JP2018041797A - Wound body and sheet for substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wound body that can reduce peeling of a resin layer from an inorganic insulation layer and formation of air bubbles, and a sheet for substrate.SOLUTION: The present wound body has a wound structure in which a long laminated sheet 1 is wound in the lengthwise direction. The laminated sheet 1 includes a long support sheet 5, an inorganic insulation layer 9 that is arranged on the support sheet 5 and includes a plurality of inorganic insulation particles 15, and a first resin layer 11 that is arranged on the inorganic insulation layer 9. The lateral faces of the inorganic insulation layer 9 in the width direction of the support sheet 5 are exposed; and the inorganic insulation layer 9 includes a gap-containing layer 91 in which the lateral faces in the width direction of the support sheet 5 are exposed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、巻回体および基板用シートに関する。   The present invention relates to a wound body and a substrate sheet.

従来、電子機器における実装構造体としては、配線基板に電子部品を実装したものが知られている。このような配線基板を形成するための積層シートは、例えば、銅箔(支持シート)に樹脂層を形成して構成されている。この積層シートは耳部がカットされて支持シートと樹脂層の幅が揃えられ、巻回することによりドラム状にした巻回体が作製され、この状態で販売されている。または、積層シートが所定長さにカットされた基板用シートとして販売されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a mounting structure in an electronic device is known in which an electronic component is mounted on a wiring board. A laminated sheet for forming such a wiring board is configured by forming a resin layer on a copper foil (support sheet), for example. The laminated sheet is cut at the ears so that the widths of the support sheet and the resin layer are uniform, and wound to form a drum-shaped wound body, which is sold in this state. Alternatively, the laminated sheet is sold as a substrate sheet cut to a predetermined length.

巻回体を用いて配線基板を作製する際には、巻回体から、所定長さだけ積層シートが引き出され、所定長さにカットされ、このカットされた基板用シートを複数枚、真空状態で加熱し加圧されて積層される。銅箔の一部は、エッチングされて配線とされる。   When producing a wiring board using a wound body, a laminated sheet is pulled out from the wound body by a predetermined length, cut into a predetermined length, and a plurality of the cut sheets for the substrate are in a vacuum state. Is heated and pressurized to be laminated. A part of the copper foil is etched to form a wiring.

このような配線基板を作製するための積層シートとして、支持シート上に、粒径が異なる第1無機絶縁粒子と第2無機絶縁粒子とを含有する無機絶縁層を形成し、この無機絶縁層上に樹脂層を形成したものが知られている(特許文献1参照)。この特許文献1では、第1無機絶縁粒子同士が互いに接着し、第2無機絶縁粒子同士が第1無機絶縁粒子を介して接着し、3次元網目状構造の骨格を有することが記載されている。   As a laminated sheet for producing such a wiring board, an inorganic insulating layer containing first inorganic insulating particles and second inorganic insulating particles having different particle sizes is formed on a support sheet, and the inorganic insulating layer is formed on the inorganic insulating layer. A resin layer is known (see Patent Document 1). This Patent Document 1 describes that the first inorganic insulating particles are bonded to each other, and the second inorganic insulating particles are bonded to each other through the first inorganic insulating particles to have a three-dimensional network structure skeleton. .

国際公開第2011/037260号International Publication No. 2011/037260

特許文献1の積層シートでは、無機絶縁層と樹脂層とを積層一体化する際に、無機絶縁層と樹脂層との間に空気が噛み込まれることにより、界面にデラミネーションや気泡が形成されるおそれがあった。   In the laminated sheet of Patent Literature 1, when the inorganic insulating layer and the resin layer are laminated and integrated, air is entrained between the inorganic insulating layer and the resin layer, so that delamination and bubbles are formed at the interface. There was a risk.

本発明は、無機絶縁層と第1樹脂層との界面におけるデラミネーションや気泡の形成を低減できる巻回体および基板用シートを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the winding body and board | substrate sheet | seat which can reduce the delamination and bubble formation in the interface of an inorganic insulating layer and a 1st resin layer.

本発明の巻回体は、長尺状の積層シートが長さ方向に巻回された巻回構造を有しており、前記積層シートは、長尺状の支持シートと、該支持シート上に配された複数の無機絶縁粒子を有する無機絶縁層と、該無機絶縁層上に配された第1樹脂層とを含み、前記支持シートの幅方向における前記無機絶縁層の側面が露出しているとともに、前記無機絶縁層は、前記支持シートの幅方向における側面が露出した空隙含有層を有することを特徴とする。   The wound body of the present invention has a winding structure in which a long laminated sheet is wound in the length direction, and the laminated sheet includes a long supporting sheet and the supporting sheet. An inorganic insulating layer having a plurality of inorganic insulating particles arranged, and a first resin layer arranged on the inorganic insulating layer, and a side surface of the inorganic insulating layer in the width direction of the support sheet is exposed. In addition, the inorganic insulating layer has a void-containing layer with exposed side surfaces in the width direction of the support sheet.

本発明の基板用シートは、主面が対向する一対の第1辺および一対の第2辺を有する矩形状の支持シートと、該支持シート上に配された複数の無機絶縁粒子を有する無機絶縁層と、該無機絶縁層上に配された第1樹脂層とを含み、前記支持シートの幅方向における前記無機絶縁層の側面が露出しているとともに、前記無機絶縁層は、前記支持シートの幅方向における側面が露出した空隙含有層を有することを特徴とする。   The substrate sheet of the present invention is an inorganic insulation having a rectangular support sheet having a pair of first sides and a pair of second sides opposed to each other and a plurality of inorganic insulating particles arranged on the support sheet. A layer and a first resin layer disposed on the inorganic insulating layer, the side surface of the inorganic insulating layer in the width direction of the support sheet is exposed, and the inorganic insulating layer is formed of the support sheet. It has the space | gap content layer which the side surface in the width direction exposed.

本発明では、無機絶縁層と第1樹脂層との界面におけるデラミネーションや気泡の形成を低減できる。   In the present invention, delamination and bubble formation at the interface between the inorganic insulating layer and the first resin layer can be reduced.

(a)は、巻回体の概略を示した説明図、(b)は積層シートの第1実施形態を示した断面図である。(A) is explanatory drawing which showed the outline of the wound body, (b) is sectional drawing which showed 1st Embodiment of the lamination sheet. (a)は積層シートを上方からみた平面図、(b)は(a)の2b−2b線に沿った断面図である。(A) is the top view which looked at the lamination sheet from the upper part, (b) is sectional drawing along the 2b-2b line of (a). (a)は積層シートの第2実施形態を示した断面図、(b)は積層シートの第3実施形態を示した断面図である。(A) is sectional drawing which showed 2nd Embodiment of the lamination sheet, (b) is sectional drawing which showed 3rd Embodiment of the lamination sheet. 積層シートの耳部のカット位置を示すもので、(a)は平面図、(b)は(a)の3b−3b線に沿った断面図である。The cut position of the ear | edge part of a lamination sheet is shown, (a) is a top view, (b) is sectional drawing along the 3b-3b line of (a). (a)は、図2(a)の積層シートから基板用シートを得るためのカット位置を示す平面図、(b)は(a)の4b−4b線に沿った(基板用シートの)断面図、(c)は(a)の4c−4c線に沿った(基板用シートの)断面図である。(A) is a top view which shows the cut position for obtaining the board | substrate sheet | seat from the lamination sheet of Fig.2 (a), (b) is the cross section (of the board | substrate sheet | seat) along the 4b-4b line of (a). FIG. 4C is a cross-sectional view (of the substrate sheet) taken along line 4c-4c in FIG. (a)は、無機絶縁層およびその近傍を示す断面図、(b)は、無機絶縁粒子の結合状態を示す説明図である。(A) is sectional drawing which shows an inorganic insulating layer and its vicinity, (b) is explanatory drawing which shows the coupling | bonding state of an inorganic insulating particle. (a)は配線基板を示す断面図、(b)は配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。(A) is sectional drawing which shows a wiring board, (b) is sectional drawing which showed 1 process of the manufacturing method of a wiring board. (a)(b)は配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。(A) (b) is sectional drawing which showed 1 process of the manufacturing method of a wiring board.

以下、巻回体について、図1〜図2を参照しつつ説明する。なお、本開示の巻回体は、以下の実施形態に限られるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。   Hereinafter, the wound body will be described with reference to FIGS. Note that the wound body of the present disclosure is not limited to the following embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the gist of the present disclosure.

図1(a)は、一部の積層シート1が引き出された巻回体を示している。この巻回体は、円筒状の芯材3の周りに、長尺状の積層シート1が長さ方向に複数回巻回されて構成されている。なお、図1(a)は1回巻回したものを記載したが、実際は複数回巻回されて構成されている。   Fig.1 (a) has shown the wound body from which the one part lamination sheet 1 was pulled out. The wound body is configured by winding a long laminated sheet 1 around a cylindrical core member 3 a plurality of times in the length direction. In addition, although Fig.1 (a) described what was wound once, it is comprised by winding in multiple times in fact.

長尺状の積層シート1は、長さが長い帯状である。巻回体は、芯材3の周囲に積層シート1を渦巻き状に巻き付けてドラム状にしたものであり、芯材3の周囲に積層シート1を何重にも取り巻くように巻き付けて構成されている。   The long laminated sheet 1 has a long strip shape. The wound body is formed by winding the laminated sheet 1 around the core material 3 in a spiral shape, and is configured by winding the laminated sheet 1 around the core material 3 so as to surround the core material 3 multiple times. Yes.

この積層シート1は、図1(a)の積層シート1を上下方向(積層シート1の厚み方向(Z軸方向))に切断した断面である図1(b)に示すように、支持シート5と、支持シート5上の無機絶縁層9と、無機絶縁層9上の第1樹脂層11とを有している。   This laminated sheet 1 is a support sheet 5 as shown in FIG. 1 (b) which is a cross section obtained by cutting the laminated sheet 1 of FIG. 1 (a) in the vertical direction (the thickness direction (Z-axis direction) of the laminated sheet 1). And an inorganic insulating layer 9 on the support sheet 5 and a first resin layer 11 on the inorganic insulating layer 9.

無機絶縁層9は、後述するように、複数の無機絶縁粒子15が接着もしくは接触して構成されており、無機絶縁粒子15間には空隙を有している。図2は積層シート1の一部を示すもので、支持シート5の幅方向(Y軸方向)における側面は、支持シート5、無機絶縁層9、第1樹脂層11の側面で構成されている。   As will be described later, the inorganic insulating layer 9 is configured by bonding or contacting a plurality of inorganic insulating particles 15, and there are voids between the inorganic insulating particles 15. FIG. 2 shows a part of the laminated sheet 1, and the side surface in the width direction (Y-axis direction) of the support sheet 5 is composed of the side surfaces of the support sheet 5, the inorganic insulating layer 9, and the first resin layer 11. .

すなわち、言い換えると、積層シート1のY軸方向における側面は、図2(b)に示すように、支持シート5の側面5a、無機絶縁層9の側面9a、第1樹脂層11の側面11aが同一面を構成することで形成されている。同一面とは、側面5aと側面9aと側面11aとが同じ平面を構成していることをいう。従って、積層シート1の側面は、支持シー
ト5のY軸方向における無機絶縁層9の側面9aが露出している。この形態では、無機絶縁層9全体が空隙含有層91とされている。空隙含有層91は、接続した複数の無機絶縁粒子15と、これらの無機絶縁粒子15が接続することにより形成された空隙とを含有しており、無機絶縁層9の側面9aまで連続している。
That is, in other words, as shown in FIG. 2B, the side surface in the Y-axis direction of the laminated sheet 1 includes the side surface 5a of the support sheet 5, the side surface 9a of the inorganic insulating layer 9, and the side surface 11a of the first resin layer 11. It is formed by constituting the same surface. The same surface means that the side surface 5a, the side surface 9a, and the side surface 11a constitute the same plane. Therefore, the side surface 9 a of the inorganic insulating layer 9 in the Y-axis direction of the support sheet 5 is exposed on the side surface of the laminated sheet 1. In this embodiment, the entire inorganic insulating layer 9 is the void-containing layer 91. The void-containing layer 91 contains a plurality of connected inorganic insulating particles 15 and voids formed by connecting these inorganic insulating particles 15, and continues to the side surface 9 a of the inorganic insulating layer 9. .

第1樹脂層11は、図2(b)に示すように、支持シート5の幅方向(Y軸方向)の両側の側面(以下、単に側面という)11aが露出している。第1樹脂層11の樹脂は、未硬化または半硬化状態の樹脂である。第1樹脂層11は、複数の無機充填材を含有していても良い。   As shown in FIG. 2B, the first resin layer 11 has exposed side surfaces (hereinafter simply referred to as side surfaces) 11 a on both sides in the width direction (Y-axis direction) of the support sheet 5. The resin of the first resin layer 11 is an uncured or semi-cured resin. The first resin layer 11 may contain a plurality of inorganic fillers.

本実施形態では、無機絶縁層9と第1樹脂層11とを積層一体化する際に、無機絶縁層9と第1樹脂層11との間に空気が噛み込まれたとしても、噛み込まれた空気を、空隙含有層91から排出することができ、無機絶縁層9と第1樹脂層11との界面におけるデラミネーションや気泡の形成を低減できる。   In the present embodiment, when the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11 are laminated and integrated, even if air is caught between the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11, it is bitten. The air can be discharged from the void-containing layer 91, and delamination and bubble formation at the interface between the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11 can be reduced.

すなわち、例えば、積層シート1を作製する方法のひとつとして、無機絶縁層9および第1樹脂層11を別々にそれぞれ支持シート5とキャリアフィルム上に形成した後、2本のロールの間を、両者を貼り合わせつつ、温度と圧力を印可して一体化する方法が挙げられる。以下、本工法をロールラミと呼ぶ。   That is, for example, as one method for producing the laminated sheet 1, the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11 are separately formed on the support sheet 5 and the carrier film, respectively, and then between the two rolls, A method of applying and integrating the temperature and pressure while bonding together. Hereinafter, this construction method is referred to as roll lamination.

上述のロールラミ工法では無機絶縁層9と第1樹脂層11とを積層一体化する際に、無機絶縁層9と第1樹脂層11との間に空気が噛み込まれることにより、界面にデラミネーションや気泡が形成されるおそれがあったが、本実施形態の巻回体では、噛み込んだ空気を空隙含有層91の空隙を介して無機絶縁層9の側面9aから排出でき、無機絶縁層9と第1樹脂層11との界面におけるデラミネーションや気泡の形成を低減できる。   In the roll laminating method described above, when the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11 are laminated and integrated, air is entrained between the inorganic insulating layer 9 and the first resin layer 11, thereby causing delamination at the interface. However, in the wound body of this embodiment, the entrained air can be discharged from the side surface 9a of the inorganic insulating layer 9 through the voids of the void-containing layer 91, and the inorganic insulating layer 9 Delamination and bubble formation at the interface between the first resin layer 11 and the first resin layer 11 can be reduced.

図3(a)は、巻回体に用いられる積層シート1の第2実施形態を示すもので、図2(b)に対応する図である。この積層シート1は、支持シート5と、支持シート5上の無機絶縁層9と、無機絶縁層9上の第1樹脂層11とを有しており、第1樹脂層11を構成する樹脂の一部が、無機絶縁層9の第1樹脂層11側の無機絶縁粒子15間に配されているとともに、空隙含有層91が、第1樹脂層11の樹脂が配された無機絶縁層9の第1部分93よりも支持シート5側に位置している。第1部分93は、無機絶縁層9に第1樹脂層11を積層一体化する際に、第1樹脂層11の樹脂が、無機絶縁層9の複数の無機絶縁粒子15が接続して形成された空隙中に浸入して構成されている。   Fig.3 (a) shows 2nd Embodiment of the lamination sheet 1 used for a wound body, and is a figure corresponding to FIG.2 (b). The laminated sheet 1 includes a support sheet 5, an inorganic insulating layer 9 on the support sheet 5, and a first resin layer 11 on the inorganic insulating layer 9, and a resin that constitutes the first resin layer 11. Part of the inorganic insulating layer 9 is disposed between the inorganic insulating particles 15 on the first resin layer 11 side, and the void-containing layer 91 is formed of the inorganic insulating layer 9 in which the resin of the first resin layer 11 is disposed. It is located closer to the support sheet 5 than the first portion 93. When the first resin layer 11 is laminated and integrated with the inorganic insulating layer 9, the first portion 93 is formed by connecting the resin of the first resin layer 11 to the plurality of inorganic insulating particles 15 of the inorganic insulating layer 9. It is configured to penetrate into the gap.

言い換えると、無機絶縁層9の空隙含有層91および無機絶縁層9の樹脂が配された第1部分93のY軸方向の側面が露出しており、支持シート5のY軸方向の側面5aと、無機絶縁層9のY軸方向の側面9a(空隙含有層91のY軸方向の側面、第1部分93のY軸方向の側面)と、第1樹脂層11のY軸方向の側面11aとが同一面を形成している。   In other words, the side surface in the Y-axis direction of the first portion 93 where the void-containing layer 91 of the inorganic insulating layer 9 and the resin of the inorganic insulating layer 9 are disposed is exposed, and the side surface 5a of the support sheet 5 in the Y-axis direction A side surface 9a in the Y-axis direction of the inorganic insulating layer 9 (a side surface in the Y-axis direction of the void-containing layer 91, a side surface in the Y-axis direction of the first portion 93), and a side surface 11a in the Y-axis direction of the first resin layer 11 Form the same plane.

この図3(a)の第2実施形態では、図2(b)の第1実施形態と同様の効果を得ることができるとともに、第1部分93により第1樹脂層11と無機絶縁層9との接着強度を向上できる。   In the second embodiment of FIG. 3A, the same effect as that of the first embodiment of FIG. 2B can be obtained, and the first resin layer 11 and the inorganic insulating layer 9 can be obtained by the first portion 93. The adhesive strength can be improved.

図3(b)は、積層シート1の第3実施形態を示すもので、図3(a)に対応する図である。図3(a)の構成と異なる部分は、支持シート5と無機絶縁層9との間に第2樹脂層13が配置されており、この第2樹脂層13を構成する樹脂の一部が、無機絶縁層9の第2樹脂層13側の無機絶縁粒子15間に配されて第2部分95を形成されている点である。第2部分95は、第2樹脂層13の樹脂が、無機絶縁層9の複数の無機絶縁粒子15が接続して形成された空隙中に浸入して構成されている。なお、前記第2樹脂層13は無
機充填材を含有していても良い。
FIG. 3B shows a third embodiment of the laminated sheet 1 and corresponds to FIG. The part different from the configuration of FIG. 3A is that the second resin layer 13 is disposed between the support sheet 5 and the inorganic insulating layer 9, and a part of the resin constituting the second resin layer 13 is The second portion 95 is formed by being disposed between the inorganic insulating particles 15 on the second resin layer 13 side of the inorganic insulating layer 9. The second portion 95 is configured such that the resin of the second resin layer 13 enters a gap formed by connecting a plurality of inorganic insulating particles 15 of the inorganic insulating layer 9. The second resin layer 13 may contain an inorganic filler.

すなわち、支持シート5のY軸方向における第1樹脂層11、無機絶縁層9、第2樹脂層13の側面11a、9a、13aが露出しており、空隙含有層91は、無機絶縁層9の第2樹脂層13の樹脂が配された第2部分95よりも第1樹脂層11側に位置し、かつ第1部分93よりも支持シート5側に位置している。   That is, the side surfaces 11 a, 9 a, and 13 a of the first resin layer 11, the inorganic insulating layer 9, and the second resin layer 13 in the Y-axis direction of the support sheet 5 are exposed, and the void-containing layer 91 is formed of the inorganic insulating layer 9. The second resin layer 13 is located closer to the first resin layer 11 than the second portion 95 where the resin is disposed, and is located closer to the support sheet 5 than the first portion 93.

言い換えると、無機絶縁層9の空隙含有層91、および無機絶縁層9の樹脂が配された第1部分93のY軸方向の側面、第2樹脂層13の樹脂が配された第2部分95のY軸方向の側面が露出しており、支持シート5のY軸方向の側面5aと、無機絶縁層9のY軸方向の側面9a(空隙含有層91のY軸方向の側面、第1部分93のY軸方向の側面、第2部分95のY軸方向の側面)と、第1樹脂層11のY軸方向の側面11aとが同一面を形成している。   In other words, the void-containing layer 91 of the inorganic insulating layer 9, the side surface in the Y-axis direction of the first portion 93 where the resin of the inorganic insulating layer 9 is disposed, and the second portion 95 where the resin of the second resin layer 13 is disposed. The side surface in the Y-axis direction of the support sheet 5 is exposed, the side surface 5a in the Y-axis direction of the support sheet 5, the side surface 9a in the Y-axis direction of the inorganic insulating layer 9 (the side surface in the Y-axis direction of the void-containing layer 91, the first part) 93, the side surface in the Y-axis direction of the second portion 95) and the side surface 11a in the Y-axis direction of the first resin layer 11 form the same surface.

この図3(b)の第3実施形態でも、図3(a)の第2実施形態と同様の効果を得ることができるとともに、第1樹脂層11と無機絶縁層9との接着強度、第2樹脂層13と無機絶縁層9、支持シート5との接着強度を向上できる。   In the third embodiment of FIG. 3B, the same effect as that of the second embodiment of FIG. 3A can be obtained, and the adhesive strength between the first resin layer 11 and the inorganic insulating layer 9 can be increased. 2 The adhesive strength between the resin layer 13, the inorganic insulating layer 9, and the support sheet 5 can be improved.

図1〜図3に示した巻回体は、第1樹脂層11上に保護フィルムを具備していても良い。保護フィルムはPETフィルム等の樹脂フィルムを用いることができる。   The wound body illustrated in FIGS. 1 to 3 may include a protective film on the first resin layer 11. As the protective film, a resin film such as a PET film can be used.

巻回体の製法について、図3(b)の積層シートを用いて、図4に基づいて説明する。   The manufacturing method of a wound body is demonstrated based on FIG. 4 using the lamination sheet of FIG.3 (b).

(1)先ず第2樹脂層13を支持シート5に形成する。特に、配線基板を作製する際に配線導体に使用することができるという点で、支持シート5には銅箔を用いることが望ましい。   (1) First, the second resin layer 13 is formed on the support sheet 5. In particular, it is desirable to use a copper foil for the support sheet 5 in that it can be used as a wiring conductor when producing a wiring board.

具体的には、溶剤、無機充填材および未硬化の樹脂の混合物を支持シート5の主面に塗布し、第2樹脂層13の塗布膜を形成する。この際、第2樹脂層13の塗布膜は、第2樹脂層13のY軸方向の側面13aが、支持シート5のY軸方向の側面5aよりも内側に位置するように塗布する。この塗布膜を乾燥させて溶剤を蒸発させることによって、第2樹脂層13を形成する。混合物の塗布は、既存の成形方法、例えばドクターブレード法、ディスペンサー法、バーコーター法、ダイコーター法またはグラビア印刷法等を用いて行なうことができる。   Specifically, a mixture of a solvent, an inorganic filler, and an uncured resin is applied to the main surface of the support sheet 5 to form a coating film for the second resin layer 13. At this time, the coating film of the second resin layer 13 is applied such that the side surface 13 a in the Y-axis direction of the second resin layer 13 is positioned on the inner side than the side surface 5 a in the Y-axis direction of the support sheet 5. The second resin layer 13 is formed by drying the coating film and evaporating the solvent. Application of the mixture can be performed using an existing molding method such as a doctor blade method, a dispenser method, a bar coater method, a die coater method, or a gravure printing method.

(2)次に、複数の無機絶縁粒子15、および水あるいは有機溶剤、適切な分散剤を準備し、秤量、混合し、無機絶縁粒子15を含有したスラリーを作製する。前記スラリーは、例えば無機絶縁粒子15を10体積%以上60体積%以下含み、水あるいは有機溶剤および分散剤をその合量で40%体積以上90体積%以下含む。前記有機溶剤には、例えばメタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアセトアミドまたはこれらから選択された2種以上の混合物を含んだ有機溶剤を使用することができる。   (2) Next, a plurality of inorganic insulating particles 15, water or an organic solvent, and an appropriate dispersant are prepared, weighed and mixed to prepare a slurry containing the inorganic insulating particles 15. The slurry contains, for example, 10% by volume or more and 60% by volume or less of inorganic insulating particles 15, and 40% by volume or more and 90% by volume or less of water or an organic solvent and a dispersing agent. The organic solvent is selected from, for example, methanol, isopropanol, n-butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monopropyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, xylene, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylacetamide or the like. Alternatively, an organic solvent containing a mixture of two or more kinds can be used.

分散剤としては、カチオン系、アニオン系、ノニオン系等の公知の分散剤が例として挙げられる。   Examples of the dispersant include known dispersants such as cationic, anionic and nonionic.

(3)次に、支持シート5上の第2樹脂層13の表面に前記スラリーをシート状に成形(塗布)する。このスラリーは、無機絶縁層9のY軸方向の側面9aが、例えば、第2樹
脂層13のY軸方向の側面13aよりも内側に位置するように塗布する。成形方法としては、既存の成形方法、例えばドクターブレード法、ディスペンサー法、バーコーター法、ダイコーター法またはグラビア印刷法等を用いて行い、水あるいは溶剤を乾燥除去することにより行い、無機絶縁粒子15同士が3次元網目状に結合した無機絶縁層9の骨格を形成することができる。
(3) Next, the slurry is formed (coated) into a sheet shape on the surface of the second resin layer 13 on the support sheet 5. The slurry is applied so that the side surface 9a in the Y-axis direction of the inorganic insulating layer 9 is positioned inside the side surface 13a in the Y-axis direction of the second resin layer 13, for example. As the molding method, an existing molding method, for example, a doctor blade method, a dispenser method, a bar coater method, a die coater method, or a gravure printing method is used, and water or a solvent is removed by drying. A skeleton of the inorganic insulating layer 9 can be formed in which the two are bonded in a three-dimensional network.

(4)第1樹脂層11を、無機絶縁層9の骨格上に形成する。具体的には、まず、溶剤、無機充填材および未硬化の樹脂の混合物を無機絶縁層9の骨格の主面に塗布する。この混合物は、例えば、第2樹脂層13および無機絶縁層9のY軸方向の側面13a、9aを被覆するように塗布される。次いで、混合物を乾燥させて混合物から溶剤を蒸発させることによって、第1樹脂層11を形成する。混合物の塗布は、既存の成形方法、例えばドクターブレード法、ディスペンサー法、バーコーター法、ダイコーター法またはグラビア印刷法等を用いて行なうことができる。   (4) The first resin layer 11 is formed on the skeleton of the inorganic insulating layer 9. Specifically, first, a mixture of a solvent, an inorganic filler, and an uncured resin is applied to the main surface of the skeleton of the inorganic insulating layer 9. For example, the mixture is applied so as to cover the side surfaces 13 a and 9 a in the Y-axis direction of the second resin layer 13 and the inorganic insulating layer 9. Next, the first resin layer 11 is formed by drying the mixture and evaporating the solvent from the mixture. Application of the mixture can be performed using an existing molding method such as a doctor blade method, a dispenser method, a bar coater method, a die coater method, or a gravure printing method.

続いて、第1樹脂層11の一部(第2樹脂部18の一部)を無機絶縁層9の骨格の間隙に入り込ませて第1樹脂部16を形成する。具体的には、支持シート5、無機絶縁層9の骨格および第1樹脂層11を上下方向に加熱加圧することによって、無機絶縁層9の間隙の少なくとも一部に第1樹脂層11の一部(第2樹脂部18)を入り込ませる。なお、この際に、第2樹脂層13の樹脂の一部も無機絶縁層9の間隙に入り込ませる。   Subsequently, a part of the first resin layer 11 (a part of the second resin part 18) enters the gap of the skeleton of the inorganic insulating layer 9 to form the first resin part 16. Specifically, the support sheet 5, the skeleton of the inorganic insulating layer 9, and the first resin layer 11 are heated and pressed in the vertical direction, so that a part of the first resin layer 11 is formed in at least a part of the gap of the inorganic insulating layer 9. (Second resin portion 18) is inserted. At this time, part of the resin of the second resin layer 13 is also allowed to enter the gap of the inorganic insulating layer 9.

このとき、加熱加圧装置としてロールラミネーターを使用し、連続的に行うことが望ましい。支持シート5等の加熱温度は、例えば60℃以上160℃以下に設定される。支持シート5等の加圧圧力は、例えば0.1MPa以上2MPa以下に設定される。支持シート5等の加熱加圧時間は、例えば0.5分以上10分以下に設定され、ロールラミネーターを使用する際には、送り速度を1m/秒以上50m/秒以下に設定することが望ましい。第1樹脂層11の樹脂材料の上記加熱時間における溶融粘度は、例えば10000Pa・s以下に設定される。   At this time, it is desirable to use a roll laminator as a heating and pressurizing device and to carry out continuously. The heating temperature of the support sheet 5 or the like is set to, for example, 60 ° C. or more and 160 ° C. or less. The pressurizing pressure of the support sheet 5 or the like is set to, for example, 0.1 MPa or more and 2 MPa or less. The heating and pressing time for the support sheet 5 or the like is set to, for example, 0.5 to 10 minutes, and when using a roll laminator, it is desirable to set the feed rate to 1 to 50 m / second. . The melt viscosity of the resin material of the first resin layer 11 during the heating time is set to 10,000 Pa · s or less, for example.

あるいは、キャリアフィルム上に、前述の溶剤、フィラーおよび未硬化の樹脂の混合物を、前述と同様の既存の成形方法によりシート状に成形した第1樹脂層11を準備し、この第1樹脂層11を、支持シート5の無機絶縁層9上に載置し、前述と同様の方法で加熱加圧することによっても(ロールラミ)、無機絶縁層9の間隙に第1樹脂層11の一部を入り込ませ、第2樹脂層13の樹脂の一部も無機絶縁層9の間隙に入り込ませることが可能である。なお、キャリアフィルムは、保護フィルムとして機能させても良い。   Alternatively, on the carrier film, a first resin layer 11 is prepared by molding a mixture of the above-described solvent, filler and uncured resin into a sheet shape by the same existing molding method as described above, and this first resin layer 11 Can be placed on the inorganic insulating layer 9 of the support sheet 5 and heated and pressurized in the same manner as described above (roll lamination) to cause a part of the first resin layer 11 to enter the gap between the inorganic insulating layers 9. A part of the resin of the second resin layer 13 can also enter the gap of the inorganic insulating layer 9. The carrier film may function as a protective film.

以上のようにして、支持シート5、第2樹脂層13、無機絶縁層9および第1樹脂層11を備える積層シート1を作製する。   As described above, the laminated sheet 1 including the support sheet 5, the second resin layer 13, the inorganic insulating layer 9, and the first resin layer 11 is produced.

上記のようにして作製された積層シート1は、例えば、図4に示すように、第2樹脂層13のY軸方向の側面13aは、支持シート5のY軸方向の側面5aよりも内側に位置し、無機絶縁層9のY軸方向の側面9aは、第2樹脂層13のY軸方向の側面13aよりも内側に位置し、第2樹脂層13および無機絶縁層9のY軸方向の側面13a、9aは、第1樹脂層11で被覆されている。   In the laminated sheet 1 produced as described above, for example, as shown in FIG. 4, the side surface 13 a in the Y-axis direction of the second resin layer 13 is inside the side surface 5 a in the Y-axis direction of the support sheet 5. The Y-axis direction side surface 9a of the inorganic insulating layer 9 is positioned inside the Y-axis direction side surface 13a of the second resin layer 13, and the second resin layer 13 and the inorganic insulating layer 9 in the Y-axis direction. The side surfaces 13 a and 9 a are covered with the first resin layer 11.

このような積層シートは、支持シート5上に、第2樹脂層13、無機絶縁層9および第1樹脂層11のY軸方向の側面13a、9a、11aは、公知のシート形成方法によりダレて傾斜している。この後、図4(a)(b)の一点鎖線で示す部分で積層シート1をカットし、耳部10を除去する。これにより、支持シート5の側面5aと、第1樹脂層11の側面11a、第2樹脂層13の側面13a、無機絶縁層9の側面9aとが同一面を形成し、図3(b)に示す積層シート1を作製することができる。図4(b)では、断面を示
す斜線を省略している。図5(b)、(c)でも同様である。
In such a laminated sheet, side surfaces 13a, 9a, 11a in the Y-axis direction of the second resin layer 13, the inorganic insulating layer 9, and the first resin layer 11 are sag by a known sheet forming method on the support sheet 5. Inclined. Thereafter, the laminated sheet 1 is cut at a portion indicated by a one-dot chain line in FIGS. 4A and 4B, and the ear portion 10 is removed. As a result, the side surface 5a of the support sheet 5, the side surface 11a of the first resin layer 11, the side surface 13a of the second resin layer 13, and the side surface 9a of the inorganic insulating layer 9 form the same surface, as shown in FIG. The laminated sheet 1 shown can be produced. In FIG. 4B, the oblique lines indicating the cross section are omitted. The same applies to FIGS. 5B and 5C.

このような積層シート1を芯材3に巻回して、図1(a)に示すような巻回体が得られる。   Such a laminated sheet 1 is wound around the core material 3 to obtain a wound body as shown in FIG.

図3(b)の積層シートを用いて基板用シートを作製する工程を、図5を用いて説明する。先ず、図4(b)で示した、耳部10を除去した積層シート1の巻回体を準備し、この巻回体から積層シート1を引き出し、図5(a)に一点鎖線で示す部分をカットする。すなわち、積層シート1を所定長さでカットすることで、基板用シートを得ることができる。   The process of producing the board | substrate sheet | seat using the laminated sheet of FIG.3 (b) is demonstrated using FIG. First, a wound body of the laminated sheet 1 from which the ear portion 10 has been removed as shown in FIG. 4B is prepared, and the laminated sheet 1 is drawn out from this wound body, and a portion indicated by a one-dot chain line in FIG. To cut. That is, the board | substrate sheet | seat can be obtained by cutting the lamination sheet 1 by predetermined length.

この基板用シートは、主面が対向する一対の第1辺および一対の第2辺を有する矩形状の支持シート5と、該支持シート5上に配された第2樹脂層13と、該第2樹脂層13上に配された無機絶縁層9と、該無機絶縁層9上に配された第1樹脂層11とを含み、第1辺間方向の切断面を示す図5(b)、および第2辺間方向の切断面を示す図5(c)に示すように、支持シート5の4つの側面5a、第2樹脂層13の4つの側面13a、無機絶縁層9の4つの側面9a、第1樹脂層11の4つの側面11aが露出し、同一面を形成している。第1辺は、Y軸方向の支持シート5の側面を構成する辺であり、第2辺は、第1辺と直交する辺(X軸方向の辺(図5(a)の一点鎖線で示す辺))である。   The substrate sheet includes a rectangular support sheet 5 having a pair of first sides and a pair of second sides opposite to each other, a second resin layer 13 disposed on the support sheet 5, and the first sheet. FIG. 5B shows a cut surface in the direction between the first sides, including the inorganic insulating layer 9 disposed on the two resin layers 13 and the first resin layer 11 disposed on the inorganic insulating layer 9; As shown in FIG. 5C, which shows a cut surface in the direction between the second sides, the four side surfaces 5 a of the support sheet 5, the four side surfaces 13 a of the second resin layer 13, and the four side surfaces 9 a of the inorganic insulating layer 9. The four side surfaces 11a of the first resin layer 11 are exposed and form the same surface. The first side is a side constituting the side surface of the support sheet 5 in the Y-axis direction, and the second side is a side orthogonal to the first side (the side in the X-axis direction (indicated by a one-dot chain line in FIG. 5A). Side)).

以下、積層シート1を構成する各部材について説明する。支持シート5は、無機絶縁層9を支持するものであり、配線基板の作製時には無機絶縁層9から剥離されたり、配線に加工されたりする。支持シート5は、例えば平板状の銅箔からなる。支持シート5が銅箔からなるため、支持シート5の耐熱性を向上させることができる。   Hereinafter, each member which comprises the lamination sheet 1 is demonstrated. The support sheet 5 supports the inorganic insulating layer 9, and is peeled off from the inorganic insulating layer 9 or processed into wiring when the wiring board is manufactured. The support sheet 5 is made of, for example, a flat copper foil. Since the support sheet 5 consists of copper foil, the heat resistance of the support sheet 5 can be improved.

平板状の支持シート5上に、図3(b)に示すように、無機絶縁層9が形成されている。無機絶縁層9と支持シート5との接着力を向上させるために、支持シート5の主面に第2樹脂層(プライマー層)13が形成され、この第2樹脂層13上に無機絶縁層9が形成されている。なお、第2樹脂層(プライマー層)13は必ずしも形成する必要はないが、第2樹脂層13を形成することにより、支持シート5への無機絶縁層9の形成が容易となる。   An inorganic insulating layer 9 is formed on the flat support sheet 5 as shown in FIG. In order to improve the adhesive force between the inorganic insulating layer 9 and the support sheet 5, a second resin layer (primer layer) 13 is formed on the main surface of the support sheet 5, and the inorganic insulating layer 9 is formed on the second resin layer 13. Is formed. The second resin layer (primer layer) 13 is not necessarily formed, but the formation of the inorganic insulating layer 9 on the support sheet 5 is facilitated by forming the second resin layer 13.

支持シート5の厚みは、例えば3μm以上100μm以下に設定されている。支持シート5のヤング率は、例えば70GPa以上130GPa以下に設定されている。支持シート5の熱膨張率は、例えば13ppm/℃以上20ppm/℃以下に設定されている。な
お、支持シート5のヤング率は、市販のDMA装置等を用いてJISZ2280−1993に準じた測定方法で測定される。また、支持シート5の熱膨張率は、市販のTMA装置を用いて、JISK7197−1991に準じた測定方法によって測定される。なお、支持シート5として、樹脂製のフィルムも用いることができる。
The thickness of the support sheet 5 is set to 3 μm or more and 100 μm or less, for example. The Young's modulus of the support sheet 5 is set to, for example, 70 GPa or more and 130 GPa or less. The thermal expansion coefficient of the support sheet 5 is set to, for example, 13 ppm / ° C. or more and 20 ppm / ° C. or less. The Young's modulus of the support sheet 5 is measured by a measuring method according to JISZ2280-1993 using a commercially available DMA device or the like. Moreover, the thermal expansion coefficient of the support sheet 5 is measured by a measuring method according to JISK7197-1991 using a commercially available TMA apparatus. A resin film can also be used as the support sheet 5.

無機絶縁層9は、作製された配線基板の配線間の絶縁を確保するものである。無機絶縁層9の厚みは、例えば1μm以上15μm以下に設定されている。   The inorganic insulating layer 9 ensures insulation between the wirings of the produced wiring board. The thickness of the inorganic insulating layer 9 is set to, for example, 1 μm or more and 15 μm or less.

無機絶縁層9は、図6に示すように、複数の無機絶縁粒子15a、15b(以下、単に15ということがある)によって形成されている。複数の無機絶縁粒子15が粒子形状を保持したまま互いの一部で結合(接触も含む概念)することによって、三次元網目構造体を構成し、無機絶縁層9の主要部である骨格が形成されている。複数の無機絶縁粒子15が粒子形状を保持したまま互いの一部で結合しているため、複数の無機絶縁粒子15同士の間には空隙が存在し、無機絶縁層9の第1樹脂層11側の空隙には、第1樹脂層11を構成する樹脂(第1樹脂部16)が配置されて、第1部分93を形成している。図6(a
)では、第1部分93が記載されており、空隙含有層91は見えていない。
As shown in FIG. 6, the inorganic insulating layer 9 is formed of a plurality of inorganic insulating particles 15 a and 15 b (hereinafter sometimes simply referred to as 15). A plurality of inorganic insulating particles 15 are bonded at a part of each other while maintaining the particle shape (concept including contact), thereby forming a three-dimensional network structure and forming a skeleton which is a main part of the inorganic insulating layer 9 Has been. Since the plurality of inorganic insulating particles 15 are bonded to each other while maintaining the particle shape, there are voids between the plurality of inorganic insulating particles 15, and the first resin layer 11 of the inorganic insulating layer 9. In the gap on the side, the resin (first resin portion 16) constituting the first resin layer 11 is arranged to form the first portion 93. FIG.
), The first portion 93 is described, and the void-containing layer 91 is not visible.

また、無機絶縁層9は、複数の無機絶縁粒子15同士が結合しているため、単に樹脂中に複数の無機絶縁粒子が分散されている場合と比較して、無機絶縁層9の剛性を向上させることができる。その結果、無機絶縁層9の変形を低減することができる。   Further, since the inorganic insulating layer 9 has a plurality of inorganic insulating particles 15 bonded together, the rigidity of the inorganic insulating layer 9 is improved as compared with the case where the plurality of inorganic insulating particles are simply dispersed in the resin. Can be made. As a result, deformation of the inorganic insulating layer 9 can be reduced.

無機絶縁粒子15は、第1無機絶縁粒子15aおよび第2無機絶縁粒子15bを含んでおり、第1無機絶縁粒子15aの粒子径は、5nm以上80nm以下に設定され、第2無機絶縁粒子15bの粒子径は、0.1μm以上5μm以下に設定されている。第1無機絶縁粒子15aおよび第2無機絶縁粒子15bの粒子径は、例えば、まず無機絶縁層9の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、20粒子数以上50粒子数以下の粒子を含むように拡大した断面を撮影し、拡大した断面にて各粒子の最大径を測定することによって算出される。   The inorganic insulating particles 15 include first inorganic insulating particles 15a and second inorganic insulating particles 15b. The particle diameter of the first inorganic insulating particles 15a is set to 5 nm or more and 80 nm or less, and the second inorganic insulating particles 15b The particle diameter is set to 0.1 μm or more and 5 μm or less. The particle diameters of the first inorganic insulating particles 15a and the second inorganic insulating particles 15b are, for example, that first, the cross section of the inorganic insulating layer 9 is observed with a transmission electron microscope (TEM), and particles having a particle size of 20 particles or more and 50 particles or less are obtained. It is calculated by photographing a cross section enlarged so as to include and measuring the maximum diameter of each particle in the enlarged cross section.

第1無機絶縁粒子15aは、例えば、複数の無機絶縁粒子15中に10体積%以上40体積%以下含まれており、第2無機絶縁粒子15bは、例えば複数の無機絶縁粒子15中に55体積%以上85体積%以下含まれてもよい。上記の通り、複数の無機絶縁粒子15の粒度分布を設定すれば、無機絶縁層9の間隙が小さくなりすぎることを抑制して、後述する第1樹脂層11、第2樹脂層13の樹脂を無機絶縁層9の間隙に入り込ませやすくすることができる。また、さらに望ましくは、第1無機絶縁粒子15aの粒子径が8nm以上70nm以下に設定され、複数の無機絶縁粒子15中に10体積%以上30体積%以下含まれており、第2無機絶縁粒子15bの粒子径が0.15μm以上2μm以下に設定され、複数の無機絶縁粒子15中に65体積%以上85体積%以下含まれているとよい。無機絶縁層9には、第1無機絶縁粒子15a、第2無機絶縁粒子15b以外の無機粒子を含有しても良い。   For example, the first inorganic insulating particles 15 a are contained in the plurality of inorganic insulating particles 15 by 10 volume% or more and 40 volume% or less, and the second inorganic insulating particles 15 b are, for example, 55 volumes in the plurality of inorganic insulating particles 15. % Or more and 85% by volume or less. As described above, if the particle size distribution of the plurality of inorganic insulating particles 15 is set, the gap between the inorganic insulating layers 9 is prevented from becoming too small, and the resin of the first resin layer 11 and the second resin layer 13 to be described later is used. It can be made easy to enter the gap of the inorganic insulating layer 9. More desirably, the particle diameter of the first inorganic insulating particles 15a is set to 8 nm or more and 70 nm or less, and the plurality of inorganic insulating particles 15 are contained in an amount of 10% by volume to 30% by volume. The particle diameter of 15b is set to 0.15 μm or more and 2 μm or less, and the inorganic insulating particles 15 may contain 65% by volume or more and 85% by volume or less. The inorganic insulating layer 9 may contain inorganic particles other than the first inorganic insulating particles 15a and the second inorganic insulating particles 15b.

無機絶縁粒子15は、無機絶縁層9の主要部(骨格)を形成している。無機絶縁粒子15の形状は、例えば球状である。無機絶縁粒子15は、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタニウム、酸化マグネシウムまたは酸化ジルコニウム等の無機絶縁材料からなる。また、無機絶縁粒子15は単一の材料からなってもよいし、複数種類の材料からなってもよい。なお、無機絶縁粒子15は、熱膨張率が例えば0.2ppm/℃以上13ppm/℃以下の材料からなる。また、無機絶縁粒子15は、ヤング率が例えば10GPa以上300GPa以下である材料からなる。また、複数の無機絶縁粒子15の無機絶縁層9に対する含有率は、例えば70体積%以上に設定され、望ましくは75体積%以上に設定されている。無機絶縁粒子15の含有率は、無機絶縁層9の断面の顕微鏡写真における面積比率から求めることができる。   The inorganic insulating particles 15 form the main part (skeleton) of the inorganic insulating layer 9. The shape of the inorganic insulating particles 15 is, for example, spherical. The inorganic insulating particles 15 are made of an inorganic insulating material such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, or zirconium oxide. The inorganic insulating particles 15 may be made of a single material or a plurality of types of materials. The inorganic insulating particles 15 are made of a material having a thermal expansion coefficient of, for example, 0.2 ppm / ° C. or more and 13 ppm / ° C. or less. The inorganic insulating particles 15 are made of a material having a Young's modulus of, for example, 10 GPa or more and 300 GPa or less. Moreover, the content rate with respect to the inorganic insulating layer 9 of the some inorganic insulating particle 15 is set to 70 volume% or more, for example, Preferably it is set to 75 volume% or more. The content of the inorganic insulating particles 15 can be determined from the area ratio in the micrograph of the cross section of the inorganic insulating layer 9.

第1樹脂層11は、配線基板の製造時に、無機絶縁層9と配線、または無機絶縁層9とこの無機絶縁層9に積層される他の無機絶縁層9とを接着するものである。第1樹脂層11は、例えば、図6(a)に示すように、第1樹脂部18および第1樹脂部18の樹脂内に配されている無機充填材20を有している。   The 1st resin layer 11 adheres the inorganic insulating layer 9 and wiring, or the inorganic insulating layer 9 and the other inorganic insulating layer 9 laminated | stacked on this inorganic insulating layer 9 at the time of manufacture of a wiring board. For example, as shown in FIG. 6A, the first resin layer 11 includes a first resin portion 18 and an inorganic filler 20 disposed in the resin of the first resin portion 18.

第1樹脂部18の樹脂は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂等からなり、また、第1樹脂部18の樹脂は、熱膨張率が例えば30ppm/℃以上60ppm/℃以下の材料からなる。また、第1樹脂部18は、ヤング率が例えば2GPa以上10GPa以下の材料からなる。第1部分93の樹脂(第1樹脂部16)は、第1樹脂部18の樹脂と同様のものを使用できる。第1樹脂部18の樹脂および第1部分93の樹脂は、積層シート1において未硬化あるいは半硬化状態である。   The resin of the first resin portion 18 is made of, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyphenylene ether resin, a wholly aromatic polyamide resin, or a polyimide resin, and the first resin portion 18. This resin is made of a material having a thermal expansion coefficient of, for example, 30 ppm / ° C. or more and 60 ppm / ° C. or less. The first resin portion 18 is made of a material having a Young's modulus of, for example, 2 GPa or more and 10 GPa or less. As the resin (first resin portion 16) of the first portion 93, the same resin as the resin of the first resin portion 18 can be used. The resin of the first resin portion 18 and the resin of the first portion 93 are uncured or semi-cured in the laminated sheet 1.

第1樹脂層11の厚みは、無機絶縁層9の厚みよりも小さくてもよい。これにより、第1樹脂層11の熱膨張の影響が小さくなり、無機絶縁層9は、第1樹脂層11の熱膨張量を効果的に低減させることができる。なお、第1樹脂層11の厚みは、例えば1μm以上40μm以下に設定されている。   The thickness of the first resin layer 11 may be smaller than the thickness of the inorganic insulating layer 9. Thereby, the influence of the thermal expansion of the 1st resin layer 11 becomes small, and the inorganic insulating layer 9 can reduce the amount of thermal expansion of the 1st resin layer 11 effectively. In addition, the thickness of the 1st resin layer 11 is set to 1 to 40 micrometers, for example.

無機材料からなる無機充填材20は、第1樹脂層11の剛性を向上させたり熱膨張係数を低下させたりするものである。無機充填材20の形状は、例えば球状である。無機充填材20の粒子径は、第2無機絶縁粒子15bの粒子径以上であってもよい。無機充填材20の粒子径は、例えば0.1μm以上5μm以下に設定される。また、第1樹脂層11に対する無機充填材20の含有率は、無機絶縁層9に対する無機絶縁粒子15の含有率よりも小さくてもよい。無機充填材20の第1樹脂層11に対する含有率は、例えば60体積%以下に設定されている。   The inorganic filler 20 made of an inorganic material improves the rigidity of the first resin layer 11 or decreases the thermal expansion coefficient. The inorganic filler 20 has a spherical shape, for example. The particle diameter of the inorganic filler 20 may be greater than or equal to the particle diameter of the second inorganic insulating particles 15b. The particle diameter of the inorganic filler 20 is set to 0.1 μm or more and 5 μm or less, for example. The content of the inorganic filler 20 with respect to the first resin layer 11 may be smaller than the content of the inorganic insulating particles 15 with respect to the inorganic insulating layer 9. The content rate with respect to the 1st resin layer 11 of the inorganic filler 20 is set to 60 volume% or less, for example.

次に、上述した積層シート1を用いて製造された、図7(a)に示す配線基板24を説明する。図7(a)は、配線基板24を上下方向に切断した断面を模式的に示している。   Next, the wiring board 24 shown in FIG. 7A manufactured using the above-described laminated sheet 1 will be described. FIG. 7A schematically shows a cross section of the wiring board 24 cut in the vertical direction.

配線基板24は、例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ装置またはその周辺機器等の電子機器に使用されるものである。配線基板24は、例えばビルドアップ多層配線基板であって、図7(a)に示すように、コア基板25とコア基板25の上下に形成された一対の配線層26とを備えている。   The wiring board 24 is used for electronic devices such as various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices or peripheral devices thereof. The wiring substrate 24 is, for example, a build-up multilayer wiring substrate, and includes a core substrate 25 and a pair of wiring layers 26 formed above and below the core substrate 25 as shown in FIG.

コア基板25は、配線基板26の剛性を高めつつ一対の配線層26間の導通を図るものである。コア基板25は、樹脂基体27と、樹脂基体27を上下方向に貫通して形成されている筒状のスルーホール導体28と、スルーホール導体28に取り囲まれた領域に配された柱状の絶縁体29とを含んでいる。   The core board 25 is intended to enhance the rigidity of the wiring board 26 and to conduct between the pair of wiring layers 26. The core substrate 25 includes a resin base 27, a cylindrical through-hole conductor 28 formed through the resin base 27 in the vertical direction, and a columnar insulator disposed in a region surrounded by the through-hole conductor 28. 29.

樹脂基体27は、コア基板25の剛性を高めるものである。この樹脂基体27は、例えば樹脂と、この樹脂に被覆された基材および無機絶縁フィラーとを含んでいる。   The resin base 27 increases the rigidity of the core substrate 25. The resin substrate 27 includes, for example, a resin, a base material coated with the resin, and an inorganic insulating filler.

樹脂基体27に含まれた樹脂は、樹脂基体27の主要部を形成するものである。この樹脂は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、芳香族液晶ポリエステル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂またはポリエーテルケトン樹脂等の樹脂材料からなる。   The resin contained in the resin substrate 27 forms the main part of the resin substrate 27. Examples of this resin include epoxy resins, bismaleimide triazine resins, cyanate resins, polyparaphenylene benzbisoxazole resins, wholly aromatic polyamide resins, polyimide resins, aromatic liquid crystal polyester resins, polyether ether ketone resins or polyether ketone resins. Made of resin material.

樹脂基体27に含まれた基材は、樹脂基体27を高剛性化および低熱膨張化するものである。この基材は、繊維によって構成された織布もしくは不織布または繊維を一方向に配列したものからなる。また、この繊維は、例えばガラス繊維または樹脂繊維等からなる。   The base material contained in the resin base 27 is to make the resin base 27 highly rigid and low in thermal expansion. This base material consists of what arranged the woven fabric or nonwoven fabric comprised by the fiber, or the fiber in one direction. Moreover, this fiber consists of glass fiber or resin fiber, for example.

樹脂基体27に含まれた無機絶縁フィラーは、樹脂基体27を高剛性化および低熱膨張化するものである。この無機絶縁フィラーは、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、水酸化アルミニウムまたは炭酸カルシウム等の無機絶縁材料からなる複数の粒子により構成されている。   The inorganic insulating filler contained in the resin base 27 makes the resin base 27 highly rigid and low in thermal expansion. The inorganic insulating filler is composed of a plurality of particles made of an inorganic insulating material such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum hydroxide, or calcium carbonate.

スルーホール導体28は、コア基板25の上下の配線層26を電気的に接続するものである。このスルーホール導体28は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロム等の導電材料からなる。   The through-hole conductor 28 is for electrically connecting the upper and lower wiring layers 26 of the core substrate 25. The through-hole conductor 28 is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium.

絶縁体29は、後述するビア導体30の支持面を形成するものである。この絶縁体29は、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、フッ素樹脂
、シリコン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂またはビスマレイミドトリアジン樹脂等の樹脂材料からなる。
The insulator 29 forms a support surface of a via conductor 30 described later. The insulator 29 is made of a resin material such as polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, cyanate resin, fluororesin, silicon resin, polyphenylene ether resin, or bismaleimide triazine resin.

一方、コア基板25の上下には、上述した如く、一対の配線層26が形成されている。配線層26は、厚み方向に沿ったビア孔が形成された無機絶縁層9と、樹脂基体27上または無機絶縁層9上に部分的に形成された配線31と、ビア孔内に形成されたビア導体30とを含んでいる。   On the other hand, a pair of wiring layers 26 are formed above and below the core substrate 25 as described above. The wiring layer 26 is formed in the via hole and the inorganic insulating layer 9 in which the via hole along the thickness direction is formed, the wiring 31 partially formed on the resin substrate 27 or on the inorganic insulating layer 9, and the via hole. Via conductor 30 is included.

配線層26は、コア基板25側に位置している第1樹脂層11と、第1樹脂層11上に積層されている無機絶縁層9と、無機絶縁層9上に積層されている第2樹脂層13とを含んでいる。なお、無機絶縁層9、第1樹脂層11および第2樹脂層13は、上述した積層シート1が備えていたものである。また、巻回体および基板用シートでは、無機絶縁層9の第1樹脂部16および第1、第2樹脂層11、13の第2樹脂部18は未硬化または半硬化であったが、配線基板24では、第1樹脂部16および第2樹脂部18は硬化している。   The wiring layer 26 includes a first resin layer 11 positioned on the core substrate 25 side, an inorganic insulating layer 9 stacked on the first resin layer 11, and a second stacked on the inorganic insulating layer 9. And a resin layer 13. In addition, the inorganic insulating layer 9, the 1st resin layer 11, and the 2nd resin layer 13 are what the laminated sheet 1 mentioned above was equipped with. Further, in the wound body and the substrate sheet, the first resin portion 16 of the inorganic insulating layer 9 and the second resin portion 18 of the first and second resin layers 11 and 13 were uncured or semi-cured. In the substrate 24, the first resin portion 16 and the second resin portion 18 are cured.

第1樹脂層11は、コア基板25表面の配線31の側面および上面に接着しつつ、樹脂基体27と無機絶縁層9とを接着、または積層された無機絶縁層9同士を接着するものである。無機絶縁層9は、無機絶縁層9の主要部をなし、厚み方向に沿って離れて配された配線31同士の絶縁部材として機能するものである。無機絶縁層9は、樹脂材料と比較して低熱膨張率および高剛性であるから、無機絶縁層9の平面方向への熱膨張率を低減することができる。したがって、配線基板24と配線基板24上に実装される電子部品(図示せず)との平面方向への熱膨張率の差を低減し、ひいては配線基板24の反りを低減することができる。   The first resin layer 11 adheres the resin base 27 and the inorganic insulating layer 9 or adheres the laminated inorganic insulating layers 9 to each other while adhering to the side surface and upper surface of the wiring 31 on the surface of the core substrate 25. . The inorganic insulating layer 9 constitutes a main part of the inorganic insulating layer 9 and functions as an insulating member between the wirings 31 arranged apart along the thickness direction. Since the inorganic insulating layer 9 has a low coefficient of thermal expansion and high rigidity compared to the resin material, the coefficient of thermal expansion in the planar direction of the inorganic insulating layer 9 can be reduced. Therefore, the difference in thermal expansion coefficient in the planar direction between the wiring board 24 and an electronic component (not shown) mounted on the wiring board 24 can be reduced, and thus the warping of the wiring board 24 can be reduced.

配線31は、平面方向または厚み方向に沿って互いに離れて配されており、接地用配線、電力供給用配線または信号用配線として機能するものである。この配線31は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロム等の導電材料からなる。配線31の厚みは、例えば3μm以上20μm以下に設定されている。配線31の熱膨張率は、例えば14ppm/℃以上19ppm/℃以下に設定されている。配線31のL/S(ライン/スペース)は、例えば3/3μm以上40/40μm以下に設定されている。   The wirings 31 are arranged away from each other along the planar direction or the thickness direction, and function as grounding wirings, power supply wirings, or signal wirings. The wiring 31 is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium. The thickness of the wiring 31 is set to 3 μm or more and 20 μm or less, for example. The coefficient of thermal expansion of the wiring 31 is set to, for example, 14 ppm / ° C. or more and 19 ppm / ° C. or less. The L / S (line / space) of the wiring 31 is set to, for example, 3/3 μm or more and 40/40 μm or less.

ビア導体30は、厚み方向に互いに離れて配された配線31同士を電気的に接続するものであり、コア基板25に向って幅狭となる柱状に形成されている。ビア導体30は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロムの導電材料からなる。また、ビア導体30は、熱膨張率が例えば14ppm/℃以上19ppm/℃以下に設定されている。   The via conductor 30 electrically connects the wirings 31 that are spaced apart from each other in the thickness direction, and is formed in a columnar shape that becomes narrower toward the core substrate 25. The via conductor 30 is made of, for example, a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium. The via conductor 30 has a coefficient of thermal expansion set to, for example, 14 ppm / ° C. or more and 19 ppm / ° C. or less.

本開示の巻回体を用いた配線基板24の製造方法について、図7(b)〜図8を参照しつつ説明する。なお、図7(b)〜図8は、本開示の巻回体を使用して製造する配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。   A method for manufacturing the wiring board 24 using the wound body of the present disclosure will be described with reference to FIGS. FIG. 7B to FIG. 8 are cross-sectional views illustrating one process of a method for manufacturing a wiring board manufactured using the wound body of the present disclosure.

(1)まず、上記のようにして構成された巻回体から所定長さの積層シート1を引き出し、所定長さにカットし、所定長さの基板用シート35を準備する。   (1) First, the laminated sheet 1 having a predetermined length is drawn out from the wound body configured as described above, cut to a predetermined length, and a substrate sheet 35 having a predetermined length is prepared.

(2)コア基板25(基板)を作製する。コア基板25の作製には、まず、例えば金属箔上に複数の樹脂層が積層された樹脂基体27を形成する。次いで、例えばドリル加工やレーザー加工等によって樹脂基体27にスルーホールを形成した後、例えば無電解めっき法、電気めっき法、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法等により、スルーホールの内壁に筒状のスルーホール導体28を形成する。次いで、スルーホール導体28に取り囲
まれた領域に樹脂材料を充填することによって絶縁体29を形成し、導電材料を絶縁体29の露出部に被着させた後、従来周知のフォトリソグラフィー技術またはエッチング等によりパターニングして配線31を形成する。以上のようにして、コア基板25を準備する。
(2) The core substrate 25 (substrate) is produced. For production of the core substrate 25, first, for example, a resin substrate 27 in which a plurality of resin layers are laminated on a metal foil is formed. Next, after a through hole is formed in the resin base 27 by, for example, drilling or laser processing, a cylindrical shape is formed on the inner wall of the through hole by, for example, electroless plating, electroplating, vapor deposition, CVD, or sputtering. A through-hole conductor 28 is formed. Next, an insulator 29 is formed by filling a region surrounded by the through-hole conductor 28 with a resin material. After the conductive material is deposited on the exposed portion of the insulator 29, a conventionally known photolithography technique or etching is used. The wiring 31 is formed by patterning with the above. The core substrate 25 is prepared as described above.

(3)図7(b)、図8(a)に示すように、作製した基板用シート35をコア基板25上に積層する。具体的には基板用シート35の積層は、基板用シート35の第1樹脂層11がコア基板25に接触するように行なう。   (3) As shown in FIGS. 7B and 8A, the produced substrate sheet 35 is laminated on the core substrate 25. Specifically, the lamination of the substrate sheet 35 is performed so that the first resin layer 11 of the substrate sheet 35 is in contact with the core substrate 25.

その後、基板用シート35とコア基板25とを一体化させるため、真空状態で、上下方向に加熱加圧し、無機絶縁層9の空隙含有層92の空隙に第1樹脂層11の樹脂の一部を入り込ませる。なお、この際に、第2樹脂層13の樹脂の一部も無機絶縁層9の空隙含有層92の空隙に入り込んでも構わない。このとき、無機絶縁層9の空隙のほぼ全てに樹脂が入り込むように加熱加圧条件を調整することが、絶縁信頼性を確保する上で望ましい。   Thereafter, in order to integrate the substrate sheet 35 and the core substrate 25, heat and pressure are applied in the vertical direction in a vacuum state, and a part of the resin of the first resin layer 11 is formed in the voids of the void-containing layer 92 of the inorganic insulating layer 9. Get in. At this time, a part of the resin of the second resin layer 13 may also enter the void of the void-containing layer 92 of the inorganic insulating layer 9. At this time, it is desirable to adjust the heating and pressing conditions so that the resin enters almost all the voids of the inorganic insulating layer 9 in order to ensure the insulation reliability.

無機絶縁層9中の空気を、空隙含有層91内の空隙を介して、空隙含有層91の側面9aから容易に抜くことができるため、無機絶縁層9中における空隙を殆ど無くすことができ、配線基板作製工程での剥離等の不具合を無くすことができる。   Since the air in the inorganic insulating layer 9 can be easily extracted from the side surface 9a of the void-containing layer 91 through the void in the void-containing layer 91, the void in the inorganic insulating layer 9 can be almost eliminated, Problems such as peeling in the wiring board manufacturing process can be eliminated.

前述の加熱温度は、例えば60℃以上160℃以下に設定され、加圧圧力は、例えば0.1MPa以上4MPa以下に設定される。支持シート5等の加熱加圧時間は、例えば0.5分以上180分以下に設定される。   The heating temperature is set to, for example, 60 ° C. or more and 160 ° C. or less, and the pressurizing pressure is set, for example, to 0.1 MPa or more and 4 MPa or less. The heating and pressing time for the support sheet 5 or the like is set to, for example, not less than 0.5 minutes and not more than 180 minutes.

(4)基板用シート35およびコア基板25を、第1樹脂層11の樹脂および第2樹脂層13の樹脂の熱硬化開始温度以上で加熱することによって、基板用シート35中の未硬化状態の樹脂を熱硬化させる。基板用シート35等の加熱温度は、例えば80℃以上250℃以下に設定される。   (4) By heating the substrate sheet 35 and the core substrate 25 at a temperature equal to or higher than the thermosetting start temperature of the resin of the first resin layer 11 and the resin of the second resin layer 13, the uncured state in the substrate sheet 35 is obtained. The resin is heat cured. The heating temperature of the substrate sheet 35 or the like is set to, for example, 80 ° C. or more and 250 ° C. or less.

なお、樹脂の熱硬化は、前述の工程(3)の加熱加圧時に同時に行っても差し支えない。   In addition, the thermosetting of the resin may be performed simultaneously with the heating and pressurization in the above-described step (3).

(5)図8(b)に示すように、支持シート5の表面から無機絶縁層9および第1樹脂層11、第2樹脂層13を厚み方向に貫通する貫通穴を形成する。貫通穴の形成は、例えばYAGレーザー装置または炭酸ガスレーザー装置を用いて支持シート5の上面にレーザー光を照射することによって行なう。   (5) As shown in FIG.8 (b), the through-hole which penetrates the inorganic insulating layer 9, the 1st resin layer 11, and the 2nd resin layer 13 from the surface of the support sheet 5 in the thickness direction is formed. The through hole is formed by irradiating the upper surface of the support sheet 5 with laser light using, for example, a YAG laser device or a carbon dioxide gas laser device.

(6)次に、前述の貫通穴の底部にレーザー加工により生じる樹脂残渣(スミア)を除去するため、強アルカリ処理を施す。強アルカリ性の水溶液としては、例えば過マンガン酸カリウムまたは過マンガン酸ナトリウム等の水溶液が好適である。   (6) Next, in order to remove the resin residue (smear) generated by laser processing at the bottom of the above-described through hole, a strong alkali treatment is performed. As the strong alkaline aqueous solution, for example, an aqueous solution of potassium permanganate or sodium permanganate is suitable.

(7)貫通穴にビア導体30を形成する。ビア導体30は、例えば無電解めっき、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法を用いて、貫通穴内に導電材料を埋めることによって形成される。   (7) The via conductor 30 is formed in the through hole. The via conductor 30 is formed by filling a conductive material in the through hole using, for example, electroless plating, vapor deposition, CVD, or sputtering.

(8)銅箔からなる支持シート5を、例えばフォトリソグラフィー技術等を用いてパターニングすることにより配線層を形成する。   (8) A wiring layer is formed by patterning the support sheet 5 made of copper foil using, for example, a photolithography technique or the like.

なお、支持シートに銅箔を用いない場合には、前述の(7)の工程までに支持シートを剥離しておき、(7)の工程にてビア導体を形成する際に絶縁層表面全面に導電材料を被着形成した後、前述のパターニングを行うことにより配線層を形成する。以上のようにし
て、図7(a)に示したような、配線基板24を製造する。
In the case where copper foil is not used for the support sheet, the support sheet is peeled off by the step (7) described above, and the via conductor is formed on the entire surface of the insulating layer in the step (7). After the conductive material is deposited and formed, the above-mentioned patterning is performed to form a wiring layer. As described above, the wiring substrate 24 as shown in FIG. 7A is manufactured.

このようにして形成された配線基板24の上面に電子部品を配置し、配線31にバンプや半田等の接合部材を介して電子部品を実装することによって、実装構造体を作製する。   An electronic component is arranged on the upper surface of the wiring board 24 formed in this way, and the electronic component is mounted on the wiring 31 via a bonding member such as a bump or solder, thereby producing a mounting structure.

本開示は上述した実施形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組合せ等が可能である。   The present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and various changes, improvements, combinations, and the like can be made without departing from the scope of the present disclosure.

上述した配線基板24の実施形態では、無機絶縁層9を1層積層した構成を例に説明したが、無機絶縁層9は何層積層しても構わない。   In the embodiment of the wiring substrate 24 described above, the configuration in which one inorganic insulating layer 9 is stacked has been described as an example, but any number of inorganic insulating layers 9 may be stacked.

1 積層シート
5 支持シート
9 無機絶縁層
91 空隙含有層
93 第1部分
95 第2部分
11 第1樹脂層
13 第2樹脂層
15 無機絶縁粒子
24 配線基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated sheet 5 Support sheet 9 Inorganic insulating layer 91 Space | gap content layer 93 1st part 95 2nd part 11 1st resin layer 13 2nd resin layer 15 Inorganic insulating particle 24 Wiring board

Claims (4)

長尺状の積層シートが長さ方向に巻回された巻回構造を有しており、前記積層シートは、長尺状の支持シートと、該支持シート上に配された複数の無機絶縁粒子を有する無機絶縁層と、該無機絶縁層上に配された第1樹脂層とを含み、前記支持シートの幅方向における前記無機絶縁層の側面が露出しているとともに、前記無機絶縁層は、前記支持シートの幅方向における側面が露出した空隙含有層を有することを特徴とする巻回体。   A long laminated sheet has a winding structure in which the laminated sheet is wound in the length direction, and the laminated sheet includes a long supporting sheet and a plurality of inorganic insulating particles arranged on the supporting sheet. And the first resin layer disposed on the inorganic insulating layer, the side surface of the inorganic insulating layer in the width direction of the support sheet is exposed, the inorganic insulating layer, A wound body having a void-containing layer with exposed side surfaces in the width direction of the support sheet. 前記第1樹脂層を構成する樹脂の一部が、前記無機絶縁層の前記第1樹脂層側の無機絶縁粒子間に配されているとともに、前記空隙含有層が、前記無機絶縁層の前記第1樹脂層の樹脂が配された第1部分よりも前記支持シート側に位置していることを特徴とする請求項1に記載の巻回体。   A part of the resin constituting the first resin layer is disposed between the inorganic insulating particles on the first resin layer side of the inorganic insulating layer, and the void-containing layer is the first of the inorganic insulating layer. 2. The wound body according to claim 1, wherein the wound body is located closer to the support sheet than a first portion where a resin of one resin layer is disposed. 前記支持シートと前記無機絶縁層との間に第2樹脂層が配置されており、該第2樹脂層を構成する樹脂の一部が、前記無機絶縁層の前記第2樹脂層側の無機絶縁粒子間に配されているとともに、前記空隙含有層が、前記第1部分と、前記無機絶縁層の前記第2樹脂層の樹脂が配された第2部分との間に位置していることを特徴とする請求項2に記載の巻回体。   A second resin layer is disposed between the support sheet and the inorganic insulating layer, and a part of the resin constituting the second resin layer is inorganic insulating on the second resin layer side of the inorganic insulating layer. It is arranged between the particles, and the void-containing layer is located between the first portion and the second portion where the resin of the second resin layer of the inorganic insulating layer is arranged. The wound body according to claim 2, wherein 主面が対向する一対の第1辺および一対の第2辺を有する矩形状の支持シートと、該支持シート上に配された複数の無機絶縁粒子を有する無機絶縁層と、該無機絶縁層上に配された第1樹脂層とを含み、前記支持シートの幅方向における前記無機絶縁層の側面が露出しているとともに、前記無機絶縁層は、前記支持シートの幅方向における側面が露出した空隙含有層を有することを特徴とする基板用シート。   A rectangular support sheet having a pair of first sides and a pair of second sides facing each other, an inorganic insulating layer having a plurality of inorganic insulating particles disposed on the support sheet, and the inorganic insulating layer A side surface of the inorganic insulating layer in the width direction of the support sheet is exposed, and the inorganic insulating layer is a void in which a side surface in the width direction of the support sheet is exposed. A substrate sheet comprising a containing layer.
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