JP6633390B2 - Resin substrate, mounting structure and sheet for resin substrate - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂基板および実装構造体ならびに樹脂基板用シートに関する。   The present invention relates to a resin substrate, a mounting structure, and a resin substrate sheet.

従来、電子機器(例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ機器およびその周辺機器)における実装構造体としては、配線基板に電子部品を実装したものが使用されている。このような配線基板を形成するための樹脂基板用シートとして、シート部材上に、粒径が3nm以上110nm以下の第1無機絶縁粒子と、粒径が0.5μm以上5μm以下の第2無機絶縁粒子とを含有する無機絶縁層を形成したものが知られている(特許文献1参照)。この特許文献1では、第1無機絶縁粒子同士が互い接着し、第2無機絶縁粒子同士が第1無機絶縁粒子を介して接着し、3次元網目状構造の骨格を有することが記載されており、第1無機絶縁粒子間および第2無機絶縁粒子と第1無機絶縁粒子との間には、樹脂が配されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, as a mounting structure in electronic devices (for example, various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices, and peripheral devices thereof), a structure in which electronic components are mounted on a wiring board has been used. As a sheet for a resin substrate for forming such a wiring board, a first inorganic insulating particle having a particle size of 3 nm or more and 110 nm or less and a second inorganic insulating particle having a particle size of 0.5 μm or more and 5 μm or less are formed on a sheet member. An inorganic insulating layer containing particles is formed (see Patent Document 1). Patent Document 1 describes that the first inorganic insulating particles adhere to each other, the second inorganic insulating particles adhere to each other via the first inorganic insulating particles, and have a skeleton of a three-dimensional network structure. A resin is disposed between the first inorganic insulating particles and between the second inorganic insulating particles and the first inorganic insulating particles.

国際公開第2011/037260号International Publication No. 2011/037260

特許文献1の配線基板では、第1無機絶縁粒子間および第2無機絶縁粒子と第1無機絶縁粒子との間に樹脂を配しているものの、樹脂による第1無機絶縁粒子同士の連結力、第2無機絶縁粒子と第1無機絶縁粒子との連結力が低かった。   In the wiring board of Patent Literature 1, although a resin is disposed between the first inorganic insulating particles and between the second inorganic insulating particles and the first inorganic insulating particles, the coupling force between the first inorganic insulating particles by the resin, The connection strength between the second inorganic insulating particles and the first inorganic insulating particles was low.

本発明は、無機絶縁粒子同士を強固に連結できる樹脂基板および実装構造体ならびに樹脂基板用シートを提供するものである。   The present invention provides a resin substrate, a mounting structure, and a resin substrate sheet capable of firmly connecting inorganic insulating particles to each other.

本発明の樹脂基板は、絶縁層を有する樹脂基板であって、前記絶縁層が、面方向に配列した複数の第1無機絶縁粒子と、複数の第2無機絶縁粒子と、2面間粒界と、多重点粒界とを有しており、前記第2無機絶縁粒子は、前記第1無機絶縁粒子よりも粒径が小さく、前記2面間粒界は、隣接する2個の前記第1無機絶縁粒子間の領域であり、前記多重点粒界は、前記絶縁層を平面視したときに、4つの前記第1無機絶縁粒子の面と前記2面間粒界に位置する複数の前記第2無機絶縁粒子とで囲まれた領域であり、前記第1無機絶縁粒子同士が前記第2無機絶縁粒子を介して接合された層状骨格を有するとともに、該層状骨格の前記多重点粒界に樹脂が配されていることを特徴とする。
The resin substrate of the present invention is a resin substrate having an insulating layer, wherein the insulating layer includes a plurality of first inorganic insulating particles, a plurality of second inorganic insulating particles, and a two-surface grain boundary. And a multi-point grain boundary, wherein the second inorganic insulating particles have a smaller particle size than the first inorganic insulating particles, and the two-plane grain boundaries are formed by two adjacent first and second inorganic insulating particles . A region between the inorganic insulating particles , wherein the multipoint grain boundary is a plurality of the first inorganic insulating particles and a plurality of the second inorganic particles located at the grain boundary between the two surfaces when the insulating layer is viewed in a plan view. 2 is a region surrounded by the inorganic insulating particles , wherein the first inorganic insulating particles have a layered skeleton joined together via the second inorganic insulating particles, and a resin is formed at the multipoint grain boundary of the layered skeleton. Are arranged.

また、本発明の実装構造体は、上記の樹脂基板と、該樹脂基板に実装され、前記配線層に電気的に接続された電子部品とを備えたことを特徴とする。   Further, a mounting structure according to the present invention includes the resin substrate described above, and an electronic component mounted on the resin substrate and electrically connected to the wiring layer.

さらに、本発明の樹脂基板用シートは、シート部材上に絶縁層前駆体を有する樹脂基板用シートであって、前記絶縁層前駆体が、面方向に配列した複数の第1無機絶縁粒子と、複数の第2無機絶縁粒子と、2面間粒界と、多重点粒界とを有しており、前記第2無機絶縁粒子は、前記第1無機絶縁粒子よりも粒径が小さく、前記2面間粒界は、隣接する2個の前記第1無機絶縁粒子間の領域であり、前記多重点粒界は、前記絶縁層を平面視したときに、4つの前記第1無機絶縁粒子の面と前記2面間粒界に位置する複数の前記第2無機絶縁粒子とで囲まれた領域であり、前記第1無機絶縁粒子同士が前記第2無機絶縁粒子を介して接合された層状骨格を有するとともに、該層状骨格の前記多重点粒界には樹脂が配されていることを特徴とする。 Further, the resin substrate sheet of the present invention is a resin substrate sheet having an insulating layer precursor on a sheet member, wherein the insulating layer precursor is a plurality of first inorganic insulating particles arranged in a plane direction, A plurality of second inorganic insulating particles, a grain boundary between two surfaces, and a multipoint grain boundary, wherein the second inorganic insulating particles have a smaller particle size than the first inorganic insulating particles; The inter-surface grain boundary is a region between two adjacent first inorganic insulating particles , and the multipoint grain boundary is a surface of the four first inorganic insulating particles when the insulating layer is viewed in plan. And a region surrounded by the plurality of second inorganic insulating particles located at the grain boundary between the two surfaces, and a layered skeleton in which the first inorganic insulating particles are bonded to each other via the second inorganic insulating particles. And a resin is disposed at the multipoint grain boundary of the layered skeleton.

本発明の樹脂基板によれば、無機絶縁粒子同士を強固に連結できる。   According to the resin substrate of the present invention, the inorganic insulating particles can be strongly connected to each other.

図1(a)は、本発明の一実施形態に係る樹脂基板用シートの概略を示した断面図であり、(b)はその拡大図である。FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a resin substrate sheet according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged view thereof. (a)は、図1の2a−2a線に沿った横断面図であり、(b)は、(a)の2b−2b線に沿った縦断面図であり、(c)は、第1無機絶縁粒子の上下面に樹脂層を有する第1絶縁層前駆体の縦断面図である。(A) is a cross-sectional view along line 2a-2a in FIG. 1, (b) is a vertical cross-sectional view along line 2b-2b in (a), and (c) is a first cross-sectional view. It is a longitudinal cross-sectional view of the 1st insulating layer precursor which has a resin layer on the upper and lower surfaces of inorganic insulating particles. シート部材上に第1絶縁層前駆体を形成する工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the process of forming a 1st insulating layer precursor on a sheet member. (a)は、本発明の他の形態に係る樹脂基板用シートの概略を示した断面図、(b)はその拡大図、(c)は、(b)の4c−4c線に沿った横断面図である。(A) is a cross-sectional view schematically showing a resin substrate sheet according to another embodiment of the present invention, (b) is an enlarged view thereof, and (c) is a cross-section taken along line 4c-4c of (b). FIG. シート部材上に図4の第1絶縁層前駆体を形成する工程を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory view showing a step of forming a first insulating layer precursor of FIG. 4 on a sheet member. (a)は、本発明のさらに他の形態に係る樹脂基板用シートの概略を示した断面図であり、(b)はその拡大図、(c)は、(b)の6c−6c線に沿った横断面図、(d)は上下の層状骨格の第1無機絶縁粒子が細密充填の形状で配置された状態を示す横断面図である。(A) is sectional drawing which showed the outline of the sheet | seat for resin boards which concerns on another form of this invention, (b) is the enlarged view, (c) is 6c-6c line | wire of (b). (D) is a cross-sectional view showing a state in which the first inorganic insulating particles of the upper and lower layered skeletons are arranged in a closely packed shape. シート部材上に図6の第1絶縁層前駆体を形成する工程を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view showing a step of forming a first insulating layer precursor of FIG. 6 on a sheet member. 本発明の一実施形態に係る樹脂基板の概略を示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a resin substrate according to an embodiment of the present invention. 図8の配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating one step of a method for manufacturing the wiring board of FIG. 8. 図8の配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating one step of a method for manufacturing the wiring board of FIG. 8. 図8の配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating one step of a method for manufacturing the wiring board of FIG. 8. 図8の配線基板の製造方法の一工程を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating one step of a method for manufacturing the wiring board of FIG. 8.

(形態1)
以下、本発明の一実施形態に係る樹脂基板用シートについて、図1および図2を参照しつつ説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
(Form 1)
Hereinafter, a resin substrate sheet according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and various changes, improvements, and the like can be made without departing from the gist of the present invention.

図1は、樹脂基板用シート1を上下方向(樹脂基板用シートの厚み方向)に切断した断面を模式的に示している。樹脂基板用シート1は、例えば、後述するように樹脂基板の製造に使用されるものである。この樹脂基板用シート1は、図1に示すように、シート部材2と、シート部材2の主面上に積層されている絶縁層前駆体(以下、単に絶縁層ということがある)3とを有している。   FIG. 1 schematically shows a cross section of the resin substrate sheet 1 cut in the vertical direction (the thickness direction of the resin substrate sheet). The resin substrate sheet 1 is used for manufacturing a resin substrate, for example, as described later. As shown in FIG. 1, the resin substrate sheet 1 includes a sheet member 2 and an insulating layer precursor (hereinafter, may be simply referred to as an insulating layer) 3 laminated on the main surface of the sheet member 2. Have.

シート部材2は、絶縁シート1を取り扱う際に、絶縁層3を支持するものであり、配線に加工される。シート部材2は、例えば平板状の銅箔からなる。シート部材2が銅箔からなる場合、シート部材2の耐熱性を向上させることができ、また後述する配線層として利用することができる。なお、シート部材2は、フィルム状の樹脂シートであっても良い。   The sheet member 2 supports the insulating layer 3 when handling the insulating sheet 1, and is processed into wiring. The sheet member 2 is made of, for example, a flat copper foil. When the sheet member 2 is made of copper foil, the heat resistance of the sheet member 2 can be improved, and it can be used as a wiring layer described later. Note that the sheet member 2 may be a film-shaped resin sheet.

絶縁層3は、後述する樹脂基板の配線層間の絶縁を確保するものである。絶縁層3は、シート部材2上に積層された第1絶縁層前駆体(以下、単に第1絶縁層ということがある)4と、第1絶縁層4上に積層された第2絶縁層前駆体(以下、単に第2絶縁層ということがある)5とを有している。絶縁層3の厚みは、例えば5μm以上50μm以下、望ましくは8μm以上20μm以下に設定されている。第1絶縁層4の厚みは、例えば1μm以上15μm以下に設定されている。   The insulating layer 3 secures insulation between wiring layers of the resin substrate described later. The insulating layer 3 includes a first insulating layer precursor (hereinafter, may be simply referred to as a first insulating layer) 4 laminated on the sheet member 2 and a second insulating layer precursor laminated on the first insulating layer 4. (Hereinafter, simply referred to as a second insulating layer) 5. The thickness of the insulating layer 3 is set to, for example, 5 μm or more and 50 μm or less, preferably 8 μm or more and 20 μm or less. The thickness of the first insulating layer 4 is set, for example, to 1 μm or more and 15 μm or less.

第1絶縁層4は、図2に示すように、複数の無機絶縁粒子6および第1樹脂部8によって形成されている。すなわち、複数の無機絶縁粒子6が粒子形状を保持したまま互いに接続することによって、第1絶縁層4の主要部である層状骨格Aが形成されている。   As shown in FIG. 2, the first insulating layer 4 is formed by a plurality of inorganic insulating particles 6 and a first resin part 8. That is, the plurality of inorganic insulating particles 6 are connected to each other while maintaining the particle shape, thereby forming the layered skeleton A, which is the main part of the first insulating layer 4.

さらに詳細に説明すると、第1絶縁層4は、複数の第1無機絶縁粒子6aがシート部材2の面方向(2次元的)に配列しており、隣接する2個の第1無機絶縁粒子6a間で構成される2面間粒界7aと、隣接する3個以上(図2では4個)の第1無機絶縁粒子6a間で構成される多重点粒界7bとを有するとともに、2面間粒界7aに、第1無機絶縁粒子6aよりも小さい第2無機絶縁粒子6bが複数配置され、該複数の第2無機絶縁粒子6bを介して2個の第1無機絶縁粒子6aが接合された層状骨格Aを有しており、該層状骨格Aの多重点粒界7bには、未硬化もしくは半硬化状態の樹脂が配されて第1樹脂部8とされ、第1絶縁層4が構成されている。図1では、第1絶縁層4は、1層の層状骨格Aを有している。   More specifically, the first insulating layer 4 includes a plurality of first inorganic insulating particles 6a arranged in the surface direction (two-dimensional) of the sheet member 2 and two adjacent first inorganic insulating particles 6a. And a multipoint grain boundary 7b formed between three or more (four in FIG. 2) first inorganic insulating particles 6a adjacent to each other. A plurality of second inorganic insulating particles 6b smaller than the first inorganic insulating particles 6a were arranged at the grain boundary 7a, and two first inorganic insulating particles 6a were joined via the plurality of second inorganic insulating particles 6b. An uncured or semi-cured resin is disposed at a multipoint grain boundary 7b of the layered skeleton A to form a first resin portion 8, and a first insulating layer 4 is formed. ing. In FIG. 1, the first insulating layer 4 has a single layered skeleton A.

すなわち、第1絶縁層4を平面視したときに、図2(a)に示すように、対向する第1無機絶縁粒子(以下、第1粒子ということがある)6aの対向面間が2面間粒界7aとされており、この2面間粒界7aには、多数の第2無機絶縁粒子(以下、第2粒子ということがある)6bが配置されており、第2粒子6b同士が接合し、さらに、これらの接合した第2粒子6bを介して2つの第1粒子6aが接合している。   That is, when the first insulating layer 4 is viewed in a plan view, as shown in FIG. 2A, the distance between the opposing first inorganic insulating particles (hereinafter, sometimes referred to as first particles) 6a is two. A large number of second inorganic insulating particles (hereinafter, sometimes referred to as “second particles”) 6b are arranged in the intergranular boundary 7a, and the second particles 6b are connected to each other. The first particles 6a are joined, and the two first particles 6a are joined via the joined second particles 6b.

第2粒子6bは、第1絶縁層4を平面視した時および断面視した時に、2つの第1粒子6aの最も近接している部分を中心に配置されており、図2(b)に示すように、第1絶縁層4の厚さ方向中央部に位置しており、第1絶縁層4の厚さ方向上層部および下層部には存在していない。第2粒子6b同士は接続し、また、第1粒子6aと第2粒子6bとも接続している。   When the first insulating layer 4 is viewed in a plan view and in a cross-sectional view, the second particles 6b are arranged around a portion where the two first particles 6a are closest to each other, as shown in FIG. As described above, the first insulating layer 4 is located at the center in the thickness direction, and does not exist in the upper and lower layers of the first insulating layer 4 in the thickness direction. The second particles 6b are connected to each other, and are also connected to the first particles 6a and the second particles 6b.

また、多重点粒界7bは、図2(a)に示すように、平面視した時に、4つの第1粒子6aの面および、2面間粒界7aの多数の第2粒子6bとで囲まれた領域で構成されており、この多重点粒界7bには、未硬化もしくは半硬化状態の樹脂が配され、第1樹脂部8とされている。この樹脂は、図2(b)に示すように、第1絶縁層4の厚さ方向中央部のみならず、上層部および下層部にも配置されている。なお、図示しなかったが、第2粒子6b間にも樹脂が配されている。第2粒子6b同士はネックで結合しており、第2粒子6bは3次元網目構造を呈し、それらの粒界に樹脂が配されている。   Further, as shown in FIG. 2A, the multipoint grain boundary 7b is surrounded by the surface of the four first particles 6a and a large number of second particles 6b of the two-surface grain boundary 7a when viewed in a plan view. The uncured or semi-cured resin is disposed in the multipoint grain boundary 7b, and the first resin portion 8 is formed. As shown in FIG. 2B, this resin is disposed not only in the central portion in the thickness direction of the first insulating layer 4 but also in the upper layer portion and the lower layer portion. Although not shown, a resin is also provided between the second particles 6b. The second particles 6b are connected to each other by a neck, and the second particles 6b have a three-dimensional network structure, and a resin is disposed at the grain boundaries.

また、層状骨格Aにおける樹脂(第1樹脂部8)の含有率は、例えば55体積%以上に設定され、望ましくは60体積%以上に設定され、前述の特許文献1よりも多くできる。このような樹脂の含有率は、例えば、第1絶縁層4の断面の顕微鏡写真を用い、画像解析装置で面積比率を算出し、体積換算することで得られる。   Further, the content of the resin (first resin portion 8) in the layered skeleton A is set to, for example, 55% by volume or more, preferably 60% by volume or more. The content of such a resin can be obtained, for example, by using a micrograph of a cross section of the first insulating layer 4 to calculate an area ratio by an image analyzer and converting the area ratio.

第1絶縁層4の厚みは、図2(b)では、第1粒子6aの直径と同一に記載したが、図2(c)に示すように、層状骨格Aの厚さ(第1粒子6aの直径)よりも厚く、第1粒子6aの上下面に樹脂層を有する場合であっても良い。言い換えれば、第1絶縁層4が、層状骨格Aの上下面に樹脂層を有する場合であっても良い。なお、第1絶縁層4が、層状骨格Aの上面または下面のいずれかに樹脂層を有する場合であっても良いことは勿論である。   The thickness of the first insulating layer 4 is the same as the diameter of the first particles 6a in FIG. 2B, but as shown in FIG. 2C, the thickness of the layered skeleton A (the first particles 6a (Diameter of the first particle 6a), and may have a resin layer on the upper and lower surfaces of the first particle 6a. In other words, the first insulating layer 4 may have a resin layer on the upper and lower surfaces of the layered skeleton A. Note that, naturally, the first insulating layer 4 may have a resin layer on either the upper surface or the lower surface of the layered skeleton A.

第1粒子6aの粒子径は、0.1μm以上5μm以下に設定されている。第2粒子6bの粒径は、例えば5nm以上80nm未満に設定されている。無機絶縁粒子6の粒径は、例えば、まず第1絶縁層4の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、20粒子数以上50粒子数以下の粒子を含むように拡大した断面を撮影し、拡大した断面にて各粒子の
最大径を測定することによって算出される。
The particle diameter of the first particles 6a is set to 0.1 μm or more and 5 μm or less. The particle size of the second particles 6b is set, for example, to 5 nm or more and less than 80 nm. The particle diameter of the inorganic insulating particles 6 is determined, for example, by observing a cross section of the first insulating layer 4 with a transmission electron microscope (TEM), and photographing a cross section enlarged so as to include 20 to 50 particles. It is calculated by measuring the maximum diameter of each particle on the enlarged cross section.

無機絶縁粒子6の形状は、例えば球状である。無機絶縁粒子6は、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタニウム、酸化マグネシウムまたは酸化ジルコニウム等の無機絶縁材料からなる。また、無機絶縁粒子6は単一の材料からなってもよいし、複数種類の材料からなってもよい。なお、無機絶縁粒子6は、熱膨張率が例えば0.6ppm/℃以上12ppm/℃以下である材料からなる。また、無機絶縁粒子6は、ヤング率が例えば10GPa以上300GPa以下である材料からなる。無機絶縁粒子6は、溶融シリカであることが特に望ましい。   The shape of the inorganic insulating particles 6 is, for example, spherical. The inorganic insulating particles 6 are made of an inorganic insulating material such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, or zirconium oxide. Further, the inorganic insulating particles 6 may be made of a single material, or may be made of a plurality of types of materials. The inorganic insulating particles 6 are made of a material having a coefficient of thermal expansion of, for example, 0.6 ppm / ° C. or more and 12 ppm / ° C. or less. The inorganic insulating particles 6 are made of a material having a Young's modulus of, for example, 10 GPa or more and 300 GPa or less. It is particularly desirable that the inorganic insulating particles 6 are fused silica.

第1樹脂部8は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂等からなり、適宜後述の無機充填剤を含有せしめても良い。また、第1樹脂部8は、熱膨張率が例えば30ppm/℃以上60ppm/℃以下である材料からなる。また、第1樹脂部8は、ヤング率が例えば2GPa以上10GPa以下である材料からなる。第1樹脂部8は、樹脂基板用絶縁シート1において未硬化あるいは半硬化状態である。   The first resin portion 8 is made of, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyphenylene ether resin, a wholly aromatic polyamide resin or a polyimide resin, and appropriately contains an inorganic filler described below. May be. The first resin portion 8 is made of a material having a coefficient of thermal expansion of, for example, 30 ppm / ° C. or more and 60 ppm / ° C. or less. The first resin portion 8 is made of a material having a Young's modulus of, for example, 2 GPa or more and 10 GPa or less. The first resin portion 8 is in an uncured or semi-cured state in the resin substrate insulating sheet 1.

第2絶縁層5は、樹脂基板の製造時に、絶縁層3と配線層、または絶縁層3とこの絶縁層3に積層される他の絶縁層3とを接着するものである。第2絶縁層5は、図1(b)に示すように、第2樹脂部13および第2樹脂部13の樹脂内に配されている無機充填材35を有している。この第2絶縁層5は、多重点粒界7bに樹脂を配する工程で、層状骨格A上に樹脂を多めに塗布し、第2絶縁層5を形成しても良い。   The second insulating layer 5 is for bonding the insulating layer 3 and a wiring layer, or the insulating layer 3 and another insulating layer 3 laminated on the insulating layer 3 at the time of manufacturing the resin substrate. As shown in FIG. 1B, the second insulating layer 5 has a second resin part 13 and an inorganic filler 35 disposed in the resin of the second resin part 13. The second insulating layer 5 may be formed by applying a large amount of resin on the layered skeleton A in the step of distributing the resin to the multipoint grain boundaries 7b.

第2絶縁層5の厚みは、第1絶縁層4の厚みよりも小さくてもよい。これにより、第2絶縁層5の熱膨張の影響が小さくなり、第1絶縁層4は、第2絶縁層5の熱膨張量を効果的に低減させることができる。なお、第2絶縁層5の厚みは、例えば1μm以上40μm以下に設定されている。   The thickness of the second insulating layer 5 may be smaller than the thickness of the first insulating layer 4. Thereby, the influence of the thermal expansion of the second insulating layer 5 is reduced, and the first insulating layer 4 can effectively reduce the amount of thermal expansion of the second insulating layer 5. The thickness of the second insulating layer 5 is set, for example, to 1 μm or more and 40 μm or less.

第2絶縁層5の第2樹脂部13は、第1絶縁層4の第1樹脂部8と接続している。その結果、第2絶縁層5と第1絶縁層4との接着強度を向上させることができ、例えば第1絶縁層4と第2絶縁層5の熱膨張率の違いによる剥離を低減することができる。   The second resin portion 13 of the second insulating layer 5 is connected to the first resin portion 8 of the first insulating layer 4. As a result, the adhesive strength between the second insulating layer 5 and the first insulating layer 4 can be improved, and for example, separation due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the first insulating layer 4 and the second insulating layer 5 can be reduced. it can.

また、第2絶縁層5の第2樹脂部13は、上記したように、第1絶縁層4の第1樹脂部8と一体的に形成されてもよい。すなわち、第2絶縁層5を形成する樹脂が、第1絶縁層4の多重点粒界7bや、第2粒子6b間に入り込んで、第1樹脂部8を形成してもよい。その結果、第2絶縁層5と第1絶縁層4との剥離を効果的に低減することができる。   Further, the second resin portion 13 of the second insulating layer 5 may be formed integrally with the first resin portion 8 of the first insulating layer 4 as described above. That is, the resin forming the second insulating layer 5 may enter the multi-point grain boundaries 7 b of the first insulating layer 4 and between the second particles 6 b to form the first resin portion 8. As a result, the separation between the second insulating layer 5 and the first insulating layer 4 can be effectively reduced.

第2樹脂部13は、主に第2絶縁層5を構成するものである。第2樹脂部13は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂等からなり、適宜後述の無機充填剤35を含有せしめても良い。また、第2樹脂部13は、熱膨張率が例えば30ppm/℃以上60ppm/℃以下である材料からなる。また、第2樹脂部13は、ヤング率が例えば2GPa以上10GPa以下である材料からなる。第2樹脂部13は、絶縁シート1において未硬化状態あるいは半硬化状態である。   The second resin portion 13 mainly forms the second insulating layer 5. The second resin portion 13 is made of, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyphenylene ether resin, a wholly aromatic polyamide resin or a polyimide resin, and contains an inorganic filler 35 described below as appropriate. You may do it. The second resin portion 13 is made of a material having a coefficient of thermal expansion of, for example, 30 ppm / ° C. or more and 60 ppm / ° C. or less. The second resin portion 13 is made of a material having a Young's modulus of, for example, 2 GPa or more and 10 GPa or less. The second resin portion 13 is in an uncured state or a semi-cured state in the insulating sheet 1.

無機充填材35は、第2絶縁層5の強度を向上させるものである。無機充填材35の形状は、例えば球状である。無機充填材35の粒子径は、第1粒子6aの粒子径以上であってもよい。無機充填材35の粒子径は、例えば0.1μm以上5μm以下に設定される。また、第2絶縁層5に対する無機充填材35の含有率は、第1絶縁層4に対する無機絶縁粒子6の含有率よりも小さくてもよい。無機充填材35の第2絶縁層5に対する含有率は
、例えば60体積%以下に設定されている。第2絶縁層5の無機充填材35は、樹脂中に離れて存在する。
The inorganic filler 35 improves the strength of the second insulating layer 5. The shape of the inorganic filler 35 is, for example, spherical. The particle size of the inorganic filler 35 may be equal to or larger than the particle size of the first particles 6a. The particle diameter of the inorganic filler 35 is set, for example, to 0.1 μm or more and 5 μm or less. Further, the content of the inorganic filler 35 in the second insulating layer 5 may be smaller than the content of the inorganic insulating particles 6 in the first insulating layer 4. The content of the inorganic filler 35 in the second insulating layer 5 is set to, for example, 60% by volume or less. The inorganic filler 35 of the second insulating layer 5 exists separately in the resin.

樹脂基板用シートの製造方法について説明する。先ず、例えば、特開2010−64945号公報に開示されるように、第1粒子6aおよび第2粒子6bを、正および負に帯電させ、静電相互作用により第1粒子6aの表面に第2粒子6bを吸着させる。第2粒子6bは、第1粒子6aの表面に脱落はしないが移動できる程度の吸着力で付着している。   A method for manufacturing the resin substrate sheet will be described. First, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-64945, for example, the first particles 6a and the second particles 6b are positively and negatively charged, and the second particles 6a and 6b are charged on the surface of the first particles 6a by electrostatic interaction. The particles 6b are adsorbed. The second particles 6b do not fall off but adhere to the surface of the first particles 6a with such an attractive force that they can move.

この後、第2粒子6bが吸着した第1粒子6aを、水等の分散液中に分散させ、この分散液をシート部材2上に塗布し、乾燥させる。この乾燥工程で、水とともに第2粒子6bが、第1粒子6aの2面間粒界7aに表面張力により移動し、分散液が完全に除去される。この後の焼成工程は不要だが、ごく低温で焼成しても良い。上記工程を経ることにより、図3(a)に示すように、シート部材2上に層状骨格Aを形成できる(例えば、シ−エムシー出版 ゾル−ゲル法の最新応用と展望 P250〜251参照)。   Thereafter, the first particles 6a to which the second particles 6b are adsorbed are dispersed in a dispersion such as water, and the dispersion is applied on the sheet member 2 and dried. In this drying step, the second particles 6b move to the grain boundary 7a between the two surfaces of the first particles 6a together with the water by surface tension, and the dispersion is completely removed. Although the subsequent sintering step is unnecessary, sintering may be performed at a very low temperature. Through the above steps, a layered skeleton A can be formed on the sheet member 2 as shown in FIG. 3A (for example, see the latest application and prospect of the sol-gel method published by CMC P250-251).

そして、図3(b)に示すように、上記層状骨格Aに第2絶縁層5を形成する樹脂8aを塗布しプレスすることにより、樹脂8aを、図3(c)に示すように、多重点粒界7bに配置するとともに、2面間粒界7aの各第2粒子6b間および第1粒子6aと第2粒子6bとの間に配置する。   Then, as shown in FIG. 3B, a resin 8a for forming the second insulating layer 5 is applied to the layered skeleton A and pressed, so that the resin 8a is multiplied as shown in FIG. In addition to being arranged at the important grain boundary 7b, it is arranged between each second particle 6b and between the first particle 6a and the second particle 6b of the two-plane grain boundary 7a.

具体的には、シート部材2、第1絶縁層4の層状骨格Aおよび樹脂8aを上下方向に加熱加圧することによって、第1絶縁層4の多重点粒界7b等に第2絶縁層5を形成する樹脂8aを入り込ませる。   Specifically, the sheet member 2, the layered skeleton A of the first insulating layer 4 and the resin 8a are heated and pressed in the vertical direction, so that the second insulating layer 5 is formed on the multipoint grain boundaries 7b and the like of the first insulating layer 4. The resin 8a to be formed is introduced.

シート部材2等の加熱温度は、例えば60℃以上250℃以下に設定される。シート部材2等の加圧圧力は、例えば0.1MPa以上5MPa以下に設定される。シート部材2等の加熱加圧時間は、例えば0.5分以上300分以下に設定される。第2絶縁層5の樹脂8aの上記加熱時間における溶融粘度は、例えば10000Pa・s以下に設定される。層状骨格Aの厚み、シート部材2等の加圧圧力および第2絶縁層5の樹脂8aの溶融粘度を適宜調整することによって、層状骨格Aの多重点粒界7b等に入り込んだ樹脂8a(第1樹脂部8)をシート部材2に接触させることができる。   The heating temperature of the sheet member 2 and the like is set to, for example, 60 ° C. or more and 250 ° C. or less. The pressure applied to the sheet member 2 and the like is set to, for example, 0.1 MPa or more and 5 MPa or less. The heating and pressing time of the sheet member 2 and the like is set to, for example, 0.5 minute or more and 300 minutes or less. The melt viscosity of the resin 8a of the second insulating layer 5 during the heating time is set, for example, to 10,000 Pa · s or less. By appropriately adjusting the thickness of the layered skeleton A, the pressure applied to the sheet member 2 and the like, and the melt viscosity of the resin 8a of the second insulating layer 5, the resin 8a (the The 1 resin portion 8) can be brought into contact with the sheet member 2.

あるいは、キャリアフィルム上に、前述の樹脂8aを既存の成形方法によりシート状に成形したものを準備し、層状骨格Aの上に載置し、前述と同様の方法で加熱加圧することによっても、第1絶縁層4の多重点粒界7b等に樹脂8aを入り込ませることが可能である。なお、キャリアフィルムは、加熱加圧後に剥離する。樹脂基板用シート1における第1絶縁層4の第1樹脂部8は、未硬化または半硬化状態である。また、樹脂8aは、第2絶縁層5を形成する樹脂に限定されるものではない。   Alternatively, by preparing a sheet of the above-mentioned resin 8a formed on a carrier film by an existing forming method, placing it on the layered skeleton A, and applying heat and pressure in the same manner as described above, The resin 8a can enter the multipoint grain boundaries 7b and the like of the first insulating layer 4. Note that the carrier film is peeled off after heating and pressing. The first resin portion 8 of the first insulating layer 4 in the resin substrate sheet 1 is in an uncured or semi-cured state. Further, the resin 8a is not limited to the resin forming the second insulating layer 5.

この後、第1絶縁層4上に、第2絶縁層5を形成する樹脂を塗布乾燥させることにより、第2絶縁層5を形成し、樹脂基板用シート1を作製できる。   Thereafter, the resin for forming the second insulating layer 5 is applied and dried on the first insulating layer 4 to form the second insulating layer 5 and the resin substrate sheet 1 can be manufactured.

なお、層状骨格Aの上に第2絶縁層5を形成する樹脂8aを多めに配置し、前述と同様の方法で加熱加圧することにより、第1絶縁層4と第2絶縁層5とを同時に形成しても良い。   In addition, the resin 8a forming the second insulating layer 5 is arranged in a large amount on the layered skeleton A, and the first insulating layer 4 and the second insulating layer 5 are simultaneously formed by heating and pressing in the same manner as described above. It may be formed.

このような樹脂基板用シート1では、複数の第1、第2粒子6a、6bは粒子形状を保持したまま互いの一部で結合しており、第1粒子6a同士を強固に連結できるとともに、多重点粒界7bに第1樹脂部8が配されているため、第1絶縁層4中の樹脂量を従来よりも増加でき、第1樹脂部8による第1粒子6a同士の連結力を向上できる。   In the resin substrate sheet 1 described above, the plurality of first and second particles 6a and 6b are partially bonded to each other while maintaining the particle shape, and the first particles 6a can be strongly connected to each other. Since the first resin portion 8 is disposed at the multipoint grain boundary 7b, the amount of resin in the first insulating layer 4 can be increased as compared with the conventional case, and the coupling force between the first particles 6a by the first resin portion 8 is improved. it can.

さらに、多重点粒界7bに充填された第1樹脂部8がシート部材2の表面に接合しているため、言い換えれば、第1樹脂部8は、複数の第1粒子6a同士の間に配され、かつ複数の第1粒子6aの表面とシート部材2の一主面と接合しているため、樹脂基板を作製する前の樹脂基板用シート1の段階において、シート部材2に第1樹脂部8を接触させることによって、シート部材2と第1絶縁層4との接着強度を向上させることができる。その結果、シート部材2から第1絶縁層4が剥離することを低減し、樹脂基板用シート1の取り扱いを容易にすることができる。   Further, since the first resin portion 8 filled in the multipoint grain boundary 7b is bonded to the surface of the sheet member 2, in other words, the first resin portion 8 is arranged between the plurality of first particles 6a. In addition, since the surfaces of the plurality of first particles 6a are joined to one main surface of the sheet member 2, the first resin portion is formed on the sheet member 2 at the stage of the resin substrate sheet 1 before the production of the resin substrate. The contact strength between the sheet member 2 and the first insulating layer 4 can be improved by bringing the sheet member 8 into contact. As a result, peeling of the first insulating layer 4 from the sheet member 2 is reduced, and handling of the resin substrate sheet 1 can be facilitated.

(形態2)
図4は、本発明の樹脂基板用シート1の他の形態を示すもので、第1絶縁層4を、2層の層状骨格Aで構成したものである。この形態の樹脂基板用シート1では、形態1の層状骨格Aを上下方向に2層積層して第1絶縁層4が構成されており、上側の層状骨格A1の第1粒子6aと、下側の層状骨格A2の第1粒子6aとが、層状骨格A1、A2の厚み方向に配列している。
(Form 2)
FIG. 4 shows another embodiment of the resin substrate sheet 1 of the present invention, in which the first insulating layer 4 is composed of a two-layered skeleton A. In the resin substrate sheet 1 of this embodiment, the first insulating layer 4 is formed by laminating the layered skeleton A of the embodiment 1 in two layers in the vertical direction, and the first particles 6a of the upper layered skeleton A1 and the lower layer And the first particles 6a of the layered skeleton A2 are arranged in the thickness direction of the layered skeletons A1 and A2.

具体的には、層状骨格A1の第1粒子6aの中心と、層状骨格A2の第1粒子6aの中心とを結ぶ線分S1が、層状骨格A1の複数の第1粒子6aの中心を結ぶ線分S2とがほぼ直交するように、上側の層状骨格A1のX、Y方向に配列した第1粒子6aと、下側の層状骨格A2のX、Y方向に配列した第1粒子6aとが、層状骨格A1、A2の厚み方向に配列している。言い換えると、層状骨格A1、A2の厚み方向に平面視したとき、図4(c)に示すように、層状骨格A1、A2の第1粒子6aはほぼ重なって見える。層状骨格A1、A2の多重点粒界7bには樹脂が配置されているとともに、2面間粒界7aの各第2粒子6b間および第1粒子6aと第2粒子6bとの間に樹脂が配置され、第1樹脂部8が形成されている。   Specifically, a line S1 connecting the center of the first particle 6a of the layered skeleton A1 and the center of the first particle 6a of the layered skeleton A2 is a line connecting the centers of the plurality of first particles 6a of the layered skeleton A1. The first particles 6a arranged in the X and Y directions of the upper layered skeleton A1 and the first particles 6a arranged in the X and Y directions of the lower layered skeleton A2 so that the component S2 is substantially orthogonal to the upper layered skeleton A1. They are arranged in the thickness direction of the layered skeletons A1 and A2. In other words, when viewed in a plan view in the thickness direction of the layered skeletons A1 and A2, the first particles 6a of the layered skeletons A1 and A2 appear to be substantially overlapped as shown in FIG. A resin is disposed at the multipoint grain boundaries 7b of the layered skeletons A1 and A2, and a resin is provided between the second particles 6b and between the first particles 6a and the second particles 6b of the two-plane grain boundaries 7a. The first resin portion 8 is formed.

このような構成の樹脂基板用シート1は、形態1の製法のようにして、シート部材2上に層状骨格A1、A2をそれぞれ作製し、層状骨格A1、A2の多重点粒界7b等に樹脂を配し、この後、図5(a)(b)に示すように、層状骨格A2の上に層状骨格A1を積層し、図5(c)に示すように、層状骨格A1上のシート部材2を剥離し、第1絶縁層4を形成し、この第2絶縁層4上に第2絶縁層5を形成することにより、作製することができる。   In the resin substrate sheet 1 having such a configuration, the layered skeletons A1 and A2 are respectively formed on the sheet member 2 in the same manner as in the manufacturing method of the first aspect, and the resin skeleton is formed on the multipoint grain boundaries 7b of the layered skeletons A1 and A2. After that, as shown in FIGS. 5A and 5B, the layered skeleton A1 is laminated on the layered skeleton A2, and as shown in FIG. 5C, the sheet member on the layered skeleton A1 2 can be manufactured by peeling off the first insulating layer 4 and forming the second insulating layer 5 on the second insulating layer 4.

このような図4の樹脂基板用シート1についても、上記形態1と同様な効果を有することができるが、さらに、第1絶縁層4の強度を向上できる。   The resin substrate sheet 1 shown in FIG. 4 can have the same effect as the first embodiment, but can further improve the strength of the first insulating layer 4.

(形態3)
図6は、本発明の樹脂基板用シート1のさらに他の形態を示すもので、第1絶縁層4を、2層の層状骨格Aで構成したものである。この形態の樹脂基板用シート1では、形態1の層状骨格Aを上下方向に2層積層して第1絶縁層4が構成されており、上側の層状骨格A1の第1粒子6aが、下側の層状骨格A2の第1粒子6a間に位置している。
(Form 3)
FIG. 6 shows still another embodiment of the resin substrate sheet 1 of the present invention, in which the first insulating layer 4 is constituted by a two-layered skeleton A. In the resin substrate sheet 1 of this embodiment, the first insulating layer 4 is formed by laminating the layered skeleton A of the embodiment 1 in two layers in the vertical direction, and the first particles 6a of the upper layered skeleton A1 are arranged on the lower side Are located between the first particles 6a of the layered skeleton A2.

具体的には、図6(b)(c)に示すように、層状骨格A1の第1粒子6aの中心と、層状骨格A2の第1粒子6aの中心とを結ぶ線分S3が、層状骨格A1の複数の第1粒子6aの中心を結ぶ線分S4とがほぼ45度となるように、上側の層状骨格A1の第1粒子6aと、下側の層状骨格A2の第1粒子6aとが配列している。層状骨格A1、A2の多重点粒界7bに樹脂が配置されているとともに、2面間粒界7aの各第2粒子6b間および第1粒子6aと第2粒子6bとの間に樹脂が配置され、第1樹脂部8が形成されている。   Specifically, as shown in FIGS. 6B and 6C, a line segment S3 connecting the center of the first particle 6a of the layered skeleton A1 and the center of the first particle 6a of the layered skeleton A2 is a layered skeleton. The first particles 6a of the upper layered skeleton A1 and the first particles 6a of the lower layered skeleton A2 are arranged such that a line segment S4 connecting the centers of the plurality of first particles 6a of A1 is approximately 45 degrees. They are arranged. The resin is arranged at the multipoint grain boundaries 7b of the layered skeletons A1 and A2, and the resin is arranged between the second particles 6b of the two-plane grain boundaries 7a and between the first particles 6a and the second particles 6b. Thus, a first resin portion 8 is formed.

このような構成の樹脂基板用シート1は、形態1の製法のようにして、シート部材2上に層状骨格A1、A2をそれぞれ作製し、層状骨格A1、A2の多重点粒界7b等に樹脂を配し、この後、図7(a)(b)に示すように、上側の層状骨格A1の第1粒子6aが、下側の層状骨格A2の第1粒子6a間に位置するように、層状骨格A2の上に層状骨格A1を積層し、図7(c)に示すように、層状骨格A1上のシート部材2を剥離することにより、図6(b)(c)に示すような樹脂基板用シートを作製することができる。   In the resin substrate sheet 1 having such a configuration, the layered skeletons A1 and A2 are respectively formed on the sheet member 2 in the same manner as in the manufacturing method of the first aspect, and the resin skeletons A1 and A2 are formed on the multipoint grain boundaries 7b and the like. Then, as shown in FIGS. 7A and 7B, the first particles 6a of the upper layered skeleton A1 are located between the first particles 6a of the lower layered skeleton A2. The layered skeleton A1 is laminated on the layered skeleton A2, and the sheet member 2 on the layered skeleton A1 is peeled off as shown in FIG. 7 (c), whereby the resin as shown in FIGS. A sheet for a substrate can be manufactured.

このような図6の樹脂基板用シート1についても、上記形態1と同様な効果を有することができるが、形態1、2よりも、さらに第1絶縁層4の強度を向上できる。   The resin substrate sheet 1 of FIG. 6 can also have the same effect as in the first embodiment, but can further improve the strength of the first insulating layer 4 as compared with the first and second embodiments.

さらに、図6(d)に示すように、上側の層状骨格A1の第1粒子6aが、下側の層状骨格A2の第1粒子6a間に細密充填の形状となるように、層状骨格A2の上に層状骨格A1を積層することにより、第1絶縁層4の強度をさらに向上できる。   Further, as shown in FIG. 6 (d), the first particles 6a of the upper layered skeleton A1 are closely packed between the first particles 6a of the lower layered skeleton A2. By laminating the layered skeleton A1 thereon, the strength of the first insulating layer 4 can be further improved.

(樹脂基板)
次に、上述した樹脂基板用シート1を用いて製造された樹脂基板14を、図8を参照しつつ詳細に説明する。図8は、樹脂基板を上下方向に切断した断面を模式的に示している。
(Resin substrate)
Next, the resin substrate 14 manufactured using the resin substrate sheet 1 described above will be described in detail with reference to FIG. FIG. 8 schematically shows a cross section of the resin substrate cut in the vertical direction.

樹脂基板14は、例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ装置またはその周辺機器等の電子機器に使用されるものである。樹脂基板14は、例えばビルドアップ多層配線基板であって、図8に示すように、コア基板15とコア基板15の上下に形成された一対のビルドアップ層16とを備えている。   The resin substrate 14 is used for electronic devices such as various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices, and peripheral devices thereof. The resin substrate 14 is, for example, a build-up multilayer wiring board, and includes a core substrate 15 and a pair of build-up layers 16 formed above and below the core substrate 15 as shown in FIG.

コア基板15は、樹脂基板14の剛性を高めつつ一対のビルドアップ層16間の導通を図るものである。コア基板15は、樹脂基体17と、樹脂基体17を上下方向に貫通して形成されている筒状のスルーホール導体18と、スルーホール導体18に取り囲まれた領域に配された柱状の絶縁体19とを含んでいる。   The core substrate 15 is intended to increase the rigidity of the resin substrate 14 and attain conduction between the pair of build-up layers 16. The core substrate 15 includes a resin base 17, a cylindrical through-hole conductor 18 formed vertically penetrating the resin base 17, and a columnar insulator disposed in a region surrounded by the through-hole conductor 18. 19.

樹脂基体17は、コア基板15の剛性を高めるものである。この樹脂基体17は、例えば樹脂と、この樹脂に被覆された基材および無機充填材とを含んでいる。   The resin base 17 increases the rigidity of the core substrate 15. The resin base 17 includes, for example, a resin, a base material coated with the resin, and an inorganic filler.

樹脂基体17に含まれた樹脂は、樹脂基体17の主要部を形成するものである。この樹脂は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、芳香族液晶ポリエステル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂またはポリエーテルケトン樹脂等の樹脂材料からなる。   The resin contained in the resin base 17 forms a main part of the resin base 17. This resin includes, for example, an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyparaphenylene benzobisoxazole resin, a wholly aromatic polyamide resin, a polyimide resin, an aromatic liquid crystal polyester resin, a polyetheretherketone resin or a polyetherketone resin. Of resin material.

樹脂基体17に含まれた基材は、樹脂基体17を高剛性化および低熱膨張化するものである。この基材は、繊維によって構成された織布もしくは不織布または繊維を一方向に配列したものからなる。また、この繊維は、例えばガラス繊維または樹脂繊維等からなる。   The base material included in the resin base 17 increases the rigidity and lowers the thermal expansion of the resin base 17. The substrate is made of a woven or non-woven fabric made of fibers or fibers arranged in one direction. The fibers are made of, for example, glass fibers or resin fibers.

樹脂基体17に含まれた無機絶縁フィラーは、樹脂基体17を高剛性化および低熱膨張化するものである。この無機絶縁フィラーは、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、水酸化アルミニウムまたは炭酸カルシウム等の無機絶縁材料からなる複数の粒子により構成されている。   The inorganic insulating filler contained in the resin base 17 increases the rigidity and lowers the thermal expansion of the resin base 17. This inorganic insulating filler is composed of a plurality of particles made of an inorganic insulating material such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum hydroxide or calcium carbonate.

スルーホール導体18は、コア基板15の上下の配線層21を電気的に接続するものである。このスルーホール導体18は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロム等の導電材料からなる。   The through-hole conductor 18 electrically connects the upper and lower wiring layers 21 of the core substrate 15. This through-hole conductor 18 is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel or chromium.

絶縁体19は、後述するビア導体20の支持面を形成するものである。この絶縁体19は、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂またはビスマレイミドトリアジン樹脂等の樹脂材料からなる。   The insulator 19 forms a support surface of a via conductor 20 described later. The insulator 19 is made of a resin material such as a polyimide resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a cyanate resin, a fluorine resin, a silicon resin, a polyphenylene ether resin, or a bismaleimide triazine resin.

なお、絶縁体19の代わりに上述のスルーホール導体と同様の導電材料を用いてスルーホールを充填しても差し支えない。   The through-hole may be filled with a conductive material similar to the above-described through-hole conductor instead of the insulator 19.

一方、コア基板15の上下には、上述した如く、一対のビルドアップ層16が形成されている。ビルドアップ層16は、厚み方向に沿ったビア孔が形成された絶縁層3と、樹脂基体17上または絶縁層3上に部分的に形成された配線層21と、ビア孔内に形成されたビア導体20とを含んでいる。   On the other hand, a pair of buildup layers 16 are formed above and below the core substrate 15 as described above. The build-up layer 16 is formed in the insulating layer 3 in which a via hole is formed along the thickness direction, the wiring layer 21 partially formed on the resin base 17 or the insulating layer 3, and formed in the via hole. Via conductor 20.

絶縁層3は、コア基板15側に位置している第2絶縁層5と、第2絶縁層5上に積層されている第1絶縁層4とを含んでいる。なお、第1絶縁層4および第2絶縁層5は、上述した樹脂基板用シート1が備えていたものである。また、樹脂基板用シート1では第1絶縁層4の第1樹脂部8および第2絶縁層5の第2樹脂部13は未硬化であったが、樹脂基板14では、第1樹脂部8および第2樹脂部13は硬化している。   The insulating layer 3 includes a second insulating layer 5 located on the core substrate 15 side and a first insulating layer 4 stacked on the second insulating layer 5. The first insulating layer 4 and the second insulating layer 5 are provided in the resin substrate sheet 1 described above. In the resin substrate sheet 1, the first resin portion 8 of the first insulating layer 4 and the second resin portion 13 of the second insulating layer 5 were not cured, but in the resin substrate 14, the first resin portion 8 and the The second resin portion 13 is hardened.

第2絶縁層5は、配線層21の側面および上面に接着しつつ、樹脂基体17と絶縁層3とを接着、または積層された絶縁層3同士を接着するものである。第1絶縁層4は、絶縁層3の主要部をなし、厚み方向に沿って離れて配された配線層21同士の絶縁部材として機能するものである。第1絶縁層4は、樹脂材料と比較して低熱膨張率および高剛性であるから、絶縁層3の平面方向への熱膨張率を低減することができる。したがって、樹脂基板14と樹脂基板14上に実装される電子部品(図示せず)との平面方向への熱膨張率の差を低減し、ひいては樹脂基板14の反りを低減することができる。   The second insulating layer 5 is for bonding the resin base 17 and the insulating layer 3 or bonding the laminated insulating layers 3 while bonding to the side and top surfaces of the wiring layer 21. The first insulating layer 4 forms a main part of the insulating layer 3 and functions as an insulating member between the wiring layers 21 arranged apart from each other along the thickness direction. Since the first insulating layer 4 has a low coefficient of thermal expansion and high rigidity as compared with the resin material, the coefficient of thermal expansion of the insulating layer 3 in the plane direction can be reduced. Therefore, the difference in the coefficient of thermal expansion in the planar direction between the resin substrate 14 and an electronic component (not shown) mounted on the resin substrate 14 can be reduced, and the warpage of the resin substrate 14 can be reduced.

配線層21は、平面方向または厚み方向に沿って互いに離れて配されており、接地用配線、電力供給用配線または信号用配線として機能するものである。この配線層21は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロム等の導電材料からなる。配線層21の厚みは、例えば3μm以上20μm以下に設定されている。配線層21の熱膨張率は、例えば14ppm/℃以上18ppm/℃以下に設定されている。配線層21のL/S(ライン/スペース)は、例えば3/3μm以上60/60μm以下に設定されている。   The wiring layers 21 are arranged apart from each other along the plane direction or the thickness direction, and function as ground wiring, power supply wiring, or signal wiring. This wiring layer 21 is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel or chromium. The thickness of the wiring layer 21 is set, for example, to 3 μm or more and 20 μm or less. The coefficient of thermal expansion of the wiring layer 21 is set, for example, to 14 ppm / ° C. or more and 18 ppm / ° C. or less. The L / S (line / space) of the wiring layer 21 is set to, for example, 3/3 μm or more and 60/60 μm or less.

ビア導体20は、厚み方向に互いに離れて配された配線層21同士を電気的に接続するものであり、コア基板15に向って幅狭となる柱状に形成されている。ビア導体20は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケルまたはクロムの導電材料からなる。また、ビア導体20は、熱膨張率が例えば14ppm/℃以上18ppm/℃以下に設定されている。   The via conductor 20 is for electrically connecting the wiring layers 21 arranged apart from each other in the thickness direction, and is formed in a columnar shape narrowing toward the core substrate 15. The via conductor 20 is made of, for example, a conductive material of copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium. Further, the thermal expansion coefficient of the via conductor 20 is set to, for example, 14 ppm / ° C. or more and 18 ppm / ° C. or less.

本発明の実施形態に係る樹脂基板14の製造方法について、図9〜図12を参照しつつ説明する。樹脂基板14の製造方法は、主に準備工程、積層工程、露出工程および配線形成工程を有している。なお、本発明は、以下の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。なお、図9〜図12は、本発明の一実施形態に係る樹脂基板用シート1を使用して製造する樹脂基板14の製造方法の一工程を示した断面図である。   A method for manufacturing the resin substrate 14 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The method for manufacturing the resin substrate 14 mainly includes a preparing step, a laminating step, an exposing step, and a wiring forming step. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and various changes, improvements, and the like can be made without departing from the gist of the present invention. 9 to 12 are cross-sectional views showing one process of a method of manufacturing the resin substrate 14 using the resin substrate sheet 1 according to one embodiment of the present invention.

(1)まず、上記のようにして作製された樹脂基板用シート1を準備する。   (1) First, the resin substrate sheet 1 manufactured as described above is prepared.

(2)コア基板15(基板)を準備する。コア基板15の作製には、まず、例えば金属箔上に複数の樹脂層が積層された樹脂基体17を形成する。次いで、例えばドリル加工やレーザー加工等によって樹脂基体17にスルーホールを形成した後、例えば無電解めっき法、電気めっき法、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法等により、スルーホールの内壁に筒状のスルーホール導体18を形成する。次いで、スルーホール導体18に取り囲まれた領域に樹脂材料を充填することによって絶縁体19を形成し、導電材料を絶縁体19の露出部に被着させた後、従来周知のフォトリソグラフィー技術またはエッチング等により、金属箔をパターニングして配線21を形成する。以上のようにして、コア基板15を準備する。   (2) Prepare a core substrate 15 (substrate). In manufacturing the core substrate 15, first, a resin base 17 in which a plurality of resin layers are laminated on a metal foil, for example, is formed. Next, after forming a through hole in the resin base 17 by, for example, drilling or laser processing, a cylindrical shape is formed on the inner wall of the through hole by, for example, electroless plating, electroplating, vapor deposition, CVD, or sputtering. A through-hole conductor 18 is formed. Next, an insulator 19 is formed by filling a region surrounded by the through-hole conductor 18 with a resin material, and a conductive material is applied to an exposed portion of the insulator 19, and then a conventionally known photolithography technique or etching is performed. The wiring 21 is formed by patterning the metal foil. The core substrate 15 is prepared as described above.

(3)図9に示すように、樹脂基板用シート1をコア基板15の上下面に積層する。具体的には樹脂基板用シート1の積層は、樹脂基板用シート1の第2絶縁層5がコア基板15に接触するように行なう。   (3) As shown in FIG. 9, the resin substrate sheet 1 is laminated on the upper and lower surfaces of the core substrate 15. Specifically, the lamination of the resin substrate sheet 1 is performed such that the second insulating layer 5 of the resin substrate sheet 1 contacts the core substrate 15.

(4)第1樹脂部8および第2樹脂部13を熱硬化させる。具体的には、樹脂基板用シート1およびコア基板15を、圧力を印加しながら第1樹脂部8および第2樹脂部13の熱硬化開始温度以上に加熱することによって、樹脂基板用シート1中の未硬化状態の第1樹脂部8および第2樹脂部13を熱硬化させる。樹脂基板用シート1等の圧力は、例えば0.5MPa以上5.0MPa以下、加熱温度は、例えば80℃以上250℃以下に設定される。   (4) The first resin portion 8 and the second resin portion 13 are thermoset. Specifically, by heating the resin substrate sheet 1 and the core substrate 15 to a temperature equal to or higher than the thermosetting start temperature of the first resin portion 8 and the second resin portion 13 while applying pressure, the resin substrate sheet 1 The uncured first resin portion 8 and second resin portion 13 are thermally cured. The pressure of the resin substrate sheet 1 and the like is set to, for example, 0.5 MPa or more and 5.0 MPa or less, and the heating temperature is set to 80 ° C. or more and 250 ° C. or less, for example.

(5)図10に示すように、シート部材2の表面からシート部材2、第1絶縁層4および第2絶縁層5を厚み方向に貫通する貫通穴を形成する。貫通穴の形成は、例えばYAGレーザー装置または炭酸ガスレーザー装置を用いてシート部材2の上面にレーザー光を照射することによって行なう。   (5) As shown in FIG. 10, a through hole is formed from the surface of the sheet member 2 to penetrate the sheet member 2, the first insulating layer 4, and the second insulating layer 5 in the thickness direction. The through holes are formed by irradiating the upper surface of the sheet member 2 with laser light using, for example, a YAG laser device or a carbon dioxide laser device.

(6)貫通孔底部に残留する樹脂残渣の除去、いわゆるデスミア処理を行う。デスミア処理は一般的に強アルカリ水溶液を用いて行うが、プラズマ等を用いても差し支えない。なお、強アルカリ性の水溶液としては、例えば過マンガン酸カリウムまたは過マンガン酸ナトリウム等の水溶液である。   (6) A so-called desmear treatment is performed to remove the resin residue remaining at the bottom of the through hole. The desmear treatment is generally performed using a strong alkaline aqueous solution, but plasma or the like may be used. The strong alkaline aqueous solution is, for example, an aqueous solution of potassium permanganate or sodium permanganate.

(7)貫通穴にビア導体20を形成する。ビア導体20は、例えば無電解めっき、蒸着法、CVD法またはスパッタリング法を用いて、貫通穴内に導電材料を埋めることによって形成される。   (7) The via conductor 20 is formed in the through hole. The via conductor 20 is formed by filling a conductive material in the through hole using, for example, electroless plating, vapor deposition, CVD, or sputtering.

(8)銅箔からなるシート部材2を、図11に示すように、例えばフォトリソグラフィー技術を用いてエッチング加工することにより、第1絶縁層4上に配線層21を形成する。   (8) The wiring layer 21 is formed on the first insulating layer 4 by etching the sheet member 2 made of copper foil using, for example, a photolithography technique, as shown in FIG.

なお、絶縁層3の表面を粗化する場合には、(8)の後に、シート部材2の一部をエッチングして除去して露出した第1絶縁層4の表層の一部(無機絶縁粒子6の一部)を除去し、絶縁層3の表面を粗化することができる。第1絶縁層4の一部の表面の除去は、例えば無機絶縁粒子6が酸化珪素からなる場合であれば、無機絶縁粒子6を溶かす強アルカリ性の水溶液によって行なう、強アルカリ性の水溶液としては、例えば過マンガン酸カリウムまたは過マンガン酸ナトリウム等の水溶液である。なお、第1絶縁層4の無機絶縁粒子6の一部が除去される一方で、第2絶縁層5は残存させることから、第2絶縁層5は上記水溶液には溶けにくい材料で形成する。なお、このとき、無機絶縁粒子6を複数の材料から形成することによって、粗化の度合いを調整することができる。また、複数の無機絶縁粒子6中に、例えば、酸化アルミニウム等の異なる単一の材料からなる無機絶縁粒子6を混ぜることによっても粗化の度合いを調整することができる。   When the surface of the insulating layer 3 is roughened, after (8), a part of the surface layer of the first insulating layer 4 (inorganic insulating particles) exposed by removing a part of the sheet member 2 by etching. 6) and the surface of the insulating layer 3 can be roughened. For example, when the inorganic insulating particles 6 are made of silicon oxide, the removal of a part of the surface of the first insulating layer 4 is performed using a strong alkaline aqueous solution that dissolves the inorganic insulating particles 6. It is an aqueous solution of potassium permanganate or sodium permanganate. Since a part of the inorganic insulating particles 6 of the first insulating layer 4 is removed while the second insulating layer 5 remains, the second insulating layer 5 is formed of a material that is hardly soluble in the aqueous solution. At this time, the degree of roughening can be adjusted by forming the inorganic insulating particles 6 from a plurality of materials. The degree of roughening can also be adjusted by mixing inorganic insulating particles 6 made of a different single material such as aluminum oxide into the plurality of inorganic insulating particles 6.

(9)次に、図12に示すように、絶縁層3を複数層形成すべく、表面が粗化された第1絶縁層4の粗化面、および配線層21の表面に、さらに、樹脂基板用シート1の未硬化の第2絶縁層5を積層し、絶縁層3を複数層形成する。第1絶縁層4の粗化面に、未硬化の第2絶縁層5がアンカー効果により、強固に接合できる。なお、図9〜12は、理解を容易にするため、絶縁シート1を拡大して示している。以上のようにして、図8に示したような、樹脂基板14を作製する。   (9) Next, as shown in FIG. 12, in order to form a plurality of insulating layers 3, the surface of the first insulating layer 4 whose surface has been roughened and the surface of the wiring layer 21 are further coated with a resin. The uncured second insulating layer 5 of the substrate sheet 1 is laminated, and a plurality of insulating layers 3 are formed. The uncured second insulating layer 5 can be firmly joined to the roughened surface of the first insulating layer 4 by the anchor effect. 9 to 12 show the insulating sheet 1 in an enlarged manner for easy understanding. As described above, the resin substrate 14 as shown in FIG. 8 is manufactured.

このような樹脂基板14では、上記の特許文献1と比較して、下記のような効果を有する。すなわち、上記の特許文献1では、絶縁層における無機絶縁粒子の充填率をいわゆる最密充填よりも高くすることができるため、無機絶縁粒子を適切に選択することにより、熱膨張係数や熱伝導率といった熱特性、弾性率等の機械的特性、誘電特性や絶縁性等を制御することが可能である。一方で、樹脂の含有率が低下する結果、配線基板とした際の可撓性低下によりクラック等が発生する恐れが増大することや、配線パターンの埋め込み性の悪化、さらには、低熱膨張と高剛性の両立による基板反り低減を目的として無機絶縁粒子に溶融シリカを選択した場合、レーザー加工後の樹脂残渣除去工程(いわゆるデスミア工程)にて、該工程にて一般的に使用される強アルカリ処理の際に第1無機絶縁粒子が非常に微細であるがゆえに短時間で溶解し、絶縁層が崩壊するといった課題がある。   Such a resin substrate 14 has the following effects as compared with Patent Document 1 described above. That is, in Patent Document 1, since the filling rate of the inorganic insulating particles in the insulating layer can be higher than that of the so-called close-packing, the thermal expansion coefficient and the thermal conductivity can be appropriately selected by the inorganic insulating particles. It is possible to control such thermal characteristics, mechanical characteristics such as elastic modulus, dielectric characteristics and insulation. On the other hand, as a result of a decrease in the content of the resin, the risk of cracks or the like being generated due to a decrease in flexibility when the wiring board is formed is increased, and the embedding property of the wiring pattern is deteriorated. When fused silica is selected as the inorganic insulating particles for the purpose of reducing substrate warpage due to compatibility of rigidity, a strong alkali treatment generally used in the resin residue removal step after laser processing (so-called desmear step) In this case, the first inorganic insulating particles are very fine, so that the first inorganic insulating particles dissolve in a short time and the insulating layer collapses.

これに対して、上記形態の樹脂基板14では、複数の第1、第2粒子6a、6bが粒子形状を保持したまま互いの一部で結合しており、第1粒子6a同士を強固に連結できるとともに、多重点粒界7bに第1樹脂部8が配されているため、第1絶縁層4中の樹脂量を従来よりも増加でき、第1樹脂部8による第1粒子6a同士の連結力を向上できる。   On the other hand, in the resin substrate 14 of the above-described embodiment, the plurality of first and second particles 6a and 6b are partially connected to each other while maintaining the particle shape, and the first particles 6a are strongly connected to each other. In addition, since the first resin portion 8 is arranged at the multipoint grain boundary 7b, the amount of resin in the first insulating layer 4 can be increased as compared with the conventional case, and the first particles 6a are connected to each other by the first resin portion 8. Power can be improved.

また、特許文献1に比較して、第1、第2粒子6a、6bの絶縁層における充填率を過度に高くすることなく、逆に言えば樹脂の含有率を過度に低下させることなく、各種特性の制御、特に機械的特性の向上を可能とすることができるため、クラック等の発生やパターン埋め込み性の劣化、デスミア工程における第1絶縁層4の崩壊等を防止することができる。   In addition, compared to Patent Document 1, without increasing the filling ratio of the first and second particles 6a and 6b in the insulating layer excessively, in other words, without excessively reducing the resin content, Since it is possible to control the characteristics, particularly to improve the mechanical characteristics, it is possible to prevent the occurrence of cracks and the like, the deterioration of the pattern embedding property, the collapse of the first insulating layer 4 in the desmear process, and the like.

実装構造体は、樹脂基板14の上面に電子部品を配置し、配線層21にバンプや半田等の接合部材を介して電子部品を実装することによって得られる。   The mounting structure is obtained by disposing an electronic component on the upper surface of the resin substrate 14 and mounting the electronic component on the wiring layer 21 via a bonding member such as a bump or solder.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組合せ等が可能である。   The present invention is not limited to the embodiments described above, and various changes, improvements, combinations, and the like can be made without departing from the spirit of the present invention.

上述した本発明の実施形態は、絶縁層3を2層積層した構成を例に説明したが、1層でも良く、3層以上でも良い。   In the above-described embodiment of the present invention, the configuration in which two insulating layers 3 are stacked has been described as an example. However, one or three or more insulating layers may be used.

また、上述した本発明の実施形態は、樹脂基板用シート1を用いてビルドアップ多層配線基板を製造した構成を例に説明したが、樹脂基板用シート1を用いて製造する樹脂基板は他のものでも構わない。他の樹脂基板としては、例えばインターポーザー基板、コアレス基板または単層基板が挙げられる。ここで、インターポーザー基板とは、1層の絶縁層3と、絶縁層3を貫通する貫通導体と、絶縁層3上に配され、貫通導体に電気的に接続する配線21とを備えている樹脂基板である。また、コアレス基板とは、絶縁層3と、絶縁層3を貫通するビア導体20と、絶縁層3上に配され、ビア導体20に電気的に接続する配線21とを備え、絶縁層3と配線21とが交互に複数積層されてなるものであって、コア基板15を有していない樹脂基板である。   Further, in the embodiment of the present invention described above, the configuration in which the build-up multilayer wiring board is manufactured using the resin substrate sheet 1 is described as an example. It doesn't matter. As another resin substrate, for example, an interposer substrate, a coreless substrate, or a single-layer substrate may be used. Here, the interposer substrate includes one insulating layer 3, a through conductor penetrating the insulating layer 3, and a wiring 21 disposed on the insulating layer 3 and electrically connected to the through conductor. It is a resin substrate. The coreless substrate includes the insulating layer 3, a via conductor 20 penetrating the insulating layer 3, and a wiring 21 disposed on the insulating layer 3 and electrically connected to the via conductor 20. It is a resin substrate in which a plurality of wirings 21 are alternately laminated, and does not have the core substrate 15.

さらに、上記形態では、第1絶縁層4に第1、第2粒子6a、6bを含む場合について
説明したが、第1、第2粒子6a、6b以外の無機絶縁粒子を含有していても良い。
Furthermore, in the above embodiment, the case where the first and second particles 6a and 6b are included in the first insulating layer 4 has been described, but inorganic insulating particles other than the first and second particles 6a and 6b may be included. .

1 樹脂基板用シート
2 シート部材
3 絶縁層
4 第1絶縁層
5 第2絶縁層
6a 第1無機絶縁粒子(第1粒子)
6b 第2無機絶縁粒子(第2粒子)
7a 2面間粒界
7b 多重点粒界
8 第1樹脂部
13 第2樹脂部
14 樹脂基板
21 配線層
A 層状骨格
REFERENCE SIGNS LIST 1 resin substrate sheet 2 sheet member 3 insulating layer 4 first insulating layer 5 second insulating layer 6a first inorganic insulating particles (first particles)
6b Second inorganic insulating particles (second particles)
Reference numeral 7a A grain boundary between two surfaces 7b A multi-point grain boundary 8 First resin portion 13 Second resin portion 14 Resin substrate 21 Wiring layer A Layered skeleton

Claims (6)

絶縁層を有する樹脂基板であって、前記絶縁層が、面方向に配列した複数の第1無機絶縁粒子と、複数の第2無機絶縁粒子と、2面間粒界と、多重点粒界とを有しており、
前記第2無機絶縁粒子は、前記第1無機絶縁粒子よりも粒径が小さく、
前記2面間粒界は、隣接する2個の前記第1無機絶縁粒子間の領域であり、
前記多重点粒界は、前記絶縁層を平面視したときに、4つの前記第1無機絶縁粒子の面と前記2面間粒界に位置する複数の前記第2無機絶縁粒子とで囲まれた領域であり、
前記第1無機絶縁粒子同士が前記第2無機絶縁粒子を介して接合された層状骨格を有するとともに、該層状骨格の前記多重点粒界に樹脂が配されていることを特徴とする樹脂基板。
A resin substrate having an insulating layer, wherein the insulating layer includes a plurality of first inorganic insulating particles arranged in a plane direction, a plurality of second inorganic insulating particles, an inter-surface grain boundary, and a multipoint grain boundary. Has,
The second inorganic insulating particles have a smaller particle size than the first inorganic insulating particles,
The inter-plane grain boundary is a region between two adjacent first inorganic insulating particles ,
The multipoint grain boundary is surrounded by four surfaces of the first inorganic insulating particles and a plurality of the second inorganic insulating particles located at the grain boundary between the two surfaces when the insulating layer is viewed in plan. Area,
A resin substrate, wherein the first inorganic insulating particles have a layered skeleton joined together via the second inorganic insulating particles, and a resin is disposed at the multiple-point grain boundary of the layered skeleton.
前記絶縁層は、前記層状骨格を上下方向に複数有するとともに、上側の前記層状骨格の第1無機絶縁粒子と、下側の前記層状骨格の第1無機絶縁粒子とが前記層状骨格の厚み方向に配列していることを特徴とする請求項1記載の樹脂基板。   The insulating layer has a plurality of the layered skeletons in a vertical direction, and the first inorganic insulating particles of the upper layered skeleton and the first inorganic insulating particles of the lower layered skeleton are arranged in the thickness direction of the layered skeleton. The resin substrate according to claim 1, wherein the resin substrates are arranged. 前記絶縁層は、前記層状骨格を上下方向に複数有するとともに、上側の前記層状骨格の第1無機絶縁粒子が、下側の前記層状骨格の第1無機絶縁粒子間に位置していることを特徴とする請求項1記載の樹脂基板。   The insulating layer has a plurality of the layered skeletons in a vertical direction, and the first inorganic insulating particles of the upper layered skeleton are located between the first inorganic insulating particles of the lower layered skeleton. The resin substrate according to claim 1, wherein 前記絶縁層と、該絶縁層上に配された配線層とを備えてなることを特徴とする請求項1乃至のうちのいずれかに記載の樹脂基板。 A resin substrate according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises the insulating layer, and a wiring layer disposed on the insulating layer. 請求項に記載の樹脂基板と、該樹脂基板に実装され、前記配線層に電気的に接続された電子部品とを備えたことを特徴とする実装構造体。 A mounting structure comprising: the resin substrate according to claim 4 ; and an electronic component mounted on the resin substrate and electrically connected to the wiring layer. シート部材上に絶縁層前駆体を有する樹脂基板用シートであって、
前記絶縁層前駆体が、面方向に配列した複数の第1無機絶縁粒子と、複数の第2無機絶縁粒子と、2面間粒界と、多重点粒界とを有しており、
前記第2無機絶縁粒子は、前記第1無機絶縁粒子よりも粒径が小さく、
前記2面間粒界は、隣接する2個の前記第1無機絶縁粒子間の領域であり、
前記多重点粒界は、前記絶縁層を平面視したときに、4つの前記第1無機絶縁粒子の面と前記2面間粒界に位置する複数の前記第2無機絶縁粒子とで囲まれた領域であり、
前記第1無機絶縁粒子同士が前記第2無機絶縁粒子を介して接合された層状骨格を有する
とともに、該層状骨格の前記多重点粒界には樹脂が配されていることを特徴とする樹脂基板用シート。
A resin substrate sheet having an insulating layer precursor on a sheet member,
The insulating layer precursor has a plurality of first inorganic insulating particles arranged in a plane direction, a plurality of second inorganic insulating particles, a grain boundary between two faces, and a multipoint grain boundary,
The second inorganic insulating particles have a smaller particle size than the first inorganic insulating particles,
The inter-plane grain boundary is a region between two adjacent first inorganic insulating particles ,
The multipoint grain boundary is surrounded by four surfaces of the first inorganic insulating particles and a plurality of the second inorganic insulating particles located at the grain boundary between the two surfaces when the insulating layer is viewed in plan. Area,
A resin substrate, wherein the first inorganic insulating particles have a layered skeleton joined together via the second inorganic insulating particles, and a resin is disposed at the multipoint grain boundary of the layered skeleton. Sheet.
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