JP2018085436A - ヒドラジン類ガスの供給方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
内壁面の表面粗さRaが0.381μm程度のSUS316Lの高輝焼鈍(Bright Anneal)管(以下、BA管と称する)と、内壁面の表面粗さRaが0.254μm程度の前記EP管及び前記CRP管とを用意し、同一口径、同一長さで容積100mlの各管内に高純度(不純物検出せず)のモノメチルヒドラジンを、絶対圧力50kPaでそれぞれ封入した。各管を100℃雰囲気下の恒温槽に入れ、各管内の圧力の経時変化を測定した。BA管の圧力変化とEP管の圧力変化とを図2に示す。なお、CRP管の圧力変化は、EP管の圧力変化と略同じであったことから、図示は省略した。
Claims (7)
- ヒドラジン類ガスを供給する方法であって、前記ヒドラジン類ガスを、内壁面の表面粗さRaが0.254μm以下のステンレス配管を使用するとともに、該ステンレス配管内を流れるヒドラジン類ガスの蒸気圧が絶対圧力で50kPa以上になる温度に加熱して供給することを特徴とするヒドラジン類ガスの供給方法。
- 前記ステンレス配管内を流れるヒドラジン類ガスの温度が200℃以下、蒸気圧が絶対圧力で100kPa以下であることを特徴とする請求項1記載のヒドラジン類ガスの供給方法。
- 前記ステンレス配管は、少なくとも、該ヒドラジン類ガスの精製手段から流量調節手段までの間に設けることを特徴とする請求項1又は2記載のヒドラジン類ガスの供給方法。
- ヒドラジン類ガスを供給する装置であって、前記ヒドラジン類ガスを供給する配管を、内壁面の表面粗さRaが0.254μm以下のステンレス配管で形成するとともに、該ステンレス配管内を流れるヒドラジン類ガスの蒸気圧が絶対圧力で50kPa以上になる温度に加熱する加熱手段を設けたことを特徴とするヒドラジン類ガスの供給装置。
- 前記ステンレス配管内を流れるヒドラジン類ガスの温度が200℃以下、蒸気圧が絶対圧力で100kPa以下であることを特徴とする請求項4記載のヒドラジン類ガスの供給装置。
- ヒドラジン類ガス供給源から供給されるヒドラジン類ガスを精製するヒドラジン精製手段と、供給するヒドラジン類ガスの流量を調節する流量調節手段とを備え、前記ヒドラジン精製手段で精製したヒドラジンガスが前記流量調節手段に向けて流れる配管に前記ステンレス配管を使用するとともに、該ステンレス配管内を流れるヒドラジン類ガスの蒸気圧を絶対圧力で50kPa以上になる温度に加熱する加熱手段を設けたことを特徴とする請求項4又は5記載のヒドラジン類ガスの供給装置。
- 前記ステンレス配管は、内壁面が電解研磨処理又はクロム酸化膜不動態化処理されたSUS316Lで形成されていることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項記載のヒドラジン類ガスの供給装置。
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