KR101439781B1 - Glass discharge coating device - Google Patents

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KR101439781B1 KR1020130076555A KR20130076555A KR101439781B1 KR 101439781 B1 KR101439781 B1 KR 101439781B1 KR 1020130076555 A KR1020130076555 A KR 1020130076555A KR 20130076555 A KR20130076555 A KR 20130076555A KR 101439781 B1 KR101439781 B1 KR 101439781B1
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박태수
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    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation

Abstract

The present invention related a glass coating device, and more particularly, to a glass coating device comprising: a vacuum chamber having a coating space therein; a vacuum unit evacuating the coating space of the vacuum chamber; a supporter accommodated in the coating space of the vacuum chamber, and supporting a glass to be coated, a target disposed in the coating space of the vacuum chamber; a discharge means discharging the target through electric power applied; and a connection unit, of which one end is connected to the vacuum unit, and of which the other end is connected to the vacuum chamber to maintain the coating space portion to be in a vacuum state or an atmospheric state, wherein the other end has a connection part connected to an upper central portion of the vacuum chamber. The glass is supported at both sides of the supporter, wherein an upper end of each glass is inclined in a mutual direction and disposed below the connection unit, so that when the coating space of the vacuum chamber is maintained in a vacuum state or in an atmospheric state, the supported glass is prevented from being freely moved. According to the present invention described above, the vacuum chamber is changed into a vacuum state or an atmospheric state, and air is suctioned or supplied to upper sides of a pair of glasses that are symmetrically supported, so that an ionized target can be supplied without freely moving the supported glass, thereby reducing working time and improving quality.

Description

유리 코팅장치{Glass discharge coating device}Glass discharge coating device

본 발명은 유리 코팅장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공상태에서 대칭되도록 거치된 한 쌍의 유리를 코팅시키되, 진공상태 또는 대기상태 유지시, 거치된 유리를 유동시키지 않고, 이온화된 타겟을 신속하게 배출시켜 작업시간을 단축시키며, 제품 품질을 향상시킬 수 있는 유리 코팅장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a glass coating apparatus, and more particularly, to a glass coating apparatus in which a pair of glasses which are symmetrically mounted in a vacuum state is coated, To a glass coating apparatus capable of shortening the working time and improving the product quality.

일반적으로, 유리를 코팅시키는 방법은 플라스마(Plasma)를 이용하는 스퍼터링 방법과 방전에 의해 코팅방법으로 구분된다.Generally, the method of coating glass is divided into a sputtering method using a plasma and a coating method using a discharge method.

여기서, 스퍼터링에 의한 방법은 등록특허 제10-0822872호에서 개진된 바와 같으며, 균일하게 코팅층을 형성하여 정밀도를 향상시킬 수 있다.Here, the method by sputtering is as disclosed in Japanese Patent No. 10-0822872, and the coating layer can be uniformly formed to improve the precision.

그러나 스퍼터링에 의한 방법은 챔버 내부에 플라즈마를 형성시켜야 됨에 따라 구성이 복잡하고, 시간이 오래걸리며, 비용이 높은 단점이 있다.However, the method using sputtering has a disadvantage in that the plasma is formed inside the chamber, which is complicated in configuration, takes a long time, and is expensive.

한편, 비교적 정밀도를 요하지 않는 유리의 경우, 시간과 비용을 절감시키기 위해 방전에 의한 코팅방법이 사용되고 있다.On the other hand, in the case of glass which does not require a comparatively high precision, a discharge coating method is used to save time and cost.

도 1은 종래 유리 코팅장치를 도시한 도면이고, 도 2는 종래 유리 코팅장치의 작동상태를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a view showing a conventional glass coating apparatus, and FIG. 2 is a view showing an operating state of a conventional glass coating apparatus.

도면에서 도시한 바와 같이, 진공챔버(2)를 진공시키거나 대기상태로 형성하기 위한 진공부(3)가 구비되되, 진공부(3)와 진공챔버(2)를 연결하는 연결부(5)가 진공챔버(2)의 측면으로 연결된다.As shown in the drawing, the vacuum chamber 2 is provided with a vacuum chamber 3 for vacuuming or forming a vacuum chamber 2, and a connection part 5 for connecting the vacuum chamber 2 with the vacuum chamber 3 And is connected to the side surface of the vacuum chamber 2.

이와 같이, 연결부(5)가 진공챔버(2)의 측면에 설치될 경우, 도 2에서 도시한 바와 같이, 진공 또는 대기상태 형성 시, 거치된 유리(20)를 유동시키게 되어 불량이 발생될 수 있다.When the connection part 5 is provided on the side surface of the vacuum chamber 2, as shown in FIG. 2, when the vacuum state or the vacuum state is formed, the glass 20 which has been immobilized flows, have.

특히, 방전에 의해 이온화된 타겟(미 도시)을 배출시킬 경우, 편심 설치된 연결부(5)를 통해 배출됨에 따라 반대편 모서리부에 위치된 이온화된 타겟의 배출이 용이하지 않는 문제점이 있다.Particularly, when discharging the ionized target (not shown) by discharging, it is difficult to discharge the ionized target located at the opposite corner part as it is discharged through the eccentrically installed connection part 5.

이러한 타겟을 완전히 배출시키기 위해 배출시간이 더 소요되며, 타겟이 잔존할 경우, 다음 작업할 유리에 증착되는 등의 현상이 발생되어 유리 품질을 저하시키는 것이다.In order to completely discharge such a target, it takes more time to discharge, and when the target remains, a phenomenon such as deposition on the next glass to be worked is generated and the glass quality is lowered.

이에 따라, 방전에 의해 유리를 코팅시키되, 진공 또는 대기상태 형성 시, 유리의 유동을 방지하고, 코팅되지 않은 이온화된 타겟을 단시간에 용이하게 배출시킬 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.
Accordingly, there is an urgent need to develop a technique for coating a glass by discharging, preventing the flow of glass when forming vacuum or atmospheric state, and discharging an uncoated ionized target in a short time. to be.

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로써, 진공챔버의 코팅공간부에 한 쌍의 유리와 타겟을 위치시키고, 인가되는 전원에 의해 타겟을 방전시키는 방전수단 및 일단부는 진공부에 연결되고, 타단부는 진공챔버에 연결되어 코팅공간부를 진공상태로 유지시키거나 대기상태를 유지시키도록 연결시키되, 타단부는 진공챔버의 상단 중앙부에 연결되는 연결부로 구성되어 대칭되도록 거치된 한 쌍의 유리 상측에서 공기를 흡입하거나 공급하여 거치된 유리를 유동시키지 않고, 이온화된 타겟을 균일하게 배출시킬 수 있어 작업시간을 단축시키며, 품질을 향상시킬 수 있는 유리 코팅장치를 제공하는 것이 목적이다.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a plasma display apparatus and a plasma display apparatus in which a pair of glass and a target are placed in a coating space of a vacuum chamber, And the other end is connected to the vacuum chamber so as to keep the coating space part in a vacuum state or to maintain the atmosphere state and the other end part to be connected to the upper center part of the vacuum chamber, It is an object of the present invention to provide a glass coating apparatus capable of uniformly discharging an ionized target without flowing the glass immersed in the air on the upper side of the pair of glass so as to shorten the working time and improve the quality .

상기 목적을 이루기 위한 본 발명은, 내부에 코팅공간부가 형성된 진공챔버, 상기 진공챔버의 코팅공간부를 진공시키는 진공부, 상기 진공챔버의 코팅공간부에 수납되며, 코팅시키고자 하는 유리를 거치시키는 거치대, 상기 진공챔버의 코팅공간부에 위치되는 타겟, 인가되는 전원에 의해 상기 타겟을 방전시키는 방전수단, 및 일단부는 상기 진공부에 연결되고, 타단부는 상기 진공챔버에 연결되어 코팅공간부를 진공상태로 유지시키거나 대기상태를 유지시키도록 연결시키되, 타단부는 상기 진공챔버의 상단 중앙부에 연결되는 연결부를 포함하여 이루어진다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum cleaner comprising a vacuum chamber having a coating space therein, a vacuum chamber for vacuuming the vacuum chamber, a holder for receiving the glass to be coated, A discharge chamber for discharging the target by a power source, and a discharging means for discharging the target by a power source, one end of which is connected to the vacuum chamber and the other end of which is connected to the vacuum chamber, And the other end of the vacuum chamber is connected to the upper center of the vacuum chamber.

바람직하게, 상기 유리는 상기 연결부의 통공방향과 평행하도록 상기 거치대의 양측에 각각 새워져 거치되되, 거치대의 중심을 상하방향으로 지나는 중심축을 기준으로 대칭되도록 거치되며, 상기 거치대의 중심축은 상기 연결부의 연통된 중심축과 동일선상에 위치됨에 따라, 상기 진공챔버의 코팅공간부를 진공상태 또는 대기상태로 유지시킬 경우, 거치된 유리가 유동된다.Preferably, the glass is mounted on both sides of the cradle so as to be parallel to the direction of the through-hole of the connecting portion, and is mounted such that the center of the cradle is symmetrical with respect to a central axis passing in the vertical direction, When the coating space portion of the vacuum chamber is held in a vacuum state or in a standby state, the immobilized glass flows as it is located on the same line as the communicated central axis.

그리고 상기 진공챔버는, 코팅공간부의 저면에 다수의 롤러가 구비되어 상기 거치대를 수납하거나 꺼낼 수 있다.In the vacuum chamber, a plurality of rollers may be provided on a bottom surface of the coating space portion to accommodate or remove the holder.

또한, 상기 거치대는, 상기 롤러를 따라 이동되며, 양측단부에 유리 하단부를 거치시킬 수 있는 거치홈이 각각 형성된 베이스프레임, 상기 베이스프레임의 중앙부를 따라 상호 일정 간격 이격되도록 구비되는 한 쌍의 수직프레임, 및 상기 각 수직프레임의 상단부에 회전 가능하도록 구비되어 상기 베이스프레임의 각 거치홈에 거치된 유리의 상단부를 고정시키기 위한 고정프레임을 포함하여 이루어진다.The base frame may include a base frame that is moved along the rollers and is formed with mounting grooves at both ends thereof for mounting the lower glass portion of the glass, a pair of vertical frames And a fixing frame rotatably mounted on an upper end of each of the vertical frames to fix an upper end portion of the glass placed in each mounting groove of the base frame.

그리고 상기 방전부는, 상기 한 쌍의 수직프레임에 각 단부가 연결되며, 상기 수직프레임을 따라 다수 개 구비되는 방전선, 및 상기 방전선에 전기를 인가시키는 전원부를 포함하여 이루어진다.The discharge unit includes a plurality of discharge lines connected to the pair of vertical frames at respective ends, a plurality of discharge lines arranged along the vertical frame, and a power unit for applying electricity to the discharge lines.

또한, 상기 방전선은, 텅스텐이다.Further, the discharge line is tungsten.

그리고 상기 타겟은, 상기 각 방전선을 따라 위치되어 상기 한 쌍의 유리 사이에서 방전되어 이온화됨에 따라 각 유리의 면을 코팅시킨다.And the target is disposed along each of the discharge lines and discharged between the pair of glasses to be ionized, thereby coating each glass surface.

또한, 상기 타겟은, 알루미늄 코일이다.Further, the target is an aluminum coil.

그리고 상기 진공챔버는 상기 진공부를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비되고, 상기 연결부는 상기 진공부와 각 진공챔버를 각각 연결하도록 상기 진공부를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비된다.
The vacuum chamber is symmetrically disposed on both sides of the vacuum chamber, and the vacuum chamber is symmetrically disposed on both sides of the vacuum chamber so as to connect the vacuum chamber and the vacuum chambers.

상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 유리 코팅장치에 의하면, 진공챔버를 진공상태 또는 대기상태로 변화시키되, 대칭되도록 거치된 한 쌍의 유리 상측에서 공기를 흡입하거나 공급하여 거치된 유리를 유동시키지 않고, 이온화된 타겟을 균일하게 배출시킬 수 있어 작업시간을 단축시키고, 품질을 향상시킬 수 있게 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.
As described above, according to the glass coating apparatus of the present invention, the vacuum chamber is changed to the vacuum state or the atmospheric state, and the air is sucked or supplied from above the pair of glass mounted symmetrically, , The ionized target can be uniformly discharged, thereby shortening the working time and improving the quality.

도 1은 종래 유리 코팅장치를 도시한 도면이고,
도 2는 종래 유리 코팅장치의 작동상태를 도시한 도면이며,
도 3은 본 발명에 따른 유리 코팅장치를 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 진공상태를 도시한 도면이며,
도 5는 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 거치부를 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 유리 코팅상태를 도시한 도면이며,
도 7은 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 대기상태를 도시한 도면이다.1 is a view showing a conventional glass coating apparatus,
2 is a view showing an operating state of a conventional glass coating apparatus,
FIG. 3 is a view showing a glass coating apparatus according to the present invention,
4 is a diagram showing a vacuum state of the glass coating apparatus according to the present invention,
5 is a view illustrating a mounting portion of a glass coating apparatus according to the present invention,
FIG. 6 is a view showing a glass coating state according to the present invention,
7 is a view showing a standby state of the glass coating apparatus according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

또한, 본 실시 예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고 단지 예시로 제시된 것이며, 그 기술적 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변경이 가능하다.It should be noted that the present invention is not limited to the scope of the present invention but is only illustrative and various modifications are possible within the scope of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 유리 코팅장치를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 진공상태를 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 거치부를 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 유리 코팅상태를 도시한 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 유리 코팅장치의 대기상태를 도시한 도면이다.FIG. 3 is a view showing a glass coating apparatus according to the present invention, FIG. 4 is a view showing a vacuum state of the glass coating apparatus according to the present invention, and FIG. 5 is a view showing a mount of a glass coating apparatus according to the present invention FIG. 6 is a view showing a glass coating state according to the present invention, and FIG. 7 is a view showing a standby state of a glass coating apparatus according to the present invention.

도면에서 도시한 바와 같이, 유리 코팅장치(10)를 살펴보면, 진공챔버(100)와 진공부(200), 거치대(300), 타겟(400), 방전수단(500) 및 연결부(600)로 구성된다.As shown in the figure, the glass coating apparatus 10 includes a vacuum chamber 100, a vacuum chamber 200, a holder 300, a target 400, a discharging unit 500, and a connection unit 600 do.

진공챔버(100)는 내부에 코팅공간부(110)가 형성되고, 진공부(200)는 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)를 진공시키게 된다.The vacuum chamber 100 has a coating space 110 formed therein and the vacuum 200 vacuumizes the coating space 110 of the vacuum chamber 100.

그리고 거치대(300)는 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)에 수납되며, 코팅시키고자 하는 유리(20)를 거치시킨다.The holder 300 is accommodated in the coating space part 110 of the vacuum chamber 100, and mounts the glass 20 to be coated.

타겟(400)은 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)에 위치되고, 방전수단(500)은 인가되는 전원에 의해 타겟(400)을 방전시키게 된다.The target 400 is placed in the coating space 110 of the vacuum chamber 100 and the discharging means 500 discharges the target 400 by an applied power source.

또한 연결부(600)는 일단부가 진공부(200)에 연결되고, 타단부가 진공챔버(100)에 연결되어 코팅공간부(110)를 진공상태로 유지시키거나 대기상태를 유지시키도록 연결시킨다.One end of the connection part 600 is connected to the vacuum 200 and the other end of the connection part 600 is connected to the vacuum chamber 100 to connect the vacuum chamber 100 to maintain the vacuum state or maintain the vacuum state.

이러한 연결부(600)의 타단부는 진공챔버(100)의 상단 중앙부에 연결되는 것이다.The other end of the connection portion 600 is connected to the upper center portion of the vacuum chamber 100.

여기서, 유리(20)는 거치대(300)의 양측에 각각 거치되되, 각 유리(20)는 연결부(600)의 통공방향과 평행하도록 거치대(300)의 양측에 각각 새워져 거치된다.Here, the glass 20 is mounted on both sides of the mounting table 300, and each glass 20 is mounted on both sides of the mounting table 300 so as to be parallel to the direction of the opening of the connection portion 600.

다시 말해, 유리(20)는 거치대(300)의 중심을 상하방향으로 지나는 중심축을 기준으로 대칭되도록 거치된다.In other words, the glass 20 is mounted to be symmetrical with respect to the center axis passing through the center of the mount 300 in the vertical direction.

그리고 거치대(300)의 중심축은 연결부(600)의 연통된 중심축과 동일선상에 위치되는 것이다.And the central axis of the holder 300 is located on the same line as the communicated central axis of the connection part 600. [

이에 따라, 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)를 진공상태 또는 대기상태로 유지시킬 경우, 거치된 유리(20)가 유동되는 것을 방지하고, 이온화된 타겟(400)을 종래와 같이, 편중되지 않도록 균일하고 신속하게 배출시킬 수 있어 작업시간을 단축시킬 수 있는 것이다.Accordingly, when the coating space 110 of the vacuum chamber 100 is maintained in the vacuum state or the atmospheric state, it is possible to prevent the immobilized glass 20 from flowing, It is possible to uniformly and quickly discharge the toner particles in a non-biased manner, thereby shortening the working time.

또한 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)에 이온화된 타겟(400)을 완전히 배출시킬 수 있어 다음 유리(20)를 코팅 시, 품질을 향상시킬 수 있게 된다.The ionized target 400 can be completely discharged to the coating space 110 of the vacuum chamber 100 and the quality of the next glass 20 can be improved.

이러한 진공챔버(100)는 도 3에서 도시한 바와 같이, 진공부(200)를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비되고, 연결부(600)는 진공부(200)와 각 진공챔버(100)를 각각 연결하도록 진공부(200)를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비된다.
3, the vacuum chamber 100 is symmetrically disposed on both sides of the vacuum chamber 200. The vacuum chamber 100 includes a vacuum chamber 200 and vacuum chambers 100, Are symmetrically disposed on both sides of the vacuum chamber 200 as a reference.

그리고 진공챔버(100)는 코팅공간부(100)의 저면에 다수의 롤러(120)가 구비되어 거치대(300)를 수납하거나 꺼낼 수 있게 된다.The vacuum chamber 100 is provided with a plurality of rollers 120 on the bottom surface of the coating space part 100 so that the holder 300 can be received or taken out.

유리(30)를 거치시키기 위한 거치대(300)는 도 4에서 도시한 바와 같이, 베이스프레임(310)과 수직프레임(320) 및 고정프레임(330)으로 구성된다.The holder 300 for holding the glass 30 comprises a base frame 310, a vertical frame 320 and a fixed frame 330, as shown in FIG.

베이스프레임(310)은 롤러(120)를 따라 이동될 수 있도록 구비되는 것으로, 양측단부에 유리(20) 하단부를 거치시킬 수 있는 거치홈(312)이 각각 형성된다.The base frame 310 is provided so as to be movable along the roller 120. The base frame 310 is formed at both side ends thereof with mounting grooves 312 for mounting the lower end of the glass 20. [

그리고 수직프레임(320)은 한 쌍으로 구비되며, 베이스프레임(310)의 중앙부를 따라 상호 일정 간격 이격되도록 구비된다.The vertical frames 320 are provided in pairs and are spaced apart from each other along the central portion of the base frame 310.

고정프레임(330)은 각 수직프레임(320)의 상단부에 회전 가능하도록 구비되어 베이스프레임(310)의 각 거치홈(312)에 거치된 유리의 상단부를 고정시키기 위해 구비된다.
The fixed frame 330 is provided to be rotatable at the upper end of each vertical frame 320 to fix the upper end portion of the glass fixed to each mounting groove 312 of the base frame 310.

또한 방전수단(500)은 방전선(510)과 전원부(520)로 구성된다.The discharge means 500 includes a discharge line 510 and a power source 520.

방전선(510)은 한 쌍의 수직프레임(320)에 각 단부가 연결되며, 수직프레임(320)을 따라 다수 개 구비되고, 전원부(520)는 방전선(510)에 전기를 인가시키도록 구비된다.The discharge line 510 is connected to a pair of vertical frames 320 at each end thereof and a plurality of discharge lines are provided along the vertical frame 320. The power source unit 520 is electrically connected to the discharge line 510 do.

여기서, 방전선(510)은 텅스텐으로 형성되며, 전원부(520)에 의해 전원이 인가되면, 고열이 발생된다.Here, the discharge wire 510 is formed of tungsten, and when power is applied by the power source 520, a high temperature is generated.

이러한 각 방전선(510)을 따라 타겟(400)이 위치되며, 타겟(400)은 알루미늄 코일이 사용됨이 바람직하다.
It is preferable that the target 400 is positioned along each of the discharge wires 510 and the target 400 is an aluminum coil.

이와 같은, 유리 코팅장치(10)의 작동상태를 살펴보면, 도 5 내지 도 7에서 도시한 바와 같이, 각 방전선(510)에 타겟(400)이 위치된 상태에서 유리(20)가 거치된 거치대(300)를 진공챔버(100)의 코팅공간부(110)에 위치시킨다.5 to 7, in a state where the target 400 is positioned on each discharge wire 510, the glass coating apparatus 10 is placed in a cradle in which the glass 20 is mounted, (300) is placed in the coating space part (110) of the vacuum chamber (100).

그리고 진공부(200)에 의해 코팅공간부(110)를 진공시킨 후, 전원부(520)에 의해 방전선(510)으로 전원이 인가되면, 방전에 의한 고열이 발생되어 설치된 타겟(400)을 이온화시키게 된다.When the power source 520 applies power to the discharge line 510 after the coating space 110 is evacuated by the vacuum 200, a high temperature due to discharge is generated to ionize the target 400 .

이온화된 타겟(400)은 한 쌍의 유리(20)의 면에 증착됨에 따라 코팅층(22)이 형성되며, 일정시간 경과 후, 남은 이온화된 타겟(400)을 배출시키게 된다.As the ionized target 400 is deposited on the surfaces of the pair of glasses 20, the coating layer 22 is formed, and after a lapse of a predetermined time, the remaining ionized target 400 is discharged.

이온화된 타겟(400)이 배출된 후, 진공부(200)는 진공챔버(100)로 공기를 공급함에 따라 코팅공간부(110)를 대기상태로 유지시킨 후, 개방되어 코팅층(22)이 형성된 유리(20)를 진공챔버(100)에서 꺼냄에 따라 한 공정이 마무리된다.
After the ionized target 400 is discharged, the vacuum 200 maintains the coating space part 110 in an atmospheric state by supplying air to the vacuum chamber 100 and then opens to form a coating layer 22 The glass 20 is taken out of the vacuum chamber 100 and a process is completed.

여기서, 진공부(200)에 의한 코팅공간부(110)의 진공도는 약 2×10＾-6 ~ 2×10＾-6 torr이고, 진공시간은 6 ~ 8분이다.Here, the degree of vacuum of the coating space 110 by the vacuum 200 is about 2 × 10 -6 to 2 × 10 -6 torr and the vacuum time is about 6 to 8 minutes.

그리고 방전수단(500)에 의해 타겟(400)이 이온화된 후, 0.5 ~ 2분간 이온화된 상태를 유지 후, 배출시키는 것으로, 유리(20)에 코팅층(22)이 형성되는 시간은 약 1분이고, 형성 두께는 0.02 ~ 0.04mm임이 바람직하다.
The target 400 is ionized by the discharging means 500 and maintained in the ionized state for 0.5 to 2 minutes and then discharged. The time for forming the coating layer 22 on the glass 20 is about 1 minute, The forming thickness is preferably 0.02 to 0.04 mm.

10 : 유리 코팅장치 20 : 유리
22 : 코팅층 100 : 진공챔버
110 : 코팅공간부 120 : 롤러
200 : 진공부 300 : 거치부
400 : 타겟 500 : 방전수단
600 : 연결부10: Glass coating apparatus 20: Glass
22: Coating layer 100: Vacuum chamber
110: coating space part 120: roller
200: Jinhak 300: Mounting part
400: target 500: discharging means
600: connection

Claims (9)

내부에 코팅공간부가 형성된 진공챔버;
상기 진공챔버의 코팅공간부를 진공시키는 진공부;
상기 진공챔버의 코팅공간부에 수납되며, 코팅시키고자 하는 유리를 거치시키는 거치대;
상기 진공챔버의 코팅공간부에 위치되는 타겟;
인가되는 전원에 의해 상기 타겟을 방전시키는 방전수단; 및
일단부는 상기 진공부에 연결되고, 타단부는 상기 진공챔버에 연결되어 코팅공간부를 진공상태로 유지시키거나 대기상태를 유지시키도록 연결시키되, 타단부는 상기 진공챔버의 상단 중앙부에 연결되는 연결부를 포함하여 이루어지는 유리 코팅장치.
A vacuum chamber having a coating space formed therein;
A vacuum chamber for vacuuming the coating space of the vacuum chamber;
A holder accommodated in a coating space portion of the vacuum chamber and configured to receive a glass to be coated;
A target positioned in a coating space portion of the vacuum chamber;
Discharge means for discharging the target by an applied power source; And
And the other end of the vacuum chamber is connected to the vacuum chamber to connect the vacuum chamber to the vacuum chamber in such a manner that the vacuum chamber is kept in a vacuum state or maintained in a standby state while the other end is connected to the upper center portion of the vacuum chamber ≪ / RTI >
제1항에 있어서,
상기 유리는 상기 연결부의 통공방향과 평행하도록 상기 거치대의 양측에 각각 새워져 거치되되, 거치대의 중심을 상하방향으로 지나는 중심축을 기준으로 대칭되도록 거치되며,
상기 거치대의 중심축은 상기 연결부의 연통된 중심축과 동일선상에 위치됨에 따라, 상기 진공챔버의 코팅공간부를 진공상태 또는 대기상태로 유지시킬 경우, 거치된 유리가 유동되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.
The method according to claim 1,
The glass is mounted on both sides of the mounting table so as to be parallel to the direction of the through-hole of the connection part, and is mounted to be symmetrical with respect to a central axis passing through the center of the mounting table in the vertical direction,
Characterized in that the center axis of the cradle is located on the same line as the communicated central axis of the connecting portion so as to prevent the immobilized glass from flowing when the coating space portion of the vacuum chamber is maintained in a vacuum state or in a standby state Glass coating device.
제1항에 있어서, 상기 진공챔버는,
코팅공간부의 저면에 다수의 롤러가 구비되어 상기 거치대를 수납하거나 꺼낼 수 있는 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.
The vacuum chamber according to claim 1,
Wherein a plurality of rollers are provided on a bottom surface of the coating space part so that the holder can be received or taken out.
제3항에 있어서, 상기 거치대는,
상기 롤러를 따라 이동되며, 양측단부에 유리 하단부를 거치시킬 수 있는 거치홈이 각각 형성된 베이스프레임;
상기 베이스프레임의 중앙부를 따라 상호 일정 간격 이격되도록 구비되는 한 쌍의 수직프레임; 및
상기 각 수직프레임의 상단부에 회전 가능하도록 구비되어 상기 베이스프레임의 각 거치홈에 거치된 유리의 상단부를 고정시키기 위한 고정프레임을 포함하여 이루어지는 유리 코팅장치.
[5] The apparatus of claim 3,
A base frame that is moved along the rollers and has mounting grooves at both side ends thereof for mounting the lower glass portion;
A pair of vertical frames spaced apart from each other along a central portion of the base frame; And
And a fixing frame rotatably mounted on an upper end of each of the vertical frames to fix an upper end portion of the glass held in each fixing groove of the base frame.
제4항에 있어서, 상기 방전수단은,
상기 한 쌍의 수직프레임에 각 단부가 연결되며, 상기 수직프레임을 따라 다수 개 구비되는 방전선; 및
상기 방전선에 전기를 인가시키는 전원부를 포함하여 이루어지는 유리 코팅장치.
The plasma display apparatus according to claim 4,
A plurality of discharge lines connected to the pair of vertical frames at respective ends thereof and provided along the vertical frame; And
And a power supply unit for applying electricity to the discharge line.
제5항에 있어서, 상기 방전선은,
텅스텐인 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.
6. The semiconductor device according to claim 5,
Tungsten. ≪ / RTI >
제5항에 있어서, 상기 타겟은,
상기 각 방전선을 따라 위치되어 상기 한 쌍의 유리 사이에서 방전되어 이온화됨에 따라 각 유리의 면을 코팅시키는 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the glass coating unit is disposed along each of the discharge lines and is discharged between the pair of glasses to be ionized, thereby coating each glass surface.
제7항에 있어서, 상기 타겟은,
알루미늄 코일인 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.
8. The method of claim 7,
Characterized in that it is an aluminum coil.
제1항에 있어서,
상기 진공챔버는 상기 진공부를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비되고, 상기 연결부는 상기 진공부와 각 진공챔버를 각각 연결하도록 상기 진공부를 기준으로 양측에 대칭되도록 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 유리 코팅장치.The method according to claim 1,
Wherein the vacuum chamber is provided to be symmetrical with respect to the vacuum chamber on both sides of the vacuum chamber, and the connection portion is provided to be symmetrical with respect to the vacuum chamber so as to connect the vacuum chamber and the vacuum chambers, Coating apparatus.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004091905A (en) 2002-09-04 2004-03-25 Daiwa Techno Systems:Kk Composite vacuum treatment system
JP2005029855A (en) 2003-07-08 2005-02-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd Vacuum arc deposition system, vacuum arc deposition method, and magnetic recording medium
JP2006299333A (en) 2005-04-19 2006-11-02 Nagasaki Univ Method for coating inner wall surface of extra-fine tube and coating apparatus
JP2008285747A (en) 2007-03-14 2008-11-27 Applied Materials Inc Flooding chamber for coating apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004091905A (en) 2002-09-04 2004-03-25 Daiwa Techno Systems:Kk Composite vacuum treatment system
JP2005029855A (en) 2003-07-08 2005-02-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd Vacuum arc deposition system, vacuum arc deposition method, and magnetic recording medium
JP2006299333A (en) 2005-04-19 2006-11-02 Nagasaki Univ Method for coating inner wall surface of extra-fine tube and coating apparatus
JP2008285747A (en) 2007-03-14 2008-11-27 Applied Materials Inc Flooding chamber for coating apparatus

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