contact 71, FIG.21 (c) is a partial enlarged view of Fig.21 (a). FIG. 21D is an external view of the probe pin 7, and FIG. 21E is an external view of the first contact 71 and the second contact 72. 図22(a)は、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図22(b)は、図22(a)の一部の拡大図である。FIG. 22A is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. It is a one part enlarged view of Fig.22 (a). 図23は、図22のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 23 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 22 reaches the state of inspecting the IC 2000 that is the measurement object. 図24は、図22のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 22 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 図25(a)は、本発明の第7実施形態に係るプローブピン8の、第1コンタクト81の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図25(b)は、第1コンタクト81の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図25(c)は、プローブピン8の外観図であり、図25(d)は、第1コンタクト81および第2コンタクト82の外観図である。FIG. 25A is a cross-sectional view of the probe pin 8 according to the seventh embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 81, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a surface of a contact 81 perpendicular to a plate surface of a plate-like body. FIG. FIG. 25C is an external view of the probe pin 8, and FIG. 25D is an external view of the first contact 81 and the second contact 82. 図26は、本発明の第7実施形態に係るプローブピン8を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。FIG. 26 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 holding the probe pins 8 according to the seventh embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000. 図27は、図26のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。FIG. 27 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 of FIG. 26 reaches the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object. 図28は、図26のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。FIG. 28 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 of FIG. 26 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. 図29(a)は、本発明の第8実施形態に係るプローブピン9の、第1コンタクト91の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図29(b)は、第1コンタクト91の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図29(c)は、プローブピン9の外観図である。FIG. 29A is a cross-sectional view of the probe pin 9 according to the eighth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 91, and FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of a plate-like body of one contact 91; FIG. 29C is an external view of the probe pin 9. 図30は、本発明の第8実施形態に係るプローブピン9を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。FIG. 30 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 9 according to the eighth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000.

以下、図面を参照しつつ、本発明に係るプローブピンおよびICソケットを説明する。   Hereinafter, a probe pin and an IC socket according to the present invention will be described with reference to the drawings.

〔第1実施形態〕
本発明の第1実施形態に係るプローブピン1は、第1コンタクト11、第2コンタクト12、コイルバネ13、およびプランジャー14から構成される。図1(a)は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1の、第1コンタクト11の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図1(b)は、第1コンタクト11の板状体の板面に垂直な面における断面図である。図1(c)は、図1(a)の一部の拡大図である。また、図1(d)は、プローブピン1の外観図であり、図1(e)は、第1コンタクト11および第2コンタクト12の外観図である。第1コンタクト11および第2コンタクト12は、板厚が略均一な板状体からなる。ここで第1コンタクト11および第2コンタクト12を製造する手段としては、例えば一つの板材をプレス加工、あるいはエッチング加工してもよいし、電鋳めっき法により、厚めっきで形成してもよい。
[First Embodiment]
The probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention includes a first contact 11, a second contact 12, a coil spring 13, and a plunger 14. FIG. 1A is a cross-sectional view of the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view in a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of one contact 11. FIG. 1C is an enlarged view of a part of FIG. FIG. 1D is an external view of the probe pin 1, and FIG. 1E is an external view of the first contact 11 and the second contact 12. The first contact 11 and the second contact 12 are made of a plate-like body having a substantially uniform plate thickness. Here, as a means for manufacturing the first contact 11 and the second contact 12, for example, one plate material may be pressed or etched, or may be formed by thick plating by an electroforming plating method.

第1コンタクト11は、一方の端部に、測定対象物であるICに付設される電極と接触するための第1電極接触部111を備える。また、第1コンタクト11は、第1電極接触部111の近傍に、その外側面から板幅方向に突出する第1フランジ部112を備える。さらに、第1コンタクト11は、他方の端部に、第1フランジ部112から第1電極接触部111とは反対側に伸延する第1アーム部113を備える。第1アーム113は、その端部近傍の一方の側面(板厚面)に、一定の長さにわたり突出する第1内部接触部114を備え、さらに、第1フランジ部112側の端部近傍のその一方の側面(板厚面)に第1突起部115を備える。すなわち、第1内部接触部114と第1突起部115は第1アーム部113の同じ側の側面に設けられる。また、第1内部接触部114の角部は若干丸く形成される。ここで前記の第1電極接触部111の先端部116は、先端が若干丸い1つの接点部からなり、その接点部は、第1アーム部113の伸延方向の中心線に対し、第1内部接触部114とは反対側に一定の長さで偏心している。   The first contact 11 includes a first electrode contact portion 111 for contacting an electrode attached to an IC that is a measurement object at one end. Further, the first contact 11 includes a first flange portion 112 in the vicinity of the first electrode contact portion 111 that protrudes from the outer surface in the plate width direction. Further, the first contact 11 includes a first arm portion 113 extending from the first flange portion 112 to the opposite side to the first electrode contact portion 111 at the other end portion. The first arm 113 includes a first internal contact portion 114 projecting over a certain length on one side surface (plate thickness surface) in the vicinity of the end portion, and further, in the vicinity of the end portion on the first flange portion 112 side. The 1st projection part 115 is provided in the one side surface (plate thickness surface). That is, the first internal contact portion 114 and the first protrusion 115 are provided on the same side surface of the first arm portion 113. Further, the corner of the first internal contact portion 114 is formed to be slightly round. Here, the tip portion 116 of the first electrode contact portion 111 is composed of one contact portion having a slightly rounded tip, and the contact portion is a first internal contact with respect to the center line in the extending direction of the first arm portion 113. It is eccentric with a fixed length on the side opposite to the portion 114.

第2コンタクト12は、上記の第1コンタクト11とほぼ同じ形状を備える。   The second contact 12 has substantially the same shape as the first contact 11 described above.

コイルバネ13は、一方の端部に第1粗巻き部131を備え、他方の端部に密着巻き部132を備える。第1粗巻き部131は、コイルバネ13を形成する線材が、当該コイルバネ13を圧縮可能なように間隔を空けて巻かれた部分である。密着巻き部132は、コイルバネ13を形成する線材が間隔を空けずに密着して巻かれた部分である。本実施形態においては、密着巻き部132は、第1粗巻き部131と連結し、第1粗巻き部131とほぼ同じ外径を有する一定の長さの第1細径部133と、さらに第1細径部133に連結し、一定の長さにわたり拡径された太径部134を備える。第1細径部133と太径部134の境界に段差部135が形成される。   The coil spring 13 includes a first coarsely wound portion 131 at one end and a tightly wound portion 132 at the other end. The first coarsely wound portion 131 is a portion in which the wire material forming the coil spring 13 is wound at an interval so that the coil spring 13 can be compressed. The tightly wound portion 132 is a portion in which the wire forming the coil spring 13 is wound in close contact with no gap. In the present embodiment, the tightly wound portion 132 is connected to the first coarsely wound portion 131, has a fixed length of the first small diameter portion 133 having substantially the same outer diameter as the first coarsely wound portion 131, and A large-diameter portion 134 that is connected to one small-diameter portion 133 and is expanded over a certain length is provided. A stepped portion 135 is formed at the boundary between the first small diameter portion 133 and the large diameter portion 134.

プランジャー14は、図1に例示したプローブピン1においては円筒体からなる。プランジャー14は、一方の端部に、検査用基板に付設される電極と接触するための基板接触部141を備える。また、基板接触部141の近傍に、その外側面から外周方向に突出する第3フランジ部142を備える。さらに、プランジャー14は、他方の端部に、第3フランジ部142から基板接触部141とは反対側に突出する圧入部143を備える。プランジャー14は、板状体であってもよい。   The plunger 14 is formed of a cylindrical body in the probe pin 1 illustrated in FIG. The plunger 14 is provided with a substrate contact portion 141 for contacting an electrode attached to the inspection substrate at one end. In addition, a third flange portion 142 is provided in the vicinity of the substrate contact portion 141 so as to protrude from the outer surface of the substrate contact portion 141 in the outer peripheral direction. Furthermore, the plunger 14 includes a press-fit portion 143 that protrudes from the third flange portion 142 to the side opposite to the substrate contact portion 141 at the other end portion. The plunger 14 may be a plate-like body.

上記の第1コンタクト11、第2コンタクト12、コイルバネ13、およびプランジャー14を備える本実施形態のプローブピン1は、第1コンタクト11が備える第1アーム部113を第1電極接触部111とは反対側の端部からコイルバネ13が備える第1粗巻き部131の内径側に挿入する。同様に、第2コンタクト12が備える第2アーム部123もコイルバネ13が備える第1粗巻き部131の内径側に挿入する。ここで第1コンタクト11と第2コンタクト12は、それぞれの一方の板面が対向し、それぞれの電極接触部が離間する方向に挿入される。従って、それぞれの内部接触部も離間する方向に配置される。また、第1コンタクト11が備える第1突起部115および第2コンタクト12が備える第2突起部125は、それぞれコイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部近傍におけるコイルバネ13を形成する線材の隙間に係止する。ここで第1突起部115および第2突起部125は、第1コンタクト11および第2コンタクト12がコイルバネ13から脱落することを防止する目的で設けられるが、後述のとおり、プローブピン1がハウジング21に設けられた貫通孔210に保持された状態においては、第1コンタクト11および第2コンタクト12がコイルバネ13から脱落する虞はないので、第1突起部115および第2突起部125はなくてもよい。さらに、第1突起部115および第2突起部125は、後述するプローブピン1のワイピング動作を阻害する虞がなければ、第1アーム部113および第2アーム部123の何れの位置に設けてもよい。   In the probe pin 1 of the present embodiment including the first contact 11, the second contact 12, the coil spring 13, and the plunger 14, the first arm portion 113 included in the first contact 11 is referred to as the first electrode contact portion 111. It inserts into the internal diameter side of the 1st rough winding part 131 with which the coil spring 13 is provided from the edge part on the opposite side. Similarly, the second arm portion 123 provided in the second contact 12 is also inserted into the inner diameter side of the first rough winding portion 131 provided in the coil spring 13. Here, the first contact 11 and the second contact 12 are inserted in directions in which the respective plate surfaces face each other and the electrode contact portions are separated from each other. Accordingly, the respective internal contact portions are also arranged in a direction away from each other. In addition, the first protrusion 115 provided in the first contact 11 and the second protrusion 125 provided in the second contact 12 are wire rods that form the coil spring 13 in the vicinity of the end portion of the coil spring 13 on the first rough winding portion 131 side, respectively. Lock in the gap. Here, the first projecting portion 115 and the second projecting portion 125 are provided for the purpose of preventing the first contact 11 and the second contact 12 from falling off from the coil spring 13. Since the first contact 11 and the second contact 12 are not likely to fall off from the coil spring 13 in the state of being held in the through-hole 210 provided in the first and second protrusions 115 and 125, the first and second protrusions 115 and 125 may be omitted. Good. Further, the first projecting portion 115 and the second projecting portion 125 may be provided at any position of the first arm portion 113 and the second arm portion 123 as long as there is no possibility of hindering the wiping operation of the probe pin 1 described later. Good.

また、プランジャー14は、圧入部143をコイルバネ13の密着巻き部132側の端部に圧入する。なお、上記の第1コンタクト11および第2コンタクト12と同様に、プローブピン1がハウジング21に設けられた貫通孔210に保持された状態においては、プランジャーがコイルバネ13から脱落する虞はないので、圧入部143は密着巻き部132側の端部に挿入されているだけでもよい。   Further, the plunger 14 press-fits the press-fit portion 143 into the end portion of the coil spring 13 on the side of the tightly wound portion 132. As in the case of the first contact 11 and the second contact 12 described above, in the state where the probe pin 1 is held in the through hole 210 provided in the housing 21, there is no possibility that the plunger will fall off from the coil spring 13. The press-fitting part 143 may be inserted only at the end of the tightly wound part 132 side.

ここで図1(c)を用いて、コイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部近傍の詳細を説明する。一般的にコイルバネの粗巻き部の端部には座巻きと呼ばれる1巻き程度の密着巻き部(座巻き部)が形成される。図1に例示したコイルバネ13においても、第1粗巻き部131側の端部に1巻きの座巻き部131Zが形成されている。この座巻き部131Zが形成されたコイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部は、図1(c)に示したとおり、この端部において、対抗する座巻き部131Zの高さにコイルバネ13を形成する線材の直径の約1/2の高さの差が生じる。従って、第1コンタクト11が備える第1フランジ部112の第1電極接触部111とは反対側の端部は、一方の端部がコイルバネ13の端部と接触しつつ、他方の端部はコイルバネ13と隙間が生じる。また、コイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部に座巻き部が形成されない場合は、この端部において、粗巻き部の巻きピッチの約1/2の高さの差が生じる。本発明に係るプローブピンにおいては、このコイルバネの端部における高さの差は小さいことが望ましいので、コイルバネの粗巻き部側の端部には座巻き部が形成されていることが望ましい。   Here, details of the vicinity of the end of the coil spring 13 on the first coarsely wound portion 131 side will be described with reference to FIG. In general, a tightly wound portion (end turn portion) of about one turn called end turn is formed at the end of the coarse turn portion of the coil spring. Also in the coil spring 13 illustrated in FIG. 1, a single turn winding portion 131 </ b> Z is formed at the end portion on the first rough winding portion 131 side. As shown in FIG. 1C, the end of the coil spring 13 on which the end turn 131Z is formed is closer to the height of the opposite end turn 131Z, as shown in FIG. 1C. A height difference of about ½ of the diameter of the wire forming 13 is generated. Therefore, the end of the first flange portion 112 included in the first contact 11 opposite to the first electrode contact portion 111 is in contact with one end of the end of the coil spring 13 and the other end is a coil spring. 13 and a gap are generated. Further, when the end winding portion is not formed at the end portion of the coil spring 13 on the first coarse winding portion 131 side, a height difference of about ½ of the winding pitch of the rough winding portion is generated at this end portion. In the probe pin according to the present invention, it is desirable that the difference in height at the end portion of the coil spring is small. Therefore, it is desirable that an end winding portion is formed at the end portion of the coil spring on the coarse winding portion side.

続いて図2、図3および図4を用いて、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1の動作を説明する。図2(a)は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図2(b)は、図2(a)の一部の拡大図である。図3は、ICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。また、図4は、ICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。図3および図4においては、一例として、IC2000に付設される電極はパッド状の電極を示している。後述のとおり、IC2000に付設される電極は、はんだボールであってもよい。 Subsequently, the operation of the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2, 3 and 4. 2A is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 holding the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. FIG. 3 is an enlarged view of a part of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing one state of the process in which the IC socket 2 reaches the state of inspecting the IC 2000 that is the measurement object. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 is inspecting an IC 2000 that is a measurement object. 3 and 4, as an example, the electrodes attached to the IC 2000 are pad-like electrodes. As will be described later, the electrodes attached to the IC 2000 may be solder balls.

ICソケット2は、ハウジング21に設けられた複数の貫通孔210のそれぞれにより、プローブピン1を、測定対象物であるIC2000に付設される電極に対応した位置に保持する。具体的には、ハウジング21は主面内方向に2分割される。貫通孔210は、測定対象物であるIC2000に対向する面に設けられる第1開口部211および検査用基板1000に対向する面に設けられる第2開口部212の孔径が、第1開口部211と第2開口部212との間に設けられる中空部213の孔径より小さく形成される。第1開口部211と中空部213との境界には第1孔内段差部214が設けられ、第2開口部212と中空部213との境界には第2孔内段差部215が設けられる。ICソケット2が組み立てられた状態において、第1孔内段差部214が第1フランジ部112と係止し、第2孔内段差部215が第3フランジ部142と係止する。これにより、プローブピン1は、貫通孔210に保持される。また、図には表示されていないが、第2コンタクト12が備える第2フランジ部122も同様に第1孔内段差部214に係止する。   The IC socket 2 holds the probe pin 1 at a position corresponding to an electrode attached to the IC 2000 that is a measurement object, by each of the plurality of through holes 210 provided in the housing 21. Specifically, the housing 21 is divided into two in the main surface inward direction. The through hole 210 has a first opening 211 provided on the surface facing the measurement object IC 2000 and a second opening 212 provided on the surface facing the inspection substrate 1000 so that the diameters of the first opening 211 and the first opening 211 are the same. It is formed smaller than the hole diameter of the hollow part 213 provided between the second opening part 212. A first in-hole step 214 is provided at the boundary between the first opening 211 and the hollow 213, and a second in-hole step 215 is provided at the boundary between the second opening 212 and the hollow 213. In the assembled state of the IC socket 2, the first in-hole step portion 214 is engaged with the first flange portion 112, and the second in-hole step portion 215 is engaged with the third flange portion 142. Thereby, the probe pin 1 is held in the through hole 210. Although not shown in the drawing, the second flange portion 122 provided in the second contact 12 is similarly locked to the step portion 214 in the first hole.

ICソケット2は、検査用基板1000上に載置された状態、すなわち図2(a)に示された状態において、プローブピン1の備えるコイルバネ13が若干圧縮されるように設計されている。このように設計することにより、ICソケット2が検査用基板1000上に載置された状態においては、常に基板接触部131と検査用基板1000との接点部分に接触圧力が加わるため、接点部分にゴミなどが付着することが防がれて好ましい。一般的に、ICソケットが検査用基板1000に載置された状態において、このようにコイルバネを若干圧縮しておくことをプリロードと呼ぶ。プリロードは行われている方が好ましいが、行われていなくてもよい。   The IC socket 2 is designed so that the coil spring 13 included in the probe pin 1 is slightly compressed in a state where it is placed on the inspection substrate 1000, that is, in a state shown in FIG. With this design, when the IC socket 2 is placed on the inspection substrate 1000, contact pressure is always applied to the contact portion between the substrate contact portion 131 and the inspection substrate 1000. It is preferable because dust and the like are prevented from adhering. In general, when the IC socket is placed on the inspection substrate 1000, the compression of the coil spring in this manner is called preloading. Although preloading is preferably performed, it may not be performed.

ここで図2(b)を用いて、図2(a)に示した状態におけるコイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部を詳しく説明する。上記のとおり、図2(a)に示した状態において、コイルバネ13は若干圧縮されている。このとき、コイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部は、第1コンタクト11が備える第1フランジ部112、および第2コンタクト12が備える第2フランジ部122のコイルバネ13と対向する側の端部に押圧されている。第1実施形態に係るプローブピン1においては、第1コンタクト11と第2コンタクト12はほぼ同じ形状をなしているので、第1フランジ部112と第2フランジ部122の端部はほぼ同じ高さに位置する。なお、本明細書において高さとは、基準面(例えば検査用基板1000の板面)からプローブピンの伸縮方向(すなわちコイルバネの伸縮方向)の距離を意味する。このように同じ高さで押圧された場合、コイルバネ13の第1粗巻き部131側の端部における、第1フランジ部112と接している部位と、第2フランジ部122に接している部位は、同じ高さになる。コイルバネ13は、図1(c)で説明したとおり、初期の状態では第1粗巻き部131側の端部には線材径の約1/2に相当する段差があるが、同じ高さで押圧された場合、コイルバネ13における第1フランジ部112と第2フランジ部122と接している2つの接点部は、一方の接点部が他方の接点部より多く(あるいは少なく)縮むことにより、2つの接点部は同じ高さになる。従って、厳密に言えば、より多く縮んだ側の接点部は、他方の接点部より極僅か接触圧力が大きくなっている。   Here, the end of the coil spring 13 on the first coarsely wound portion 131 side in the state shown in FIG. 2A will be described in detail with reference to FIG. As described above, the coil spring 13 is slightly compressed in the state shown in FIG. At this time, the end of the coil spring 13 on the first coarsely wound portion 131 side is on the side facing the coil spring 13 of the first flange portion 112 provided in the first contact 11 and the second flange portion 122 provided in the second contact 12. It is pressed to the end. In the probe pin 1 according to the first embodiment, since the first contact 11 and the second contact 12 have substantially the same shape, the end portions of the first flange portion 112 and the second flange portion 122 are substantially the same height. Located in. In the present specification, the height means a distance from the reference plane (for example, the plate surface of the inspection substrate 1000) in the expansion / contraction direction of the probe pin (that is, the expansion / contraction direction of the coil spring). When pressed at the same height in this way, the portion in contact with the first flange portion 112 and the portion in contact with the second flange portion 122 at the end of the coil spring 13 on the first rough winding portion 131 side are: , Become the same height. As described with reference to FIG. 1C, the coil spring 13 has a step corresponding to about ½ of the wire diameter at the end on the first rough winding portion 131 side in the initial state, but is pressed at the same height. In this case, the two contact portions that are in contact with the first flange portion 112 and the second flange portion 122 in the coil spring 13 have two contact points because one contact portion is contracted more (or less) than the other contact portion. The parts are the same height. Therefore, strictly speaking, the contact portion on the more contracted side has a slightly higher contact pressure than the other contact portion.

さらに、上記のとおり検査用基板1000に載置されたICソケットは、図4に示した使用状態においては、外部装置、あるいはICソケット2に付設されたカバーなどにより、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン1の第1電極接触部111および第2電極接触部121を一定の高さに押圧するように固定される。なお、図3および図4においては、外部装置、あるいはICソケットに付設されたカバーなど、IC2000を固定している部分は省略している。図4に示したとおり、ICソケット2の使用状態においては、プローブピン1の備えるコイルバネ13が所定の長さまで圧縮される。以下、図2(a)に示した状態から図3に示した状態を経て、図4の状態に至る動作を詳しく説明する。   Further, as described above, the IC socket placed on the inspection substrate 1000 is not connected to each electrode of the IC 2000 to be inspected by an external device or a cover attached to the IC socket 2 in the use state shown in FIG. Is fixed so as to press the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 of each probe pin 1 of the IC socket to a certain height. In FIGS. 3 and 4, portions that fix the IC 2000 such as an external device or a cover attached to the IC socket are omitted. As shown in FIG. 4, when the IC socket 2 is in use, the coil spring 13 included in the probe pin 1 is compressed to a predetermined length. Hereinafter, the operation from the state shown in FIG. 2A through the state shown in FIG. 3 to the state shown in FIG. 4 will be described in detail.

上記のとおり、第1コンタクト11が備える第1電極接触部111の先端部116、および第2コンタクト12が備える第2電極接触部121の先端部126は、それぞれのコンタクトが備えるアーム部の伸延方向の中心線に対して偏心している。(図2(a)に、第1コンタクト11のアーム部の中心線を一点鎖線で、第1電極接触部111の偏心方向を白抜き矢印で示している。)従って、図2(a)に示した状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン1の第1電極接触部111および第2電極接触部121を若干押圧すると、図3に示したとおり、第1コンタクト11と第2コンタクト12は、それぞれ偏心方向に若干傾斜する。(図3に、第1コンタクト11の傾斜方向を実線の矢印で示している。)ここで第1コンタクト11は、第1アーム部113の端部近傍の偏心方向とは反対側の側面(板厚面)に第1内部接触部114を備え、第2コンタクト12は、第2アーム部123の端部近傍の偏心方向とは反対側の側面に第2内部接触部124を備えるので、第1内部接触部114と第2内部接触部124は、それぞれコイルバネ13の密着巻き部131の第1細径部133の互いに対向する内側面と摺動接触する。   As described above, the distal end portion 116 of the first electrode contact portion 111 included in the first contact 11 and the distal end portion 126 of the second electrode contact portion 121 included in the second contact 12 are extending directions of the arm portions included in the respective contacts. It is eccentric with respect to the center line. (In FIG. 2A, the center line of the arm portion of the first contact 11 is indicated by a one-dot chain line, and the eccentric direction of the first electrode contact portion 111 is indicated by a white arrow.) Accordingly, in FIG. When the electrodes of the IC 2000 to be inspected slightly press the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 of each probe pin 1 of the IC socket from the state shown, the first contact 11 as shown in FIG. The second contact 12 is slightly inclined in the eccentric direction. (In FIG. 3, the inclination direction of the first contact 11 is indicated by a solid arrow.) Here, the first contact 11 is a side surface (plate) opposite to the eccentric direction in the vicinity of the end of the first arm portion 113. (Thick surface) is provided with the first internal contact portion 114, and the second contact 12 is provided with the second internal contact portion 124 on the side surface opposite to the eccentric direction in the vicinity of the end portion of the second arm portion 123. The internal contact portion 114 and the second internal contact portion 124 are in sliding contact with the mutually opposing inner side surfaces of the first small diameter portion 133 of the tightly wound portion 131 of the coil spring 13.

この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン1の第1電極接触部111および第2電極接触部121をさらに押圧すると、第1内部接触部114と第2内部接触部124は、それぞれコイルバネ13の密着巻き部131の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1内部接触部114と第2内部接触部124がコイルバネ13の密着巻き部132の段差部135を超えた時点で、第1コンタクト11と第2コンタクト12は、それぞれ偏心方向にさらに傾斜する。このとき、第1コンタクト11が備える第1電極接触部111の先端部116、および第2コンタクト12が備える第2電極接触部121の先端部126は、検査対象のIC2000の各電極上をそれぞれ偏心方向に摺動する。(図4に、第1電極接触部111の摺動方向を実線の矢印で示している。)この摺動がワイピング動作となる。   From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected further presses the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 of each probe pin 1 of the IC socket, the first internal contact portion 114 and the second internal contact portion Reference numerals 124 are displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact with the mutually facing inner surfaces of the tightly wound portion 131 of the coil spring 13. In the process of this displacement, when the first internal contact portion 114 and the second internal contact portion 124 exceed the stepped portion 135 of the tightly wound portion 132 of the coil spring 13, the first contact 11 and the second contact 12 are eccentric. Inclined further in the direction. At this time, the distal end portion 116 of the first electrode contact portion 111 included in the first contact 11 and the distal end portion 126 of the second electrode contact portion 121 included in the second contact 12 are eccentric on the respective electrodes of the IC 2000 to be inspected. Slide in the direction. (In FIG. 4, the sliding direction of the first electrode contact portion 111 is indicated by a solid arrow.) This sliding is a wiping operation.

上記のワイピング動作が行われたのち、各プローブピン1の第1電極接触部111および第2電極接触部121はさらに押圧され、第1内部接触部114と第2内部接触部124は、それぞれコイルバネ13の密着巻き部132の太径部134の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら、検査用基板1000方向にさらに変位し、図4に示したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態に至る。   After the wiping operation is performed, the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 of each probe pin 1 are further pressed, and the first internal contact portion 114 and the second internal contact portion 124 are coil springs, respectively. The IC socket 2 shown in FIG. 4 is the object to be measured while being further displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact with the mutually opposed inner surfaces of the large diameter portion 134 of the 13 tightly wound portions 132. The IC2000 is inspected.

〔第1実施形態の変形例〕
前述とおり、本発明の第1実施形態に係るプローブピン1の検査対象であるIC2000に付設される電極は、はんだボールであってもよい。図5は、IC2000に付設される電極がはんだボールSBである場合に、ICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。図5に示したとおり、IC2000に付設される電極がはんだボールSBである場合は、第1コンタクト11の第1電極接触部111、および第2コンタクト12の第2電極接触部121は、それぞれテーパー状に形成された板厚面がはんだボールSBの表面と接触する。従って、図3および図4に示したIC2000に付設される電極がパッド状電極の場合は、偏心した第1電極接触部111および第2電極接触部121の先端部が押圧されることにより第1コンタクト11および第2コンタクト12は傾斜するが、図5に示したIC2000に付設される電極がはんだボールの場合は、第1電極接触部111および第2電極接触部121のテーパー部が押圧されることにより第1コンタクト11および第2コンタクト12は傾斜する。
[Modification of First Embodiment]
As described above, the electrode attached to the IC 2000 that is the inspection target of the probe pin 1 according to the first embodiment of the present invention may be a solder ball. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 is inspecting the IC 2000 as a measurement object when the electrode attached to the IC 2000 is the solder ball SB. As shown in FIG. 5, when the electrode attached to the IC 2000 is a solder ball SB, the first electrode contact portion 111 of the first contact 11 and the second electrode contact portion 121 of the second contact 12 are tapered. The plate-shaped surface formed in the shape comes into contact with the surface of the solder ball SB. Therefore, in the case where the electrode attached to the IC 2000 shown in FIGS. 3 and 4 is a pad-like electrode, the first electrode contact portion 111 and the tip end portion of the second electrode contact portion 121 that are eccentric are pressed, and the first electrode contact portion is pressed. Although the contact 11 and the second contact 12 are inclined, when the electrode attached to the IC 2000 shown in FIG. 5 is a solder ball, the tapered portions of the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 are pressed. As a result, the first contact 11 and the second contact 12 are inclined.

また、IC2000に付設される電極がはんだボールSBの場合は、第1電極接触部111および第2電極接触部121のテーパー部をプレス加工等により鋭利に加工してもよい。図6(a)は、第1電極接触部111および第2電極接触部121のテーパー部を鋭利に加工した場合のプローブピン1の、第1コンタクト11の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図6(b)は、第1コンタクト11の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図6(c)は、プローブピン1の外観図であり、図6(d)は、第1コンタクト11および第2コンタクト12の外観図である。   When the electrode attached to the IC 2000 is the solder ball SB, the tapered portions of the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 may be sharply processed by pressing or the like. 6A shows a surface parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11 of the probe pin 1 when the tapered portions of the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 are sharply processed. FIG. 6B is a cross-sectional view taken along a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of the first contact 11. FIG. 6C is an external view of the probe pin 1, and FIG. 6D is an external view of the first contact 11 and the second contact 12.

IC2000に付設される電極がはんだボールSBの場合は、はんだボールSBの表面に酸化被膜が形成される。この酸化皮膜は、電気抵抗が大きく、硬度が高い。このとき、はんだボールSBの酸化被膜の内側は硬度が低い。このようなはんだボールSBの表面上を、鋭利に加工された第1電極接触部111および第2電極接触部121のテーパー部が摺動すると、はんだボールSBの酸化被膜が切り裂かれ、第1電極接触部111および第2電極接触部121のテーパー部は、酸化被膜の内側の電気抵抗が小さく、硬度が低い部分と接触する。ワイピング動作とは、一般的には、接点部が摺動することにより酸化被膜を削り取る動作を意味するが、本明細書においては、接点部が摺動することにより、酸化被膜を切り裂く動作もワイピング動作に含む。このような酸化被膜を切り裂くワイピング動作は、同じ形状の鋭利なテーパー部をはんだボールSBに押し当てるときより、低荷重で酸化被膜を切り裂くことが期待される。また、電極接触部の接点部が摺動することにより、電極接触部の接点部に付着したはんだが除去されることが期待される(セルフクリーニング効果)。   When the electrode attached to the IC 2000 is the solder ball SB, an oxide film is formed on the surface of the solder ball SB. This oxide film has high electric resistance and high hardness. At this time, the inside of the oxide film of the solder ball SB has a low hardness. When the tapered portions of the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 that are sharply processed slide on the surface of the solder ball SB, the oxide film of the solder ball SB is cut and the first electrode is cut. The tapered portions of the contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 are in contact with a portion having a low electrical resistance inside the oxide film and a low hardness. The wiping operation generally means an operation of scraping the oxide film by sliding the contact portion. However, in this specification, the operation of cutting the oxide film by sliding the contact portion is also wiped. Include in operation. Such a wiping operation for tearing the oxide film is expected to tear the oxide film with a lower load than when the sharp tapered portion having the same shape is pressed against the solder ball SB. Further, it is expected that the solder attached to the contact portion of the electrode contact portion is removed by the sliding of the contact portion of the electrode contact portion (self-cleaning effect).

なお、本変形例は、以下に説明する第2実施形態から第8実施形態の変形例として実施してもよい。   In addition, you may implement this modification as a modification of 8th Embodiment from 2nd Embodiment demonstrated below.

〔第2実施形態〕
本発明の第2実施形態に係るプローブピン3は、第1コンタクト31、第2コンタクト32、コイルバネ33、プランジャー34、およびバレル35を備える。図7(a)は、本発明の第2実施形態に係るプローブピン3の、第1コンタクト31の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図7(b)は、第1コンタクト31の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図7(c)は、プローブピン3の外観図である。
[Second Embodiment]
The probe pin 3 according to the second embodiment of the present invention includes a first contact 31, a second contact 32, a coil spring 33, a plunger 34, and a barrel 35. FIG. 7A is a cross-sectional view of the probe pin 3 according to the second embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 31, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of one contact 31. FIG. 7C is an external view of the probe pin 3.

上述した第1実施形態に係るプローブピン1においては、第1粗巻き部と密着巻き部は同じ線材で構成され互いに連結しているが、第1粗巻き部と密着巻き部は別部材で構成されてもよい。この場合、密着巻き部は線径の異なる線材で構成されてもよいし、線材から構成される密着巻きではなく、パイプ材から構成されてもよい。図7に示した第2実施形態に係るプローブピン3は、パイプ材から構成されるバレル35を備える。以下では第2実施形態について、第1実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1と同様なので、ここでの説明を省略する。   In the probe pin 1 according to the first embodiment described above, the first coarsely wound portion and the tightly wound portion are made of the same wire and are connected to each other, but the first coarsely wound portion and the tightly wound portion are made of different members. May be. In this case, the tightly wound portion may be composed of wire materials having different wire diameters, or may be composed of a pipe material instead of the closely wound material composed of the wire material. The probe pin 3 according to the second embodiment shown in FIG. 7 includes a barrel 35 made of a pipe material. Below, a different part from 1st Embodiment is demonstrated about 2nd Embodiment. Since the structure, manufacturing method, and the like not particularly described are the same as those of the probe pin 1 according to the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

図7に例示したとおり、本発明の第2実施形態に係るプローブピン3が備えるコイルバネ33は、一方の端部に第1粗巻き部331を備える。また、他方の端部に、第1粗巻き部331に連結し、バレル35を保持するための密着巻き部332を備える。密着巻き部332は、バレル35を保持する部位であり、粗巻き部によって構成されてもよい。また、その形状は、バレル35を保持可能な形状であれば任意である。     As illustrated in FIG. 7, the coil spring 33 included in the probe pin 3 according to the second embodiment of the present invention includes a first coarsely wound portion 331 at one end. Further, the other end portion is provided with a tightly wound portion 332 that is connected to the first coarsely wound portion 331 and holds the barrel 35. The tightly wound portion 332 is a portion that holds the barrel 35, and may be constituted by a coarsely wound portion. The shape is arbitrary as long as it can hold the barrel 35.

バレル35は、円筒形のパイプ材から構成され、一方の端部に、コイルバネ33が備える密着巻き部332に圧入される圧入部3510を備える。また、他方の端部には、プランジャー34が圧入される。さらに、バレル35は、コイルバネ33側の端部近傍の内径が一定の長さにわたって小さく形成され、第1細径部353を構成する。また、プランジャー34側の端部に向け内径が拡径され、太径部354を構成する。第1細径部353と太径部354の境界に、段差部355が形成される。なお、図7に例示したバレル35は、内径側を切削加工することにより第1細径部と太径部を形成しているが、プレス加工により、均一な肉厚のパイプ材を加工し、第1細径部と太径部を形成してもよい。また、上記のとおり、バレル35を線材の密着巻きにより構成してもよい。すなわち、バレル35は導電性筒状体であり、上述したプローブピン1が備えるコイルバネ13の密着巻き部131も導電性筒状体である。   The barrel 35 is formed of a cylindrical pipe material, and includes a press-fit portion 3510 that is press-fitted into a tightly wound portion 332 included in the coil spring 33 at one end. A plunger 34 is press-fitted into the other end. Further, the barrel 35 is formed with a small inner diameter in the vicinity of the end portion on the coil spring 33 side over a certain length, and constitutes a first narrow-diameter portion 353. Further, the inner diameter is increased toward the end portion on the plunger 34 side to constitute a large diameter portion 354. A stepped portion 355 is formed at the boundary between the first small diameter portion 353 and the large diameter portion 354. In addition, although the barrel 35 illustrated in FIG. 7 forms the first small diameter part and the large diameter part by cutting the inner diameter side, the pipe material having a uniform thickness is processed by pressing, You may form a 1st small diameter part and a large diameter part. Further, as described above, the barrel 35 may be configured by tightly winding wire. That is, the barrel 35 is a conductive cylindrical body, and the tightly wound portion 131 of the coil spring 13 included in the probe pin 1 described above is also a conductive cylindrical body.

係る構成の第2実施形態に係るプローブピン3は、プローブピン3を保持したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程、および、そのICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態において、上述した第1実施形態に係るプローブピン1と同じ動作を行う。第2実施形態に係るプローブピン3を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態、そのICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の状態、および、そのICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態は、第1実施形態に係るICソケット2と同様なので、ここでの説明を省略する。   In the probe pin 3 according to the second embodiment having such a configuration, the process in which the IC socket 2 holding the probe pin 3 reaches the state of inspecting the IC 2000 that is the measurement object, and the IC socket 2 is the measurement object. While the IC 2000 is inspected, the same operation as the probe pin 1 according to the first embodiment described above is performed. A state in which the IC socket 2 holding the probe pin 3 according to the second embodiment is placed on the inspection substrate 1000, a state in which the IC socket 2 reaches a state of inspecting the IC 2000 that is a measurement object, and The state in which the IC socket 2 is inspecting the IC 2000, which is the object to be measured, is the same as that of the IC socket 2 according to the first embodiment, and a description thereof will be omitted here.

なお、プランジャー34とバレル35は一体でもよい。すなわち、バレル35は一方の端部に開口を有する中空部を備え、他方の端部に基板接触部を有する構成であってもよい。   The plunger 34 and the barrel 35 may be integrated. That is, the barrel 35 may include a hollow portion having an opening at one end and a substrate contact portion at the other end.

〔第3実施形態〕
本発明の第3実施形態に係るプローブピン4は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクト41、第2コンタクト42、コイルバネ43、およびプランジャー44を備える。図8(a)は、本発明の第3実施形態に係るプローブピン4の、第1コンタクト41の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図8(b)は、第1コンタクト41の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図8(c)は、プローブピン4の外観図である。図9は、本発明の第3実施形態に係るプローブピン4を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図10は、図9のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。また、図11は、図9のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。なお、第3実施形態に係るプローブピン4の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよい。以下では一例として第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第3実施形態について、第1実施形態、および第2実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、あるいは第2実施形態に係るプローブピン3と同様なので、ここでの説明を省略する。
[Third Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 4 according to the third embodiment of the present invention includes a first contact 41, a second contact 42, a coil spring 43, and a plunger 44. FIG. 8A is a cross-sectional view of the probe pin 4 according to the third embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 41, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of a plane perpendicular to the plate surface of a plate-like body of one contact 41; FIG. 8C is an external view of the probe pin 4. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 4 according to the third embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. 10 is a cross-sectional view of the IC socket 2 of FIG. It is sectional drawing which shows one state of the process which leads to the state which test | inspects IC2000 which is a measuring object. FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 9 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. The configuration of the probe pin 4 according to the third embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment or may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. In the following, the third embodiment will be described with respect to parts different from the first embodiment and the second embodiment. Since the structure, manufacturing method, and the like that are not particularly described are the same as those of the probe pin 1 according to the first embodiment or the probe pin 3 according to the second embodiment, description thereof is omitted here.

本発明の第3実施形態に係るプローブピン4は、図8に示したとおり、コイルバネ43が、段差部435を第1粗巻き部431に備える。すなわち、コイルバネ43は、一方の端部に第1粗巻き部431を備え、他方の端部に密着巻き部432を備え、第1粗巻き部431の密着巻き部432側の端部は一定の長さにわたり拡径され、さらに、拡径された第1粗巻き部431の端部に連結し、拡径された第1粗巻き部431の端部とほぼ同じ外径を有する密着巻き部432を備える。第1粗巻き部431における外径の小さい部位が第1細径部433、拡径された部位が太径部434となり、第1細径部433と太径部434の境界に段差部435が形成される。   In the probe pin 4 according to the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, the coil spring 43 includes a stepped portion 435 in the first coarsely wound portion 431. That is, the coil spring 43 is provided with the first rough winding portion 431 at one end, the close winding portion 432 at the other end, and the end portion of the first rough winding portion 431 on the close winding portion 432 side is constant. The tightly wound portion 432 is expanded over the length and connected to the end portion of the expanded first coarsely wound portion 431 and has substantially the same outer diameter as the end portion of the expanded first coarsely wound portion 431. Is provided. A portion having a small outer diameter in the first coarsely wound portion 431 is a first small diameter portion 433, and a portion where the diameter is increased is a large diameter portion 434. It is formed.

本発明に係るプローブピンは、プローブピンの使用時、すなわちプローブピンが測定対象物であるICを検査しているときに、第1コンタクトおよび第2コンタクトの内部接触部がコイルバネの密着巻き部の内側面に接触していればよい。また、ワイピング動作は、プローブピンを保持したICソケットが検査用基板に載置された状態(第3実施形態では図9に示した状態)からプローブピンが測定対象物であるICを検査している状態(第3実施形態では図11に示した状態)に至る過程で行われればよい。本発明の第3実施形態に係るプローブピン4は、図8に示したとおり、コイルバネ43が段差部435を第1粗巻き部431に備えることから、第1コンタクト41および第2コンタクト42は、コイルバネ43の密着巻き部432と接触する前にワイピング動作を行う。以下、図9に示した状態から図10に示した状態を経て、図11の状態に至る動作を説明する。   In the probe pin according to the present invention, when the probe pin is used, that is, when the IC that is the object to be measured is inspected, the internal contact portion of the first contact and the second contact is the tightly wound portion of the coil spring. What is necessary is just to contact the inner surface. The wiping operation is performed by inspecting an IC whose probe pin is a measurement object from a state where the IC socket holding the probe pin is placed on the inspection substrate (the state shown in FIG. 9 in the third embodiment). What is necessary is just to be performed in the process to reach a state (state shown in FIG. 11 in the third embodiment). In the probe pin 4 according to the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, the coil spring 43 includes a stepped portion 435 in the first coarsely wound portion 431, so that the first contact 41 and the second contact 42 are A wiping operation is performed before contacting the tightly wound portion 432 of the coil spring 43. The operation from the state shown in FIG. 9 to the state shown in FIG. 11 through the state shown in FIG. 10 will be described below.

図9に示したとおり、プローブピン4を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態においては、第1コンタクト41の第1内部接触部414および第2コンタクト42の第2内部接触部424は、コイルバネ43の第1粗巻き部431が備える段差部435に至っていない。この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン4の第1電極接触部411および第2電極接触部421を若干押圧すると、図10に示したとおり、第1コンタクト41と第2コンタクト42は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、それぞれ偏心方向に若干傾斜する。このとき、本実施形態に係るプローブピン4においては、第1内部接触部414と第2内部接触部424は、それぞれコイルバネ43が備える第1粗巻き部432の第1細径部433の互いに対向する内側面と摺動接触する。   As shown in FIG. 9, when the IC socket 2 holding the probe pins 4 is placed on the inspection substrate 1000, the first inner contact portion 414 of the first contact 41 and the second inner portion of the second contact 42. The contact portion 424 does not reach the step portion 435 provided in the first rough winding portion 431 of the coil spring 43. From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected slightly presses the first electrode contact portion 411 and the second electrode contact portion 421 of each probe pin 4 of the IC socket, as shown in FIG. Similarly to the probe pin 1 according to the first embodiment, the second contacts 42 are slightly inclined in the eccentric direction. At this time, in the probe pin 4 according to the present embodiment, the first internal contact portion 414 and the second internal contact portion 424 are opposed to the first narrow diameter portion 433 of the first rough winding portion 432 provided in the coil spring 43, respectively. In sliding contact with the inner surface.

この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン4の第1電極接触部411および第2電極接触部421をさらに押圧すると、第1内部接触部414と第2内部接触部424は、それぞれコイルバネ43の第1粗巻き部432の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1内部接触部414と第2内部接触部424がコイルバネ43の第1粗巻き巻き部432の段差部435を超えた時点で、第1コンタクト41と第2コンタクト42は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、それぞれ偏心方向にさらに傾斜する。このとき、第1コンタクト41が備える第1電極接触部411の先端部416、および第2コンタクト42が備える第2電極接触部421の先端部426は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、検査対象のIC2000の各電極上をそれぞれ偏心方向に摺動する。この摺動がワイピング動作となる。すなわち、第3実施形態に係るプローブ4は、第1コンタクト41および第2コンタクト42の内部接触部が、コイルバネ43の密着巻き部432と接触する前にワイピング動作を行う。   From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected further presses the first electrode contact portion 411 and the second electrode contact portion 421 of each probe pin 4 of the IC socket, the first internal contact portion 414 and the second internal contact portion The 424 is displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact along the mutually opposing inner surfaces of the first coarsely wound portion 432 of the coil spring 43. In the process of this displacement, when the first internal contact portion 414 and the second internal contact portion 424 exceed the stepped portion 435 of the first coarsely wound portion 432 of the coil spring 43, the first contact 41 and the second contact 42 are Similarly to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pins 1 are further inclined in the eccentric direction. At this time, the tip part 416 of the first electrode contact part 411 provided in the first contact 41 and the tip part 426 of the second electrode contact part 421 provided in the second contact 42 are the same as the probe pin 1 according to the first embodiment. In addition, it slides in the eccentric direction on each electrode of the IC 2000 to be inspected. This sliding is a wiping operation. That is, the probe 4 according to the third embodiment performs a wiping operation before the internal contact portions of the first contact 41 and the second contact 42 come into contact with the tightly wound portion 432 of the coil spring 43.

上記のワイピング動作が行われたのち、各プローブピン4の第1電極接触部411および第2電極接触部421はさらに押圧され、第1内部接触部414と第2内部接触部424は、それぞれコイルバネ43の密着巻き部432の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位し、図11に示したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態に至る。   After the above wiping operation is performed, the first electrode contact portion 411 and the second electrode contact portion 421 of each probe pin 4 are further pressed, and the first internal contact portion 414 and the second internal contact portion 424 are respectively coil springs. 11 is a state in which the IC socket 2 shown in FIG. 11 is inspecting the IC 2000 as a measurement object while being slidably contacted along the mutually facing inner side surfaces of the closely wound portion 432 of the 43 To.

〔第4実施形態〕
本発明の第4実施形態に係るプローブピン5は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクト51、第2コンタクト52、コイルバネ53、およびプランジャー54を備える。図12(a)は、本発明の第4実施形態に係るプローブピン5の、第1コンタクト51の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図12(b)は、第1コンタク51の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図12(c)は、プローブン5の外観図である。図13は、本発明の第4実施形態に係るプローブピン5を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図14は、図13のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図である。また、図15は、図13のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。なお、第4実施形態に係るプローブピン5の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよい。以下では一例として第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第4実施形態について、第1実施形態、および第2実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、あるいは第2実施形態に係るプローブピン3と同様なので、ここでの説明を省略する。
[Fourth Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention includes a first contact 51, a second contact 52, a coil spring 53, and a plunger 54. 12A is a cross-sectional view of the probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention on a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 51, and FIG. It is sectional drawing in a surface perpendicular | vertical to the plate | board surface of the plate-shaped body of 1 contact 51. FIG. FIG. 12C is an external view of the proben 5. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 holding the probe pins 5 according to the fourth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. 14 is a cross-sectional view of the IC socket 2 of FIG. It is sectional drawing which shows one state of the process which leads to the state which test | inspects IC2000 which is a measuring object. FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 of FIG. 13 is inspecting the IC 2000 that is a measurement object. The configuration of the probe pin 5 according to the fourth embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment or may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. In the following, the fourth embodiment will be described with respect to portions different from the first embodiment and the second embodiment. Since the structure, manufacturing method, and the like that are not particularly described are the same as those of the probe pin 1 according to the first embodiment or the probe pin 3 according to the second embodiment, description thereof is omitted here.

本発明の第4実施形態に係るプローブピン5は、図12に示したとおり、コイルバネ53が、密着巻き部532の第1粗巻き部531側の端部近傍に、一定の長さのテーパー部536に備える。すなわち、コイルバネ53は、一方の端部に第1粗巻き部531を備え、他方の端部に密着巻き部532を備え、密着巻き部532の第1粗巻き部531側の端部は一定の長さにわたり徐々に拡径され、テーパー部536が形成される。さらに、密着巻き部532は、テーパー部536に連結し、徐々に拡径されたテーパー部536の端部とほぼ同じ外径を有する太径部534を備える。   In the probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 12, the coil spring 53 is a tapered portion having a certain length in the vicinity of the end portion of the tightly wound portion 532 on the first coarsely wound portion 531 side. 536. That is, the coil spring 53 includes a first coarsely wound portion 531 at one end, a tightly wound portion 532 at the other end, and the end of the tightly wound portion 532 on the first coarsely wound portion 531 side is constant. The diameter is gradually increased over the length, and a tapered portion 536 is formed. Further, the tightly wound portion 532 includes a large-diameter portion 534 that is connected to the tapered portion 536 and has substantially the same outer diameter as the end portion of the tapered portion 536 that is gradually expanded in diameter.

前述のとおり、本発明に係るプローブピンにおいて、ワイピング動作は、プローブピンを保持したICソケットが検査用基板に載置された状態(第4実施形態では図13に示した状態)からプローブピンが測定対象物であるICを検査している状態(第4実施形態では図15に示した状態)に至る過程で行われればよい。一般的に、プローブピンは、プローブピンの全長が短いほど高周波特性に優れる。プローブピンの全長を短くするためには、プローブピンの可動範囲、すなわちプローブピンを保持したICソケットが検査用基板に載置されたから状態からプローブピンが測定対象物であるICを検査している状態に至るまでのプローブピンの高さの変位量を小さくすることが求められる。(一般的に、この変位量をストロークと呼ぶ。)   As described above, in the probe pin according to the present invention, the wiping operation starts from the state where the IC socket holding the probe pin is placed on the inspection substrate (the state shown in FIG. 13 in the fourth embodiment). What is necessary is just to be performed in the process which reaches the state (in the fourth embodiment, the state shown in FIG. 15) inspecting the IC that is the measurement object. In general, the probe pin is more excellent in high frequency characteristics as the entire length of the probe pin is shorter. In order to shorten the total length of the probe pin, the probe pin is inspected from the state in which the probe pin is movable, that is, the IC socket holding the probe pin is placed on the inspection substrate. It is required to reduce the amount of displacement of the height of the probe pin until reaching the state. (In general, this displacement is called a stroke.)

上記の第1実施形態に係るプローブピン1は、上述のとおり、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン1の第1電極接触部111および第2電極接触部121を若干押圧した状態、すなわち図3で示した状態ではワイピング動作を開始していない。実際に製造されるプローブピン1には、プローブピン1を構成する各部品に製造上の寸法公差がある。また、プローブピン1を保持するソケット2にも製造上の寸法公差がある。このような製造上の寸法公差を有するプローブピン1において、プローブピン1が確実にワイピング動作を行うためには、プローブピン1の可動範囲を大きく設計し、可動範囲のおおよそ中間においてワイピング動作を行うように設計すればよい。このように設計されたプローブピン1は、可動範囲が大きいため、全長が長くなる。   In the probe pin 1 according to the first embodiment, as described above, each electrode of the IC 2000 to be inspected slightly pressed the first electrode contact portion 111 and the second electrode contact portion 121 of each probe pin 1 of the IC socket. In the state, that is, the state shown in FIG. 3, the wiping operation is not started. In the probe pin 1 that is actually manufactured, each component constituting the probe pin 1 has a manufacturing dimensional tolerance. The socket 2 that holds the probe pin 1 also has manufacturing tolerances. In order to reliably perform the wiping operation in the probe pin 1 having such a manufacturing dimensional tolerance, the movable range of the probe pin 1 is designed to be large, and the wiping operation is performed approximately in the middle of the movable range. Should be designed as follows. Since the probe pin 1 designed in this way has a large movable range, the entire length becomes long.

本発明の第4実施形態に係るプローブピン5は、図12に示したとおり、コイルバネ53がテーパー部536を備えることから、第1コンタクト51および第2コンタクト52は、プローブピン5の可動範囲において徐々にワイピング動作を行い、プローブピン5の可動範囲を小さく設計しても、プローブピン5の変位量に応じたワイピング動作を得ることが出来る。以下、図13に示した状態から図14に示した状態を経て、図15の状態に至る動作を説明する。 In the probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 12, since the coil spring 53 includes a tapered portion 536, the first contact 51 and the second contact 52 are within the movable range of the probe pin 5. Even if the wiping operation is gradually performed and the movable range of the probe pin 5 is designed to be small, a wiping operation corresponding to the displacement amount of the probe pin 5 can be obtained. The operation from the state shown in FIG. 13 to the state shown in FIG. 15 through the state shown in FIG. 14 will be described below.

図13に示したとおり、プローブピン5を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態において、第1コンタク51の第1内部接触部514および第2コンタクト52の第2内部接触部524は、コイルバネ53が備えるテーパー部536の第1粗巻き部531側の端部近傍に位置する。ここで図12から図15に例示したプローブピン5においては、テーパー部536は第1粗巻き部531の端部に延設されているが、コイルバネ53の製造上の理由により、密着巻き部532の第1粗巻き部531側の端部に、第1粗巻き部531とほぼ同じ外径を有する1〜2巻きの密着巻き部を備えてもよい。この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン5の第1電極接触部511および第2電極接触部521を極僅か押圧すると、図14に示したとおり、第1コンタクト51と第2コンタクト52は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、それぞれ偏心方向に若干傾斜する。このとき、本実施形態に係るプローブピン5においては、第1内部接触部514と第2内部接触部524は、それぞれコイルバネ53の密着巻き部532が備えるテーパー部536の第1粗巻き部531側の端部近傍の互いに対向する内側面と接触する。本発明の第4実施形態に係るプローブピン5は、この状態から、以下に説明する図15の状態に至る過程の、何れの状態において測定対象物であるIC2000を検査してもよい。   As shown in FIG. 13, the first internal contact portion 514 of the first contact 51 and the second internal contact of the second contact 52 in a state where the IC socket 2 holding the probe pin 5 is placed on the inspection substrate 1000. The part 524 is located in the vicinity of the end of the tapered part 536 provided in the coil spring 53 on the first coarsely wound part 531 side. Here, in the probe pin 5 illustrated in FIGS. 12 to 15, the tapered portion 536 extends to the end portion of the first coarsely wound portion 531, but for the reason of manufacturing the coil spring 53, the tightly wound portion 532. One or two tightly wound portions having the same outer diameter as the first rough winding portion 531 may be provided at the end portion of the first rough winding portion 531. From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected presses the first electrode contact portion 511 and the second electrode contact portion 521 of each probe pin 5 of the IC socket very slightly, as shown in FIG. The second contact 52 is slightly inclined in the eccentric direction, similarly to the probe pin 1 according to the first embodiment. At this time, in the probe pin 5 according to the present embodiment, the first internal contact portion 514 and the second internal contact portion 524 are respectively provided on the first coarsely wound portion 531 side of the tapered portion 536 provided in the tightly wound portion 532 of the coil spring 53. In contact with the inner surfaces facing each other in the vicinity of the end of each. The probe pin 5 according to the fourth embodiment of the present invention may inspect the IC 2000 that is the measurement object in any state in the process from this state to the state of FIG. 15 described below.

図14に示した状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン5の第1電極接触部511および第2電極接触部521をさらに押圧すると、第1内部接触部514と第2内部接触部524は、それぞれコイルバネ53のテーパー部536の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1コンタクト51と第2コンタクト52は、それぞれ偏心方向に徐々に傾斜する。このとき、第1コンタクト51が備える第1電極接触部511の先端部516、および第2コンタクト52が備える第2電極接触部521の先端部526は、検査対象のIC2000の各電極上をそれぞれ偏心方向に徐々に摺動する。この摺動がワイピング動作となる。すなわち、第4実施形態に係るプローブ5は、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン5の第1電極接触部511および第2電極接触部521を押圧すると、その押圧量(ストローク量)に応じた摺動量のワイピング動作を行う。   From the state shown in FIG. 14, when each electrode of the IC 2000 to be inspected further presses the first electrode contact portion 511 and the second electrode contact portion 521 of each probe pin 5 of the IC socket, the first internal contact portion 514 and the first The two internal contact portions 524 are displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact along the mutually opposing inner surfaces of the tapered portions 536 of the coil springs 53. In the process of this displacement, the first contact 51 and the second contact 52 are gradually inclined in the eccentric direction. At this time, the distal end portion 516 of the first electrode contact portion 511 provided in the first contact 51 and the distal end portion 526 of the second electrode contact portion 521 provided in the second contact 52 are eccentric on the respective electrodes of the IC 2000 to be inspected. Slowly slide in the direction. This sliding is a wiping operation. That is, in the probe 5 according to the fourth embodiment, when each electrode of the IC 2000 to be inspected presses the first electrode contact portion 511 and the second electrode contact portion 521 of each probe pin 5 of the IC socket, the pressing amount (stroke) The wiping operation of the sliding amount corresponding to the amount) is performed.

〔第5実施形態〕
本発明の第5実施形態に係るプローブピン6は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクト61、第2コンタクト62、コイルバネ63、およびプランジャー64を備える。図16(a)は、本発明の第5実施形態に係るプローブピン6の、第1コンタクト61の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図16(b)は、第1コンタクト61の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図16(c)は、プローブピン6の外観図であり、図16(d)は、第1コンタクト71および第2コンタクト72の外観図である。なお、第5実施形態に係るプローブピン6の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよいし、第3実施形態に係るプローブピン4において実施してもよいし、第4実施形態に係るプローブピン5において実施してもよい。以下では一例として第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第5実施形態について、第1実施形態、第2実施形態、第3実施形態、および第4実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、第2実施形態に係るプローブピン3、第3実施形態に係るプローブピン4、あるいは第4実施形態に係るプローブピン5と同様なので、ここでの説明を省略する。
[Fifth Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 6 according to the fifth embodiment of the present invention includes a first contact 61, a second contact 62, a coil spring 63, and a plunger 64. FIG. 16A is a cross-sectional view of the probe pin 6 according to the fifth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61, and FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a surface of a contact 61 perpendicular to the plate surface of a plate-like body. FIG. 16C is an external view of the probe pin 6, and FIG. 16D is an external view of the first contact 71 and the second contact 72. The configuration of the probe pin 6 according to the fifth embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment, may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment, You may implement in the probe pin 4 which concerns on 3rd Embodiment, and you may implement in the probe pin 5 which concerns on 4th Embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. In the following, the fifth embodiment will be described with respect to parts different from the first embodiment, the second embodiment, the third embodiment, and the fourth embodiment. A structure, a manufacturing method, and the like not particularly described are related to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 3 according to the second embodiment, the probe pin 4 according to the third embodiment, or the fourth embodiment. Since it is the same as the probe pin 5, description here is abbreviate | omitted.

図16に例示したとおり、本発明の第5実施形態に係るプローブピン6が備えるコイルバネ63は、第1粗巻き部631とは反対側の端部に、第2粗巻き部637を備える。また、密着巻き部632の第2粗巻き部637側の端部に、第2細径部638を備える。すなわち、コイルバネ63は、一方の端部に第1粗巻き部631を備え、他方の端部に第2粗巻き部637を備え、その中間に密着巻き部632を備える。また、密着巻き部632は、第1粗巻き部631と連結し、第1粗巻き部631とほぼ同じ外径を有する一定の長さの第1細径部633と、さらに第1細径部633に連結し、一定の長さにわたり拡径された太径部634と、さらに太径部634に連結し、第1細径部633とほぼ同じ外径を有する一定の長さの第2細径部638と、さらに第2細径部638に連結し、第2細径部638とほぼ同じ外径を有する第2粗巻き部637を備える。第1細径部633と太径部634の境界に段差部635が形成される。なお、後述のとおり、第2細径部638と第2粗巻き部637の外径は、太径部634の外径より小さければ任意である。(太径部634と同じ外径であってもよい。)   As illustrated in FIG. 16, the coil spring 63 included in the probe pin 6 according to the fifth embodiment of the present invention includes the second rough winding portion 637 at the end opposite to the first rough winding portion 631. In addition, a second small diameter portion 638 is provided at the end of the tightly wound portion 632 on the second coarsely wound portion 637 side. That is, the coil spring 63 includes a first coarsely wound portion 631 at one end, a second coarsely wound portion 637 at the other end, and a tightly wound portion 632 in the middle. Further, the tightly wound portion 632 is connected to the first coarsely wound portion 631, has a fixed length of the first narrow diameter portion 633 having substantially the same outer diameter as the first coarsely wound portion 631, and further the first narrow diameter portion. A large-diameter portion 634 that is connected to 633 and expanded over a certain length, and further connected to the large-diameter portion 634 and has a second length that is substantially the same as the first small-diameter portion 633 and has a constant length. A diameter portion 638 and a second coarsely wound portion 637 connected to the second small diameter portion 638 and having substantially the same outer diameter as the second small diameter portion 638 are provided. A step portion 635 is formed at the boundary between the first small diameter portion 633 and the large diameter portion 634. As will be described later, the outer diameters of the second small diameter portion 638 and the second rough winding portion 637 are arbitrary as long as they are smaller than the outer diameter of the large diameter portion 634. (It may be the same outer diameter as the large-diameter portion 634.)

プランジャー64は、基板接触部641と反対側の端部に、第3フランジ部642から基板接触部641とは反対側に伸延する第3アーム部643を備える。また、第3アーム部643の基板接触部641とは反対側の端部近傍に、第3内部接触部644を備える。第3内部接触部644の形状は、上記のコイルバネ63が備える第2細径部638の内側面と摺動接触可能な形状であれば、任意である。また、第3アーム部643の第3フランジ部642側の端部近傍に、圧入部645を備える。プランジャー64は、板状体であってもよい。   The plunger 64 includes a third arm portion 643 extending from the third flange portion 642 to the opposite side to the substrate contact portion 641 at the end opposite to the substrate contact portion 641. A third internal contact portion 644 is provided in the vicinity of the end of the third arm portion 643 opposite to the substrate contact portion 641. The shape of the third internal contact portion 644 is arbitrary as long as it can slide-contact with the inner surface of the second small diameter portion 638 included in the coil spring 63. Further, a press-fit portion 645 is provided in the vicinity of the end of the third arm portion 643 on the third flange portion 642 side. The plunger 64 may be a plate-like body.

上記のプランジャー64は、第3アーム部643を基板接触部641とは反対側の端部からコイルバネ63が備える第2粗巻き部637の内径側に挿入する。また、圧入部645を第2粗巻き部637の端部に圧入する。なお、上述したプローブピン1が備えるプランジャー14と同様に、圧入部645は第2粗巻き部637の端部に挿入されているだけでもよい。   The plunger 64 inserts the third arm portion 643 from the end opposite to the substrate contact portion 641 to the inner diameter side of the second rough winding portion 637 provided in the coil spring 63. Further, the press-fitting portion 645 is press-fitted into the end portion of the second rough winding portion 637. Note that the press-fitting portion 645 may be merely inserted into the end portion of the second rough winding portion 637 in the same manner as the plunger 14 included in the probe pin 1 described above.

本発明の第5実施形態に係るプローブピン6は、図16に示したとおり、コイルバネ63が基板接触部641側に第2粗巻き部637を備え、プランジャー64がコイルバネ63の密着巻き部632の第2細径部638の内側面と摺動接触しながら、コイルバネ63に対し変動可能に挿入されている。係る構成のプローブピン6は、プローブピン6の使用時、および使用時に至る過程において、第1粗巻き部631と第2粗巻き部637の双方が伸縮する。従って、例えば第1粗巻き部631と第2粗巻き部637を同じバネ定数で構成した場合、すなわち、同じ外径、同じ巻き数、同じ巻きピッチで構成した場合、プローブピン6が備えるコイルバネ63の第1粗巻き部631の長さは、第1実施形態に係るプローブピン1が備えるコイルバネ13の第1粗巻き部131の長さの1/2となり、第1コンタクト61が備える第1アーム部613、および第2コンタクト62が備える第2アーム部623の長さも1/2となる。このような構成のプローブピン6は、第1アーム部613および第2アーム部623が短いことから、プローブピン6のワイピング動作時に、第1コンタクト61および第2コンタクト62の傾斜が大きくなり、ワイピング量を大きくすることができる。以下、図17に示した状態から図18に示した状態を経て、図19の状態に至る動作を説明する。   In the probe pin 6 according to the fifth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 16, the coil spring 63 includes the second rough winding portion 637 on the substrate contact portion 641 side, and the plunger 64 is the tightly wound portion 632 of the coil spring 63. The coil spring 63 is variably inserted while being in sliding contact with the inner surface of the second small diameter portion 638. In the probe pin 6 having such a configuration, both of the first rough winding portion 631 and the second rough winding portion 637 expand and contract during use of the probe pin 6 and in the course of use. Therefore, for example, when the first coarsely wound portion 631 and the second coarsely wound portion 637 are configured with the same spring constant, that is, when configured with the same outer diameter, the same number of turns, and the same winding pitch, the coil spring 63 included in the probe pin 6 is provided. The length of the first coarsely wound portion 631 is ½ of the length of the first coarsely wound portion 131 of the coil spring 13 provided in the probe pin 1 according to the first embodiment, and the first arm provided in the first contact 61. The length of the second arm portion 623 included in the portion 613 and the second contact 62 is also halved. In the probe pin 6 having such a configuration, since the first arm portion 613 and the second arm portion 623 are short, the inclination of the first contact 61 and the second contact 62 is increased during the wiping operation of the probe pin 6, and the wiping is performed. The amount can be increased. Hereinafter, an operation from the state shown in FIG. 17 to the state shown in FIG. 19 through the state shown in FIG. 18 will be described.

図17は、本発明の第5実施形態に係るプローブピン6を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図18は、図17のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図であり、図19は、図17のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。   FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 6 according to the fifth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. 18 is a cross-sectional view of the IC socket 2 of FIG. FIG. 19 is a cross-sectional view showing one state of the process leading to the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object, and FIG. 19 shows the state where the IC socket 2 of FIG. 17 is inspecting the IC 2000 as the measurement object. It is sectional drawing.

図17に示したとおり、プローブピン6を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態において、第1コンタクト61の第1内部接触部614および第2コンタクト62の第2内部接触部624は、コイルバネ63が備える密着巻き部632の第1細径部633側の端部近傍に位置する。また、プランジャー64の第3内部接触部644は、コイルバネ63が備える密着巻き部632の第2細径部638側の端部近傍に位置する。   As shown in FIG. 17, the first internal contact portion 614 of the first contact 61 and the second internal contact of the second contact 62 in a state where the IC socket 2 holding the probe pin 6 is placed on the inspection substrate 1000. The part 624 is located in the vicinity of the end of the tightly wound part 632 included in the coil spring 63 on the first small diameter part 633 side. Further, the third internal contact portion 644 of the plunger 64 is located in the vicinity of the end portion on the second small diameter portion 638 side of the tightly wound portion 632 included in the coil spring 63.

図17に示した状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン6の第1電極接触部611および第2電極接触部621を若干押圧すると、図18に示したとおり、第1コンタクト61と第2コンタクト62は、それぞれ偏心方向に若干傾斜し、第1内部接触部614と第2内部接触部624は、それぞれコイルバネ63の密着巻き部632の第1細径部633の互いに対向する内側面と摺動接触する。また、プランジャー64は、基板接触部641の先端で支えられた状態になり、何れかの方向に若干傾斜し、第3内部接触部644は、コイルバネ63の密着巻き部632の第2細径部638の内側面と摺動接触する。   From the state shown in FIG. 17, when each electrode of the IC 2000 to be inspected slightly presses the first electrode contact portion 611 and the second electrode contact portion 621 of each probe pin 6 of the IC socket, as shown in FIG. The first contact 61 and the second contact 62 are slightly inclined in the eccentric direction, and the first internal contact portion 614 and the second internal contact portion 624 are respectively connected to the first small diameter portion 633 of the tightly wound portion 632 of the coil spring 63. Sliding contact with the opposing inner surface. The plunger 64 is supported by the tip of the substrate contact portion 641 and is slightly inclined in any direction, and the third internal contact portion 644 is the second small diameter of the tightly wound portion 632 of the coil spring 63. In sliding contact with the inner surface of the portion 638.

図18に示した状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン6の第1電極接触部611および第2電極接触部621をさらに押圧すると、コイルバネ63が備える第1粗巻き部631および第2粗巻き部637は、それぞれさらに圧縮され、密着巻き部632は、プランジャー64の第3内部接触部644が第2細径部638の内側面と摺動接触しながら、検査用基板1000方向に変位する。また、第1コンタクト61の第1内部接触部614、および第2コンタクト62の第2内部接触部624は、それぞれコイルバネ63の密着巻き部632の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1内部接触部614と第2内部接触部624がコイルバネ63の密着巻き部632の段差部635を超えた時点で、第1コンタクト61と第2コンタクト62は、それぞれ偏心方向にさらに傾斜する。ここでプローブピン6においては、上記の通り、第1アーム部613と第2アーム部623の長さが短いため、第1実施形態に係るプローブピン1よりも大きく傾斜する。その結果、プローブピン6のワイピング量はプローブピン1のワイピング量よりも大きくなり、より多くの酸化被膜を除去することが期待出来る。   When the respective electrodes of the IC 2000 to be inspected further press the first electrode contact portion 611 and the second electrode contact portion 621 of each probe pin 6 of the IC socket from the state shown in FIG. The portion 631 and the second coarsely wound portion 637 are further compressed, and the tightly wound portion 632 is inspected while the third internal contact portion 644 of the plunger 64 is in sliding contact with the inner surface of the second small diameter portion 638. Displacement in the direction of the substrate 1000. Further, the first internal contact portion 614 of the first contact 61 and the second internal contact portion 624 of the second contact 62 are slidably contacted along inner surfaces facing each other of the tightly wound portion 632 of the coil spring 63. It is displaced in the direction of the inspection substrate 1000. In the process of this displacement, when the first internal contact portion 614 and the second internal contact portion 624 exceed the stepped portion 635 of the tightly wound portion 632 of the coil spring 63, the first contact 61 and the second contact 62 are respectively eccentric. Inclined further in the direction. Here, in the probe pin 6, since the lengths of the first arm portion 613 and the second arm portion 623 are short as described above, the probe pin 6 is inclined more greatly than the probe pin 1 according to the first embodiment. As a result, the wiping amount of the probe pin 6 becomes larger than the wiping amount of the probe pin 1, and it can be expected that more oxide film is removed.

〔第5実施形態の変形例〕
上記のとおり、第5実施形態に係るプローブピン6が備えるプランジャー64は板状体であってもよい。プランジャー64を板状体とする場合、第3内部接触部644の形状を、図20に例示したような形状としてもよい。図20(a)は、本発明の第5実施形態の変形例に係るプローブピン6の、第1コンタクト61の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図20(b)は、第1コンタクト61の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図20(c)は、プランジャー64の初期の状態の外観図である。初期の状態とは、プランジャー64がプレス加工、エッチング加工、電鋳めっき法などにより製造されたときの形状を意味する。
[Modification of Fifth Embodiment]
As described above, the plunger 64 included in the probe pin 6 according to the fifth embodiment may be a plate-like body. When the plunger 64 is a plate-like body, the shape of the third internal contact portion 644 may be the shape illustrated in FIG. FIG. 20A is a cross-sectional view of the probe pin 6 according to a modification of the fifth embodiment of the present invention on a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61, and FIG. These are sectional views in a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of the first contact 61. FIG. 20C is an external view of the plunger 64 in the initial state. The initial state means a shape when the plunger 64 is manufactured by pressing, etching, electroforming plating, or the like.

第5実施形態の変形例に係るプローブピン6が備えるプランジャー64は、図20に示したとおり、第3アーム部643の基板接触部641とは反対側の端部に、板幅が小さく、互いにほぼ平行に伸延した2つの第4アーム部646を備え、2つの第4アーム部646の端部近傍における、互いに対向していない側の外側面(板厚面)が第3内部接触部644を構成する。ここで第4アーム部646の初期の形状は、上記の互いに対向していない側の外側面の距離(すなわち、2つの第3内部接触部644によって形成される内部接触部の幅)が、コイルバネ63の第2細径部638の内径よりも、僅かに大きく設定される。このような構成のプランジャー64では、第4アーム部646の弾性変形により、2つの第3内部接触部644によって形成される内部接触部の幅が伸縮可能であり、第3内部接触部644がコイルバネ63の第2細径部638の内側面と摺動接触するときに、常に2つの接点が接触状態を保ち、電気的接触が安定して好ましい。   As shown in FIG. 20, the plunger 64 provided in the probe pin 6 according to the modification of the fifth embodiment has a small plate width at the end opposite to the substrate contact portion 641 of the third arm portion 643. Two fourth arm portions 646 extending substantially in parallel to each other are provided, and the outer surfaces (thickness surfaces) on the sides not facing each other in the vicinity of the end portions of the two fourth arm portions 646 are third internal contact portions 644. Configure. Here, the initial shape of the fourth arm portion 646 is such that the distance between the outer surfaces on the sides not facing each other (that is, the width of the internal contact portion formed by the two third internal contact portions 644) is a coil spring. It is set to be slightly larger than the inner diameter of 63 second narrow diameter portion 638. In the plunger 64 having such a configuration, the width of the internal contact portion formed by the two third internal contact portions 644 can be expanded and contracted by the elastic deformation of the fourth arm portion 646, and the third internal contact portion 644 can be expanded and contracted. When the sliding contact is made with the inner surface of the second small-diameter portion 638 of the coil spring 63, the two contact points are always kept in contact and electrical contact is stable and preferable.

〔第6実施形態〕
本発明の第6実施形態に係るプローブピン7は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクト71、第2コンタクト72、コイルバネ73、およびプランジャー74を備える。図21(a)は、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7の、第1コンタクト71の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図21(b)は、第1コンタクト71の板状体の板面に垂直な面における断面図であり、図21(c)は、図21(a)の一部の拡大図である。また、図21(d)は、プローブピン7の外観図であり、図21(e)は、第1コンタクト71および第2コンタクト72の外観図である。なお、第6実施形態に係るプローブピン7の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよいし、第3実施形態に係るプローブピン4において実施してもよいし、第4実施形態に係るプローブピン5に実施してもよいし、第5実施形態に係るプロービピン6において実施してもよい。以下では一例として第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第6実施形態について、第1実施形態、第2実施形態、第3実施形態、第4実施形態、および第5実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、第2実施形態に係るプローブピン3、第3実施形態に係るプローブピン4、第4実施形態に係るプローブピン5、あるいは第5実施形態に係るプローブピン6と同様なので、ここでの説明を省略する。
[Sixth Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention includes a first contact 71, a second contact 72, a coil spring 73, and a plunger 74. FIG. 21A is a cross-sectional view of the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 71, and FIG. It is sectional drawing in the surface perpendicular | vertical to the plate | board surface of the plate-shaped body of 1 contact 71, FIG.21 (c) is a partial enlarged view of Fig.21 (a). FIG. 21D is an external view of the probe pin 7, and FIG. 21E is an external view of the first contact 71 and the second contact 72. The configuration of the probe pin 7 according to the sixth embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment, may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment, It may be implemented in the probe pin 4 according to the third embodiment, may be implemented in the probe pin 5 according to the fourth embodiment, or may be implemented in the probe pin 6 according to the fifth embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. In the following, the sixth embodiment will be described with respect to parts different from the first embodiment, the second embodiment, the third embodiment, the fourth embodiment, and the fifth embodiment. The structure, the manufacturing method, and the like not particularly described are the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 3 according to the second embodiment, the probe pin 4 according to the third embodiment, and the probe according to the fourth embodiment. Since this is the same as the pin 5 or the probe pin 6 according to the fifth embodiment, the description thereof is omitted here.

図21に例示したとおり、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7が備える第1コンタクト71は、第1フランジ部712における、第1内部接触部714側の第1電極接触部711とは反対側の端部に、切り欠き部717を備える。すなわち、第1コンタクト71が備える第1フランジ部712は、第1電極接触部711とは反対側の端面の高さ(基準面から当該端面までの距離)が、第1内部接触部714側の端面と、もう一方の側の端面では異なり、第1内部接触部714側の端面の高さの方が高い。以下、第1フランジ部712における第1内部接触部714側に突出している部分を第1突出部718、他方に突出している部分を第1対向突出部719とする。   As illustrated in FIG. 21, the first contact 71 included in the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention is different from the first electrode contact portion 711 on the first internal contact portion 714 side in the first flange portion 712. A notch 717 is provided at the opposite end. That is, the first flange portion 712 included in the first contact 71 has a height of an end surface opposite to the first electrode contact portion 711 (a distance from the reference surface to the end surface) on the first internal contact portion 714 side. The end surface is different from the end surface on the other side, and the height of the end surface on the first internal contact portion 714 side is higher. Hereinafter, a portion of the first flange portion 712 protruding to the first internal contact portion 714 side is referred to as a first protruding portion 718, and a portion protruding to the other is referred to as a first opposing protruding portion 719.

また、第1電極接触部711の先端部716は、第1内部接触部714とは反対側に、第1アーム部713の伸延方向の中心線に対し、極僅か偏心している。なお、後述のとおり、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7においては、第1電極接触部711の先端部716は偏心していなくてもよい。すなわち、第1アーム部713の伸延方向の中心線上にあってもよい。あるいは、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1アーム部713の伸延方向の中心線に対し、第1内部接触部714とは反対側に一定の長さで偏心していてもよい。 Further, the tip 716 of the first electrode contact portion 711 is slightly decentered with respect to the center line in the extending direction of the first arm portion 713 on the side opposite to the first internal contact portion 714. As will be described later, in the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention, the tip end portion 716 of the first electrode contact portion 711 does not have to be eccentric. That is, it may be on the center line in the extending direction of the first arm portion 713. Alternatively, like the probe pin 1 according to the first embodiment, the first arm portion 713 may be decentered by a certain length on the opposite side of the first internal contact portion 714 with respect to the center line in the extending direction. .

第2コンタクト72は、上記の第1コンタクト71とほぼ同じ形状を備える。従って、図21(d)に示したとおり、プローブピン7が組み立てられた状態において、第1コンタクト71が備える第1フランジ部712の第1突出部718における、コイルバネ73に対向する側の端面と、第2コンタクト72が備える第2フランジ部722の第2突出部728における、コイルバネ73に対向する側の端面は、ほぼ同じ高さとなる。また、第1コンタクト71と第2コンタクト72の同じ側のフランジ部において、第1フランジ部712と第2フランジ部722のコイルバネ73に対向する側の端面は、それぞれ内部接触部とは反対側の端面、すなわち第1対向突出部719および第2対向突出部729のコイルバネ73に対向する側の端面の高さの方が高い。   The second contact 72 has substantially the same shape as the first contact 71 described above. Therefore, as shown in FIG. 21D, in the assembled state of the probe pin 7, the end surface on the side facing the coil spring 73 in the first protrusion 718 of the first flange portion 712 provided in the first contact 71 The end surfaces of the second projecting portions 728 of the second flange portion 722 provided in the second contact 72 on the side facing the coil spring 73 have substantially the same height. Moreover, in the flange part of the same side of the 1st contact 71 and the 2nd contact 72, the end surface of the side facing the coil spring 73 of the 1st flange part 712 and the 2nd flange part 722 is an opposite side to an internal contact part, respectively. The heights of the end surfaces, that is, the end surfaces of the first opposing projecting portion 719 and the second opposing projecting portion 729 on the side facing the coil spring 73 are higher.

本発明の第6実施形態に係るプローブピン7は、上記のとおり、プローブピン7が組み立てられた状態における同じ側のフランジ部において、それぞれ内部接触部とは反対側の端面の高さの方が高いことから、第1フランジ部712および第2フランジ部722がコイルバネ73を押圧したときに、それぞれ内部接触部側の端面がコイルバネ73を押圧し、もう一方の側の端面とコイルバネ73の端部とは隙間が生じている。従って、第1コンタクト71は、第1内部接触部714側のフランジ部(第1突出部718)のみがコイルバネ73に押圧され、第1電極接触部711は第1内部接触部714とは反対側に傾斜し、第2コンタクト72は、第2内部接触部724側のフランジ部(第2突出部728)のみがコイルバネ73に押圧され、第2電極接触部721は第2内部接触部724とは反対側に傾斜する。以下、図22に示した状態から図23に示した状態を経て、図24の状態に至る動作を説明する。   In the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention, as described above, in the flange portion on the same side in the state where the probe pin 7 is assembled, the height of the end surface opposite to the internal contact portion is higher. Therefore, when the first flange portion 712 and the second flange portion 722 press the coil spring 73, the end surfaces on the inner contact portion side press the coil spring 73, and the other end surface and the end portion of the coil spring 73 There is a gap. Accordingly, in the first contact 71, only the flange portion (first projecting portion 718) on the first internal contact portion 714 side is pressed by the coil spring 73, and the first electrode contact portion 711 is opposite to the first internal contact portion 714. In the second contact 72, only the flange portion (second protrusion 728) on the second internal contact portion 724 side is pressed by the coil spring 73, and the second electrode contact portion 721 is different from the second internal contact portion 724. Tilt to the other side. Hereinafter, the operation from the state shown in FIG. 22 to the state shown in FIG. 24 through the state shown in FIG. 23 will be described.

図22は、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図23は、図22のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図であり、図24は、図22のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。 22 is a cross-sectional view showing a state in which the IC socket 2 holding the probe pins 7 according to the sixth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. 23 is a cross-sectional view of the IC socket 2 of FIG. FIG. 24 is a cross-sectional view showing one state of the process leading to the state of inspecting the IC 2000 that is the measurement object, and FIG. 24 shows the state in which the IC socket 2 of FIG. 22 is inspecting the IC 2000 that is the measurement object. It is sectional drawing.

図22に例示したICソケット2は、前述したプリロードが行われるよう設計されている。従って、図22に示したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態において、プローブピン7が備える第1フランジ部712および第2フランジ部722はコイルバネ73を若干押圧している。このとき、本実施形態に係るプローブピン7は、上記のとおり、第1コンタクト71は、第1内部接触部714側のフランジ部(第1突出部718)のみがコイルバネ73に押圧され、第1電極接触部711は第1内部接触部714とは反対側に若干傾斜し、第2コンタクト72は、第2内部接触部724側のフランジ部(第2突出部728)のみがコイルバネ73に押圧され、第2電極接触部721は第2内部接触部724とは反対側に若干傾斜し、第1内部接触部714と第2内部接触部724は、それぞれコイルバネ73の密着巻き部732の第1細径部733の互いに対向する内側面に接する。すなわち、本発明の第6実施形態に係るプローブピン7は、ICソケット2が検査用基板1000に載置された状態において、第1コンタクト71および第2コンタクト72は若干傾斜している。   The IC socket 2 illustrated in FIG. 22 is designed to perform the preload described above. Therefore, in a state where the IC socket 2 shown in FIG. 22 is placed on the inspection substrate 1000, the first flange portion 712 and the second flange portion 722 included in the probe pin 7 slightly press the coil spring 73. At this time, as described above, in the probe pin 7 according to this embodiment, only the flange portion (first projecting portion 718) on the first internal contact portion 714 side is pressed by the coil spring 73 and the first contact 71 is The electrode contact portion 711 is slightly inclined to the side opposite to the first internal contact portion 714, and the second contact 72 is pressed by the coil spring 73 only at the flange portion (second protruding portion 728) on the second internal contact portion 724 side. The second electrode contact portion 721 is slightly inclined to the side opposite to the second internal contact portion 724, and the first internal contact portion 714 and the second internal contact portion 724 are respectively the first narrow portions of the tightly wound portion 732 of the coil spring 73. The inner surfaces of the diameter portion 733 facing each other are in contact with each other. That is, in the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention, the first contact 71 and the second contact 72 are slightly inclined when the IC socket 2 is placed on the inspection substrate 1000.

この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン7の第1電極接触部711および第2電極接触部721を若干押圧すると、図23に示したとおり、第1内部接触部714と第2内部接触部724は、それぞれコイルバネ73の密着巻き部732の第1細径部733の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に若干変位する。ここで第1コンタクト71と第2コンタクト72は、図22に示した状態、すなわち、ICソケット2が検査用基板1000に載置された状態において既に若干傾斜しているので、この変位過程では、その傾斜した状態を維持しつつ変位する。   From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected slightly presses the first electrode contact portion 711 and the second electrode contact portion 721 of each probe pin 7 of the IC socket, as shown in FIG. 714 and the second internal contact portion 724 are slightly displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact along the mutually opposing inner surfaces of the first narrow diameter portion 733 of the tightly wound portion 732 of the coil spring 73. Here, the first contact 71 and the second contact 72 are already slightly inclined in the state shown in FIG. 22, that is, in the state in which the IC socket 2 is placed on the inspection substrate 1000. Displacement is maintained while maintaining the inclined state.

この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン7の第1電極接触部711および第2電極接触部721をさらに押圧すると、第1内部接触部714と第2内部接触部724は、それぞれコイルバネ73の密着巻き部732の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1内部接触部714と第2内部接触部724がコイルバネ73の密着巻き部732の段差部735を超えた時点で、第1コンタクト71と第2コンタクト72は、それぞれ内部接触部とは反対側にさらに傾斜する。このとき、第1コンタクト71が備える第1電極接触部711の先端部716、および第2コンタクト72が備える第2電極接触部721の先端部726は、検査対象のIC2000の各電極上をそれぞれ傾斜方向に摺動する。この摺動がワイピング動作となる。   From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected further presses the first electrode contact portion 711 and the second electrode contact portion 721 of each probe pin 7 of the IC socket, the first internal contact portion 714 and the second internal contact portion 724 is displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact with the mutually facing inner surfaces of the tightly wound portion 732 of the coil spring 73. In the process of this displacement, when the first internal contact portion 714 and the second internal contact portion 724 exceed the stepped portion 735 of the tightly wound portion 732 of the coil spring 73, the first contact 71 and the second contact 72 are respectively internal. It is further inclined to the side opposite to the contact portion. At this time, the front end portion 716 of the first electrode contact portion 711 included in the first contact 71 and the front end portion 726 of the second electrode contact portion 721 included in the second contact 72 are inclined on each electrode of the IC 2000 to be inspected. Slide in the direction. This sliding is a wiping operation.

上記のワイピング動作が行われたのち、各プローブピン7の第1電極接触部711および第2電極接触部721はさらに押圧され、第1内部接触部714と第2内部接触部724は、それぞれコイルバネ73の密着巻き部732の太径部734の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向にさらに変位し、図24に示したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態に至る。   After the wiping operation is performed, the first electrode contact portion 711 and the second electrode contact portion 721 of each probe pin 7 are further pressed, and the first internal contact portion 714 and the second internal contact portion 724 are respectively coil springs. The IC socket 2 shown in FIG. 24 is further measured in the IC 2000 as the object to be measured while being further displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact with the mutually opposing inner surfaces of the large-diameter portion 734 of the tightly wound portion 732 of 73. To the state of being inspected.

ここで本発明の第6実施形態に係るプローブピン7おいては、上記のとおり、第1コンタクト71は、第1内部接触部714側のフランジ部(第1対向突出部718)のみがコイルバネ73に押圧されることで、第1電極接触部711は第1内部接触部714とは反対側に傾斜し、第2コンタクト72は、第2内部接触部724側のフランジ部(第2対向突出部728)のみがコイルバネ73に押圧されることで、第2電極接触部721は第2内部接触部724とは反対側に傾斜する。従って、第1電極接触部711の先端部716、および第2電極接触部721の先端部726は偏心していなくてもよい。すなわち、それぞれのアーム部の伸延方向の中心線上にあってもよい。また、第1コンタクト71および第2コンタクト72のワイピングする方向は、第1実施形態に係るプローブピン1と同じ方向なので、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、それぞれのアーム部の伸延方向の中心線に対し、それぞれ内部接触部とは反対側に一定の長さで偏心していてもよい。   Here, in the probe pin 7 according to the sixth embodiment of the present invention, as described above, the first contact 71 has only the flange portion (first opposing protruding portion 718) on the first internal contact portion 714 side as the coil spring 73. The first electrode contact portion 711 is inclined to the opposite side of the first internal contact portion 714, and the second contact 72 is a flange portion (second opposing protruding portion) on the second internal contact portion 724 side. 728) is pressed by the coil spring 73, whereby the second electrode contact portion 721 is inclined to the opposite side to the second internal contact portion 724. Therefore, the tip end portion 716 of the first electrode contact portion 711 and the tip end portion 726 of the second electrode contact portion 721 do not have to be eccentric. That is, it may be on the center line in the extending direction of each arm part. Further, since the wiping direction of the first contact 71 and the second contact 72 is the same direction as the probe pin 1 according to the first embodiment, the extension of each arm portion is the same as the probe pin 1 according to the first embodiment. The center line of the direction may be eccentric by a certain length on the opposite side to the internal contact portion.

さらに、若干であれば、それぞれのアーム部の伸延方向の中心線に対し、それぞれ内部接触部と同じ側に偏心していてもよい。この場合、検査対象のIC2000の電極がプローブピン7の第1電極接触部711および第2電極接触部721を押圧すると、第1コンタクト71および第2コンタクト72に、それぞれワイピングする方向とは反対向きに傾斜させる圧力が若干加わるが、その圧力がコイルバネ73によりワイピングする方向に傾斜させる力より小さければ、第1コンタクト71および第2コンタクト72は、それぞれ内部接触部(第1内部接触部714、第2内部接触部724)とは反対側に傾斜し、ワイピング動作が行われる。   Furthermore, if it is slight, it may be eccentric to the same side as the internal contact portion with respect to the center line in the extending direction of each arm portion. In this case, when the electrodes of the IC 2000 to be inspected press the first electrode contact portion 711 and the second electrode contact portion 721 of the probe pin 7, the first contact 71 and the second contact 72 are opposite to the wiping direction, respectively. The first contact 71 and the second contact 72 are respectively connected to the internal contact portions (the first internal contact portion 714, the first internal contact portion 714, the first internal contact portion 714, and the second contact 72). 2 is inclined to the opposite side to the internal contact portion 724), and a wiping operation is performed.

〔第7実施形態〕
本発明の第7実施形態に係るプローブピン8は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクト81、第2コンタクト82、コイルバネ83、およびプランジャー84を備える。図25(a)は、本発明の第7実施形態に係るプローブピン8の、第1コンタクト81の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図25(b)は、第1コンタクト81の板状体の板面に垂直な面における断面図である。また、図25(c)は、プローブピン8の外観図であり、図25(d)は、第1コンタクト81および第2コンタクト82の外観図である。なお、第7実施形態に係るプローブピン8の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよいし、第3実施形態に係るプローブピン4において実施してもよいし、第4実施形態に係るプローブピン5において実施してもよいし、第5実施形態に係るプローブピン6において実施してもよいし、第6実施形態に係るプローブピン7において実施してもよい。以下では一例として、第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第7実施形態について、第1実施形態、第2実施形態、第3実施形態、第4実施形態、第5実施形態、および第6実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、第2実施形態に係るプローブピン3、第3実施形態に係るプローブピン4、第4実施形態に係るプローブピン5、第5実施形態に係るプローブピン6、あるいは第6実施形態に係るプローブピン7と同様なので、ここでの説明を省略する。なお、第7実施形態に係るプローブピン8の構成は、第6実施形態に係るプローブピン7において実施することが好適な場合がある。その理由についても、以下に説明する。
[Seventh Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 8 according to the seventh embodiment of the present invention includes a first contact 81, a second contact 82, a coil spring 83, and a plunger 84. FIG. 25A is a cross-sectional view of the probe pin 8 according to the seventh embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 81, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a surface of a contact 81 perpendicular to a plate surface of a plate-like body. FIG. FIG. 25C is an external view of the probe pin 8, and FIG. 25D is an external view of the first contact 81 and the second contact 82. The configuration of the probe pin 8 according to the seventh embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment, may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment, It may be implemented in the probe pin 4 according to the third embodiment, may be implemented in the probe pin 5 according to the fourth embodiment, may be implemented in the probe pin 6 according to the fifth embodiment, You may implement in the probe pin 7 which concerns on 6th Embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. Moreover, below, about 7th Embodiment, a different part from 1st Embodiment, 2nd Embodiment, 3rd Embodiment, 4th Embodiment, 5th Embodiment, and 6th Embodiment is demonstrated. The structure, the manufacturing method, and the like not particularly described are the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 3 according to the second embodiment, the probe pin 4 according to the third embodiment, and the probe according to the fourth embodiment. Since it is the same as the pin 5, the probe pin 6 according to the fifth embodiment, or the probe pin 7 according to the sixth embodiment, the description thereof is omitted here. The configuration of the probe pin 8 according to the seventh embodiment may be preferably implemented in the probe pin 7 according to the sixth embodiment. The reason will be described below.

図25に例示したとおり、本発明の第7実施形態に係るプローブピン8が備えるコイルバネ83は、一方の端部に第1粗巻き部831を備え、他方の端部に密着巻き部832を備える。ここで本実施形態に係るプローブピン8が備えるコイルバネ83は、コイルバネ83が備える段差部835が、コイルバネ83の一部を縮径することにより形成される。(第1実施形態から第6実施形態に係るプローブピンにおいては、コイルバネの一部を拡径することにより形成される。)すなわち、コイルバネ83が備える密着巻き部832は、第1粗巻き部831と連結し、第1粗巻き部831とほぼ同じ外径を有する一定の長さの太径部834と、さらに太径部834に連結し、一定の長さにわたり縮径された第1細径部833を備え、太径部834と第1細径部833の境界に段差部835が形成される。   As illustrated in FIG. 25, the coil spring 83 included in the probe pin 8 according to the seventh embodiment of the present invention includes the first coarsely wound portion 831 at one end portion and the tightly wound portion 832 at the other end portion. . Here, the coil spring 83 provided in the probe pin 8 according to the present embodiment is formed by reducing the diameter of a part of the coil spring 83 by the step portion 835 provided in the coil spring 83. (The probe pins according to the first to sixth embodiments are formed by enlarging a part of the coil spring.) That is, the tightly wound portion 832 provided in the coil spring 83 is the first coarsely wound portion 831. A large-diameter portion 834 having a constant length having substantially the same outer diameter as the first coarsely wound portion 831, and further connected to the large-diameter portion 834 and reduced in diameter over a certain length. A step portion 835 is formed at the boundary between the large diameter portion 834 and the first small diameter portion 833.

また、第1コンタクト81は、第1アーム部813が、第1フランジ部812側から第1内部接触部814側に向け、その板幅が徐々に狭まるように設計されている。第1アーム部813の形状は、第1内部接触部814が、上記のコイルバネ83が備える第1細径部833の内側面に摺動可能な大きさであれば任意である。さらに、第1電極接触部811の先端部816は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1アーム部813の伸延方向の中心線に対し、第1内部接触部814とは反対側に偏心している。   The first contact 81 is designed such that the plate width of the first arm portion 813 gradually decreases from the first flange portion 812 side to the first internal contact portion 814 side. The shape of the first arm portion 813 is arbitrary as long as the first internal contact portion 814 is slidable on the inner surface of the first small diameter portion 833 provided in the coil spring 83. Further, the distal end portion 816 of the first electrode contact portion 811 is opposite to the first internal contact portion 814 with respect to the center line in the extending direction of the first arm portion 813, similarly to the probe pin 1 according to the first embodiment. Eccentric to the side.

第2コンタクト82は、上記の第1コンタクト81とほぼ同じ形状を備える。   The second contact 82 has substantially the same shape as the first contact 81 described above.

このような構成の本発明の第7実施形態に係るプローブピン8は、プローブピン8が使用される過程において、第1電極接触部811および第2電極接触部821が、それぞれ内部接触部(第1内部接触部814、第2内部接触部824)側にワイピング動作を行う。以下、図26に示した状態から図27に示した状態を経て、図28の状態に至る動作を説明する。   In the probe pin 8 according to the seventh embodiment of the present invention having such a configuration, the first electrode contact portion 811 and the second electrode contact portion 821 are respectively connected to the internal contact portion (first contact) in the process in which the probe pin 8 is used. A wiping operation is performed on the first internal contact portion 814 and the second internal contact portion 824) side. The operation from the state shown in FIG. 26 to the state shown in FIG. 28 through the state shown in FIG. 27 will be described below.

図26は、本発明の第7実施形態に係るプローブピン8を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図であり、図27は、図26のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程の一つの状態を示す断面図であり、図28は、図26のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態を示す断面図である。   FIG. 26 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 8 according to the seventh embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000, and FIG. 27 is a cross-sectional view of the IC socket 2 of FIG. FIG. 28 is a cross-sectional view showing one state of the process leading to the state of inspecting the IC 2000 as the measurement object, and FIG. 28 shows the state where the IC socket 2 of FIG. 26 is inspecting the IC 2000 as the measurement object. It is sectional drawing.

上記のとおり、第1コンタクト81が備える第1電極接触部811の先端部816、および第2コンタクト82が備える第2電極接触部821の先端部826は、それぞれのコンタクトが備えるアーム部の伸延方向の中心線に対して、それぞれの内部接触部とは反対側に偏心している。従って、図26に示した状態から検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン8の第1電極接触部811および第2電極接触部821を若干押圧すると、図27に示したとおり、第1コンタクト81と第2コンタクト82は、それぞれ偏心方向に若干傾斜し、第1内部接触部814と第2内部接触部824は、それぞれコイルバネ83の密着巻き部832の太径部834の互いに対向する内側面と摺動接触する。   As described above, the distal end portion 816 of the first electrode contact portion 811 included in the first contact 81 and the distal end portion 826 of the second electrode contact portion 821 included in the second contact 82 are extending directions of the arm portions included in the respective contacts. The center line is eccentric to the opposite side of each internal contact portion. Therefore, when each electrode of the IC 2000 to be inspected slightly presses the first electrode contact portion 811 and the second electrode contact portion 821 of each probe pin 8 of the IC socket from the state shown in FIG. 26, as shown in FIG. The first contact 81 and the second contact 82 are slightly inclined in the eccentric direction, respectively, and the first internal contact portion 814 and the second internal contact portion 824 are opposed to the large diameter portion 834 of the tightly wound portion 832 of the coil spring 83, respectively. In sliding contact with the inner surface.

この状態から、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン8の第1電極接触部811および第2電極接触部821をさらに押圧すると、第1内部接触部814と第2内部接触部824は、それぞれコイルバネ83の密着巻き部832の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向に変位する。この変位の過程において、第1内部接触部814と第2内部接触部824がコイルバネ83の密着巻き部832の段差部835を超えた時点で、第1コンタクト81と第2コンタクト82は、それぞれ偏心方向とは反対側に傾斜する。このとき、第1コンタクト81が備える第1電極接触部811の先端部816、および第2コンタクト82が備える第2電極接触部821の先端部826は、検査対象のIC2000の各電極上をそれぞれ偏心方向とは反対方向に摺動する。この摺動がワイピング動作となる。すなわち、第1実施形態に係るプローブピン1は、電極接触部が偏心している方向にワイピング動作することに対し、第7実施形態に係るプローブピン8は、電極接触部が偏心している方向とは反対側にワイピング動作する。   From this state, when each electrode of the IC 2000 to be inspected further presses the first electrode contact portion 811 and the second electrode contact portion 821 of each probe pin 8 of the IC socket, the first internal contact portion 814 and the second internal contact portion 824 is displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while being in sliding contact with the mutually facing inner surfaces of the tightly wound portion 832 of the coil spring 83. In this displacement process, when the first internal contact portion 814 and the second internal contact portion 824 exceed the stepped portion 835 of the tightly wound portion 832 of the coil spring 83, the first contact 81 and the second contact 82 are eccentric. Inclined to the opposite side of the direction. At this time, the distal end portion 816 of the first electrode contact portion 811 included in the first contact 81 and the distal end portion 826 of the second electrode contact portion 821 included in the second contact 82 are eccentric on the respective electrodes of the IC 2000 to be inspected. Slide in the opposite direction. This sliding is a wiping operation. That is, the probe pin 1 according to the first embodiment performs the wiping operation in the direction in which the electrode contact portion is eccentric, whereas the probe pin 8 according to the seventh embodiment is in the direction in which the electrode contact portion is eccentric. Wiping operation is performed on the opposite side.

上記のワイピング動作が行われたのち、各プローブピン8の第1電極接触部811および第2電極接触部821はさらに押圧され、第1内部接触部814と第2内部接触部824は、それぞれコイルバネ83の密着巻き部832の第1細径部833の互いに対向する内側面に沿って摺動接触しながら検査用基板1000方向にさらに変位し、図28に示したICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態に至る。   After the above wiping operation is performed, the first electrode contact portion 811 and the second electrode contact portion 821 of each probe pin 8 are further pressed, and the first internal contact portion 814 and the second internal contact portion 824 are respectively coil springs. The IC socket 2 shown in FIG. 28 is an object to be measured while being further displaced in the direction of the inspection substrate 1000 while slidingly contacting along the mutually opposing inner surfaces of the first narrow diameter portion 833 of the tightly wound portion 832 of 83. A certain IC 2000 is being inspected.

ここで第7実施形態に係るプローブピン8は、上記のとおり、電極接触部が偏心している方向とは反対側にワイピング動作する。このとき、検査対象のIC2000の各電極がICソケットの各プローブピン8の第1電極接触部811および第2電極接触部821を押圧する力の一部は、第1コンタクト81および第2コンタクト82を電極接触部が偏心している方向に傾斜させる圧力であり、その圧力の強さは、電極接触部の偏心量が大きいほど強い。第7実施形態に係るプローブピン8は、この圧力に逆らって、電極接触部が偏心している方向とは反対側にワイピング動作する。そのため、プローブピン8の外径が小さく、第1コンタクト81および第2コンタクト82の板厚と板幅が小さい場合には、ワイピング動作時に、これらコンタクトが変形する虞がある。そのような虞がある場合は、本実施形態に係るプローブピン8の構成を、第6実施形態に係るプローブピン7において実施すればよい。   Here, as described above, the probe pin 8 according to the seventh embodiment performs a wiping operation on the side opposite to the direction in which the electrode contact portion is eccentric. At this time, part of the force by which each electrode of the IC 2000 to be inspected presses the first electrode contact portion 811 and the second electrode contact portion 821 of each probe pin 8 of the IC socket is the first contact 81 and the second contact 82. Is inclined in the direction in which the electrode contact portion is eccentric, and the strength of the pressure increases as the amount of eccentricity of the electrode contact portion increases. The probe pin 8 according to the seventh embodiment performs a wiping operation against the pressure opposite to the direction in which the electrode contact portion is eccentric. Therefore, when the outer diameter of the probe pin 8 is small and the plate thickness and plate width of the first contact 81 and the second contact 82 are small, these contacts may be deformed during the wiping operation. When there is such a fear, the configuration of the probe pin 8 according to the present embodiment may be implemented in the probe pin 7 according to the sixth embodiment.

第6実施形態に係るプローブピン7は、上述のとおり、第1コンタクトおよび第2コンタクトがコイルバネにより押圧されることで傾斜するため、電極接触部は偏心していなくてもよい。そのような第6実施形態に係るプローブピン7において本実施形態に係るプローブピン8の構成を実施すれば、上記のコンタクトが変形する虞が低減される。   As described above, since the probe pin 7 according to the sixth embodiment is inclined by the first contact and the second contact being pressed by the coil spring, the electrode contact portion does not have to be eccentric. If the configuration of the probe pin 8 according to the present embodiment is implemented in the probe pin 7 according to the sixth embodiment, the possibility that the contact is deformed is reduced.

〔第8実施形態〕
本発明の第8実施形態に係るプローブピン9は、第1実施形態に係るプローブピン1と同様に、第1コンタクトト91、第2コンタクト92、コイルバネ93を備えるが、プランジャーを有しない。プローブピン9の基板接触部は、コイルバネの密着巻き部側の端部に、縮径した密着巻き部を延設することで構成される。図29(a)は、本発明の第8実施形態に係るプローブピン9の、第1コンタクト91の板状体の板面に平行な面における断面図であり、図29(b)は、第1コンタクト91の板状体の板面に垂直な面における断面図であり、図29(c)はプローブピン9の外観図である。なお、第8実施形態に係るプローブピン9の構成は、第1実施形態に係るプローブピン1において実施してもよいし、第2実施形態に係るプローブピン3において実施してもよいし、第3実施形態に係るプローブピン4において実施してもよいし、第4実施形態に係るプローブピン5において実施してもよいし、第5実施形態に係るプローブピン6において実施してもよいし、第6実施形態に係るプローブピン7において実施してもよいし、第7実施形態に係るプローブピン8において実施してもよい。以下では一例として、第1実施形態に係るプローブピン1において実施した場合を例示する。また、以下では第8実施形態について、第1実施形態、第2実施形態、第3実施形態、第4実施形態、第5実施形態、第6実施形態、および第7実施形態とは異なる部分について説明する。特段説明のない構造、製造方法等は、上述した第1実施形態に係るプローブピン1、第2実施形態に係るプローブピン3、第3実施形態に係るプローブピン4、第4実施形態に係るプローブピン5、第5実施形態に係るプローブピン6、第6実施形態に係るプローブピン7、あるいは第7実施形態に係るプローブピン8と同様なので、ここでの説明を省略する。
[Eighth Embodiment]
Similar to the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 9 according to the eighth embodiment of the present invention includes the first contact 91, the second contact 92, and the coil spring 93, but does not have a plunger. The substrate contact portion of the probe pin 9 is configured by extending a contact winding portion having a reduced diameter at an end portion on the contact winding portion side of the coil spring. FIG. 29A is a cross-sectional view of the probe pin 9 according to the eighth embodiment of the present invention in a plane parallel to the plate surface of the plate-like body of the first contact 91, and FIG. FIG. 29C is a cross-sectional view in a plane perpendicular to the plate surface of the plate-like body of one contact 91, and FIG. 29C is an external view of the probe pin 9. The configuration of the probe pin 9 according to the eighth embodiment may be implemented in the probe pin 1 according to the first embodiment, may be implemented in the probe pin 3 according to the second embodiment, It may be implemented in the probe pin 4 according to the third embodiment, may be implemented in the probe pin 5 according to the fourth embodiment, may be implemented in the probe pin 6 according to the fifth embodiment, You may implement in the probe pin 7 which concerns on 6th Embodiment, and you may implement in the probe pin 8 which concerns on 7th Embodiment. Below, the case where it implements in the probe pin 1 which concerns on 1st Embodiment as an example is illustrated. In the following, the eighth embodiment is different from the first embodiment, the second embodiment, the third embodiment, the fourth embodiment, the fifth embodiment, the sixth embodiment, and the seventh embodiment. explain. The structure, the manufacturing method, and the like not particularly described are the probe pin 1 according to the first embodiment, the probe pin 3 according to the second embodiment, the probe pin 4 according to the third embodiment, and the probe according to the fourth embodiment. Since it is the same as the pin 5, the probe pin 6 according to the fifth embodiment, the probe pin 7 according to the sixth embodiment, or the probe pin 8 according to the seventh embodiment, the description thereof is omitted here.

図29に示したとおり、本発明の第8実施形態に係るプローブピン9は、コイルバネ93の密着巻き部932の太径部934の端部に、太径部934より外径の小さい密着巻きにより形成された基板接触部936を備える。また、太径部934と基板接触部936との境界に係止部939が形成される。図30は、本発明の第8実施形態に係るプローブピン9を保持したICソケット2が検査用基板1000に載置された状態を示す断面図である。ICソケット2が組み立てられた状態において、第2孔内段差部215が係止部939と係止する。ICソケット2のその他の構成は、上述した第1実施形態に係るICソケット2と同様なので、ここでの説明を省略する。また図30のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査する状態に至る過程、および図30のICソケット2が測定対象物であるIC2000を検査している状態も、上述した第1実施形態に係るICソケット2と同様なので、ここでの説明を省略する。   As shown in FIG. 29, the probe pin 9 according to the eighth embodiment of the present invention is formed by close winding with a smaller outer diameter than the large diameter portion 934 at the end of the large diameter portion 934 of the close winding portion 932 of the coil spring 93. A formed substrate contact portion 936 is provided. Further, a locking portion 939 is formed at the boundary between the large diameter portion 934 and the substrate contact portion 936. FIG. 30 is a cross-sectional view showing a state where the IC socket 2 holding the probe pins 9 according to the eighth embodiment of the present invention is placed on the inspection substrate 1000. In a state where the IC socket 2 is assembled, the step part 215 in the second hole is locked with the locking part 939. Since the other structure of the IC socket 2 is the same as that of the IC socket 2 according to the first embodiment described above, the description thereof is omitted here. The process of reaching the state in which the IC socket 2 in FIG. 30 inspects the IC 2000 that is the measurement object and the state in which the IC socket 2 in FIG. 30 is inspecting the IC 2000 that is the measurement object are also described in the first embodiment. Since this is the same as the IC socket 2 according to FIG.

以上説明した各実施形態及びそれらの変形例は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   Each embodiment described above and the modifications thereof are described for facilitating the understanding of the present invention, and are not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、本発明に係るプローブピンの検査対象は、ICではなく、ICの内部基板(サブストレート)であってもよい。   For example, the inspection target of the probe pin according to the present invention may be not an IC but an internal substrate (substrate) of the IC.

1、3、4、5、6、7、8、9 プローブピン
11、31、41、51、61、71、81、91 第1コンタクト
12、32、42、52、62、72、82、92 第2コンタクト
13、33、43、53、63、73、83、93 コイルバネ
14、34、44、54、64、74、84 プランジャー
111、311、411、511、611、711、811 第1電極接触部
112、612、712、812 第1フランジ部
113、613、713、813 第1アーム部
114、414、514、614、714、814 第1内部接触部
115、715 第1突起部
121、421、521、621、721、821 第2電極接触部
122、622、722、822 第2フランジ部
123、623、723、823 第2アーム部
124、424、524、624、724、824、 第2内部接触部
125 第2突起部
116、416、516、716、816、126、426、526、726、826 先端部
717 切り欠き部
718 第1突出部
719 第1対向突出部
728 第2突出部
729 第2対向突出部
131、331、431、531、631、731、831、931 第1粗巻き部
131Z 座巻き部
132、332、432、532、632、732、832、932 密着巻き部
133、433、633、733、833 第1細径部
134、434、534、634、734、834、934 太径部
135、435、635、735、835、935 段差部
536 テーパー部
637 第2粗巻き部
638 第2細径部
936 基板接触部
939 係止部
141、641 基板接触部
142、642 第3フランジ部
143、645 圧入部
643 第3アーム部
644 第3内部接触部
646 第4アーム部
35 バレル
353 第1細径部
354 太径部
355 段差部
3510 圧入部
2 ICソケット
21 ハウジング
210 貫通孔
211 第1開口部
212 第2開口部
213 中空部
214 第1孔内段差部
215 第2孔内段差部
1000 検査用基板
2000 IC
SB はんだボール
1, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 Probe pins 11, 31, 41, 51, 61, 71, 81, 91 First contacts 12, 32, 42, 52, 62, 72, 82, 92 Second contact 13, 33, 43, 53, 63, 73, 83, 93 Coil spring 14, 34, 44, 54, 64, 74, 84 Plunger 111, 311, 411, 511, 611, 711, 811 First electrode Contact portions 112, 612, 712, 812 First flange portions 113, 613, 713, 813 First arm portions 114, 414, 514, 614, 714, 814 First internal contact portions 115, 715 First protrusions 121, 421 521, 621, 721, 821 Second electrode contact portion 122, 622, 722, 822 Second flange portion 123, 623, 723, 823 Second arm portion 12 4, 424, 524, 624, 724, 824, second internal contact portion 125 second protrusion 116, 416, 516, 716, 816, 126, 426, 526, 726, 826 tip 717 notch 718 first Protruding part 719 1st opposing protruding part 728 2nd protruding part 729 2nd opposing protruding part 131, 331, 431, 531, 631, 731, 831, 931 1st coarsely wound part 131Z Seat winding part 132, 332, 432, 532 , 632, 732, 832, 932 Closely wound portions 133, 433, 633, 733, 833 First small diameter portions 134, 434, 534, 634, 734, 834, 934 Large diameter portions 135, 435, 635, 735, 835 , 935 Stepped portion 536 Tapered portion 637 Second coarsely wound portion 638 Second narrow diameter portion 936 Substrate contact portion 939 Locking portion 141 641 Substrate contact portion 142, 642 Third flange portion 143, 645 Press-fit portion 643 Third arm portion 644 Third internal contact portion 646 Fourth arm portion 35 Barrel 353 First small diameter portion 354 Large diameter portion 355 Stepped portion 3510 Press fit portion 2 IC socket 21 Housing 210 Through-hole 211 First opening 212 Second opening 213 Hollow part 214 First hole step 215 Second hole step 1000 Inspection substrate 2000 IC
SB solder ball

Claims (21)

棒状の概形を有しその長軸に沿った導電方向を有する異方導電性部材であって、
前記導電方向に沿った巻回軸を有し、少なくとも一つの粗巻き部を有するコイルバネ;および
前記導電方向に沿った長軸を有する板形状を有し、前記長軸に沿った方向の一端部に第1電極接触部および前記長軸方向と直交する板幅方向の成分を含んで突出する第1フランジ部を有する導電性の第1コンタクトと、前記導電方向に沿った長軸を有する板形状を有し、前記長軸に沿った方向の一端部に第2電極接触部および前記長軸方向と直交する板幅方向の成分を含んで突出する第2フランジ部を有する導電性の第2コンタクトと、を有するコンタクト部材
を備え、
前記異方導電性部材は、前記導電方向で前記コンタクト部材が位置する側とは反対側の端部を含むように基板接触部を有し、
前記第1コンタクトは、前記長軸に沿った方向の他端部側に位置する第1内部接触部を含む部分を有し、前記第1内部接触部を含む部分が前記コイルバネにおける前記基板接触部に遠位な方の端部から前記コイルバネ内に挿入され、前記第1フランジ部において前記コイルバネに対して係止され、
前記第2コンタクトは、前記長軸に沿った方向の他端部側に位置する第2内部接触部を含む部分を有し、前記第2内部接触部を含む部分が前記コイルバネにおける前記基板接触部に遠位な方の端部から前記コイルバネ内に挿入され、前記第2フランジ部において前記コイルバネに対して係止され、
前記第1コンタクトおよび前記第2コンタクトは板厚方向に並んで配置されて、前記導電方向に互いに独立に変位可能であって、
前記異方導電性部材は、前記導電方向で前記粗巻き部と前記基板接触部との間に設けられ、前記粗巻き部と前記導電方向で同軸上に位置する導電性筒状体をさらに備え、
前記第1電極接触部および前記第2電極接触部ならびに前記基板接触部を接触部として前記導電方向に沿った方向に前記コイルバネを圧縮する力が付与されたときに、
前記第1コンタクトは、前記第1内部接触部において前記コイルバネまたは前記導電性筒状体に接触しつつ、前記板幅方向の一方である第1の向きに傾く動作が可能であって、
前記第2コンタクトは、前記第2内部接触部において前記コイルバネまたは前記導電性筒状体に接触しつつ、前記板幅方向の他方であって前記第1の向きとは反対向きの第2の向きに傾く動作が可能であること
を特徴とする異方導電性部材。
An anisotropic conductive member having a rod-like general shape and having a conductive direction along its long axis,
A coil spring having a winding axis along the conductive direction and having at least one coarse winding; and a plate shape having a long axis along the conductive direction, and one end in the direction along the long axis A first electrode contact portion and a conductive first contact having a first flange portion projecting including a component in a plate width direction orthogonal to the major axis direction, and a plate shape having a major axis along the conduction direction. A conductive second contact having a second electrode contact portion and a second flange portion projecting including a component in the plate width direction orthogonal to the long axis direction at one end in the direction along the long axis And a contact member having
The anisotropic conductive member has a substrate contact portion so as to include an end portion on a side opposite to a side where the contact member is located in the conductive direction,
The first contact has a portion including a first internal contact portion located on the other end side in the direction along the long axis, and the portion including the first internal contact portion is the substrate contact portion in the coil spring. Inserted into the coil spring from the distal end thereof, and locked to the coil spring at the first flange portion,
The second contact has a portion including a second internal contact portion located on the other end side in the direction along the long axis, and the portion including the second internal contact portion is the substrate contact portion in the coil spring. Inserted into the coil spring from the distal end thereof, and locked to the coil spring at the second flange portion,
The first contact and the second contact are arranged side by side in the plate thickness direction and can be displaced independently of each other in the conductive direction,
The anisotropic conductive member further includes a conductive cylindrical body provided between the rough winding portion and the substrate contact portion in the conductive direction, and coaxially positioned in the conductive direction with the rough winding portion. ,
When a force is applied to compress the coil spring in the direction along the conductive direction with the first electrode contact portion, the second electrode contact portion, and the substrate contact portion as contact portions,
The first contact is capable of inclining in a first direction which is one of the plate width directions while contacting the coil spring or the conductive cylindrical body in the first internal contact portion,
The second contact is in the second internal contact portion, in contact with the coil spring or the conductive cylindrical body, and in the second direction opposite to the first direction in the other of the plate width directions. An anisotropic conductive member characterized by being capable of tilting.
前記コイルバネは、前記コンタクト部材が挿入される側に位置する第1粗巻き部と、当該第1粗巻き部における前記基板接触部に近位な端部側に延設された密着巻き部を備え、当該密着巻き部が前記導電性筒状体を構成する、請求項1に記載の異方導電性部材。   The coil spring includes a first coarsely wound portion positioned on the side where the contact member is inserted, and a tightly wound portion extending toward an end portion proximal to the substrate contact portion in the first coarsely wound portion. The anisotropic conductive member according to claim 1, wherein the tightly wound portion constitutes the conductive cylindrical body. 前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記密着巻き部に接触可能となるように、前記コイルバネおよび前記コンタクトの形状は設定される、請求項2に記載の異方導電性部材。   The shape of the said coil spring and the said contact is set so that at least one of the said 1st internal contact part and the said 2nd internal contact part can contact the said contact | adherence winding part in use condition. Anisotropic conductive member. 前記コイルバネは、前記コンタクト部材が挿入される側に位置する第1粗巻き部を備え、
前記導電性筒状体は、当該第1粗巻き部における前記基板接触部に近位な端部側に設けられて、少なくとも使用時には当該第1粗巻き部に接触する、請求項1に記載の異方導電性部材。
The coil spring includes a first rough winding portion located on a side where the contact member is inserted,
2. The conductive cylindrical body according to claim 1, wherein the conductive cylindrical body is provided on an end portion side of the first rough winding portion that is proximal to the substrate contact portion, and is in contact with the first rough winding portion at least in use. Anisotropic conductive member.
前記導電性筒状体は、柱状の形状を有し、少なくとも前記基板接触部側とは反対側の端部に開口を有する中空部を備え、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記中空部の内側面に接触可能となるように、前記コイルバネおよび前記コンタクトならびに前記導電性筒状体の形状は設定される、請求項4に記載の異方導電性部材。   The conductive cylindrical body has a columnar shape, and includes a hollow portion having an opening at least on an end opposite to the substrate contact portion side, and the first internal contact portion and the second internal contact portion 5. The anisotropic conductive material according to claim 4, wherein the shape of the coil spring, the contact, and the conductive cylindrical body is set so that at least one of the coil spring and the inner surface of the hollow portion can be contacted in use. Element. 前記基板接触部は前記密着巻き部の一部からなる、請求項3に記載の異方導電性部材。   The anisotropic conductive member according to claim 3, wherein the substrate contact portion includes a part of the tightly wound portion. 前記基板接触部と、
前記導電方向に沿って延在する柱状の形状を有し、前記導電性筒状体の他端側から前記導電性筒状体内に挿入された挿入部と、
前記導電方向で前記基板接触部と前記挿入部との間に設けられ、前記導電方向に直交する成分を含んで突出する第3フランジ部と、
を有するプランジャーをさらに備える、請求項1から5のいずれか一項に記載の異方導電性部材。
The substrate contact portion;
An insertion portion having a columnar shape extending along the conductive direction and inserted into the conductive cylindrical body from the other end side of the conductive cylindrical body;
A third flange portion provided between the substrate contact portion and the insertion portion in the conductive direction and protruding including a component orthogonal to the conductive direction;
The anisotropic conductive member according to any one of claims 1 to 5, further comprising a plunger having:
前記基板接触部は前記導電性筒状体の一部からなる、請求項5に記載の異方導電性部材。   The anisotropic conductive member according to claim 5, wherein the substrate contact portion is formed of a part of the conductive cylindrical body. 前記導電性筒状体と前記基板接触部との間に設けられて、前記第1粗巻き部と前記導電方向で同軸上に位置する第2粗巻き部をさらに有する、請求項2から5のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   6. The apparatus according to claim 2, further comprising a second rough winding portion that is provided between the conductive cylindrical body and the substrate contact portion and is positioned coaxially with the first rough winding portion in the conductive direction. The anisotropic conductive member as described in any one of Claims. 前記基板接触部と、
前記導電方向に沿って延在する板状の形状を有し、前記第2粗巻き部の他端側から前記第2粗巻き部内に挿入された挿入部と、
前記導電方向で前記基板接触部と前記挿入部との間に設けられ、前記導電方向に直交する成分を含んで突出する第3フランジ部と、
を有するプランジャーをさらに備え、
前記挿入部は前記導電方向に沿って延在する2枚の舌片部を有し、
前記2枚の舌片部は、互いに近づくように変形した状態で前記第2粗巻き部内に位置し、前記第2粗巻き部を拡径する側に付勢する、請求項9に記載の異方導電性部材。
The substrate contact portion;
An insertion portion having a plate-like shape extending along the conductive direction and inserted into the second coarse winding portion from the other end side of the second coarse winding portion;
A third flange portion provided between the substrate contact portion and the insertion portion in the conductive direction and protruding including a component orthogonal to the conductive direction;
A plunger having
The insertion portion has two tongue pieces extending along the conductive direction,
10. The different tongue according to claim 9, wherein the two tongue pieces are positioned in the second rough winding portion in a state of being deformed so as to approach each other, and are biased toward the side of expanding the diameter of the second rough winding portion. Conductive member.
前記導電性筒状体は、その内径が前記第1粗巻き部の内径よりも大きい拡径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記拡径部分と接触するように、前記拡径部分は位置する、請求項2から10のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   The conductive cylindrical body has an enlarged diameter portion whose inner diameter is larger than the inner diameter of the first coarsely wound portion, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is in use. The anisotropic conductive member according to any one of claims 2 to 10, wherein the enlarged diameter portion is positioned so as to come into contact with the enlarged diameter portion. 前記導電性筒状体は、その内径が前記第1粗巻き部の内径よりも小さい縮径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記縮径部分と接触するように、前記縮径部分は位置する、請求項2から10のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   The conductive cylindrical body has a reduced diameter portion whose inner diameter is smaller than the inner diameter of the first coarsely wound portion, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is in use. The anisotropic conductive member according to any one of claims 2 to 10, wherein the reduced diameter portion is positioned so as to come into contact with the reduced diameter portion. 前記第1粗巻き部は、前記導電性筒状体側の端部近傍の内径が他方の端部近傍の内径よりも大きい拡径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記導電性筒状体と接触するように、前記拡径部分は位置する、請求項2から10のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   The first coarsely wound portion has an enlarged diameter portion in which the inner diameter in the vicinity of the end portion on the conductive cylindrical body side is larger than the inner diameter in the vicinity of the other end portion, and the first internal contact portion and the second internal contact portion The anisotropically conductive member according to any one of claims 2 to 10, wherein the diameter-expanded portion is positioned such that at least one of the portions is in contact with the conductive cylindrical body in a use state. 前記第1粗巻き部は、前記導電性筒状体の端部近傍の内径が他方の端部近傍の内径よりも小さい縮径部分を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記導電性筒状体と接触するように、前記縮径部分は位置する、請求項2から10のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   The first rough winding portion has a reduced diameter portion in which an inner diameter in the vicinity of the end portion of the conductive cylindrical body is smaller than an inner diameter in the vicinity of the other end portion, and the first internal contact portion and the second internal contact portion The anisotropic conductive member according to any one of claims 2 to 10, wherein the reduced-diameter portion is positioned such that at least one of the portions is in contact with the conductive cylindrical body in a use state. 前記導電性筒状体は、前記基板接触部側の端部近傍に内径が漸次変化するテーパー部を有し、前記第1内部接触部および前記第2内部接触部の少なくとも一方が使用状態において前記テーパー部と接触するように、前記テーパー部は位置する、請求項2から10のいずれか一項に記載の異方導電性部材。   The conductive cylindrical body has a tapered portion whose inner diameter gradually changes in the vicinity of the end on the substrate contact portion side, and at least one of the first internal contact portion and the second internal contact portion is in the use state. The anisotropic conductive member according to any one of claims 2 to 10, wherein the tapered portion is positioned so as to come into contact with the tapered portion. 前記第1電極接触部は、前記第1コンタクトの前記長軸方向の中心線から前記第1の向きにオフセットした位置で前記導電方向に沿った方向の成分を含んで突出すること;および
前記第2電極接触部は、前記第2コンタクトの前記長軸方向の中心線から前記第2の向きにオフセットした位置で前記導電方向に沿った方向の成分を含んで突出すること
の少なくとも一方を満たす、請求項1から15のいずれか一項に記載の異方導電性部材。
The first electrode contact portion protrudes including a component in a direction along the conductive direction at a position offset in the first direction from a center line in the major axis direction of the first contact; and The two-electrode contact portion satisfies at least one of projecting including a component in the direction along the conductive direction at a position offset in the second direction from the center line in the major axis direction of the second contact. The anisotropically conductive member according to any one of claims 1 to 15.
前記第1フランジ部は、前記第1の向きに突出する第1突出部と前記第2の向きに突出する第1対向突出部とを有し、前記コイルバネの前記第1電極接触部側の端部が前記第1対向突出部によって優先的に係止されるように、前記第1突出部と前記第1対向突出部との前記導電方向の配置は設定されること;および、
前記第2フランジ部は、前記第2の向きに突出する第2突出部と前記第1の向きに突出する第2対向突出部とを有し、前記コイルバネの前記第2電極接触部側の端部が前記第2対向突出部によって優先的に係止されるように、前記第2突出部と前記第2対向突出部との前記導電方向の配置は設定されること
の少なくとも一方を満たす、請求項1から16のいずれか一項に記載の異方導電性部材。
The first flange portion has a first projecting portion projecting in the first direction and a first opposing projecting portion projecting in the second direction, and an end of the coil spring on the first electrode contact portion side The arrangement of the conductive direction of the first protrusion and the first opposite protrusion is set so that the part is preferentially locked by the first opposite protrusion; and
The second flange portion has a second projecting portion projecting in the second direction and a second opposing projecting portion projecting in the first direction, and an end of the coil spring on the second electrode contact portion side The arrangement of the conductive direction of the second projecting portion and the second opposing projecting portion satisfies at least one of the settings so that the portion is preferentially locked by the second facing projecting portion. Item 17. The anisotropic conductive member according to any one of Items 1 to 16.
前記第1粗巻き部の前記コンタクトが挿入される側の端部には座巻き部が設けられ、
前記第1コンタクトは、前記第1フランジ部と前記第1内部接触部との間に前記板幅方向に突出する第1突起部を備え、前記コイルバネのコイル線の間隙であって前記座巻き部よりも前記基板接触部側に位置する間隙に、前記第1突起部が挿入されて、前記第1コンタクトの前記コイルバネに対する相対位置が規制されること;および
前記第2コンタクトは、前記第2フランジ部と前記第2内部接触部との間に前記板幅方向に突出する第2突起部を備え、前記コイルバネのコイル線の間隙であって前記座巻き部よりも前記基板接触部側に位置する間隙に、前記第2突起部が挿入されて、前記第2コンタクトの前記コイルバネに対する相対位置が規制されること
の少なくとも一方を満たす、請求項2から17のいずれか一項に記載の異方導電性部材。
An end winding portion is provided at an end of the first rough winding portion where the contact is inserted,
The first contact includes a first projecting portion projecting in the plate width direction between the first flange portion and the first internal contact portion, and is a gap between coil wires of the coil spring, and the end winding portion The first protrusion is inserted into a gap located closer to the substrate contact portion than the first contact portion to restrict the relative position of the first contact to the coil spring; and the second contact is the second flange. A second projecting portion projecting in the plate width direction between the first inner contact portion and the second inner contact portion, and located between the coil windings of the coil spring and the substrate contact portion side of the end winding portion. 18. The anisotropic conduction according to claim 2, wherein at least one of the second protrusion inserted into the gap and the relative position of the second contact with respect to the coil spring being regulated is satisfied. sex Element.
前記第1内部接触部は前記第2の向きの成分を有するように突出すること;および
前記第2内部接触部は前記第1の向きの成分を有するように突出すること
の少なくとも一方を満たす、請求項1から18のいずれか一項に記載の異方導電性部材。
The first internal contact portion projects to have a component in the second orientation; and the second internal contact portion meets at least one of projecting to have a component in the first orientation; The anisotropically conductive member according to any one of claims 1 to 18.
請求項1から19のいずれか一項に記載される異方導電性部材と、
前記導電方向に貫通する複数の第1貫通孔を有する板状の第1ハウジングと、
前記導電方向に貫通する複数の第2貫通孔を有する板状の第2ハウジングと、
を備え、
前記第1ハウジングと前記第2ハウジングとは、第1貫通孔と第2貫通孔とが連通して貫通孔が形成されるように接触配置されてハウジングを構成し、
前記貫通孔のそれぞれには、前記第1貫通孔内に前記コンタクト側の一部が位置するように前記異方導電性部材が配置され、
前記第1電極接触部および前記第2電極接触部は前記第1ハウジングから突出すること
を特徴とするソケット。
An anisotropic conductive member according to any one of claims 1 to 19,
A plate-shaped first housing having a plurality of first through holes penetrating in the conductive direction;
A plate-like second housing having a plurality of second through holes penetrating in the conductive direction;
With
The first housing and the second housing are arranged in contact so that the first through hole and the second through hole communicate with each other to form a through hole, thereby forming a housing.
In each of the through holes, the anisotropic conductive member is disposed so that a part of the contact side is located in the first through hole,
The socket characterized in that the first electrode contact portion and the second electrode contact portion protrude from the first housing.
前記異方導電性部材が分離することを抑制する抜け止めを前記貫通孔に有する、請求項20に記載のソケット。
The socket according to claim 20, wherein the through hole has a stopper that prevents the anisotropic conductive member from separating.
JP2016235913A 2016-12-05 2016-12-05 Probe pin and IC socket Pending JP2018092813A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016235913A JP2018092813A (en) 2016-12-05 2016-12-05 Probe pin and IC socket
PCT/JP2017/040683 WO2018105316A1 (en) 2016-12-05 2017-11-13 Probing pin and ic socket

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016235913A JP2018092813A (en) 2016-12-05 2016-12-05 Probe pin and IC socket

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018092813A true JP2018092813A (en) 2018-06-14

Family

ID=62490874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016235913A Pending JP2018092813A (en) 2016-12-05 2016-12-05 Probe pin and IC socket

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2018092813A (en)
WO (1) WO2018105316A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021174591A1 (en) * 2020-03-02 2021-09-10 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Transmission line testing apparatus

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7112004B2 (en) * 2019-01-31 2022-08-03 山一電機株式会社 test socket
JP2023142448A (en) * 2022-03-25 2023-10-05 株式会社ヨコオ probe

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6398566A (en) * 1986-10-15 1988-04-30 Seiko Epson Corp Contact probe
JP4900843B2 (en) * 2008-12-26 2012-03-21 山一電機株式会社 Electrical connection device for semiconductor device and contact used therefor
JP5629611B2 (en) * 2011-03-01 2014-11-26 株式会社日本マイクロニクス Contactor and electrical connection device
JP6404008B2 (en) * 2014-06-23 2018-10-10 株式会社日本マイクロニクス Electrical contact and electrical connection device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021174591A1 (en) * 2020-03-02 2021-09-10 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Transmission line testing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018105316A1 (en) 2018-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6442668B2 (en) Probe pin and IC socket
WO2014017157A1 (en) Contact probe and semiconductor element socket provided with same
TWI482974B (en) Contact probe and socket
KR101959696B1 (en) Probe pins and inspection devices using them
US9547023B2 (en) Test probe for test and fabrication method thereof
KR101409821B1 (en) Compliant contact assembly and method of scrubbing a test site by a compliant contact member
WO2018105316A1 (en) Probing pin and ic socket
KR20080015512A (en) Electrical contact probe with compliant internal interconnect
JP6013731B2 (en) Contact probe and manufacturing method thereof
TW201243338A (en) Contact probe and semiconductor device socket including contact probe
CN110462408B (en) Contact probe and probe unit
US20130265075A1 (en) Contact and connector
JP5486760B2 (en) Contact pin and socket for electrical parts
KR101641923B1 (en) A contact probe
WO2016147691A1 (en) Probe pin and probe unit with same
WO2014030536A1 (en) Anisotropic conductive member
WO2015037696A1 (en) Probe pin and ic socket
JP2017142138A (en) Probe pin and anisotropic conductive member
JP6801866B2 (en) Probe pin for large current
JP2011169595A (en) Both-end-displacement type contact probe
JP5673366B2 (en) Socket for semiconductor device
JP6582780B2 (en) Probe pin and inspection jig using the same
WO2018042931A1 (en) Probe pin
JP2010153154A (en) Connector
WO2015163160A1 (en) Probe pin and ic socket