JP2018039045A - Covering cold metal mold - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cold metal mold for improving crack resistance and peeling resistance of a hard coating film layer formed as a film on a base material of the metal mold.SOLUTION: In a cold metal mold for forming a hard coating film layer 3 composed of nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al and Si on a surface of a metal mold base material, this hard coating film layer comprises a lower coating film layer 4 composed of the nitride or the carbonitride of Ti, Cr and Al and a surface coating film layer 5 composed of the nitride or the carbonitride of Ti and Si, and the lower coating film layer 4 is formed as a film on the surface side of the base material more than the surface coating film layer 5, and the lower coating film layer 4 is formed as the film just under the surface coating film layer 5. The lower coating film layer 4 forms a multilayer structure having at least two coating film layers different in a composition, and a second layer 7 for forming this multilayer structure forms a laminate structure of alternately laminating a D layer 7a and an F layer 7b being two coating film layers.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、金型の基材に物理蒸着法等により成膜した硬質皮膜について、耐クラック性と耐剥離性を向上させることにより耐摩耗性を向上させて、金型寿命が格段に改善された冷間用金型に関するものである。  The present invention improves the wear resistance of a hard film formed on a mold base by physical vapor deposition or the like by improving crack resistance and peel resistance, and the mold life is remarkably improved. The present invention relates to a cold mold.

従来から、超硬合金、高速度工具鋼等の金属を基材とする切削工具や、プレス、鍛造用金型、打ち抜きパンチ等の塑性加工用の治工具において、耐摩耗性を向上させることを目的として、物理蒸着法や化学蒸着法によって、治工具の表面に所定の組成を有する硬質皮膜を被覆することが行われている。特に、切削工具では、その切れ刃部の表面にTiAlCrN、TiAlCrSiN、TiSiN等の硬質皮膜を被覆(形成)することが広く実用化されている。  Conventionally, it has improved wear resistance in cutting tools based on metals such as cemented carbide and high-speed tool steel, and jigs for plastic working such as presses, forging dies and punching punches. As an object, a hard film having a predetermined composition is coated on the surface of a jig by a physical vapor deposition method or a chemical vapor deposition method. In particular, in cutting tools, it is widely put into practical use that a hard coating such as TiAlCrN, TiAlCrSiN, or TiSiN is coated on the surface of the cutting edge portion.

例えば、特許文献1(特開2003−71610号公報)には、高速・高能率切削が可能で耐摩耗性に優れた切削工具用の硬質皮膜であって、組成が(Ti、Al、Cr)(C1−d)で表される式からなり、0.02≦a≦0.30、0.55≦b≦0.765、0.06≦c、a+b+c=1、0.5≦d≦1(a、b、cはそれぞれTi、Al、Crの原子比を示し、dはNの原子比を示す。)とした硬質皮膜に関する発明が提案されている。この特許文献1に記載されている切削工具用の硬質皮膜は、従来から実施されているTiAlNからなる皮膜にCrを添加することによって皮膜の硬度および耐酸化性を向上させ、その結果として耐摩耗性を飛躍的に向上させたものである。また、特許文献1に記載されている硬質皮膜は、相互に異なる硬質皮膜を2層以上形成することも提案されている。For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-71610) discloses a hard film for a cutting tool that can perform high-speed and high-efficiency cutting and has excellent wear resistance, and has a composition (Ti a , Al b , Cr c ) (C 1-d N d ), 0.02 ≦ a ≦ 0.30, 0.55 ≦ b ≦ 0.765, 0.06 ≦ c, a + b + c = 1, 0 An invention relating to a hard coating in which .ltoreq.5.ltoreq.d.ltoreq.1 (a, b, and c represent the atomic ratio of Ti, Al, and Cr, respectively, and d represents the atomic ratio of N) has been proposed. The hard coating for a cutting tool described in Patent Document 1 improves the hardness and oxidation resistance of the coating by adding Cr to the coating made of TiAlN that has been conventionally performed, and as a result, wear resistance This is a dramatic improvement in sex. In addition, it has been proposed that the hard coating described in Patent Document 1 forms two or more different hard coatings.

特許文献2(特開2000−334606号公報)には、従来から実施されているTiAlN皮膜に対して耐酸化性、耐摩耗性を改善するために、硬質皮膜をTiSi系窒化物などからなるa層と、TiAl系窒化物などからなるb層を、それぞれ一層以上交互に被覆するとともに、b層の皮膜を母材の表面直上に形成した硬質皮膜被覆工具が提案されている。
具体的には、切削加工の乾式化、高速化に対応する硬質皮膜被覆工具として、高速度鋼、超硬合金、サーメット、セラミックスの何れかを母材とし、硬質皮膜のa層は、金属成分のみの原子%で、Siが10%以上60%以下、B、Al、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以上で10%未満、残りTiで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかで、SiおよびSiが独立した相として化合物中に存在し、b層は金属成分のみの原子%が、Al:40%越え75%以下、B、Si、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wの1種または2種以上で10%未満、残りTiで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであり、a層、b層がそれぞれ一層以上交互に被覆され、かつ、b層が母材表面直上に形成されている硬質皮膜被覆工具である。
In Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-334606), in order to improve the oxidation resistance and wear resistance of a TiAlN film which has been conventionally performed, the hard film is made of TiSi-based nitride or the like. A hard coating tool has been proposed in which a layer and a b layer made of TiAl-based nitride are alternately coated one or more layers, and a coating of the b layer is formed directly on the surface of the base material.
Specifically, as a hard coating tool that supports high-speed and high-speed cutting, any one of high-speed steel, cemented carbide, cermet, and ceramic is used as a base material, and the a layer of the hard coating is a metal component. Only 10% or more and 60% or less of Si, B, Al, V, Cr, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, W or less, and less than 10%, remaining Ti In any one of nitride, carbonitride, oxynitride, and oxycarbonitride composed of Si 3 N 4 and Si are present in the compound as independent phases, and the b layer is an atomic% of only the metal component Is composed of Al: more than 40% and 75% or less, B, Si, V, Cr, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, W or less and less than 10%, and remaining Ti Nitride, carbonitride, oxynitride, or oxycarbonitride, each of layer a and layer b Coated alternately one or more layers, and a hard film-coated tool of b layer is formed directly on the surface of the base material.

特許文献3(特開2006−299399号公報)には切削工具や金型等に被覆する硬質皮膜において、Al及びCrを必須成分とした硬質皮膜を優れた耐熱性並びに潤滑特性を有した状態で高硬度化して、硬質皮膜被覆部材の耐摩耗性を改善した硬質皮膜が提案されている。
特許文献3に記載の硬質皮膜被覆部材は、基体表面から、最下層、中間積層部、最上層からなる硬質皮膜から構成されている。そして、この最下層はAlを50原子%以上含有し、残部がTi、Cr,Siから選択される1種もしくは2種以上の窒化物主体の硬質皮膜からなり、中間積層部は金属成分の組成が(AlCrTiSi)、但し、組成は原子%で、W+X+Y+Z=100、の窒化物、ホウ化物、炭化物及び酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物からなるA層とB層とが、A層は70<W+X<100、B層は30<Y<100で層厚方向に交互に積層され、さらに、最上層はTi又はTiとSiの窒化物、炭化物、硫化物、硼化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物から構成された硬質皮膜であって、潤滑性と皮膜硬度を向上させるための皮膜とされている。
In Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-299399), a hard film covering a cutting tool, a die, or the like has a heat resistance and lubrication characteristics excellent in a hard film containing Al and Cr as essential components. There has been proposed a hard coating that has been improved in hardness and improved the wear resistance of the hard coating-coated member.
The hard film covering member described in Patent Document 3 is composed of a hard film composed of the lowermost layer, the intermediate laminated portion, and the uppermost layer from the surface of the substrate. The lowermost layer contains 50 atomic% or more of Al, and the balance is composed of one or two or more nitride-based hard films selected from Ti, Cr, and Si, and the intermediate laminated portion is composed of metal components. (Al WC Cr X Ti Y Si Z ), where the composition is atomic%, and W + X + Y + Z = 100, any of nitrides, borides, carbides and oxides, or a solid solution or a mixture thereof and B layer Layers are alternately stacked in the layer thickness direction with the A layer being 70 <W + X <100, the B layer being 30 <Y <100, and the top layer being Ti or Ti and Si nitride, carbide, sulfide, It is a hard film composed of any boride, or a solid solution or a mixture thereof, and is a film for improving lubricity and film hardness.

特許文献4(特開2009−61465号公報)には、冷間鍛造用金型の表面に形成された硬質被膜の摩耗や剥離を防止することにより、冷間鍛造用金型により鍛造される成形品のかじりを抑制できる冷間鍛造用金型が提案されている。特許文献4に記載の硬質被膜の特徴は、金型意匠面に4A族(Ti,Zr,Hf)、5A族(V,Nb,Ta)、6A族(Cr,Mo,W)金属の一種又は二種以上を含む炭化物、窒化物若しくは炭窒化物、及び、4A族(Ti,Zr,Hf)、5A族(V,Nb,Ta)、6A族(Cr,Mo,W)金属の一種又は二種以上とSi及びAlの一種又は二種とを含む窒化物からなる群から選ばれる一種又は二種以上からなる単層又は多層の被膜を備えている。さらに、この冷間鍛造用金型に形成した被膜は、表面粗さRaがいずれの方向から測定しても0.05μm以上0.50μm以下にすることにより、潤滑材の保持力を向上させるようにしている。  Patent Document 4 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-61465) discloses a molding that is forged by a cold forging die by preventing wear and peeling of a hard coating formed on the surface of the cold forging die. A die for cold forging that can suppress galling of the product has been proposed. The feature of the hard coating described in Patent Document 4 is that the mold design surface has a group 4A (Ti, Zr, Hf), group 5A (V, Nb, Ta), group 6A (Cr, Mo, W) metal or One or two kinds of carbides, nitrides or carbonitrides containing two or more and 4A group (Ti, Zr, Hf), 5A group (V, Nb, Ta), 6A group (Cr, Mo, W) metal A single-layer or multi-layer coating composed of one or more selected from the group consisting of nitrides containing at least one species and one or two of Si and Al is provided. Further, the film formed on the cold forging die has a surface roughness Ra of 0.05 μm or more and 0.50 μm or less regardless of the direction, so that the retention of the lubricant is improved. I have to.

特開2003−71610号公報JP 2003-71610 A 特開2000−334606号公報JP 2000-334606 A 特開2006−299399号公報JP 2006-299399 A 特開2009−61465号公報JP 2009-61465 A

特許文献1には、切削工具用の硬質皮膜であってその組成が(Ti、Al、Cr)(C1−d)で表され、この組成に含まれる元素の原子比を規定することにより硬質皮膜の耐摩耗性と耐酸化性を向上させることを特徴としているが、硬質皮膜としてTiとSiの窒化物又は炭化物を含む皮膜を形成すること、特に最上(表面)層の皮膜としてTiとSiの窒化物又は炭化物を含む皮膜を形成することについては開示されていない。Patent Document 1 discloses a hard film for a cutting tool, the composition of which is represented by (Ti a , Al b , Cr c ) (C 1-d N d ), and the atomic ratio of elements contained in this composition It is characterized by improving the wear resistance and oxidation resistance of the hard coating by defining, but forming a coating containing a nitride or carbide of Ti and Si as the hard coating, especially of the uppermost (surface) layer It is not disclosed to form a film containing nitride or carbide of Ti and Si as the film.

特許文献2には、切削工具に被覆する硬質皮膜をTiSi系窒化物などからなるa層と、TiAl系窒化物などからb層を、それぞれ一層以上交互に被覆し、さらにb層が母材の表面直上に形成された硬質皮膜である。In Patent Document 2, a hard film to be coated on a cutting tool is coated alternately with a layer made of TiSi-based nitride or the like and b layer made of TiAl-based nitride or the like, and the b layer is made of a base material. It is a hard film formed directly on the surface.

特許文献1及び特許文献2に開示されている硬質皮膜は、いずれもその組成に含まれる元素の原子比を規定することにより硬質皮膜の耐摩耗性と耐酸化性を向上させているが、その用途は切削工具用の硬質皮膜である。  The hard coatings disclosed in Patent Literature 1 and Patent Literature 2 both improve the wear resistance and oxidation resistance of the hard coating by defining the atomic ratio of the elements contained in the composition. The application is a hard coating for cutting tools.

切削工具に対して、過酷な環境で使用される冷間用金型は、塑性加工を行うときに、閉鎖域で、しかも高速(毎分50ショット以上)で金型の基材(母材)に引張応力と圧縮応力が繰り返して与えられる。このため、冷間用金型は切削工具や他用途の金型に比べて、金型表面に微細なクラックが発生し易い。また、冷間の塑性加工時に金型表面に作用する応力分布は、切削工具の切れ刃エッジに作用する応力に比べても格段に高く、しかも、冷間用金型の基材は切削工具に使用される基材(例えば超硬合金、ハイス、ダイス鋼等)の硬度よりも低く弾性変形し易い。
また、冷間用金型に形成する硬質皮膜において、硬度の高いSiを含有した硬質皮膜を被覆した場合、冷間用金型は上記したように過酷な環境で使用されるために切削工具に比べてこの硬質皮膜は剥離し易い。そのため、金型表面に成膜した硬質皮膜は、その特性のうち、特に繰返し応力を受けた時の耐クラック性や耐摩耗性に加えて、硬度の高い硬質皮膜が塑性加工時に剥離しないこと、つまり耐剥離性が特に強く要求されている。
Cold molds used in harsh environments for cutting tools are mold bases (base materials) in a closed zone and at high speed (more than 50 shots per minute) when plastic working. A tensile stress and a compressive stress are repeatedly given to the above. For this reason, the cold mold is likely to generate fine cracks on the mold surface as compared with a cutting tool or a mold for other uses. In addition, the stress distribution acting on the die surface during cold plastic working is much higher than the stress acting on the cutting edge of the cutting tool, and the base material of the cold die is the cutting tool. It is lower than the hardness of the base material used (for example, cemented carbide, high speed steel, die steel, etc.) and easily elastically deforms.
In addition, when the hard film formed on the cold mold is coated with a hard film containing high hardness Si, the cold mold is used as a cutting tool because it is used in a harsh environment as described above. In comparison, this hard coating is easy to peel off. Therefore, the hard film formed on the mold surface, in addition to its properties, in particular crack resistance and wear resistance when subjected to repeated stress, the hard film with high hardness does not peel off during plastic processing, That is, peeling resistance is particularly strongly required.

特許文献3に開示されている硬質皮膜被覆部材は切削工具、金型、軸受け、ダイス、ロールなど高硬度が要求される耐摩耗工具等に被覆して耐摩耗性を向上させるために、基体表面から、最下層、中間積層部、最上層の3層を形成した硬質皮膜を備えている。さらに、中間積層部をAl、Cr、Ti、Siを必須成分とした積層構造とし、最上層をTi又はTiとSiの窒化物、炭化物、硫化物、硼化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物とした硬質皮膜被覆部材である。
しかしながら、特許文献3には特許文献1及び2と同様に、基材の表面に生じる微細なクラックの発生を防止するための硬質皮膜の構成などについては開示されていない。特に、特許文献3に記載されている硬質皮膜被覆部材を冷間用金型に適用した場合には、Siを含有した中間積層部は脆くなるため、最上層であるTi又はTiとSiの窒化物を含む硬質皮膜はその耐剥離性を十分に発揮することができなくなる。その結果、特許文献3に開示されている硬質皮膜被覆部材を冷間用金型に適用すると冷間用金型の耐久性(金型寿命)向上が不十分になると考えられる。
The hard coating member disclosed in Patent Document 3 is coated on a wear-resistant tool that requires high hardness such as a cutting tool, a die, a bearing, a die, and a roll to improve wear resistance. From the bottom, a hard film having three layers of a lowermost layer, an intermediate laminated portion, and an uppermost layer is provided. Further, the intermediate laminated portion has a laminated structure containing Al, Cr, Ti, and Si as essential components, and the uppermost layer is Ti or any of nitrides, carbides, sulfides and borides of Ti and Si, or a solid solution or a mixture thereof. This is a hard film covering member.
However, similarly to Patent Documents 1 and 2, Patent Document 3 does not disclose the configuration of a hard film for preventing the occurrence of fine cracks generated on the surface of the substrate. In particular, when the hard film covering member described in Patent Document 3 is applied to a cold mold, the intermediate laminated portion containing Si becomes brittle, so that Ti or Ti and Si nitriding is the uppermost layer. A hard film containing an object cannot fully exhibit its peeling resistance. As a result, it is considered that when the hard coating member disclosed in Patent Document 3 is applied to a cold mold, the durability (mold life) of the cold mold is insufficiently improved.

特許文献4には、冷間鍛造用金型の表面に被覆した硬質皮膜の摩耗や剥離を防止させるために、所定の元素の炭化物又は窒化物からなる単層又は多層の硬質皮膜が提案されているが、硬質皮膜の元素と面粗度を規定するものであって、硬質皮膜を積層構造にすることについては開示されていない。さらに、冷間鍛造用金型の表面に微細なクラックの発生を防止するための手段や硬質皮膜の耐剥離性の向上に対する対策は開示されていない。  Patent Document 4 proposes a single-layer or multi-layer hard film made of a carbide or nitride of a predetermined element in order to prevent wear or peeling of the hard film coated on the surface of a cold forging die. However, it defines the elements and surface roughness of the hard coating and does not disclose making the hard coating into a laminated structure. Furthermore, there is no disclosure of means for preventing the occurrence of fine cracks on the surface of the cold forging die or measures for improving the peel resistance of the hard coating.

本発明の発明者は、冷間用金型の耐久性を改善するために、冷間用金型の表面に被覆する硬質皮膜(以下、硬質皮膜層と記載する)の耐剥離性と耐クラック性の向上について鋭意研究した。その結果、冷間用金型は切削工具に比べて面圧が高い塑性加工で使用されるため、硬質皮膜層の特性の中でも特に靱性と耐剥離性が要求される。前記した特許文献に記載されている切削工具などの耐久性を改善した硬質皮膜層では、冷間用金型の耐久性を向上させることができないことが明らかとなった。
冷間用金型に被覆した硬質皮膜層の靱性と耐剥離性を向上させるためには、硬質皮膜層の組成、および硬質皮膜層の構成、特に、この硬質被膜層の基本構成として硬質被膜層を2種の皮膜層から形成するとともに、これら2種の皮膜層(硬質被膜層)を基材の表面に形成して配置する順序、所定の皮膜層を多層構造、又は積層構造にすることが重要であることを各種の試作実験により見出した。
The inventor of the present invention, in order to improve the durability of the cold mold, peel resistance and crack resistance of a hard film (hereinafter referred to as a hard film layer) coated on the surface of the cold mold We have eagerly studied the improvement of sex. As a result, since the cold mold is used in plastic working having a higher surface pressure than the cutting tool, particularly toughness and peeling resistance are required among the characteristics of the hard coating layer. It has become clear that the durability of the cold mold cannot be improved with the hard coating layer with improved durability such as the cutting tool described in the above-mentioned patent document.
In order to improve the toughness and peel resistance of the hard coating layer coated on the cold mold, the composition of the hard coating layer and the configuration of the hard coating layer, in particular, the hard coating layer as the basic configuration of this hard coating layer Are formed from two types of coating layers, and the order in which these two types of coating layers (hard coating layers) are formed and disposed on the surface of the substrate, and the predetermined coating layer is formed into a multilayer structure or a laminated structure. We found it important by various prototype experiments.

そして、各種の試作実験の結果、冷間用金型に被覆する硬質皮膜層の耐剥離性と耐クラック性の双方を向上させるためには、基材の表面に被覆する硬質皮膜層の組成の基本構成はTi、Cr、Al、Siの窒化物又は炭窒化物からなる硬質皮膜層とするとともに、この硬質皮膜層は、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる硬質皮膜層(下部皮膜層)と、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる硬質皮膜層(表面皮膜層)の2種から構成し、さらに、下部皮膜層は表面皮膜層よりも基材の表面側に成膜して形成した構成にすることにより、硬質皮膜層の靱性と耐剥離性を格段に向上させることが可能になることを見出した。  As a result of various prototype experiments, in order to improve both the peel resistance and crack resistance of the hard coating layer coated on the cold mold, the composition of the hard coating layer coated on the surface of the base material The basic structure is a hard coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al, Si, and this hard coating layer is a hard coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al ( Lower coating layer) and a hard coating layer (surface coating layer) made of Ti or Si nitride or carbonitride, and the lower coating layer is closer to the surface of the substrate than the surface coating layer. It has been found that the toughness and peel resistance of the hard coating layer can be remarkably improved by forming the film to form a film.

本発明はこのような従来技術の不具合に鑑みてなされたものであって、その目的は、切削工具に比べて面圧の高い塑性加工で使用される冷間用金型について、耐久性(金型寿命)を向上させることにある。特に、本発明は、硬度が高く耐摩耗性に優れた硬質皮膜層について、金型基材からの耐剥離性と耐クラック性を向上させた硬質皮膜層を被覆した被覆冷間用金型とすることにより、金型寿命を格段に向上させた被覆冷間用金型を提供することにある。  The present invention has been made in view of such problems of the prior art. The object of the present invention is to provide durability (metal mold) for cold molds used in plastic working with higher surface pressure than cutting tools. It is to improve the mold life. In particular, the present invention relates to a coated cold mold in which a hard coating layer having high hardness and excellent wear resistance is coated with a hard coating layer having improved peeling resistance and crack resistance from a mold base. Thus, an object of the present invention is to provide a coated cold mold in which the mold life is remarkably improved.

本発明は被覆冷間用金型に係り、請求項1に記載の発明は、基材の表面に、Ti、Cr、Al、Siの窒化物又は炭窒化物からなる硬質皮膜層を被覆した冷間用金型であって、
前記硬質皮膜層は、
Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層と、
Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層を備え、
前記下部皮膜層は、前記表面皮膜層よりも前記基材の表面側に成膜されていることを特徴とする被覆冷間用金型である。
The present invention relates to a coated cold mold, and the invention according to claim 1 is a cold coating in which a hard coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al, Si is coated on the surface of a substrate. An interim mold,
The hard coating layer is
A lower coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al;
Provided with a surface coating layer made of Ti, Si nitride or carbonitride,
The lower coating layer is a coated cold mold characterized in that the lower coating layer is formed on the surface side of the substrate with respect to the surface coating layer.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の被覆冷間用金型であって、前記下部皮膜層は、その組成が、
一般式:TiCrAl(C)(ただし、a、b、c、u、vは、それぞれTi、Cr、Al、C、Nの原子比を示す)で表され、
前記a、b、c、u、vは下記の条件:
0<a≦0.6、
0<b≦0.3、
0.3<c<0.7、
0≦u≦0.5、
0<v≦1、
a+b+c=1、
u+v=1、
を満たしていることを特徴としている。
Invention of Claim 2 is a metal mold | die for covering cold of Claim 1, Comprising: The said lower coating layer has the composition,
Represented by the general formula: Ti a Cr b Al c (C u N v ) (where a, b, c, u, v represent the atomic ratio of Ti, Cr, Al, C, N, respectively),
Said a, b, c, u, v are the following conditions:
0 <a ≦ 0.6,
0 <b ≦ 0.3,
0.3 <c <0.7,
0 ≦ u ≦ 0.5,
0 <v ≦ 1,
a + b + c = 1,
u + v = 1,
It is characterized by satisfying.

本発明の請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の被覆冷間用金型であって、前記下部皮膜層は、前記表面皮膜層の直下に成膜されていることを特徴としている。  The invention according to claim 3 of the present invention is the coated cold mold according to claim 1 or 2, wherein the lower coating layer is formed immediately below the surface coating layer. It is characterized by that.

本発明の請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3のいずれかに記載の被覆冷間用金型であって、前記下部皮膜層は、前記基材の表面側から前記表面皮膜層側に向けて、順次、組成が異なる皮膜層を少なくとも2層以上有する多層構造をなし、前記多層構造をなすそれぞれの前記皮膜層は0.1〜3μmの膜厚を有していることを特徴としている。  The invention according to claim 4 of the present invention is the coated cold mold according to any one of claims 1 to 3, wherein the lower coating layer is formed from the surface side of the base material to the surface. A multi-layer structure having at least two film layers having different compositions in order toward the film layer side is formed, and each of the film layers forming the multi-layer structure has a thickness of 0.1 to 3 μm. It is characterized by.

本発明の請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の被覆冷間用金型であって、前記多層構造は、前記基材の表面側から順次、第1層、第2層、第3層からなる3つの皮膜層から構成されており、
前記第1層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa1、b1、c1、
前記第2層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa2、b2、c2、
前記第3層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa3、b3、c3、
としたときに、
a1>a2>a3、
b3>b2>b1、
c3>c2>c1、
を満たしていることを特徴としている。
The invention according to claim 5 of the present invention is the coated cold mold according to claim 4, wherein the multilayer structure has a first layer, a second layer, It consists of three coating layers consisting of a third layer,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the first layer are a1, b1, c1,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the second layer are a2, b2, c2,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the third layer are a3, b3, c3,
And when
a1>a2> a3,
b3>b2> b1,
c3>c2> c1,
It is characterized by satisfying.

本発明の請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の被覆冷間用金型であって、前記多層構造をなす前記第2層はD層とF層からなる皮膜層を交互に積層した積層構造をなし、
前記D層及び前記F層は、0.02μm未満の膜厚を有しているとともに、
前記D層のTiの原子比をa(D)、
前記F層のTiの原子比をa(F)、
としたときに、
a(D)>a(F)、
を満たしていることを特徴としている。
The invention according to claim 6 of the present invention is the coated cold mold according to claim 5, wherein the second layer forming the multilayer structure is formed by alternately forming coating layers composed of D layers and F layers. It has a laminated structure,
The D layer and the F layer have a film thickness of less than 0.02 μm,
The atomic ratio of Ti in the D layer is a (D),
The atomic ratio of Ti in the F layer is a (F),
And when
a (D)> a (F),
It is characterized by satisfying.

本発明の請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の被覆冷間用金型であって、前記D層の膜厚は、前記F層の膜厚と同じ、もしくは前記F層の膜厚よりも厚くなるように成膜されていることを特徴としている。  The invention according to claim 7 of the present invention is the coated cold mold according to claim 6, wherein the film thickness of the D layer is the same as the film thickness of the F layer or of the F layer. The film is formed so as to be thicker than the film thickness.

本発明の請求項8に記載の発明は、請求項1から請求項7のいずれかに記載の被覆冷間用金型は、冷間鍛造用のパンチであることを特徴としている。  The invention according to claim 8 of the present invention is characterized in that the coated cold mold according to any one of claims 1 to 7 is a cold forging punch.

本発明の請求項9に記載の発明は、請求項1から請求項7のいずれかに記載の被覆冷間用金型は、冷間鍛造用のダイスであることを特徴としている。  The invention described in claim 9 of the present invention is characterized in that the coated cold die according to any one of claims 1 to 7 is a die for cold forging.

本発明の被覆冷間用金型に形成した硬質皮膜層は、冷間用金型の基材に被覆され、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層と、この下部皮膜層の上に被覆され、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層から構成したことにより、硬質皮膜層の耐剥離性と耐クラック性を格段に向上させることが可能になる。これにより、金型寿命を著しく向上させた冷間用金型を提供することができる。
さらに、本発明は、下部皮膜層を多層構造、あるいはこの多層構造のうちの特定の皮膜層(第2層)を、2つの皮膜層を交互に積層した積層構造とすることにより、靱性、耐剥離性、及び耐摩耗性を格段に向上させて、金型寿命をさらに一段と向上させた冷間用金型を提供することが可能になる。
The hard coating layer formed on the coated cold mold of the present invention is coated on the cold mold base material, and comprises a lower coating layer made of Ti, Cr, Al nitride or carbonitride, It is possible to remarkably improve the peeling resistance and crack resistance of the hard coating layer by covering the coating layer and forming the surface coating layer made of Ti or Si nitride or carbonitride. . Thereby, it is possible to provide a cold mold in which the mold life is remarkably improved.
Furthermore, the present invention provides a toughness, resistance resistance by making the lower coating layer a multilayer structure, or a specific coating layer (second layer) of the multilayer structure by laminating two coating layers alternately. It is possible to provide a cold mold having a remarkably improved peelability and wear resistance to further improve the mold life.

本発明の被覆冷間用金型について、硬質皮膜層の第1の実施形態の構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the structure of 1st Embodiment of a hard film layer about the metal mold | die for coating | covering cold of this invention. 本発明の被覆冷間用金型について、硬質皮膜層の第2の実施形態の構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the structure of 2nd Embodiment of a hard film layer about the metal mold | die for coating | covering cold of this invention. 本発明の被覆冷間用金型について、硬質皮膜層の第3の実施形態の構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the structure of 3rd Embodiment of a hard film layer about the metal mold | die for coating | covering cold of this invention. 本発明の被覆冷間用金型の一例となるパンチの構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the structure of the punch used as an example of the metal mold | die for covering cold of this invention. 図4に示すパンチについて、先端部の構成を説明するための一部拡大平面図である。FIG. 5 is a partially enlarged plan view for explaining the configuration of the tip of the punch shown in FIG. 4. 本発明の被覆冷間用金型の一例となるダイスの構成を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the structure of the die | dye used as an example of the metal mold | die for covering cold of this invention. 硬質皮膜層を成膜するための成膜装置の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the film-forming apparatus for forming a hard film layer. 本発明の被覆冷間用金型を用いた冷間鍛造装置により、被加工物に対して後方押し出し成形による塑性加工を行う手順を説明するための図であって、(a)はパンチ、ダイスにより塑性加工を実施する前の状態を示し、(b)は塑性加工を開始したときの状態を示し、(c)は被加工物に塑性加工を実施しているときの状態を示す。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure for demonstrating the procedure which performs the plastic working by back extrusion molding with respect to a to-be-processed object with the cold forging apparatus using the metal mold | die for coating | covering cold of this invention, (a) is a punch, die | dye Shows the state before plastic working, (b) shows the state when plastic working is started, and (c) shows the state when plastic working is performed on the workpiece. 図7に示す成膜装置において、ダイスを構成するニブに硬質皮膜層を成膜するときに、ニブを成膜装置の基材ステージに取付ける位置についてその一例を示す図である。In the film-forming apparatus shown in FIG. 7, when forming a hard film layer on the nib which comprises dice | dies, it is a figure which shows the example about the position which attaches a nib to the base-material stage of a film-forming apparatus.

以下、本発明の被覆冷間用金型の構成、特にこの金型に被覆する硬質皮膜層の構成とその特徴を図面に基づいて説明する。図1〜図3は本発明の被覆冷間用金型の基材に硬質皮膜層を被覆したときに、この硬質皮膜層の構成を説明するための図であって、図1は硬質皮膜層の基本構成(第1の実施形態)を示す断面図、図2は同じく硬質皮膜層の第2の実施形態を示す断面図、図3は同じく第3の実施形態を示す断面図である。  Hereinafter, the configuration of the coated cold mold of the present invention, particularly the configuration and characteristics of the hard coating layer coated on the mold will be described with reference to the drawings. 1 to 3 are diagrams for explaining the structure of a hard coating layer when the base material of the coated cold mold according to the present invention is coated with a hard coating layer. FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the second embodiment of the hard coating layer, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing the third embodiment.

[硬質皮膜層の基本構成(第1の実施形態)]
図1は、本発明に係る被覆冷間用金型1について、その基材2に被覆した硬質皮膜層3の基本構成(第1の実施形態)を示す部分断面図である。以下の説明において冷間用金型1の基材(「母材」と呼ぶ場合もある)2のことを単に「基材2」と記載して説明する。また、本発明の被覆冷間用金型1のことを「冷間用金型1」と記載する場合もある。
基材2は、冷間で各種の金属に対して塑性加工を行うための金型であって、各種の成形用金型を示す。本発明が適用できる各種の冷間用金型としては、前方押出し成形用金型、据込み加工用金型、打ち抜き加工用金型、圧印加工用金型、各種のプレス成型用金型等に用いるパンチやダイス等を挙げることができる。
[Basic configuration of hard coating layer (first embodiment)]
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a basic configuration (first embodiment) of a hard coating layer 3 coated on a base material 2 of a coated cold mold 1 according to the present invention. In the following description, the base material (sometimes referred to as “base material”) 2 of the cold mold 1 will be described simply as “base material 2”. In addition, the coated cold mold 1 of the present invention may be referred to as “cold mold 1”.
The base material 2 is a mold for performing plastic working on various metals in a cold state, and shows various molds for molding. Various cold molds to which the present invention can be applied include forward extrusion molds, upsetting molds, stamping molds, coining molds, various press molds, etc. Examples thereof include a punch and a die to be used.

基材2の材質としては、超硬合金、金属炭化物を有する鉄基合金、高速度工具鋼、セラミックス、等を用いることができるが、これらに限定されるものではなく、治工具等の部材に適用できるものであれば、いかなる材質でもよい。本発明の被覆冷間用金型1の基材2の材質としてはCrを含有する超硬合金であって、WC(炭化タングステン)の平均粒度が0.8〜3μm、Co含有量が6〜25重量%からなる基材が特に好適であり、切削工具に適用される超硬合金よりもWCの平均粒度も大きく、Co含有量も多くなっている。  As a material of the base material 2, a cemented carbide, an iron-base alloy having a metal carbide, high-speed tool steel, ceramics, and the like can be used. However, the material is not limited to these materials. Any material can be used as long as it is applicable. The material of the base material 2 of the coated cold mold 1 of the present invention is a cemented carbide containing Cr, wherein the average particle size of WC (tungsten carbide) is 0.8 to 3 μm, and the Co content is 6 to 6. A substrate composed of 25% by weight is particularly suitable, and the average particle size of WC is larger than that of cemented carbide applied to cutting tools, and the Co content is also increased.

図1に示す第1の実施形態においては、硬質皮膜層3は基材2の表面に被覆された下部皮膜層4と、この下部皮膜層4の上に被覆された表面皮膜層5から構成されている。下部皮膜層4はTi、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる皮膜層から構成され、表面皮膜層5はTi、Siの窒化物又は炭窒化物からなる皮膜層から構成されている。
このように、本発明の被覆冷間用金型1は、基材2の表面に被覆(成膜又は形成)された硬質皮膜層3として、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4と、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層5とを備え、下部皮膜層4は表面皮膜層5よりも基材2の表面側に成膜されているとともに、表面皮膜層5の直下に下部皮膜層4が成膜されていることを基本構成としている。図1においては、下部皮膜層4は基材2の表面の直上に成膜している例を示しているが、基材2の表面と下部皮膜層4との間に他の皮膜層、例えば、Ti、Cr、Alから選択される1種以上の窒化物又は炭窒化物を含む皮膜層を成膜してもよい。
In the first embodiment shown in FIG. 1, the hard coating layer 3 is composed of a lower coating layer 4 coated on the surface of the substrate 2 and a surface coating layer 5 coated on the lower coating layer 4. ing. The lower coating layer 4 is composed of a coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al, and the surface coating layer 5 is composed of a coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Si.
As described above, the coated cold mold 1 of the present invention is made of Ti, Cr, Al nitride or carbonitride as the hard coating layer 3 coated (formed or formed) on the surface of the substrate 2. A lower coating layer 4 and a surface coating layer 5 made of a nitride or carbonitride of Ti, Si, and the lower coating layer 4 is formed on the surface side of the substrate 2 with respect to the surface coating layer 5. In addition, the basic structure is that the lower film layer 4 is formed immediately below the surface film layer 5. In FIG. 1, an example in which the lower coating layer 4 is formed immediately above the surface of the substrate 2 is shown, but another coating layer, for example, between the surface of the substrate 2 and the lower coating layer 4, for example, A film layer containing one or more nitrides or carbonitrides selected from Ti, Cr, and Al may be formed.

なお、上記した「下部皮膜層4はTi、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる」とは、下部皮膜層4はTiとCr及びAlの窒化物、又はTiとCr及びAlの炭窒化物からなる皮膜層から構成される場合と、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物であって、これら3種の元素の窒化物と炭窒化物のうち、Ti、Cr、Alを含む3種の窒化物や炭窒化物からなる皮膜層から構成される場合を含む。
同様に、「表面皮膜層5はTi、Siの窒化物又は炭窒化物からなる」とは、表面皮膜層5はTiとSiの窒化物、又はTiとSiの炭窒化物からなる皮膜層から構成される場合と、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物であって、これら2種の元素の窒化物と炭窒化物のうち、Ti、Siを含む2種の窒化物や炭窒化物からなる皮膜層から構成される場合を含む。
It should be noted that “the lower coating layer 4 is made of Ti, Cr, Al nitride or carbonitride” means that the lower coating layer 4 is Ti, Cr and Al nitride, or Ti, Cr and Al carbon. When composed of a film layer made of nitride, and nitride, carbonitride of Ti, Cr, Al, among these three elements nitride and carbonitride, Ti, Cr, Al The case where it is comprised from the film layer which consists of 3 types of containing nitride and carbonitride is included.
Similarly, “the surface coating layer 5 is made of Ti, Si nitride or carbonitride” means that the surface coating layer 5 is made of Ti and Si nitride or Ti and Si carbonitride. When constituted, a nitride or carbonitride of Ti, Si, and from two types of nitrides and carbonitrides containing Ti and Si, among these two types of nitrides and carbonitrides The case where it is comprised from the film layer which becomes.

Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層5は硬度は高いが、特に冷間用金型に適用される基材(母材)上では靱性および耐剥離性に乏しい欠点を有する。この欠点を改善するためには、表面皮膜層5の直下に、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4を形成することが重要であることが各種の試作実験により明らかになった。本発明は、このような技術思想に基づいて各種の試作実験を行った結果得られたものである。  The surface coating layer 5 made of a nitride or carbonitride of Ti, Si has high hardness, but has a defect of poor toughness and peeling resistance particularly on a base material (base material) applied to a cold mold. . In order to remedy this defect, it is important to form the lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al immediately below the surface coating layer 5 through various trial experiments. It was revealed. The present invention has been obtained as a result of various prototype experiments based on such a technical idea.

本発明において、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4は、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性を同時に向上させ、表面皮膜層5の効果を最大限に発揮する作用を行うことができる。また、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4は、被覆冷間用金型1の耐摩耗性向上にも欠かせない硬質皮膜層になる。本発明の被覆冷間用金型1は、上記した下部皮膜層4と表面皮膜層5とを組み合わせた構成、すなわち、表面皮膜層5の直下に下部皮膜層4を形成した構成にすることにより、被覆冷間用金型1の耐久性(金型寿命)を向上させることができたのである。さらに、後記するように、下部皮膜層4を多層構造あるいは積層構造を有する皮膜層で構成することにより、被覆冷間用金型1の耐久性を格段に向上させることができたのである。  In the present invention, the lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al simultaneously improves the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 and maximizes the effect of the surface coating layer 5. It is possible to perform an effect exerted on. The lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al is a hard coating layer that is indispensable for improving the wear resistance of the coated cold mold 1. The coated cold mold 1 of the present invention has a configuration in which the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 are combined, that is, a configuration in which the lower coating layer 4 is formed immediately below the surface coating layer 5. The durability (mold life) of the coated cold mold 1 could be improved. Furthermore, as will be described later, the durability of the coated cold mold 1 could be remarkably improved by forming the lower coating layer 4 with a coating layer having a multilayer structure or a laminated structure.

続いて、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4の組成について説明する。
下部皮膜層4の組成は、一般式:TiCrAl(C)(ただし、a、b、c、u、vはそれぞれ、Ti、Cr、Al、C、Nの原子比を示す)で表され、前記a、b、c、u、v(a+b+c=1、u+v=1)は下記の条件を満たすことが好ましい。
0<a≦0.6、
0<b≦0.3、
0.3<c<0.7、
0≦u≦0.5、
0<v≦1、
a+b+c=1、
u+v=1。
Next, the composition of the lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al will be described.
The composition of the lower coating layer 4 has a general formula: Ti a Cr b Al c (C u N v ) (where a, b, c, u, and v are atomic ratios of Ti, Cr, Al, C, and N, respectively) The a, b, c, u, and v (a + b + c = 1, u + v = 1) preferably satisfy the following conditions.
0 <a ≦ 0.6,
0 <b ≦ 0.3,
0.3 <c <0.7,
0 ≦ u ≦ 0.5,
0 <v ≦ 1,
a + b + c = 1,
u + v = 1.

上記した下部皮膜層4の組成の一般式において、原子比a、b、c、u、v(a+b+c=1、u+v=1)を、上記条件を満たすように設定することが好ましい理由を説明すると次のようになる。
Tiの原子比aを0<a≦0.6の範囲に設定することが好ましい理由は、下部皮膜層4がTiを含有しない場合、下部皮膜層4と基材2との十分な密着性が得られないばかりではなく、下部皮膜層4の耐摩耗性が低下することに加え、硬度と弾性係数が低くなり、表面皮膜層5との強度(硬度と弾性係数)差が大きくなり過ぎてしまい、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性が低下する。一方、Tiの原子比が0.6を超えると、下部皮膜層4の耐熱性、硬度、靱性が低下することで耐摩耗性が劣化し、また弾性係数が高くなる傾向になり、その結果として、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性が低下するからである。
In the general formula of the composition of the lower coating layer 4 described above, the reason why it is preferable to set the atomic ratios a, b, c, u, v (a + b + c = 1, u + v = 1) so as to satisfy the above conditions will be described. It becomes as follows.
The reason why the atomic ratio a of Ti is preferably set in the range of 0 <a ≦ 0.6 is that when the lower coating layer 4 does not contain Ti, sufficient adhesion between the lower coating layer 4 and the substrate 2 is obtained. Not only is it not obtained, but also the wear resistance of the lower coating layer 4 is lowered, and the hardness and elastic modulus are lowered, and the difference in strength (hardness and elastic modulus) from the surface coating layer 5 becomes too large. The peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 are reduced. On the other hand, when the atomic ratio of Ti exceeds 0.6, the heat resistance, hardness, and toughness of the lower coating layer 4 are reduced, so that the wear resistance is deteriorated and the elastic modulus tends to be increased. This is because the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 are reduced.

Crの原子比bを0<b≦0.3の範囲に設定することが好ましい理由は次の通りである。Crを含有しない場合、下部皮膜層4の基材2との十分な密着性が得られないばかりではなく、下部皮膜層4の靱性が低下、また弾性係数が高くなり、さらに結晶粒が粗大化する傾向にあり、その結果、表面皮膜層5との強度と結晶粒の連続性が低下するため、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性が低下する。一方、Crの原子比bが0.3を超えると、下部皮膜層4の硬度と弾性係数が急激に低下する傾向になり、下部皮膜層4の耐摩耗性が低下することに加え、表面皮膜層5との強度(硬度と弾性係数)差が大きくなり過ぎてしまい、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性が低下する場合がある。  The reason why the atomic ratio b of Cr is preferably set in the range of 0 <b ≦ 0.3 is as follows. When Cr is not contained, not only the adhesion of the lower coating layer 4 to the base material 2 is not obtained, but also the toughness of the lower coating layer 4 is lowered, the elastic modulus is increased, and the crystal grains are coarsened. As a result, the strength with the surface coating layer 5 and the continuity of the crystal grains are reduced, so that the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 are reduced. On the other hand, if the atomic ratio b of Cr exceeds 0.3, the hardness and elastic modulus of the lower coating layer 4 tend to decrease sharply, and the wear resistance of the lower coating layer 4 decreases. The difference in strength (hardness and elastic modulus) from the layer 5 becomes too large, and the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 may be lowered.

Alの原子比cを0.3<c<0.7の範囲に設定することが好ましい理由は、Alの原子比cが0.3以下の場合、下部皮膜層4の耐熱性と硬度が低下することで耐摩耗性が低下し、さらに結晶粒が粗大化することで、表面皮膜層5との密着性が低下し、耐剥離性が低下する場合がある。一方、Alの原子比cが0.7以上になると、下部皮膜層4の結晶粒が微細化する傾向になり、硬度が著しく低下し、表面皮膜層5との強度(硬度と弾性係数)差が大きくなり過ぎてしまい、その結果として、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性が低下するからである。  The reason why it is preferable to set the atomic ratio c of Al in the range of 0.3 <c <0.7 is that when the atomic ratio c of Al is 0.3 or less, the heat resistance and hardness of the lower coating layer 4 are lowered. As a result, the wear resistance is lowered, and the crystal grains are coarsened, whereby the adhesion to the surface coating layer 5 is lowered and the peel resistance may be lowered. On the other hand, when the atomic ratio c of Al is 0.7 or more, the crystal grains of the lower coating layer 4 tend to be finer, the hardness is significantly reduced, and the strength (hardness and elastic modulus) difference from the surface coating layer 5 is reduced. As a result, the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 are lowered.

Cの原子比uを0≦u≦0.5の範囲に設定することが好ましい理由は次の通りである。硬質皮膜にCを含有させると、下部皮膜層4の組織が微細化して、下部皮膜層4を高硬度化することができる。さらに、下部皮膜層4の摩擦係数の低下に貢献し、耐付着性を向上させることができ、その結果として、下部皮膜層4の耐摩耗性が向上する。冷間用金型においては、耐付着性が向上すると、被加工材の面粗度が向上する。また、Cは含有しなくとも良く、冷間用金型の使用環境によって選択されるべきである。なお、Cの原子比uが0.5を超えて含有する場合は、下部皮膜層4の硬度が急激に低下することから、下部皮膜層4の耐摩耗性が劣化することになる。  The reason why the atomic ratio u of C is preferably set in the range of 0 ≦ u ≦ 0.5 is as follows. When C is contained in the hard coating, the structure of the lower coating layer 4 is refined and the lower coating layer 4 can be increased in hardness. Furthermore, it contributes to lowering the friction coefficient of the lower coating layer 4 and can improve the adhesion resistance. As a result, the wear resistance of the lower coating layer 4 is improved. In the cold mold, when the adhesion resistance is improved, the surface roughness of the workpiece is improved. Moreover, C does not need to be contained and should be selected according to the usage environment of the cold mold. When the atomic ratio u of C exceeds 0.5, the hardness of the lower coating layer 4 is abruptly lowered, so that the wear resistance of the lower coating layer 4 is deteriorated.

vはNの原子比であるが、Cを含有する場合を考慮して、Nの原子比vは0を超え1以下の範囲に設定した。なお、下部皮膜層4にCを含有させない場合には、下部皮膜層4はTi、Cr、Alの窒化物で構成する。  Although v is an atomic ratio of N, in consideration of the case where C is contained, the atomic ratio v of N is set in a range of more than 0 and 1 or less. In the case where C is not contained in the lower coating layer 4, the lower coating layer 4 is composed of nitrides of Ti, Cr, and Al.

[硬質皮膜層の第2の実施形態]
続いて、硬質皮膜層3の第2の実施形態について詳細に説明する。図2は、本発明の被覆冷間用金型1について第2の実施形態の構成を示す部分断面図である。第2の実施形態は、図1に示す第1の実施形態と比較してより好ましい実施形態になる。
図2に示すように第2の実施形態は、下部皮膜層4を3つの皮膜層からなる第1層6、第2層7、第3層8からなる多層構造とし、第1層6は基材2の直上、すなわち、基材2と接する側に形成することが望ましい。そして、基材2の直上(表面)側から表面皮膜層5方向に向けて、順次、第1層6、第2層7、第3層8を形成した例を示している。
[Second Embodiment of Hard Coating Layer]
Next, the second embodiment of the hard coating layer 3 will be described in detail. FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the second embodiment of the coated cold mold 1 of the present invention. The second embodiment is a more preferable embodiment compared to the first embodiment shown in FIG.
As shown in FIG. 2, in the second embodiment, the lower coating layer 4 has a multi-layer structure including a first layer 6, a second layer 7, and a third layer 8 composed of three coating layers. It is desirable to form directly on the material 2, that is, on the side in contact with the substrate 2. And the example which formed the 1st layer 6, the 2nd layer 7, and the 3rd layer 8 one by one toward the surface membrane | film | coat layer 5 direction from the direct upper side (surface) side of the base material 2 is shown.

下部皮膜層4を構成する第1層6は、基材2の表面と接する側に成膜すると、基材2との密着強度を最大限に担保する機能を発揮する。第2層7は表面皮膜層5の耐クラック性を高める効果と、第1層6と第3層8のそれぞれを密着性が高い状態に保持する機能を発揮するために設けている。第3層8は表面被覆層5との密着性が高い状態に保持して、表面皮膜層5の耐剥離性と耐クラック性を高める効果を発揮する。  When the first layer 6 constituting the lower coating layer 4 is formed on the side in contact with the surface of the substrate 2, the first layer 6 exhibits the function of ensuring the adhesion strength with the substrate 2 to the maximum. The second layer 7 is provided in order to exhibit the effect of increasing the crack resistance of the surface coating layer 5 and the function of holding each of the first layer 6 and the third layer 8 in a highly adhesive state. The third layer 8 exhibits an effect of increasing the peel resistance and crack resistance of the surface coating layer 5 while maintaining high adhesion with the surface coating layer 5.

さらに、本発明においては、第1層6、第2層7、第3層8のTi、Cr、Alの含有量(原子比)がそれぞれ異なった窒化物または炭窒化物で構成していることに特徴がある。これにより、下部皮膜層4内において硬度と弾性係数の異なる層が積層されることとなり、表面皮膜層5に作用する応力の緩和やクラック進展の抑制に効果を発揮すると推察される。また、第1層6、第2層7、第3層8の硬度と弾性係数が異なった状態で積層されても、相互に結晶粒の連続性を保った状態を維持することができ、各層間の密着性が高い状態を維持することができる効果も発揮する。下部皮膜層4を上記した3層の多層構成にすることにより、基材2と硬質皮膜層3との密着強度、第2層7と第3層8の耐クラック性、第3層の耐剥離性の効果を著しく発揮することが可能になる。  Furthermore, in the present invention, the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 are composed of nitrides or carbonitrides having different Ti (Cr) and Al contents (atomic ratios). There is a feature. As a result, layers having different hardness and elastic modulus are laminated in the lower coating layer 4, and it is presumed that the lower coating layer 4 is effective in relaxing stress acting on the surface coating layer 5 and suppressing crack progress. In addition, even when the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 are laminated with different hardness and elastic modulus, the state in which the continuity of crystal grains can be maintained can be maintained. An effect of maintaining a state of high adhesion between layers is also exhibited. By making the lower coating layer 4 into the above-mentioned multi-layer structure, the adhesion strength between the substrate 2 and the hard coating layer 3, the crack resistance of the second layer 7 and the third layer 8, and the peeling resistance of the third layer The effect of sex can be remarkably exhibited.

下部皮膜層4を第1層6、第2層7、第3層8の3層で構成する場合、その最適な膜厚は、下部皮膜層4の総膜厚を2〜6μm、第1層6を1〜3μm、第2層7を1〜2μm、第3層8を0.1〜2μmにすることが好ましく、膜厚をこれらの範囲に成膜すれば、表面皮膜層5の耐クラック性、及び耐剥離性と硬質皮膜層3の耐摩耗性が最大となる。  When the lower coating layer 4 is composed of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8, the optimum film thickness is that the total thickness of the lower coating layer 4 is 2 to 6 μm, the first layer 6 is preferably 1 to 3 μm, the second layer 7 is preferably 1 to 2 μm, and the third layer 8 is preferably 0.1 to 2 μm. If the film thickness is within these ranges, the surface coating layer 5 is resistant to cracks. And the abrasion resistance of the hard coating layer 3 are maximized.

下部皮膜層4に形成した第1層6、第2層7、第3層8の組成は、前記した下部皮膜層4の組成である、
TiCrAl(C)(ただし、a、b、c、u、vは、それぞれTi、Cr、Al、C、Nの原子比を示す)で表され、
前記a、b、c、u、vは下記の条件:
0<a≦0.6、0<b≦0.3、0.3<c<0.7、0≦u≦0.5、
0<v≦1、a+b+c=1、u+v=1、
を満たしているが、さらに、下記の条件を満たすように設定することが好ましい。
すなわち、第1層のTi、Cr、Alの原子比をa1、b1、c1、第2層のTi、Cr、Alの原子比をa2、b2、c2、第3層のTi、Cr、Alの原子比をa3、b3、c3としたときに、
a1>a2>a3、
b3>b2>b1、
c3>c2>c1、
を満たすように設定することが望ましい。
The composition of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 formed on the lower coating layer 4 is the composition of the lower coating layer 4 described above.
Ti a Cr b Al c (C u N v ) (where a, b, c, u, v represent atomic ratios of Ti, Cr, Al, C, N, respectively),
Said a, b, c, u, v are the following conditions:
0 <a ≦ 0.6, 0 <b ≦ 0.3, 0.3 <c <0.7, 0 ≦ u ≦ 0.5,
0 <v ≦ 1, a + b + c = 1, u + v = 1,
However, it is preferable to set so as to satisfy the following conditions.
That is, the atomic ratio of Ti, Cr, Al of the first layer is a1, b1, c1, the atomic ratio of Ti, Cr, Al of the second layer is a2, b2, c2, the Ti, Cr, Al of the third layer. When the atomic ratio is a3, b3, c3,
a1>a2> a3,
b3>b2> b1,
c3>c2> c1,
It is desirable to set so as to satisfy.

第1層6、第2層7、第3層8の各元素の原子比が上記の条件を満たすように、下部皮膜層4を3層の多層構造から構成することにより、前記した各層に期待する効果がそれぞれ発揮されることになる。
なお、各層におけるTi、Cr、Alの組成は、上記したように、第1層のTiの原子比を他の層より高く設定し、第3層8のCrとAlの原子比を他の層より高く設定し、さらに、第2層7のTi、Cr、Alの原子比は、ともに第1層6と第3層8の原子比の中間となる値に設定することで、下部皮膜層4を第1層6、第2層7、第3層8の結晶粒が連続した状態となり、各層がそれぞれ密着性の高い状態が維持され、また硬度と弾性係数が表面皮膜層5に向かって連続的に傾斜する構造となり、表面皮膜層5の耐クラック性と耐剥離性を発揮することになる。
By forming the lower coating layer 4 from a three-layered structure so that the atomic ratios of the elements of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 satisfy the above-described conditions, each layer is expected to Each effect will be demonstrated.
The composition of Ti, Cr, and Al in each layer is set such that the Ti atomic ratio of the first layer is set higher than that of the other layers, and the atomic ratio of Cr and Al of the third layer 8 is set to the other layers as described above. By setting the atomic ratio of Ti, Cr, Al of the second layer 7 to a value that is intermediate between the atomic ratios of the first layer 6 and the third layer 8, the lower coating layer 4 The crystal grains of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 are in a continuous state, each of the layers is maintained in a highly adhesive state, and the hardness and elastic modulus are continuous toward the surface coating layer 5. Therefore, the surface coating layer 5 exhibits crack resistance and peeling resistance.

上記した第1層6について、より好ましいTi、Cr、Alの原子比は、0.5≦a10.6、0<b1≦0.1、0.3<c1≦0.5であり、第3層8のTi、Cr、Alの原子比は、0<a3<0.5、0.1<b3≦0.3、0.5<c3<0.7であり、第2層7は第1層6と第3層8の略中間組成比にすることである。  For the first layer 6 described above, more preferable atomic ratios of Ti, Cr, and Al are 0.5 ≦ a10.6, 0 <b1 ≦ 0.1, and 0.3 <c1 ≦ 0.5. The atomic ratio of Ti, Cr, and Al in the layer 8 is 0 <a3 <0.5, 0.1 <b3 ≦ 0.3, 0.5 <c3 <0.7, and the second layer 7 is the first The intermediate composition ratio between the layer 6 and the third layer 8 is set.

図2に示す第2の実施形態は、下部皮膜層4を3つの皮膜層からなる第1層6、第2層7、第3層8から構成した例を示しているが、下部皮膜層4を、上記した組成と条件を満足する、2つ、4つ、もしくは5つの皮膜層からなる多層の皮膜層(第1層、第2層、又は第1層、第2層、第3層、第4層、・・・)から構成してもよい。このように、下部皮膜層4を組成が異なる少なくとも2層以上の多層構造にすることにより、基材2と硬質皮膜層3との密着強度、耐クラック性、及び耐剥離効果を強く発揮することが可能になる。本発明においては、下部皮膜層4を多層構造で構成する場合には、3層(前記した第1層、第2層、第3層)から構成するのが最も好ましい。この理由は、次の通りである。  The second embodiment shown in FIG. 2 shows an example in which the lower coating layer 4 is composed of a first layer 6, a second layer 7, and a third layer 8 composed of three coating layers. A multilayer coating layer consisting of two, four or five coating layers satisfying the above composition and conditions (first layer, second layer, or first layer, second layer, third layer, You may comprise from a 4th layer, ...). In this way, the lower coating layer 4 has a multilayer structure of at least two layers having different compositions, so that the adhesion strength between the substrate 2 and the hard coating layer 3, crack resistance, and peeling resistance are strongly exhibited. Is possible. In the present invention, when the lower coating layer 4 has a multilayer structure, it is most preferably composed of three layers (the first layer, the second layer, and the third layer described above). The reason for this is as follows.

本発明は、下部皮膜層4によって表面皮膜層5の耐クラック性と耐剥離性を最大限に発揮させ、硬質皮膜層3が優れた耐摩耗性を発揮するものである。そのために、下部皮膜層4に少なくとも3つの機能を持たせることが特に重要である。
その第1の機能は、基材2との密着性を確保する機能であって、この機能は第1層6が有している。第2の機能は、表面皮膜層5と下部皮膜層4との密着性を確保する機能であって、この機能は第3層8が有している。そして、第3の機能は、第1層6と第3層8の特性と各層(第1層6〜第3層8)を密着性が高い状態で連結する機能であって、この機能を第2層7が有している。これにより、下部皮膜層4の多層構造は3つの皮膜層、すなわち、第1層6、第2層7、第3層8から構成するのが最も好ましい。この3つの機能を有した下部皮膜層4が表面皮膜層5の耐クラック性と耐剥離性を最大限に高めることになる。
In the present invention, the lower coating layer 4 maximizes the crack resistance and peel resistance of the surface coating layer 5, and the hard coating layer 3 exhibits excellent wear resistance. Therefore, it is particularly important that the lower coating layer 4 has at least three functions.
The first function is a function of ensuring adhesion with the base material 2, and this function is included in the first layer 6. The second function is a function of ensuring adhesion between the surface coating layer 5 and the lower coating layer 4, and the third layer 8 has this function. The third function is a function of connecting the characteristics of the first layer 6 and the third layer 8 and each layer (the first layer 6 to the third layer 8) with high adhesion. Two layers 7 have. Thus, the multilayer structure of the lower coating layer 4 is most preferably composed of three coating layers, that is, the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8. The lower coating layer 4 having these three functions maximizes the crack resistance and peeling resistance of the surface coating layer 5.

なお、多層構造とした下部皮膜層4を2つの皮膜層、すなわち基材2側から第1層と第2層から構成した場合に、第1層のTi、Cr、Alの原子比をa1、b1、c1、第2層のTi、Cr、Alの原子比をa2、b2、c2としたときに、
a1>a2、
b2>b1、
c2>c1、
を満たすように設定する。
When the lower coating layer 4 having a multilayer structure is composed of two coating layers, that is, the first layer and the second layer from the substrate 2 side, the atomic ratio of Ti, Cr, Al of the first layer is a1, When the atomic ratio of b1, c1, and Ti, Cr, Al of the second layer is a2, b2, c2,
a1> a2,
b2> b1,
c2> c1,
Set to satisfy.

なお、図2に示す第2の実施形態においては、基材2の表面の直上に下地皮膜層4を成膜した例を示しているが、基材2の表面と下部皮膜層4との間に他の皮膜層、例えば、Ti、Cr、Alから選択される1種以上の窒化物又は炭窒化物を含む皮膜層を成膜してもよい。  In the second embodiment shown in FIG. 2, an example in which the base coating layer 4 is formed immediately above the surface of the base material 2 is shown, but the surface between the surface of the base material 2 and the lower coating layer 4 is shown. In addition, another film layer, for example, a film layer containing one or more nitrides or carbonitrides selected from Ti, Cr, and Al may be formed.

[硬質皮膜層の第3の実施形態]
続いて、硬質皮膜層3の第3の実施形態を、図3を参照して説明する。第3の実施形態は、図2に示す第2の実施形態と比較してより好ましい実施形態となる。
第3の実施形態は、図2に示す第2の実施形態の下部皮膜層4が備えている第2層7を、組成が異なるD層7aとF層7bからなる2つの皮膜層を、少なくとも交互に2つ以上積層した積層構造にするとともに、D層7aとF層7bの各皮膜層(単一層)の膜厚を0.02μm未満としたことに特徴がある。
[Third embodiment of hard coating layer]
Next, a third embodiment of the hard coating layer 3 will be described with reference to FIG. The third embodiment is a more preferable embodiment compared to the second embodiment shown in FIG.
In the third embodiment, the second layer 7 included in the lower coating layer 4 of the second embodiment shown in FIG. 2 is replaced with at least two coating layers composed of the D layer 7a and the F layer 7b having different compositions. It is characterized by having a laminated structure in which two or more layers are alternately laminated, and the film thickness (single layer) of each of the D layers 7a and F layers 7b is less than 0.02 μm.

図3に示すように、硬質皮膜層3の第3の実施形態においては、下部皮膜層4が備えている第2層7を、組成が異なるD層7aとF層7bからなる2層を一対として、少なくともD層7aとF層7bを交互に2つ以上積層した積層構成にしている。
このように第2層7を、D層7aとF層7bを交互に2つ以上積層した構成にすることにより、第1層6と第3層8の結晶粒の連続性がさらに高い状態となり、各層がそれぞれ密着性の高い状態が維持され、また硬度と弾性係数が表面皮膜層5に向かって連続的に傾斜する構造でありながら、D層7aとF層7bの交互積層による接合界面の増加によって、表面皮膜層5の応力緩和とクラック進展を抑制する効果がより高くなる。これにより、表面皮膜層5の耐クラック性と耐剥離性を発揮させることになる。その結果として、下部皮膜層4の第2層7の耐クラック性と耐摩耗性を高め、硬質皮膜層3全体の耐剥離性と耐クラック性を高める効果を発揮することが可能になる。この第3の実施形態は、本発明の被覆冷間用金型1において最適な実施形態になる。
As shown in FIG. 3, in the third embodiment of the hard coating layer 3, the second layer 7 included in the lower coating layer 4 is a pair of two layers composed of a D layer 7a and an F layer 7b having different compositions. As described above, at least two D layers 7a and two F layers 7b are alternately stacked.
As described above, the second layer 7 has a structure in which two or more D layers 7a and F layers 7b are alternately stacked, so that the continuity of crystal grains of the first layer 6 and the third layer 8 is further increased. Each layer is maintained in a state of high adhesion, and the hardness and elastic coefficient are continuously inclined toward the surface coating layer 5, while the bonding interface of the D layers 7a and F layers 7b is alternately laminated. By the increase, the effect of suppressing stress relaxation and crack propagation of the surface coating layer 5 becomes higher. Thereby, the crack resistance and peeling resistance of the surface coating layer 5 are exhibited. As a result, it is possible to increase the crack resistance and wear resistance of the second layer 7 of the lower coating layer 4 and to exert the effect of improving the peeling resistance and crack resistance of the entire hard coating layer 3. This third embodiment is an optimum embodiment in the coated cold mold 1 of the present invention.

なお、D層7aとF層7bの膜厚のそれぞれが0.02μm以上になるように形成すると、D層7aとF層7bの交互積層による接合界面の増加による表面皮膜層5の応力緩和とクラック進展を抑制する効果が見られなくなり、第2層7の耐クラック性と耐摩耗性、硬質皮膜層3の耐剥離性と耐クラック性の改善効果が乏しくなるので、D層7aとF層7bのそれぞれの膜厚は0.02μm未満になるように設定することが望ましい。  If the D layer 7a and the F layer 7b are formed to have a thickness of 0.02 μm or more, stress relaxation of the surface coating layer 5 due to an increase in the bonding interface due to the alternate lamination of the D layer 7a and the F layer 7b Since the effect of suppressing crack growth is not seen, and the crack resistance and wear resistance of the second layer 7 and the effect of improving the peel resistance and crack resistance of the hard coating layer 3 are poor, the D layer 7a and the F layer It is desirable to set each film thickness of 7b to be less than 0.02 μm.

(D層とF層の組成と膜厚)
続いて、第2層7において積層構成をなすD層7aとF層7bの組成について説明する。D層7aのTi、Cr、Alの原子比をそれぞれa(D)、b(D)、c(D)、F層7bのTi、Cr、Alの原子比をそれぞれa(F)、b(F)、c(F)としたときに、D層7aとF層7bの組成(原子比)は、
a(D)>a(F)、
を満たすようにする、つまり、D層7aはF層7bよりもTi含有量を多くするとともに、D層7aを第1層6側に成膜することが望ましい。この理由は、D層7aを第1層6側と接するように成膜すると、a(D)>a(F)にしていることにより、第1層6とD層7aとの密着性が向上すると考えられるからである。但し、D層7aと第1層6が略同一組成となる場合は、第1層6とD層7aが区別できないため、F層7bが第1層6側に成膜することになる。
さらに、D層7aのCrとAlの含有量(原子比)はF層7bよりも少ない組成を有する構造、すなわち、
b(F)>b(D)、
c(F)>c(D)、
を満たすようにすることが好ましい。D層7aとF層7bの組成を、
a(D)>a(F)、かつ、
b(F)>b(D)、
c(F)>c(D)、
に設定することにより、第2層7の耐クラック性と耐摩耗性、及び硬質皮膜層3の耐剥離性と耐クラック性をより高くすることが可能になる。特に、D層7aとF層7bからなる積層構造を、冷間用金型の硬質皮膜層3に適用した場合には、金型の耐久性を向上させるための最適な硬質皮膜になる。
(Composition and film thickness of D layer and F layer)
Next, the composition of the D layer 7a and the F layer 7b that form a stacked structure in the second layer 7 will be described. The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the D layer 7a are a (D), b (D), and c (D), respectively. The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the F layer 7b are respectively a (F) and b ( F) and c (F), the composition (atomic ratio) of D layer 7a and F layer 7b is
a (D)> a (F),
In other words, it is desirable that the D layer 7a has a Ti content larger than that of the F layer 7b, and the D layer 7a is formed on the first layer 6 side. This is because, when the D layer 7a is formed so as to be in contact with the first layer 6, the adhesion between the first layer 6 and the D layer 7a is improved by setting a (D)> a (F). This is because it is considered. However, if the D layer 7a and the first layer 6 have substantially the same composition, the F layer 7b is formed on the first layer 6 side because the first layer 6 and the D layer 7a cannot be distinguished.
Furthermore, the structure (atomic ratio) of Cr and Al in the D layer 7a has a composition smaller than that of the F layer 7b, that is,
b (F)> b (D),
c (F)> c (D),
It is preferable to satisfy. The composition of the D layer 7a and the F layer 7b is
a (D)> a (F) and
b (F)> b (D),
c (F)> c (D),
By setting to, it becomes possible to further increase the crack resistance and wear resistance of the second layer 7 and the peel resistance and crack resistance of the hard coating layer 3. In particular, when a laminated structure composed of the D layer 7a and the F layer 7b is applied to the hard coating layer 3 of the cold mold, an optimum hard coating for improving the durability of the mold is obtained.

第3の実施形態においては、上記したようにD層7aとF層7bの各層の厚みを0.02μm未満に設定しているが、さらに、D層7aの単一(単一層)の膜厚は、F層7bの単一(単一層)の膜厚と同じか、もしくは厚くなるように構成することにより、第2層7の靭性が向上し、表面皮膜層5の応力緩和とクラック進展を抑制する効果が一段と高くなり、冷間用金型の耐久性をより一層向上させることが可能になる。
なお、第2層7において、D層7aとF層7bを積層させて成膜する順序、すなわち、第1層6と接する側および第3層8と接する側にD層7aとF層7bのいずれを配置するかについては、上記ではD層7aを第1層6側と接するように成膜することが好ましいと記載したが、必ずしもこの順序に限定されない。D層7a及びF層7bの膜厚は、透過型電子顕微鏡による断面観察によって測定することができる。
In the third embodiment, as described above, the thickness of each layer of the D layer 7a and the F layer 7b is set to be less than 0.02 μm, but the film thickness of a single (single layer) of the D layer 7a is further set. Is the same or thicker than the single (single layer) film thickness of the F layer 7b, so that the toughness of the second layer 7 is improved and the stress relaxation and crack propagation of the surface coating layer 5 are improved. The suppression effect is further enhanced, and the durability of the cold mold can be further improved.
In the second layer 7, the D layer 7 a and the F layer 7 b are stacked to form a film, that is, on the side in contact with the first layer 6 and the side in contact with the third layer 8. As to which one is arranged, it has been described above that it is preferable to form the D layer 7a so as to be in contact with the first layer 6 side, but this is not necessarily limited to this order. The film thicknesses of the D layer 7a and the F layer 7b can be measured by cross-sectional observation with a transmission electron microscope.

上記した硬質皮膜層3の第3の実施形態においては、下部被覆層4を多層構造となる第1層6、第2層7、第3層8の3層から構成するとともに、第2層7をD層7aとF層7bを交互に積層させた積層構造にする例について説明した。本発明においては、前記硬質皮膜層の第2の実施形態で説明したように、下部被覆層4を2層(第1層と第2層)からなる多層構成とした場合には、この第2層の皮膜層を上記したD層7aとF層7bを交互に積層させた積層構造にしてもよい。
なお、図3に示す第3の実施形態においては、基材2の表面の直上に下地皮膜層4を成膜した例を示しているが、基材2の表面と下部皮膜層4との間に前記した他の皮膜層(Ti、Cr、Alから選択される1種以上の窒化物又は炭窒化物を含む皮膜層)を成膜してもよい。
In the third embodiment of the hard coating layer 3 described above, the lower coating layer 4 is composed of three layers of a first layer 6, a second layer 7, and a third layer 8 having a multilayer structure, and the second layer 7 In the above description, the example in which the D layer 7a and the F layer 7b are alternately stacked has been described. In the present invention, as described in the second embodiment of the hard coating layer, when the lower coating layer 4 has a multilayer structure composed of two layers (a first layer and a second layer), the second coating layer 2 is formed. The film layer may be a laminated structure in which the D layer 7a and the F layer 7b are alternately laminated.
In the third embodiment shown in FIG. 3, an example in which the base coating layer 4 is formed immediately above the surface of the substrate 2 is shown, but the surface between the surface of the substrate 2 and the lower coating layer 4 is shown. In addition, another film layer (a film layer containing one or more nitrides or carbonitrides selected from Ti, Cr, and Al) may be formed.

[表面皮膜層]
続いて、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層5の構成について説明する。
Ti及びSiの窒化物又は炭窒化物は硬度が高く靭性に乏しい特性を有しているが、本発明においては、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4の上(直上)に表面皮膜層5を形成することにより、冷間用金型に形成した硬質皮膜層3の耐剥離性と耐クラック性を格段に向上させ、剥離やクラックによる異常摩耗を抑制することを可能にしている。すなわち、表面皮膜層5は冷間用金型に優れた耐摩耗性を保持させることを可能にしている。表面皮膜層5の膜厚は、0.5μm〜5μmの範囲になるように成膜すればよい。
なお、Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層5において、Ti、Siの原子比は、表面皮膜層5の硬度と耐摩耗性を考慮すると、Siの原子比はTiとSiの合計の原子比に対して10〜20%の範囲に設定することが好ましい。
[Surface coating layer]
Next, the configuration of the surface coating layer 5 made of Ti or Si nitride or carbonitride will be described.
Ti and Si nitrides or carbonitrides have characteristics of high hardness and poor toughness, but in the present invention, the upper film layer 4 made of Ti, Cr, Al nitride or carbonitride is used. By forming the surface coating layer 5 (directly above), the peel resistance and crack resistance of the hard coating layer 3 formed on the cold mold are greatly improved, and abnormal wear due to peeling and cracking is suppressed. Is possible. That is, the surface film layer 5 makes it possible to maintain excellent wear resistance in the cold mold. What is necessary is just to form into a film so that the film thickness of the surface membrane | film | coat layer 5 may be set to the range of 0.5 micrometer-5 micrometers.
In the surface coating layer 5 made of Ti or Si nitride or carbonitride, the atomic ratio of Ti and Si is determined by considering the hardness and wear resistance of the surface coating layer 5 and the atomic ratio of Si is Ti and Si. The total atomic ratio is preferably set in the range of 10 to 20%.

[冷間用金型の実施形態]
続いて、上記した硬質皮膜層3を被覆した本発明に係る被覆冷間用金型の実施形態について説明する。冷間用金型のうち、特に過酷な環境で使用される冷間鍛造用金型は、閉鎖域(塑性加工時に余肉を逃す場所がない)で、しかも高速(毎分50ショット以上)で金型の基材2に対して引張応力と圧縮応力を繰り返して与えることから、他用途の金型に比べて、金型表面に微細なクラックが発生し易い。
そのため、金型表面に成膜した硬質皮膜層には、特に、繰返し応力に対する耐クラック性が要求され、同時に耐摩耗性も要求される。このような過酷な用途の冷間鍛造用金型に対して、前記した硬質皮膜層3を被覆した本発明の冷間用金型は、格段に金型の耐久性を向上させることが可能になる。なかでも、各種の冷間鍛造用金型のうち、後方押出成形に使用される金型、特に、パンチやダイスに上記した硬質皮膜層3を被覆することで、冷間用金型の耐久性の向上、すなわち、金型寿命の向上がより顕著になる。
以下、本発明に係る被覆冷間用金型の実施形態として、冷間鍛造用金型として用いられるパンチとダイスを例にして説明する。
[Embodiment of cold mold]
Subsequently, an embodiment of a coated cold mold according to the present invention coated with the hard coating layer 3 described above will be described. Among the cold molds, the cold forging molds used in particularly harsh environments are in a closed area (there is no place to escape surplus during plastic processing) and at high speed (more than 50 shots per minute) Since tensile stress and compressive stress are repeatedly applied to the mold base 2, fine cracks are likely to occur on the mold surface as compared with molds for other uses.
Therefore, the hard coating layer formed on the mold surface is particularly required to have crack resistance against repeated stress, and at the same time, wear resistance is also required. Compared to such a cold forging die for severe use, the cold die of the present invention coated with the hard coating layer 3 described above can remarkably improve the durability of the die. Become. Among them, among various types of cold forging dies, the durability of the cold dies can be obtained by covering the dies used for backward extrusion molding, in particular, punches and dies with the hard coating layer 3 described above. Improvement, that is, improvement of mold life becomes more remarkable.
Hereinafter, as an embodiment of a coated cold mold according to the present invention, a punch and a die used as a cold forging mold will be described as an example.

図4は、冷間鍛造用金型の一例としてパンチの平面図を示している。図4に示すパンチ20は略円柱形状をなしている。略円柱形状をなすパンチ20は、冷間鍛造装置に把持させるための把持部21、機能部22、機能部22の端面となる上端部23を備えている。パンチ20の長手(軸)方向に対して機能部22は長さL1を有し、把持部21は同じく長さL2を有している。上端部23を含む機能部22は、被加工物に対して塑性加工による冷間鍛造に寄与する箇所になるので、鏡面磨きがなされている。本発明に係る冷間鍛造用金型においては、機能部22(冷間鍛造用金型の基材となる部分)の表面に上記した硬質皮膜層3が被覆(形成)される。  FIG. 4 shows a plan view of a punch as an example of a cold forging die. The punch 20 shown in FIG. 4 has a substantially cylindrical shape. The punch 20 having a substantially cylindrical shape is provided with a gripping part 21 for allowing a cold forging device to grip, a function part 22, and an upper end part 23 serving as an end surface of the function part 22. The functional part 22 has a length L1 with respect to the longitudinal (axial) direction of the punch 20, and the gripping part 21 has a length L2. Since the functional part 22 including the upper end part 23 is a part that contributes to cold forging by plastic working on the work piece, mirror polishing is performed. In the cold forging die according to the present invention, the hard coating layer 3 described above is coated (formed) on the surface of the functional portion 22 (the portion serving as the base material of the cold forging die).

図5は、図4に示しているパンチ20の上端部23を含む先端部分の拡大部分図であって、パンチ20の長手方向の上側部分の一部を示している。図5に示しているように、パンチ20の先端部分は、上端部23、ベアリング部24、径縮小部25、逃げ部26から構成されている。ベアリング部24から逃げ部26にかけては、逃し角αの勾配でパンチ20の径を減少させた径縮小部25を設け、その一方の端部(頂点)である逃し稜線部27において径縮小部25はベアリング部24と一体に繋がった構成になっている。  FIG. 5 is an enlarged partial view of the tip portion including the upper end portion 23 of the punch 20 shown in FIG. 4 and shows a part of the upper portion of the punch 20 in the longitudinal direction. As shown in FIG. 5, the tip portion of the punch 20 includes an upper end portion 23, a bearing portion 24, a diameter reducing portion 25, and a relief portion 26. From the bearing portion 24 to the relief portion 26, a diameter reduction portion 25 in which the diameter of the punch 20 is reduced with a gradient of the relief angle α is provided, and the diameter reduction portion 25 is provided at the relief ridge line portion 27 which is one end (vertex) thereof. Is configured to be integrally connected to the bearing portion 24.

また、上端部23は、パンチ20の長手方向と直交する平面に対して先端角βの勾配をもって上端部23の中心部方向に緩やかに傾斜する円錐形状をなす面を備えている。そして、この円錐形状面をなす上端部23のベアリング部24側の外周縁部は、全周にわたって円弧形状面をなす円弧形状面部28が形成され、この円弧形状面部28はベアリング部24と一体に繋がっている。なお、ベアリング部24と径縮小部25、径縮小部25と逃げ部26の繋ぎ部は、図示していないがそれぞれ滑らかな微小な円弧形状で連結させても良い。
上記したパンチ20において、先端角βは0°、すなわち、上端部23の端面は平面形状をなす面を備えている構成としてもよい。この場合においても、上端部23の外周縁部は、全周にわたって円弧形状面部28を設けるようにする。
Further, the upper end portion 23 has a conical surface that is gently inclined in the direction of the center portion of the upper end portion 23 with a gradient of the tip angle β with respect to a plane orthogonal to the longitudinal direction of the punch 20. The outer peripheral edge portion of the upper end portion 23 that forms the conical surface on the bearing portion 24 side is formed with an arc-shaped surface portion 28 that forms an arc-shaped surface over the entire circumference, and the arc-shaped surface portion 28 is integrated with the bearing portion 24. It is connected. In addition, although the bearing part 24 and the diameter reduction part 25, and the connection part of the diameter reduction part 25 and the escape part 26 are not shown in figure, you may connect with a smooth minute circular arc shape, respectively.
In the punch 20 described above, the tip angle β may be 0 °, that is, the end surface of the upper end portion 23 may have a planar surface. Even in this case, the outer peripheral edge portion of the upper end portion 23 is provided with the arc-shaped surface portion 28 over the entire circumference.

上記パンチ20において、円弧形状面部28の円弧半径は1mm以下に設定することが望ましい。この理由は、円弧形状面部28の円弧半径を1mm以下とすることで、パンチ20に形成した硬質層皮膜層3に対する耐クラック性と耐摩耗性のバランスが最適になると考えられるからである。これに対して、円弧形状面部28の円弧半径が1mmを超えるような、比較的に摺動抵抗が高くなるようにすると、冷間鍛造時において、円弧形状面部28、またはその近傍の硬質層皮膜層3を起点とした異常摩耗が生じ易くなる場合がある。  In the punch 20, the arc radius of the arc-shaped surface portion 28 is preferably set to 1 mm or less. This is because it is considered that the balance between the crack resistance and the wear resistance for the hard layer coating layer 3 formed on the punch 20 is optimized by setting the arc radius of the arc-shaped surface portion 28 to 1 mm or less. On the other hand, if the sliding resistance is relatively high such that the arc radius of the arc-shaped surface portion 28 exceeds 1 mm, the arc-shaped surface portion 28 or a hard layer coating in the vicinity thereof during cold forging. Abnormal wear may easily occur starting from the layer 3.

図6は、冷間鍛造用金型の一例としてダイスの断面図を示す。図6に示すダイス30は中空部を備えた略円筒形状をなしている。略円筒形状をなすダイス30は、機能部を有するニブ31と、ニブ31を保持するケース32から構成されている。図6に示す符号33は中空形状をなすニブ内周部を示している。ニブ内周部33が機能部35になり、鏡面磨きがなされている。被加工物に対して冷間鍛造を行うときには、このニブ内周部33の空間部34にパンチ20がショット動作として高速度で繰り返して挿入されて、被加工物の塑性加工が行われる。
ニブ31はケース32に圧入や焼嵌め等によって挿入される。ニブ31の基材の内周部33に鏡面加工を行った後、ニブ内周部33の表面に硬質皮膜層3が成膜される。なお、ニブ内周部33の形状は、それぞれ鍛造製品の形状に対応させた適切な形状を備えている。
FIG. 6 shows a sectional view of a die as an example of a cold forging die. The die 30 shown in FIG. 6 has a substantially cylindrical shape with a hollow portion. The substantially cylindrical die 30 is composed of a nib 31 having a functional part and a case 32 that holds the nib 31. The code | symbol 33 shown in FIG. 6 has shown the nib inner peripheral part which makes hollow shape. The nib inner peripheral part 33 becomes the function part 35, and mirror polishing is made. When cold forging is performed on the workpiece, the punch 20 is repeatedly inserted into the space 34 of the nib inner peripheral portion 33 as a shot operation at a high speed, and the workpiece is plastically processed.
The nib 31 is inserted into the case 32 by press fitting or shrink fitting. After the mirror processing is performed on the inner peripheral portion 33 of the base material of the nib 31, the hard coating layer 3 is formed on the surface of the nib inner peripheral portion 33. In addition, the shape of the nib inner peripheral part 33 has an appropriate shape corresponding to the shape of the forged product.

[冷間用金型への硬質皮膜層の成膜]
続いて、本発明の冷間用金型の一例である図4に示すパンチ20に、硬質皮膜層3を成膜する方法について説明する。パンチ20の機能部22の表面に硬質皮膜層3を成膜するときは、上端部23の膜厚がベアリング部24、径縮小部25、逃げ部26よりも厚くなるように硬質皮膜層3を成膜する。これにより、パンチ20の耐久性、特に上端部23の耐久性を一段と向上させることができる。例えば、逃げ部26に対する上端部23の膜厚比が1を超え2.5未満(上端部23の膜厚を逃げ部26の膜厚の1倍を超え、2.5倍未満)とすることで、最も優れた耐久性が得られる。
[Deposition of hard coating layer on cold mold]
Next, a method for forming the hard coating layer 3 on the punch 20 shown in FIG. 4 as an example of the cold mold according to the present invention will be described. When the hard coating layer 3 is formed on the surface of the functional portion 22 of the punch 20, the hard coating layer 3 is formed so that the film thickness of the upper end portion 23 is thicker than the bearing portion 24, the diameter reduction portion 25, and the relief portion 26. Form a film. Thereby, the durability of the punch 20, particularly the durability of the upper end 23 can be further improved. For example, the film thickness ratio of the upper end 23 to the relief 26 is more than 1 and less than 2.5 (the film thickness of the upper end 23 is more than 1 and less than 2.5 times the thickness of the relief 26). The most excellent durability can be obtained.

硬質皮膜層3をパンチ、ダイス等の金型へ成膜するときには、硬質皮膜層3を構成する各層の組成を正確に制御する必要がある。このため、硬質皮膜層3の成膜は、成膜装置のうち、固体の蒸発源を使用したアークイオンプレーティング法を用いることが最も好ましい。アークイオンプレーティング法は、ターゲットに含まれる各原子の蒸発時のイオン化率が高く、金型の基材に印加したバイアス電圧により緻密な皮膜を形成することができるからである。  When forming the hard coating layer 3 on a mold such as a punch or a die, it is necessary to accurately control the composition of each layer constituting the hard coating layer 3. For this reason, it is most preferable to use the arc ion plating method using a solid evaporation source in the film forming apparatus for forming the hard coating layer 3. This is because the arc ion plating method has a high ionization rate when each atom contained in the target is evaporated, and a dense film can be formed by a bias voltage applied to the base material of the mold.

パンチ、ダイスの基材の機能部上に硬質皮膜層3を形成するためには、まず前処理として、所定サイズのパンチ、ダイスの基材について超音波脱脂洗浄を実施する。次に、超音波脱脂洗浄済みの基材を成膜装置内の所定の位置に挿入して固定した後、この基材を400〜500℃の所定温度に保持して、アークイオンプレーティング法でパンチ、又はダイスの基材上に硬質皮膜層3を形成する。これにより、所定の組成と積層構造等を有する硬質皮膜層3を形成した冷間用金型のパンチ、ダイスを製造することができる。  In order to form the hard coating layer 3 on the functional part of the punch and die base material, ultrasonic degreasing cleaning is first performed on the punch and die base material of a predetermined size as a pretreatment. Next, after the ultrasonic degreasing and cleaning substrate is inserted and fixed at a predetermined position in the film forming apparatus, the substrate is held at a predetermined temperature of 400 to 500 ° C. and arc ion plating is performed. The hard coating layer 3 is formed on a punch or die substrate. As a result, it is possible to manufacture cold mold punches and dies in which the hard coating layer 3 having a predetermined composition and laminated structure is formed.

続いて、図7に示す成膜装置40を用いてパンチに硬質皮膜層3を成膜する手順の概要について説明する。成膜装置40のチャンバー(真空容器)41内に設けられているカソード42a、カソード42b、カソード42c、カソード42dに、各種合金、あるいは金属のターゲットを取り付け、さらに、回転する基材ステージ43上の図示していない支持台上に被処理体となるパンチの基材44を取り付ける。また、基材ステージ43に取り付けたパンチの基材44は、回転する基材ステージ43上でさらに回転する回転機構(図示せず)を備えた成膜装置40を用いて、いわゆる「自公転処理」機能を利用して成膜処理を行っても良い。  Next, an outline of a procedure for forming the hard coating layer 3 on the punch using the film forming apparatus 40 shown in FIG. 7 will be described. Various alloys or metal targets are attached to the cathode 42a, cathode 42b, cathode 42c, and cathode 42d provided in the chamber (vacuum vessel) 41 of the film forming apparatus 40, and further on the rotating substrate stage 43. A punch base material 44 to be processed is mounted on a support base (not shown). Further, the punch base material 44 attached to the base material stage 43 is a so-called “auto-revolution process” using a film forming apparatus 40 provided with a rotation mechanism (not shown) that further rotates on the base material stage 43 that rotates. ”Function may be used to perform the film forming process.

次に、チャンバー41内を真空引き(5×10−3Pa以下に排気)し、真空状態にする。続いて、基材ステージ43をR方向に回転させるとともに、チャンバー41内に設置されているヒータ(図示せず)を作動させてパンチの基材44の温度を約500℃に加熱して、フィラメントからの熱電子放出によるイオン源により、Arガスイオンによるエッチングを5分間程度実施する。
続いて、アーク電源装置45を作動させてそのアーク電流を150Aとし、全圧力3.2PaのNガス雰囲気にて、アーク式蒸発源による上記ターゲットを用いたアークイオンプレーティングにより、上記ターゲット成分の窒化物皮膜等をパンチの基材44の表面に成膜する。このとき、炭窒化物の皮膜を成膜する場合には、Nガスに加えて、炭素を含有するガスを加えた雰囲気中で、同様にアークイオンプレーティングにより上記ターゲット成分の炭窒化物皮膜を成膜する。図7に示す符号「46」は、バイアス電源装置である。
Next, the inside of the chamber 41 is evacuated (exhausted to 5 × 10 −3 Pa or less) to be in a vacuum state. Subsequently, the substrate stage 43 is rotated in the R direction, and a heater (not shown) installed in the chamber 41 is operated to heat the punch substrate 44 to a temperature of about 500 ° C. Etching with Ar gas ions is performed for about 5 minutes by an ion source by thermionic emission from the substrate.
Subsequently, the arc power source device 45 is operated to set the arc current to 150 A, and in the N 2 gas atmosphere with a total pressure of 3.2 Pa, the target component is obtained by arc ion plating using the target with an arc evaporation source. The nitride film or the like is formed on the surface of the punch base 44. At this time, in the case of forming a carbonitride film, the carbonitride film of the target component is similarly formed by arc ion plating in an atmosphere containing a gas containing carbon in addition to N 2 gas. Is deposited. Reference numeral “46” shown in FIG. 7 is a bias power supply device.

なお、複数のカソード42a、42b、42c、42dに異なる組成のターゲットを取り付け、回転する基材ステージ43の支持台上にパンチの基材44を載置して、成膜中にパンチの基材44を基材ステージ43とともに回転させることによって積層された硬質皮膜層を形成することができる。このとき、パンチの基材44は基材ステージ43の回転に伴い、異なる組成のターゲットを取り付けた蒸発源の前を交互に通過するときに、各々の蒸発源のターゲット組成に対応した皮膜が交互にパンチの基材44の表面に形成される。これにより、積層構造を備えた硬質皮膜層3を形成することが可能になる。  A target having a different composition is attached to a plurality of cathodes 42a, 42b, 42c, and 42d, and a punch base 44 is placed on a support base of a rotating base stage 43 so that the punch base is formed during film formation. The hard coating layer laminated | stacked can be formed by rotating 44 with the base-material stage 43. FIG. At this time, when the base material 44 of the punch alternately passes in front of the evaporation source to which the target having a different composition is attached in accordance with the rotation of the substrate stage 43, the coating corresponding to the target composition of each evaporation source is alternated. Are formed on the surface of the punch base 44. Thereby, it becomes possible to form the hard film layer 3 provided with the laminated structure.

また、硬質皮膜層3において、多層構造や積層構造を構成する各皮膜層などの膜厚は、パンチの基材44とターゲット表面間の距離、各蒸発源(アーク電源装置45)への投入電力、基材ステージ43の回転速度及び回転数の累計値、等に基づいて制御することができる。例えば、基材ステージ43の回転速度が速くなるように制御すると、基材ステージ43の1回転あたりの成膜される皮膜層の厚さは薄くなる。  Further, in the hard coating layer 3, the film thickness of each coating layer constituting a multilayer structure or a laminated structure is determined by the distance between the punch base 44 and the target surface and the input power to each evaporation source (arc power supply device 45). It is possible to control based on the rotational speed and the cumulative value of the rotational speed of the substrate stage 43, and the like. For example, when the rotation speed of the substrate stage 43 is controlled so as to increase, the thickness of the film layer formed per rotation of the substrate stage 43 is reduced.

パンチの基材44への成膜において、前記したパンチの上端部23の膜厚を、パンチの長手方向に向く周面(側面)となる逃げ部26等に対して厚くなる皮膜を形成する方法は、パンチの基材44がターゲットの前面を通過するときに、この上端部23をターゲット面に向けた姿勢になるようパンチの基材44を基材ステージ43に載置することにより可能になる。  A method of forming a film in which the film thickness of the upper end portion 23 of the punch is increased with respect to the relief portion 26 that is the peripheral surface (side surface) facing the longitudinal direction of the punch in film formation on the base material 44 of the punch. Is possible by placing the punch base material 44 on the base material stage 43 so that the upper end portion 23 faces the target surface when the punch base material 44 passes through the front surface of the target. .

上記した手順に基づいて硬質皮膜層3を被覆したパンチの基材44は、成膜時に不可避的に混入するドロップレットと呼ばれる金属粒子等の付着や、皮膜層の結晶粒径、パンチの基材44の凹凸によって、硬質皮膜層3の表面粗度は被覆前よりも悪化する。そのため、硬質皮膜層3を形成した後に、ダイヤモンド粒子等の硬質粒子を含有したバフ等で、硬質皮膜層3の表面をバフ研磨して所定の表面粗さを有する平滑化された硬質皮膜層3を得るようにする。これにより、硬質皮膜層3が形成されたパンチ20を製造することができる。上記した成膜手順に基づいて、パンチの基材44の表面に前記した多層構造又は積層構造を有する下部皮膜層4、及び表面皮膜層5を形成することができる。  The punch base material 44 coated with the hard coating layer 3 based on the above-described procedure is attached to metal particles called droplets inevitably mixed during film formation, the crystal grain size of the coating layer, and the punch base material. Due to the unevenness of 44, the surface roughness of the hard coating layer 3 is worse than before coating. Therefore, after the hard coating layer 3 is formed, the surface of the hard coating layer 3 is buffed with a buff containing hard particles such as diamond particles, and the smoothed hard coating layer 3 having a predetermined surface roughness is obtained. To get. Thereby, the punch 20 in which the hard coating layer 3 is formed can be manufactured. Based on the film formation procedure described above, the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 having the multilayer structure or the laminated structure described above can be formed on the surface of the punch base 44.

ダイスのニブ31のニブ内周面33(図8に示す52a1)に硬質皮膜層3を成膜する方法は、上記したパンチの基材44の成膜手順とほぼ同様の手順で行うことができる。すなわち、図9に示すように、ニブ52aの空間部(図6に示す空間部34)52cがカソードを通過するときに、この空間部34の開口部がカソードと対面するようにニブ52a(31)を基材ステージ43に取り付けるようにする。なお、図9は、成膜装置40でパンチの基材44とニブ52aとを同時に成膜する場合であって、成膜装置40の基材ステージ43にパンチの基材44とニブ52aとを取付けた例を示している。  The method of forming the hard coating layer 3 on the nib inner peripheral surface 33 (52a1 shown in FIG. 8) of the die nib 31 can be performed in substantially the same manner as the film forming procedure of the punch substrate 44 described above. . That is, as shown in FIG. 9, when the space part (space part 34 shown in FIG. 6) 52c of the nib 52a passes through the cathode, the nib 52a (31 is arranged so that the opening part of the space part 34 faces the cathode. ) Is attached to the substrate stage 43. FIG. 9 shows the case where the punch base 44 and the nib 52a are simultaneously formed by the film forming apparatus 40. The punch base 44 and the nib 52a are placed on the base stage 43 of the film forming apparatus 40. An example of attachment is shown.

以下、本発明に係る被覆冷間用金型の試作と耐久試験の実験を行った実施例と、その結果について説明する。この試作実験においては、24種の冷間鍛造用パンチと4種の冷間鍛造用ダイスを試作してその機能部の表面に硬質皮膜層を成膜(被覆)した。そして、硬質皮膜層を成膜した冷間鍛造用パンチとダイスについて、その耐久性となる金型寿命(鍛造寿命)を評価するために、試作した冷間鍛造用パンチとダイスのそれぞれについて、冷間鍛造により被加工物を繰り返して製造することにより鍛造寿命を評価する実験を行った。
試作したパンチの材質は、いずれも超硬合金製でCIS規格のVM30(CIS019D分類)を使用した。この超硬合金からなる素材に、研削及び切削加工を施して所定の形状を有するパンチの基材(以下、「パンチ基材」と記載する)を製作した。なお、このパンチ基材は、被加工物に対して冷間鍛造を行う時に被加工物との接触部となる機能部(図4に示す長さL1の機能部22)の表面を鏡面研磨し、機能部の表面粗さ(Ra)を0.02μm以下に、表面粗さ(Ry)を0.2μm以下にした。
Hereinafter, an example in which a trial manufacture of a coated cold mold according to the present invention and an experiment of an endurance test were performed and the results thereof will be described. In this prototype experiment, 24 types of cold forging punches and 4 types of cold forging dies were prototyped, and a hard coating layer was formed (coated) on the surface of the functional part. Then, in order to evaluate the die life (forging life) of the cold forging punch and die formed with the hard coating layer, the cold forging punch and the die that were prototyped were cooled. Experiments were conducted to evaluate the forging life by repeatedly producing workpieces by hot forging.
The prototype punches were made of cemented carbide and used CIS standard VM30 (CIS019D classification). A punch base material (hereinafter, referred to as “punch base material”) having a predetermined shape was manufactured by subjecting the material made of the cemented carbide to grinding and cutting. In this punch base material, the surface of the functional part (the functional part 22 having a length L1 shown in FIG. 4) that becomes a contact part with the work piece is subjected to mirror polishing when performing cold forging on the work piece. The surface roughness (Ra) of the functional part was set to 0.02 μm or less, and the surface roughness (Ry) was set to 0.2 μm or less.

試作したダイスのうち、ニブの材質は、いずれも超硬合金製でCIS規格のVC50(CIS019D分類)を使用した。そして、SKD61を48HRCに調質したケース内に焼嵌めによりニブを挿入し、一体になったダイスの基材に研削及び切削加工を施して、図6に示すような所定の形状を有するダイスの基材(以下、「ダイス基材」と記載する)を製作した。なお、このダイス基材は、鍛造成形時に被加工物との接触部(鍛造する被加工物との接触部)となるダイスの機能部35(図6に示すニブ内周部33)の表面を鏡面研磨し、機能部35の表面粗さ(Ra)を0.02μm以下に、表面粗さ(Ry)を0.2μm以下にした。  Among the prototype dies, the nibs were made of cemented carbide and used CIS standard VC50 (CIS019D classification). Then, a nib is inserted by shrink fitting into a case where SKD61 is tempered to 48 HRC, and grinding and cutting are performed on the base material of the integrated die to obtain a die having a predetermined shape as shown in FIG. A base material (hereinafter referred to as “die base material”) was manufactured. In addition, this die base material has the surface of the functional part 35 (nib inner peripheral part 33 shown in FIG. 6) which becomes a contact part (contact part with the workpiece to be forged) at the time of forging forming. Mirror polishing was performed to make the surface roughness (Ra) of the functional part 35 0.02 μm or less and the surface roughness (Ry) 0.2 μm or less.

試作した24種のパンチの形状は図4(図5)に示す通りとし、その具体的な形状に関する仕様は次の通りである。パンチ基材の先端部分の形状は、先端ベアリング部24の径を18.35mm、逃げ部26の径を18.15mm、円弧形状面部28の円弧半径を0.5mm、逃し角αを5°、先端部の先端角βを4°とし、ベアリング部24と径縮小部25とが滑らかに繋がった構成からなる仕様とした。
また、試作したダイス基材のニブ内周部33の内径部分の径を26.5mmとして、ストレートな内径形状を備えているようにした。
The shapes of the 24 types of prototype punches are as shown in FIG. 4 (FIG. 5), and the specifications regarding the specific shapes are as follows. The shape of the tip portion of the punch base is such that the diameter of the tip bearing portion 24 is 18.35 mm, the diameter of the relief portion 26 is 18.15 mm, the arc radius of the arc-shaped surface portion 28 is 0.5 mm, the relief angle α is 5 °, The tip angle β of the tip is 4 °, and the bearing portion 24 and the diameter reducing portion 25 are smoothly connected.
In addition, the diameter of the inner diameter portion of the nib inner peripheral portion 33 of the prototype die base was set to 26.5 mm so as to have a straight inner diameter shape.

上記仕様を有する24種のパンチ基材と4種のダイス基材について、その機能部の表面に複数のアーク蒸発源を有する成膜装置40を用いて、硬質皮膜層を成膜して試作パンチと試作ダイスを製造した。以下の説明において、パンチ基材とダイス基材、及び試作パンチと試作ダイスの各部位の名称と符号は、図1〜図6の説明で使用した名称と符号使用する場合がある。  For 24 types of punch base materials and 4 types of die base materials having the above-mentioned specifications, a hard coating layer is formed using a film forming apparatus 40 having a plurality of arc evaporation sources on the surface of the functional part, and a prototype punch is formed. And manufactured a prototype die. In the following description, the names and symbols used in the descriptions of FIGS. 1 to 6 may be used for the punch base material and the die base material, and the names and symbols of each part of the trial punch and the trial die.

(成膜実験1)
成膜実験1では、表1に示す試料番号1〜7の7種のパンチ基材に対して硬質被覆層3を構成する下部皮膜層4と表面皮膜層5を成膜した。この成膜実験1では、下部被覆層4は基本的な構成、すなわち、多層構造又は積層構造を有していない、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4を成膜した。
成膜装置40を用いて下部皮膜層4と表面皮膜層5を成膜する方法は、次の手順で実施した。下部皮膜層4と表面皮膜層5の組成となるターゲットを、成膜装置40のカソード42aおよびカソード42bに取り付けて、試作パンチ基材を載置した基材ステージ43をR方向に回転させた。そして、まず、下部皮膜層4のターゲット(カソード42a)のみ、前記した窒素ガス等を含む所定の雰囲気中で単独で放電させ、試作パンチ基材にバイアス電圧を−40V印加して、膜厚が4μmの下部皮膜層4を試作パンチ基材の表面に形成した。
(Film formation experiment 1)
In the film formation experiment 1, the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 constituting the hard coating layer 3 were formed on seven types of punch base materials of sample numbers 1 to 7 shown in Table 1. In this film-forming experiment 1, the lower coating layer 4 has a basic structure, that is, a lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al that does not have a multilayer structure or a laminated structure. Filmed.
The method of forming the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 using the film forming apparatus 40 was performed according to the following procedure. A target having the composition of the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 was attached to the cathode 42a and the cathode 42b of the film forming apparatus 40, and the substrate stage 43 on which the prototype punch substrate was placed was rotated in the R direction. First, only the target (cathode 42a) of the lower coating layer 4 is discharged alone in a predetermined atmosphere containing the nitrogen gas and the like, and a bias voltage of −40 V is applied to the prototype punch base material so that the film thickness is increased. A 4 μm lower film layer 4 was formed on the surface of the prototype punch substrate.

次に、表面皮膜層5の組成となるターゲット(カソード42b)を窒素ガスの雰囲気中で放電させ、パンチ基材にバイアス電圧を−40V印加して、下部皮膜層4の上に膜厚が2μmの表面皮膜層5を形成した。このとき、7種の全試料番号について表面皮膜層5のTiとSiの原子比率はTi/Si=85/15とし、試料番号4以外は、TiとSiの窒化物からなる皮膜層を成膜した。
なお、パンチ基材に成膜した膜厚はベアリング部24の膜厚とした。成膜処理が完了したパンチ基材は、基材の温度が200℃以下となった後にチャバー41から取り出した。成膜実験1は、試料番号1〜7のパンチ基材に下部皮膜層4を1層からなる皮膜層として成膜し、この下部皮膜層4の直上に表面皮膜層5を成膜している。この成膜実験1で成膜した下部皮膜層4の組成と膜厚を表1に、表面皮膜層5の組成と膜厚を表2に示している。
Next, the target (cathode 42b) having the composition of the surface film layer 5 is discharged in an atmosphere of nitrogen gas, a bias voltage of -40V is applied to the punch base material, and the film thickness is 2 μm on the lower film layer 4. The surface film layer 5 was formed. At this time, the Ti / Si atomic ratio of the surface coating layer 5 is set to Ti / Si = 85/15 for all seven sample numbers, and a coating layer made of a nitride of Ti and Si is formed except for the sample number 4. did.
The film thickness formed on the punch base material was the film thickness of the bearing portion 24. The punch base material for which the film formation process was completed was taken out from the chaber 41 after the temperature of the base material reached 200 ° C. or lower. In the film formation experiment 1, the lower film layer 4 is formed as a single film layer on the punch base materials of sample numbers 1 to 7, and the surface film layer 5 is formed immediately above the lower film layer 4. . Table 1 shows the composition and film thickness of the lower film layer 4 formed in the film formation experiment 1 and Table 2 shows the composition and film thickness of the surface film layer 5.

表2には表面皮膜層5の組成と膜厚を全試料番号となる試料番号1〜24ごとに示しているが、このうち、試料番号1〜7が成膜実験1に該当する7種の試作パンチになる。表2に示す「d」はSiの原子比を示し、a+d=1、u+v=1になる。また、表1、表2の試料番号の欄には、試作パンチの試料番号が本発明例に該当するか比較例に該当するかも表示している。表2に示す試料番号1〜4は、Ti、Cr、Alの原子比a、b、cは前記した下部皮膜層4の組成の一般式を満足し、原子比a、b、c、u、vについては、
0<a≦0.6、
0<b≦0.3、
0.3<c<0.7、
0≦u≦0.5、
0<v≦1、
a+b+c=1、
u+v=1、
の条件を満たしているので本発明例に相当する。試料番号5〜6は、下部皮膜層4にTi、Cr、Alの3種の元素の全てを含んでいない比較例である。なお、後記するが表2〜表5に記載の試料番号欄にも本発明例に該当するか比較例に該当するかを表示している。
Table 2 shows the composition and film thickness of the surface coating layer 5 for each of the sample numbers 1 to 24, which are all sample numbers. Among these, the sample numbers 1 to 7 are the seven types corresponding to the film formation experiment 1. Become a prototype punch. “D” shown in Table 2 indicates the atomic ratio of Si, and a + d = 1 and u + v = 1. In the sample number column of Tables 1 and 2, it is also displayed whether the sample number of the trial punch corresponds to the present invention example or the comparative example. In sample numbers 1 to 4 shown in Table 2, the atomic ratios a, b, and c of Ti, Cr, and Al satisfy the general formula of the composition of the lower coating layer 4, and the atomic ratios a, b, c, u, For v
0 <a ≦ 0.6,
0 <b ≦ 0.3,
0.3 <c <0.7,
0 ≦ u ≦ 0.5,
0 <v ≦ 1,
a + b + c = 1,
u + v = 1,
Since this condition is satisfied, it corresponds to an example of the present invention. Sample numbers 5 to 6 are comparative examples in which the lower coating layer 4 does not contain all three elements of Ti, Cr, and Al. In addition, although it mentions later, the sample number column of Table 2-Table 5 also displays whether it corresponds to the example of this invention, or it corresponds to a comparative example.

Figure 2018039045
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Figure 2018039045
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表1に示すように、本発明例となる試料番号1〜3は、下部皮膜層4として、Ti、Cr、Alの窒化物を含む皮膜層を成膜し、試料番号4はTi、Cr、Alの炭窒化物を含む皮膜層を成膜した。
これに対して、比較例となる試料番号5は下部皮膜層としてCrを含まないで、TiとAlの窒化物を含む皮膜層を成膜した。同じく試料番号6はTiを含まないで、CrとAlの窒化物を含む皮膜層を成膜し、同じく試料番号7は、CrとAlを含まないで、Tiの窒化物を含む皮膜層を成膜した。
As shown in Table 1, Sample Nos. 1 to 3 serving as examples of the present invention formed a film layer containing a nitride of Ti, Cr, and Al as the lower film layer 4, and Sample No. 4 was Ti, Cr, A coating layer containing Al carbonitride was formed.
On the other hand, Sample No. 5, which is a comparative example, formed a film layer containing Ti and Al nitride without containing Cr as the lower film layer. Similarly, Sample No. 6 does not contain Ti and forms a coating layer containing a nitride of Cr and Al. Similarly, Sample No. 7 does not contain Cr and Al and forms a coating layer containing a nitride of Ti. Filmed.

この成膜実験1においては、2種のダイス基材についても、それぞれ表1の試料番号1と試料番号5に示す下部皮膜層の組成からなり、膜厚が4μmの下部皮膜層4と、この下部皮膜層の直上に膜厚が2μmからなる表面皮膜層5を成膜した試作ダイスを製作した。また、試作ダイスにおける上記した膜厚は、ニブ内周部33の入口側付近の厚さとした。
なお、ダイス基材に下部皮膜層4を成膜した後、パンチ基材と同様に表2に示すように、下部皮膜層4の上に膜厚が2μmで、TiとSiの原子比率がTi/Si=85/15となる表面皮膜層5を成膜した。この2種のダイス基材に成膜した表面皮膜層5の組成(原子比)と膜厚は、表2の試料番号1と試料番号5に記載の通りである。
In this film-forming experiment 1, the two types of die base materials are composed of the composition of the lower film layer shown in Sample No. 1 and Sample No. 5 in Table 1, respectively, and the lower film layer 4 having a film thickness of 4 μm, A prototype die was produced in which a surface film layer 5 having a film thickness of 2 μm was formed immediately above the lower film layer. Further, the above-described film thickness in the prototype die was set to a thickness in the vicinity of the inlet side of the nib inner peripheral portion 33.
After forming the lower coating layer 4 on the die substrate, as shown in Table 2, the film thickness is 2 μm on the lower coating layer 4 and the atomic ratio of Ti and Si is Ti as in the punch substrate. A surface coating layer 5 with / Si = 85/15 was formed. The composition (atomic ratio) and film thickness of the surface film layer 5 formed on these two types of die base materials are as described in Sample No. 1 and Sample No. 5 in Table 2.

(成膜実験2)
試料番号8〜16の9種のパンチ基材について、硬質皮膜層3を構成する下部皮膜層4が図2に示すように、第1層6、第2層7、第3層8の3層の多層構造からなる皮膜層を成膜する実験を行った。この3層の多層構造からなる下部皮膜層3の成膜については、成膜装置40を次のように作動させた。
下部皮膜層4のうち第1層6を成膜するターゲットをカソード42aに、同じく第2層7を成膜するターゲットをカソード42cに、同じく第3層8を成膜するターゲットをカソード42dに取り付けて、表3の試料番号8〜13に記載の組成と膜厚となるように、成膜装置40の制御装置を制御して、パンチ基材の表面に第1層6、第2層7、第3層8の順に窒化物からなる下部皮膜層4を成膜した。その他の成膜制御となる各成膜用ターゲットと3層の多層構造とするための条件以外の成膜条件は、成膜実験1と同様とした。また、第1層6〜第3層8の皮膜層を成膜した後、第3層8の直上に表面被覆層5を成膜するターゲットをカソード42bに取り付けて窒化物からなる表面被覆層5を成膜した。この表面被覆層5の成膜条件、放電条件は成膜実験1と同様にした。
(Film formation experiment 2)
As for the nine types of punch base materials of sample numbers 8 to 16, the lower coating layer 4 constituting the hard coating layer 3 has three layers of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 as shown in FIG. An experiment was conducted to form a film layer having a multilayer structure. For film formation of the lower coating layer 3 having the three-layer structure, the film forming apparatus 40 was operated as follows.
Of the lower coating layer 4, a target for forming the first layer 6 is attached to the cathode 42a, a target for forming the second layer 7 is attached to the cathode 42c, and a target for forming the third layer 8 is attached to the cathode 42d. Then, the control device of the film forming apparatus 40 is controlled so that the composition and film thickness described in Sample Nos. 8 to 13 in Table 3 are obtained, and the first layer 6, the second layer 7, The lower coating layer 4 made of nitride was formed in the order of the third layer 8. The film formation conditions other than the conditions for forming each of the film formation targets to be film formation control and the three-layer multilayer structure were the same as those in the film formation experiment 1. In addition, after the coating layers of the first layer 6 to the third layer 8 are formed, a target for forming the surface coating layer 5 directly on the third layer 8 is attached to the cathode 42b, and the surface coating layer 5 made of nitride. Was deposited. The film formation conditions and discharge conditions of the surface coating layer 5 were the same as those in the film formation experiment 1.

この成膜実験2では、試料番号8〜13では多層構造を第1層〜第3層の3つの皮膜層からなる多層構造の皮膜層を形成したが、試料番号14〜16では、多層構造が2つの皮膜層からなる構成とした。本成膜実験2で成膜した試料番号8〜16の試作パンチについて、下部被覆層4の第1層6〜第3層8の組成と膜厚を表3に、同じく、表面被覆層5の組成と膜厚を表2に示している。なお、成膜実験2において試料番号8〜16に成膜した表面皮膜層5のTiとSiの原子比率は、Ti/Si=85/15になるように、Ti、Siの窒化物からなる表面皮膜層5を成膜した。  In this film formation experiment 2, in Sample Nos. 8 to 13, a multi-layered film layer composed of three film layers of the first layer to the third layer was formed. In Sample Nos. 14 to 16, the multi-layered structure was formed. It was set as the structure which consists of two membrane | film | coat layers. Regarding the prototype punches of sample numbers 8 to 16 formed in this film formation experiment 2, the compositions and film thicknesses of the first layer 6 to the third layer 8 of the lower coating layer 4 are shown in Table 3, and the surface coating layer 5 The composition and film thickness are shown in Table 2. The surface made of nitride of Ti and Si so that the atomic ratio of Ti and Si of the surface coating layer 5 formed on the sample numbers 8 to 16 in the film formation experiment 2 is Ti / Si = 85/15. A film layer 5 was formed.

成膜実験2でパンチ基材に成膜した試料番号8〜13は、下地硬質層4は各皮膜層の膜厚が0.1〜3μmとし、2層以上の多層構造、すなわち3層の皮膜層を有し、この多層構造をなす各皮膜層の組成は異なっているとともに、Ti、Cr、Alの原子比a、b、cは、前記した下部皮膜層4の組成の一般式と原子比a、b、cに関する条件を満している。さらに、表面皮膜層5もTi、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層を備えている。さらに、3層からなる多層構造の各層のTi、Cr、Alの原子比a1〜a3、b1〜b3、c1〜c3は、
a1>a2>a3、
b3>b2>b1、
c3>c2>c1、
を満たしているので本発明例に相当する。
In Sample Nos. 8 to 13 formed on the punch base material in the film formation experiment 2, the base hard layer 4 has a film thickness of each film layer of 0.1 to 3 μm, that is, a multilayer structure of two or more layers, that is, a three-layer film The composition of each coating layer having a multilayer structure is different, and the atomic ratios a, b, and c of Ti, Cr, Al are the general formula and atomic ratio of the composition of the lower coating layer 4 described above. The conditions regarding a, b, and c are satisfied. Further, the surface coating layer 5 also includes a surface coating layer made of Ti, Si nitride or carbonitride. Furthermore, the atomic ratios a1 to a3, b1 to b3, and c1 to c3 of Ti, Cr, and Al of each layer of a multilayer structure composed of three layers are as follows:
a1>a2> a3,
b3>b2> b1,
c3>c2> c1,
Therefore, it corresponds to an example of the present invention.

成膜実験2では、1種の試作ダイス基材について、表3の試料番号8に示す第1層6、第2層7、第3層8からなる下部皮膜層4を成膜した。この下部皮膜層4の組成と膜厚は表3の試料番号8に示す通りである。また、この試作ダイスに成膜した表面皮膜層5の組成と膜厚は表2の試料番号8の欄に示している。成膜実験2において、各成膜用ターゲットと成膜条件は成膜実験1と同様とし、表面被覆層5の成膜条件、放電条件も成膜実験1と同様とした。  In the film formation experiment 2, the lower coating layer 4 including the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 shown in the sample number 8 of Table 3 was formed on one type of prototype die base material. The composition and film thickness of the lower coating layer 4 are as shown in Sample No. 8 in Table 3. Further, the composition and film thickness of the surface film layer 5 formed on the prototype die are shown in the column of sample number 8 in Table 2. In the film formation experiment 2, each film formation target and the film formation conditions were the same as those in the film formation experiment 1, and the film formation conditions and the discharge conditions of the surface coating layer 5 were also the same as those in the film formation experiment 1.

Figure 2018039045
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(成膜実験3)
成膜実験3では、試料番号17〜24の8種のパンチ基材に形成する硬質皮膜層3のうち、図3に示すように、多層構造からなる下部皮膜層4の第2層7を、D層7aとF層7bを交互に積層した積層構造からなる皮膜層を形成するための成膜実験を行った。この成膜実験3においては、成膜装置40を次のように作動させた。
(Film formation experiment 3)
In the film formation experiment 3, as shown in FIG. 3 among the hard coating layers 3 formed on the eight types of punch base materials of sample numbers 17 to 24, the second layer 7 of the lower coating layer 4 having a multilayer structure is used. A film forming experiment for forming a coating layer having a laminated structure in which the D layer 7a and the F layer 7b are alternately laminated was performed. In this film forming experiment 3, the film forming apparatus 40 was operated as follows.

第1層6を成膜するターゲット、D層7aを成膜するターゲットをカソード42aに、F層7bを成膜するターゲット、第3層8を成膜するためのターゲットをカソード42cに取り付けた。そして、カソード42aを放電させて窒化物からなる第1層6をパンチ基材の表面に成膜した後、第2層7を積層構造からなる皮膜層として形成するために、カソード42aとカソード42cを同時に放電させて、回転する基材ステージ43上のパンチ基材にD層7aとF層7bを交互に積層した。
D層7aとF層7bを交互に積層した積層構造からなる窒化物と、第2層7を成膜した後に、カソード42cのみを放電させて窒化物から構成される下部皮膜層4のうちの第3層8を成膜した。第3層8を成膜した後、表面皮膜層5を成膜するターゲットをカソード42bに取り付けて、パンチ基材に窒化物からなる表面皮膜層5を第3層8の直上に成膜した。成膜実験3において、各成膜用ターゲットと積層条件以外の成膜条件は成膜実験2と同様とし、表面皮膜層5の成膜条件、放電条件は成膜実験1と同様にした。
なお、成膜実験3において成膜装置40への各種ターゲットの取り付け、及び成膜制御方法は上記した方法に限定されるものではなく、成膜装置の構成、成膜の効率性を考慮して最適な手段を採用するとよい。
The target for forming the first layer 6, the target for forming the D layer 7a were attached to the cathode 42a, the target for forming the F layer 7b, and the target for forming the third layer 8 were attached to the cathode 42c. Then, after the cathode 42a is discharged to form the first layer 6 made of nitride on the surface of the punch base material, the cathode 42a and the cathode 42c are formed in order to form the second layer 7 as a coating layer having a laminated structure. Were simultaneously discharged, and the D layer 7a and the F layer 7b were alternately laminated on the punch substrate on the rotating substrate stage 43.
Of the lower coating layer 4 made of nitride, the nitride having a laminated structure in which the D layer 7a and the F layer 7b are alternately laminated and the second layer 7 are formed, and then only the cathode 42c is discharged. A third layer 8 was formed. After forming the third layer 8, a target for forming the surface coating layer 5 was attached to the cathode 42 b, and the surface coating layer 5 made of nitride was formed on the punch base material immediately above the third layer 8. In the film formation experiment 3, the film formation conditions other than each film formation target and the lamination conditions were the same as those in the film formation experiment 2, and the film formation conditions and the discharge conditions of the surface coating layer 5 were the same as those in the film formation experiment 1.
Note that the attachment of various targets to the film formation apparatus 40 and the film formation control method in the film formation experiment 3 are not limited to the above-described methods, and the structure of the film formation apparatus and the film formation efficiency are taken into consideration. It is advisable to use the best means.

この成膜実験3で成膜した試料番号17〜24について下部皮膜層4の第1層6から第3層8の組成と膜厚を表4に示している。さらに、表4には、D層7aとF層7bについてその単一層の膜厚を「nm」単位で示している。
表4に示すように、試料番号17〜24の全てについて第1層6の膜厚は1.5μm、第2層7の膜厚は2μm、第3層の膜厚は0.5μmになるように成膜した。また、交互に形成されるD層7aとF層7bのうち、D層7aが第1層6側になるように成膜した。なお、成膜実験3において試料番号17〜24に成膜した表面皮膜層5の組成と膜厚を表2に示している。試料番号17〜24に成膜した表面皮膜層5のTiとSiの原子比率は、Ti/Si=85/15になるように、Ti、Siの窒化物からなる表面皮膜層5を成膜した。
Table 4 shows the compositions and film thicknesses of the first layer 6 to the third layer 8 of the lower coating layer 4 for the sample numbers 17 to 24 formed in the film formation experiment 3. Further, Table 4 shows the single layer thicknesses of the D layer 7a and the F layer 7b in units of “nm”.
As shown in Table 4, the film thickness of the first layer 6 is 1.5 μm, the film thickness of the second layer 7 is 2 μm, and the film thickness of the third layer is 0.5 μm for all the sample numbers 17 to 24. A film was formed. Moreover, it formed into a film so that D layer 7a might become the 1st layer 6 side among D layer 7a and F layer 7b formed alternately. Table 2 shows the composition and film thickness of the surface film layer 5 formed on sample numbers 17 to 24 in the film formation experiment 3. The surface film layer 5 made of a nitride of Ti and Si was formed so that the atomic ratio of Ti and Si of the surface film layer 5 formed on the sample numbers 17 to 24 was Ti / Si = 85/15. .

表4に示しているように試料番号17〜24について、第1層6、第2層7、第3層8の膜厚は0.1〜3μmの範囲、すなわち、それぞれ1.5μm、2μm、0.5μmの厚さを有するように成膜されているとともに、下部皮膜層4の多層構造は2層以上の皮膜層を有し、多層とした第1層と第3層のTi、Cr、Alの組成(原子比)は同一の試料番号内において異なっているとともに、前記した下部皮膜層4の組成の一般式と原子比a、b、cに関する条件を満足している。また、表面皮膜層5もTi、Siの窒化物からなる表面皮膜層を備えている。  As shown in Table 4, for sample numbers 17 to 24, the film thicknesses of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8 are in the range of 0.1 to 3 μm, that is, 1.5 μm, 2 μm, It is formed to have a thickness of 0.5 μm, and the multilayer structure of the lower coating layer 4 has two or more coating layers. The first and third layers of Ti, Cr, The composition (atomic ratio) of Al is different within the same sample number, and the conditions regarding the general formula of the composition of the lower coating layer 4 and the atomic ratios a, b, and c are satisfied. The surface film layer 5 also includes a surface film layer made of a nitride of Ti or Si.

ここで、試料番号17〜19において、D層7aとF層7bの膜厚比を変化させることで、鍛造寿命に及ぼすD層7aとF層7bの膜厚比の影響を比較した。さらに、試料番号17、23、24において、D層7aとF層7bの単一の膜厚を変化させることで、鍛造寿命に及ぼすD層7aとF層7bの単一の膜厚の影響を比較した。さらに、試料番号17、20〜22において、D層7aとF層7bを交互に積層した積層構造の組成を変化させることで、鍛造寿命に及ぼす皮膜層の組成に対する影響を比較した。  Here, in the sample numbers 17-19, the influence of the film thickness ratio of the D layer 7a and the F layer 7b on the forging life was compared by changing the film thickness ratio of the D layer 7a and the F layer 7b. Further, in Sample Nos. 17, 23, and 24, by changing the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b, the influence of the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b on the forging life is affected. Compared. Furthermore, in sample numbers 17 and 20-22, the effect on the composition of the coating layer on the forging life was compared by changing the composition of the laminated structure in which the D layers 7a and the F layers 7b were alternately laminated.

Figure 2018039045
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なお、上記したD層7aとF層7bを交互に積層構造にするための具体的な成膜制御方法は、次の手段を採用することができる。
すなわち、D層7aおよびF層7bに対応する成膜用ターゲットに印加するアーク放電電流を、例えば、80〜150Aの範囲で変化させること、さらに、基材ステージ43の回転速度、回転数の累計値に基づいて成膜した皮膜の膜厚、等を所定の値になるように制御した。例えば、パンチ基材とターゲットとの基材間距離L3を長くすること、ターゲットに印加するアーク放電電流を低くすること、基材ステージ43の回転速度を早くすることにより、D層7aおよびF層7bの単一の膜厚が薄くなるように制御することができる。
In addition, the following means can be employ | adopted as the concrete film-forming control method for making above-mentioned D layer 7a and F layer 7b into a laminated structure alternately.
That is, the arc discharge current applied to the film formation target corresponding to the D layer 7a and the F layer 7b is changed, for example, in the range of 80 to 150A, and the rotation speed and the total number of rotations of the substrate stage 43 are further changed. Based on the value, the film thickness of the film formed, etc. were controlled to a predetermined value. For example, by increasing the distance L3 between the punch base and the target, lowering the arc discharge current applied to the target, and increasing the rotational speed of the base stage 43, the D layer 7a and the F layer The single film thickness of 7b can be controlled to be thin.

成膜実験3では1種のダイス基材について、表4の試料番号17に示す組成と膜厚を有する下部皮膜層4をダイス基材の表面に成膜した後、この下部皮膜層4の直上に表面皮膜層5を成膜した。この表面皮膜層5の組成と膜厚は表2の試料番号17に示す通りである。  In film formation experiment 3, after forming a lower coating layer 4 having the composition and film thickness shown in Sample No. 17 of Table 4 on the surface of the die substrate for one type of die base material, A surface coating layer 5 was formed. The composition and film thickness of this surface coating layer 5 are as shown in sample number 17 in Table 2.

上記手順により硬質皮膜層の成膜を行ったパンチ基材とダイス基材について、機能部の表面を再度鏡面研磨し、機能部の表面粗さ(Ra)を0.05μm以下、表面粗さ(Ry)を0.5μm以下とされた試料番号1〜24の試作パンチと4種の試作ダイスを製作した。
上記した成膜実験1〜3で製作した試作パンチ及びダイスに成膜した硬質皮膜層3の組成の測定は、エネルギー分散型X線分析により測定した。また、下部皮膜層4のうち第2層を構成するD層7a及びF層7bの組成は、各々の単一層を上記した同一の成膜条件で2μm以上被覆した試料を別途作成し、この別途作成した試料についてエネルギー分散型X線分析で分析して求めた。
About the punch base material and die base material on which the hard coating layer was formed by the above procedure, the surface of the functional part was mirror-polished again, the surface roughness (Ra) of the functional part was 0.05 μm or less, and the surface roughness ( A prototype punch of sample numbers 1 to 24 and four prototype dies having Ry) of 0.5 μm or less were manufactured.
The composition of the hard coating layer 3 formed on the prototype punch and die manufactured in the film formation experiments 1 to 3 described above was measured by energy dispersive X-ray analysis. The composition of the D layer 7a and the F layer 7b constituting the second layer of the lower coating layer 4 is prepared separately by separately preparing a sample in which each single layer is covered by 2 μm or more under the same film forming conditions described above. The prepared sample was analyzed by energy dispersive X-ray analysis.

[冷間鍛造の実験]
続いて、上記手順で硬質皮膜層を成膜した試作パンチ及びダイスについて、耐久性を評価するために、冷間鍛造装置を使用してこの試作パンチ及び試作ダイスを冷間鍛造用の金型として使用する冷間鍛造の実験を行った。図8(a)、(b)、(c)は、この冷間鍛造の実験方法を説明するための図である。以下、図8(a)、(b)、(c)に基づいてこの冷間鍛造の実験方法について説明する。
[Cold forging experiment]
Subsequently, in order to evaluate the durability of the prototype punch and die formed with the hard coating layer according to the above procedure, the prototype punch and prototype die are used as a cold forging die using a cold forging device. The cold forging experiment to be used was conducted. FIGS. 8A, 8B, and 8C are diagrams for explaining the cold forging experimental method. Hereinafter, an experimental method for cold forging will be described with reference to FIGS. 8A, 8B, and 8C.

図8は、冷間鍛造方法のうち、後方押し出し成形工程(以下、「後方押出し成形」と記載する)を実施する冷間鍛造装置50の概略構成と、被加工物に対して後方押出し成形を行う手順の概要を示している。後方押出し成形を行う冷間鍛造装置50は、冷間加工(鍛造)用金型として上記した手順に基づいて硬質皮膜層3を成膜した試作パンチ51と試作ダイス52、下受けパンチ53、枠体54等を少なくとも備えている。図8に示す符号52a、52bは、それぞれ試作ダイス52のニブ、ケースを示している。ニブ52aのニブ内周部52a1の表面には前記した成膜実験1〜3で成膜した硬質皮膜層が形成されている。
なお、図8(a)は、被加工物56に対して後方押出し成形により塑性加工する前の状態を示し、図8(b)は被加工物56に対して後方押出し成形による塑性加工を開始したときの状態を示し、図8(c)は同じく後方押出し成形による塑性加工を実施しているときの状態を示している。
FIG. 8 shows a schematic configuration of a cold forging apparatus 50 for performing a backward extrusion molding process (hereinafter referred to as “rear extrusion molding”) and a backward extrusion molding of a workpiece in a cold forging method. An overview of the procedure to be performed is shown. The cold forging device 50 that performs the backward extrusion molding is a prototype punch 51 and a prototype die 52, a base punch 53, a frame, and the like, on which a hard coating layer 3 is formed based on the above-described procedure as a cold working (forging) mold. The body 54 is provided at least. Reference numerals 52a and 52b shown in FIG. 8 indicate nibs and cases of the prototype die 52, respectively. On the surface of the nib inner peripheral portion 52a1 of the nib 52a, the hard coating layer formed in the film forming experiments 1 to 3 is formed.
8A shows a state before the workpiece 56 is plastically processed by backward extrusion molding, and FIG. 8B shows the plastic processing by backward extrusion molding of the workpiece 56. FIG. 8C shows the state when plastic working by backward extrusion is performed.

被加工物56に対して後方押出し成形を行うときには、図8(a)に示すように、試作パンチ51を上下ショット駆動の上端部に停止させた状態で、試作ダイス52のニブ内周部52a1の内側に形成されている空間部52c内に、例えば、円柱形状をなす被加工物56を挿入して下受けパンチ53の上端部に載置する。続いて、図8(b)に示すように、試作パンチ51をS方向に高速で上下動させる駆動、すなわち、試作パンチ51を試作ダイス52の空間部52c内で高速でショット駆動させて被加工物56に対して後方押出し成形による冷間鍛造(塑性加工)を行って、被加工物56を図8(c)に示すように底付円筒形状からなる押出し成形品55に加工した。なお、被加工物56の材質はS45C(機械構造用炭素鋼)とした。  When backward extrusion molding is performed on the workpiece 56, as shown in FIG. 8A, the nib inner peripheral portion 52a1 of the prototype die 52 in a state where the prototype punch 51 is stopped at the upper end portion of the vertical shot drive. For example, a workpiece 56 having a cylindrical shape is inserted into the space portion 52 c formed on the inner side, and placed on the upper end portion of the receiving punch 53. Subsequently, as shown in FIG. 8B, the prototype punch 51 is driven to move up and down at high speed in the S direction, that is, the prototype punch 51 is shot-driven within the space 52c of the prototype die 52 at high speed. Cold forging (plastic processing) by backward extrusion molding was performed on the product 56, and the workpiece 56 was processed into an extruded product 55 having a bottomed cylindrical shape as shown in FIG. 8C. The material of the workpiece 56 was S45C (carbon steel for machine structure).

なお、この被加工物56については、この被加工物の素材への線引時に焼鈍及びボンデ処理(リン酸塩処理)を施した後、パーツフォーマーを用いて切断し、切端面の矯正及び絞り加工を行う工程を実施した。
また、この冷間鍛造による塑性加工では、被加工物56の断面減少率が70%、成形深さが直径の略5倍の後方押し出しからなる塑性加工を実施して、図8(c)に示すように、円筒部55aと底部55bを有する底付き円筒形状の鍛造成形品(押出し成形品)55を順次繰り返して成形しながら、累計ショット回数を計測して、試作パンチ51と試作ダイス52の耐久性を評価した。
また、上記した後方押出し成形においては、試作パンチ51の上端部23の表面および試作ダイス52の内径部、すなわちニブ内周部52a1(33)の表面に作用する鍛造成形応力(負荷)は2500MPa程度、1分間あたりのショット回数は60ショットに設定し、潤滑油は硫黄系の極圧添加剤を含有した不水溶性の鍛造油を試作パンチ51の表面に直接供給した。
In addition, about this workpiece 56, after performing annealing and a bonde process (phosphate process) at the time of drawing to the raw material of this workpiece, it cut | disconnects using a parts former, and corrects a cutting edge surface, A drawing process was performed.
Further, in this plastic working by cold forging, plastic working is performed by backward extrusion with the cross-sectional reduction rate of the work piece 56 being 70% and the forming depth being approximately 5 times the diameter, and FIG. As shown in the drawing, while repeatedly forming a bottomed cylindrical forged molded product (extruded product) 55 having a cylindrical portion 55a and a bottom portion 55b, the total number of shots is measured, and the prototype punch 51 and the prototype die 52 are measured. Durability was evaluated.
Further, in the above-described rear extrusion molding, the forging molding stress (load) acting on the surface of the upper end portion 23 of the prototype punch 51 and the inner diameter portion of the prototype die 52, that is, the surface of the nib inner peripheral portion 52a1 (33) is about 2500 MPa. The number of shots per minute was set to 60 shots, and the lubricating oil was directly supplied to the surface of the trial punch 51 with a water-insoluble forging oil containing a sulfur-based extreme pressure additive.

試作パンチ51、試作ダイス52について、それぞれの耐久性の評価は、次の手順に基づいて実施した。すなわち、一つの試作パンチ51又は試作ダイス52について繰り返しの冷間鍛造を実施しながら、試作パンチ又は試作ダイスの表面の機能部に形成した硬質皮膜層が損耗し、パンチ(ダイス)基材の表面が露出した時点、または試作パンチのベアリング部24の径が0.01mm減少した時点の累計ショット回数をその試作パンチの金型寿命、すなわち、試作パンチの損傷による鍛造寿命と判定した。
一方、4種の試作ダイス52の評価は、次の手順に基づいて実施した。すなわち、4種の試作ダイスのそれぞれについて、繰り返しの冷間鍛造により、ニブ内周部の機能部に成膜した硬質皮膜層が損耗し、基材の表面が露出した時点、またはダイス内径(ニブ内周部33の径)が0.01mm増加した時点の累計ショット回数を金型寿命、すなわち、その試作ダイスの損傷による鍛造寿命と判定した。
The durability of each of the prototype punch 51 and the prototype die 52 was evaluated based on the following procedure. That is, while repeatedly performing cold forging on one prototype punch 51 or prototype die 52, the hard coating layer formed on the functional part of the surface of the prototype punch or prototype die is worn out, and the surface of the punch (die) base material The cumulative number of shots at the time of exposure or when the diameter of the bearing portion 24 of the prototype punch decreased by 0.01 mm was determined as the die lifetime of the prototype punch, that is, the forging lifetime due to damage of the prototype punch.
On the other hand, the evaluation of the four types of prototype dies 52 was performed based on the following procedure. That is, for each of the four types of prototype dies, when the hard coating layer formed on the functional part of the inner periphery of the nib was worn out by repeated cold forging and the surface of the substrate was exposed, or the inner diameter of the die (nib The cumulative number of shots at the time when the diameter of the inner peripheral portion 33 was increased by 0.01 mm was determined as the die life, that is, the forging life due to damage to the prototype die.

上記した成膜実験1〜成膜実験3によりそれぞれの硬質皮膜層を成膜した試作パンチ24種(試料番号1〜24)の冷間鍛造による評価には、公知のTiAlN皮膜を成膜したダイスを用いて冷間鍛造を行った。そして、ダイス内径部(ニブ内周部33)に焼付きや損耗が生じた場合には、ダイスを新品に交換又は焼き付きを除去してこの試作パンチの耐久性を継続して評価した。
また、硬質皮膜層を成膜した4種の試作ダイス52の冷間鍛造による評価には、公知のTiAlN皮膜を成膜したパンチを用いて冷間鍛造を行って、パンチのベアリング径が0.01mm減少した時点でこのパンチを新品に交換して試作ダイスの耐久性を継続して評価した。
For evaluation by cold forging of 24 types of prototype punches (sample numbers 1 to 24) in which the respective hard coating layers were formed by the above-described film formation experiments 1 to 3, a die having a known TiAlN film formed thereon was used. Was used for cold forging. When seizure or wear occurred in the inner diameter portion of the die (nib inner peripheral portion 33), the die was replaced with a new one or the seizure was removed, and the durability of the prototype punch was continuously evaluated.
Further, for the evaluation by cold forging of the four types of prototype dies 52 formed with the hard coating layer, cold forging was performed using a punch formed with a known TiAlN coating, and the bearing diameter of the punch was 0. When the diameter decreased by 01 mm, the punch was replaced with a new one, and the durability of the prototype die was continuously evaluated.

上記した24種の試作パンチ及び4種の試作ダイスについて、試料番号ごとに耐久性評価の実験を行った結果を表5に示している。表5には、耐久性となる鍛造寿命を累計ショット回数として示している。なお、表5の鍛造寿命欄に示す記号「−」は鍛造寿命を評価していないことを示している。表5の「鍛造寿命(万ショット)」の欄には、前記したように冷間鍛造を実施したときの鍛造寿命を累計ショット回数として示しているが、この回数の単位は万ショットを単位として、1万ショット以下を切り捨てた数値で記載している。また、表5の「鍛造寿命(万ショット)」欄には、試作パンチの鍛造寿命をパンチ欄に、試作ダイスの鍛造寿命をダイス欄に示している。  Table 24 shows the results of the durability evaluation experiment for each sample number for the 24 types of trial punches and the 4 types of trial dies. Table 5 shows the forging life as a cumulative number of shots that is durable. The symbol “-” shown in the forging life column of Table 5 indicates that the forging life is not evaluated. In the column of “Forging life (10,000 shots)” in Table 5, the forging life when cold forging is performed as described above is shown as the cumulative number of shots, and the unit of this number is based on 10,000 shots. The figures are rounded down to 10,000 shots or less. In the “Forging life (10,000 shots)” column of Table 5, the forging life of the trial punch is shown in the punch column, and the forging life of the trial die is shown in the die column.

Figure 2018039045
Figure 2018039045

[試作パンチの耐久性についての考察]
前記した試作パンチの冷間鍛造の実験で得た鍛造寿命を表5に試料番号ごとに示しているが、この表5に示す鍛造寿命に基づいて、下部皮膜層の組成と皮膜層の構成等が鍛造寿命に影響する関係について考察してみた。その結果、下記(1)〜(4)に記載の事項が明らかになった。
[Consideration of durability of prototype punch]
Table 5 shows the forging life obtained by the cold forging experiment of the prototype punch described above for each sample number. Based on the forging life shown in Table 5, the composition of the lower coating layer, the configuration of the coating layer, etc. I considered the relationship that affects the forging life. As a result, the matters described in the following (1) to (4) became clear.

(1)表5に示すように、本発明例の試料番号1〜4の試作パンチは、Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物を含む下部皮膜層4を1層からなる基本構成とした例であるが、その鍛造寿命は4〜7万ショットであった。これに対して、Ti又はCrを含まない比較例となる試料番号5と試料番号6、及びCrとAlを含まない比較例となる試料番号7の鍛造寿命は2万ショット以下であった。これら比較例の試作パンチでは、鍛造時の繰返し応力によって円弧形状面部の円弧半径からベアリング部にかけて硬質皮膜層(下部皮膜層や表面皮膜層)にクラックや剥離が生じ、このクラックや剥離を起点としたベアリング部の異常摩耗が生じていた。この異常摩耗により、鍛造寿命が2万ショット以下になったと考えられる。
このように、試料番号1〜4の試作パンチは、比較例となる試料番号5〜7と比較して2倍以上の鍛造寿命が得られた。また、試料番号1〜4の試作パンチの2万ショットにおける損傷形態の観察結果から、円弧形状面部の円弧半径からベアリング部にかけて硬質皮膜層(下部皮膜層や表面皮膜層)にクラックや剥離が生じておらず、ベアリング部の硬質皮膜層3に均一な円周状の摩耗が生じているのみであった。
(1) As shown in Table 5, the prototype punches of Sample Nos. 1 to 4 of the present invention examples have a basic structure consisting of one layer of the lower coating layer 4 containing a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al. In this example, the forging life was 40 to 70,000 shots. On the other hand, the forging life of Sample No. 5 and Sample No. 6 as comparative examples not containing Ti or Cr, and Sample No. 7 as a comparative example containing no Cr and Al was 20,000 shots or less. In the prototype punches of these comparative examples, cracks and peeling occurred in the hard coating layer (lower coating layer and surface coating layer) from the arc radius of the arc-shaped surface portion to the bearing portion due to repeated stress during forging. Abnormal wear of the bearings occurred. This abnormal wear is considered to have reduced the forging life to 20,000 shots or less.
As described above, the trial punches of the sample numbers 1 to 4 had a forging life twice or more that of the sample numbers 5 to 7 as the comparative example. In addition, from the observation results of the damage form in the 20,000 shots of the prototype punches of sample numbers 1 to 4, cracks and peeling occurred in the hard coating layer (lower coating layer and surface coating layer) from the arc radius of the arc-shaped surface portion to the bearing portion. In other words, only uniform circumferential wear occurred in the hard coating layer 3 of the bearing portion.

さらに、試料番号1〜3において、下部皮膜層4のTi、Cr、Alの含有量が鍛造寿命に及ぼす影響を比較してみると、次のことが明らかになった。
試料番号1〜3の下部皮膜層4においてCrの原子比は、表1に表示されているように、それぞれ0.05、0.15、0.25であり、これら試料番号1〜3の鍛造寿命はそれぞれ、試料番号1は4万ショット、試料番号2、3は7万ショットであった。これより、表面皮膜層5直下の下部皮膜層4においてCr含有量が高いほど、硬質皮膜層3のクラックや剥離が減少し、鍛造寿命が長くなる傾向がみられた。
Further, in Sample Nos. 1 to 3, the effects of the contents of Ti, Cr, and Al in the lower coating layer 4 on the forging life were clarified as follows.
As shown in Table 1, the atomic ratios of Cr in the lower coating layers 4 of the sample numbers 1 to 3 are 0.05, 0.15, and 0.25, respectively. The lifetimes were 40,000 shots for sample number 1 and 70,000 shots for sample numbers 2 and 3, respectively. From this, as the Cr content in the lower coating layer 4 immediately below the surface coating layer 5 was higher, cracks and peeling of the hard coating layer 3 were reduced, and the forging life tended to be longer.

一方、Crの原子比が0.05である試料番号4は、下部皮膜層4と表面皮膜層5が炭窒化物からなる試料(表1、表2参照)であるが、試料番号1に比べて鍛造寿命は7万ショットであった。試料番号4の試作パンチで冷間鍛造した押出し成形品55の円筒部55aの内径部には光沢が観察されており、炭窒化物を含んでいることから耐付着性が向上して、パンチの耐久性である鍛造寿命が7万ショットになったと推測される。  On the other hand, Sample No. 4 in which the atomic ratio of Cr is 0.05 is a sample (see Tables 1 and 2) in which the lower coating layer 4 and the surface coating layer 5 are made of carbonitride. The forging life was 70,000 shots. Gloss is observed in the inner diameter portion of the cylindrical portion 55a of the extrusion-molded product 55 cold forged by the prototype punch of the sample number 4, and since the carbonitride is contained, the adhesion resistance is improved, The durability forging life is estimated to be 70,000 shots.

上記した耐久性評価の実験結果から、金型表面にTi、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層4を形成し、この下部皮膜層4の直上にTi、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層5を被覆したパンチとすることで、硬質皮膜層3の耐クラック性と耐剥離性が向上し、その結果として耐摩耗性が向上した冷間用金型が得られることが判明した。特に、表面皮膜層5の直下に被覆された下部皮膜層4にCrを一定量含んでいることが鍛造寿命の向上に重要であることが推測された。  From the results of the durability evaluation experiment described above, a lower coating layer 4 made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al is formed on the mold surface, and Ti and Si nitrides are formed directly on the lower coating layer 4. Alternatively, by forming a punch coated with the surface coating layer 5 made of carbonitride, the crack resistance and peeling resistance of the hard coating layer 3 are improved, and as a result, a cold mold having improved wear resistance is obtained. It turned out to be obtained. In particular, it was presumed that it is important for improving the forging life that the lower coating layer 4 coated immediately below the surface coating layer 5 contains a certain amount of Cr.

(2)本発明例の試料番号8〜13は、下部皮膜層4を多層構造である第1層、第2層、第3層の3層から構成し、これら各層の組成または膜厚を変化させて成膜した試作パンチである。これら試料番号8〜13の試作パンチは、表5に示すように10〜18万ショットの鍛造寿命が得られた。下部皮膜層4を第1層、第2層、第3層の3層からなる多層構造とし、さらに各層は所定の組成を有する多層構造とすることで、硬質皮膜層3の耐クラック性と耐剥離性が向上し、異常摩耗の発生がさらに抑制され耐摩耗性も向上して、試料番号1〜4の試作パンチと比較してさらに鍛造寿命が向上することが判明した。
特に、第1層6のCr含有量がTi、Al含有量に比べて低いほど、また第3層8のCr含有量が第1層6のCr含有量、第3層8のTi含有量よりも高く、かつ、Al含有量が高いほど、さらに、第2層7は第1層6と第2層8の略中間組成とした皮膜層とすることにより試作パンチの鍛造寿命が長くなり、好ましい組成構成であることが判った。つまり、第1層6のTi、Cr、Alの原子比は、0.5≦a1≦0.6、0<b1≦0.1、0.3<c1≦0.5であり、第3層8のTi、Cr、Alの原子比は、0<a3<0.5、0.1<b3≦0.3、0.5<c3<0.7であり、第2層7は第1層6と第3層8の略中間組成比であることがより好ましい組成構成である。
(2) In Sample Nos. 8 to 13 of the present invention, the lower coating layer 4 is composed of three layers of a first layer, a second layer, and a third layer having a multilayer structure, and the composition or film thickness of each of these layers is changed. This is a prototype punch formed into a film. The trial punches of these sample numbers 8 to 13 had a forging life of 100,000 to 180,000 shots as shown in Table 5. The lower coating layer 4 has a multilayer structure composed of three layers of a first layer, a second layer, and a third layer, and each layer has a multilayer structure having a predetermined composition. It has been found that the peelability is improved, the occurrence of abnormal wear is further suppressed and the wear resistance is improved, and the forging life is further improved as compared with the prototype punches of Sample Nos. 1 to 4.
In particular, as the Cr content of the first layer 6 is lower than the Ti and Al contents, the Cr content of the third layer 8 is more than the Cr content of the first layer 6 and the Ti content of the third layer 8. And the higher the Al content, the longer the forging life of the prototype punch becomes longer by making the second layer 7 a coating layer having a substantially intermediate composition between the first layer 6 and the second layer 8. The composition was found to be. That is, the atomic ratio of Ti, Cr, Al in the first layer 6 is 0.5 ≦ a1 ≦ 0.6, 0 <b1 ≦ 0.1, 0.3 <c1 ≦ 0.5, and the third layer The atomic ratio of Ti, Cr, and Al of 8 is 0 <a3 <0.5, 0.1 <b3 ≦ 0.3, 0.5 <c3 <0.7, and the second layer 7 is the first layer. It is a more preferable composition constitution that it is a substantially intermediate composition ratio between 6 and the third layer 8.

(3)試料番号14の試作パンチは、下部皮膜層4を2層の多層構造から構成した試料であるが、下部皮膜層4を3層の多層構造にした試料番号8(鍛造寿命:18万ショット)と比較して鍛造寿命が8万ショットに低下している。おなじく、試料番号15の試作パンチは、2層の多層構造から構成した試料であるが、試料番号8の鍛造寿命18万ショットと比較し鍛造寿命が低下している。同様に、試料番号16の試作パンチも2層の多層構造から構成した試料であるが、試料番号8と比較して鍛造寿命が低下している。しかしながら、試料番号14〜16の試作パンチは、比較例となる試料番号5〜6の試作パンチと比較して2倍以上の鍛造寿命が得られた。
上記した試料番号1〜4、及び試料番号8〜13の試作パンチの鍛造寿命の結果から、下部皮膜層4を第1層、第2層、第3層の3層からなる多層構造として、各層を所定の成分と膜厚とすることにより、2層の多層構造とした下部皮膜層4と比較して、さらに耐摩耗性が向上し、格段に優れた冷間用金型が得られることが判明した。
(3) The prototype punch of sample number 14 is a sample in which the lower coating layer 4 has a multilayer structure of two layers, but sample number 8 (forging life: 180,000) in which the lower coating layer 4 has a multilayer structure of three layers. Forging life is reduced to 80,000 shots. Similarly, the prototype punch of sample number 15 is a sample composed of a multilayer structure of two layers, but the forging life is reduced as compared to the forging life of sample number 8 180,000 shots. Similarly, the prototype punch of sample number 16 is also a sample composed of a multilayer structure of two layers, but the forging life is reduced compared to sample number 8. However, the trial punches of Sample Nos. 14 to 16 have a forging life that is twice or more that of the trial punches of Sample Nos. 5 to 6 as a comparative example.
From the results of the forging life of the prototype punches of sample numbers 1 to 4 and sample numbers 8 to 13 described above, the lower coating layer 4 has a multi-layer structure consisting of a first layer, a second layer, and a third layer. By using a predetermined component and film thickness, the wear resistance is further improved compared to the lower coating layer 4 having a two-layered multi-layer structure, and a remarkably excellent cold mold can be obtained. found.

(4)試料番号17〜24は、3層の多層構造からなる下部皮膜層4のうち、第2層7をD層7aとF層7bを交互に積層した積層構造からなる試作パンチであって、D層7aとF層7bの組成または膜厚を変化させて成膜した試料である。これら試料番号17〜24の鍛造寿命は、表5に示すように、下部皮膜層4を3層の多層構造とした試料番号8〜13の鍛造寿命が10〜18万ショットであることと比較して、20〜35万ショットの鍛造寿命となり、さらに優れた耐久性を示した。  (4) Sample Nos. 17 to 24 are prototype punches having a laminated structure in which the second layer 7 is alternately laminated with the D layer 7a and the F layer 7b in the lower coating layer 4 having a three-layer structure. These are samples formed by changing the composition or film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b. As shown in Table 5, the forging life of these sample numbers 17 to 24 is compared with the forging life of sample numbers 8 to 13 in which the lower coating layer 4 has a multi-layer structure having a three-layer structure of 100,000 to 180,000 shots. Thus, a forging life of 20 to 350,000 shots was obtained, and further excellent durability was exhibited.

(4a):試料番号17、23、24において、D層7aとF層7bの単一の膜厚を変化させることで、鍛造寿命に及ぼすD層7aとF層7bの単一の膜厚の影響を比較した。D層7aとF層7bの単一の膜厚が0.02μm未満からなる試料番号17はより損傷形態が安定しており鍛造寿命が格段に良い結果となった。試料番号23、24はD層7aの単一の膜厚が64nm、128nmであるが、略同一組成の試料番号8と比較して、D層7aとF層7bの皮膜層を交互に積層した積層構造による鍛造寿命の改善効果が得られていないことから、D層7aとF層7bの単一の膜厚を0.02μm未満とすることが本発明の好ましい構成であることが判明した。  (4a): In sample numbers 17, 23, and 24, by changing the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b, the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b that affects the forging life The effects were compared. Sample No. 17 in which the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b is less than 0.02 μm is more stable in the form of damage and has a significantly improved forging life. In Sample Nos. 23 and 24, the single layer thickness of the D layer 7a is 64 nm and 128 nm, but the coating layers of the D layer 7a and the F layer 7b are alternately laminated as compared with the sample No. 8 having substantially the same composition. Since the effect of improving the forging life due to the laminated structure has not been obtained, it has been found that it is a preferable configuration of the present invention that the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b is less than 0.02 μm.

(4b):試料番号17〜19において、D層7aとF層7bの単一の膜厚を0.02μm未満とし、D層7aとF層7bの膜厚比を変化させることで、鍛造寿命に及ぼすD層7aとF層7bの膜厚比の影響を比較してみた。その結果、D層7aの単一の膜厚がF層7bの単一の膜厚よりも厚い試料番号17が35万ショット、D層7aとF層7bの単一の膜厚が同程度の試料番号18が27万ショット、D層7aの単一の膜厚がF層7bの単一の膜厚よりも薄い試料番号19が24万ショットとなり、D層7aの単一の膜厚をF層7bの単一の膜厚よりも厚くすることがより好ましい構成であることが判明した。  (4b): In sample numbers 17 to 19, the forging life is obtained by setting the single film thickness of the D layer 7a and the F layer 7b to less than 0.02 μm and changing the film thickness ratio of the D layer 7a and the F layer 7b. The effect of the film thickness ratio of the D layer 7a and the F layer 7b on the above was compared. As a result, Sample No. 17 having a single film thickness of D layer 7a larger than the single film thickness of F layer 7b is 350,000 shots, and the single film thicknesses of D layer 7a and F layer 7b are comparable. Sample number 18 is 270,000 shots, and the single film thickness of D layer 7a is thinner than the single film thickness of F layer 7b. Sample number 19 is 240,000 shots, and the single film thickness of D layer 7a is F. It turned out that it is a more preferable structure to make it thicker than the single film thickness of the layer 7b.

(4c):試料番号17、20〜22において、D層7aとF層7bを交互に積層した積層構造の組成を変化させることで、鍛造寿命に及ぼす皮膜組成の影響を比較した。D層7aのTiの原子比をa(D)、F層7bのTiの原子比をa(F)としたとき、a(D)>a(F)を見たし、さらにa(D)/a(F)値が高いほど、鍛造寿命が良く、且つ、F層7bのCrとAl含有量が高い試料番号17が特に鍛造寿命が良い結果となった。  (4c): In sample numbers 17 and 20-22, the effects of the coating composition on the forging life were compared by changing the composition of the laminated structure in which the D layer 7a and the F layer 7b were alternately laminated. Assuming that the atomic ratio of Ti in the D layer 7a is a (D) and the atomic ratio of Ti in the F layer 7b is a (F), we have seen a (D)> a (F), and a (D) The higher the / a (F) value, the better the forging life, and Sample No. 17 with the higher Cr and Al contents in the F layer 7b resulted in particularly good forging life.

以上のことから、下部皮膜層4を3層の多層構造とし、その多層構造うち、第2層7をD層7aとF層7bからなる交互の積層構造とすることにより、試作パンチの鍛造寿命をさらに格段に向上させることが判明した。  From the above, the forging life of the prototype punch is obtained by forming the lower coating layer 4 into a multilayer structure of three layers, and of the multilayer structure, the second layer 7 is an alternately laminated structure including the D layer 7a and the F layer 7b. It has been found that this can be further improved.

[試作ダイスの耐久性についての考察]
試料番号8、試料番号5、試料番号8、及び試料番号17の4種の試作ダイスについてその耐久性評価(鍛造寿命)の結果を表5に示している。この4種の試作ダイスの鍛造寿命から次の事項が判明した。
[Consideration of durability of prototype die]
Table 5 shows the results of durability evaluation (forging life) of four types of prototype dies of sample number 8, sample number 5, sample number 8, and sample number 17. The following matters were found from the forging life of these four types of prototype dies.

(1)試料番号1に記載の下部皮膜層4を成膜した試作ダイスは、Ti、Cr、Alの窒化物からなる下部皮膜層4を被覆した本発明例に係る試料であって、鍛造寿命が8万ショットになり、Crを含有しない比較例となる試料番号5の試作ダイスに比べて2倍以上の鍛造寿命が得られた。  (1) A prototype die in which the lower coating layer 4 described in Sample No. 1 is formed is a sample according to an example of the present invention in which the lower coating layer 4 made of a nitride of Ti, Cr, and Al is coated, and has a forging life. Was 80,000 shots, and a forging life more than twice as long as that of the prototype die of Sample No. 5 as a comparative example containing no Cr was obtained.

(2)試料番号8の試作ダイスは、下部皮膜層4を3層の多層構造となる第1層6、第2層7、第3層8を有する皮膜層として成膜した試料であるが、上記した試料番号1の試作ダイスと比べて、3倍以上の鍛造寿命となる25万ショットが得られ、より好ましい本発明に係るダイスの被覆構造であることが判明した。このことから、下部皮膜層4を多層構造とした試作ダイスは、前記した試作パンチと同様に、下部皮膜層4を1層から構成した試作ダイスと比較して、その鍛造寿命が一段と向上することが判明した。  (2) The prototype die of sample number 8 is a sample in which the lower coating layer 4 is formed as a coating layer having a first layer 6, a second layer 7, and a third layer 8 having a three-layer structure. Compared with the prototype die of sample number 1 described above, 250,000 shots having a forging life three times or more were obtained, and it was found that the die covering structure according to the present invention was more preferable. From this, the trial die having the lower coating layer 4 having a multilayer structure has a further improved forging life as compared with the trial production die having the lower coating layer 4 composed of one layer, like the trial punch described above. There was found.

(3)本発明例に係る試料番号17の試作ダイスは、下部皮膜層4のうち第2層をD層7aとF層7bの交互積層構造として成膜した試料であるが、本発明例となる試料番号8に係る試作ダイスと比較して、さらに2倍以上の鍛造寿命となる62万ショットが得られ、一段と好ましい本発明の実施形態であることが判明した。  (3) The prototype die of sample number 17 according to the example of the present invention is a sample in which the second layer of the lower coating layer 4 is formed as an alternately laminated structure of the D layer 7a and the F layer 7b. As compared with the prototype die according to Sample No. 8, 620,000 shots with a forging life more than doubled were obtained, which proved to be a more preferred embodiment of the present invention.

以上に説明した本発明の実施形態及び実施例においては、本発明に係る硬質皮膜層を形成した冷間用金型の例として、冷間鍛造用金型に使用するパンチであって、長手方向と直交す方向の断面形状が円形をなし、その先端部に、被加工物に対して塑性加工の圧縮応力を集中して作用させるための上端部(円錐状部)を備えた、後方押出し成形用のパンチを例にして説明した。
本発明に係る硬質皮膜層を形成した被覆冷間用金型は、後方押出し成形用金型の他に、前方押出し成形用金型、据込み加工用金型、打ち抜き加工用金型、圧印加工用金型、各種のプレス成型用金型や、各種のパンチやダイスも含む。例えば、本発明の冷間用金型は、断面形状が四角形、六角形等の多角形状や、楕円形状、ギヤ型の形状等の鍛造成形製品の内径形状に応じたパンチも含むものである。断面形状が六角形をなすパンチやダイスは、ボルトやナット等の成形用パンチとして使用できる。
In the embodiments and examples of the present invention described above, as an example of a cold mold having a hard coating layer according to the present invention, it is a punch used for a cold forging mold, in the longitudinal direction. The cross-sectional shape in the direction perpendicular to the shape is circular, and at the tip, it is equipped with an upper end (conical part) for concentrating and applying the compressive stress of plastic working on the workpiece. An example of a punch for use has been described.
The coated cold mold in which the hard coating layer according to the present invention is formed includes a forward extrusion mold, an upsetting mold, a punching mold, a coining process in addition to a backward extrusion mold. Also included are metal molds, various press molds, various punches and dies. For example, the cold mold according to the present invention includes a punch corresponding to the inner shape of a forged product such as a polygonal shape such as a quadrangle or hexagonal cross section, an elliptical shape, or a gear shape. A punch or die having a hexagonal cross section can be used as a molding punch for bolts, nuts, and the like.

このように、本発明に係る硬質皮膜層を形成した冷間用金型は、上記した各種のパンチ、ダイスに限定されるものではなく、一般にポンチやピンといわれている塑性加工用治具、これらパンチ、ポンチ、ピンと組み合せて使用されるダイス、又はダイ等を含むものである。また、その材質は鉄基合金、高速度工具鋼、超硬合金等、各種のセラミックス等を利用することができる。  As described above, the cold mold having the hard coating layer according to the present invention is not limited to the above-mentioned various punches and dies, and is a plastic working jig generally referred to as a punch or a pin. It includes dies used in combination with punches, punches, pins, or dies. In addition, various ceramics such as iron-base alloy, high-speed tool steel, and cemented carbide can be used as the material.

なお、上記した本発明の実施形態及び実施例においては、下部皮膜層4をパンチ及ダイスの基材の表面の直上に成膜する例について説明したが、下部皮膜層4と金型の基材との密着性を向上させる等のために、パンチ及ダイスの基材の表面直上に、Ti、Cr、Al、の1種又は2種以上の窒化物又は炭窒化物からなる皮膜層を1層以上形成し、この皮膜層の直上に下部皮膜層4を成膜してもよい。さらには、表面皮膜層5の直上に、外観色調整や表面皮膜層5より耐酸化性の高い皮膜層として、Ti、Cr、Al、Si、Nbの1種又は2種以上の窒化物又は炭窒化物からなる皮膜層を1層以上形成しても良い。  In the above-described embodiments and examples of the present invention, the example in which the lower film layer 4 is formed directly on the surface of the punch and die base material has been described. However, the lower film layer 4 and the mold base material are described. In order to improve the adhesion to the base material of the punch and die, one film layer made of one or more of Ti, Cr, Al, nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al is provided. Thus, the lower coating layer 4 may be formed directly on the coating layer. In addition, as a coating layer having higher color resistance and higher oxidation resistance than the surface coating layer 5 just above the surface coating layer 5, one or more types of nitride or charcoal of Ti, Cr, Al, Si, Nb are used. One or more coating layers made of nitride may be formed.

1:被覆冷間用金型
2:基材
3:硬質皮膜層
4:下部皮膜層
5:表面皮膜層
6:第1層
7:第2層、7a:D層、7b:F層
8:第3層
20:パンチ
22:機能部
23:上端部
24:ベアリング部
25:径縮小部
26:逃げ部
28:円弧形状面部
30:ダイス
31:ニブ
32:ケース
33:ニブ内周部
34:空間部
35:機能部
40:成膜装置
41:チャンバー
42a、42b、42c、42d:カソード
43:基材ステージ
44:パンチの基材
45:アーク電源装置
46:バイアス電源装置
50:冷間鍛造装置
51:試作パンチ
52:試作ダイス、52a:ニブ、52a1:ニブ内周部、52b:ケース、52c:空 間部
53:下受けパンチ
55:押出し成形品、55a:円筒部、55b:底部
56:被加工物
1: coating cold mold 2: base material 3: hard coating layer 4: lower coating layer 5: surface coating layer 6: first layer 7: second layer, 7a: D layer, 7b: F layer 8: first 3 layers 20: punch 22: functional part 23: upper end part 24: bearing part 25: diameter reducing part 26: relief part 28: arc-shaped surface part 30: die 31: nib 32: case 33: nib inner peripheral part 34: space part 35: functional unit 40: film forming apparatus 41: chambers 42a, 42b, 42c, 42d: cathode 43: substrate stage 44: punch substrate 45: arc power supply device 46: bias power supply device 50: cold forging device 51: Trial Punch 52: Trial Die, 52a: Nib, 52a1: Nib Inner Periphery, 52b: Case, 52c: Spatial Part 53: Base Punch 55: Extrusion Molded Product, 55a: Cylindrical Part, 55b: Bottom 56: Workpiece object

Claims (9)

基材の表面に、Ti、Cr、Al、Siの窒化物又は炭窒化物からなる硬質皮膜層を被覆した冷間用金型であって、
前記硬質皮膜層は、
Ti、Cr、Alの窒化物又は炭窒化物からなる下部皮膜層と、
Ti、Siの窒化物又は炭窒化物からなる表面皮膜層を備え、
前記下部皮膜層は、前記表面皮膜層よりも前記基材の表面側に成膜されていることを特徴とする被覆冷間用金型。
A cold mold in which a hard coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al, Si is coated on the surface of a substrate,
The hard coating layer is
A lower coating layer made of a nitride or carbonitride of Ti, Cr, Al;
Provided with a surface coating layer made of Ti, Si nitride or carbonitride,
The coated cold mold, wherein the lower coating layer is formed on the surface side of the substrate with respect to the surface coating layer.
請求項1に記載の被覆冷間用金型において、前記下部皮膜層は、その組成が、
一般式:TiCrAl(C)(ただし、a、b、c、u、vは、それぞれTi、Cr、Al、C、Nの原子比を示す)で表され、
前記a、b、c、u、vは下記の条件:
0<a≦0.6、
0<b≦0.3、
0.3<c<0.7、
0≦u≦0.5、
0<v≦1、
a+b+c=1、
u+v=1、
を満たしていることを特徴とする被覆冷間用金型。
The coated cold mold according to claim 1, wherein the lower coating layer has the following composition:
Represented by the general formula: Ti a Cr b Al c (C u N v ) (where a, b, c, u, v represent the atomic ratio of Ti, Cr, Al, C, N, respectively),
Said a, b, c, u, v are the following conditions:
0 <a ≦ 0.6,
0 <b ≦ 0.3,
0.3 <c <0.7,
0 ≦ u ≦ 0.5,
0 <v ≦ 1,
a + b + c = 1,
u + v = 1,
Coated cold mold characterized by satisfying
請求項1又は請求項2に記載の被覆冷間用金型において、前記下部皮膜層は、前記表面皮膜層の直下に成膜されていることを特徴とする被覆冷間用金型。  3. The coated cold mold according to claim 1, wherein the lower coating layer is formed immediately below the surface coating layer. 4. 請求項1から請求項3のいずれかに記載の被覆冷間用金型において、前記下部皮膜層は、前記基材の表面側から前記表面皮膜層側に向けて、順次、組成が異なる皮膜層を少なくとも2層以上有する多層構造をなし、前記多層構造をなすそれぞれの前記皮膜層は0.1〜3μmの膜厚を有していることを特徴とする被覆冷間用金型。  The coated cold mold according to any one of claims 1 to 3, wherein the lower coating layer is a coating layer having different compositions sequentially from the surface side of the substrate toward the surface coating layer side. A coated cold mold characterized in that a multilayer structure having at least two layers is formed, and each of the coating layers forming the multilayer structure has a thickness of 0.1 to 3 μm. 請求項4に記載の被覆冷間用金型において、前記多層構造は、前記基材の表面側から順次、第1層、第2層、第3層からなる3つの皮膜層から構成されており、
前記第1層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa1、b1、c1、
前記第2層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa2、b2、c2、
前記第3層のTi、Cr、Alの原子比を、それぞれa3、b3、c3、
としたときに、
a1>a2>a3、
b3>b2>b1、
c3>c2>c1、
を満たしていることを特徴とする被覆冷間用金型。
5. The coated cold mold according to claim 4, wherein the multilayer structure is composed of three coating layers including a first layer, a second layer, and a third layer sequentially from the surface side of the base material. ,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the first layer are a1, b1, c1,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the second layer are a2, b2, c2,
The atomic ratios of Ti, Cr, and Al in the third layer are a3, b3, c3,
And when
a1>a2> a3,
b3>b2> b1,
c3>c2> c1,
Coated cold mold characterized by satisfying
請求項5に記載の被覆冷間用金型において、前記多層構造をなす前記第2層はD層とF層からなる皮膜層を交互に積層した積層構造をなし、
前記D層及び前記F層は、0.02μm未満の膜厚を有しているとともに、
前記D層のTiの原子比をa(D)、
前記F層のTiの原子比をa(F)、
としたときに、
a(D)>a(F)、
を満たしていることを特徴とする被覆冷間用金型。
The coated cold mold according to claim 5, wherein the second layer forming the multilayer structure has a laminated structure in which film layers composed of D layers and F layers are alternately laminated,
The D layer and the F layer have a film thickness of less than 0.02 μm,
The atomic ratio of Ti in the D layer is a (D),
The atomic ratio of Ti in the F layer is a (F),
And when
a (D)> a (F),
Coated cold mold characterized by satisfying
請求項6に記載の被覆冷間用金型において、前記D層の膜厚は、前記F層の膜厚と同じ、もしくは前記F層の膜厚よりも厚くなるように成膜されていることを特徴とする被覆冷間用金型。  7. The coated cold mold according to claim 6, wherein the film thickness of the D layer is formed to be the same as the film thickness of the F layer or thicker than the film thickness of the F layer. Coated cold mold characterized by 請求項1から請求項7のいずれかに記載の被覆冷間用金型は、冷間鍛造用のパンチであることを特徴とする被覆冷間用金型。  The coated cold mold according to any one of claims 1 to 7, wherein the coated cold mold is a punch for cold forging. 請求項1から請求項7のいずれかに記載の被覆冷間用金型は、冷間鍛造用のダイスであることを特徴とする被覆冷間用金型。  The coated cold mold according to any one of claims 1 to 7, wherein the coated cold mold is a die for cold forging.
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