JP2017528663A - 蒸気結合部を有するプロセス変数送信器用マニホールド - Google Patents

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Abstract

プロセス変数送信器マニホールドが提供され、それはバルブ及びフランジ付き搭載用面(218)を有するバルブ本体(202)を具備する。バルブ本体(202)は、バルブ(102)を通過するプロセス流体を選択的に結合させるためにそこを通過するポート(204)、及びバルブ本体内に冷却用チャネルを有する。冷却用チャネル(212)は、入口(208)、出口(210)、及び入口と出口戸を接続する通路(212)を有する。マニホールド内のプロセス流体の温度を制御する方法は、また提供される。該方法は、マニホールド(200)内のチャネルを通過させて流体を通過させること、マニホールドを貫通する少なくとも1つの穴(212)を通過させてプロセス流体を通過させること、及びチャネルを通過する流体の或る特定の温度に基づいて、プロセス流体の伝導性の冷却又は加熱によりプロセス流体の温度を調整すること、を包含する。

Description

本発明は、産業プロセスにおけるプロセス流体の流れに関する。より具体的には本発明は、プロセス変数送信器用マニホールドの冷却に関する。
石油精製所において、流れを計測するためのオリフィス板、平均化ピトー管などの使用は、通常のことである。計測される何らかのプロセス流体は、約700°Fの温度でありえ、そして約200°F未満で凝固することが多い。流速及び他の変数を計測し且つ通信するところのプロセス変数送信器は、一般的には約200°Fを超える温度で動作することができないエレクトロニクスを有する。これが原因で、プロセス変数送信器のプロセス流管への搭載又は近接結合は、プロセス流体の高温によってもたらされる送信器エレクトロニクスの過熱のゆえに実現されえない。送信器エレクトロニクスの加熱を軽減するために、プロセス変数送信器は、プロセス流体の配管から離れた距離に置かれることが多い。
プロセス配管から送信器エレクトロニクスを分離するために、小口径インパルス配管が用いられうる。インパルス配管は、分岐及び接合を必要とすることが多く、そしてインパルス配管接続において漏洩点なしに維持することは困難でありうる。さらに、小口径管内のプロセス流体の量は少ないので、プロセス流体温度は、インパルス配管において急速に降下しうる。管、特に小口径の管のプロセス流体が、周りの空気よりも高温であるとき、熱は、プロセス流体から周りの空気へと管の壁を通過する。この熱損失は、プロセス流体の温度低下をもたらす。
或る特定のプロセス流体は、もし温度が固有の閾値以下に低下すると凝固する。例えば、約200°Fの温度で重質原油は一般に凝固する。別のプロセス流体は、異なる温度で凝固しうる。これは、圧力を計測するとき、且つプロセス流体が計測インパルス配管において凝固するときに問題である。
インパルス配管内のプロセス流体の凝固、それは閉塞を生成しうる、の機会を減らすために、低圧の蒸気(1インチ当たり30ポンドのオーダー)が、いくつかの環境において蒸気トレースのために用いられる。蒸気は、プロセス流計測の分野において実用的なものとして一般的に利用可能である。蒸気トレース管は、インパルス配管の隣りに又は近傍に配設されるところの小口径管であり、且つ或る特定の温度、多くの場合約212〜230°Fで圧力をかけられた蒸気を収容し、それはインパルス配管内のプロセス流体の温度をそれらの凝固を防ぐように充分高く維持するのを助ける。
沈殿物の蓄積は、インパルス配管内の閉塞の別の一般的な原因である。流れ内の固形物は、インパルス管配設における最も低い点で堆積する傾向を有する。インパルス配管は、障害物を迂回し及び障害物を超えて、例えばエルボー(曲がり管)及びトラップ(防臭弁)を用いて配管されることが多く、固形物が集まりうる多くの領域を生じさせる。
さらに、インパルス配管内のプロセス漏洩は、プロセス変数送信器での誤った読み取り、例えば誤った差圧の読み取りを生じさせえて、流れ計測精度に重大な影響を有しうる。差圧流計測システムにおける漏洩の可能性は、該システムにおける接続の数に直接的に比例する。
上の検討は、単に一般的な背景情報のために与えられ、且つ請求項の範囲を決定する助けとして用いられることは意図されない。請求項は、背景で記された何らかの又は全ての欠点を解決する実装に限定されるものではない。
プロセス変数送信器マニホールドが提供され、それは、バルブ及びフランジ付き搭載用面を有するバルブ本体を具備する。バルブ本体は、プロセス流体を選択的に結合させるためのポート、及びバルブ本体内に冷却用チャネルを有する。冷却用チャネルは、入口、出口、及び入口及び出口と接続する通路を有する。マニホールド内のプロセス流体の温度を制御する方法がまた提供される。方法は、マニホールド内のチャネルを通して流体を通過させること、及びマニホールドを貫通する少なくとも1つの穴を通過するプロセス流体へ結合させることを包含する。マニホールドは、チャネルを通過する流体によって加熱又は冷却される。
この発明の概要及び要約は、簡単化された形態における概念の選択を紹介するために提供され、それらはさらに以下に本明細書において記載される。本慨要及び要約は、請求された事項の鍵となる特徴又は本質的な特徴を識別することを意図されておらず、またそれらは請求された事項の範囲を決定するのを助けるように用いられることも意図されない。
2ゲートバルブの斜視図である。 本発明の実施態様によるゲートバルブマニホールドの正面斜視図である。 図2のゲートバルブマニホールドの背面斜視図である。 図2のゲートバルブマニホールドの平面図である 図4のゲートバルブマニホールドの線5−5に沿って切断された断面図である。 本発明の実施態様によるプロセス計測システムの斜視図である。 本発明の実施態様による方法のフローチャート図である。
図1は、基幹バルブ構成における標準的な2ゲートバルブマニホールド100を示しており。プロセス流体の差圧への結合において用いられるバルブ102及び104を有する。入口106は、プロセスの器、例えばプロセス配管(図示されていない)に結合するように構成される。穴108は、バルブ102及び104の各々を通過して出口部材110へ延在する。ゲートバルブ100の各バルブ102及び104は、公知の仕方でその穴108を開き及び閉じる。搭載用ブロック112は、プロセスシステムの別の部分、例えば差圧構成要素等へゲートバルブ100を搭載するための搭載用孔114を有する。記述されたように、バルブ102及び104を通過するプロセス流体の流れは、搭載用ブロック112を含むゲートバルブ100の構成要素を加熱し、その結果、搭載用ブロックに結合されたプロセスシステムの別の部分を加熱しうる。
本発明の実施態様によるゲートバルブマニホールド200は、図2及び3の正面斜視図および背面斜視図に示される。ゲートバルブマニホールド200は、2ゲートバルブマニホールドとして示されるが、本発明の範囲から逸脱しない限り本発明の実施態様は、より多くの又はより少ないバルブのゲートバルブ束を有するものにも適することが理解されるべきである。
ゲートバルブマニホールド200は、1の実施態様において、バルブ、例えば上記されたバルブ102及び104を取り囲むマニホールド本体202を備える。マニホールド200は、ゲートバルブ、例えばゲートバルブ100の出口110へ結合するためのポート204を有する。ここで図3及び5もまた参照すると、マニホールド200は、蒸気通路212によって接続された蒸気ポート208及び210を具備する蒸気パス206を有しており、入口として用いられる1つの蒸気ポート、及び出口として用いられる1つの蒸気ポートを有する。図示されたように、蒸気ポート208は入口であり、そして蒸気ポート210は出口である。蒸気通路212(図5)は、蒸気ポート208と蒸気ポート210とを接続する。蒸気パス206は、例えば、標準1/4インチNPTねじ切り蒸気配管によって、その入力蒸気ポート208で蒸気供給部(図5参照)へ接続可能である。1/4インチNPTねじ切りが検討される一方で、本発明の範囲を逸脱しない限り、1/2インチ又は別のサイズのNPT蒸気管から低減するためにレデューサー(径違い継手)が用いられてもよい。該複数のポートは、清浄な通路の保証を可能にするように連桿(管接続による延伸)可能(roddable)である。
図4は、図2及び3のマニホールド200の平面図であり、そして図5は、図4の線5−5に沿って示されたマニホールド200の断面図である。ここで図5を参照すると、蒸気パス206はより詳細に示される。蒸気は、入口蒸気ポート208で入口蒸気管502から与えられ、そして蒸気通路212を通り抜け、出口蒸気ポート210でマニホールド200を出て、出口蒸気管504へ入る。従って、蒸気パス206内の蒸気の流れは、矢印214の方向であるけれども、入口208及び出口210並びに入口蒸気管502及び出口蒸気管504は、本発明の範囲から逸脱しない限り逆になってもよい。
蒸気パス206は、1の実施態様において蒸気ポート208及び210をドリルで穴開けすることによって形成され、そして蒸気通路212は、異なる穴開け操作で形成され、マニホールド200の面216から穴開けされた蒸気ポート208及び210を有し、そして通路212は、マニホールドの頂部でフランジ付き搭載用面218から実質的に直角に蒸気ポート208及び210へ穴開けされる。蒸気通路212を形成するこの方法は、開口部220を残し、開口部220は正常運転において栓222によって栓をされる。栓222は、蒸気パス206の保守のために取り外されうる。
蒸気通路212は、1の実施態様においては、バルブ102及び104の複数の穴108と一直線に並べられ、図5において最も明瞭に見られるように通路212は複数の穴108の間に存在し、そこでは通路212と穴108は軸500の平面上に並べられる。この構成は、複数の穴108の間、ひいては穴108内を流れるプロセス流体の間の中央に通路212を配置する。蒸気パス208を通り抜ける蒸気は、所定の温度、1の実施態様においては212°Fである。穴108を通るプロセス流体の通過は、マニホールド本体202を加熱する。蒸気パス206を通過する蒸気は、マニホールド本体202よりも低温であり、マニホールド本体202を冷却する。
1の実施態様におけるマニホールド200は、マニホールド結合部216が別のシステム構成要素、1の実施態様にけるプロセス変数送信器、又は隔離マニホールド等へ結合されることを可能にするようにマニホールド結合部216を用いる。直接結合部又は近接結合部を有する結合部は、マニホールド本体が、プロセス変数送信器エレクトロニクスを加熱しないよう十分に冷却されるので、本発明の実施態様で利用可能である。この近接結合部又は直接結合部は、少なくともいくつかのインパルス配管を除去し、上に記載されたインパルス配管の有する少なくとも幾つかの事柄を軽減する。
本発明の実施態様において、ゲートバルブマニホールド200は、標準2ゲートバルブ、例えばゲートバルブ100に搭載された分離マニホールドでありえ、又はマニホールドを有する独立型ゲートバルブとしてのゲートバルブと一体化されうる。
蒸気は、蒸気パス206を通過させられるものとして記載される一方で、本発明の範囲から逸脱することなく、別の流体が蒸気パスを通過させられうることが理解されるべきである。蒸気通路は、マニホールドを冷却又は加熱するために様々な流体を様々な温度で運ぶことができる。極端に冷たい環境における高温蒸気の施与又は実施が、近接又は直接に搭載された送信器を用いて可能になる。
図6は、マニホールド、例えばマニホールド200を採用する差圧運転のためのプロセス計測システム600の斜視図である。図6に図示されたように、プロセス配管、例えば管602は、その中を流れるプロセス流体を包含する。幾つかのプロセス変数、例えば流量、又は圧力等、の計測の位置で、ゲートバルブマニホールド、例えばマニホールド200は、配管602に搭載され、そしてインパルス配管を通して分離マニホールド604へのプロセス流体の通過を可能にする。マニホールド200は、ここでは5バルブマニホールドとして示されるが、別のマニホールド、例えば3バルブ分離マニホールドが同様に使用されてもよい。分離マニホールド604は、その搭載用開口部224でゲートバルブマニホールド200へ搭載され、そして配管602内の差圧要素での差圧に関する信号を生成するように公知の仕方で動作し、該信号はプロセス変数送信器606へ送信される。
マニホールドを冷却するために蒸気を用いることは、基本分離部(根元バルブ)、及び送信器、例えば送信器606の、最小数のインパルス配管及び漏洩点を有する高温応用における差圧基本部への近接結合部のために許容され、そしてプロセス流体を液体に保つ。プロセス流体を凝固しないように保つことと送信器606を過熱しないように遮蔽することとの間のバランスは、微妙である。マニホールド202の温度を制御するために使用される蒸気は、プロセス流体を詰まらせないように保つのに十分な熱を有するが、大半の送信器エレクトロニクスにとって動作温度限界に近い。送信器、例えば送信器606のプロセス配管、例えば配管602への直接搭載又は近接結合された搭載を可能にする本発明の実施態様によって、一体化された計器解決策が与えられうる。これはエネルギーの節約、取付の労力、及び保守の形での顧客の時間及び金銭を節約する。
プロセス流体がマニホールド内を流れるとき、高温プロセス流体と低温配管の間の伝導がマニホールドを加熱する。マニホールドがエレクトロニクス、例えば差圧計測エレクトロニクス等に結合されるので、エレクトロニクスもまた加熱される。通常のそのようなエレクトロニクスは、約200°Fまでしか動作しえず、一方700°Fまでの通常の温度でのプロセス流体は、マニホールドを加熱し、ひいてはマニホールドに結合されたエレクトロニクスを機能させるには高過ぎる温度まで加熱する。
通常は、フィールドデバイス、例えば送信器606は、プロセス施設内の遠隔の場所に置かれ、そして感知されたプロセス変数を中央に置かれた制御室へ返送する。有線又は無線の両方の通信を含む種々の技術が、プロセス変数を送信するために用いられうる。1つの普通の有線通信技術は、2線式プロセス制御ループを用い、そこでは1対の電線が、情報を伝達すること及び送信器606へ電力を供給することの両方のために用いられる。情報を送信するための1つの技術は、プロセス制御ループを通る電流レベルを4mA〜20mAの間に制御することによってである。4mA〜20mAの範囲内の電流の値は、プロセス変数の対応する値に写像されうる。デジタル通信プロトコルの例は、HART(商標)(標準4〜20mAアナログ信号に重畳されたデジタル通信信号から成るハイブリッド物理レイヤ)FOUNDATION(商標)Fieldbus(1992年にアメリカ計測学会によって公表された全デジタル通信プロトコル)、Profibus通信プロトコル、又はその他を包含する。無線プロセス制御ループプロトコル、例えばWirelessHART(商標)を含む無線周波通信技術は、また実装されうる。本発明の実施態様において、送信器は、マニホールド200の温度を低下させることによって可能とされた、プロセス配管へ直接に搭載されるか又は近くに搭載され、マニホールドの温度は、送信器エレクトロニクスが評価を傷つけられないように十分に冷たい。1の実施態様において、システム600の近傍の周囲温度は、さらに送信器をその動作温度範囲内にまで冷却する。
1の実施態様において、マニホールド内のプロセス流体の温度を制御する方法700は、ブロック702において、マニホールド内のチャネルを通して或る特定の温度で流体を通過させること、ブロック704において、マニホールドを通過する少なくとも1つの穴を通してプロセス流体を通過させること、及びプロセス流体をプロセス変数送信器へ結合させること、及びブロック706において、チャネルを通過する流体の或る特定の温度に基づくマニホールドの伝導性の冷却又は加熱によりマニホールドの温度を調整すること、を包含する。1の実施態様のマニホールドは、そこを通過する1以上の穴を有するゲートバルブマニホールドである。この実施態様において、チャネルを通して流体を通過させることは、2つの穴の間に配置されたチャネルを通して流体を通過させることを含む。1の実施態様において、流体は、約212°Fの蒸気である。別の実施態様において、異なる温度の蒸気、又は異なる流体が、プロセス流体を加熱又は冷却するために用いられうる。1実施態様のプロセス流体は、マニホールドを用いてプロセス変数送信器へ結合される。
ある実施態様においては、周囲温度が、動作限界内に送信器の温度を低下させるために用いられる一方で、別の実施態様においては、断熱が、1又は複数のバルブを極端な状態から隔離するのを助けるために用いられうる。
単一の蒸気パス206が、マニホールド200内に示される。しかし、本発明の範囲を逸脱することなく、追加の蒸気パスが、マニホールド内に作られうることが理解されるべきである。更に、また本発明の範囲を逸脱しないで、2を超える個々のバルブを有するゲートバルブで、蒸気パス、例えば蒸気パス206は、複数のバルブの間のマニホールド内に形成されうる。また、差圧計測に関する操作が記載されたが、本発明の範囲を逸脱しないで、別のプロセス変数が、ここで記載された実施態様を用いて計測されうることが理解されるべきである。
要素は、分離された上の実施態様として図示され又は記載されてきたけれども、各実施態様の部分は、上で記載された別の実施態様の全て又は部分と組合せられうる。特定事項は、構造的特徴及び/又は方法的動作を特定する言語で記載されたが、添付された請求項において規定された特定事項は、必ずしも上に記載された特定事項又は動作に限定されるものではないことが理解されるべきである。むしろ、上で記載された特定事項及び動作は、請求項を実施するための例示的形態として開示される。

Claims (18)

  1. プロセス変数送信器マニホールドであって、
    そこを通過するプロセス流体を選択的に結合させるためのそこを通過するポートを有するバルブと、フランジ付き搭載用面とを有するバルブ本体、;及び
    バルブ本体内の、入口、出口、及び入口と出口とを接続する通路を有する冷却用チャネル;
    を備える、
    マニホールド。
  2. さらに、そこを通過するプロセス流体を選択的に結合させるためのそこを通過する第2ポートを有する第2バルブを備え、冷却用チャネルは複数のバルブの間に配置される、請求項1に記載のマニホールド。
  3. 冷却用チャネルは、バルブ本体のこれらポートの間に存在する、請求項2に記載のマニホールド。
  4. 冷却用チャネルは、マニホールドを冷却又は加熱するために蒸気源へ接続可能である、請求項1に記載のマニホールド
  5. ポートは、連桿可能(roddable)である、請求項1に記載のマニホールド。
  6. 入口及び出口は相互に実質的に平行であり、通路は入口及び出口に対して実質的に垂直である、請求項1に記載のマニホールド。
  7. さらに、入口から出口への通路を或る特定の温度の流体を通過させることによって、マニホールドの温度を制御するために、入口に接続された供給管を備える、請求項6に記載のマニホールド。
  8. マニホールド内のプロセス流体の温度を制御する方法であって、
    マニホールド内のチャネルを通して或る特定の温度で流体を通過させること;
    マニホールドを貫通する少なくとも1つの穴を通過するプロセス流体へ結合させること、且つそれによってプロセス流体をプロセス変数送信器へ結合させること;及び
    チャネルを通過する流体の温度に基づくマニホールドの伝導冷却又は伝導加熱によりマニホールドの温度を調整すること;
    を包含する、
    上記方法。
  9. マニホールドは、そこを貫通する2つの穴を有するゲートバルブマニホールドであり、チャネルを通して流体を通過させることは、2つの穴の間に配置されたチャネルを通過して流体を通過させることを包含する、請求項8に記載の方法。
  10. マニホールド内のチャネルを通して流体を通過させることは、マニホールド内のチャネルを通して蒸気を通過させることを包含する、請求項8に記載の方法。
  11. マニホールドの温度を制御する方法であって、
    マニホールドを加熱又は冷却するためにマニホールドチャネルを通して蒸気を通過させること;
    プマニホールドを用いてロセス流体をプロセス変数送信器へ結合させること;及び
    プロセス流体の温度と蒸気の温度との間の温度差を用いてマニホールドを冷却又は加熱すること;
    を包含する、
    上記方法。
  12. ゲートバルブマニホールドであって、
    入口及び出口を有するゲートバルブ;
    ゲートバルブの出口へ結合するためのポートを有するマニホールド本体;及び
    蒸気通路によって接続された蒸気入口ポート及び蒸気出口ポートを有し、蒸気の外部源へ接続可能である、マニホールド本体内の蒸気パス;
    を備える、
    ゲートバルブマニホールド。
  13. ポートは、連桿可能(roddable)である、請求項12に記載のゲートバルブマニホールド。
  14. 入口及び出口は相互に実質的に平行であり、通路は入口及び出口に対して実質的に垂直である、請求項12に記載のゲートバルブマニホールド。
  15. 蒸気パスは、1/4インチNPT管ねじ切り配管によって外部源へ接続可能である、請求項12に記載のゲートバルブマニホールド。
  16. ゲートバルブは、2ゲートバルブであり、2ゲートバルブの各バルブは、そこを通過するポートを有する、請求項12に記載のゲートバルブマニホールド。
  17. 蒸気パスは、ポートの間に配置される、請求項16に記載のゲートバルブマニホールド。
  18. プロセス計測システムであって、
    ゲートバルブマニホールド;
    分離マニホールドへプロセス流体を選択的に結合させるゲートバルブマニホールドに結合された分離マニホールド;及び
    分離マニホールドへ直接的に搭載されたプロセス変数送信器;
    を備え、
    ゲートバルブマニホールドは、
    入口及び出口を有するゲートバルブ;
    ゲートバルブの出口へ結合するためのポートを有するマニホールド本体;及び
    蒸気通路によって接続された蒸気入口ポートと蒸気出口ポートとを有し、蒸気の外部源へ接続可能である、マニホールド本体内の蒸気パス;
    を備える、
    プロセス計測システム。
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