JP2018049962A - Electrode construction of light emission diode - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode construction capable of reducing a used amount of gold, and reducing the cost.SOLUTION: In an electrode construction of a light emission diode, an adhesion layer 10 accumulated on the light emission diode and a bond pad layer 20 accumulated on the adhesion layer are packaged. The bond pad layer includes: at least two first metal layers 22 that are alternately sequentially accumulated; at least two second metal layers 21; and a gold layer 23 set to the outermost side. The first metal layer is any one of a group consisting of aluminium and an aluminium alloy. The second metal layer is any one of a group formed by titanium, nickel, chromium, platinum, palladium, titanium nitride, titanium tungsten, tungsten, rhodium, and copper. A main construction of the bond pad layer is a lamination construction of the first and second metal layers. A material of low cost is used for the first metal layer, and a material of high hardness is used for the second metal layer.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、発光ダイオード、特に発光ダイオードの電極構成に関するものである。   The present invention relates to a light emitting diode, and more particularly to an electrode configuration of a light emitting diode.

青色発光ダイオードを例とすると、発光ダイオード(Light Emitting Diode、LED)は、発光する半導体材料である多重エピタキシャルからなっている。主に窒化ガリウム系(GaN−based)エピタキシャルから生成し、主体構成がN型半導体層、発光層及びP型半導体層を包含するサンドウィッチ構成を堆積するように形成する発光主体であって、発光ダイオードはその構成から水平型、垂直型及びフリップ型発光ダイオード等に分けることができ、その主体構成は、N型半導体層、発光層及びP型半導体層を包含している。   Taking a blue light-emitting diode as an example, the light-emitting diode (Light Emitting Diode, LED) is made of multiple epitaxials, which are semiconductor materials that emit light. A light emitting main body formed mainly from a gallium nitride-based (GaN-based) epitaxial layer, wherein the main structure is formed so as to deposit a sandwich structure including an N-type semiconductor layer, a light-emitting layer, and a P-type semiconductor layer. Can be divided into horizontal type, vertical type, flip type light emitting diodes, and the like from its configuration, and the main configuration includes an N type semiconductor layer, a light emitting layer, and a P type semiconductor layer.

図1を参照すると、付着層1及びボンドパッド層2を主に包含する周知の発光ダイオードの電極構成であって、そのうち、前記付着層1は、クロム層1A(18オングストローム)、第一金属層1B(2500オングストローム)及び第二金属層1C(500オングストローム)を包括し、前記ボンドパッド層2は、白金層2A(400オングストローム)及び金層2B(18000オングストローム)を包括し、且つワイヤボンディングを行うために用いており、ワイヤボンディングの際の硬度という需要と、エレクトロマイグレーションの減少という需要とを満たすため、前記金層2Bの厚さは、18000オングストロームに達しなけらばならず、明らかに金の使用量は極めて多い。これは、アルミニウムの硬度が低いため、ワイヤボンディングが行い難く、且つ大電流で操作するとエレクトロマイグレーションが発生してしまうことからである。金のコストは、アルミニウムより遥かにかかるため、その製造コストは、極めて高いものとなっている。   Referring to FIG. 1, the electrode structure of a known light emitting diode mainly including an adhesion layer 1 and a bond pad layer 2, wherein the adhesion layer 1 includes a chromium layer 1A (18 Å), a first metal layer. 1B (2500 angstroms) and a second metal layer 1C (500 angstroms), and the bond pad layer 2 includes a platinum layer 2A (400 angstroms) and a gold layer 2B (18000 angstroms), and performs wire bonding. In order to satisfy the demand for hardness during wire bonding and the demand for reduced electromigration, the thickness of the gold layer 2B must reach 18000 angstroms, obviously gold The amount used is extremely large. This is because, since aluminum has a low hardness, wire bonding is difficult to perform, and electromigration occurs when operated with a large current. Since the cost of gold is much higher than that of aluminum, its manufacturing cost is extremely high.

製造コストを低減するため、発光ダイオードの光電特性、或いはそれに近似する効果を変えないという前提で、金の代わりとしてその他の材料を用いることが現在の当該分野の発展方向であって、例えば、特許文献1は、アルミニウムの代わりにアルミニウム合金を用いることで、大電流で操作するとエレクトロマイグレーションが発生してしまう現象を解決しているが、アルミニウム合金の特性は、アルミニウムに極めて相似していることから、やはりワイヤボンディングの際の硬度の需要を満たすことができない上、エレクトロマイグレーションが発生してしまう現象を本当の意味で解決することができない。   In order to reduce the manufacturing cost, the use of other materials instead of gold on the premise that the photoelectric characteristics of the light emitting diode or the effect similar thereto is not changed is the current development direction of the field, for example, patents Reference 1 uses an aluminum alloy instead of aluminum to solve the phenomenon of electromigration occurring when operated at a large current, but the characteristics of aluminum alloy are very similar to aluminum. After all, the demand for hardness during wire bonding cannot be satisfied, and the phenomenon that electromigration occurs cannot be solved in a true sense.

台湾特許第I497767号Taiwan Patent No. I497767

本発明の主な目的は、金の使用量を削減し、コストを低減することが可能な電極構成を提供することにある。   A main object of the present invention is to provide an electrode configuration capable of reducing the amount of gold used and reducing the cost.

本発明は、発光ダイオード上に応用し、前記発光ダイオード上に堆積する付着層と、前記付着層上に堆積するボンドパッド層とを包括する発光ダイオードの電極構成であって、前記ボンドパッド層は、順次交互に堆積する少なくとも二層の第一金属層、少なくとも二層の第二金属層と、最も外側に設置する金層とを有し、前記第一金属層は、アルミニウム、アルミニウム合金からなる群のいずれかであって、前記第二金属層は、チタン、ニッケル、クロム、白金、パラジウム、窒化チタン、チタンタングステン、タングステン、ロジウム、銅(Ti、Ni、Cr、Pt、Pd、TiN、TiW、W、Rh、Cu)からなる群のいずれかである。   The present invention is applied to a light emitting diode, and is an electrode configuration of a light emitting diode including an adhesion layer deposited on the light emitting diode and a bond pad layer deposited on the adhesion layer, wherein the bond pad layer includes: And at least two first metal layers deposited alternately, at least two second metal layers, and an outermost gold layer, wherein the first metal layer is made of aluminum or an aluminum alloy. The second metal layer of any one of the group consisting of titanium, nickel, chromium, platinum, palladium, titanium nitride, titanium tungsten, tungsten, rhodium, copper (Ti, Ni, Cr, Pt, Pd, TiN, TiW , W, Rh, Cu).

これにより、本発明は、前記ボンドパッド層の主な構成を、コストが低いアルミニウム、アルミニウム合金からなる群のいずれかである前記第一金属層と、硬度が高いチタン、ニッケル、クロム、白金、パラジウム、窒化チタン、チタンタングステン、タングステン、ロジウム、銅からなる群のいずれかである前記第二金属層との積層構成とすることで、、第一金属層が柔らか過ぎてワイヤボンディングが行い難く且つエレクトロマイグレーションがあるという問題を改善し、金の使用量を大幅に削減することができるため、従来の構成と比べ、製造コストを低減することができ、製造上の需要を満たすことができる。   As a result, the present invention has a main configuration of the bond pad layer, the first metal layer being one of the group consisting of low-cost aluminum and aluminum alloy, and high hardness titanium, nickel, chromium, platinum, By adopting a laminated configuration with the second metal layer that is one of the group consisting of palladium, titanium nitride, titanium tungsten, tungsten, rhodium, and copper, the first metal layer is too soft and wire bonding is difficult to perform. Since the problem of electromigration can be improved and the amount of gold used can be greatly reduced, the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing demand can be satisfied as compared with the conventional configuration.

従来の発光ダイオードの電極構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the electrode structure of the conventional light emitting diode. 本発明に係る発光ダイオードの電極構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the electrode structure of the light emitting diode which concerns on this invention. 本発明に係る電極構成の消費パワーと従来の電極構成の消費パワーとを比較した比較図である。It is the comparison figure which compared the power consumption of the electrode structure which concerns on this invention, and the power consumption of the conventional electrode structure. 本発明に係る電極構成の順方向電圧と従来の電極構成の順方向電圧とを比較した比較図である。It is the comparison figure which compared the forward voltage of the electrode structure which concerns on this invention, and the forward voltage of the conventional electrode structure. 本発明に係る電極構成の変換効率と従来の電極構成の変換効率とを比較した比較図である。It is the comparison figure which compared the conversion efficiency of the electrode structure which concerns on this invention, and the conversion efficiency of the conventional electrode structure.

以下において、本発明に係る詳細な内容及び技術的説明を実施例を用いて詳細に説明するが、これ等実施例は、説明を行うために用いるだけであって、本発明の実施を制限するものではない。   In the following, detailed contents and technical description according to the present invention will be described in detail using examples, but these examples are only used for explanation and limit the implementation of the present invention. It is not a thing.

図2を参照すると、本発明は、発光ダイオード上に応用し、前記発光ダイオード上に堆積する付着層10と、前記付着層10上に堆積するボンドパッド層20とを包括する発光ダイオードの電極構成であって、前記ボンドパッド層20は、順次交互に堆積する少なくとも二層の第一金属層21、少なくとも二層の第二金属層22と、最も外側に設置する金層23とを有し、前記第一金属層21は、アルミニウム、アルミニウム合金からなる群のいずれかであって、前記第二金属層22は、チタン、ニッケル、クロム、白金、パラジウム、窒化チタン、チタンタングステン、タングステン、ロジウム、銅(Ti、Ni、Cr、Pt、Pd、TiN、TiW、W、Rh、Cu)からなる群のいずれかである。   Referring to FIG. 2, the present invention is applied to a light emitting diode, and includes an electrode configuration of a light emitting diode including an adhesion layer 10 deposited on the light emitting diode and a bond pad layer 20 deposited on the adhesion layer 10. The bond pad layer 20 includes at least two first metal layers 21 that are alternately deposited, at least two second metal layers 22, and an outermost gold layer 23, The first metal layer 21 is one of a group consisting of aluminum and an aluminum alloy, and the second metal layer 22 is titanium, nickel, chromium, platinum, palladium, titanium nitride, titanium tungsten, tungsten, rhodium, One of the group consisting of copper (Ti, Ni, Cr, Pt, Pd, TiN, TiW, W, Rh, Cu).

また、前記ボンドパッド層20は、前記第二金属層22及び前記金層23の間に介する白金層24をさらに有している。前記付着層10は、クロム層11を有することができ、且つ、前記付着層10は、前記クロム層11に順次堆積するアルミニウム層12及びチタン層13をさらに有することができ、発光ダイオードのN型半導体層或いはP型半導体層上に粘着することによって電極構成の脱落を防ぐようするために前記付着層10を用いている。また、発光ダイオードのN型電極或いはP型電極として使用することができる。   The bond pad layer 20 further includes a platinum layer 24 interposed between the second metal layer 22 and the gold layer 23. The adhesion layer 10 may include a chromium layer 11, and the adhesion layer 10 may further include an aluminum layer 12 and a titanium layer 13 that are sequentially deposited on the chromium layer 11. The adhesion layer 10 is used to prevent the electrode configuration from falling off by sticking on the semiconductor layer or the P-type semiconductor layer. Further, it can be used as an N-type electrode or a P-type electrode of a light emitting diode.

次に、図3、図4及び図5を参照すると、それぞれ本発明に係る電極構成の効果と従来の電極構成の効果とを比較した比較図であって、そのうち、本発明に係る電極構成にある前記付着層10及び前記ボンドパッド層20は、図2のような構成となっており、本発明に係る実施例において、各層の厚さ及びその材料は、前記付着層10の前記クロム層11の厚さが18オングストローム、前記アルミニウム層12の厚さが2500オングストローム、前記チタン層13の厚さが500オングストロームとなっており、前記第一金属層21及び前記第二金属層22の材料は、それぞれアルミニウム及びはチタンとし、そのうち、アルミニウムの厚さが10000オングストローム、チタンの厚さが500オングストロームとなっており、前記ボンドパッド層20の前記白金層24は、その厚さが400オングストローム、前記金層23は、その厚さが2000オングストロームとなっている。   Next, referring to FIGS. 3, 4, and 5, each is a comparative diagram comparing the effect of the electrode configuration according to the present invention and the effect of the conventional electrode configuration, and of these, the electrode configuration according to the present invention is compared. The certain adhesion layer 10 and the bond pad layer 20 are configured as shown in FIG. 2. In the embodiment according to the present invention, the thickness and material of each layer are the chromium layer 11 of the adhesion layer 10. The thickness of the aluminum layer 12 is 2500 angstroms, the thickness of the titanium layer 13 is 500 angstroms, and the materials of the first metal layer 21 and the second metal layer 22 are: Aluminum and titanium, respectively, of which aluminum has a thickness of 10,000 angstroms and titanium has a thickness of 500 angstroms. The platinum layer 24 of Dopaddo layer 20 has a thickness of 400 angstroms, the gold layer 23 has a thickness is in the 2000 angstrom.

これに引換え、図1のような従来の構成の場合、各層のそれぞれの厚さは、クロム層が18オングストローム、アルミニウム層が2500オングストローム、チタン層が500オングストローム、白金層が400オングストローム、金層が18000オングストロームとなっている。   In contrast, in the case of the conventional configuration as shown in FIG. 1, the thickness of each layer is 18 angstroms for the chromium layer, 2500 angstroms for the aluminum layer, 500 angstroms for the titanium layer, 400 angstroms for the platinum layer, and 400 angstroms for the gold layer. It is 18000 angstroms.

本発明は、上述した本発明に係る電極構成と従来の電極構成とを、それぞれN型電極及びP型電極として使用し、さらに、それぞれの順方向電流(Forward current)下における消費パワー(Power)、順方向電圧(Forward Voltage)及び変換効率(walplugeficiency,WPE)を測定した曲線比較図を作成し、そのうち、本発明に係る電極構成の曲線はA1、A2、A3で表し、従来の電極構成の曲線はB1、B2、B3で表している。   The present invention uses the above-described electrode configuration according to the present invention and the conventional electrode configuration as an N-type electrode and a P-type electrode, respectively, and further consumes power under the respective forward currents (Power). A curve comparison diagram measuring forward voltage (Forward Voltage) and conversion efficiency (Walfilliness, WPE) was prepared, and the curves of the electrode configuration according to the present invention are represented by A1, A2, and A3. The curves are represented by B1, B2, and B3.

消費パワーについて、図3からわかるとおり、本発明に係る電極構成を表す曲線A1は、低順方向電流の際、従来の電極構成を表す曲線B1とほぼ同一で、順方向電流の増加に伴い、消費パワーが僅かに増加するものの、その差異は極めて限られいている。   Regarding the power consumption, as can be seen from FIG. 3, the curve A1 representing the electrode configuration according to the present invention is substantially the same as the curve B1 representing the conventional electrode configuration at the time of the low forward current, and as the forward current increases, Although the power consumption increases slightly, the difference is very limited.

順方向電圧について、図4からわかるとおり、本発明に係る電極構成を表す曲線A2は、低順方向電流の際、従来の電極構成を表す曲線B2とほぼ同一で、順方向電流の増加に伴い、順方向電圧が僅かに増加するものの、その差異は依然として極めて限られいている。   Regarding the forward voltage, as can be seen from FIG. 4, the curve A2 representing the electrode configuration according to the present invention is substantially the same as the curve B2 representing the conventional electrode configuration at the time of the low forward current, and as the forward current increases. Although the forward voltage is slightly increased, the difference is still very limited.

変換効率について、図5からわかるとおり、本発明に係る電極構成を表す曲線A3は、従来の電極構成を表す曲線B3とほぼ同一である。   Regarding the conversion efficiency, as can be seen from FIG. 5, the curve A3 representing the electrode configuration according to the present invention is almost the same as the curve B3 representing the conventional electrode configuration.

以上のことから、本発明は、前記ボンドパッド層の主な構成を第一金属層及び第二金属層の積層構成とすることで、第一金属層が柔らか過ぎてワイヤボンディングが行い難く且つエレクトロマイグレーションがあるという問題を改善し、金の使用量を大幅に削減することができるため、従来の構成と比べると、図3乃至図5のように、その光電特性には大きな差異がなく、本発明に係る実施例でいうと、コストが比較的に高い金層は、厚さを13000オングストローム節約することができると同時に、コストが比較的に低いチタン層及びアルミニウム層をそれぞれ1000オングストローム及び20000オングストローム増加しており、これは明らかに、製造コストを低減し、製造上の需要を満たすことができるといえる。   From the above, the present invention is such that the main structure of the bond pad layer is a laminated structure of the first metal layer and the second metal layer, so that the first metal layer is too soft and wire bonding is difficult to perform. Since the problem of migration can be improved and the amount of gold used can be greatly reduced, there is no significant difference in photoelectric characteristics as shown in FIGS. In an embodiment according to the invention, a relatively high cost gold layer can save 13000 angstroms in thickness, while a relatively low cost titanium and aluminum layer are 1000 angstroms and 20000 angstroms, respectively. This is clearly an increase, which can be said to reduce manufacturing costs and meet manufacturing demands.

なお、上述したものは、あくまでも本発明の好ましい実施例に過ぎず、本発明が実施する範囲を限定するものではない。本発明が請求する範囲に基づいて行った変更及び修正は、いずれも本発明が請求する範囲に属するものである。   In addition, what was mentioned above is only a preferable Example of this invention, and does not limit the range which this invention implements. Any changes and modifications made based on the scope claimed by the present invention shall fall within the scope claimed by the present invention.

1 付着層
1A クロム層
1B アルミニウム層
1C チタン層
2 ボンドパッド層
2A 白金層
2B 金層
A1、A2、A3、B1、B2、B3 電極構成を表す曲線
10 付着層
11 クロム層
12 アルミニウム層
13 チタン層
20 ボンドパッド層
21 第一金属層
22 第二金属層
23 金層
24 白金層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Adhesion layer 1A Chromium layer 1B Aluminum layer 1C Titanium layer 2 Bond pad layer 2A Platinum layer 2B Gold layer A1, A2, A3, B1, B2, B3 Curve 10 representing electrode configuration Adhesion layer 11 Chrome layer 12 Aluminum layer 13 Titanium layer 20 Bond pad layer 21 First metal layer 22 Second metal layer 23 Gold layer 24 Platinum layer

Claims (7)

発光ダイオード上に応用し、前記発光ダイオード上に堆積する付着層と、前記付着層上に堆積するボンドパッド層とを包括する発光ダイオードの電極構成であって、
前記ボンドパッド層は、順次交互に堆積する少なくとも二層の第一金属層、少なくとも二層の第二金属層と、最も外側に設置する金層とを有し、前記第一金属層は、アルミニウム、アルミニウム合金からなる群のいずれかであって、前記第二金属層は、チタン、ニッケル、クロム、白金、パラジウム、窒化チタン、チタンタングステン、タングステン、ロジウム、銅からなる群のいずれかであることを特徴とする発光ダイオードの電極構成。
An electrode configuration of a light emitting diode, which is applied on a light emitting diode and includes an adhesion layer deposited on the light emitting diode and a bond pad layer deposited on the adhesion layer,
The bond pad layer has at least two first metal layers deposited alternately in sequence, at least two second metal layers, and an outermost gold layer, and the first metal layer is made of aluminum. The second metal layer is any one of the group consisting of titanium, nickel, chromium, platinum, palladium, titanium nitride, titanium tungsten, tungsten, rhodium, and copper. The electrode structure of the light emitting diode characterized by this.
前記ボンドパッド層は、前記第二金属層及び前記金層の間に介する白金層をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオードの電極構成。   The electrode structure of the light emitting diode according to claim 1, wherein the bond pad layer further includes a platinum layer interposed between the second metal layer and the gold layer. 前記付着層は、クロム層を有することを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオードの電極構成。   The electrode structure of the light emitting diode according to claim 1, wherein the adhesion layer includes a chromium layer. 前記付着層は、前記クロム層に順次堆積するアルミニウム層及びチタン層をさらに有することを特徴とする請求項3に記載の発光ダイオードの電極構成。   The electrode structure of the light emitting diode according to claim 3, wherein the adhesion layer further includes an aluminum layer and a titanium layer sequentially deposited on the chromium layer. 前記付着層の前記クロム層の厚さが18オングストローム、前記アルミニウム層の厚さが2500オングストローム、前記チタン層の厚さが500オングストロームであることを特徴とする請求項4に記載の発光ダイオードの電極構成。   The electrode of claim 4, wherein the chromium layer of the adhesion layer has a thickness of 18 angstroms, the aluminum layer has a thickness of 2500 angstroms, and the titanium layer has a thickness of 500 angstroms. Constitution. 前記第一金属層及び前記第二金属層の材料は、それぞれアルミニウム及びはチタンとし、そのうち、アルミニウムの厚さが10000オングストローム、チタンの厚さが500オングストロームであることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオードの電極構成。   The material of the first metal layer and the second metal layer is aluminum and titanium, respectively, wherein the aluminum has a thickness of 10,000 angstroms and the titanium has a thickness of 500 angstroms. The electrode structure of the described light emitting diode. 前記ボンドパッド層の前記白金層は、その厚さが400オングストローム、前記金層は、その厚さが2000オングストロームであることを特徴とする請求項2に記載の発光ダイオードの電極構成。   The electrode structure of a light emitting diode according to claim 2, wherein the platinum layer of the bond pad layer has a thickness of 400 angstroms, and the gold layer has a thickness of 2000 angstroms.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114335197A (en) * 2022-03-11 2022-04-12 浙江爱旭太阳能科技有限公司 Conductive contact structure and assembly of solar cell and power generation system
CN116646435A (en) * 2023-07-26 2023-08-25 江西兆驰半导体有限公司 Flip light-emitting diode chip and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000252230A (en) * 1998-12-28 2000-09-14 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor element and its manufacture
JP2007073789A (en) * 2005-09-08 2007-03-22 Showa Denko Kk Electrodes for semiconductor light emitting device
JP2013084906A (en) * 2011-09-27 2013-05-09 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor element

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000252230A (en) * 1998-12-28 2000-09-14 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor element and its manufacture
JP2007073789A (en) * 2005-09-08 2007-03-22 Showa Denko Kk Electrodes for semiconductor light emitting device
JP2013084906A (en) * 2011-09-27 2013-05-09 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor element

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114335197A (en) * 2022-03-11 2022-04-12 浙江爱旭太阳能科技有限公司 Conductive contact structure and assembly of solar cell and power generation system
CN114335197B (en) * 2022-03-11 2022-08-19 浙江爱旭太阳能科技有限公司 Conductive contact structure and assembly of solar cell and power generation system
US11929441B2 (en) 2022-03-11 2024-03-12 Solarlab Aiko Europe Gmbh Conductive contact structure of solar cell, solar module, and power generation system
CN116646435A (en) * 2023-07-26 2023-08-25 江西兆驰半导体有限公司 Flip light-emitting diode chip and preparation method thereof
CN116646435B (en) * 2023-07-26 2023-09-19 江西兆驰半导体有限公司 Flip light-emitting diode chip and preparation method thereof

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