JP2018055093A - 多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカを含む感光性樹脂組成物、これを用いたプリント回路基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、感光性樹脂組成物、これを用いたプリント回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光開始剤と、多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカと、を含む。
【選択図】図8
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光開始剤と、多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカと、を含む。
【選択図】図8
Description
本発明は、多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカを含む感光性樹脂組成物、これを用いたプリント回路基板及びその製造方法に関する。
従来プリント回路基板内のビアホールの形成方法は、層間絶縁膜であるエポキシ樹脂組成物を硬化して硬化膜を形成し、その後レーザドリル(laser drill)やドリルチップ(drill tip)工程によりビアホールを形成する。しかし、近年プリント回路基板におけるビアホールの数は、パネル当たりに数万個〜数十万個を超えており、上記方法を適用するには、多くの設備や時間がかかるので問題点になっている。
一方、半導体用感光性樹脂に比べて、特徴的にプリント回路基板に適用する絶縁フィルムには、熱的物性を充足するためにシリカ等のフィラーが含まれることになる。
しかし、このフィラーは、UV露光の際に散乱を誘発するため、半導体用感光性樹脂組成物とは異なる組成の開発が求められる。またビアホールの大きさが小さくなる傾向にあり、感光性樹脂組成物で絶縁フィルムを形成する場合は、UV露光の際に散乱を制御することが重要となっている。
本発明は、屈折率を上昇させることができる、多重芳香環誘導体により表面改質された無機フィラーを含むことにより、樹脂と無機フィラーとの間の屈折率の差を最小化して光の散乱を低減し、ビアホールを均一でかつ効率的に形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いたプリント回路基板及びその製造方法に関する。
本発明の一側面によれば、光重合性化合物と、光開始剤と、下記の化学式1a又は化学式1bで表される多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカと、を含む感光性樹脂組成物が提供される。
[化学式1a]
[化学式1b]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環を含む化合物から選択され、nは、1〜6の整数である。
本発明の一実施例によれば、上記光重合性化合物は、酸変性エポキシアクリレート樹脂であることができる。
本発明の一実施例によれば、365nmまたは405nm領域で吸収が可能な光開始剤を含むことができる。
本発明の一実施例によれば、上記多重芳香環化合物は、下記の化学式2で表される多重芳香環を含むアルデヒド化合物と、化学式3又は化学式4で表されるジアミン系化合物とを反応させて製造された化学式5a又は化学式5bで表される誘導体であることができる。
[化学式2]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環である。
[化学式3]
ここで、nは、1〜6の整数である。
[化学式4]
ここで、nは、1〜6の整数である。
[化学式5a]
[化学式5b]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環を含み、nは、1〜6の整数である。
本発明の一実施例よれば、上記シリカは、室温において化学式5a又は化学式5bで表される多重芳香環誘導体とシリカとを反応式2により反応させて製造することができる。
[反応式2]
または
本発明の一実施例によれば、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して上記光重合性化合物は、20〜80重量部、光開始剤は、0.1〜3重量部、シリカは、17〜77重量部で含まれることができる。
本発明の一実施例によれば、上記シリカの平均粒径は、0.05〜5μmであることができる。
本発明の一実施例によれば、上記感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、アクリレート樹脂と、硬化剤とをさらに含むことができる。
本発明の一実施例によれば、上記感光性樹脂組成物の全重量に対してエポキシ樹脂は、 1〜40重量部、アクリレート樹脂は、1〜40重量部、硬化剤は、0.1〜3重量部で含まれることができる。
本発明の他の側面によれば、上記感光性樹脂組成物を含有する絶縁フィルムが提供される。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁フィルムは、50ppm/℃以下の低い熱膨脹係数(CTE)を有し、絶縁層として使用可能な絶縁フィルムであることができる。
本発明のまた他の側面によれば、上記感光性樹脂組成物を含有する絶縁層を含むプリント回路基板が提供される。
本発明のまた他の側面によれば、化学式2で表される多重芳香環を含むアルデヒド化合物と、化学式3又は化学式4で表される誘導体とを反応させ、化学式5a又は化学式5bで表される誘導体を製造するステップを含む、感光性樹脂組成物用無機フィラーの製造方法が提供される。
[化学式2]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環である。
[化学式3]
nは、1〜6の整数である。
[化学式4]
nは、1〜6の整数である。
[化学式5a]
[化学式5b]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環を含み、nは、1〜6の整数である。
本発明のまた他の側面によれば、上記感光性樹脂組成物を基板上に積層して絶縁層を形成するステップと、露光及び現像工程により上記絶縁層にビアホールを形成するステップと、を含むプリント回路基板の製造方法が提供される。
本発明の一実施例によれば、上記ビアホールの大きさは、40μm以下であるプリント回路基板の製造方法が提供される。
本発明の一実施例によれば、屈折率を上昇させることができる多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカを導入することで、樹脂とシリカとの間の屈折率の差を最小化し、光の散乱を低減させて、ビアホールを均一でかつ効率的に形成することができるので、ビアホールの形成の際に解像力に優れて40μm以下の微細なビアホールの形成が自由となり、アルカリ現像が可能なネガティブ型感光性樹脂組成物を提供することができる。
本発明の一実施例に係る樹脂組成物を含有する絶縁フィルムは、耐熱特性及び機械的特性に優れ、露光及び現像工程により40μm以下の微細なビアホールを形成することができる。
また、本発明の一実施例に係る樹脂組成物を含有する絶縁層を含むプリント回路基板は、耐熱特性及び機械的特性等が維持され、優れた信頼性を有し、露光及び現像工程によりビアホールを形成することができる。
さらに、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法は、露光及び現像工程によりビアホールを形成することができるので、従来技術に比べて、工程が簡単でコストを低減できるという利点がある。
本発明の目的、特定の利点及び新規な特徴は、添付した図面及び連関する以下の詳細な説明及び実施例により、より明らかになるであろう。
これに先立って本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語や単語は通常的かつ辞書的な意味で解釈されてはならず、発明者はその自分の発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に即して本発明の技術的思想に合致する意味及び概念で解釈されなければならない。
本願で使用した用語は、ただ特定の実施例を説明するために使用したものであって、本発明を限定するものではない。単数の表現は、文の中で明らかに表現しない限り、複数の表現を含む。
本願において、「含む」または「有する」などの用語は、本明細書に記載した特徴、数字、ステップ、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを意味するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、ステップ、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加可能性をあらかじめ排除するものではないことを理解しなければならない。
本明細書において、ある部分がある構成要素を「含む」とする場合、これは特に反対される記載がない限り他の構成要素を除外するという意味ではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。また、明細書の全般において、「上に」とは、対象部分の上または下に位置することを意味し、必ずしも重力方向を基準にして上側に位置することを意味することではない。
本発明は多様な変換を加えることが可能であり、様々な実施例を有することができるため、特定の実施例を図面に例示し、詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるあらゆる変換、均等物乃至代替物を含むものとして理解すべきである。本発明を説明するに当たって、係る公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨をかえって不明にすると判断される場合は、その詳細な説明を省略する。
「第1」、「第2」、「一面」、「他面」などの用語は、本発明において多様な構成要素を説明するために使用され、上記構成要素が上記用語により限定されることはない。
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明し、添付図面に基づいて説明するに当たって、同一または対応する構成要素には同一の図面符号を付し、これに対する重複説明を省略する。
<感光性樹脂組成物>
本発明に係る樹脂組成物は、分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光開始剤と、下記の化学式1a又は化学式1bで表される多重芳香環により表面改質されたシリカと、を含むことができる。
本発明に係る樹脂組成物は、分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光開始剤と、下記の化学式1a又は化学式1bで表される多重芳香環により表面改質されたシリカと、を含むことができる。
[化学式1a]
[化学式1b]
ここで、右側の陰影の長方形部は、原料として使用された球状シリカの一部面を図式化したものであって、これに限定されないが、球状シリカの断面は、円形及び楕円形が好ましい。
上記Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、好ましくは、3つ以上の芳香環が直接結合または単一結合等で結合された多重芳香環から選択され、当該芳香環に置換された官能基に対する特別な制限はない。この場合、上記3つ以上の多重芳香環は、樹脂組成物のUVの波長別吸収領域と関係があり、上記多重芳香環を用いる場合、表面処理後にシリカの屈折率が向上して樹脂との屈折率の差を低減することができる。nは、1〜6の整数である。
本発明で使用する光重合性化合物は、酸変性エポキシアクリレート樹脂であることができる。
本発明で使用する光重合性化合物は、酸変性エポキシアクリレート樹脂であることができる。
上記酸変性エポキシアクリレート樹脂は、特に制限されないが、分子内にエポキシ基が 1つ以上含まれているエポキシ樹脂をアクリル酸と反応させて光硬化部を導入した後に、酸無水物と反応してアルカリ現像が可能となるように製造された樹脂を意味する。
上記酸変性エポキシ樹脂としては、クレゾールノボラック型酸変性エポキシアクリレート樹脂、ビフェニル型酸変性エポキシアクリレート樹脂、ビスフェノールA型酸変性エポキシアクリレート樹脂、ビスフェノールF型酸変性エポキシアクリレート樹脂、フェノールノボラック型酸変性エポキシアクリレート樹脂、トリフェノールメタン型酸変性エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリル系酸変性エポキシアクリレート樹脂及びこれらの組み合わせ等を使用することができるが、特にこれらに限定されない。
上記酸変性エポキシアクリレート樹脂の酸価は、10〜200mgKOH/g、好ましくは、50〜150mgKOH/gの範囲で用いることができる。酸価が10mgKOH/g未満であると、アルカリ現像の性能が低下することがあり、酸価が200mgKOH/gを超過する場合は、現像速度の制御が困難となり、残膜率が低減することがある。
本発明の一実施例によれば、上記光開始剤としては、例示の化合物中、365nm又は405nm領域で吸収が可能な光開始剤から1つ以上を選択することができ、これに特に限定されることはない。
本発明の組成物は、多重芳香環のモル比を用いてUVに対する感度の増加及び減少が可能となり、多重芳香環の濃度を増加させてUV感度の減少の場合、低いエネルギー値を有するUV露光による工程マージンを拡大することができるという利点がある。このため、本発明の組成物を用いると、一般の光開始剤から敏感度の高い光開始剤まで使用の範囲を確張することができる。
上記光開始剤としては、クロロアセトフェノン(Chloroacetophenone)、ジエトキシアセトフェノン(Diethoxy acetophenone)、ヒドロキシアセトフェノン(hydroxy acetophenone)、α−アミノアセトフェノン(α−Amino Acetophenone)、ベンゾインエーテル(Benzoin ether)、ベンジルジメチルケタール(Benzyl dimethyl ketal)、ベンゾフェノン(Benzo phenone)、チオキサントン(Thioxantone)、アントラキノン(Anthraquinone)及びこれらの組み合わせ等を用いることができるが、特にこれらに限定されない。
本発明に係る上記化学式1a又は化学式1bで表される多重芳香環の表面改質処理化合物は、下記の化学式2で表される多重芳香環を含むアルデヒド化合物を下記の化学式3又は化学式4で表されるジアミン系化合物と反応させて適当な大きさのアルキル基を導入することにより、化学式5a又は化学式5bのような形態の誘導体を形成することができ、これは、従来商業化になった表面改質シリカに本発明に係る組成物を導入して、簡単に反応させることができる構造に設計可能であるという利点がある。
[化学式2]
ここで、Arは、カッコ内の例示のように、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、好ましくは3つ以上の芳香環が直接結合または単一結合等で結合した多重芳香環から選択され、当該芳香環に置換された官能基に対する特別な制限はない。この場合、上記3つ以上の多重芳香環は、樹脂組成物のUV波長別吸収領域と関係があり、上記多重芳香環を用いる場合、表面処理後にシリカの屈折率が向上して樹脂との屈折率の差を低減することができる。
[化学式3]
nは、1〜6の整数である。
[化学式4]
nは、1〜6の整数である。
[化学式5a]
[化学式5b]
ここで、Arは、炭素数6〜20のアリール基またはアラルキル基であって、3つ以上の芳香環が結合した多重芳香環を含み、nは、1〜6の整数である。
本発明の一実施例によれば、上記多重芳香環誘導体は、下記の反応式1で表される方法により製造することができ、上記製造方法は、通常的に溶媒の存在下で行われる。
上記化学式2で表される多重芳香環のアルデヒド化合物と、上記化学式3又は化学式4で表されるジアミンとの反応モル比は、化学量論的に1:0.5〜1.5であることができる。
[反応式1]
または
上記多重芳香環誘導体化合物として、屈折率の差を最小化できる点を考慮してアントラセン誘導体等を用いることができるが、特にこれに限定されない。例示的に、アントラセン以外にフェナントレン、フルオランテン、クリセン、ピレン等を用いることができる。
また、上記化学式5a又は化学式5bで表される多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカは、一例として、下記の反応式2により製造することができる。
[反応式2]
または
具体的に、(3−Glycidyloxypropyl)trimethoxysilaneで既に表面改質されたシリカをクロロホルム下で撹拌しながら、上記化学式5a又は化学式5bで表される化合物を室温で反応させる。
上記溶媒は、化学式5a又は化学式5bで表される多重芳香環誘導体を溶解するためのものであって、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類;ヨウ化メチル(MeI)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の極性溶媒類(polar solvent);テトラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、ジメチルエチレングリコール等のアルキルエーテル類;エチルアセテート、メチルアセテート等のアルキルアセテート類;メチルエチルケトン(MEK)、アセトン等のケトン類;ベンゼン、トルエン(toluene)、キシレン(xylene)、コロロベンゼン、クレゾール、メチルフェニルエステル等の芳香族溶媒類;メチレンクロライド(methylene chloride)、クロロホルム(chloroform)等の有機溶媒類;及びこれらの混合物からなる群より選択されることができるが、これに限定されない。
上記化学式5a又は化学式5bで表される誘導体とシリカとの反応は、特に限定されないが、反応効率及び経済性を考慮して、1:1〜10重量部を混合し、20〜60℃の温度で行われることができる。
上記化学式5a又は化学式5bで表される誘導体の添加量が少ない場合は、シリカの表面改質が充分に行われないことがあり、添加量が多い場合は、精製時間が長くなることがある。
上記光開始剤の含有量は、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して0.1〜3重量部であることができる。上記含有量が、0.1重量部未満であると、光反応性が低下して残膜率が低減し、現像によるビアホールの形成が困難となることがあり、3重量部を超過すると、露光部、非露光部の現像性能の差が減少して、ビアホールの形成が困難となることがある。
上記光重合性化合物の含有量は、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して20〜80重量部であることができる。上記含有量が20重量部未満である場合は、アルカリ現像性能が低下することがあり、80重量部を超過する場合は、物理的、機械的、化学的物性の低下を誘発することがある。
上記表面改質されたシリカは、樹脂とシリカとの間の屈折率の差を低減させ、露光UVの一部を吸収する機能をして、組成物内のUV散乱を制御することができる。
上記シリカの含有量は、樹脂組成物の用途等を考慮して要求される特性により、特に限定する必要はないが、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して17〜77重量部の範囲で使用することができる。上記含有量が17重量部未満であると、誘電正接が低く、熱膨脹率が高くなることがあり、77重量部を超過すると、接着強度が低下し、フィルムの形成が困難となる傾向にある。
本発明の一実施例によれば、絶縁樹脂の熱膨脹係数(CTE)を低下するためにシリカの含量を高める場合、本発明に係る表面改質のシリカは絶縁樹脂の低粗度(Ra<0.5μm)の特性の実現に、より効果的である。
本発明の一実施例によれば、上記シリカの平均粒径は、特に限定されないが、近年プリント回路基板等の電子製品の小型化の傾向に従い、0.05〜5μmであることができる。(3−Glycidyloxypropyl)trimethoxysilaneにより表面改質されたシリカは、発明が属する技術分野の当業者であれば容易に得ることができる物質の範疇に該当する。
さらに、上述の表面処理されたシリカを含有するあらゆる無機フィラーは、平均粒径が5μmを超えると、導体層に回路パターンを形成する際に微細パターンを安定に形成することが困難となるので、平均粒径は、5μm以下であることができる。好ましくは、0.05〜2μmの直径を有するシリカを用いることができる。
本発明の一実施例によれば、上記感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂及び硬化剤をさらに含むことができる。
上記エポキシ樹脂は、乾燥後の樹脂組成物の接着フィルムとしての取り扱い性を高めるために添加することができる。
上記エポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、リン系エポキシ樹脂及びこれらの組み合わせ等を使用することができ、特にこれに限定されるものではない。
上記アクリレート樹脂として、EOまたはPOまたはウレタン変性(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1、6−ヘキサンジオールジアクリレート、3−メチル−1、5−ペンタンジオールジアクリレート、2−ブチル−2−エチル−1、3−プロパンジオールジアクリレート、1、9−ノナンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタアクリレート、フェニルグリシジルエステルアクリレート、1、6−ヘキサンジオールエポキシアクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びこれらの組み合わせ等を用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。
本発明に係る樹脂組成物は、工程の効率性のために選択的に硬化剤を含むことができる。
本発明に係る樹脂組成物は、工程の効率性のために選択的に硬化剤を含むことができる。
上記硬化剤としては、アミド系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、酸無水物硬化剤、フェノールノボラック型硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、第3アミン硬化剤またはイミダゾール硬化剤、パーオキサイド硬化剤及びこれらの組み合わせ等を用いることができ、特にこれに限定されるものではない。
本発明の樹脂組成物は、硬化促進剤を選択的に含有することにより、効率的に硬化させることができる。本発明に使用される硬化促進剤としては、金属系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤等が挙げられ、これらの1種または2種以上を組み合わせて当業界で使用される通常の量で添加して使用することができる。
上記金属系硬化促進剤としては、特に制限されないが、コバルト、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、マンガン、スズ等の金属の有機金属錯体または有機金属塩が挙げられる。
有機金属錯体の具体的な例としては、コバルト(II)アセチルアセトネート、コバルト(III)アセチルアセトネート等の有機コバルト錯体、銅(II)アセチルアセトネート等のガラス銅錯体、亜鉛(II)アセチルアセトネート等の有機亜鉛錯体、鉄(III)アセチルアセトネート等の有機鉄錯体、ニッケル(II)アセチルアセトネート等の有機ニッケル錯体、マンガン(II)アセチルアセトネート等の有機マンガン錯体等が挙げられる。
有機金属塩としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズ、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸スズ、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる。
有機金属塩としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズ、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸スズ、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる。
金属系硬化促進剤としては、硬化性、溶剤溶解性の観点から、コバルト(II)アセチルアセトネート、コバルト(III)アセチルアセトネート、亜鉛(II)アセチルアセトネート、ナフテン酸亜鉛、鉄(III)アセチルアセトネートを用いることができ、特にコバルト(II)アセチルアセトネート、ナフテン酸亜鉛を用いることができる。金属系硬化促進剤を1種または2種以上組み合わせて用いることもできる。
上記イミダゾール系硬化促進剤としては、特に制限されないが、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1、2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1、2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2、4−ジアミノ−6−〔2'−メチルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジン、2、4−ジアミノ−6−〔2'−ウンデシルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジン、2、4−ジアミノ−6−〔2'−エチル−4'−メチルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジン、2、4−ジアミノ−6−〔2'−メチルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4、5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5ヒドロキシメチルイミダゾール、2、3−ジヒドロキシ−1H−ピロロ〔1、2−a〕ベンゾイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン等のイミダゾール化合物及びイミダゾール化合物とエポキシ樹脂のアダクト体が挙げられる。イミダゾール硬化促進剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。
上記アミン系硬化促進剤としては、特に制限されないが、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、ベンジルジメチルアミン、2、4、6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1、8−ジアザビシクロ(5、4、0)−ウンデセン(以下、DBUという)等のアミン化合物等が挙げられる。アミン系硬化促進剤の1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記エポキシ樹脂の含有量は、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して1〜40重量部であり、これに限定されないが、10〜30重量部が好ましい。上記含有量が1重量部未満であると、物理的、機械的、化学的物性の低下を誘発することがあり、40重量部を超過すると、アルカリの現像性能が低下してビアホールの形成が困難となる場合がある。
上記アクリレート樹脂の含有量は、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して1〜40重量部、これに限定されないが、1〜20重量部が好ましい。上記含有量が1重量% 未満であると、物理的、機械的な物性の低下を誘発することがあり、40重量部を超過すると、アルカリの現像性能が低下することがある。
上記硬化剤の含有量は、上記感光性樹脂組成物の全重量に対して0.1〜3重量部であることができる。上記含有量が0.1重量部未満であると、高温硬化が容易ではなく、硬化速度が低減することがあり、3重量部を超過すると、硬化速度が速すぎて工程の適用が困難となるか、保存安定性が低下し、反応後に未反応の硬化剤が存在することになり、絶縁フィルムまたはプリプレグの吸湿率が高くなって電気的特性が低下することがある。
上述の表面処理されたシリカ等の無機フィラー以外に、また他の無機フィラーをさらに含むことができ、上記無機フィラーの具体的な例としては、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレイ、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム等を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。特に低い誘電正接を有するシリカが好ましい。また、他の無機フィラーは、耐湿性の向上のために、シランカップリング剤等の表面処理剤により表面処理されることができる。
本発明に係る樹脂組成物は、有機溶媒存在下で混合することができる。有機溶媒としては、本発明に使用される樹脂及びその他の添加剤の溶解性及び混和性を考慮し、2−メトキシエタノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアセテート、ブチルアセテート、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、セロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、ブチルカルビトール、キシレン、ジメチルホルムアミド、及びジメチルアセトアミドを用いることができるが、これに特に限定されるものではない。
上述した本発明の樹脂組成物は、アルカリ現像型ネガティブ感光性樹脂組成物であって、上記化学式1aまたは1bで表される多重芳香環誘導体化合物により表面改質されたシリカを含むことにより、以後絶縁フィルムまたは基板の絶縁層として適用する場合、耐熱特性及び機械的特性が向上され、UV散乱を制御してビアホールの形成の際に解像力を高めることができるメリットがあり、40μm以下の微細なビアホールも効率的に形成することができる。
<絶縁フィルム>
本発明に係る絶縁フィルムは、上述の樹脂組成物を含有する。
本発明に係る絶縁フィルムは、上述の樹脂組成物を含有する。
上記絶縁フィルムは、50ppm/℃以下の低い熱膨脹係数(CTE)を有することができ、多層プリント基板の製造の際に絶縁層として使用することができる。また、上記絶縁フィルムは、UV露光の散乱の制御が可能である。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁フィルムは、多量の無機フィラーを含んでも、50ppm/℃以下の熱膨脹係数(CTE)を有しながら高い解像力を得ることができるという利点がある。
上記絶縁フィルムは、例えば、以下の方法により製造可能であり、当業者に知られている方法であれば、特に制限はない。
上記絶縁フィルムは、例えば、以下の方法により製造可能であり、当業者に知られている方法であれば、特に制限はない。
本発明の一実施例によれば、上述の樹脂組成物をロールコーター(Roll Coater)またはカーテンコーター(Curtain Coater)等を使用してフィルム形態に製造した後に乾燥して用いることができる。また、溶媒キャスティング法等により、基材上に上述の樹脂組成物の溶液層を形成し、上記溶液層から溶媒を除去することにより、基材上にフィルムを形成することができる。上記基材としては、銅箔、アルミ二ウム箔、金箔、銀箔等の金属箔や、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等が挙げられる。
上記製造方法において、上記絶縁層を形成するステップは、上記感光性樹脂組成物を含有する絶縁フィルムを基板上に積層することで行われることができる。
上記製造方法において、上記ビアホールを形成するステップの後に、上記絶縁層にビアホールを含む回路層を形成するステップをさらに含むことができる。
本発明に係る絶縁フィルムは、耐熱特性及び機械的特性等に優れ、露光及び現像工程によりビアホールを形成でき、解像力に優れる。
一般的に、レーザードリル(laser drill)やドリルチップ(drill tip)工程で形成可能なビアホールの限界は、40μm水準と知られているが、本発明に係る絶縁フィルムを用いると、それよりも小さな大きさのビアホールを効率的に得ることができる。
<プリント回路基板>
本発明に係るプリント回路基板は、上述の樹脂組成物を含有する絶縁層を含む。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁層として、上述の絶縁フィルム自体をプリント回路基板の製造時に基板上に採用することができる。
本発明に係るプリント回路基板は、上述の樹脂組成物を含有する絶縁層を含む。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁層として、上述の絶縁フィルム自体をプリント回路基板の製造時に基板上に採用することができる。
本発明の一実施例によれば、基板上に上述の樹脂組成物を直接コーティングして絶縁層を形成することができる。上記コーティング方法としては当業界に公知の方法であれば、特に制限されない。
また、上記基板は、通常1つ以上の回路層を備えたプリント回路基板であることができる。
また、上記基板は、通常1つ以上の回路層を備えたプリント回路基板であることができる。
本発明に係る樹脂組成物を含有する絶縁層を有するプリント回路基板は、耐熱特性及び機械的特性等が維持されて優れた信頼性を有し、露光及び現像工程により直径が40μm以下のビアホールを形成できるという利点がある。
<プリント回路基板の製造方法>
図1〜図4は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するために概略的に示す断面図である。
以下に、図1〜図4を参照して本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明する。
図1〜図4は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するために概略的に示す断面図である。
以下に、図1〜図4を参照して本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明する。
図1を参照すると、基板100を準備する。上記基板100は、誘電体層に1層以上の回路が形成された回路基板であって、プリント回路基板であることができる。本図面では、説明の便宜上具体的な内層回路の構成は省略したが、当業者であれば上記基板100として、誘電体層に1層以上の回路が形成された通常の回路基板を適用できることを充分に理解できよう。
上記誘電体層としては、樹脂絶縁層を使用することができる。上記樹脂絶縁層としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリイミド等の熱可塑性樹脂、またはこれらにガラス繊維または無機フィラー等の補強材が含浸された樹脂、例えば、プリプレグを用いることができ、また熱硬化性樹脂及び/または光硬化性樹脂等を用いることができる。また、上記誘電体層としては、上述の絶縁フィルムを適用することができ、特にこれに限定されるものではない。
上記回路は、回路基板分野において回路用の伝導性金属として使用されるものであれば、制限されずに適用可能であり、プリント回路基板においては、銅を用いることが典型的である。
図2を参照すると、上述の樹脂組成物を基板100上に積層して絶縁層200を形成する。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁層200は、上述の樹脂組成物を基板上に直接コーティングして形成することができる。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁層200は、上記感光性樹脂組成物を含有する絶縁フィルムを基板上に積層して形成することができる。
本発明の一実施例によれば、上記絶縁層200は、上記感光性樹脂組成物を含有する絶縁フィルムを基板上に積層して形成することができる。
具体的に、上記絶縁フィルムは、上述のように、上述の樹脂組成物をロールコーターまたはカーテンコーター等を使用してフィルム形態に製造した後に乾燥して使用するか、または溶媒キャスティング法等により基材上に上述の樹脂組成物の溶液層を形成し、上記溶液層から溶媒を除去することにより、基材上にフィルムを形成して使用するか、または、上述の樹脂組成物を補強材に塗布または含浸させた後に、これを硬化し、その後乾燥して溶媒を除去することによりプリプレグとして製造して使用することができる。含浸方法の例としては、ディップコーティング法、ロールコーティング法等がある。プリプレグについての詳細な説明は、上記絶縁フィルムの部分で説明した内容通りである。
次に、図3を参照すると、マスク300を用いた露光工程により上記絶縁層200のうちの所定領域を露光する。
本発明の一実施例によれば、上記露光工程のUV波長は、特に制限されないが、350nm〜450nmであることができる。
本発明の一実施例によれば、上記露光工程のUV波長は、特に制限されないが、350nm〜450nmであることができる。
図4を参照すると、現像工程により上記絶縁層200をパターニングしてパターニングされた絶縁層210及びビアホール400を形成する。
上記現像工程は、アルカリ現像液を用いて行われることができる。
上記現像工程は、アルカリ現像液を用いて行われることができる。
上記アルカリ現像液としては、ナトリウムヒドロキシド、カリウムヒドロキシド、ナトリウムカーボネート、ナトリウムシリケート、ナトリウムメタシリケート等無機アルカリ性水溶液類、エチルアミン、n−プロピルアミン等の1次アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の2次アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の3次アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4次アンモニウム塩、ピロール及びピぺリジン等の環状アミン類等を用いることができる。
一方、上記現像工程は、現像液を基板にスプレー噴射する方法、現像液に基板を浸漬後にシェイキングする方法、または現像液に基板を浸漬させて超音波処理する方法を用いて行われることができ、当業界に公知の方法であれば、特に制限されない。
上記ビアホール400は、上記絶縁層200においてマスク300によりマスキングされて露光されない部分が現像工程にて除去されることにより形成できる。
追加的に、上記現像された基板を乾燥し、熱処理して後硬化するステップを含むことができる。乾燥により、現像された基板に残留する溶媒を除去することができ、高温で後硬化することにより、絶縁層の硬化密度を高めることができる。
一方、図示されていないが、当業界に公知の通常の回路層形成方法により、上記ビアホールの形成後に、上記パターニングされた絶縁層にビアを含む回路層を形成するステップをさらに含むことができる。
上述したプリント回路基板の製造方法は、露光及び現像工程によりビアホールを形成することができ、従来技術に比べて工程が簡単でかつコストを低減することができるという利点がある。
以下に、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明し、下記の例が本発明の範疇を限定するものではない。
以下に、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明し、下記の例が本発明の範疇を限定するものではない。
<中間体の合成>
1.N−9−アントリルメチルエチレンジアミン塩酸塩(中間体1)の合成
[反応式3]
エチレンジアミン(25mmol)を100mLエタノールに溶解し、窒素雰囲気下で冷却して0℃にした。
1.N−9−アントリルメチルエチレンジアミン塩酸塩(中間体1)の合成
[反応式3]
5mmolの9−アントラセンカルボキシアルデヒドを300mLのエタノールに溶解し、ゆっくり滴下(dropwise)しながら撹拌した。すべて混合した後に撹拌しながら維持すると、1時間後には黄色溶液となる。この混合液にナトリウムボロハイドライド(60mmol)をエタノール:メタノール=1:1の混合溶液200mLに溶解してゆっくり混合した後に、2時間還流させた。室温に冷却し、さらに48時間撹拌した。全ての溶媒を濃縮して得られた固相の残留物(residue)を500mLのクロロホルムに溶解し、数回水で洗浄した。クロロホルム層を硫酸ナトリウムで乾燥させた後に濾過して濃縮させ固体を得、0.1M塩酸のジエチルエーテル溶液を滴下して沈澱させると、薄い黄色固相の中間体1が得られる。少量のジクロロメタンで洗浄した後に乾燥して、収率71%の固相塩が得られる。1HNMR(300MHz、DMSO−d6):8.80 (s、1H)、8.62−8.58(d、2H)、8.20−8.17(d、2H)、7.70−7.60(m、4H)、5.31(s、2H)、3.63(s、2H)、3.33(s、2H)。
2.ベンジルエチレンジアミン塩酸塩(中間体2)の合成
[反応式4]
[反応式4]
中間体2の合成は、中間体1の合成の実施例と同様に行われるが、但し、9−アントラセンカルボキシアルデヒドの代わりにベンジルアルデヒドを用いて総収率61%が得られた。
3.シクロペンチルエチレンジアミン塩酸塩(中間体3)の合成
[反応式5]
[反応式5]
中間体3の合成は、中間体1の合成の実施例と同様に行われるが、但し、9−アントラセンカルボキシアルデヒドの代わりにシクロペンチルアルデヒドを用いて総収率21%が得られた。
<無機フィラーの製造>
1.表面改質されたシリカスラリー(無機フィラー1〜3)の製造
[反応式6]
1.表面改質されたシリカスラリー(無機フィラー1〜3)の製造
[反応式6]
中間体1のクロロホルム溶液500mLに、(3−Glycidyloxypropyl)trimethoxysilaneにより表面改質されたシリカスラリー(Admatechs、平均粒径0.5μm、固形分70%、溶媒MEK、以下、対照群フィラー) 500mLを混合して激しく撹拌しながら、60℃で10時間程度反応させた。未反応中間体1を除去するために、十分な量のクロロホルムとMEKで洗浄して固体シリカを得、これを再びMEKと混合した後に、ビーズミルにより周速6m/sで分散して固形分71%のシリカスラリー(無機フィラー1)が得られた。
無機フィラー2の製造は、無機フィラー1の製造方法と同様に行われるが、但し、中間体1の代わりに中間体2を用いて固形分66%のシリカスラリー(無機フィラー2)が得られた。
無機フィラー3の製造は、無機フィラー1の製造方法と同様に行われるが、但し、中間体1の代わりに中間体3を用いて固形分61%のシリカスラリー(無機フィラー3)が得られた。
<絶縁フィルム1〜9(実施例1〜6及び比較例1〜3)の製造>
酸変性エポキシアクリレートの感光性樹脂組成物の総量に対して、CCR−1171H(日本化薬、クレゾールノボラック系列)22重量%、及びZFR−1491H(日本化薬、ビスフェノールF系列)9.5重量%を使用した。
酸変性エポキシアクリレートの感光性樹脂組成物の総量に対して、CCR−1171H(日本化薬、クレゾールノボラック系列)22重量%、及びZFR−1491H(日本化薬、ビスフェノールF系列)9.5重量%を使用した。
光重合性単量体として、感光性樹脂組成物の総量に対してジペンタエリスリトールヘキサクリレート3.7重量%、UX−5000(日本化薬、ウレタンアクリレート系列)0.6重量%及びメタクリロイルプロピルトリメトキシシラン2.5重量%を使用した。
熱硬化性エポキシ樹脂として、感光性樹脂組成物の総量に対してEpikote631 (Momentive、ビスフェノールAノボラック型)20重量%を使用し、無機フィラーとして上述の無機フィラー1スラリーを39.5重量%使用した。
光重合開始剤として、感光性樹脂組成物の総量に対して、Irgacure907 (BASF、α−アミノケトン系列)0.3重量%、熱重合開始剤として、VAM−110(WACO、アゾ系列)0.3重量%、硬化触媒として、2−エトキシ−4−メチルベンゾイミダゾール0.3重量%、UV吸収剤として、FA5380(DIC)0.13重量%を使用した。
全成分を撹拌により均一に混合し、ビーズミルの周速6m/sで分散させて感光性樹脂組成物を製造した。得られた樹脂ワニスをバーコーターを用いて厚さ約38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PET)上に塗布し、乾燥後の樹脂の厚さが約30μmとなるように約10分間乾燥して絶縁フィルム(実施例1)を得た。
実施例2の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われ、但し、無機フィラー1のスラリーの代わりに無機フィラー2のスラリーを使用した。
実施例3の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー1のスラリーの代わりに無機フィラー 3 スラリーを使用した。
実施例3の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー1のスラリーの代わりに無機フィラー 3 スラリーを使用した。
比較例1の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー1のスラリーの代わりに対照群フィラーのスラリーを使用した。
実施例4の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー1のスラリーを19.5重量%使用した。
実施例4の製造は、実施例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー1のスラリーを19.5重量%使用した。
実施例5の製造は、実施例2の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー2のスラリーを19.5重量%使用した。
実施例6の製造は、実施例3の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー3のスラリーを19.5重量%使用した。
実施例6の製造は、実施例3の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラー3のスラリーを19.5重量%使用した。
比較例2の製造は、比較例1の製造方法と同様に行われるが、但し、対照群フィラーのスラリーを19.5重量%使用した。
比較例3の製造は、比較例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラーを使用しなかった。
比較例3の製造は、比較例1の製造方法と同様に行われるが、但し、無機フィラーを使用しなかった。
上記の製造結果を下記の表1に示した。
<絶縁フィルムのラミネート>
上記で得られた実施例1(絶縁フィルム1)を表面粗度処理された内層回路基板(導体の厚さ18μm、総厚0.4mm)の一面にMEIKI Co.、Ltd.の真空加圧式ラミネータを使用して、約80℃で20秒間真空吸引後に、約80℃、圧力約8kg/cm2の条件で、約30秒間プレスすることでラミネーションした。比較例1(絶縁フィルム4)についても同様に行った。実施例2〜6及び比較例2と3(絶縁フィルム2、3、5、6、7、8、9)については、ラミネート工程を行わなかった。但し、UVコンベア炉にて積算露光量2000mJ/cm2の条件で照射した後、180℃にて1時間硬化して屈折率を測定するための硬化フィルムを製造した。
上記で得られた実施例1(絶縁フィルム1)を表面粗度処理された内層回路基板(導体の厚さ18μm、総厚0.4mm)の一面にMEIKI Co.、Ltd.の真空加圧式ラミネータを使用して、約80℃で20秒間真空吸引後に、約80℃、圧力約8kg/cm2の条件で、約30秒間プレスすることでラミネーションした。比較例1(絶縁フィルム4)についても同様に行った。実施例2〜6及び比較例2と3(絶縁フィルム2、3、5、6、7、8、9)については、ラミネート工程を行わなかった。但し、UVコンベア炉にて積算露光量2000mJ/cm2の条件で照射した後、180℃にて1時間硬化して屈折率を測定するための硬化フィルムを製造した。
<ビアホールの形成>
上記ラミネートされた実施例1及び比較例1を、Midas社 Mask Aligner「MDA12000」露光装置を用いて最適露光量でビアホールのパターンを露光し、25℃の1%の炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧約0.3MPaの条件で約30秒間現像してビアホールのパターンを得た後、UVコンベア炉にて積算露光量2000mJ/cm2の条件で照射した後、180℃で1時間硬化して、ビアホールが形成されたプリント回路基板を得た。特に、比較例1(絶縁フィルム4)から得られたプリント回路基板のビアホールパターン形状のSEM写真を対照群として図7に示し、屈折率の差異を低減させた実施例1(絶縁フィルム1)から得られたプリント回路基板のビアホールパターン形状の表面SEM写真と断面の顕微鏡写真を図8に示した。当該ビアホールの形成による解像力の差を下記の表2に示した。
上記ラミネートされた実施例1及び比較例1を、Midas社 Mask Aligner「MDA12000」露光装置を用いて最適露光量でビアホールのパターンを露光し、25℃の1%の炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧約0.3MPaの条件で約30秒間現像してビアホールのパターンを得た後、UVコンベア炉にて積算露光量2000mJ/cm2の条件で照射した後、180℃で1時間硬化して、ビアホールが形成されたプリント回路基板を得た。特に、比較例1(絶縁フィルム4)から得られたプリント回路基板のビアホールパターン形状のSEM写真を対照群として図7に示し、屈折率の差異を低減させた実施例1(絶縁フィルム1)から得られたプリント回路基板のビアホールパターン形状の表面SEM写真と断面の顕微鏡写真を図8に示した。当該ビアホールの形成による解像力の差を下記の表2に示した。
<絶縁フィルムの屈折率の測定>
実施例1〜6及び比較例1〜3(絶縁フィルム1〜9)で得られた板状の硬化された絶縁フィルムを所定の同じ大きさで切断して屈折率を測定した後、外挿してそれぞれの屈折率を確認した。当該外挿法を図5に示した。
実施例1〜6及び比較例1〜3(絶縁フィルム1〜9)で得られた板状の硬化された絶縁フィルムを所定の同じ大きさで切断して屈折率を測定した後、外挿してそれぞれの屈折率を確認した。当該外挿法を図5に示した。
図5の場合、シリカフィラーのない比較例3(絶縁フィルム9)の結果、及び19.5重量%と39.5重量%を使用した実施例3(絶縁フィルム3)と実施例6(絶縁フィルム7)についてグラフに示し、無機フィラー3の100.0重量%の値を外挿して計算することができた。
それぞれの無機フィラーの屈折率の値と樹脂自体の屈折率の値(比較例3、絶縁フィルム9)とを下記の表3に示した。
上記表3を参照すると、本発明の一実施形態に係る多重芳香環誘導体により表面処理された無機フィラー1は、樹脂のみで構成された組成物(比較例3、絶縁フィルム9)との屈折率の差異が最も小さい一方、表1の比較例1及び2に適用した対照群フィラーの場合は、樹脂のみで構成された組成物との屈折率の差異が大きく示された。
表2を参照すると、本発明に係る無機フィラーは、屈折率の差異を低減させ、光の直進性を増加させることにより解像力が向上されたことを確認できる。当該結果を説明するための図式を図6に示した。
以上のように、本発明を具体的な実施例により詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであって、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を有する者によりその変形や改良が可能であることは明らかである。
本発明の単純な変形及び変更はすべて本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付された特許請求の範囲からより明確になるであろう。
100 基板
200 絶縁層
210 パターニングされた絶縁層
300 マスク
400 ビアホール
200 絶縁層
210 パターニングされた絶縁層
300 マスク
400 ビアホール
Claims (15)
- 光重合性化合物と、
光開始剤と、
下記の化学式1a又は化学式1bで表される多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカと、
を含む感光性樹脂組成物。
[化学式1a]
- 前記光重合性化合物は、酸変性エポキシアクリレート樹脂である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 365nmまたは405nm領域で吸収が可能な光開始剤を含む請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記多重芳香環誘導体は、化学式2で表される多重芳香環を含むアルデヒド化合物と、化学式3又は化学式4で表されるジアミン系化合物とを反応させて製造された化学式5a又は化学式5bで表される誘導体である請求項1から3の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物。
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5a]
- 前記シリカは、室温で化学式5a又は化学式5bで表される多重芳香環誘導体とシリカとを反応式2により反応させて製造される請求項4に記載の感光性樹脂組成物。
[反応式2]
- 前記感光性樹脂組成物の全重量に対して、前記光重合性化合物は、20〜80重量部であり、光開始剤は、0.1〜3重量部であり、シリカは、17〜77重量部である請求項1から5の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記シリカは、平均粒径が0.05〜5μmである請求項1から6の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂及び硬化剤をさらに含む請求項1から7の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物の全重量に対し、エポキシ樹脂は、1〜40重量部であり、アクリレート樹脂は、1〜40重量部であり、硬化剤は、0.1〜3重量部である請求項8に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1から9の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物を含有する絶縁フィルム。
- 50ppm/℃以下の低い熱膨脹係数(CTE)を有し、絶縁層として使用可能である請求項10に記載の絶縁フィルム。
- 請求項1から9の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物を含有する絶縁層を含むプリント回路基板。
- 化学式2で表される多重芳香環を含むアルデヒド化合物と、化学式3又は化学式4で表されるジアミン系化合物とを反応させて化学式5a又は化学式5bで表される誘導体を製造するステップを含む、感光性樹脂組成物用無機フィラーの製造方法。
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5a]
- 請求項1から9の何れか1項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に積層して絶縁層を形成するステップと、露光及び現像工程により前記絶縁層にビアホールを形成するステップと、
を含むプリント回路基板の製造方法。 - 前記ビアホールは、40μm以下の大きさを有する請求項14に記載のプリント回路基板の製造方法。
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JP2017172055A Pending JP2018055093A (ja) | 2016-09-27 | 2017-09-07 | 多重芳香環誘導体により表面改質されたシリカを含む感光性樹脂組成物、これを用いたプリント回路基板及びその製造方法 |
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