JP2018080079A - Production apparatus and production method of glass substrate - Google Patents

Production apparatus and production method of glass substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2018080079A
JP2018080079A JP2016223248A JP2016223248A JP2018080079A JP 2018080079 A JP2018080079 A JP 2018080079A JP 2016223248 A JP2016223248 A JP 2016223248A JP 2016223248 A JP2016223248 A JP 2016223248A JP 2018080079 A JP2018080079 A JP 2018080079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
air supply
opening
housing
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016223248A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6665760B2 (en
Inventor
好晴 山本
Yoshiharu Yamamoto
好晴 山本
弘樹 中塚
Hiroki Nakatsuka
弘樹 中塚
大野 和宏
Kazuhiro Ono
和宏 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2016223248A priority Critical patent/JP6665760B2/en
Priority to PCT/JP2017/037958 priority patent/WO2018092506A1/en
Priority to KR1020197016656A priority patent/KR102312556B1/en
Priority to CN201780070959.4A priority patent/CN109963820B/en
Priority to TW106137517A priority patent/TWI722251B/en
Publication of JP2018080079A publication Critical patent/JP2018080079A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6665760B2 publication Critical patent/JP6665760B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • B65G49/064Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3105After-treatment
    • H01L21/311Etching the insulating layers by chemical or physical means
    • H01L21/31105Etching inorganic layers
    • H01L21/31111Etching inorganic layers by chemical means
    • H01L21/31116Etching inorganic layers by chemical means by dry-etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2201/00Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
    • B65G2201/02Articles
    • B65G2201/0214Articles of special size, shape or weigh
    • B65G2201/022Flat

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To apply surface treatment with good quality to plate glass irrespective of the kind of the plate glass to be a glass substrate.SOLUTION: A production apparatus 10 of a glass substrate P according to the present invention includes a transportation device 11 to transport the glass substrate P to a predetermined direction X1 and a surface treatment apparatus 12. The surface treatment apparatus 12 includes a housing 14, openings 17 which open to the side of one main surface P1 of the housing 14, and one or more air supply units 18 which are detachably attached to the openings 17 and which have air inlets 31 to supply treatment gas Ga to the one main surface P1. The air supply units 18 are made to be attachable to a plurality of positions of the openings 17 along the transportation direction X1 of the glass substrate P.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ガラス基板の製造装置及び製造方法に関し、特に、ガラス基板となる板状ガラスの一方の主表面に対して処理ガスによる表面処理を施すための装置及び方法に関する。   The present invention relates to a glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method, and more particularly to an apparatus and method for performing a surface treatment with a processing gas on one main surface of a glass sheet serving as a glass substrate.

周知のように、近年の画像表示装置については、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、有機ELディスプレイ(OLED)などに代表されるフラットパネルディスプレイ(以下、単にFPDという。)が主流となっている。これらFPDについては軽量化が推進されていることから、FPDに使用されるガラス基板についても薄板化に対する要求が高まっている。   As is well known, with respect to recent image display devices, flat panel displays (hereinafter simply referred to as liquid crystal displays (LCD), plasma displays (PDP), field emission displays (FED), organic EL displays (OLED), etc.). FPD) is the mainstream. Since weight reduction is promoted about these FPD, the request | requirement with respect to thickness reduction also about the glass substrate used for FPD is increasing.

上述したガラス基板は、例えば各種ダウンドロー法に代表される板状ガラスの成形方法により帯状に成形した板状ガラス(帯状板ガラス)を所定の寸法に切断し、切断した板状ガラスの幅方向(帯状板ガラスの表裏面に平行で、かつ長手方向に直交する向きをいう。以下、同じ。)両端部分をさらに切断した後、必要に応じて、各切断面に研磨加工を施す等により得られる。   The glass substrate mentioned above cut | disconnects the plate-shaped glass (band-shaped plate glass) shape | molded by the strip shape by the shaping | molding method of the plate-shaped glass represented by various downdraw methods, for example to the predetermined dimension, and the width direction ( This refers to the direction parallel to the front and back surfaces of the belt-shaped plate glass and perpendicular to the longitudinal direction, hereinafter the same.) After further cutting both end portions, it is obtained by subjecting each cut surface to a polishing process, if necessary.

ところで、この種のガラス基板を製造するに際しては、その製造過程における静電気の帯電が問題となることがある。すなわち、絶縁体であるガラスは非常に帯電し易い性質を有しており、ガラス基板の製造工程において、例えば載置台にガラス基板を載置し所定の加工を施す際、ガラス基板と載置台との接触剥離によりガラス基板が帯電することがある(これを、剥離帯電と呼ぶことがある。)。帯電したガラス基板に導電性の物体が近づくと放電が生じ、この放電によって、ガラス基板の表面上に形成された各種素子や電子回路を構成する電極線の破損、あるいはガラス基板自体の破損を招くおそれがある(これらを、絶縁破壊又は静電破壊と呼ぶことがある。)。また、帯電したガラス基板は載置台に貼り付き易く、これを無理やり引き剥がすことでガラス基板の破損を招くおそれもある。これらは当然に表示不良の原因となるため、極力回避すべき事象である。   By the way, when this type of glass substrate is manufactured, electrostatic charging in the manufacturing process may be a problem. That is, the glass as an insulator has a property of being easily charged, and in the glass substrate manufacturing process, for example, when a glass substrate is placed on a mounting table and subjected to predetermined processing, the glass substrate and the mounting table The glass substrate may be charged by contact peeling (this may be referred to as peeling charging). When a conductive object approaches the charged glass substrate, a discharge occurs, and this discharge causes damage to various elements formed on the surface of the glass substrate and electrode wires constituting the electronic circuit, or damage to the glass substrate itself. There are fears (sometimes referred to as dielectric breakdown or electrostatic breakdown). Further, the charged glass substrate is likely to stick to the mounting table, and there is a possibility that the glass substrate may be damaged by forcibly peeling it off. Since these naturally cause display defects, they should be avoided as much as possible.

上記事象を回避するための手段として、例えばガラス基板の裏面(載置台の載置面と接触する側の面)に所定の処理ガスを供給することで裏面に表面処理を施し、これにより裏面を粗面化する方法が考えられる。ガラス基板と載置台との接触面積が大きいほど剥離した際の帯電量が増大する傾向にあることから、載置台の載置面と接触するガラス基板の裏面を粗面化することで、ガラス基板と載置台との接触面積を減少させて、剥離時の帯電抑制を図ることが可能になるものと期待される。また、ガラス基板の接触面(裏面)が平滑であるほど載置面の如き平滑面に貼り付き易い点に鑑み、上述のように、ガラス基板の裏面を粗面化して例えば当該裏面の表面粗さを載置面の表面粗さよりも大きくすることで、ガラス基板を載置面に貼り付き難くすることができ、これにより剥離時のガラス基板の破損防止が可能になるものと期待される。   As a means for avoiding the above-mentioned phenomenon, for example, by supplying a predetermined processing gas to the back surface of the glass substrate (the surface on the side contacting the mounting surface of the mounting table), the back surface is subjected to surface treatment. A roughening method is conceivable. The larger the contact area between the glass substrate and the mounting table, the greater the amount of charge when peeling, so the glass substrate can be roughened by roughening the back surface of the glass substrate in contact with the mounting surface of the mounting table. It is expected that it is possible to reduce charging area at the time of peeling by reducing the contact area between and the mounting table. Further, in view of the fact that the smoother the contact surface (back surface) of the glass substrate is, the easier it is to stick to a smooth surface such as a mounting surface, as described above, the back surface of the glass substrate is roughened, for example, the surface roughness of the back surface. By making the thickness larger than the surface roughness of the mounting surface, it is possible to make it difficult for the glass substrate to stick to the mounting surface, and this is expected to prevent damage to the glass substrate during peeling.

ここで、上記の如き表面処理を可能とする構成として、例えば下記特許文献1には、ガラス基板を載置した状態で所定の方向に搬送する搬送手段と、フッ化水素ガスを含む処理ガスを搬送経路上のガラス基板の一方の主表面(裏面となる側の主表面)に向けて供給し、かつ供給した処理ガスを排気系へ排出するインジェクタとを備えた表面処理装置が記載されている。ここで、インジェクタには、フッ化水素ガス源と接続される第一のスリットがガラス基板の搬送方向所定位置に設けられると共に、キャリアガス源と接続される第二のスリットが第一のスリットの上記搬送方向両側の所定位置に設けられている。また、排気系と接続される第三のスリットが第二のスリットのさらに上記搬送方向両側の所定位置に設けられている。   Here, as a configuration that enables the surface treatment as described above, for example, in Patent Document 1 below, a conveying means that conveys a glass substrate in a predetermined direction and a processing gas containing hydrogen fluoride gas are provided. There is described a surface treatment apparatus including an injector that supplies a gas substrate toward one main surface (main surface on the back surface side) of a glass substrate and discharges the supplied processing gas to an exhaust system. . Here, the injector is provided with a first slit connected to the hydrogen fluoride gas source at a predetermined position in the transport direction of the glass substrate, and a second slit connected to the carrier gas source is the first slit. It is provided at a predetermined position on both sides in the transport direction. A third slit connected to the exhaust system is provided at a predetermined position on both sides of the second slit in the transport direction.

特開2014−80331号公報JP 2014-80331 A

このように処理ガスによる表面処理を施す場合、表面処理の結果(処理後の表面品質)は、搬送手段によるガラス基板の搬送速度はもちろんのこと、処理ガスの種類や供給量、供給位置によっても大きく左右される。そのため、実際に上述した表面処理を施す際には、処理対象となるガラス基板の材質、サイズ、製造ラインの構成などに応じて、ガラス基板の搬送速度や、処理ガスの種類、供給量、及び供給位置(特許文献1でいえば第一及び第二のスリットの位置)などを適宜設定することが必要となる。ところが、特許文献1に記載の表面処理装置だと、処理ガスを供給する第一のスリット及び第二のスリットが予め所定の位置に固定されているため、ガラス基板の種類(材質、厚み、搬送方向寸法など)に応じて処理ガスの供給位置を変更することができない。これでは、製造対象となるガラス基板を変更した場合、良質な表面処理を施すことは難しい。   When performing surface treatment with a processing gas in this way, the result of the surface treatment (surface quality after processing) depends not only on the conveyance speed of the glass substrate by the conveying means but also on the type, supply amount, and supply position of the processing gas. It is greatly influenced. Therefore, when actually performing the surface treatment described above, depending on the material and size of the glass substrate to be processed, the configuration of the production line, etc., the conveyance speed of the glass substrate, the type of the processing gas, the supply amount, and It is necessary to appropriately set the supply position (the positions of the first and second slits in Patent Document 1). However, in the surface treatment apparatus described in Patent Document 1, since the first slit and the second slit for supplying the processing gas are fixed at predetermined positions in advance, the type of glass substrate (material, thickness, conveyance) The processing gas supply position cannot be changed according to the directional dimensions. In this case, when the glass substrate to be manufactured is changed, it is difficult to perform a good surface treatment.

以上の事情に鑑み、ガラス基板となる板状ガラスの種類によらず、当該板状ガラスに対して良質な表面処理を施すことを、本発明により解決すべき技術的課題とする。   In view of the above circumstances, it is a technical problem to be solved by the present invention that a high-quality surface treatment is applied to the plate glass regardless of the type of the plate glass used as the glass substrate.

前記課題の解決は、本発明に係るガラス基板の製造装置により達成される。すなわち、この製造装置は、ガラス基板となる板状ガラスを所定の方向に搬送する搬送装置と、搬送装置で搬送されている板状ガラスの一方の主表面に処理ガスを供給して所定の表面処理を施す表面処理装置とを備えたガラス基板の製造装置において、表面処理装置は、筐体と、 筐体のうち一方の主表面の側に開口している開口部と、開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、一方の主表面に処理ガスを供給するための給気口を有する一又は複数の給気ユニットとを備え、給気ユニットは、開口部のうち板状ガラスの搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされている点をもって特徴付けられる。   The solution to the above problem is achieved by the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention. That is, this manufacturing apparatus supplies a processing gas to one main surface of a sheet glass that is conveyed by a conveying apparatus that conveys a sheet glass to be a glass substrate in a predetermined direction and has a predetermined surface. In a glass substrate manufacturing apparatus including a surface treatment apparatus for performing a treatment, the surface treatment apparatus includes a housing, an opening opening on one main surface side of the housing, and an opening. One or a plurality of air supply units which are attached so as to be removable and have an air supply port for supplying a processing gas to one main surface, and the air supply unit is made of a plate-like glass in the opening. It is characterized by being capable of being attached to a plurality of positions along the transport direction.

このように、本発明では、搬送されている板状ガラスの一方の主表面に処理ガスを供給するための給気口を有する部材をユニット化して、板状ガラスの搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とした。このように構成することによって、給気ユニットの取り付け位置を変更するだけで、容易に給気口の搬送方向位置を調整することができる。従って、搬送される板状ガラスの種類を変更する必要が生じた場合であっても、容易に最適な処理条件を設定することができ、これにより良質な表面処理を板状ガラスに施すことが可能となる。あるいは、同一種類の板状ガラスであっても、生産状況や製造ラインの他の部分の構成に応じて搬送速度を変更することもあり得るが、そのような場合においても、給気ユニットの取り付け位置を変更することで、処理ガスの供給位置を含めた供給条件を容易に設定することができ、良質な表面処理を施すことが可能となる。   Thus, in this invention, the member which has an air supply opening for supplying process gas to one main surface of the plate glass currently conveyed is unitized, and the some along the conveyance direction of plate glass It was possible to attach to the position. By comprising in this way, the conveyance direction position of an air supply port can be easily adjusted only by changing the attachment position of an air supply unit. Therefore, even when it is necessary to change the type of the sheet glass to be conveyed, it is possible to easily set the optimum processing conditions, and thereby to apply a good surface treatment to the sheet glass. It becomes possible. Or even if it is the same kind of plate glass, the conveyance speed may be changed according to the production status and the configuration of other parts of the production line. By changing the position, it is possible to easily set the supply conditions including the supply position of the processing gas, and to perform a high-quality surface treatment.

また、本発明では、表面処理装置の筐体に開口部を設けると共に、この開口部に上記構成の給気ユニットを取り付けるようにしたので、給気ユニットの例えば配管系を含む大部分を筐体の内部空間に配置することができる。これにより表面処理装置を必要以上に大型化させることなく製造ラインに組み込むことができる。また、筐体内部の大部分を空洞にできるので、給気ユニットの取り付け位置が変更され、あるいは追加された場合であっても他の部材との干渉が問題になるおそれもない。   Further, in the present invention, the opening of the surface treatment apparatus is provided with an opening, and the air supply unit having the above-described configuration is attached to the opening. Can be placed in the interior space. As a result, the surface treatment apparatus can be incorporated into the production line without making it unnecessarily large. Further, since most of the inside of the housing can be made hollow, even if the attachment position of the air supply unit is changed or added, there is no possibility that interference with other members becomes a problem.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、処理ガスの排気を行う排気ユニットをさらに備え、排気ユニットは、開口部のうち搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされているものであってもよい。   The glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention further includes an exhaust unit that is detachably attached to the opening, and exhausts the processing gas. The exhaust unit is disposed in the transport direction in the opening. It may be capable of being attached to a plurality of positions along.

上記構成によれば、排気ユニットの取り付け位置を変更するだけで、処理ガスの排気口についても容易にその搬送方向位置を調整することができる。排気口の位置は、給気口の位置と同様、一方の主表面に面する空間における処理ガスの流れに影響を与える要素であるから、上述のように排気口の位置を調整することで、最適な処理条件を設定することができる。従って、容易に処理ガスによる板状ガラスの処理条件を設定し直すことができ、これによっても良質な表面処理を板状ガラスに施すことが可能となる。   According to the above configuration, it is possible to easily adjust the position in the transport direction of the processing gas exhaust port only by changing the mounting position of the exhaust unit. Like the position of the air supply port, the position of the exhaust port is an element that affects the flow of the processing gas in the space facing one of the main surfaces, so by adjusting the position of the exhaust port as described above, Optimal processing conditions can be set. Therefore, it is possible to easily reset the processing conditions of the plate glass with the processing gas, and it is possible to apply a high-quality surface treatment to the plate glass.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、開口部を塞ぐダミーユニットをさらに備え、ダミーユニットは、開口部のうち搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされているものであってもよい。   The glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention is further provided with a dummy unit that is detachably attached to the opening and closes the opening, and the dummy unit extends along the transport direction in the opening. It may be attached to a plurality of positions.

上記構成によれば、筐体の開口部に位置又は複数の給気ユニットと、必要に応じて排気ユニットとを取り付けた際、開口部の残りの部分をダミーユニットで塞ぐことができる。これにより、給気ユニットの取り付け位置を容易に調整することができる。また、ダミーユニットで開口部を完全に塞ぐことができるので、給気ユニット等がどのような配置を取った場合でも、処理ガスの流れを阻害することなく良質な表面処理を容易に施すことが可能となる。また、ユニット化することで、給気ユニットと寸法を共通化して容易に給気ユニットとダミーユニットの位置を置換することができる。よって、組み換えが迅速に行える。   According to the said structure, when a position or several air supply unit and the exhaust unit are attached to the opening part of the housing | casing as needed, the remaining part of an opening part can be block | closed with a dummy unit. Thereby, the attachment position of an air supply unit can be adjusted easily. In addition, since the opening can be completely closed by the dummy unit, it is possible to easily perform a high-quality surface treatment without hindering the flow of the processing gas regardless of the arrangement of the air supply unit or the like. It becomes possible. Moreover, by unitizing, the position of an air supply unit and a dummy unit can be easily replaced by sharing dimensions with an air supply unit. Therefore, recombination can be performed quickly.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、給気ユニットが、開口部に取り付けられた状態で、一方の主表面との間に所定の隙間を形成する隙間形成面を有するものであってもよい。排気ユニットやダミーユニットをさらに備える場合、これら排気ユニットやダミーユニットについても、隙間形成面を有するものであってもよい。   The glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention has a gap forming surface that forms a predetermined gap with one main surface in a state where the air supply unit is attached to the opening. Also good. When the exhaust unit and the dummy unit are further provided, the exhaust unit and the dummy unit may also have a gap forming surface.

このように開口部に取り付けられる各ユニットに隙間形成面を設けることによって、各ユニットの取り付け位置に関わらず、一方の主表面との間に所定の隙間を形成することができる。これにより、処理ガスの流れに影響を与える隙間の大きさ、形状を常に調整することができるので、良質な表面処理をより安定的に施すことが可能となる。   Thus, by providing a gap forming surface on each unit attached to the opening, it is possible to form a predetermined gap between one main surface regardless of the attachment position of each unit. As a result, the size and shape of the gap that affects the flow of the processing gas can always be adjusted, so that a high-quality surface treatment can be performed more stably.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、給気ユニットが、開口部に取り付けられた状態で、搬送装置により搬送されている板状ガラスの前記一方の主表面を支持するローラを有するものであってもよい。排気ユニットやダミーユニットをさらに備える場合、これら排気ユニットやダミーユニットについても、一方の主表面を支持するローラを有するものであってもよい。   In the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention, the air supply unit has a roller that supports the one main surface of the glass sheet being conveyed by the conveying device in a state where the air supply unit is attached to the opening. It may be. When an exhaust unit or a dummy unit is further provided, these exhaust unit and dummy unit may also have a roller that supports one main surface.

このように、板状ガラスの一方の主表面を支持するローラを各ユニットに設けることによって、これらローラを搬送装置の構成要素として表面処理装置の中に組み込むことができる。これにより、板状ガラスが搬送方向に大きな寸法を有する場合であっても、表面処理装置を通過している部分を確実に支持して、各ユニットとの間に所定の隙間を形成することが可能となる。従って、これによっても良質な表面処理を安定的に施すことが可能となる。   Thus, by providing each unit with a roller that supports one main surface of the sheet glass, these rollers can be incorporated into the surface treatment apparatus as a component of the conveying apparatus. As a result, even if the plate-like glass has a large dimension in the transport direction, it is possible to reliably support the portion passing through the surface treatment apparatus and form a predetermined gap between each unit. It becomes possible. Accordingly, this also makes it possible to stably perform a high-quality surface treatment.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、給気ユニットが、開口部に対して嵌合で取り付けられ、これにより筐体の内部空間を密閉しているものであってもよい。排気ユニットや閉塞ユニットをさらに備える場合、これら排気ユニットやダミーユニットについても、開口部に対して嵌合で取り付けられ、これにより筐体の内部空間を密閉しているものであってもよい。   In the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention, the air supply unit may be attached to the opening by fitting, thereby sealing the internal space of the housing. When the exhaust unit and the closing unit are further provided, the exhaust unit and the dummy unit may also be fitted to the opening so as to seal the internal space of the housing.

このように構成することによって、開口部に対して取り外しが可能なように各ユニットが取り付けられる構成をとる場合であっても、筐体の内部空間を確実に密閉することができる。これにより、隙間における処理ガスの流れを阻害する事態を可及的に回避して表面処理を安定的に施すことができる。また、後述のように、筐体の内部空間を排気ユニットとつないで排気系を構成する場合には、筐体の内部空間を密閉することで所要の排気性能を確保することができる。   With this configuration, the internal space of the housing can be reliably sealed even when each unit is attached so that it can be detached from the opening. Thereby, the situation which obstruct | occludes the flow of the process gas in a clearance gap as much as possible can be avoided as much as possible, and surface treatment can be performed stably. As will be described later, when the exhaust system is configured by connecting the internal space of the housing to the exhaust unit, the required exhaust performance can be ensured by sealing the internal space of the housing.

また、排気ユニットを備える場合、本発明に係るガラス基板の製造装置は、排気ユニットに、一方の主表面と排気ユニットとの間の空間と筐体の内部空間とをつなぐ第一の排気口が設けられ、筐体の内部空間は処理ガス用のスクラバーとつながっているものであってもよい。   In the case where the exhaust unit is provided, the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention includes a first exhaust port that connects the space between one main surface and the exhaust unit and the internal space of the housing to the exhaust unit. The internal space of the housing may be connected to a scrubber for processing gas.

このように筐体の内部空間を処理ガス用のスクラバーとつないだ構成をとることによって、排気ユニットの取り付け位置に関わらず、処理ガスの排気系をより簡素に構成することができる。また、排気されるガスには処理ガスだけでなく外気(通常、空気)も含まれるため、たとえ処理ガスが含まれていたとしてもその濃度は給気時点と比べて低い。よって、耐食性をそれほど考慮することなく筐体の内部空間で排気ユニットからスクラバーに至る排気系を構成することができる。   By adopting a configuration in which the internal space of the housing is connected to the process gas scrubber in this way, the process gas exhaust system can be configured more simply regardless of the mounting position of the exhaust unit. Further, since the exhausted gas includes not only the processing gas but also the outside air (usually air), even if the processing gas is included, its concentration is lower than that at the time of supply. Therefore, an exhaust system from the exhaust unit to the scrubber can be configured in the internal space of the housing without much consideration for corrosion resistance.

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、筐体のうち板状ガラスの搬送方向両端部に、一方の主表面と筐体との間の空間と筐体の内部空間とをつなぐ第二の排気口が設けられ、筐体の内部空間は処理ガス用のスクラバーとをつながっているものであってもよい。   In addition, the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention is a second device for connecting the space between one main surface and the housing and the internal space of the housing to both ends of the housing in the conveyance direction of the sheet glass. The exhaust space may be provided, and the internal space of the housing may be connected to a scrubber for processing gas.

給気口と排気口との位置関係について検討した結果、一又は複数の給気口が板状ガラスの搬送方向中央側に配置されるときに、二つの排気口が板状ガラスの搬送方向両端部に配置される構成をとった場合に、均等な処理ガスの流れが板状ガラスの搬送方向全域(表面処理装置による搬送方向の処理領域の全域)にわたって形成されることが判明した。よって、筐体のうち板状ガラスの搬送方向両端部に、一方の主表面と筐体との間の空間と筐体の内部空間とをつなぐ第二の排気口を設けることによって、処理ガスの装置外への流出を防止しつつ、板状ガラスとの間で良好な処理ガスの流れを形成することが可能となる。これら第二の排出口は何れも筐体に固定された状態にできることから、段替え(各ユニットの置き換え)に影響を及ぼさずに済む。   As a result of examining the positional relationship between the air supply port and the exhaust port, when one or a plurality of air supply ports are disposed on the center side in the sheet glass conveyance direction, the two exhaust ports are at both ends in the sheet glass conveyance direction. It has been found that, when the configuration arranged in the part is adopted, a uniform flow of the processing gas is formed over the entire area of the sheet glass in the conveying direction (the entire area of the processing area in the conveying direction by the surface treatment apparatus). Therefore, by providing second exhaust ports that connect the space between one main surface and the housing and the internal space of the housing at both ends of the housing in the conveyance direction of the plate glass, It is possible to form a good flow of processing gas with the glass sheet while preventing outflow from the apparatus. Since any of these second discharge ports can be fixed to the housing, there is no need to affect the changeover (replacement of each unit).

また、本発明に係るガラス基板の製造装置は、給気ユニットが、筐体に取り付けられた連通管の一端側と接続され、連通管の他端側は、フレキシブルホースを介して筐体の外部に位置する処理ガス発生装置と接続されているものであってもよい。   In the glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention, the air supply unit is connected to one end side of the communication pipe attached to the casing, and the other end side of the communication pipe is connected to the outside of the casing via the flexible hose. It may be connected to a processing gas generator located in the area.

このように構成することによって、通常、筐体の近傍に設置される処理ガス発生装置を固定したままで、給気ユニットの位置替えに容易かつ迅速に対応することができる。よって、段替えが短時間で済むメリットを享受できる。   With this configuration, it is possible to easily and quickly cope with the repositioning of the air supply unit while fixing the processing gas generation device installed in the vicinity of the casing. Therefore, it is possible to enjoy the advantage that the changeover can be completed in a short time.

また、前記課題の解決は、本発明に係るガラス基板の製造方法によっても達成される。すなわち、この製造方法は、ガラス基板となる板状ガラスを所定の方向に搬送する搬送工程と、所定の方向に搬送されている板状ガラスの一方の主表面に所定の表面処理を施す表面処理工程とを備えたガラス基板の製造方法において、表面処理工程は、表面処理装置により所定の方向に搬送されている板状ガラスの一方の主表面に処理ガスを供給することによって行われ、表面処理装置は、筐体と、筐体のうち一方の主表面の側に開口している開口部と、開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、一方の主表面に処理ガスを供給するための給気口を有する一又は複数の給気ユニットとを備え、給気ユニットは、開口部のうち板状ガラスの搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされている点をもって特徴付けられる。   Moreover, the solution of the above problem is also achieved by the method for manufacturing a glass substrate according to the present invention. That is, this manufacturing method includes a transporting process for transporting a sheet glass to be a glass substrate in a predetermined direction, and a surface treatment for performing a predetermined surface treatment on one main surface of the sheet glass transported in a predetermined direction. In the method of manufacturing a glass substrate comprising the steps, the surface treatment step is performed by supplying a treatment gas to one main surface of the plate glass that is being conveyed in a predetermined direction by the surface treatment apparatus, and the surface treatment The apparatus is attached to the casing, an opening opening on one main surface side of the casing, and detachable from the opening, and supplies a processing gas to one main surface. One or a plurality of air supply units having an air supply port, and the air supply unit is characterized by being capable of being attached to a plurality of positions along the sheet glass conveying direction in the opening. It is done.

本発明に係る製造方法によれば、上述した本発明に係る製造装置と同様に、給気ユニットの取り付け位置を変更するだけで、容易に給気口の搬送方向位置を調整することができる。従って、搬送される板状ガラスの種類を変更する必要が生じた場合であっても、容易に最適な処理条件を設定することができ、これにより良質な表面処理を板状ガラスに施すことが可能となる。あるいは、同一種類の板状ガラスであっても、生産状況や製造ラインの他の部分の構成に応じて搬送速度を変更することもあり得るが、そのような場合においても、処理ガスの供給位置を含めた供給条件を容易に設定することができ、良質な表面処理を施すことが可能となる。   According to the manufacturing method according to the present invention, similarly to the above-described manufacturing apparatus according to the present invention, the position in the conveyance direction of the air supply port can be easily adjusted only by changing the mounting position of the air supply unit. Therefore, even when it is necessary to change the type of the sheet glass to be conveyed, it is possible to easily set the optimum processing conditions, and thereby to apply a good surface treatment to the sheet glass. It becomes possible. Or even if it is the same kind of plate glass, the conveyance speed may be changed according to the production status and the configuration of other parts of the production line. The supply conditions including can be easily set, and it becomes possible to perform a good surface treatment.

また、本発明では、表面処理装置の筐体に開口部を設けると共に、この開口部に上記構成の給気ユニットを取り付けるようにしたので、給気ユニットの例えば配管系を含む大部分を筐体の内部空間に配置することができる。これにより表面処理装置を必要以上に大型化させることなく製造ラインに組み込むことができる。また、筐体内部の大部分を空洞にできるので、給気ユニットの取り付け位置が変更され、あるいは追加された場合であっても他の部材との干渉が問題になるおそれもない。   Further, in the present invention, the opening of the surface treatment apparatus is provided with an opening, and the air supply unit having the above-described configuration is attached to the opening. Can be placed in the interior space. As a result, the surface treatment apparatus can be incorporated into the production line without making it unnecessarily large. Further, since most of the inside of the housing can be made hollow, even if the attachment position of the air supply unit is changed or added, there is no possibility that interference with other members becomes a problem.

以上に述べたように、本発明によれば、ガラス基板となる板状ガラスの種類によらず、当該板状ガラスに対して良質な表面処理を施すことが可能となる。   As described above, according to the present invention, a high-quality surface treatment can be performed on the plate glass regardless of the type of the plate glass used as the glass substrate.

本発明の第一実施形態に係るガラス基板の製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing apparatus of the glass substrate which concerns on 1st embodiment of this invention. 図1に示す表面処理装置の要部平面図である。It is a principal part top view of the surface treatment apparatus shown in FIG. 図1に示す表面処理装置の各ユニットを取り外した状態における要部平面図である。It is a principal part top view in the state which removed each unit of the surface treatment apparatus shown in FIG. 図2に示す表面処理装置の要部A−A断面図である。It is principal part AA sectional drawing of the surface treatment apparatus shown in FIG. 図2に示す給気ユニットを矢印Bの向きから見た断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the air supply unit shown in FIG. 図5に示す給気ユニットのC−C断面図である。It is CC sectional drawing of the air supply unit shown in FIG. 図2に示す排気ユニットを矢印Dの向きから見た断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the exhaust unit shown in FIG. 図1に示す表面処理装置を用いた表面処理の一例を説明するための要部拡大図である。It is a principal part enlarged view for demonstrating an example of the surface treatment using the surface treatment apparatus shown in FIG. 本発明の第二実施形態に係るガラス基板の製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing apparatus of the glass substrate which concerns on 2nd embodiment of this invention.

以下、本発明の第一実施形態を図1〜図8を参照して説明する。なお、本実施形態では、板状ガラスとして、成形した帯状板ガラスから所定の寸法に切り出したガラス基板の裏面に表面処理を施す場合を例にとって説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a case will be described as an example in which surface treatment is performed on the back surface of a glass substrate cut out to a predetermined size from a formed strip-shaped plate glass as the plate-shaped glass.

図1は、本発明の第一実施形態に係るガラス基板の製造装置10の一実施形態を示している。この製造装置10は、ガラス基板Pを所定の方向X1に搬送するための搬送装置11と、搬送装置11により搬送されているガラス基板Pの一方の主表面P1(図1でいえば下面)に所定の表面処理を施す表面処理装置12と、搬送装置11及び表面処理装置12を収容する処理槽13とを備える。   FIG. 1 shows an embodiment of a glass substrate manufacturing apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention. The manufacturing apparatus 10 includes a transport device 11 for transporting the glass substrate P in a predetermined direction X1, and one main surface P1 (the lower surface in FIG. 1) of the glass substrate P transported by the transport device 11. A surface treatment device 12 that performs a predetermined surface treatment and a treatment tank 13 that accommodates the transfer device 11 and the surface treatment device 12 are provided.

このうち、表面処理装置12は、ガラス基板Pの一方の主表面P1に処理ガスGaを供給して所定の表面処理を施すためのもので、筐体14と、筐体14との間にガラス基板Pの挿通路15を形成するヘッド部16と、筐体14のうち挿通路15に面する側(本実施形態では上側)に形成される開口部17と、開口部17に取り付けられる給気ユニット18とを主に備える。本実施形態では、表面処理装置12は、給気ユニット18と共に開口部17に取り付けられる排気ユニット19とダミーユニット20a,20bをさらに備えている。以下、各構成要素の詳細を説明する。   Among these, the surface treatment apparatus 12 is for supplying a treatment gas Ga to one main surface P <b> 1 of the glass substrate P to perform a predetermined surface treatment. The head portion 16 that forms the insertion path 15 of the substrate P, the opening 17 that is formed on the side of the housing 14 that faces the insertion path 15 (the upper side in this embodiment), and the air supply that is attached to the opening 17 Unit 18 is mainly provided. In the present embodiment, the surface treatment apparatus 12 further includes an exhaust unit 19 and dummy units 20 a and 20 b that are attached to the opening 17 together with the air supply unit 18. Details of each component will be described below.

筐体14は、図1及び図2に示すように箱状をなすもので、筐体14の上側(ガラス基板Pに面する側)には、ガラス基板Pの搬送方向X1の略全域にわたって開口部17が設けられている。ここで、開口部17は、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bが当接する底部21と、底部21の幅方向(ガラス基板Pの搬送方向X1に直交する向きをいう。以下、本明細書において同じ。)両側に位置する側壁部22と、底部21に設けられ、筐体14の内部空間23を、筐体14の外部空間24(ここでは筐体14の外部空間であって、処理槽13の内部空間をいうものとする。)、特に挿通路15側の空間につなげる連通穴25とを有する。本実施形態では、図3に示すように、連通穴25の周囲にOリング等のシール部材26が配設されており、底部21上に給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bを載置した状態では、連通穴25がふさがれると共に、筐体14の内部空間23が外部空間24に対してシールされた状態となる(図4を参照)。   The housing 14 has a box shape as shown in FIG. 1 and FIG. 2, and the upper side of the housing 14 (side facing the glass substrate P) is open over substantially the entire region in the transport direction X1 of the glass substrate P. A portion 17 is provided. Here, the opening portion 17 refers to a bottom portion 21 where the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20 a and 20 b abut, and a width direction of the bottom portion 21 (a direction orthogonal to the conveyance direction X <b> 1 of the glass substrate P). Hereinafter, the same applies in this specification.) Provided on the side wall portions 22 located on both sides and the bottom portion 21, the internal space 23 of the housing 14 is connected to the external space 24 of the housing 14 (here, the external space of the housing 14). In addition, the inner space of the processing tank 13 is referred to.), And in particular, a communication hole 25 connected to the space on the insertion path 15 side. In this embodiment, as shown in FIG. 3, a seal member 26 such as an O-ring is disposed around the communication hole 25, and the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy unit 20a, In the state where 20b is placed, the communication hole 25 is blocked and the internal space 23 of the housing 14 is sealed with respect to the external space 24 (see FIG. 4).

また、筐体14の、ガラス基板Pの搬送方向X1両端部に排気口形成部材27が取り付けられており、筐体14と排気口形成部材27との間に、幅方向に伸びるスリット状の排気口28が形成されている(図2を参照)。この排気口28は、筐体14の搬送方向X1両端部に設けられた連通穴29(図1を参照)を介して内部空間23につながっており、後述するスクラバー30(図1を参照)による排気を可能としている。   In addition, exhaust port forming members 27 are attached to both ends of the casing 14 in the conveyance direction X1 of the glass substrate P, and a slit-like exhaust gas extending in the width direction between the casing 14 and the exhaust port forming member 27. A mouth 28 is formed (see FIG. 2). The exhaust port 28 is connected to the internal space 23 through communication holes 29 (see FIG. 1) provided at both ends of the casing 14 in the transport direction X1, and is formed by a scrubber 30 (see FIG. 1) described later. Exhaust is possible.

次に、給気ユニット18、排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bの説明を行う。   Next, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20a and 20b will be described.

給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bはそれぞれ、筐体14の開口部17に対して取り外しが可能なように取付けられている。本実施形態では、二つの給気ユニット18と一つの排気ユニット19、及び五つのダミーユニット20a,20bが開口部17の搬送方向X1に沿った所定の位置にそれぞれ取り付けられている(図1を参照)。詳述すると、開口部17のうち搬送方向X1の最も上流側からダミーユニット20b、給気ユニット18、ダミーユニット20a、ダミーユニット20a、ダミーユニット20a、給気ユニット18、排気ユニット19、ダミーユニット20aの順に配設されている。ここで、図2に示すように、各ユニット18〜20aの搬送方向寸法C1〜C3は(最も上流側のダミーユニット20bを除いて)同じであり、かつ幅方向寸法W1〜W3も同じである。この場合、排気口形成部材27を除く筐体14の搬送方向寸法L(図3を参照)は、開口部17に取り付けられる給気ユニット18、排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bの搬送方向寸法C1〜C3の総和(図2を参照)に等しくなっている。また、各ユニット18〜20a,20bは互いに搬送方向X1で当接した状態で開口部17に取り付けられている(図1を参照)。これにより、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20aは、開口部17の搬送方向X1に沿った複数の位置(図示例では最も上流側を除く七つの位置)に対して任意に取り付け可能とされている。   The air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20 a and 20 b are respectively attached to the opening 17 of the housing 14 so as to be removable. In the present embodiment, two air supply units 18, one exhaust unit 19, and five dummy units 20a and 20b are respectively attached to predetermined positions along the conveyance direction X1 of the opening 17 (see FIG. 1). reference). More specifically, the dummy unit 20b, the air supply unit 18, the dummy unit 20a, the dummy unit 20a, the dummy unit 20a, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy unit 20a from the most upstream side in the transport direction X1 in the opening portion 17. Are arranged in this order. Here, as shown in FIG. 2, the conveyance direction dimensions C1 to C3 of the units 18 to 20a are the same (except for the most upstream dummy unit 20b), and the width direction dimensions W1 to W3 are also the same. . In this case, the conveyance direction dimension L (see FIG. 3) of the housing 14 excluding the exhaust port forming member 27 is the conveyance direction of the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20 a and 20 b attached to the opening 17. It is equal to the sum of dimensions C1 to C3 (see FIG. 2). The units 18 to 20a and 20b are attached to the opening 17 in a state where they abut in the transport direction X1 (see FIG. 1). Thereby, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy unit 20a are arbitrarily attached to a plurality of positions (seven positions excluding the most upstream side in the illustrated example) along the transport direction X1 of the opening 17. It is possible.

また、開口部17の幅方向両側に位置する側壁部22の内側面22a,22a間の距離T(図3を参照)は、同じく開口部17に取り付けられる給気ユニット18、排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bの幅方向寸法W1〜W3(図2を参照)にそれぞれ等しい。これにより、各ユニット18〜20a,20bは開口部17に対して例えばインロー嵌合で取り付けられた状態にある(図2及び図4を参照)。以上の取付け態様により、筐体14の内部空間23は外部空間24に対して密閉された状態にある。   Further, the distance T (see FIG. 3) between the inner side surfaces 22a of the side wall portion 22 located on both sides of the opening portion 17 in the width direction (see FIG. 3) is the same as the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the It is equal to the width direction dimensions W1 to W3 (see FIG. 2) of the dummy units 20a and 20b. Thereby, each unit 18-20a, 20b exists in the state attached with the spigot fitting with respect to the opening part 17 (refer FIG.2 and FIG.4). Due to the above attachment mode, the internal space 23 of the housing 14 is sealed with respect to the external space 24.

このうち、給気ユニット18は、図1及び図5に示すように、ガラス基板Pの挿通路15に向けて開口し、ガラス基板Pの一方の主表面P1に向けて処理ガスGaを供給するための給気口31と、処理ガス発生装置32(図1を参照)で発生させた処理ガスGaを給気口31に導入する導入部33とを有する。ここで、給気口31は、例えば図2に示すように、幅方向に伸びるスリット形状をなしており、このスリット形状をなす給気口31の幅方向全域にわたって処理ガスGaを均等に導入できるよう、導入部33は所定形態の導入路34を有する。導入部33の一部は、筐体14の連通穴25を通って内部空間23に位置している。   Among these, the air supply unit 18 opens toward the insertion path 15 of the glass substrate P and supplies the processing gas Ga toward one main surface P1 of the glass substrate P as shown in FIGS. 1 and 5. And an introduction part 33 for introducing the processing gas Ga generated by the processing gas generator 32 (see FIG. 1) into the air supply port 31. Here, for example, as shown in FIG. 2, the air supply port 31 has a slit shape extending in the width direction, and the processing gas Ga can be uniformly introduced over the entire width direction of the air supply port 31 having the slit shape. Thus, the introduction part 33 has an introduction path 34 of a predetermined form. A part of the introduction part 33 is located in the internal space 23 through the communication hole 25 of the housing 14.

図6は、処理ガスGaの導入路34の一形態を示している。この図に示す導入路34は、処理ガス発生装置32側から給気口31側に向けて多段に分岐した形態をなしており、これにより給気口31の幅方向(図6でいえば左右方向)全域にわたって極力均等に処理ガスGaを導入できるようにしている。本実施形態では、二つの導入路34が設けられており、各導入路34の給気口31とは反対側の端部34aに連通管35(図5中、二点鎖線で示している)の一端が接続されている。なお、この際、図5に示すように、端部34aの内周にOリングなどのシール部材36を設けてもよい。連通管35は、図1に示すように、筐体14の開口部17と反対側の部分に形成された複数の管取付け部37(図3を参照)のうち、給気ユニット18の下方に位置する管取付け部37のみに取り付けられている。連通管35の他端には、フレキシブルホース38を介して処理ガス発生装置32が接続されている。連通管35が取り付けられていない管取付け部37には蓋39が取り付けられている。これにより、給気ユニット18の取り付け位置に関係なく、設置固定された状態の処理ガス発生装置32に給気ユニット18を接続可能としている。   FIG. 6 shows an embodiment of the process gas Ga introduction path 34. The introduction path 34 shown in this figure has a form branched in multiple stages from the process gas generator 32 side to the air supply port 31 side, and thereby the width direction of the air supply port 31 (left and right in FIG. 6). Direction) the processing gas Ga can be introduced evenly over the entire region. In the present embodiment, two introduction paths 34 are provided, and a communication pipe 35 (shown by a two-dot chain line in FIG. 5) at an end 34 a of each introduction path 34 opposite to the air supply port 31. Are connected at one end. At this time, as shown in FIG. 5, a seal member 36 such as an O-ring may be provided on the inner periphery of the end portion 34a. As shown in FIG. 1, the communication pipe 35 is disposed below the air supply unit 18 among a plurality of pipe mounting portions 37 (see FIG. 3) formed on the portion of the housing 14 opposite to the opening 17. It is attached only to the tube attachment part 37 located. A processing gas generator 32 is connected to the other end of the communication pipe 35 via a flexible hose 38. A lid 39 is attached to a pipe attachment portion 37 to which the communication pipe 35 is not attached. Thereby, the air supply unit 18 can be connected to the processing gas generator 32 in a fixed state regardless of the mounting position of the air supply unit 18.

排気ユニット19は、図7に示すように、ガラス基板Pの一方の主表面P1に向けて供給された処理ガスGaの排気を行うための排気口40を有する。この排気口40は、筐体14の外部空間24、特にガラス基板Pの一方の主表面P1と排気ユニット19との間の空間を、筐体14の内部空間23につなぐもので、本実施形態では、幅方向に伸びるスリット形状をなしている(図2を参照)。   As shown in FIG. 7, the exhaust unit 19 has an exhaust port 40 for exhausting the processing gas Ga supplied toward one main surface P <b> 1 of the glass substrate P. The exhaust port 40 connects the external space 24 of the housing 14, particularly the space between one main surface P 1 of the glass substrate P and the exhaust unit 19, to the internal space 23 of the housing 14. Then, it has a slit shape extending in the width direction (see FIG. 2).

また、筐体14の内部空間23は、例えば筐体14の下部に設けた連通穴41を介してスクラバー30とつながっている(図1を参照)。これにより、ガラス基板Pの一方の主表面P1に向けて供給された処理ガスGaは、排気ユニット19の排気口40及び筐体14の内部空間23を介してスクラバー30に引き込まれるようになっている。   Moreover, the internal space 23 of the housing | casing 14 is connected with the scrubber 30 through the communication hole 41 provided in the lower part of the housing | casing 14, for example (refer FIG. 1). Thereby, the processing gas Ga supplied toward the one main surface P1 of the glass substrate P is drawn into the scrubber 30 via the exhaust port 40 of the exhaust unit 19 and the internal space 23 of the housing 14. Yes.

また、本実施形態では、排気ユニット19の排気口40に加えて、筐体14の搬送方向両端に排気口28が設けられており、この排気口28は筐体14の内部空間23につながっている(図1を参照)。これにより、挿通路15の搬送方向両端において処理ガスGaあるいは外気が排気口28及び筐体14の内部空間23を介してスクラバー30に引き込まれるようになっている。   In the present embodiment, in addition to the exhaust port 40 of the exhaust unit 19, exhaust ports 28 are provided at both ends in the transport direction of the housing 14, and the exhaust ports 28 are connected to the internal space 23 of the housing 14. (See FIG. 1). As a result, the processing gas Ga or the outside air is drawn into the scrubber 30 through the exhaust port 28 and the internal space 23 of the housing 14 at both ends of the insertion passage 15 in the transport direction.

ダミーユニット20a,20bは、開口部17に取り付けられた給気ユニット18と排気ユニット19の隙間を埋めて、開口部17を塞ぐ目的で取り付けられている。そのため、ダミーユニット20a,20bは、ガラス基板Pの一方の主表面P1側の空間に対して給排気を行うための機能を有していない。   The dummy units 20 a and 20 b are attached for the purpose of closing the opening 17 by filling a gap between the air supply unit 18 and the exhaust unit 19 attached to the opening 17. Therefore, the dummy units 20a and 20b do not have a function for supplying and exhausting air to the space on the one main surface P1 side of the glass substrate P.

なお、本実施形態では、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bは何れも、開口部17に取り付けられた状態で、ガラス基板Pの一方の主表面P1との間に所定の隙間42を形成する隙間形成面43a〜43cを有している(図8を参照)。この際、給気ユニット18の隙間形成面43aは、給気口31の近傍部分をその周囲の部分よりも挿通路15の側に突出させた形態をとっている。この場合、一方の主表面P1と隙間形成面43aとの隙間42は、給気口31の近傍部分で最も小さくなる。   In the present embodiment, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20 a and 20 b are all attached to the opening 17 and are predetermined between the main surface P 1 of the glass substrate P. There are gap forming surfaces 43a to 43c that form the gap 42 (see FIG. 8). At this time, the gap forming surface 43a of the air supply unit 18 takes a form in which a portion in the vicinity of the air supply port 31 is protruded to the insertion passage 15 side from the surrounding portion. In this case, the gap 42 between the one main surface P1 and the gap forming surface 43a is the smallest in the vicinity of the air supply port 31.

また、本実施形態では、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bは何れも、開口部17に取り付けられた状態で、搬送装置11により搬送されているガラス基板Pの一方の主表面P1を支持する支持ローラ44a〜44cを有する。これにより、ガラス基板Pは、搬送装置11の支持ローラ45(図1を参照)と、各ユニット18〜20a,20bに設けられた支持ローラ44a〜44cとで支持されながら所定の方向X1に搬送されるようになっている。   In the present embodiment, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20 a and 20 b are all attached to the opening 17, and one of the glass substrates P being transported by the transport device 11. Supporting rollers 44a to 44c for supporting the main surface P1 are provided. Thus, the glass substrate P is transported in a predetermined direction X1 while being supported by the support roller 45 (see FIG. 1) of the transport device 11 and the support rollers 44a to 44c provided in the units 18 to 20a and 20b. It has come to be.

また、本実施形態では、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20a,20bは何れもヒーター46a〜46cを有している(図8を参照)。これにより、開口部17に取り付けられた状態で、ガラス基板Pの一方の主表面P1との間の隙間42を流れる処理ガスGaの温度を調整可能としている。   In the present embodiment, the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy units 20a and 20b all have heaters 46a to 46c (see FIG. 8). Thereby, in the state attached to the opening part 17, the temperature of the process gas Ga which flows through the clearance gap between one main surface P1 of the glass substrate P can be adjusted.

表面処理の対象となるガラス基板Pには、例えばオーバーフローダウンドロー法に代表されるダウンドロー法や、フロート法などの公知の手段により帯状に成形した板状ガラス(帯状板ガラス)を所定の長手方向寸法に切断した後、必要に応じて二辺もしくは四辺の研磨加工を施したものが用いられる。また、ガラス基板Pの寸法については特に制限はないが、例えば搬送方向X1に沿った向きの寸法は、表面処理装置12の搬送方向寸法(実質的に筐体14の搬送方向寸法L)よりも大きいことが望ましい。   For the glass substrate P to be surface-treated, for example, a plate glass (band plate glass) formed into a band shape by a known means such as a down draw method represented by an overflow down draw method or a float method is used in a predetermined longitudinal direction. After being cut into dimensions, one having two or four sides polished as required is used. Further, although there is no particular limitation on the dimension of the glass substrate P, for example, the dimension in the direction along the transport direction X1 is larger than the transport direction dimension of the surface treatment apparatus 12 (substantially the transport direction dimension L of the housing 14). Larger is desirable.

以上の構成をなす表面処理装置12によれば、例えば以下のような処理ガスGaの流れを作り出して、一方の主表面P1に所定の表面処理を施すことができる。すなわち、図8に示すように、ガラス基板Pが搬送装置11により表面処理装置12の内部(挿通路15)に導入された状態において、処理ガス発生装置32により所定の処理ガスGa、例えばフッ化水素ガスを窒素ガスなどのキャリアガスに混合してなる処理ガスGaを発生させる。そして、この処理ガスGaを、フレキシブルホース38、連通管35、及び導入路34を介して、給気口31から一方の主表面P1との隙間42に供給する。また、スクラバー30により筐体14の内部空間23に対して引き込み力を作用させて、内部空間23とつながる各排気口28,40(図8を参照)を通じて隙間42に供給された処理ガスGaの排気を行う。これにより、隙間42が処理ガスGaで満たされると共に、隙間42内に処理ガスGaの所定の流れが形成される。また、隙間42の搬送方向X1両端に配置された排気口28(図1を参照)により、隙間42の外側、すなわち表面処理装置12の外側への処理ガスGaの漏れ出しが可及的に防止される。もちろん、図示は省略するが、処理槽13に何らかの排気手段を設けて、処理槽13の内部空間に対して所定の排気処理を施すようにしてもよい。   According to the surface treatment apparatus 12 having the above-described configuration, for example, the following flow of the treatment gas Ga can be created to perform a predetermined surface treatment on one main surface P1. That is, as shown in FIG. 8, in a state where the glass substrate P is introduced into the inside of the surface treatment device 12 (insertion passage 15) by the transfer device 11, a predetermined treatment gas Ga, for example, fluorination is performed by the treatment gas generator 32. A processing gas Ga obtained by mixing hydrogen gas with a carrier gas such as nitrogen gas is generated. Then, the processing gas Ga is supplied from the air supply port 31 to the gap 42 between the main surface P <b> 1 through the flexible hose 38, the communication pipe 35, and the introduction path 34. Further, the scrubber 30 applies a pulling force to the internal space 23 of the housing 14, and the processing gas Ga supplied to the gap 42 through the exhaust ports 28 and 40 (see FIG. 8) connected to the internal space 23. Exhaust. Thereby, the gap 42 is filled with the processing gas Ga, and a predetermined flow of the processing gas Ga is formed in the gap 42. Further, the exhaust ports 28 (see FIG. 1) arranged at both ends of the gap 42 in the transport direction X1 prevent the processing gas Ga from leaking outside the gap 42, that is, outside the surface treatment apparatus 12 as much as possible. Is done. Of course, although not shown in the figure, a certain exhausting means may be provided in the processing tank 13 to perform a predetermined exhausting process on the internal space of the processing tank 13.

このようにして、処理ガスGaの供給を継続しながら、挿通路15にガラス基板Pを導入していき、挿通路15をガラス基板Pが通過し終えることで、一方の主表面P1への処理ガスGaによる表面処理が完了する。そして、この処理により一方の主表面P1の粗面化が図られる一方、他方の主表面P2(図8でいえば上面)の表面性状及び表面精度は維持される。一例として、上記粗面化を表面粗さRaの変化で説明すると、上記表面処理の前後で、一方の主表面P1の表面粗さRa[nm]が0.1nm以上でかつ1.8nm以下の範囲で向上(ここでは増加)するように、より好ましくは0.1nm以上でかつ0.8nm以下の範囲で向上するように、処理ガスGaによる一方の主表面P1への表面処理条件が設定されるのがよい。上記範囲で、一方の主表面P1の表面粗さRaが向上することで、表面処理以後の製造工程において、ガラス基板Pが実質的に問題となるレベルの帯電を生じる事態を回避することが可能となる。なお、ここでいう表面粗さRa[nm]は、JIS R 1683:2007を準用する方法で測定することで得られた値をいう。   In this way, the glass substrate P is introduced into the insertion passage 15 while continuing the supply of the processing gas Ga, and the glass substrate P finishes passing through the insertion passage 15, thereby processing the one main surface P <b> 1. Surface treatment with gas Ga is completed. By this treatment, one main surface P1 is roughened, while the surface properties and surface accuracy of the other main surface P2 (upper surface in FIG. 8) are maintained. As an example, the roughening will be described by the change of the surface roughness Ra. The surface roughness Ra [nm] of one main surface P1 is 0.1 nm or more and 1.8 nm or less before and after the surface treatment. Surface treatment conditions for one main surface P1 by the processing gas Ga are set so as to improve (in this case, increase) in a range, more preferably in a range of 0.1 nm or more and 0.8 nm or less. It is better. By improving the surface roughness Ra of one main surface P1 within the above range, it is possible to avoid a situation in which the glass substrate P generates a substantially problematic level of charging in the manufacturing process after the surface treatment. It becomes. In addition, surface roughness Ra [nm] here says the value obtained by measuring by the method of applying JISR1683: 2007 mutatis mutandis.

このように、本発明の第一実施形態に係る製造装置10においては、搬送装置11で搬送されているガラス基板Pの一方の主表面P1に処理ガスGaを供給するための給気口31を有する部材をユニット化して、ガラス基板Pの搬送方向X1に沿った複数の位置に取り付け可能とした。このように構成することによって、給気ユニット18の取り付け位置を変更するだけで、容易に給気口31の搬送方向X1の位置を調整することができる。従って、搬送されるガラス基板Pの種類を変更する必要が生じた場合であっても、容易に最適な処理条件を設定することができ、これにより良質な表面処理をガラス基板Pに施すことが可能となる。あるいは、同一種類のガラス基板Pであっても、生産状況や製造ラインの他の部分の構成に応じて搬送装置11による搬送速度を変更することもあり得るが、そのような場合においても、処理ガスGaの供給位置を含めた供給条件を容易に設定することができ、良質な表面処理を施すことが可能となる。   As described above, in the manufacturing apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention, the air supply port 31 for supplying the processing gas Ga to the one main surface P1 of the glass substrate P being transferred by the transfer apparatus 11 is provided. The member which has is unitized and can be attached to a plurality of positions along the conveyance direction X1 of the glass substrate P. With this configuration, the position of the air supply port 31 in the transport direction X1 can be easily adjusted simply by changing the mounting position of the air supply unit 18. Therefore, even when it is necessary to change the type of the glass substrate P to be transported, it is possible to easily set the optimum processing conditions, and thereby to perform a good surface treatment on the glass substrate P. It becomes possible. Or even if it is the glass substrate P of the same kind, although the conveyance speed by the conveying apparatus 11 may be changed according to a production condition or the structure of the other part of a manufacturing line, in such a case, processing is also possible. The supply conditions including the supply position of the gas Ga can be easily set, and it becomes possible to perform a good surface treatment.

また、本実施形態では、その筐体14に開口部17を設けると共に、この開口部17に上記構成の給気ユニット18を取り付けるようにしたので、給気ユニットの導入路34を含む大部分を筐体14の内部空間23に配置することができる。これにより表面処理装置12を必要以上に大型化させることなく製造ラインに組み込むことができる。また、筐体14内部の大部分を空洞にできるので、給気ユニット18の取り付け位置が変更され、あるいは追加された場合であっても他の部材との干渉が問題になるおそれもない。   In the present embodiment, the opening 14 is provided in the casing 14, and the air supply unit 18 having the above-described configuration is attached to the opening 17. Therefore, most of the air supply unit including the introduction path 34 is provided. It can be arranged in the internal space 23 of the housing 14. Thereby, the surface treatment apparatus 12 can be incorporated in a production line without enlarging the size more than necessary. Further, since most of the inside of the housing 14 can be made hollow, even if the mounting position of the air supply unit 18 is changed or added, there is no possibility that interference with other members becomes a problem.

また、本実施形態では、排気口28,40を筐体14の内部空間23とつなぐと共に、この内部空間23をスクラバー30につなぐようにした。このように、筐体14の内部空間23を排気系の一部として構成することによって、排気ユニット19の取り付け位置を変更するだけで、容易に排気口40をスクラバー30につなぐことができる。また、内部空間23を排気系の一部とすることによって、給気ユニット18の取り付け位置を変更する場合であっても、給気系と排気系とが干渉するおそれはない。よって、給気ユニット18と連通管35の取り付け位置を変更するだけで、容易に給気口31の位置を変更することが可能となる。   In the present embodiment, the exhaust ports 28 and 40 are connected to the internal space 23 of the housing 14, and the internal space 23 is connected to the scrubber 30. Thus, by configuring the internal space 23 of the housing 14 as a part of the exhaust system, the exhaust port 40 can be easily connected to the scrubber 30 only by changing the mounting position of the exhaust unit 19. Moreover, even if the mounting position of the air supply unit 18 is changed by making the internal space 23 a part of the exhaust system, there is no possibility that the air supply system and the exhaust system interfere with each other. Therefore, it is possible to easily change the position of the air supply port 31 only by changing the attachment position of the air supply unit 18 and the communication pipe 35.

以上、本発明の第一実施形態に係るガラス基板Pの製造装置10及び製造方法を説明したが、これら製造装置10及び製造方法は、当然に本発明の範囲内において任意の形態を採ることができる。   As mentioned above, although the manufacturing apparatus 10 and the manufacturing method of the glass substrate P which concern on 1st embodiment of this invention were demonstrated, these manufacturing apparatuses 10 and a manufacturing method naturally can take arbitrary forms within the scope of the present invention. it can.

例えば、第一実施形態では、二つの給気ユニット18と一つの排気ユニット19、及び五つのダミーユニット20a,20bを開口部17に取り付けた場合を例示したが、もちろん給気ユニット18の位置だけでなく数を変更することも可能である。図9は、その一例(本発明の第二実施形態)に係るガラス基板Pの製造装置50の断面図を示している。図9に示すように、この製造装置50は、第一実施形態と同様、搬送装置11と、表面処理装置51と、処理槽13とを備える一方で、表面処理装置51の構成が第一実施形態に係る表面処理装置12と異なっている。具体的には、この表面処理装置51は、三つの給気ユニット18と、五つのダミーユニット20a,20bを筐体14の開口部17に取り付けてなる。第一実施形態との比較でいえば、上流側(図1及び図9でいえば左側)から四番目のダミーユニット20aを給気ユニット18に置き換えると共に、上流側から七番目の排気ユニット19をダミーユニット20aに置き換えた形態をなしている。   For example, in the first embodiment, the case where two air supply units 18, one exhaust unit 19, and five dummy units 20 a and 20 b are attached to the opening portion 17 is illustrated, but of course only the position of the air supply unit 18. It is also possible to change the number instead. FIG. 9 shows a cross-sectional view of a glass substrate P manufacturing apparatus 50 according to an example (second embodiment of the present invention). As shown in FIG. 9, this manufacturing apparatus 50 includes a transfer device 11, a surface treatment device 51, and a treatment tank 13, as in the first embodiment, while the configuration of the surface treatment device 51 is the first embodiment. It differs from the surface treatment apparatus 12 which concerns on a form. Specifically, the surface treatment apparatus 51 is configured by attaching three air supply units 18 and five dummy units 20 a and 20 b to the opening 17 of the housing 14. In comparison with the first embodiment, the fourth dummy unit 20a from the upstream side (left side in FIGS. 1 and 9) is replaced with the air supply unit 18, and the seventh exhaust unit 19 from the upstream side is replaced. The configuration is replaced with a dummy unit 20a.

このように、給気ユニット18の数を増やすことによって、給気ユニット18(給気口31)一つ当たりが負担する一方の主表面P1の処理面積を小さくすることができる。よって、例えば給気口31,31間に、処理ガスGaが停滞してその濃度が低下している領域を極力生じさせることなく、均等かつ十分な質の表面処理を一方の主表面P1に施すことができる。また、本実施形態のように、筐体14の搬送方向X1の両端に一対の排気口28を配設した形態をとるのであれば、図9に示すように、排気ユニット19の数を零にした構成をとったとしても、処理ガスGaの表面処理装置51外への漏れ出しを可及的に防止することができるため、特に問題はない。   In this way, by increasing the number of the air supply units 18, the processing area of one main surface P1 that one air supply unit 18 (air supply port 31) bears can be reduced. Therefore, for example, a uniform and sufficient surface treatment is performed on one main surface P1 without generating a region where the concentration of the processing gas Ga is stagnant between the air supply ports 31 and 31 and the concentration thereof decreases. be able to. Further, as in this embodiment, if a configuration is adopted in which a pair of exhaust ports 28 are provided at both ends of the casing 14 in the transport direction X1, the number of exhaust units 19 is reduced to zero as shown in FIG. Even if the configuration described above is adopted, there is no particular problem because the leakage of the processing gas Ga to the outside of the surface processing apparatus 51 can be prevented as much as possible.

また、以上の説明では、開口部17として、一つの搬送方向X1に連続した空間が底部21上に存在している場合を例示したが、もちろんこれ以外の構成をとることも可能である。例えば上記実施形態のように、給気ユニット18と排気ユニット19、及びダミーユニット20aの搬送方向寸法C1〜C3と幅方向寸法W1〜W3が何れも等しい場合には、幅方向に伸びる仕切り壁(図示は省略)を、一対の側壁部22,22をつなぐように設け、これら仕切り壁と側壁部22,22とで区画される複数のユニット収容部(図示は省略)に各ユニット18〜20aを選択配置するようにしてもかまわない。   In the above description, a case where the opening 17 has a continuous space on the bottom 21 in the one conveyance direction X1 is exemplified, but it is of course possible to adopt other configurations. For example, as in the above-described embodiment, when the conveyance direction dimensions C1 to C3 and the width direction dimensions W1 to W3 of the air supply unit 18, the exhaust unit 19, and the dummy unit 20a are all equal, a partition wall ( (Not shown) is provided so as to connect the pair of side wall portions 22, 22, and the units 18 to 20 a are arranged in a plurality of unit housing portions (not shown) partitioned by these partition walls and the side wall portions 22, 22. It is also possible to select and arrange them.

また、上記実施形態では、各排気口28,40は筐体14の内部空間23を介してスクラバー30につながった構成をなしているが、もちろんこれ以外の構成をとることも可能である。例えば筐体14の側部に設けた連通穴29と筐体14の底部に設けた連通穴41とを所定の配管で接続することにより、排気口28とスクラバー30とをつなぐようにしてもよい。この場合、筐体14の内部は空洞でなくてもよく、各ユニット18〜20aとの干渉を回避できる限りにおいて、任意の構造をとることが可能である。   Moreover, in the said embodiment, although each exhaust port 28 and 40 has comprised the structure connected to the scrubber 30 via the internal space 23 of the housing | casing 14, of course, it can also take another structure. For example, the exhaust hole 28 and the scrubber 30 may be connected by connecting the communication hole 29 provided on the side of the housing 14 and the communication hole 41 provided on the bottom of the housing 14 with a predetermined pipe. . In this case, the inside of the housing 14 does not have to be a cavity, and can have any structure as long as interference with the units 18 to 20a can be avoided.

また、以上の説明では、帯状板ガラスから切り出したガラス基板Pの一方の主表面P1に対して所定の表面処理を施す場合を説明したが、もちろん帯状板ガラスの何れか一方の主表面に本発明を適用することも可能である。すなわち、図示は省略するが、帯状に成形して幅方向に切断した後、その長手方向一端又は両端を巻き取ったガラスフィルム表裏一方の面のみに表面処理を実施する場合にも上述した構成に係る表面処理を好適に施すことが可能である。   In the above description, the case where a predetermined surface treatment is applied to one main surface P1 of the glass substrate P cut out from the strip-shaped plate glass has been described. Of course, the present invention is applied to any one main surface of the strip-shaped plate glass. It is also possible to apply. In other words, although not shown in the drawings, the structure described above is also applied to the case where surface treatment is performed only on one surface of the front and back surfaces of the glass film which is formed in a strip shape and cut in the width direction and wound up at one or both ends in the longitudinal direction. Such surface treatment can be suitably performed.

10,50 ガラス基板の製造装置
11 搬送装置
12,51 表面処理装置
13 処理槽
14 筐体
15 挿通路
16 ヘッド部
17 開口部
18 給気ユニット
19 排気ユニット
20a,20b ダミーユニット
21 底部
22 側壁部
23 内部空間
24 外部空間
25,29,41 連通穴
26 シール部材
27 排気口形成部材
28,40 排気口
30 スクラバー
31 給気口
32 処理ガス発生装置
33 導入部
34 導入路
35 連通管
36 シール部材
37 管取付け部
38 フレキシブルホース
39 蓋
42 隙間
43a,43b,43c 隙間形成面
44a,44b,44c,45 支持ローラ
Ga 処理ガス
P ガラス基板
X1 搬送方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,50 Glass substrate manufacturing apparatus 11 Conveyance apparatus 12,51 Surface treatment apparatus 13 Processing tank 14 Case 15 Insertion path 16 Head part 17 Opening part 18 Air supply unit 19 Exhaust unit 20a, 20b Dummy unit 21 Bottom part 22 Side wall part 23 Internal space 24 External space 25, 29, 41 Communication hole 26 Seal member 27 Exhaust port forming members 28, 40 Exhaust port 30 Scrubber 31 Air supply port 32 Process gas generator 33 Introducing section 34 Introductory path 35 Communication pipe 36 Seal member 37 Pipe Mounting portion 38 Flexible hose 39 Lid 42 Gap 43a, 43b, 43c Gap forming surfaces 44a, 44b, 44c, 45 Support roller Ga Processing gas P Glass substrate X1 Transport direction

Claims (10)

ガラス基板となる板状ガラスを所定の方向に搬送する搬送装置と、
前記搬送装置で搬送されている前記板状ガラスの一方の主表面に処理ガスを供給して所定の表面処理を施す表面処理装置とを備えたガラス基板の製造装置において、
前記表面処理装置は、筐体と、
前記筐体のうち前記一方の主表面の側に開口している開口部と、
前記開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、前記一方の主表面に前記処理ガスを供給するための給気口を有する一又は複数の給気ユニットとを備え、
前記給気ユニットは、前記開口部のうち前記板状ガラスの搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされていることを特徴とするガラス基板の製造装置。
A transport device for transporting the glass sheet serving as the glass substrate in a predetermined direction;
In a glass substrate manufacturing apparatus comprising a surface treatment apparatus for supplying a treatment gas to one main surface of the plate glass being conveyed by the conveyance apparatus and performing a predetermined surface treatment,
The surface treatment apparatus includes a housing,
An opening opening on the one main surface side of the housing;
One or a plurality of air supply units that are detachably attached to the opening and have an air supply port for supplying the processing gas to the one main surface;
The said air supply unit can be attached to the several position along the conveyance direction of the said sheet glass among the said opening parts, The manufacturing apparatus of the glass substrate characterized by the above-mentioned.
前記開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、前記処理ガスの排気を行う排気ユニットをさらに備え、前記排気ユニットは、前記開口部のうち前記搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされている請求項1に記載のガラス基板の製造装置。   An exhaust unit that is detachably attached to the opening and that exhausts the processing gas is further provided, and the exhaust unit can be attached to a plurality of positions along the transport direction in the opening. The apparatus for manufacturing a glass substrate according to claim 1. 前記排気ユニットには、前記一方の主表面と前記排気ユニットとの間の空間と前記筐体の内部空間とをつなぐ第一の排気口が設けられ、前記筐体の内部空間は前記処理ガス用のスクラバーとつながっている請求項2に記載のガラス基板の製造装置。   The exhaust unit is provided with a first exhaust port that connects a space between the one main surface and the exhaust unit and an internal space of the housing, and the internal space of the housing is used for the processing gas. The glass substrate manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the apparatus is connected to the scrubber. 前記開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、前記開口部を塞ぐダミーユニットをさらに備え、前記ダミーユニットは、前記開口部のうち前記搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされている請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   It further includes a dummy unit that is detachably attached to the opening and closes the opening, and the dummy unit can be attached to a plurality of positions along the transport direction in the opening. The manufacturing apparatus of the glass substrate as described in any one of Claims 1-3. 前記給気ユニットは、前記開口部に取り付けられた状態で、前記一方の主表面との間に所定の隙間を形成する隙間形成面を有する請求項1〜4の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   The glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the air supply unit has a gap forming surface that forms a predetermined gap with the one main surface in a state of being attached to the opening. Board manufacturing equipment. 前記給気ユニットは、前記開口部に取り付けられた状態で、前記搬送装置により搬送されている前記板状ガラスの前記一方の主表面を支持するローラを有する請求項1〜5の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   The said air supply unit has a roller which supports the said one main surface of the said sheet glass currently conveyed by the said conveying apparatus in the state attached to the said opening part. The manufacturing apparatus of the glass substrate of description. 前記給気ユニットは、前記開口部に対して嵌合で取り付けられ、これにより前記筐体の内部空間を密閉している請求項1〜6の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   The said air supply unit is a manufacturing apparatus of the glass substrate as described in any one of Claims 1-6 attached by fitting with respect to the said opening part, and sealing the internal space of the said housing | casing by this. 前記筐体のうち前記板状ガラスの搬送方向両端部に、前記一方の主表面と前記筐体との間の空間と前記筐体の内部空間とをつなぐ第二の排気口が設けられ、前記筐体の内部空間は前記処理ガス用のスクラバーとをつながっている請求項1〜7の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   Second exhaust ports that connect the space between the one main surface and the housing and the internal space of the housing are provided at both ends of the housing in the conveyance direction of the plate glass, The glass substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein an internal space of the housing is connected to the processing gas scrubber. 前記給気ユニットは、前記筐体に取り付けられた連通管の一端側と接続され、前記連通管の他端側は、フレキシブルホースを介して、前記筐体の外部に位置する処理ガス発生装置と接続されている請求項1〜8の何れか一項に記載のガラス基板の製造装置。   The air supply unit is connected to one end side of a communication pipe attached to the casing, and the other end side of the communication pipe is connected to a processing gas generator located outside the casing via a flexible hose. The manufacturing apparatus of the glass substrate as described in any one of Claims 1-8 connected. ガラス基板となる板状ガラスを所定の方向に搬送する搬送工程と、
前記所定の方向に搬送されている前記板状ガラスの一方の主表面に所定の表面処理を施す表面処理工程とを備えたガラス基板の製造方法において、
前記表面処理工程は、表面処理装置により前記所定の方向に搬送されている前記板状ガラスの前記一方の主表面に処理ガスを供給することによって行われ、
前記表面処理装置は、筐体と、
前記筐体のうち前記一方の主表面の側に開口している開口部と、
前記開口部に対して取り外しが可能なように取り付けられ、前記一方の主表面に前記処理ガスを供給するための給気口を有する一又は複数の給気ユニットとを備え、
前記給気ユニットは、前記開口部のうち前記板状ガラスの搬送方向に沿った複数の位置に取り付け可能とされていることを特徴とするガラス基板の製造方法。
A transporting process for transporting a glass sheet serving as a glass substrate in a predetermined direction;
In the manufacturing method of a glass substrate provided with the surface treatment process which performs predetermined surface treatment on one main surface of the sheet glass conveyed in the predetermined direction,
The surface treatment step is performed by supplying a treatment gas to the one main surface of the sheet glass that is being conveyed in the predetermined direction by a surface treatment device,
The surface treatment apparatus includes a housing,
An opening opening on the one main surface side of the housing;
One or a plurality of air supply units that are detachably attached to the opening and have an air supply port for supplying the processing gas to the one main surface;
The said air supply unit can be attached to the several position along the conveyance direction of the said sheet glass among the said opening parts, The manufacturing method of the glass substrate characterized by the above-mentioned.
JP2016223248A 2016-11-16 2016-11-16 Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method Active JP6665760B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223248A JP6665760B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method
PCT/JP2017/037958 WO2018092506A1 (en) 2016-11-16 2017-10-20 Production device and production method for glass substrate
KR1020197016656A KR102312556B1 (en) 2016-11-16 2017-10-20 Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method
CN201780070959.4A CN109963820B (en) 2016-11-16 2017-10-20 Glass substrate manufacturing device and manufacturing method
TW106137517A TWI722251B (en) 2016-11-16 2017-10-31 Manufacturing device and manufacturing method of glass substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223248A JP6665760B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018080079A true JP2018080079A (en) 2018-05-24
JP6665760B2 JP6665760B2 (en) 2020-03-13

Family

ID=62146441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016223248A Active JP6665760B2 (en) 2016-11-16 2016-11-16 Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6665760B2 (en)
KR (1) KR102312556B1 (en)
CN (1) CN109963820B (en)
TW (1) TWI722251B (en)
WO (1) WO2018092506A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021006714A1 (en) 2019-07-11 2021-01-14 주식회사 굳티셀 Composition for preventing, ameliorating or treating immune checkpoint inhibitor-resistant cancer

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004079961A (en) * 2002-08-22 2004-03-11 Mitsubishi Materials Corp Silicon electrode plate for plasma etching
JP2009088232A (en) * 2007-09-28 2009-04-23 Tokyo Electron Ltd Gas supply apparatus
JP2013157418A (en) * 2012-01-30 2013-08-15 Sumitomo Precision Prod Co Ltd Etching device
JP2014125414A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Nippon Electric Glass Co Ltd Surface treatment apparatus and surface treatment method of tabular glass
WO2015045405A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 日本板硝子株式会社 Method for producing glass sheet
WO2015115100A1 (en) * 2014-01-31 2015-08-06 日本板硝子株式会社 Process for producing glass plate, and glass plate
JP2016064926A (en) * 2013-02-07 2016-04-28 旭硝子株式会社 Glass manufacturing method

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4381160B2 (en) * 2003-07-16 2009-12-09 積水化学工業株式会社 Surface treatment equipment
JP4312001B2 (en) * 2003-07-28 2009-08-12 リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社 Substrate support device and substrate removal method
JP4398262B2 (en) * 2004-01-08 2010-01-13 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
US20100212832A1 (en) * 2005-12-28 2010-08-26 Sharp Kabushiki Kaisha Stage device and plasma treatment apparatus
JP5235293B2 (en) * 2006-10-02 2013-07-10 東京エレクトロン株式会社 Process gas supply mechanism, process gas supply method, and gas processing apparatus
CN102473627B (en) * 2009-07-23 2014-11-05 夏普株式会社 Wet etching apparatus and wet etching method
JP5874393B2 (en) * 2011-12-28 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 Glass plate processing apparatus and processing method thereof
JP2014080331A (en) 2012-10-17 2014-05-08 Asahi Glass Co Ltd Method for producing anti-reflective glass
WO2014123089A1 (en) * 2013-02-07 2014-08-14 旭硝子株式会社 Glass manufacturing method
KR101413626B1 (en) * 2013-12-31 2014-08-06 김호권 Manufacturing Apparatus and Process of Glass Plate using Chemical Reinforcement
KR102135740B1 (en) * 2014-02-27 2020-07-20 주식회사 원익아이피에스 Substrate process apparatus
CN106233433B (en) * 2014-04-16 2019-03-05 Agc株式会社 Etaching device, engraving method, the manufacturing method of substrate and substrate

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004079961A (en) * 2002-08-22 2004-03-11 Mitsubishi Materials Corp Silicon electrode plate for plasma etching
JP2009088232A (en) * 2007-09-28 2009-04-23 Tokyo Electron Ltd Gas supply apparatus
JP2013157418A (en) * 2012-01-30 2013-08-15 Sumitomo Precision Prod Co Ltd Etching device
JP2014125414A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Nippon Electric Glass Co Ltd Surface treatment apparatus and surface treatment method of tabular glass
JP2016064926A (en) * 2013-02-07 2016-04-28 旭硝子株式会社 Glass manufacturing method
WO2015045405A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 日本板硝子株式会社 Method for producing glass sheet
WO2015115100A1 (en) * 2014-01-31 2015-08-06 日本板硝子株式会社 Process for producing glass plate, and glass plate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190084098A (en) 2019-07-15
CN109963820A (en) 2019-07-02
KR102312556B1 (en) 2021-10-14
TW201829339A (en) 2018-08-16
JP6665760B2 (en) 2020-03-13
TWI722251B (en) 2021-03-21
CN109963820B (en) 2021-12-31
WO2018092506A1 (en) 2018-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6048817B2 (en) Sheet glass surface treatment apparatus and surface treatment method
JP4233348B2 (en) Plasma process equipment
TWI471452B (en) A plasma processing apparatus, and a processing gas supply apparatus for use therewith
US20080006206A1 (en) Winding Type Plasma Cvd Apparatus
JP5486249B2 (en) Deposition method
JP5542488B2 (en) Deposition equipment
JP5077748B2 (en) Deposition equipment
US9890998B2 (en) Substrate heating apparatus
JP2009179427A (en) Conveying device and vacuum film deposition device
WO2018092506A1 (en) Production device and production method for glass substrate
US11062883B2 (en) Atomic layer deposition apparatus
JP2011143387A (en) Gravure coating apparatus
JP5708148B2 (en) Reactive sputtering apparatus and reactive sputtering method
JP6270176B2 (en) Sheet glass surface treatment apparatus and surface treatment method
US20190185998A1 (en) Plasma atomic layer deposition apparatus and atomic layer deposition method
JP4656580B2 (en) Coating device
JP2002231642A (en) Plasma processor, plasma-processing machine and plasma- processing method
JP7286477B2 (en) Thin film forming equipment
CN105742205A (en) Substrate processing chamber and semiconductor processing equipment
JP2005026062A (en) Plasma process device
JP2015170680A (en) Cvd apparatus and cvd method
KR101439781B1 (en) Glass discharge coating device
KR20070060690A (en) Semiconductor apparatus using plasma
JPH11297598A (en) Substrate treatment apparatus
JP2008181800A (en) Plasma process device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190409

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200203

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6665760

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150