JP2018020398A - 研削方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、前記所定の傾斜角は、0度よりも大きく45度以下であることが好ましい。
図1に示すウェーハWは、研削対象となる板状物の一例であり、例えば、サファイア基板上にGaNからなる発光層が形成された光デバイスウェーハである。表面Waには、縦横に形成された分割予定ラインLによって区画された領域にデバイスDが形成されている。このウェーハWは、裏面Wbが研削されることにより、所定の厚さに形成される。なお、研削対象のウェーハWとしては、光デバイスウェーハのほかに、SiCウェーハなどの硬質材からなるウェーハがある。
次に、研削装置1を用いて、チャックテーブル2に保持されたウェーハWの裏面Wbを研削する。図3に示すように、研削装置1には、研削手段3を備えている。この研削手段3は、回転可能なスピンドル30と、スピンドル30の下端に連結されたマウント31と、マウント31に装着された研削ホイール32とから構成されている。研削ホイール32は、基台320と、基台320の下面に固着された複数の研削砥石321とから構成され、研削砥石321の下面は、ウェーハWと接触して研削を行う研削面322となっている。図3に示す状態においては、チャックテーブル2の保持面200と研削砥石321の研削面322とが平行となっている。
第一研削ステップでは、図4に示すように、チャックテーブル2の保持面200と研削砥石321の研削面322とが平行である状態から、回転軸23を第一の方向24に所定角度θだけ傾斜させる。θは、例えば、0度よりも大きく45度以下である。
次に、図6に示すように、チャックテーブル2の保持面200と研削砥石321の研削面322とが平行である状態を基準として、前記第一の方向24とは反対の第二の方向25に回転軸23を所定角度傾斜させる。なお、ここにいう所定角度は、第一研削ステップにおける所定角度とは向きが反対方向となっており、その角度の大きさは、第一研削ステップにおける所定角度と同じ大きさでなくてもよい。
次に、図8に示すように、回転する研削砥石321の研削面322を、回転するチャックテーブル2の保持面200に対して平行に位置づける。そして、チャックテーブル2を矢印26の方向に回転させるとともに、研削手段3を矢印27の方向に回転させ、研削手段3を降下させて回転する研削砥石321の研削面322をウェーハWの裏面Wbに接触させる。このとき、研削砥石321の回転軌道がウェーハWの中心を通るようにする。このような研削を、ウェーハWが所定の厚さに形成されるまで行う。そして、チャックテーブル2による吸引を解除してウェーハWを取り出すと、図9に示すようにウェーハWは、傾斜面Wc及びWdが除去され、裏面側の被研削面Wbbが平坦になった状態となり、均一な厚さに形成される。
Wa:表面 D:デバイス L:分割予定ライン
Wb:裏面
T:保護テープ
1:研削装置
2:チャックテーブル 20:吸引部 200:保持面 201:中心
21:枠体 22:吸引路 23,23a、23b:回転軸
24:第一の方向 25:第二の方向
3:研削手段
30:スピンドル 31:マウント
32:研削ホイール 320:基台 321:研削砥石 322:研削面
Claims (3)
- 研削砥石を備えた研削ホイールを用いて板状物を研削する研削方法であって、
円錐面状の保持面を有したチャックテーブルにおいて板状物を保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、回転する該研削砥石の研削面を回転する該チャックテーブルの該保持面に対して所定の傾斜角をもって位置づけるとともに該研削砥石の該研削面を該チャックテーブルに保持された板状物に接触させて板状物を研削する傾斜研削ステップと、
該傾斜研削ステップを実施した後、回転する該研削砥石の該研削面を回転する該チャックテーブルの該保持面に対して平行に位置づけるとともに該研削砥石の該研削面を板状物に接触させて板状物を研削する平行研削ステップと、
を備えた研削方法。 - 前記チャックテーブルは、前記円錐面状の保持面の頂点を通る回転軸を有しており、
前記傾斜研削ステップは、該チャックテーブルの該保持面と前記研削砥石の前記研削面とが平行である時の該回転軸に対して第一の方向に該回転軸を所定角度傾斜させた状態で板状物を研削する第一研削ステップと、
該チャックテーブルの該保持面と該研削砥石の該研削面とが平行である時の該回転軸に対して該第一の方向と反対の第二の方向に該回転軸を所定角度傾斜させた状態で板状物を研削する第二研削ステップと、
を含む請求項1に記載の研削方法。 - 前記所定の傾斜角は、0度よりも大きく45度以下である、
請求項1または2に記載の研削方法。
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