JP2018086785A - Scribing wheel and scribing method for the same - Google Patents

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Kenji Murakami
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To scribe a sapphire substrate with a high degree of quality, in a scribing wheel formed of diamond.SOLUTION: A scribing wheel has a cutting edge which has a V-shaped cross-section along a circumferential part, has a ridge line formed in the center, and comprises the ridge line and inclined planes on both the sides of the ridge line. At least a cutting edge part is made of diamond. The scribing wheel is formed as above. In a ridge line part, a groove 15 with a groove length of 9-12 μm, a ridge line length of 5-9 μm and a groove depth of 1.5-4 μm is provided around the entire perimeter. In the case where a thin sapphire substrate is scribed by using the scribing wheel, a cross-section having few crevasses can be obtained even when the thin sapphire substrate is parted.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は薄いサファイア基板をスクライブするためのスクライビングホイール及びそのスクライブ方法に関するものである。   The present invention relates to a scribing wheel and a scribing method for scribing a thin sapphire substrate.

従来サファイア基板をスクライブしブレイクする場合には、特許文献1,2等に示されるようにサファイア基板にレーザ光を照射してスクライブ溝を形成し、このスクライブ溝に沿ってブレイクする方法が提案されている。   Conventionally, when a sapphire substrate is scribed and broken, a method is proposed in which a scribe groove is formed by irradiating a sapphire substrate with a laser beam as shown in Patent Documents 1 and 2 and the like, and a break is made along the scribe groove. ing.

又ガラス切断用のスクライビングホイールを用いたスクライブ方法も広く用いられている。従来のスクライビングホイールは、特許文献3等に示されるように、超硬合金製又は多結晶焼結ダイヤモンド(以下、PCDという)製の円板を基材としている。PCDはダイヤモンド粒子をコバルトなどと共に焼結させたものである。スクライビングホイールは基材となる円板の両側より円周のエッジを互いに斜めに削り込み、円周面にV字形の刃先を形成したものである。このようにして形成されたスクライビングホイールをスクライブ装置のスクライブヘッド等に回転自在に軸着して脆性材料基板に所定の荷重で押し付け、脆性材料基板の面に沿って移動させることで、転動させながらスクライブすることができる。   A scribing method using a scribing wheel for cutting glass is also widely used. A conventional scribing wheel uses, as a base material, a disc made of cemented carbide or polycrystalline sintered diamond (hereinafter referred to as PCD) as disclosed in Patent Document 3 and the like. PCD is obtained by sintering diamond particles together with cobalt or the like. The scribing wheel is formed by cutting the circumferential edges obliquely from both sides of a disk as a base material to form a V-shaped cutting edge on the circumferential surface. The scribing wheel formed in this way is rotatably attached to a scribing head of a scribing device, pressed against the brittle material substrate with a predetermined load, and moved along the surface of the brittle material substrate to roll it. You can scribe while.

特開2012−106279号公報JP 2012-106279 A 特開2013−51298号公報JP 2013-51298 A 国際公開WO2003/51784号公報International Publication WO2003 / 51784

しかるに従来のレーザ光を用いたスクライブ方法では、サファイア基板の表面にダメージが生じ易く、基板の品質を損うという問題点があった。又スクライビングホイールを用いたスクライブ方法では、サファイア基板の厚さが薄くなると、ブレイクした後に断面にクレバスとも呼ばれる不規則な亀裂が発生し易くなるという問題点があった。   However, the conventional scribing method using laser light has a problem that the surface of the sapphire substrate is easily damaged and the quality of the substrate is impaired. Further, the scribing method using the scribing wheel has a problem that when the thickness of the sapphire substrate is reduced, an irregular crack called a crevasse is likely to occur in the cross section after breaking.

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、サファイア基板のスクライブに適したスクライビングホイール及びそのスクライブ方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a scribing wheel suitable for scribing a sapphire substrate and a scribing method thereof.

この課題を解決するために、本発明のスクライビングホイールは、円周部に沿って断面がV字形で中央に稜線が形成され、前記稜線と前記稜線の両側の傾斜面からなる刃先を有し、少なくとも刃先部分がダイヤモンドで形成されたスクライビングホイールであって、前記稜線部分の全周に所定間隔で形成された溝を有し、前記溝の長さを9μm以上12μm以下、前記溝の間の稜線の長さを5μm以上9μm以下、前記溝の深さを1.5μm以上4μm以下としたものである。   In order to solve this problem, the scribing wheel of the present invention has a cutting edge formed of a V-shaped cross section along the circumferential portion and a ridge line formed in the center, and the ridge line and inclined surfaces on both sides of the ridge line, A scribing wheel in which at least the cutting edge portion is formed of diamond, and has grooves formed at predetermined intervals on the entire circumference of the ridge line portion, and the length of the groove is 9 μm or more and 12 μm or less, and the ridge line between the grooves The length is 5 μm or more and 9 μm or less, and the depth of the groove is 1.5 μm or more and 4 μm or less.

ここで前記溝長さと稜線長さとの比を1.0より大きくするようにしてもよい。   Here, the ratio of the groove length to the ridge line length may be made larger than 1.0.

この課題を解決するために、本発明のスクライブ方法はスクライビングホイールを用いたスクライブ方法であって、サファイア基板に前記スクライビングホイールを押し当て、前記スクライビングホイールを転動させることによりスクライブするものである。   In order to solve this problem, the scribing method of the present invention is a scribing method using a scribing wheel, which presses the scribing wheel against a sapphire substrate and rolls the scribing wheel.

このような特徴を有する本発明によれば、スクライビングホイールの少なくとも刃先部分をダイヤモンド製とし、その稜線部分に所定の溝を形成する。このような形状のスクライビングホイールを用い、サファイア基板をスクライブすることによって、十分な深さの垂直クラックを発生させることができ、分断後のクレバスの発生を抑制することができるという効果が得られる。   According to the present invention having such characteristics, at least the cutting edge portion of the scribing wheel is made of diamond, and a predetermined groove is formed in the ridge line portion. By scribing the sapphire substrate using the scribing wheel having such a shape, it is possible to generate a vertical crack having a sufficient depth and to suppress the generation of a crevasse after division.

図1は本発明の実施の形態によるスクライビングホイールの正面図及び側面図である。FIG. 1 is a front view and a side view of a scribing wheel according to an embodiment of the present invention. 図2は本実施の形態による刃先の稜線部分の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a ridge line portion of the cutting edge according to the present embodiment. 図3は本発明の実施例1〜7、比較例1〜4によるスクライビングホイールの寸法を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing dimensions of scribing wheels according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 of the present invention. 図4は実施例1〜7、比較例1〜4によるスクライビングホイールを用いてスクライブした後、及びブレイクした後の評価を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the evaluation after scribing using the scribing wheel according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, and after breaking. 図5はスクライブラインを形成したサファイア基板を目視する状態を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing a state in which a sapphire substrate on which a scribe line is formed is viewed. 図6Aはスクライブラインを形成したサファイア基板でスクライブラインに水平クラックが生じていない場合を示す図である。FIG. 6A is a diagram showing a case where a horizontal crack is not generated in the scribe line in the sapphire substrate on which the scribe line is formed. 図6Bはスクライブラインを形成したサファイア基板でスクライブラインに水平クラックが生じている場合を示す図である。FIG. 6B is a diagram showing a case where a horizontal crack is generated in the scribe line on the sapphire substrate on which the scribe line is formed. 図7Aはスクライブラインに沿ってブレイクした断面の状態を示す図であり、クレバスのない状態を示す。FIG. 7A is a diagram showing a state of a cross section broken along a scribe line, and shows a state without a crevasse. 図7Bはスクライブラインに沿ってブレイクした断面の状態を示す図であり、クレバスがわずかにある状態を示す。FIG. 7B is a diagram showing a state of a cross section broken along a scribe line, and shows a state where there is a slight crevasse. 図7Cはスクライブラインに沿ってブレイクした断面の状態を示す図であり、クレバスが多い状態を示す。FIG. 7C is a diagram showing a state of a cross section broken along a scribe line, and shows a state where there are many crevasses.

図1は本発明の実施の形態によるスクライビングホイールの正面図及び側面図である。スクライビングホイールを製造する際には、例えば、超硬合金等のスクライビングホイール基材となる円板11の中央にまず図1(a)に示すように軸穴となる貫通孔12を形成する。次にこの貫通孔12に図示しないモータ等のシャフトを連通して貫通孔12の中心軸を回転軸12aとして回転させつつ、円板11の全円周を円板の表裏両側より回転軸12aに対して斜めに研磨して図1(b)に示すように稜線と稜線の両側の傾斜面を垂直断面V字形に形成する。こうして形成したV字形の斜面を研磨面13とする。   FIG. 1 is a front view and a side view of a scribing wheel according to an embodiment of the present invention. When manufacturing a scribing wheel, for example, first, a through hole 12 serving as a shaft hole is formed in the center of a disk 11 serving as a scribing wheel base material such as cemented carbide as shown in FIG. Next, a shaft such as a motor (not shown) is connected to the through hole 12 to rotate the central axis of the through hole 12 as the rotation shaft 12a, and the entire circumference of the disk 11 is connected to the rotation shaft 12a from both sides of the disk. On the other hand, as shown in FIG. 1 (b), the ridgeline and the inclined surfaces on both sides of the ridgeline are formed in a V-shaped vertical section by polishing obliquely. The V-shaped slope formed in this way is defined as a polishing surface 13.

まずダイヤモンド膜の付着が容易になるようにV字形の研磨面13をあらかじめ粗面にしておく。次にサブミクロン以下の粒径の核となるダイヤモンドを斜面部分に形成した後、化学気相成長反応によってダイヤモンド薄膜を成長させる。このようにしてスクライビングホイールのV字形の斜面の研磨面に化学気相成長法(CVD法)によって、膜厚が例えば20〜30μmのダイヤモンド膜14を形成する。   First, the V-shaped polished surface 13 is roughened in advance so that the diamond film can be easily attached. Next, after forming diamond as a core having a particle size of submicron or less on the slope portion, a diamond thin film is grown by chemical vapor deposition. In this way, the diamond film 14 having a film thickness of, for example, 20 to 30 μm is formed on the polished surface of the V-shaped slope of the scribing wheel by chemical vapor deposition (CVD).

次にダイヤモンド膜の先端を研磨し、稜線を含む研磨領域を形成する。続いて、ダイヤモンド膜の研磨領域の稜線部分に一定間隔の微小な溝を形成する。この溝の詳細について図2を用いて説明する。図2は図1に一点鎖線Sで示す刃先の稜線部分の拡大図である、本図に示すようにスクライビングホイールの研磨面が交差する稜線部分に溝とその間の稜線の長さを夫々一定とする溝15を全周に形成する。溝はダイヤモンド膜を有するスクライビングホイールの刃先をレーザ加工によって一部除去することにより形成してもよい。ここで各溝15の溝の長さAは9μm以上、12μm以下とすることが好ましい。又溝の深さBは1.5μm以上、4μm以下とすることが好ましく、より好ましくは2μm以上、3μm以下とする。又稜線の長さCは5μm以上、9μm以下とすることが好ましく、より好ましくは5μm以上、7μm以下とする。又溝の長さAと稜線の長さCとの比A/Cは、1より大きいことが好ましく、より好ましくは1.4以上とする。このような溝が全周に形成されたスクライビングホイールを用いてスクライブすると、好適なスクライブを行うことができる。そしてこのスクライブラインに沿ってブレイクした場合には、クレバスの少ない断面を得ることができる。   Next, the tip of the diamond film is polished to form a polished region including a ridgeline. Subsequently, minute grooves are formed at regular intervals in the ridge line portion of the polishing region of the diamond film. Details of the groove will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an enlarged view of the ridge line portion of the cutting edge indicated by the alternate long and short dash line S in FIG. 1. As shown in this figure, the length of the ridge line between the groove and the ridge line portion where the polishing surface of the scribing wheel intersects is constant. The groove 15 to be formed is formed on the entire circumference. The groove may be formed by partially removing the cutting edge of a scribing wheel having a diamond film by laser processing. Here, the length A of each groove 15 is preferably 9 μm or more and 12 μm or less. Further, the depth B of the groove is preferably 1.5 μm or more and 4 μm or less, more preferably 2 μm or more and 3 μm or less. The length C of the ridge line is preferably 5 μm or more and 9 μm or less, more preferably 5 μm or more and 7 μm or less. The ratio A / C between the groove length A and the ridgeline length C is preferably greater than 1, more preferably 1.4 or more. If scribing is performed using a scribing wheel in which such grooves are formed all around, suitable scribing can be performed. And when it breaks along this scribe line, a cross section with few crevasses can be obtained.

尚この実施の形態では溝の形成はレーザ加工により行っているが、レーザ加工に代えて、ダイヤモンド膜を放電加工して溝を形成してもよく、研磨により溝を形成するようにしてもよい。   In this embodiment, the grooves are formed by laser processing. However, instead of laser processing, the diamond film may be formed by electric discharge machining, or the grooves may be formed by polishing. .

又スクライビングホイール基材のV字形の刃先部に溝を形成しておき、このスクライビングホイール基材にCVD法でダイヤモンド膜をコーティングし研磨することでスクライビングホイールを構成するようにしてもよい。   Alternatively, a scribing wheel may be formed by forming a groove in a V-shaped cutting edge portion of a scribing wheel base material, and coating and polishing the scribing wheel base material with a diamond film by a CVD method.

又この実施の形態ではスクライビングホイール基材にダイヤモンド膜をコーティングして研磨しているが、スクライビングホイール基材自体を単結晶ダイヤモンドや、結合材を含まない多結晶ダイヤモンド等のダイヤモンド材料で構成するようにしてもよい。   Further, in this embodiment, the scribing wheel base material is coated with a diamond film and polished, but the scribing wheel base material itself is made of a diamond material such as single crystal diamond or polycrystalline diamond not containing a binder. It may be.

次に実施例について図3を用いて説明する。図3は実施例1〜7によるスクライビングホイールは前述した実施の形態に基づいて作成したものである。ここでは図3に示すように溝の長さAを9又は12μm、溝の深さBを1.5,2,3,又は4μm、稜線の長さCを6又は8.5μmとし、刃先角度Dを115°としたスクライビングホイールを実施例1〜7とする。溝稜線比A/Cは1.06〜2.00とした。又これと同時に比較例1〜4として、溝の長さAを6,9又は12μm、溝の深さBを3μm、稜線の長さCを6,8.5又は12μmとし、刃先角度Dを115°としたスクライビングホイールを作成した。比較例1〜4の溝稜線比A/Cは0.71〜1.00とした。   Next, an embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 3, the scribing wheels according to Examples 1 to 7 are prepared based on the above-described embodiment. Here, as shown in FIG. 3, the groove length A is 9 or 12 μm, the groove depth B is 1.5, 2, 3, or 4 μm, the ridge line length C is 6 or 8.5 μm, and the edge angle The scribing wheel which set D as 115 degrees is set as Examples 1-7. The groove ridge line ratio A / C was 1.06 to 2.00. At the same time, as Comparative Examples 1 to 4, the groove length A was 6, 9 or 12 μm, the groove depth B was 3 μm, the ridge line length C was 6, 8.5 or 12 μm, and the edge angle D was A scribing wheel at 115 ° was created. The groove ridge line ratio A / C of Comparative Examples 1 to 4 was 0.71 to 1.00.

そして各実施例1〜7のスクライビングホイールと比較例1〜4のスクライビングホイールを用いて、スクライブ荷重を1.20N〜2.22Nにまで変化させて、0.1mmの厚さのサファイア基板に押し当て、転動させることでスクライブした。更にこのサファイア基板をスクライブラインに沿って分断した。図4はスクライブの状態を3段階で、断面の状態を2段階で評価した結果を示す表である。スクライブラインの評価の際には、図5に示すように平行に多数のスクライブラインを形成したサファイア基板21に照明を当て、スクライブラインを目視で確認した。ここでスクライブが良好「○」、及び「×」の場合は、スクライブラインが全体的に均等に光っている中浸透である状態を示す。又「△」は薄く光っているが所々途切れており、スクライブが低浸透である状態を示している。図6Aはスクライブラインの品質を示し、中浸透(○)又は低浸透(△)で、水平クラックが生じていない状態を示しており、図6Bは水平クラックが生じている(×)状態を示す。図6Bにはスクライブラインの側方に水平クラックが生じている。   Then, using the scribing wheel of each of Examples 1 to 7 and the scribing wheel of Comparative Examples 1 to 4, the scribe load was changed from 1.20 N to 2.22 N, and the sapphire substrate having a thickness of 0.1 mm was pushed. Scribing by rolling and rolling. Furthermore, this sapphire substrate was cut along a scribe line. FIG. 4 is a table showing the results of evaluating the scribe state in three stages and the cross-sectional state in two stages. When evaluating the scribe line, illumination was applied to the sapphire substrate 21 on which a large number of scribe lines were formed in parallel as shown in FIG. 5, and the scribe lines were visually confirmed. Here, when the scribing is good “◯” and “×”, it indicates a state of medium penetration where the scribe line shines evenly as a whole. In addition, “Δ” is thin and shining, but is broken in some places, and indicates that the scribe has low penetration. FIG. 6A shows the quality of the scribe line, showing a state in which there is no horizontal crack in medium penetration (◯) or low penetration (Δ), and FIG. 6B shows a state in which horizontal crack is generated (×). . In FIG. 6B, a horizontal crack is generated on the side of the scribe line.

次にこのようなスクライブラインを形成したサファイア基板21を、ブレイク装置を用いてブレイクした。又断面については図7Aに示すようにクレバスが無いもの及び図7Bに示すようにクレバスが短く、ほとんど無いものを良好(○)とし、図7Cに示すように基板の厚さの半分を超えるような、大きなクレバスが多数生じているものを不良(×)として評価した。これらの結果から図に示されるように溝の長さAは9〜12μm、稜線の長さCは5〜9μmのものが好ましく、スクライブ荷重を適切に選択することによって良好なスクライブラインと断面を得ることができる。特に、実施例1,2においては複数の荷重において良好なスクライブラインと断面を得ることができた。又刃先角度Dは110〜125°で同様の傾向が得られる。   Next, the sapphire substrate 21 on which such a scribe line was formed was broken using a breaking device. As for the cross-section, those having no crevasse as shown in FIG. 7A and those having a short crevasse as shown in FIG. 7B and almost no crevice are good (◯), and exceed half the thickness of the substrate as shown in FIG. 7C. A large number of large crevasses were evaluated as bad (x). From these results, it is preferable that the groove length A is 9 to 12 μm and the ridge line length C is 5 to 9 μm as shown in the figure. By properly selecting the scribe load, a good scribe line and cross section can be obtained. Can be obtained. In particular, in Examples 1 and 2, good scribe lines and cross sections could be obtained at a plurality of loads. The same tendency is obtained when the blade edge angle D is 110 to 125 °.

本発明のスクライビングホイールはサファイア基板をクレバスのほとんど無い断面で分断することができるサファイア基板用のスクライビングホイールを提供することができ、スクライブ装置に好適に用いることができる。   The scribing wheel of the present invention can provide a scribing wheel for a sapphire substrate that can cut the sapphire substrate with a cross section having almost no crevasse, and can be suitably used for a scribing apparatus.

10 スクライビングホイール
11 円板
12 貫通孔
13 研磨面
14 ダイヤモンド膜
15 溝
21 サファイア基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Scribing wheel 11 Disc 12 Through-hole 13 Polishing surface 14 Diamond film 15 Groove 21 Sapphire substrate

Claims (3)

円周部に沿って断面がV字形で中央に稜線が形成され、前記稜線と前記稜線の両側の傾斜面からなる刃先を有し、少なくとも刃先部分がダイヤモンドで形成されたスクライビングホイールであって、
前記稜線部分の全周に所定間隔で形成された溝を有し、前記溝の長さを9μm以上12μm以下、前記溝の間の稜線の長さを5μm以上9μm以下、前記溝の深さを1.5μm以上4μm以下としたスクライビングホイール。
A scribing wheel having a V-shaped cross section along the circumference, a ridge line formed in the center, a blade edge formed of the ridge line and inclined surfaces on both sides of the ridge line, and at least a blade edge portion formed of diamond,
Grooves formed at predetermined intervals on the entire circumference of the ridge line portion, the length of the groove being 9 μm or more and 12 μm or less, the length of the ridge line between the grooves being 5 μm or more and 9 μm or less, and the depth of the groove being A scribing wheel having a size of 1.5 μm to 4 μm.
前記溝長さと稜線長さとの比を1.0より大きくした請求項1記載のスクライビングホイール。   The scribing wheel according to claim 1, wherein a ratio of the groove length to the ridge line length is larger than 1.0. 請求項1又は2のスクライビングホイールを用いたスクライブ方法であって、
サファイア基板に前記スクライビングホイールを押し当て、
前記スクライビングホイールを転動させることによりスクライブするスクライブ方法。
A scribing method using the scribing wheel according to claim 1 or 2,
Press the scribing wheel against the sapphire substrate,
A scribing method for scribing by rolling the scribing wheel.
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