JP2017532124A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 装置の少なくとも１つのチャネルを乾燥させる方法であって、以下の：
   ａ）層流の流動様式により、残留水を排除するために前記装置の少なくとも１つのチャネルに中性ガスを注入するステップと、
   ｂ）乱流の流動様式を有するガスを注入することにより、前記装置の少なくとも１つのチャネルを乾燥させることであって、前記ガスが、３０℃〜６０℃の温度で注入される、ステップと
   を含む、方法。
2. ステップｂ）の後に、以下の：
   ｃ）気密性容器に前記装置を配置するステップと、
   ｄ）前記気密性容器へ、二窒素流または空気流における電気的な放電により生成されるプラズマを注入し、次いで前記容器を閉鎖するステップと
   を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
3. 前記中性ガスが二窒素または空気であることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
4. 前記ステップｂ）で使用されるガスが中性であるか、または二窒素流または空気流における電気的な放電により生成されるプラズマであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記ステップａ）で注入される中性ガスを、１０〜６０秒間、前記装置の少なくとも１つのチャネルに注入することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 前記ステップａ）で注入される中性ガスを、１０℃〜３０℃の温度で、前記装置の少なくとも１つのチャネルに注入することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 前記ステップｂ）で注入されるガスを、３０〜１５０秒間、前記装置の少なくとも１つのチャネルに注入することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 前記ステップｄ）で注入されるプラズマを、３〜１０秒間、前記容器に注入することを特徴とする、請求項２〜７のいずれか１項に記載の方法。
9. 前記装置が内視鏡であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
10. 前記乾燥ｂ）を、前記内視鏡の少なくとも１つのチャネルにピストンケージまたはその近位端を介してガスを注入することにより行うことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
11. 前記ステップａ）〜ｂ）の継続時間の合計が、１〜５分であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
12. 前記内視鏡を、ステップａ）の前に化学的に消毒することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
13. 前記ステップｄ）の後に、前記容器を、少なくとも２４時間または少なくとも７２時間保管することができることを特徴とする、請求項２〜１２のいずれか１項に記載の方法。
14. 前記ステップａ）の前に、乾燥ユニットに前記装置を接続するステップを行うことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
15. 前記ステップａ）の前に、乾燥ユニットに前記装置を接続するステップを行い、前記方法が、ステップｂ）とｃ）との間に、前記装置を接続解除するステップを含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。