JP2018044926A - 組成分析方法および組成分析システム - Google Patents
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- G01N23/2255—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident ion beams, e.g. proton beams
- G01N23/2257—Measuring excited X-rays, i.e. particle-induced X-ray emission [PIXE]
Abstract
Description
図1は、第1実施形態に係る組成分析システムの概略的な構成を示す模式図である。図1に示すように、本実施形態に係る組成分析システム1は、イオンビーム照射装置10と、電子ビーム照射装置20と、X線検出器30と、電子検出器40、50、60と、分析制御装置70と、を備える。組成分析システム1では、分析制御装置70以外の構成要素は、チャンバー80内に配置されている。
図5は、第2実施形態に係る組成分析システムの概略的な構成を示す模式図である。図5では、第1実施形態と同様の構成要素には同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。
Claims (8)
- 試料にイオンビームを照射し、
前記イオンビームの照射によって薄くなった前記試料の特定位置に向けて電子ビームを照射し、
前記電子ビームの照射によって前記試料で発生したX線の強度を検出し、
前記イオンビームの照射、前記電子ビームの照射、および前記X線の強度検出を繰り返した結果に基づいて、前記試料に含まれる元素の組成を分析する、組成分析方法。 - 前記イオンビームの照射と、前記電子ビームの照射および前記X線の強度検出とを同じ場所で行う、請求項1に記載の組成分析方法。
- 前記イオンビームの照射と、前記電子ビームの照射および前記X線の強度検出とを異なる場所で行う、請求項1に記載の組成分析方法。
- 前記X線の強度の検出回数が設定回数に達するまで、前記イオンビームの照射、前記電子ビームの照射、および前記X線の強度検出を繰り返し、前記検出回数が前記設定回数に達すると、検出した前記X線の強度に基づいて前記元素の組成を分析する、請求項1から3のいずれかに記載の組成分析方法。
- 外挿法を用いて前記元素の組成を分析する、請求項1から4のいずれかに記載の組成分析方法。
- 前記試料の側方から前記イオンビームを照射し、前記試料の上方から前記電子ビームを照射する、請求項1から5のいずれかに記載の組成分析方法。
- 前記電子ビームの照射時に前記試料を透過した電子も検出する、請求項1から6のいずれかに記載の組成分析方法。
- 試料にイオンビームを照射するイオンビーム照射装置と、
前記イオンビームの照射によって薄くなった前記試料の特定位置に向けて電子ビームを照射する電子ビーム照射装置と、
前記電子ビームの照射によって前記試料で発生したX線の強度を検出するX線検出器と、
前記イオンビームの照射、前記電子ビームの照射、および前記X線の強度検出が繰り返されるように、前記イオンビーム照射装置、前記電子ビーム照射装置、および前記X線検出器を制御し、前記X線検出器の検出結果に基づいて前記試料に含まれる元素の組成を分析する分析制御装置と、
を備える組成分析システム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016181822A JP6749189B2 (ja) | 2016-09-16 | 2016-09-16 | 組成分析方法および組成分析システム |
US15/449,671 US10422758B2 (en) | 2016-09-16 | 2017-03-03 | Composition analysis method and composition analysis system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016181822A JP6749189B2 (ja) | 2016-09-16 | 2016-09-16 | 組成分析方法および組成分析システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018044926A true JP2018044926A (ja) | 2018-03-22 |
JP6749189B2 JP6749189B2 (ja) | 2020-09-02 |
Family
ID=61620241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016181822A Active JP6749189B2 (ja) | 2016-09-16 | 2016-09-16 | 組成分析方法および組成分析システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10422758B2 (ja) |
JP (1) | JP6749189B2 (ja) |
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2016
- 2016-09-16 JP JP2016181822A patent/JP6749189B2/ja active Active
-
2017
- 2017-03-03 US US15/449,671 patent/US10422758B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180080886A1 (en) | 2018-03-22 |
JP6749189B2 (ja) | 2020-09-02 |
US10422758B2 (en) | 2019-09-24 |
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