JP2017528572A - 放射性高分子マトリクス - Google Patents

Abstract

【課題】本開示は、放射性高分子マトリクスおよびそれらの使用方法に一般的に関連する。【解決手段】放射性高分子マトリクスは、例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）などのモノマー、および少なくとも一つの発色団を含む。【選択図】図１Ａ

Description

本開示は、放射性高分子マトリクス、それらの形成方法およびそれらの潜在的用途に一般的に関連する。

光線療法は、手術、治療および診断における使用を含む、医学および美容の両分野で幅広い用途があることが認識されている。例えば、光線療法は、低い侵襲性でがんおよび腫瘍を治療するため、抗菌治療として標的部位を殺菌するため、皮膚疾患を治療するため、創傷治癒を促進するため、および顔の皮膚の若返りのために使用されている。

現在までに、治療される表面に適用される液剤を主に使用した、光線療法が達成されている。液剤の一部の欠点は、その液体濃度のために、治療すべき表面を超えて広がる傾向がある、および／またはその他の液体（水など）または半液体と接触した時、希釈される傾向があることである。

手術、医療診断および治療、接着剤およびシーラーを含む多くの用途で使用するためのマトリクスとして、ヒドロゲルが提唱されてきた。その柔軟な構造から、ヒドロゲルは医療用途のためのいくつかの利益を示す。しかし、これらのヒドロゲルは、溶媒（水など）を吸収し、膨張して可逆的変形をする三次元ネットワーク形成能力を失うことが示されている。

従って、今日見られる欠点の少なくとも一部を解消する可能性がある、光線療法に使用でき、産業上の利用可能性を持ちうる、新しくかつ改善されたマトリクスを提供することが本開示の目的である。

さまざまな態様によると、本開示は光線療法に有用な放射性高分子マトリクスに関連する。さまざまな態様によると、本開示は光線療法および生体光療法に有用な放射性高分子マトリクス、および／または産業上の利用可能性に関連する。

特に、本開示の放射性高分子マトリクスは、重合性モノマー、および少なくとも一つの発色団を含む。少なくとも一つの発色団は光を吸収および／または放射できることが好ましい。

一部の場合、放射性高分子マトリクスは、保管中に合計発色団量の重量の約１０％未満、または約９％未満、または約８％未満、または約７％未満、または約６％未満、または約５％未満、または約４％未満、または約３％未満、または約２％未満、または約１％未満、または約０．５％未満、または約０．１％未満がマトリクスから浸出するように、浸出に対して実質的に抵抗性である。発色団の浸出は、（ｉ）厚さ２ｍｍの放射性高分子マトリクスを、厚さ１０ミクロンおよび細孔径３ミクロンのポリカーボネート（ＰＣ）膜の上面直径２．４〜３ｃｍ上に配置し、（ｉｉ）ＰＣ膜の底面を、受容体区画に含まれるリン酸生理食塩水緩衝溶液と接触させ、（ｉｉｉ）室温および圧力での治療時間の後、受容体区画の発色団含量を測定することによって測定できる。

一部の実施では、重合性モノマーは２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）である。

一部の実施では、本発明のヒドロゲル組成物の発色団はキサンテン染料であってもよい。キサンテン染料はフルオレセインまたはエオシン、またはその他のキサンテン染料であってもよい。一部の場合、少なくとも一つの発色団はエオシンＹである。その他一部の場合、発色団はフルオレセインである。その他一部の場合、発色団はエオシンＹおよびフルオレセインである。一部の場合、発色団はローズベンガルである。その他一部の場合、発色団はエオシンＹおよびローズベンガルである。その他一部の場合、発色団はエオシンＹ、ローズベンガルおよびフルオレセインである。

一部の実施形態では、放射性高分子マトリクスはクロスリンカーをさらに含む。一部の実施では、クロスリンカーはエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である。前記組成物は開始剤を含んでいてもよい。一部の実施では、開始剤は過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）である。

一部の実施形態では、発色団は約４００ ｎｍ〜約７５０ ｎｍまたは約４００〜約７００ ｎｍの範囲内の光を吸収および／または放射する。

本発明の放射性高分子マトリクスは、組織の医療処置に使用できる。美容的処置は、皮膚の若返りおよびコンディショニング、創傷治癒、にきびの治療またはにきび、湿疹、乾癬もしくは皮膚炎を含むその他の皮膚疾患の治療である場合がある。一部の実施では、組織はヒトまたは動物に由来する。

一部の態様では、動物は例えば、ネコ、イヌ、ウマ、ヒツジ、ヤギ、ウシ、ブタ、ハムスター、モルモット、またはウサギである。放射性高分子マトリクスは、限定されないが、持続的に皮膚を引っ掻く、舐めるおよび噛むといった動作、痂皮、発赤または炎症、丸み、顔および足の前がん状態、乾燥、鱗状、荒れた皮膚、発疹、腫脹、しこりまたは皮膚の変形、血液または膿のドレナージ等の動物の皮膚の治療を促進し、および／または動物を治療するために使用できる。それらは、動物の感染症または急性炎症を治療するために使用できる。動物の急性炎症は、疼痛、熱、発赤、膨張および機能喪失として現れる可能性があり、例えば蚊、ハチ、スズメバチ、ツタウルシ等の昆虫に噛まれるなど、アレルギー反応、または術後治療に見られる炎症反応が挙げられる。

一部の態様では、本開示の放射性高分子マトリクスは、炎症の調節、コラーゲン合成の調節または血管新生の促進のために使用できる。これらの態様の一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは、炎症性サイトカインの産生の調節および治癒過程の改善のために使用できる。

本開示は、本開示による放射性高分子マトリクスを創傷の上に適用する工程を含む創傷治癒を促進する方法も提供し、ここで放射性高分子マトリクスは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む。

本開示は、創傷治癒を促進する方法も提供し、方法は本開示による放射性高分子マトリクスを創傷の上に適用する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は創傷治癒を促進する。

本開示は、感染症の防止または治療のための放射性高分子マトリクスおよび方法も提供し、方法は、放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）である放射性高分子マトリクスおよび少なくとも一つの発色団を標的皮膚組織上に適用する工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は感染組織を治療し、組織の感染を防止する。一部の実施形態では、感染症は細菌感染症、真菌感染症またはウイルス感染症である。

本開示は、皮膚疾患を治療する方法も提供し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に適用する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は前記皮膚疾患の治癒を促進する。一部の実施形態では、皮膚疾患はにきび、湿疹、乾癬および皮膚炎から選択される。

本開示は、にきびを治療する方法も提供し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に適用する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法はにきびを治療する。

本開示は、皮膚の若返りのための方法も提供し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に適用する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は皮膚の若返りを促進する。

本開示は、瘢痕を防止または治療する方法も提供し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に適用する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は創傷治癒を促進する。

本開示は、骨の疾患または状態を防止または治療するための放射性高分子マトリクスおよび方法も提供する。

本開示は、口腔の疾患または状態を防止または治療するための放射性高分子マトリクスおよび方法も提供する。

本開示は、希少疾患を防止または治療するための放射性高分子マトリクスおよび方法も提供する。

本明細書に定義された方法の一部の実施では、放射性高分子マトリクスは、光線療法を必要とする組織の領域と直接接触する。つまり、放射性高分子マトリクスは治療対象領域に少なくとも部分的に触れている。

本明細書に定義された方法の一部の実施では、放射性高分子マトリクスは、光線療法を必要とする組織の領域と直接接触していない。つまり、放射性高分子マトリクスは治療対象領域に触れない。一部の場合、放射性高分子マトリクスは、治療対象領域から１ｃｍ未満であってもよく、または治療されるエリアから２ｃｍ未満、または３ｃｍ未満、または４ｃｍ未満、または５ｃｍ未満、または１０ｃｍ未満であってもよい。

さまざまな態様によると、本開示は２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、および少なくとも一つの発色団を含む放射性高分子マトリクスに関連する。

さまざまな態様によると、本開示は、創傷治癒を促進する方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを創傷の上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は創傷治癒を促進する。

さまざまな態様によると、本開示は、皮膚疾患の生体光治療の方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は前記皮膚疾患の治癒を促進する。

さまざまな態様によると、本開示は、にきびの生体光治療の方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法はにきびを治療する。

さまざまな態様によると、本開示は、皮膚の若返りのための方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は皮膚の若返りを促進する。

さまざまな態様によると、本開示は、瘢痕の防止または治療のための方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は創傷治癒を促進する。

さまざまな態様によると、本開示は、生体光皮膚治療の方法に関連し、方法は放射性高分子マトリクスを皮膚の上に配置する工程であって、放射性高分子マトリクスが、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、前記方法は前記皮膚の治療を促進する。

一部の実施形態によると、本開示の放射性高分子マトリクスは、光に暴露した時に放射を生成する場合があり、前記放射は、放射性高分子マトリクスの周囲環境に熱効果を誘発する能力を持つ。一部の態様では、本開示の放射性高分子マトリクスは、熱放射を生成するために使用できる。一部の態様では、本開示の放射性高分子マトリクスは、赤外線を生成するために使用できる。

５分の照射時間中の、本開示の実施形態による５０ｍｇエオシンおよび５０ｍｇフルオレセイン（Ｅ５０＋Ｆ５０）を含む厚さ４ｍｍのｐＨＥＭＡ透明ディスクの発光スペクトルを示す。 ５分の照射時間中の、本開示の実施形態による１００ｍｇフルオレセイン（Ｆ１００）を含む厚さ２．０ｍｍのｐＨＥＭＡ透明ディスクの発光スペクトルを示す。 本開示の実施形態による５分の照射時間中の、本開示の実施形態による５０ｍｇエオシンおよび５０ｍｇフルオレセイン（Ｅ５０＋Ｆ５０）を含む厚さ２．３ｍｍのｐＨＥＭＡディスクの発光スペクトルを示す。 は、５分の照射時間中の、本開示の実施形態による５０ｍｇエオシンおよび５０ｍｇフルオレセイン（Ｅ５０＋Ｆ５０）を含む厚さ２．３ｍｍのブロック不透明ｐＨＥＭＡマトリクスの発光スペクトルを示す。 は、５分の照射時間中の、本開示の実施形態による５０ｍｇフルオレセイン（Ｆ５０）を含む厚さ２．３ｍｍのｐＨＥＭＡヒドロゲルの発光スペクトルを示す。 は、５分の照射時間中の、本開示の実施形態による１００ｍｇエオシン（Ｅ１００）を含む厚さ２．０ｍｍのシリコンｐＨＥＭＡミクロスフェアの発光スペクトルを示す。 は、示された放射性高分子マトリクスおよび５ｍｍの距離で５分間の示された光での治療から２４時間後の、ＩＦＮγで刺激されたＨａＣａＴ細胞によるＩＬ８分泌を示すグラフである。 は、示された放射性高分子マトリクスおよび５ｍｍの距離で５分間の示された光での治療から２４時間後の、ＩＦＮγで刺激されたＨａＣａＴ細胞によるＩＬ６分泌を示すグラフである。 は、青い光からの光および本開示の一実施形態により示された放射性高分子マトリクスでの治療から２４時間後の、ＨａＣａＴケラチン生成細胞によるＩＬ６分泌を示すグラフである。 は、青い光からの光および本開示の一実施形態により示された放射性高分子マトリクスでの治療から２４時間後の、ＨａＣａＴケラチン生成細胞によるＩＬ８分泌を示すグラフである。 本開示の一実施形態によるｐＨＥＭＡマトリクスで作られた容器に入れられた水の温度を示すグラフである。 本開示の一実施形態によるｐＨＥＭＡマトリクスで作られた容器に入れられた水の温度を示すグラフである。 本開示の一実施形態によるｐＨＥＭＡマトリクスで作られた容器に入れられた水の温度を示すグラフである。 は、本開示の一態様による実験的セットアップの図を示す。 図１１Ａは、３Ｄヒト皮膚モデルを使用して、創傷治癒に対する本開示の放射性高分子マトリクスの効果を決定するために設計された実験的プロトコルの概略図を示す。（Ａ）は創傷領域を示し、（Ｂ）は非創傷領域を示す。 図１１Ｂは、図１１Ａの実験プロトコルのさらなる概略図を示す。 ０日目の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除（Ａ）の組織化学的図を示す。 皮膚を暗所に保った場合の、切除後１日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除（Ａ）の組織化学的図を示す（ＣＴＲＬ ＝対照）。 皮膚を周辺光で５分間治療した場合の、切除後１日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図を示す（光 ＝ 周辺光）。 ｐＨＥＭＡマトリクス通過した４５０ ｎｍの光を使用して皮膚を５分間治療した場合の、切除後１日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図を示す（ｐＨＥＭＡ）。 皮膚を暗所に保った場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図を示す（ＣＴＲＬ ＝対照）。 皮膚を周辺光で５分間治療した場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図を示す（光 ＝ 周辺光）。 ｐＨＥＭＡマトリクスを通過した４５０ ｎｍの光を使用して皮膚を５分間治療した場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図を示す（ｐＨＥＭＡ）。 本開示の放射性高分子マトリクスを用いた治療後３日の、３Ｄヒト皮膚モデルの表皮の厚さと角質層の発達との関係を示すグラフである。 本開示の一実施形態による放射性高分子マトリクスの弾性特性を示す図である。

本開示は、放射性高分子マトリクスおよびそれらの使用に一般的に関連する。

さまざまな態様で、本開示は、本明細書に定義された放射性高分子マトリクスの生体光療法のための使用に関連する。生体光療法は、放射性高分子マトリクスを形成する材料の照射時に生成される蛍光によって誘発される光生体刺激の有益効果を提供することになる。

これらの態様の一部の実施では、生体光療法には、これらの放射性高分子マトリクスを使用して達成されうる光温熱治療を含む場合がある。光温熱治療は、マトリクスを形成する材料の照射時に生成される電磁放射エネルギーの放射によって誘発される光生体刺激の有益効果を提供することになる。

特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは可視光によって活性化される。さらに、特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスを使用した生体光療法は、例えば創傷治癒を促進する、例えば、コラーゲン合成を促進することにより皮膚を若返らせる、にきびなどの皮膚疾患を治療する、および歯周炎を治療する場合がある。

これらの実施形態の一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは固体である。その他一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは半固体である。本明細書で使用される場合、「半固体」という表現は、固体と液体の間の境界に沿って存在する物を指す。半固体はそれ自身の重量を支持し形状を保持することができるという点で、一部の側面では固体と類似しているが、半固体は、それに圧力を加える物の形状に沿うことおよび圧力下で流動する能力など、液体の一部の特性も共有する。一部の場合、放射性高分子マトリクスは、放射性高分子マトリクスの重量の約２０％〜４０％、好ましくは約２５％〜３５％、より好ましくは約３０％の水分含量を持つ。

本開示の放射性高分子マトリクスは、任意の便利な形状および／または形態に形成または成形しうる。このように、本明細書で定義される放射性高分子マトリクスは、任意の特定の幾何学形状に限定されない。一部の場合、本開示の放射性高分子マトリクスは、手袋などを含むがこれに限定されない衣類、または絆創膏などの物品に成形できる。

その他一部の実施では、放射性高分子マトリクスは、医療処置に有用な物品、または歯科治療に有用な物品に成形できる。

放射性高分子マトリクスの形状は、物理的付着点を作るため、または布、織物、繊維、フォームなどを含むがこれらの限定されない基材中または基材上への放射性高分子マトリクスの保持を支援するために、不規則でもよい。放射性高分子マトリクスまたはその部分の表面は、不規則、不連続的および／または粗くてもよい。放射性高分子マトリクスまたはその部分の表面は、規則的、連続的および／または滑らかであってもよい。

一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは弾性である。本明細書で使用される場合、「弾性」という用語は、歪みの影響または応力に抵抗し、応力が取り除かれた時に元のサイズおよび形状に戻る、本開示の放射性高分子マトリクスの能力を指す。放射性高分子マトリクスが弾性の場合、これらの力が取り除かれた時、マトリクスは初期の形状およびサイズに戻る。放射性高分子マトリクスは、例えば、放射性高分子マトリクスの組成物に入る一定の材料の濃度を変化させることによって弾性にすることができる。

一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは粉末に成形することができる。

一部の実施では、本開示の高分子マトリクスは、微小粒子および／もしくはミクロスフェアなど、またはナノ粒子および／もしくはナノスフェアなどの粒子に成形できる。本開示の粒子は、基材中に適用できる。基材は多孔質であることが好ましい。多孔質基材とは、ミクロスフェアを保持、含浸または捕捉しうる隙間、陥凹、孔または架橋開口部を持つ基材を指す。隙間、陥凹または架橋開口部は、粒子の挿入および／または保持を可能にする寸法であることが好ましい。

特定の組成物または過程段階はさまざまに異なりうるという理由から、本開示はこれらに限定されないことが理解されるべきである。本書および添付した請求項で使用する時、文脈により明らかにそうでないことが示されていない限り、単数形（「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」）には、複数の対象物が含まれることに注意する必要がある。

本明細書で使用される場合、値または範囲の文脈での「約」という用語は、与えられた値または範囲の２０％以内、好ましくは１５％以内、好ましくは１４％以内、好ましくは１３％以内、好ましくは１２％以内、好ましくは１１％以内、好ましくは１０％以内、好ましくは９％以内、好ましくは８％以内、好ましくは７％以内、好ましくは６％以内、より好ましくは５％以内の値または範囲を指す。

「および／または」という用語は本書で使用される場合、もう一方のあるなしに関わらず、二つの特定された特徴または構成要素のそれぞれの特定開示として解釈されるべきことをここで指摘しておく。例えば、「Ａおよび／またはＢ」は、それぞれが本書に個別に提示されたかのように、（ｉ）Ａ、（ｉｉ）Ｂ、（ｉｉｉ）ＡおよびＢのそれぞれの特定開示として解釈されるものとする。

本明細書で使用される場合、「放射性高分子マトリクス」という表現は、ポリマーを含み、例えば、光、または赤外線などを含むがこれらに限定されない電磁放射を放射する能力を持つマトリクスを指す。

本明細書で使用される場合、「放射性高分子マトリクス組成物」という表現は、重合すると、固体または半固体を持つ本明細書に定義される放射性高分子マトリクスを生じる組成物を指す。一部の場合、放射性高分子マトリクス組成物は、重合されていない、または実質的に非重合状態のモノマーを含む。

「生体光」とは、生体関連の文脈での、光子の生成、操作、検出および適用を指す。すなわち、生体光組成物および材料は、主に光子の生成および操作のために、その生理的効果を発揮する。

「光熱療法」とは、医学的状態の治療のための、電磁放射（例えば、赤外線）の使用を指す。

「ヒドロゲル」とは水を含む固体または半固体テクスチャの材料を指す。ヒドロゲルは、他の物質のなかでも水を保持することができる分子構造の３次元ネットワークによって形成される。３次元分子ネットワークは共有化学結合、もしくはイオン結合、またはその組み合わせによって、共に保持されている。ヒドロゲルのなかには、互いに化学的または物理的反応を起こし、ヒドロゲルに寸法安定性を与える３次元分子ネットワークを作製する２つ以上の材料の混合物によって形成することができる。

「使用中」とは、最大約５分、最大約６分、最大約７分、最大約８分、最大約９分、最大約１０分、最大約１５分、最大約２０分、最大約２５分、または最大約３０分でありうる治療時間中を意味する。治療時間は、放射性高分子マトリクスが、治療される表面と接触しているか、または治療される表面に近接している（すなわち、治療される表面と直接接触しない）時間の合計の長さを含む場合がある。

一部の実施では、治療対象表面は、例えば、皮膚、粘膜、膣、口腔、内部の手術創部などであるが、これらに限定されない。

「局所適用」または「局所使用」とは、皮膚、粘膜、膣、口腔、内部の手術創部など、体の表面に適用されることを意味する。

「発色団」という用語は本明細書では、光照射に接触した時、光を吸収することができる化合物を意味する。発色団は容易に光励起を受け、そのエネルギーをその他の分子に移動するかまたは光（蛍光）として放射することができる。

「光退色」とは、発色団の光化学的破壊を意味する。発色団は完全にまたは部分的に光退色しうる。

「作用光」という用語は、特定の光源（例えば、ランプ、ＬＥＤ、またはレーザー）から放射され、物質（例えば、発色団）によって吸収されることができる光エネルギーを意味することを意図する。「作用光」および「光」という用語は本明細書では互換的に使用される。好適実施形態では、作用光は可視光である。

「皮膚の若返り」とは、皮膚の一つ以上の老化の兆候を、減少、縮小、遅延または逆転する、または皮膚の状態を一般的に改善する過程を意味する。例えば、皮膚の若返りとして、皮膚の明度の増加、毛穴サイズの減少、小皺またはしわの低減、薄く透明な皮膚の改善、堅さの改善、たるんだ皮膚の改善（骨量の減少によってできたものなど）、乾燥肌（痒いことがある）の改善、そばかすの低減または回復、しみ、クモ状静脈、粗くざらざらした肌、伸ばした時に消える小皺の低減または予防、たるんだ皮膚の低減、またはしみで覆われた皮膚の改善が挙げられる。本開示によると、本開示の組成物、方法および使用の特定の実施形態によって、上記の兆候の一つ以上を改善でき、老化の兆候の一つ以上を、減少、縮小、遅延または逆転さえも行いうる。

「創傷」とは、例えば、急性、亜急性、遅延または治癒困難創傷、および慢性創傷を含む、任意の組織の傷害を意味する。創傷の例には、開放創および閉鎖創を含みうる。創傷には、例えば、切断、やけど、切開、切除、病変、裂傷、擦り傷、穿刺または穿通創傷、手術創、挫傷、血腫、圧挫損傷、潰瘍（例えば、圧力、糖尿病性、静脈または動脈など）、瘢痕（美容術）、および歯周炎（歯周組織の炎症）によって生じる創傷が含まれる。

本主題の特徴および利点は、添付の図で示される、選択された実施形態の以下の説明を踏まえてさらに明らかになる。明らかとなるように、開示および請求された主題は、すべて本請求の範囲を逸脱することなく、さまざまな点での変更が可能である。従って、図面および説明は、制限的ではなく例示的性質を持つとして見なされるべきであり、主題の全範囲は請求項に記述される。

放射性高分子マトリクス
本開示は、発光高分子マトリクスおよび放射性高分子マトリクスの使用方法を提供する。一部の実施では、放射性高分子マトリクスは、特定波長の光（例えば、光子）によって活性化される。放射性高分子マトリクスが活性化されているという時、それは、マトリクスの構成要素が光によって活性化されており、例えば、光および／または熱を放出／放射する能力を持つことを示す。

本開示のさまざまな実施形態による放射性高分子マトリクスは、少なくとも一つの重合性モノマーおよび少なくとも一つの発色団を含む。放射性高分子マトリクスの照射は、少なくとも一つの発色団を活性化することができる。発色団が特定の波長の光子を吸収する時、発色団は励起される。これは不安定な状態であり、分子は基底状態に戻ろうとして過剰のエネルギーを放出する。一部の発色団については、基底状態に戻る時、過剰エネルギーを光として放射することが好ましい。この過程は、蛍光発光と呼ばれる。放射された蛍光のピーク波長は、変換過程のエネルギー損失のために、吸収波長と比べて長波長に向かって移行する。これはストークスシフトと呼ばれる。

適正な環境では（例えば、放射性高分子マトリクス中では）、このエネルギーの大部分が、マトリクスのその他の構成要素および／または治療部位に直接移動される、および／またはマトリクスを取り囲む環境に移動される。

理論に束縛されるものではないが、光活性化された発色団によって放射される蛍光は、生物細胞および組織によって認識され、好ましいバイオモジュレーションにつながりうる、そのフェムト秒、ピコ秒、またはナノ秒の放射特性のために治療特性を持ちうると考えられる。さらに、放射された蛍光は、より長い波長を持つため、活性化光よりも深く組織中に浸透する。一部の実施形態では組成物を通過する活性化光を含む、このような広い範囲の波長で組織を照射することは、細胞および組織に対して多様でかつ補完的な効果を持ちうる。つまり、発色団は、組織への治療的効果のために本開示の放射性高分子マトリクスに使用される場合がある。

一部の実施では、本開示の放射性高分子マトリクスは、マスクまたは創傷包帯などの局所用途を持つ場合がある。一部の場合、放射性高分子マトリクスは、皮膚と直接接触することなく局所効果を持つ場合がある。このような場合、放射性高分子マトリクスは、例えば、光源の付属物として、導波管としてまたは光フィルターとして使用できる。さらに、放射性高分子マトリクスは、発色団と組織との間の接触を制限することができる。

これらの材料は、組成物を構成する構成要素に基づいて説明されうる。追加的にまたは代替的に、本開示の組成物は機能的特性および構造的特性を持ち、これらの特性は組成物を定義および記述するためにも使用されうる。本開示の放射性高分子マトリクスの個別の構成要素は、以下に詳述される。

本開示は、重合して固体または半固体マトリクスを作る能力を持つ、本明細書に記述される材料の放射性高分子マトリクス組成物も提供する。組成物は、少なくとも一つの発色団および少なくとも一つの重合性モノマー（ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）などでこれはその重合化形態ではポリヒドロキシエチルメタクリレート（ｐＨＥＭＡ）と呼ばれる）を含む。

適切な発色団は、蛍光化合物（または染料）（「蛍光色素」または「発蛍光団」としても知られる）でありうる。その他の染料グループまたは染料（生物学的および組織学的染料、食品着色料、カロテノイドおよびその他の染料）も使用しうる。有利なことに、皮膚またはその他の組織による忍容性が良好でない発色団を、特定の実施形態にあるように、本開示の放射性高分子マトリクスに含めることができ、発色団は放射性高分子マトリクス内に（例えば、ミクロスフェアに）被覆されており、組織と接触しえない。

特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、光の適用時に部分的または完全な光退色を受ける第一の発色団を含む。一部の実施形態では、第一の発色団は、約３８０ ｎｍ〜約８００ ｎｍ、約３８０ ｎｍ〜約７００ ｎｍ、約４００ ｎｍ〜約８００ ｎｍ、または約３８０ ｎｍ〜約６００ ｎｍの波長などの、可視スペクトルの範囲の波長を吸収する。

その他の実施形態では、第一の発色団は、約２００ ｎｍ〜約８００ ｎｍ、約２００ ｎｍ〜約７００ ｎｍ、約２００ ｎｍ〜約６００ ｎｍ、または約２００ ｎｍ〜約５００ ｎｍの波長を吸収する。一つの実施形態では、第一の発色団は、約２００ ｎｍ〜約６００ ｎｍの波長を吸収する。一部の実施形態では、第一の発色団は、約２００ ｎｍ〜約３００ ｎｍ、約２５０ ｎｍ〜約３５０ ｎｍ、約３００ ｎｍ〜約４００ ｎｍ、約３５０ ｎｍ〜約４５０ ｎｍ、約４００ ｎｍ〜約５００ ｎｍ、約 ４５０ ｎｍ〜約６５０ ｎｍ、約６００ ｎｍ〜約７００ ｎｍ、約６５０ ｎｍ〜約７５０ ｎｍ〜約７００ ｎｍ〜約８００ ｎｍの波長の光を吸収する。

当業者には当然のことながら、特定の発色団の光特性は、発色団の周囲の媒体に応じて変化しうる。従って、本明細書で使用される場合、特定の発色団の吸収および／または放射波長（またはスペクトル）は、本開示の放射性高分子マトリクスで測定される波長（またはスペクトル）に対応する。

本明細書に開示された放射性高分子マトリクスは、少なくとも一つの追加的発色団を含みうる。発色団を組み合わせることは、組み合わされた染料分子による光吸収を増加し、吸収およびフォトバイオモジュレーションの選択性を高めうる。従って、特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、複数の発色団を含む。このような複数発色団材料が光で照射される時、エネルギー移動が発色団間で起こりうる。共鳴エネルギー移動として知られるこの過程は、励起された「供与体」発色団（本明細書では第一の発色団とも呼ばれる）がその励起エネルギーを「受容体」発色団（本明細書では第二の発色団とも呼ばれる）に移動させる、よく見られる光物理的過程である。共鳴エネルギー移動の効率および有向性は、供与体および受容体発色団のスペクトル特性に依存する。特に、発色団間のエネルギーの流れは、吸収および発光スペクトルの相対的位置付けおよび形状を反映する、スペクトルの重複に依存する。より具体的には、エネルギー移動が起こるためには、供与体発色団の発光スペクトルが、受容体発色団の吸収スペクトルと重複しなければならない。

エネルギー移動は、供与体放射の減少またはクエンチングおよび励起状態の存続時間の減少を通して現れ、受容体放射強度の増加も伴う。エネルギー移動の効率を高めるために、供与体発色団は光子を吸収し、光子を放射する優れた能力を有するはずである。さらに、供与体発色団の発光スペクトルと受容体発色団の吸収スペクトルの間の重複が多いほど、供与体発色団はより良く受容体発色団にエネルギーを移動することができる。

特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、第二の発色団をさらに含む。一部の実施形態では、第一の発色団は、第二の発色団の吸収スペクトルと少なくとも約８０％、約７５％、約７０％、約６５％、約６０％、約５５％、約５０％、約４５％、約４０％、約３５％、約３０％、約２５％、約２０％、約１５％または約１０％重複する発光スペクトルを持つ。一つの実施形態では、第一の発色団は、第二の発色団の吸収スペクトルと少なくとも約２０％重複する発光スペクトルを持つ。一部の実施形態では、第一の発色団は第二の発色団の吸収スペクトルと少なくとも約１％〜約１０％、約５〜約１５％、約１０％〜約２０％、約１５％〜約２５％、約２０〜約３０％、約２５％〜約３５％、約３０〜約４０％、約３５〜約４５％、約５０％〜約６０％、約５５％〜約６５％、または約６０％〜約７０％重複する発光スペクトルを有する。

本明細書で使用される場合、スペクトルの重複％は、スペクトル四半値全幅（ＦＷＱＭ）で測定された、供与体発色団の放射波長範囲と受容体発色団の吸収波長範囲との重複％を意味する。一部の実施形態では、第二の発色団は可視スペクトルの範囲の波長の光を吸収する。特定の実施形態では、第二の発色団は、約５０ ｎｍ〜約２５０ ｎｍ、約２５ ｎｍ〜約１５０ ｎｍ、または約１０ ｎｍ〜約１００ ｎｍの範囲内の、第一の発色団の吸収波長よりも比較的長い吸収波長を持つ。

第一の発色団は、放射性高分子マトリクスの重量当たり約０．０１〜０．９％の量で存在できる。存在する時、第二の発色団は、放射性高分子マトリクスの重量当たり約０．０１〜０．９％の量で存在できる。

使用される発色団の濃度は、放射性高分子マトリクスからの生体光活性の望ましい強度および持続時間に基づいて、また望ましい医学的または美容的効果に基づいて選択されうる。例えば、キサンテン染料などの一部の染料は、それより後は濃度をさらに増加しても実質的により高い放射蛍光を提供しない「飽和濃度」に達する。飽和濃度を超えて発色団をさらに増加させると、マトリクスを通過する活性化光の量を減少させうる。そのため、特定の用途に対して活性化光よりも多くの蛍光が必要な場合、高い濃度の発色団を使用しうる。しかし、放射される蛍光と活性化光との間にバランスが必要な場合、飽和濃度に近いまたはそれより低い濃度を選択しうる。

本開示の放射性高分子マトリクスに使用されうる適切な発色団には、以下が含まれるがこれらに限定されない。

クロロフィル染料：例示的なクロロフィル染料としては、クロロフィルａ、クロロフィルｂ、クロロフィリン、細菌クロロフィルａ、細菌クロロフィルｂ、細菌クロロフィルｃ、細菌クロロフィルｄ、プロトクロロフィル、プロトクロロフィルａ、両親媒性クロロフィル誘導体１、および両親媒性クロロフィル誘導体２が挙げられるがこれらに限定されない。

キサンテン誘導体：例示的なキサンテン染料としては、エオシン、エオシンＢ（４’，５’−ジブロモ，２’，７’−ジニトロ−ｏ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシンＹ、エオシンＹ（２’，４’，５’，７’−テトラブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン（２’，４’，５’，７’−テトラブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン（２’，４’，５’，７’−テトラブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）メチルエステル、エオシン（２’，４’，５’，７’−テトラブロモ−フルオレセイン，モノアニオン）ｐ−イソプロピルベンジルエステル、エオシン誘導体（２’，７’−ジブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（４’，５’−ジブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（２’，７’−ジクロロ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（４’，５’−ジクロロ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（２’，７’−ジヨード−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（４’，５’−ジヨード−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（トリブロモ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシン誘導体（２’，４’，５’，７’−テトラクロロ−フルオレセイン，ジアニオン）、エオシンセチルピリジニウム塩素イオン対、エリスロシンＢ（２’，４’，５’，７’−テトラヨード−フルオレセイン，ジアニオン）、エリスロシン、エリスロシンジアニオン、エリチオシンＢ、フルオレセイン、フルオレセインジアニオン、フロキシンＢ（２’，４’，５’，７’−テトラブロモ−３，４，５，６−テトラクロロ−フルオレセイン，ジアニオン）、フロキシンＢ（テトラクロロ−テトラフロモ−フルオレセイン）、フロキシンＢ、ローズベンガル（３，４，５，６−テトラクロロ−２’，４’，５’，７’−テトラヨードフルオレセイン，ジアニオン）、ピロニンＧ、ピロニンＪ、ピロニンＹ、ローダミンなどのローダミン染料、（以下に限定されないが４，５−ジブロモ−ローダミンメチルエステル、４，５−ジブロモ−ローダミンｎ−ブチルエステル、ローダミン１０１メチルエステル、ローダミン１２３、ローダミン６Ｇ、ローダミン６Ｇヘキシルエステル、テトラブロモ−ローダミン１２３、およびテトラメチル−ローダミンエチルエステルを含む）が挙げられるがこれらに限定されない。

メチレンブルー染料：例示的なメチレンブルー誘導体としては、１−メチルメチレンブルー、１，９−ジメチルメチレンブルー、メチレンブルー、メチレンブルー（１６ μＭ）、メチレンブルー（１４ μＭ）、メチレンバイオレット、ブロモメチレンバイオレット、４−ヨードメチレンバイオレット、１，９−ジメチル−３−ジメチル−アミノ−７−ジエチル−アミノ−フェノチアジン、および１，９−ジメチル−３−ジメチルアミノ−７−ジブチル−アミノ−フェノチアジンが挙げられるがこれらに限定されない。

アゾ染料：例示的なアゾ（またはジアゾ）染料としては、メチルバイオレット、ニュートラルレッド、パラレッド（ピグメントレッド１）、アマランス（アゾルビンＳ）、カルモイシン（アゾルビン、フードレッド３、アシッドレッド１４）、アルーラレッドＡＣ（ＦＤ＆Ｃ ４０）、タートラジン（ＦＤ＆Ｃイエロー５）、オレンジＧ（アシッドオレンジ１０）、ポンソー４Ｒ（フードレッド７）、メチルレッド（アシッドレッド２）、およびムレキシド−プルプル酸アンモニウムが挙げられるがこれらに限定されない。

本開示の一部の態様では、本明細書に開示の放射性高分子マトリクスに含まれる一つ以上の発色団は、アシッドブラック１、アシッドブルー２２、アシッドブルー９３、アシッドフクシン、アシッドグリーン、アシッドグリーン１、アシッドグリーン５、アシッドマゼンタ、アシッドオレンジ１０、アシッドレッド２６、アシッドレッド２９、アシッドレッド４４、アシッドレッド５１、アシッドレッド６６、アシッドレッド８７、アシッドレッド９１、アシッドレッド９２、アシッドレッド９４、アシッドレッド１０１、アシッドレッド１０３、アシッドローセイン、アシッドルビン、アシッドバイオレット１９、アシッドイエロー１、アシッドイエロー９、アシッドイエロー２３、アシッドイエロー２４、アシッドイエロー３６、アシッドイエロー７３、アシッドイエローＳ、アクリジンオレンジ、アクリフラビン、アルシアンブルー、アルシアンイエロー、アルコール可溶性エオシン、アリザリン、アリザリンブルー２ＲＣ、アリザリンカルミン、アリザリンシアニンＢＢＳ、アリザロールシアニンＲ、アリザリンレッドＳ、アリザリンパープリン、アルミノン、アミドブラック１０Ｂ、アミドシュワルツ、アニリンブルーＷＳ、アントラセンブルーＳＷＲ、オーラミンＯ、アゾカルミンＢ、アゾカルミンＧ、アゾイックジアゾ５、アゾイックジアゾ４８、アズールＡ、アズールＢ、アズールＣ、ベーシックブルー８、ベーシックブルー９、ベーシックブルー１２、ベーシックブルー１５、ベーシックブルー１７、ベーシックブルー２０、ベーシックブルー２６、ベーシックブラウン１、ベーシックフクシン、ベーシックグリーン４、ベーシックオレンジ１４、ベーシックレッド２、ベーシックレッド５、ベーシックレッド９、ベーシックバイオレット２、ベーシックバイオレット３、ベーシックバイオレット４、ベーシックバイオレット１０、ベーシックバイオレット１４、ベーシックイエロー１、ベーシックイエロー２、ビエブリッヒスカーレット、ビスマルクブラウンＹ、ブリリアントクリスタルスカーレット６Ｒ、カルシウムレッド、カルミン、カルミン酸、セレスチンブルーＢ、チャイナブルー、コチニール、コエレスチンブルー、クロムバイオレットＣＧ、クロモトロープ２Ｒ、クロモキサンシアニンＲ、コンゴコリント、コンゴレッド、コットンブルー、コットンレッド、クロセインスカーレット、クロシン、クリスタルポンソー６Ｒ、クリスタルバイオレット、ダリア、ダイアモンドグリーンＢ、ダイレクトブルー１４、ダイレクトブルー５８、ダイレクトレッド、ダイレクトレッド１０、ダイレクトレッド２８、ダイレクトレッド８０、ダイレクトイエロー７、エオシンＢ、エオシンブルーイッシュ、エオシン、エオシンＹ、エオシンイエローイッシュ、エオシノール、エリーガーネットＢ、エリオクロムシアニンＲ、エリスロシンＢ、エチルエオシン、エチルグリーン、エチルバイオレット、エバンスブルー、ファーストブルーＢ、ファーストグリーンＦＣＦ、ファーストレッドＢ、ファーストイエロー、フルオレセイン、フードグリーン３、ガレイン、ガラミンブルー、ガロシアニン、ゲンチアナバイオレット、ヘマテイン、ヘマチン、ヘマトキシリン、ヘリオファーストルビンＢＢＬ、ヘルベチアブルー、ホフマンバイオレット、インペリアルレッド、インドシアニングリーン、イングレインブルー、イングレインブルー１、イングレインイエロー１、ＩＮＴ、ケルメス、ケルメス酸、ケルンエヒトロート、Ｌａｃ、ラッカイン酸、ラウトバイオレット、ライトグリーン、リサミングリーンＳＦ、ルクソールファーストブルー、マゼンタ０、マゼンタＩ、マゼンタＩＩ、マゼンタＩＩＩ、マラカイトグリーン、マンチェスターブラウン、マルチウスイエロー、メルブロミン、マーキュロクロム、メタニルイエロー、メチレンアズールＡ、メチレンアズールＢ、メチレンアズールＣ、メチレンブルー、メチルブルー、メチルグリーン、メチルバイオレット、メチルバイオレット２Ｂ、メチルバイオレット１０Ｂ、モルダントブルー３、モルダントブルー１０、モルダントブルー１４、モルダントブルー２３、モルダントブルー３２、モルダントブルー４５、モルダントレッド３、モルダントレッド１１、モルダントバイオレット２５、モルダントバイオレット３９、ナフトールブルーブラック、ナフトールグリーンＢ、ナフトールイエローＳ、ナチュラルブラック１、ナチュラルグリーン３（クロロフィリン）、ナチュラルレッド、ナチュラルレッド３、ナチュラルレッド４、ナチュラルレッド８、ナチュラルレッド１６、ナチュラルレッド２５、ナチュラルレッド２８、ナチュラルイエロー６、ＮＢＴ、ニュートラルレッド、ニューフクシン、ナイアガラブルー３Ｂ、ナイトブルー、ナイルブルー、ナイルブルーＡ、ナイルブルーオキサゾン、ナイルブルー硫酸エステル、ナイルレッド、ニトロＢＴ、ニトロブルーテトラゾリウム、ニュークリアファーストレッド、オイルレッドＯ、オレンジＧ、オルセイン、パラロサニリン、フロキシンＢ、ピクリン酸、ポンソー２Ｒ、ポンソー６Ｒ、ポンソーＢ、ポンソー・デ・キシリジン、ポンソーＳ、プリムラ、プルプリン、ピロニンＢ、フィコビリン、フィコシアニン、フィコエリスリン、フィコエリスリンシアニン（ＰＥＣ）、フタロシアニン、ピロニンＧ、ピロニンＹ、キニン、ローダミンＢ、ロザニリン、ローズベンガル、サフロン、サフラニンＯ、スカーレットＲ、スカーレットレッド、シャルラッハＲ、シェラック、シリウスレッドＦ３Ｂ、ソロクロムシアニンＲ、ソルブルブルー、ソルベントブラック３、ソルベントブルー３８、ソルベントレッド２３、ソルベントレッド２４、ソルベントレッド２７、ソルベントレッド４５、ソルベントイエロー９４、スピリットソルブルエオシン、スーダンＩＩＩ、スーダンＩＶ、スーダンブラックＢ、サルファーイエローＳ、スイスブルー、タートラジン、チオフラビンＳ、チオフラビンＴ、チオニン、トルイジンブルー、トルイジンレッド、トロペオリンＧ、トリパフラビン、トリパンブルー、ウラニン、ビクトリアブルー４Ｒ、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアグリーンＢ、ビタミンＢ、ウォーターブルーＩ、ウォーターソルブルエオシン、キシリジンポンソー、またはイエローイッシュエオシンのいずれかから独立して選択されうる。

特定の実施形態では、適用部位で生体光の相乗作用を提供するために、本開示の放射性高分子マトリクスは、上記の発色団のいずれか、またはその組み合わせを含む場合がある。

特定の理論に束縛されるものではないが、発色団の組み合わせの相乗効果とは、生体光効果がその個別の効果の合計よりも大きいことを意味する。有利なことに、これは、放射性高分子マトリクスの反応性の増加、より速いまたは改善された治療時間につながりうる。また、光への暴露時間、使用される光源の出力、および使用される光の波長など、治療条件を、同じまたはより良い治療結果を達成するために変更する必要はない。つまり、発色団の相乗的組み合わせの使用は、光源へのより長い暴露時間、より高い出力の光源、または異なる波長の光源を必要とすることなく、同じまたはより良い治療を可能にしうる。

一部の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、第一の発色団としてエオシンＹ、および第二の発色団として、ローズベンガル、フルオレセイン、エリスロシン、フロキシンＢ、クロロフィリンのいずれか一つ以上を含む。これらの実施形態の一部の実施では、放射性高分子マトリクスは第一の発色団としてエオシンＹ、および第二の発色団としてフルオレセインを含む。

これらの組み合わせは、一部にはこれらの吸収スペクトルと発光スペクトルとの重複または近接近のために、活性化された時、互いにエネルギーを移動させることができるので、相乗効果を持つと考えられる。この移動されたエネルギーは次に、蛍光として放射される、およびまたは活性酸素種の生成につながる、および／または赤外線などの放射エネルギーの生成につながる場合がある。この吸収されて再放射された光は、マトリクス全体に移動され、治療部位中へも移動されると考えられる。

さらなる実施形態では、材料は以下の相乗的組み合わせを含む：エオシンＹとフルオレセイン、フルオレセインとローズベンガル、エリスロシンとエオシンＹ、ローズベンガルまたはフルオレセインとの組み合わせ、フロキシンＢとエオシンＹ、ローズベンガル、フルオレセイン、エリスロシンの一つ以上との組み合わせ。その他の相乗効果のある発色団の組み合わせも可能である。

放射性高分子マトリクス中の発色団の組み合わせの相乗効果によって、活性化光（ＬＥＤからの青い光など）によって通常は活性化されない発色団が、活性化光によって活性化される発色団からのエネルギー移動を通して活性化されうる。このようにして、光活性化された発色団の異なる特性を利用し、必要な美容または医学的処置に従って調整できる。

例えば、ローズベンガルは、分子酸素の存在下で活性化された時、高収率の一重項酸素を生成できるが、放射された蛍光に関しては低い量子収率を持つ。ローズベンガルは、５４０ ｎｍのあたりにピーク吸収を持つので、緑色の光によって活性化されうる。エオシンＹは高い量子収率を持ち、青い光によって活性化されうる。ローズベンガルとエオシンＹを組み合わせることによって、治療的蛍光を放射し、青い光で活性化された時に一重項酸素を生成できる組成物が得られる。この場合、青い光はエオシンＹを光活性化し、エオシンＹはそのエネルギーの一部をローズベンガルに移動するだけでなく、一部のエネルギーを蛍光として放射する。

一部の実施形態では、発色団は、光活性化時のその放射蛍光が電磁スペクトルの緑、黄、オレンジ、赤および赤外部分の一つ以上の中にあり、例えば約４９０ ｎｍ〜約８００ ｎｍの範囲内のピーク波長を持つように選択される。特定の実施形態では、放射蛍光は、０．００５〜約１５ ｍＷ／ｃｍ^２、約０．５〜約１５ ｍＷ／ｃｍ^２の間の出力密度を持つ。

重合性モノマー
一部の実施では、重合性モノマーは疎水性モノマーである。

一部の実施では、重合性モノマーは親水性モノマーである。本明細書で使用するとき、親水性モノマーは重合化されるとき、水等の水媒体と接触すると、ヒドロゲルを形成することができる親水性ポリマーを生み出すモノマーを指す。一部の場合、親水性モノマーは骨格または側鎖に官能基を含むことができる。「官能基」という用語は、本明細書で使用するとき、結合形成能力を表す化学部分を指す。官能基の例として限定されないが、ヒドロキシル（−ＯＨ）、カルボキシル（−ＣＯＯＨ）、アミド（−ＣＯＮＨ−）、チオール（−ＳＨ）、スルホン酸（−ＳＯ３Ｈ）基が挙げられる。親水性モノマーの例として、限定されないが、２−メタクリル酸ヒドロキシエチル、２−アクリル酸ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−２−カルバミン酸ビニルヒドロキシエチル、２−炭酸ビニルヒドロキシエチル、２−メタクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシヘキシルおよびメタクリル酸ヒドロキシオクチル等のヒドロキシルを含むモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、クロトン酸、マレイン酸およびその塩等のカルボキシルを含むモノマー、マレイン酸モノメチルエステル、マレイン酸モノエチルエステル、フマル酸モノメチルエステル、フマル酸モノエチルエステルおよびその塩等の不飽和ポリカルボキシル酸の遊離カルボキシル基を含むエステル、（メス）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド、マレイン酸ジアミドおよびフマル酸ジアミド等のアミドを含むモノマー、メタンチオール、エタンチオール、１−プロパンチオール、ブタンチオール、ｔｅｒｔ−ブチルメルカプタンおよびペンタンチオール等のチオールを含むモノマー、ｐ−スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ｐ−ａ−メチルスチレンスルホン酸、イソプレンスルホニドおよびその塩等のスルホン酸を含むモノマーが挙げられる。

本開示の特定の態様では、重合性モノマーは２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）である。本開示の特定の実施形態では、ＨＥＭＡは、約１重量％〜約８０重量％、または約５重量％〜約８０重量％、または約１０重量％〜約８０重量％、または約１５重量％〜約８０重量％、または約５重量％〜約５０重量％、または約１０重量％〜約５０重量％、または約１５重量％〜約５０重量％、または約５重量％〜約３０重量％、または約１０重量％〜約３０重量％、または約１５重量％〜約３０重量％、または約１５重量％〜約２５重量％または約２０重量％の量で放射性高分子マトリクス中に存在する。

クロスリンカー
本開示の架橋剤は、本明細書に定義されたモノマーの重合化の過程の間に架橋構造を形成することを意図している。架橋剤の例として、限定されないが、その分子ユニットに少なくとも２つの重合性不飽和二重結合を有する化合物、分子中で酸性基、ヒドロキシル基、アミノ基等の官能基と反応することができる少なくとも２つの基を有する化合物、モノマーの官能基と反応することができる少なくとも一つの二重結合および少なくとも一つの基を有する化合物、分子ユニット内でモノマーの官能基と反応することができる少なくとも２つの点を有する化合物が挙げられ、モノマー成分の重合化の過程でグラフトボンデージによって架橋構造を形成することができるポリマーが挙げられる。

本開示の放射性高分子マトリクスのいくつかの実施は、以下を含むがこれらに限定されない架橋剤を有する：エチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）、ポリ（エチレングリコール）ジアクリラート、またはＮ，Ｎ′−メチレンビス（メス）アクリルアミド等の多価（メス）アクリルアミド化合物、またはポリ（エチレングリコール）ジ（メス）アクリラート、ポリ（プロピレン）グリコージ（メス）アクリラート、ジ（メス）アクリル酸グリセリン、アクリル酸メタクリル酸グリセリン、トリメチロールプロパジ（メス）アクリラート、トリメチロールプロパンアクリラートメタクリラート、ペンタエリトリトール ジ（メス）アクリラート、グリセリン トリ（メス）アクリラート、トリメチロールプロパン トリ（メス）アクリラート、ペンタエリトリトール トリ（メス）アクリラート、およびペンタエリトリトール テトラ−（メス）アクリラート等のポリ（メス）アクリル酸化合物、またはトリアリルアミン、ポリ（アリルオキシ）アルカン、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、およびリン酸トリアリル等のポリアリル化合物、ポリ（エチレングリコール）ジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、およびグリセリントリグリシジルエーテル等のポリグリシジル化合物、２，４−ジイソシアン酸トルイレンおよびジイソシアン酸ヘキサメチレン等のポリイソシアン酸化合物、またはＮ−メチロール（メス）アクリルアミドおよび（メス）アクリル酸グリシジル等の反応基を含む（メス）アクリルアミドまたは（メス）アクリル酸。

架橋の密度は、吸収能力を高めると同時に可溶性成分の含量を増加させる。本開示に使用される架橋剤の量は変化させることができる。一部の実施では、架橋剤はエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である。さらなる実施では、ＥＧＤＭＡは、合計組成物の約０．１重量％〜約１０重量％、または約１重量％〜約５重量％の量で、放射性高分子マトリクス組成物中に存在する。

開始剤
本開示の放射性高分子マトリクスの特定の実施形態は、重合開始剤も含む場合がある。本明細書で使用するとき、重合化反応のための「開始剤」とはフリーラジカル種を典型的に与えることによって、重合化反応を開始することができる化合物を指す。フリーラジカル種は開始剤化合物によって直接生成することができ、または重合化の開始を容易にする化合物から抽出することができる。活性化された開始剤化合物によって生成または抽出されるフリーラジカルはラジカル鎖重合化を増やすことができる。本開示の開始剤分子には、フリーラジカル開始剤を含む場合があるがこれに限定されない。フリーラジカル開始剤の例には、過酸化ベンゾイルなどであるがこれに限定されない有機過酸化物を含むがこれに限定されない。有用でありうる有機過酸化物のその他の例には、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルアセテート、クメンヒドロペルオキシド、２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、ジクミルペルオキシド、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、２，４−ペンタンジオンペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、２−ブタノンペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ ２−エチルへキシルカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが含まれる。

放射性高分子マトリクス組成物の一部の実施形態では、約０重量％〜約１重量％、約０．１重量％〜約０．５重量％、約０．２重量％〜約１．０重量％、約０．２５重量％〜約１．２５重量％、約０．１重量％〜約２．０重量％、約０．２重量％〜約４．０重量％の過酸化ベンゾイルを含む場合がある。

抗菌剤
抗菌剤は、微生物を殺傷するか、成長または蓄積を阻害し、本開示の放射性高分子マトリクス中に任意に含まれる。例示的な抗菌剤（または抗菌薬）は、米国特許出願公開第２００４／０００９２２７号および第２０１１／００８１５３０号に記載されている。本開示の方法および組成物での使用に適切な抗菌剤には、過酸化水素、過酸化尿素、過酸化ベンゾイル、フェノールならびに塩素化フェノールおよび塩素化フェノール化合物、レゾルシノールおよびその誘導体、ビスフェノール化合物、ベンゾインエステル（パラベン）、ハロゲン化カルボニリド、高分子抗菌剤、チアゾリン、トリクロロメチルチオイミド、天然抗菌剤（「天然製油」とも呼ばれる）、金属塩、ならびに広域スペクトル抗生物質が含まれるがこれに限定されない。

過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）は強力な酸化剤で、水と酸素に分解して、いかなる持続的な有毒残渣化合物も形成しない。過酸化水素が放射性高分子マトリクスで使用されうる濃度の適切な範囲は、約０．１％〜約３％、約０．１〜約１．５％、約０．１％〜約１％、約１％、約１％未満である。

過酸化尿素（過酸化尿素、過酸化カルバミドまたはペルカルバミドとしても知られる）は、水溶性があり、約３５％の過酸化水素を含む。過酸化尿素が本開示の放射性高分子マトリクスで使用されうる濃度の適切範囲は、約０．２５％未満、約０．３％未満、約０．００１〜０．２５％、または約０．３％〜約５％である。過酸化尿素は、熱または光化学で加速されうる持続放出形式で、尿素と過酸化水素に分解する。

過酸化ベンゾイルは、過酸化基で結合された２つのベンゾイル基（カルボン酸のＨを除去した安息香酸）から成る。過酸化ベンゾイルが放射性高分子マトリクスで使用されうる濃度の適切な範囲は、約２．５％〜約５％である。

特定の実施形態によると、本開示の放射性高分子マトリクスは、酸素を豊富に含む化合物などの一つ以上の追加的構成要素を、酸素ラジカル源として任意に含みうる。過酸化物化合物は、２つの酸素原子を含み、それぞれがお互いおよびラジカルまたは一部の元素に結合されている鎖状の構造である、過酸化基（Ｒ−Ｏ−Ｏ−Ｒ）を含む酸化剤である。酸化剤を含む本開示の放射性高分子マトリクスに光が照射されると、発色団がより高いエネルギー状態に励起される。発色団の電子がより低いエネルギー状態に戻る時、より低いエネルギーレベルの光子を放射し、そのためより長い波長の光の放射を生じる（ストークスシフト）。適正な環境では、このエネルギーの一部が酸素または活性過酸化水素に移動されて、一重項酸素などの酸素ラジカルの形成を生じる。放射性高分子マトリクスの活性化によって生成される一重項酸素およびその他の活性酸素種は、ホルミシス形式で働くと考えられる。これは、標的組織の細胞のストレス反応経路を刺激・調節することにより、通常は有毒な刺激（例えば、活性酸素）への低い暴露によってもたらされる健康利益効果である。外因性に生成されたフリーラジカル（活性酸素種）に対する内因性反応は、外因性フリーラジカルに対する防御力の増加で調節され、治癒および再生過程の加速を誘発する。さらに、酸化剤の活性化は、抗菌効果も生成しうる。フリーラジカルへの暴露に対する細菌の極端な感受性は、本開示の放射性高分子マトリクスを殺菌組成物にする可能性がある。

放射性高分子マトリクスの光学特性
特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、実質的に透明または透光性である。放射性高分子マトリクスの透過率％は、例えば、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９５００シリーズＵＶ−可視分光光度計を使用して、２５０ ｎｍ〜８００ ｎｍの波長範囲で測定できる。一部の実施形態では、可視領域内の透過率が測定されて平均化される。一部のその他の実施形態では、放射性高分子マトリクスの透過率は発色団を除外して測定される。透過率は厚さに依存するため、各サンプルの厚さを分光光度計に装填する前にカリパスで測定できる。透過率値は、以下の式によって正規化できる。

ここで、ｔ_１＝実際の試料の厚さ、ｔ_２＝透過率測定値を正規化しうる厚さ。当技術分野では、透過率測定値は通常、１ｃｍを基準として正規化される。

一部の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、可視領域内で、約２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、または７５％を超える透過率を持つ。一部の実施形態では、透過率は可視領域内で、４０％、４１％、４２％、４３％、４４％、または４５％を超える。

一部の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、固体放射性高分子マトリクスにさらなる弾性および／またはさらなる柔軟性を与えるためなど、特定の堅さをマトリクスに与えるのを助ける。このような構成要素は、例えば、ポリオール（すなわち、糖アルコール）である場合がある。一部の実施では、一つ以上の追加的構成要素はグリセロールである場合がある。有用でありうるその他のポリオールには、アラビトール、エリスリトール、水添デンプン加水分解物（ＨＳＨ）、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトールおよびスクロースを含むがこれらに限定されない。

使用方法
本開示の放射性高分子マトリクスは、美容的および／または医学的利益を持ちうる。それらは、皮膚の若返りおよび皮膚のコンディショニングを促進するため、にきび、湿疹または乾癬などの皮膚疾患の治療を促進するため、炎症を調節するため、コラーゲン合成を調節するため、瘢痕を防止または治療するため、または美容のため、または歯周炎ポケットの深さの低減を含む創傷治癒の促進のために使用できる。それらは急性炎症を治療するために使用できる。急性炎症は、疼痛、熱、発赤、膨張および機能喪失として現れる可能性があり、例えば蚊、ハチ、スズメバチ、ツタウルシ等の昆虫に噛まれるなど、アレルギー反応、または術後治療に見られる炎症反応が挙げられる。

従って、特定の実施形態では、本開示は急性炎症を治療する方法を提供する。

特定の実施形態では、本開示は、皮膚の若返りを提供するため、皮膚状態を改善するため、皮膚疾患を治療するため、瘢痕を防止または治療するため、および／または創傷治癒および／または組織修復を加速するための方法を提供し、方法は、本開示の放射性フォトニックマトリクスを治療を必要とする皮膚または組織の領域に適用し、放射性フォトニックマトリクス中に存在する発色団の吸収スペクトルと重複する波長を持つ光を放射性高分子マトリクスに照射し、放射性高分子マトリクス中に存在する発色団の吸収スペクトルと重複する波長を有する光を放射性高分子マトリクスに連続してまたは繰り返し照射することを含む。

特定の実施形態では、本開示は、皮膚の若返りを提供するため、皮膚状態を改善するため、皮膚疾患を治療するため、瘢痕を防止または治療するため、および／または創傷治癒および／または組織修復を加速するための方法を提供し、方法は、本開示の放射性フォトニックマトリクスを治療を必要とする皮膚または組織の領域に近接して配置し、放射性フォトニックマトリクス中に存在する発色団の吸収スペクトルと重複する波長を持つ光を放射性高分子マトリクスに照射し、放射性高分子マトリクス中に存在する発色団の吸収スペクトルと重複する波長を有する光を放射性高分子マトリクスに連続してまたは繰り返し照射することを含む。

本開示の方法では、任意の作用光源を使用できる。任意のタイプのハロゲン、ＬＥＤまたはプラズマアークランプまたはレーザーが適切でありうる。適切な作用光源の特性は、それらが組成物中に存在する一つ以上の発色団を活性化するために適切な波長（または複数の波長）の光を照射することである。一つの実施形態では、アルゴンレーザーが使用される。別の実施形態では、チタンリン酸カリウム（ＫＴＰ）レーザー（例えば、ＧｒｅｅｎＬｉｇｈｔ（商標）レーザー）が使用される。また別の実施形態では、ＬＥＤランプが作用光の光源である。また別の実施形態では、作用光の光源は、約２００ ｎｍ〜約８００ ｎｍの波長を持つ光源である。別の実施形態では、作用光の光源は、約４００ ｎｍ〜約６００ ｎｍの波長を持つ可視光源である。別の実施形態では、作用光の光源は、約４００ ｎｍ〜約７００ ｎｍの波長を持つ可視光源である。また別の実施形態では、作用光の光源は青い光である。また別の実施形態では、作用光の光源は赤い光である。また別の実施形態では、作用光の光源は緑色の光である。さらに、作用光源は、適切な出力密度を持つべきである。非平行光源（ＬＥＤ、ハロゲン、またはプラズマランプ）の適切な出力密度は、約０．１ ｍＷ／ｃｍ^２〜約２００ ｍＷ／ｃｍ^２の範囲である。レーザー光源の適切な出力密度は、約０．５ ｍＷ／ｃｍ^２〜約０．８ ｍＷ／ｃｍ^２の範囲である。

本開示の方法の一部の実施形態では、被験者の皮膚表面で光は、約０．１ ｍＷ／ｃｍ^２〜約５００ ｍＷ／ｃｍ^２、０．１〜３００ ｍＷ／ｃｍ^２、または０．１〜２００ ｍＷ／ｃｍ^２のエネルギーを持ち、与えられるエネルギーは、治療されている状態、光の波長、皮膚から光源までの距離、および生体光材料の厚さに少なくとも依存する。特定の実施形態では、対象の皮膚で光は、約１〜４０ ｍＷ／ｃｍ^２、または２０〜６０ ｍＷ／ｃｍ^２、または４０〜８０ ｍＷ／ｃｍ^２、または６０〜１００ ｍＷ／ｃｍ^２、または８０〜１２０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１００〜１４０ ｍＷ／ｃｍ^２、または３０〜１８０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１２０〜１６０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１４０〜１８０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１６０〜２００ ｍＷ／ｃｍ^２、または１１０〜２４０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１１０〜１５０ ｍＷ／ｃｍ^２、または１９０〜２４０ ｍＷ／ｃｍ^２である。

放射性高分子マトリクス内の発色団の活性化は、照射時にほぼ即時に起こりうる。本開示の放射性高分子マトリクスの吸収、反射および再放射光の相乗効果、および治療されている組織とのその相互作用を利用するために、長い暴露期間は有益でありうる。一つの実施形態では、組織もしくは皮膚または放射性高分子マトリクスの作用光への暴露時間は、０．０１分〜９０分の間である。一つの実施形態では、組織もしくは皮膚または放射性高分子マトリクスの作用光への暴露時間は、１分〜５分の間である。一部のその他の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、約１分〜３分の間照射される。特定の実施形態では、光は、約１〜３０秒、約１５〜４５秒、約３０〜６０秒、約０．７５〜１．５分、約１〜２分、約１．５〜２．５分、約２〜３分、約２．５〜３．５分、約３〜４分、約３．５〜４．５分、約４〜５分、約５〜１０分、約１０〜１５分、約１５〜２０分、または約２０〜３０分の間適用される。治療時間は、最大約９０分、約８０分、約７０分、約６０分、約５０分、約４０分または約３０分の範囲でありうる。当然のことながら、線量を維持するために、治療領域に送達されるフルエンス率を調節することによって治療時間を調節できる。例えば、送達されるフルエンスは、約４〜約６０ Ｊ／ｃｍ^２、約１０〜約６０ Ｊ／ｃｍ^２、約１０ 〜約５０ Ｊ／ｃｍ^２、約１０〜約４０ Ｊ／ｃｍ^２、約１０〜約３０ Ｊ／ｃｍ^２、約２０〜約４０ Ｊ／ｃｍ^２、約１５ Ｊ／ｃｍ^２ 〜２５ Ｊ／ｃｍ^２、または約１０ 〜約２０ Ｊ／ｃｍ^２でありうる。

一部の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、特定の間隔で再照射されうる。また別の実施形態では、作用光の光源は、適切な暴露時間の間、治療エリアの上方で連続的な動きをしている。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスの発色団は、太陽および天井照明からのものを含む、周辺光によって光励起されうる。特定の実施形態では、発色団（複数可）は、電磁スペクトルの可視領域の光によって光活性化できる。光は、太陽光、電球、ＬＥＤ装置、テレビ、コンピュータ、電話、携帯装置上などの電子表示スクリーン、携帯装置上のフラッシュライトなど、任意の光源によって放射できる。本開示の方法では、任意の光源を使用できる。例えば、周辺光と直接太陽光または人工直接光との組み合わせを使用しうる。周辺光には、ＬＥＤ電球、蛍光電球などの天井照明、および間接太陽光を含みうる。

本開示の方法では、放射性高分子マトリクスは、光の適用後に皮膚から取り除かれうる。その他の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、組織上に長時間配置されたままとなり、状態を治療するのに適切な時点で、直接または周辺光で再活性化される。
本開示の方法の特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、組織に、１週間に１回、２回、３回、４回、５回または６回、毎日、またはその他の任意の頻度で組織に塗布されるか、または組織に近接して配置されうる。合計治療時間は、１週間、２週間、３週間、４週間、５週間、６週間、７週間、８週間、９週間、１０週間、１１週間、１２週間、または適切と考えられるその他の任意の長さでありうる。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは創傷治癒を促進するために使用することができる。この場合、放射性高分子マトリクスは、医師またはその他の医療提供者によって適切と見なされるように、創傷部位に塗布するか、または創傷部位に近接して配置してもよい。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、瘢痕の修正を最適化するために、創傷閉鎖の後に使用できる。この場合、放射性高分子マトリクスは、週に１回、または医師もしくはその他の医療提供者によって適切と見なされる間隔など、定期的間隔で、治療される瘢痕部位に塗布するか、または治療される創傷部位に近接して配置してもよい。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、治療された皮膚の状態を維持するために、にきび治療の後に使用できる。この場合、放射性高分子マトリクスは、週１回または、医師もしくはその他の医療提供者によって適切と見なされる間隔など、定期的な間隔で適用されうる。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、治療された皮膚の状態を維持するために、皮膚の若返り切除治療の後に使用できる。この場合、放射性高分子マトリクスは、週１回または、医師もしくはその他の医療提供者によって適切と見なされる間隔など、定期的な間隔で適用されうる。

本開示の方法では、追加的構成要素を放射性高分子マトリクスに任意に含めるか、または放射性高分子マトリクスと組み合わせて使用しうる。このような追加的構成要素には、回復因子、抗菌剤、酸素を豊富に含む薬剤、しわ充填剤（例えば、ボトックス、ヒアルロン酸およびポリ乳酸）、真菌、抗生物質、抗ウイルス剤、および／またはコラーゲン合成を促進する薬剤を含むがこれに限定されない。これらの追加的構成要素は、本開示の放射性高分子マトリクスの局所適用の前、それと同時、および／またはその後に、皮膚に局所的に適用されうる。適切な回復因子は、適用部位上の組織の治癒または再生過程を促進または亢進する化合物を含む。本開示の放射性高分子マトリクスの光活性化の間、治療部位で皮膚または粘膜によるこのような追加的化合物の分子吸収の増加がありうる。特定の実施形態では、治療部位での血流の増加が、一定時間観察されている。フリーラジカルカスケードの動的相互作用による、リンパ排液の増加および浸透圧平衡の変化の可能性は、治癒因子を含めることで強化または補強もされうる。回復因子は、光退色時間およびプロファイルなど、生体光組成物からの生体光出力も調節するか、または組成物内の特定の原料の浸出を調節しうる。適切な回復因子には、グルコサミン、アラントイン、サフロン、コラーゲン合成を促進する薬剤、抗真菌剤、抗生物質、抗ウイルス剤、および成長因子などの創傷治癒因子が含まれるがこれに限定されない。

本開示の放射性高分子マトリクスは、皮膚の若返りの促進、または皮膚状態および外観の改善において有益でありうる。真皮は、皮膚の２番目の層で、皮膚の構造要素である結合組織を含む。異なる機能を持つさまざまなタイプの結合組織がある。エラスチン線維は、皮膚に弾力性を与え、コラーゲンは皮膚に強度を与える。

真皮と表皮の間の接合点は、重要な構造である。真皮・表皮接合部は、連結して指のような上皮小稜を形成する。表皮の細胞は、真皮の血管から栄養素を受け取る。上皮小稜は、これらの血管および必要な栄養素に曝される表皮の表面積を増加させる。

皮膚の老化には、皮膚への著しい生理学的変化が伴う。新しい皮膚細胞の生成は減速し、真皮・表皮接合部の上皮小稜は平らになる。エラスチン線維の数は増加するが、その構造および結合力は減少する。皮膚の老化と共に、コラーゲンの量および真皮の厚さも減少する。

コラーゲンは、皮膚の細胞外基質の主な構成要素で、構造骨組を提供する。老化過程の間、コラーゲン合成の減少およびコラーゲン線維の不溶化は、真皮の菲薄化および皮膚の生物力学特性の低下に寄与する。

皮膚の生理学的変化は、しばしば経時老化、内因性老化、および光老化と呼ばれる、顕著な老化症状をもたらす。皮膚はより乾燥し、粗さおよび落屑が増加し、外観がくすみ、最も明瞭には小皺およびしわが現れる。皮膚の老化のその他の症状または兆候には、薄く透明な皮膚、（こけた頬と眼窩並びに手および首の堅さの顕著な喪失につながる）下層脂肪の減少、骨量の減少（骨量減少のために骨が皮膚から離れて縮小し、皮膚のたるみを生じる）、乾燥肌（痒い場合がある）、皮膚を冷却するために十分に汗をかくことの不能、望ましくない顔の毛、そばかす、しみ、クモ状静脈、荒れてガサガサの肌、伸ばすと消える小皺、たるんだ皮膚、まだらな顔色が含まれるがこれに限定されない。

真皮・表皮接合部は、表皮のケラチン生成細胞を、真皮の下部にある細胞外基質から分離する基底膜である。この膜は、ケラチン生成細胞と接触している基底膜、および細胞外基質と接触している下層網状板の２つの層から構成される。基底膜は、ＩＶ型コラーゲンおよび、構造ネットワークおよび細胞付着のための生体接着特性を提供する役割を果たす分子であるラミニンを豊富に含む。

ラミニンは、基底膜にのみ存在する糖タンパク質である。これは、非対称な十字の形状に配置され、ジスルフィド結合で一緒に保持された３つのポリペプチド鎖（アルファ、ベータおよびガンマ）から成る。３つの鎖は、ラミニン１およびラミニン５を含む、ラミニンの１２の異なるイソ型を生じる、異なるサブタイプとして存在する。

真皮は、α−インテグリンおよびその他のタンパク質から成る、ケラチン生成細胞上にある特定接合点である半接着斑に、ケラチン生成細胞の基底膜の所でＶＩＩ型コラーゲン原線維によって固定されている。ラミニン、および特にラミニン５は、基底ケラチン生成細胞中の半接着斑膜貫通タンパクとＶＩＩ型コラーゲンとの間の実際の固定点を構成する。

ラミニン５合成およびＶＩＩ型コラーゲンの発現は、老化した皮膚では減少することが証明されている。これによって、真皮と表皮の間の接触が失われ、皮膚が弾力性を失い、垂れ下がるようになる。

最近、表情じわと一般的に呼ばれる別のタイプのしわが、一般的認知を得た。皮膚が顔の表情を作る顔の筋肉の元の状態に戻ることができないため、表情しわは、特に真皮での復元力の低下から生じる。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび本開示の方法は、皮膚の若返りを促進する。特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、皮膚の明度、毛穴サイズの減少、まだらな赤みの減少、皮膚の色合いを均一にする、乾燥の減少、および皮膚の引き締めなどの皮膚状態を促進するために使用され、それによって皮膚の若返りを促進する。特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、コラーゲン合成を促進する。特定のその他の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、小皺またはしわの出現、薄く透明な皮膚、（こけた頬と眼窩並びに手および首の堅さの顕著な喪失につながる）下層脂肪の減少、骨量の減少（骨量減少のために骨が皮膚から離れて縮小し、皮膚のたるみを生じる）、乾燥肌（痒い場合がある）、皮膚を冷却するために十分に汗をかくことの不能、望ましくない顔の毛、そばかす、しみ、クモ状静脈、荒れてガサガサの肌、伸ばすと消える小皺、たるんだ皮膚、またはまだらな顔色が含まれるがこれに限定されない皮膚老化の一つ以上の兆候を減少、軽減、遅延または逆転さえしうる。特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法には、毛穴サイズの減少を誘発し、皮膚小区分のスカルプチャー、および／または皮膚の透光性を高めうる。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、コラーゲン促進剤と併せて使用されうる。コラーゲン合成を促進する薬剤（すなわち、コラーゲン合成促進剤）には、アミノ酸、ペプチド、タンパク質、脂質、小さな化学分子、天然産物および天然産物からの抽出物が含まれる。

例えば、ビタミンＣ、鉄、およびコラーゲンの摂取は、皮膚または骨のコラーゲン量を効果的に増加させることが発見された。例えば、米国特許出願公開第２００９／００６９２１７号を参照。ビタミンＣの例には、Ｌ−アスコルビン酸またはＬ−アスコルビン酸ナトリウムなどのアスコルビン酸誘導体、アスコルビン酸を乳化剤または同種のものでコーティングして得られるアスコルビン酸製剤、およびこれらビタミンＣの２つ以上を任意の割合で含む混合物が含まれる。さらに、アセロラおよびレモンなど、ビタミンＣを含む天然産物も使用されうる。鉄製剤の例には、硫酸第一鉄、クエン酸第一鉄ナトリウム、またはピロリン酸第二鉄などの無機鉄、ヘム鉄、フェリチン鉄、またはラクトフェリン鉄などの有機鉄、およびこれらの鉄の２つ以上を任意の割合で含む混合物が含まれる。さらに、ほうれん草またはレバーなど、鉄を含む天然産物も使用されうる。さらに、コラーゲンの例には、ウシまたはブタなど、哺乳類の骨、皮膚、または同種のものを酸またはアルカリで処理することで得られる抽出物、ペプシン、トリプシン、またはキモトリプシンなどのプロテアーゼで抽出物を加水分解することで得られるペプチド、およびこれらのコラーゲンの２つ以上を任意の割合で含む混合物が含まれる。植物起源から抽出されたコラーゲンも使用されうる。

追加的なコラーゲン合成促進剤は、例えば、米国特許第７，５９８，２９１、７，７２２，９０４、６，２０３，８０５、５，５２９，７６９号など、および米国特許出願公開第 ２００６／０２４７３１３、２００８／０１０８６８１、２０１１／０１３０４５９、２００９／０３２５８８５、および２０１１／００８６０６０号に記述されている。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は皮膚疾患を治療することができ、皮膚疾患として以下に限定されないが、紅斑症、毛細血管拡張症、化学腺毛細血管拡張症、基底細胞癌、接触性皮膚炎、隆起性皮膚線維肉腫、性器疣贅、化膿性汗腺炎、メラノーマ、メルケル細胞癌、貨幣状湿疹、伝染性軟属腫、乾癬、乾癬性関節炎、酒さ、疥癬、頭皮乾癬、脂腺癌、扁平上皮癌、脂漏性皮膚炎、脂漏性角化症、帯状疱疹、癜風、疣贅、皮膚癌、天疱瘡、日焼け、皮膚炎、湿疹、発疹、膿痂疹、慢性単純性苔癬、鼻瘤、口囲皮膚炎、仮性毛瘡（ｐｓｅｕｄｏｆｏｌｌｉｃｕｌｉｔｉｓ ｂａｒｂａｅ）、固定薬疹、多形性紅斑、結節性紅斑、環状肉芽腫、日光角化症、紫斑病、円形脱毛症、アフタ性口内炎、皮膚乾燥、肌荒れ、乾燥症、尋常性魚鱗癬、真菌症、単純ヘルペス、間擦疹、ケロイド、角化症、稗粒腫、伝染性軟属腫、ばら色粃糠疹、掻痒症、蕁麻疹、ならびに血管腫瘍および形成異常が挙げられる。皮膚炎には、接触皮膚炎、アトピー性皮膚炎、脂漏性皮膚炎、貨幣状皮膚炎、全身性剥脱性皮膚炎、およびうっ滞性皮膚炎が含まれる。皮膚がんには、黒色腫、基底細胞がん、および扁平上皮がんが含まれる。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、にきびを治療するために使用できる。本明細書で使用される場合、「にきび」とは、皮膚腺または毛包の炎症によって生じる皮膚の疾患を意味する。本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、早期の発現前段階またはにきびの病変が目に見える後の段階で、にきびを治療するために使用できる。軽度、中程度および重度のにきびは、放射性高分子マトリクスおよび方法の実施形態で治療できる。にきびの発現前の早期段階は、毛嚢脂腺器官にある皮脂腺からの皮脂または真皮油の過剰分泌で通常始まる。皮脂は、毛包の管を通して皮膚表面に達する。管の中および皮膚上での過剰量の皮脂の存在は、毛包管からの皮脂の正常な流れを妨害または停滞させる傾向があり、そのため皮脂の濃縮化および固化を起こして、面皰として知られる固体の栓を作る。にきびの発症の正常な順序では、毛包口の過角化が刺激されて、それにより管のブロックが完了される。通常の結果は、丘疹、膿疱、または嚢胞で、これらは二次感染を引き起こす細菌で汚染されていることがよくある。にきびは、面皰、炎症性丘疹、または嚢胞の存在によって具体的に特徴付けられる。にきびの外観は、わずかな皮膚炎から、陥凹および外観を損なう瘢痕の発現までに及びうる。結果的に、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、皮膚炎、陥凹、瘢痕の発現、面皰、炎症性丘疹、嚢胞、過角化（ｈｙｐｅｒｋｅｒａｔｉｎａｚａｔｉｏｎ）、およびにきびに関連した皮脂の濃厚化および硬化の一つ以上を治療するために使用できる。

一部の皮膚疾患は、赤み、顔面紅潮、落屑、吹き出物、丘疹、膿疱、面皰、斑、結節、小疱、水疱、毛細血管拡張症、クモ状静脈、ただれ、表面の過敏または痛み、痒み、炎症、赤み、紫もしくは青い斑点もしくは変色、ほくろ、および／または腫瘍を含む様々な症状を呈する。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、にきびのさまざまなタイプを治療するために使用できる。にきびの一部のタイプには、例えば、尋常性座瘡、嚢腫性座瘡、萎縮性座瘡、臭素座瘡、塩素座瘡、集簇性座瘡、化粧品性座瘡、洗剤性座瘡、流行性座瘡、夏季座瘡、電撃性座瘡、ハロゲン座瘡、硬結性座瘡、ヨード座瘡、座瘡ケロイド、機械的座瘡、丘疹性座瘡、ポマード座瘡、月経前座瘡、膿疱性座瘡、壊血病性座瘡、腺病性座瘡、蕁麻疹様座瘡、痘瘡状座瘡、毒物性座瘡、プロピオン酸座瘡、表皮剥離性座瘡、グラム陰性座瘡、ステロイド座瘡および結節嚢胞性座瘡が含まれる。

特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスは、全身または局所的な抗菌治療と併せて使用することができる。例えば、にきびを治療するために使用される抗生物質としては、テトラサイクリン、エリスロマイシン、ミノサイクリン、ドキシサイクリンが挙げられ、これらも本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法と一緒に使用されうる。放射性高分子マトリクスの使用は、抗生物質治療に必要な時間を減少させるか、または用量を減少させることができる。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、創傷の治療、創傷治癒の促進、組織修復の促進および／または運動機能（例えば、関節の動き）の改善を含む、美容術の防止もしくは減少のために使用されうる。本開示の生体光ヒドロゲルおよび方法によって治療されうる創傷としては、例えば、異なる方法で始まり（例えば、長期間のベッド休養による褥瘡、外傷または手術によって誘発された創傷、やけど、糖尿病または静脈不全に関連した潰瘍、歯周炎などの状態によって誘発された創傷）、異なる特性を持つ皮膚および皮下組織への損傷が挙げられる。特定の実施形態では、本開示は、例えば、やけど、切開、切除、病変、裂傷、擦り傷、刺創または穿通創、手術創、挫傷、血腫、圧挫損傷、切断、痛みおよび潰瘍の治療ならびに／または治癒を促進するための放射性高分子マトリクスおよび方法を提供する。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、耐久性のある構造的、機能的、および美容的閉合を作るための順序正しくタイムリーな一連のイベントをたどらなかった創傷である、慢性皮膚潰瘍または創傷の治療および／または治癒を促進するために使用されうる。慢性創傷の大部分は、その病因に基づいて、褥瘡、神経障害性（糖尿病性足部）潰瘍および血管性（静脈性または動脈性）潰瘍の３つのカテゴリーに分類できる。

例えば、本開示は、糖尿病性潰瘍の治療および／または治癒の促進のための放射性高分子マトリクスおよび方法を提供する。糖尿病患者は、神経性および血管性の両方の合併症のために、足およびその他の潰瘍形成を起こしやすい。末梢神経障害は、足および／または脚の感覚の変化または完全喪失を起こす可能性がある。進行した神経障害を持つ糖尿病患者は、鋭さと鈍さとを識別する能力をすべて失う。神経障害患者は、足への切り傷または外傷に、数日または数週間、全く気が付かないことがある。進行した神経障害を持つ患者は、持続的な圧力損傷を感じる能力を失い、その結果、組織虚血および壊死が起こり、例えば足底潰瘍形成につながりうる。微小血管疾患は、糖尿病の重大な合併症の一つで、潰瘍形成にもつながりうる。特定の実施形態では、慢性創傷の治療のための放射性高分子マトリクスおよび方法が本明細書に提供されており、慢性創傷は、糖尿病の神経性および／または血管性の合併症による糖尿病性足潰瘍および／または潰瘍形成によって特徴付けられる。

その他の例では、本開示は、褥瘡の治療および／または治癒の促進のための放射性高分子マトリクスおよび方法を提供する。褥瘡は床擦れ、褥瘡性潰瘍および坐骨結節潰瘍を含み、患者にかなりの痛みおよび不快感を起こさせる可能性がある。褥瘡は、皮膚に長時間圧力が加えられた結果として起こる可能性がある。従って、個人の体重または質量のために、患者の皮膚に圧力がかかる可能性がある。褥瘡は、皮膚のエリアへの血液供給が、２時間または３時間を超えて妨害または遮断された時に発症する可能性がある。影響を受けた皮膚エリアは、赤くなり、痛みおよび壊死が起こる可能性がある。治療しない場合、皮膚が破れて開き、感染する可能性がある。従って褥瘡は、例えば、長時間ベッドに横になる、車椅子に座る、および／またはギブス包帯を装着することから圧力下にある皮膚のエリアに起こる皮膚潰瘍である。褥瘡は、人が寝たきり、無意識、痛みを感じることができない、または動けない時に起こる可能性がある。褥瘡は、臀部エリア（仙骨または腸骨稜上）、または足のかかとなど、体の骨張った隆起部に起こることがよくある。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法によって治療できる創傷のさらなるタイプには、米国特許出願公開第２００９／０２２０４５０号に開示されているものが含まれ、これは参照により本明細書に組み込まれる。

創傷治癒過程には３つの明確な段階がある。第一に、創傷が起こった時から最初の２〜５日までに典型的に起こる炎症段階では、血小板が凝集して顆粒を沈着し、フィブリンの沈着を促進し、成長因子の放出を刺激する。白血球が創傷部位に移動し、破片を消化して創傷から外に移動し始める。この炎症段階の間、単球もマクロファージに変換され、これは血管形成および線維芽細胞の生成を刺激するために成長因子を放出する。

第二に、典型的には２日〜３週間までに起こる増殖段階では、肉芽組織が形成され、上皮形成および収縮が開始される。この段階の重要な細胞タイプである線維芽細胞は、増殖してコラーゲンを合成し、創傷を満たして、その上で上皮細胞が成長する強い基質を提供する。線維芽細胞がコラーゲンを生成すると、血管形成が近くの血管から拡大し、肉芽組織を生じる。肉芽組織は、典型的には創傷の基部から成長する。上皮形成には、創傷を密封するために、上皮細胞の、創傷表面からの移動を伴う。上皮細胞は、類似のタイプの細胞に接触する必要性によって促進され、これらの細胞がその上を移動するグリッドとして機能するフィブリン鎖のネットワークによって誘導されている。筋線維芽細胞と呼ばれる収縮性細胞が創傷中に現れ、創傷の閉鎖を助ける。これらの細胞は、コラーゲン合成および収縮性を示し、肉芽創では一般的である。

第三に、創傷が発現してから３週間から数年まで起こりうる創傷治癒の最終段階の再形成段階では、瘢痕中のコラーゲンが繰り返し分解および再合成を受ける。この段階の間、新しく形成された皮膚の引張強度が増加する。

しかし、創傷治癒の速度が増すと、瘢痕形成の関連増加がよく起こる。瘢痕化は、大部分の成体動物およびヒト組織における治癒過程の結果である。瘢痕組織は、通常、機能品質が劣るため、それを置換する組織と同一ではない。瘢痕のタイプには、萎縮性、肥大性およびケロイド性瘢痕、および瘢痕拘縮が含まれるがこれに限定されない。萎縮性瘢痕は平らで、谷または穴として周辺の皮膚よりも下にくぼんでいる。肥大性瘢痕は、元の病変の境界内に留まっている隆起した瘢痕であり、異常なパターンで配列された過剰なコラーゲンを含むことがよくある。ケロイド性瘢痕は、元の創傷の縁を超えて広がる隆起した瘢痕であり、周辺の正常皮膚に部位特異的な方法で侵入し、異常な形状で配置された渦巻き状コラーゲンをしばしば含む。

それに対して、正常皮膚は、バスケットウィーブパターンに配列されたコラーゲン線維から成り、これは真皮の強度と弾性の両方に寄与する。従って、より滑らかな創傷治癒過程を達成するためには、コラーゲン生成を刺激するだけでなく、瘢痕形成を減少させる方法でそれを行うアプローチが必要である。

本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、実質的に均一な上皮化形成の促進、コラーゲン合成の促進、制御された収縮の促進によって、および／または瘢痕組織の形成の低減によって、創傷治癒を促進する。特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、実質的に均一な上皮化の形成を促進することによって創傷治癒を促進しうる。一部の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、コラーゲン合成を促進する。一部の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、制御された収縮を促進する。特定の実施形態では、本開示の放射性高分子マトリクスおよび方法は、例えば、瘢痕組織の形成を減少させることによって、創傷治癒を促進する。

本開示の方法では、本開示の放射性高分子マトリクスは、陰圧補助創傷閉鎖装置およびシステムと組み合わせても使用しうる。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、最大１、２または３週間、所定の位置に保たれ、さまざまな間隔で、周辺光を含みうる光を照射される。この場合、組成物は、光への暴露と暴露の間、不透明材料で覆われるか、または光に暴露したままにしうる。

本開示の放射性高分子マトリクスを使用して一つ以上の症状を治療または緩和することができる皮膚学の奇病として、限定されないが、ＣＨＩＬＤ症候群、特にＣＨＩＬＤ症候群の魚鱗癬様紅皮症の態様、皮膚筋炎、化膿性汗腺炎、後天性魚鱗癬ならびに遺伝性魚鱗癬、粘液水腫性苔癬および硬化性粘液水腫、天疱瘡、およびポルフィリン症障害を挙げることができる。

本開示の放射性高分子マトリクスを使用して一つ以上の症状を治療または緩和することができる骨および／または関節組織疾患に関係する奇病として、限定されないが、エーラース・ダンロス症候群およびコラーゲン産生および／または成膜異常、ゴム様皮膚、好酸球性筋膜炎、骨形成不全症、強皮症、およびウィンチェスター症候群を挙げることができる。

その一つ以上の症状を治療または緩和するために本発明を使用しうるその他の稀な皮膚科学的、骨、結合組織および口腔疾患も、Ｔｏｕｉｔｏｕ ｅｔ ａｌ． （２０１３） “Ｔｈｅ ｅｘｐａｎｄｉｎｇ ｓｐｅｃｔｒｕｍ ｏｆ ｒａｒｅ ｍｏｎｏｇｅｎｉｃ ａｕｔｏｉｎｆｌａｍｍａｔｏｒｙ ｄｉｓｅａｓｅｓ” Ｏｒｐｈａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｒａｒｅ Ｄｉｓｅａｓｅｓ， ｖｏｌｕｍｅ ８， ｐａｇｅｓ １６２−１７４を参照することで見つけることができる。

本開示の放射性高分子マトリクスは、さまざまな口腔疾患を治療するために使用できる。このような口腔疾患には、歯ぐきの炎症によって定められる障害であり、歯ぐき、組織、歯槽、歯を適切に保持する構造を作る靭帯の破壊によって特徴づけられる歯周病として特徴づけられる歯肉炎を含むがこれに限定されない。歯肉炎は重篤な歯周病の最初の段階の一つである。歯肉炎の症状として、歯ぐきの腫脹、口内炎、明赤色または紫色の歯ぐき、歯ぐきの輝き、触ったりしなければ痛みを感じない歯ぐき、歯ぐきの出血が挙げられる。歯肉炎の最初の徴候は視覚的な症状を除けば症状がなく、歯科医師によって診断されて初めて分かるようである。

歯周病はざんごう口腔炎としても知られる。歯周病は重度の歯肉炎を引き起こし、歯ぐきの出血、膿がにじみ出て、かなりの痛みがあり、早く歯牙欠損することが多い。歯周病の症状として、歯ぐきの痛み、口臭（口臭症）、口の不快な味、熱、穏やかな圧力でも歯ぐきが出血すること、歯と歯茎の間のクレーターほどの大きさの口内炎、 頭、首、または顎の周りのリンパ節の腫脹、歯ぐきの灰色の膜、歯ぐきの発赤、歯ぐきの腫脹、および食べたり飲みこんだりするときの痛みが挙げられる。歯周炎または歯槽膿漏症は口腔内で歯を支える組織を含む歯周組織の炎症である。歯周組織に含まれる部分として歯肉（歯肉組織）、歯が付着している窪みである歯槽骨、歯根のセメント質、または外層および歯根膜または歯槽骨に対する歯肉およびセメント質に結びついている結合組織線維から成る歯根膜またはＰＤＬが挙げられる。この病態は、未処理のままであると、歯がぐらつきまたは歯を失ってしまう歯の周囲の骨の進行性の喪失として説明されている。細菌が最も多いことが当該疾患の異なる原因である。歯周炎は、当該領域の骨の喪失がすでに関係しているため、歯ぐきの疾患の進行したフェーズとして考えられている。歯周炎は軽度の歯肉炎の未処置の結果である。細菌感染の存在によって、身体がさらなる合併症を導く歯周炎にネガティブに反応することもある。歯周炎は成人の歯の喪失の主要原因の一つであり、３０歳を超えるすべての成人の約５０％が罹患している。

歯の不安定な固着および微生物の存在によって、徴候および症状が生じる。デンタルフロスを使用した歯磨き、食べ物を噛む、噛む、または指で触ったときに、歯ぐきが時々または頻繁に出血または赤くなる。歯ぐきが腫脹しまたは膿ができることもある。歯周炎の個体は口臭または息が臭いことがあり、口の中で鉄またはスズのような味が長く続く。強く磨くことによって部分的に生じることもある歯ぐきの抗体によって歯は細長く、鋭く見える。コラゲナーゼと呼ばれる酵素がコラーゲンを破壊し始めると、歯と歯茎の間のポケットが深くなる。歯周炎疾患の初期の段階の間に、わずかな徴候および症状に気づくことがある。進行した歯周炎は若年の個体に影響することがあり、発症する可能性がある。いくつかの発症はかなり軽度の症状であることもあるが、かなり重症の場合もある。特に慢性歯周炎の徴候および症状は通常本質的に進行性である。

鵞口瘡は真菌カンジダ・アルビカンスが口内で急速に制御できないほどに増殖する疾患である。健康な体では、フローラとして知られている細菌が、カンジダ・アルビカンスの増殖を制御し続けている。鵞口瘡は舌を覆うクリーミーな白色ペーストで現れ、口の上あご、歯ぐき、喉の背側、扁桃、頬の内側に急速に広がる可能性がある。新生児、乳幼児、高齢者、免疫システムをいくらか損なっている患者が鵞口瘡にかかる可能性が最も高い。

鵞口瘡の症状は舌および頬の内部を覆う白色のペーストから始まる。鵞口瘡が発現し続けると、舌をこする、または患者が歯磨きをすると、少量の出血を引き起こす可能性がある。これらの症状はかなり急速に進行するが、鵞口瘡は数カ月続くこともある。鵞口瘡の病変が食道まで広がると、患者は嚥下の困難、喉または胸の中間で食べ物が詰まっているような感触等の追加の症状が現れることがあり、鵞口瘡の病変が食道を通り過ぎて広がると、熱の症状が現れるはずである。

扁平苔癬は炎症を伴って口の内側に影響する口腔疾患として定義されることが最も多い。扁平苔癬は口腔の組織を刺激する発疹として認識されることが最も多い。大部分の患者は４５歳〜６０歳で最初にこの病気にかかるが、若年患者に関する報告の数がゆっくりと増加している。扁平苔癬は頬の内部に関連することが最も多く、多くの症例が、歯ぐき、舌、唇を含む口全体に発症し、稀な症例では喉または食道に発症することが認められている。扁平苔癬は皮膚疾患として皮膚に発現することもあり、口腔の種類とは別に皮膚扁平苔癬としてとりわけ言及しなければいけないことが多い。

扁平苔癬は数週間、数カ月、場合によっては数年も続く可能性のある独立した疾患である。扁平苔癬は伝染性ではない。扁平苔癬は生殖器の疾患と間違えられることが多く、生殖器は初期の発現段階の間に最も顕著に影響を受けることが多い。症状および激増は急速に起こり、その後消えるため、数週間は治療が困難なことが多い。患者の中には冷却圧縮または浴槽に入るおよび冷浴でかなり緩和されることがあるが、ほとんどの患者は症状を緩和するために医学的処置を必要とする。

口内炎は基本的には口の炎症を意味するが、より具体的には口内炎は歯ぐき、舌、頬、唇および口の上あごを含む口の内粘膜の炎症である。口内炎には異なる種類があり、どのようにして当該疾患が取得されたかによって分類するのが基本である。口内炎の２つの種類は接触性口内炎およびアフタ性口内炎である。接触性口内炎はアレルゲンまたは刺激物に接触することによって生じる口腔粘膜の炎症である。接触性口内炎は分布のパターン、病原因子、および臨床特性によって分類される。臨床徴候がないために検出されない接触性口内炎のいくつかの症例がある。人種、年齢、および性別に関わらず誰もが接触性口内炎になる可能性がある。年長者のほうがより多く観察されている。

口唇潰瘍またはアフタ性潰瘍としても知られているアフタ性口内炎は病因が知られていない。接触性口内炎のように、口唇潰瘍は口腔粘膜に影響する。アフタ性潰瘍は口腔潰瘍の一種であり、粘膜の破壊によって生じる口の中または（口蓋垂を含む）上咽頭の痛みを伴う開放創として現れる。当該病態は、主要な、複数、または再発性の潰瘍の場合では、特にサットン病としても知られる。潰瘍は浅部の、分離した、痛みを表す可能性があり、影響を受けていない粘膜に通常見ることができる。この種類の口内炎は、接触性口内炎のように、自己限定的で、合併症を引き起こすことはない。通常のサイズの潰瘍は１〜２週間続くことがあり、大きい潰瘍では数カ月続くことがある。

単純ヘルペスは単純ヘルペスウイルスによって生じるウイルス性疾患であり、単純ヘルペスウイルス１（ＨＳＶ−１）も単純ヘルペスウイルス２（ＨＳＶ−２）の両方とも単純ヘルペスを引き起こす。ヘルペスウイルスによる感染は、感染部位に基づいていくつかの固有の障害の一つにカテゴリー化される。口腔ヘルペスは口唇ヘルペスと口語で呼ばれる視認可能な症状であり、顔および口に感染する。口腔ヘルペスは単純ヘルペス感染の最も一般的な形態である。

本発明は、限定されないが口腔粘膜炎、ウイルス、細菌、真菌、または原生動物の感染によって生じる口腔潰瘍、または免疫システムの障害（免疫不全、自己免疫、またはアレルギー）によって生じる口腔潰瘍を含むその他の種類の口腔炎症を治療するために使用することができる。口腔粘膜下線維症、炎症および粘膜下組織の進行性線維症を特徴とする口腔の慢性衰弱疾患も含まれる。舌炎または舌の感染も含まれる。その他の種類の口腔炎症では舌の腫脹および変色を引き起こす。

本開示の放射性高分子マトリクスは骨再建および／または骨再生のために有用な場合がある。理論に束縛されるものではないが、本開示の放射性高分子マトリクスは、特定部位の骨組織の増殖、動員および生存の促進を助けうる。使用中、放射性高分子マトリクスは、例えば、疾患、欠損または外傷場所を治療するため、および／または人工骨関節固定を促進するために、骨の成長が望ましい部位に埋め込まれる。本開示の組成物で治療できる骨修復部位には、傷害から生じるもの、手術、感染、悪性腫瘍または発生奇形の過程でもたらされる欠損が含まれるがこれに限定されない。放射性高分子マトリクスは、単純骨折および複合骨折および癒着不能の修復、外部および内部固定、関節固定などの関節再建、一般的関節形成、股関節のカップ関節形成、大腿骨頭および上腕頭の置換、大腿骨頭表面置換および関節全置換術、脊椎固定術および内固定を含む脊柱の修復、腫瘍手術（例えば、欠損充填）、椎間板切除、椎弓切除、脊髄腫瘍の切除、前頸部および胸部手術、脊髄損傷の修復、脊柱側弯症、脊柱前弯症および脊柱後弯症の治療、骨折の顎間固定、オトガイ形成術、顎関節置換、歯茎造成および再建、インレー骨インプラント、インプラント配置および修正、上顎洞底挙上術、美容増進などを含むがこれに限定されない、幅広い整形外科、歯周、神経手術および口腔および顎顔面外科手術で使用できる。これらの潜在的用途のいずれかでは、本開示の放射性高分子マトリクスは、骨再建が必要な部位に直接適用されうる。この部位へのアクセスは、一部の場合、部位を露出させるために外科的介入が必要である。しかし、一部の場合、部位はすでに露出されているか、または外科的介入の必要なくアクセスできる。

遺伝疾患、先天異常、骨折、医原性障害、骨がん、骨転移、炎症性疾患（例えば、リウマチ性関節炎）、自己免疫疾患、代謝疾患、および変性骨疾患（例えば、変形性関節炎）を含む、任意の骨疾患または障害を、本開示の放射性高分子マトリクスを使用して治療しうる。特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスは、単純骨折、複合骨折、または癒着不能の修復のため、外部固定装置または内部固定装置として、股関節の関節再建、関節固定、関節成形、またはカップ関節形成のため、大腿骨頭または上腕頭の置換のため、大腿骨頭表面置換または関節全置換術のため、脊柱の修復、脊椎固定術または内椎骨固定のため、腫瘍手術のため、欠損充填のため、椎間板切除のため、椎弓切除のため、脊髄腫瘍の切除のため、前頸部または胸部手術のため、脊髄損傷の修復のため、脊柱側弯症のため、脊柱前弯症または脊柱後弯症治療のため、骨折の顎間固定のため、オトガイ形成術のため、顎関節置換のため、歯茎造成および再建のため、インレー骨インプラントのため、インプラント配置および修復のため、上顎洞底挙上術のため、美容手術のため、修正手術のため、関節全置換術の修正手術のため、篩骨、前頭骨、鼻骨、後頭骨、頭頂骨、側頭骨、下顎骨、上顎骨、頬骨、頸椎、胸椎、腰椎、仙骨、肋骨、胸骨、鎖骨、肩甲骨、上腕骨、橈骨、尺骨、手根骨、中手骨、指骨、腸骨、坐骨、恥骨、大腿骨、脛骨、腓骨、 膝蓋骨、踵骨、足根骨、または中足骨の修復または置換のために作成されている。

キット
本開示は、本開示の放射性高分子マトリクスを形成するために必要な任意の構成要素を調製および／または提供するためのキットも提供する。一部の実施形態では、キットは、本開示の放射性高分子マトリクスを作るために使用できる構成要素または組成物を含む容器を含む。一部の実施形態では、キットは、本開示の放射性高分子マトリクス材料を含む。本開示の放射性高分子マトリクスを構成する様々な構成要素が、別々の容器中に提供されうる。例えば、重合性モノマーが発色団とは別個の容器に提供されてもよい。このような容器の例は、二重チャンバーシリンジ、取り外し可能な仕切り付きの二重チャンバー容器、パウチ付きの子袋、および複数区画ブリスターパックである。別の例は、別の構成要素の容器内に注入できるシリンジ中に構成要素の一つを提供することである。

その他の実施形態では、キットは、本開示の放射性高分子マトリクスの治療を増強するための全身性薬物を含む。例えば、キットは、（例えばにきび治療または創傷治癒のための）全身性または局所性抗生物質またはホルモン治療、または陰圧装置を含みうる。

その他の実施形態では、キットは、放射性高分子マトリクスの構成要素を適用するための手段を備える。

特定の実施形態では、放射性高分子マトリクスを保持するためのチャンバー、および生体光材料を容器から放出するためにチャンバーと連通している出口を備える容器が提供されており、放射性高分子マトリクスは、少なくとも一つの発色団を含む。

その他の実施形態では、キットは、放射性高分子マトリクスに加えて放射性高分子マトリクスの使い方についての指示を含む。

キットの特定の実施形態では、キットは、放射性高分子マトリクスの発色団を活性化するために適切な波長を持つ携帯光などの光源をさらに含みうる。携帯光は、電池式または再充電式でありうる。

この開示を見直した後、当業者であれば変形および変更を考え付くであろう。開示された特徴は、本明細書で開示されたその他の一つ以上の特徴との任意の組み合わせおよびサブコンビネーション（複数の依存性組み合わせおよびサブコンビネーションを含む）で、実施されうる。その任意の構成要素を含め、上に記載または例示された様々な特徴は、その他のシステムに組み合わせまたは組み込みうる。さらに、特定の特徴は、省略するか、または実施しなくても良い。変更、代替、修正の例は、当業者であれば究明可能であり、本明細書に開示された情報の範囲を逸脱することなく行なうことができる。本明細書に引用されたすべての参照は、参照によりその全体が組み込まれ、本明細書の一部となる。

本開示の実施は、以下の実施例からさらに完全に理解されるが、これらは例示目的のみで本書に提示されており、いかなる方法でも本開示を制限するものとして解釈されるべきではない。

実施例１
エオシンＹおよびフルオレセインを組み込んだ重合ＨＥＭＡの個体ディスクの調製

エオシンＹおよびフルオレセインを組み込んだ重合ＨＥＭＡの固体ディスクは、次の材料を以下の順序で混合することによって調製された：
１）純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（３０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）これは開始剤として使用された
３）エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
５）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（７０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
６）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。

エオシンＹおよびフルオレセインは重合前に液体モノマーに加えられた。重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間行われた。混合物は、加圧下７６℃で６〜８時間、型（ガラス三角フラスコまたはプラスチック容器）の中に配置された。図１Ａは、５分の照射中の厚さ４ｍｍのｐＨＥＭＡ透明ディスクの発光スペクトルを示す。図１Ｂは、５分の照射中の厚さ２ｍｍのｐＨＥＭＡ透明ディスクの発光スペクトルを示す。図１Ｃは、５分の保存時間後の５分の照射中の厚さ２．３ｍｍのｐＨＥＭＡディスクの発光スペクトルを示す。以下の表１Ａ、１Ｂおよび１Ｃはそれぞれ図１Ａ、１Ｂおよび１Ｃに対応する発光データを示す。

図２は、５分の照射時間中の厚さ２．３ｍｍのブロック不透明ｐＨＥＭＡマトリクスの発光スペクトルを示す。以下の表２は図２に対応する発光データを示す。

実施例２
フルオレセインを組み込んだｐＨＥＭＡのヒドロゲルの調製

フルオレセインを組み込んだ重合ＨＥＭＡのヒドロゲルは、次の材料を混合することによって調製された：
１）純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（７０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）これは開始剤として使用された
３）フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
５）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。

重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間後に行われた。一旦、重合されたら、ヒドロゲルは脱水を防ぐために密封容器中に保管された。図３は、５分の照射中の厚さ２．３ｍｍのｐＨＥＭＡヒドロゲルの発光スペクトルを示す。以下の表３は図３に対応する発光データを示す。

実施例３
シリコンマトリクス中にエオシンＹを組み込んだ重合ＨＥＭＡのミクロスフェアの調製

エオシンＹを組み込んだ重合ＨＥＭＡのミクロスフェアは、植物油およびシリコンマトリクス（１：１５ （ｖ／ｖ））中、６００ ｒｐｍで撹拌しながら、以下に示される順序で材料を混ぜ合わせることによって調製された。
１）純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（３０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）これは開始剤として使用された
３）エオシンＹ（１００ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（７０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
５）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。

重合は窒素雰囲気下、６０℃で４時間後に行われた。トルエンはＦｉｓｈｅｒ ＃０６２８４３から入手された。エチルエーテルはＦｉｓｈｅｒ ＃１２４１５８から入手され、微量の未反応モノマーを除去するために使用された。粒子はトルエンで２回洗浄された。次にこれらの粒子は、微量の未反応モノマーおよび有機残渣を取り除くためにエチルエーテルで洗浄された。図４は、本開示の実施形態による、５分の照射時間中の、厚さ２．０ｍｍのシリコンｐＨＥＭＡミクロスフェアの発光スペクトルを示す。以下の表４は図４に対応する発光データを示す。

実施例４
青い光を照射した放射性高分子マトリクスの抗炎症特性の評価（Ｔｈｅｒａ（商標）ランプを使用）

ＨａＣａＴヒトケラチノサイトをインビトロモデルとして使用して、ＩＬ６およびＩＬ８などの炎症性サイトカインの分泌に対する、本明細書に定義された放射性高分子マトリクスと組み合わせた青い可視光の効果を調べた。過剰で未制御の炎症は宿主に有害であり、創傷治癒過程の障害になる。従って本試験の目的は、放射性高分子マトリクスと組み合わせた青い光が炎症性サイトカインの生成を下方制御し、治癒過程を改善することができることを実証することである。非毒性濃度のＩＦＮγを使用して、ＨａＣａＴ細胞によるＩＬ６およびＩＬ８の分泌を調節した。陽性対照としてデキサメタゾン（最終濃度５ｕＭ）（炎症性サイトカイン産生の強力な阻害剤）を使用した。ＨａＣａＴ細胞は、以下のマトリクスと組み合わせて、５ｃｍの距離のＴＨＥＲ（商標）ランプで９０秒間照射された：
１．マトリクス１：ｐＨＥＭＡブロック不透明４ｍｍ（５０ｍｇ エオシン／５０ｍｇフルオレセイン）
２．マトリクス２：ｐＨＥＭＡブロック不透明２．３ｍｍ（５０ｍｇ エオシン／５０ｍｇフルオレセイン）
３．マトリクス３：ｐＨＥＭＡヒドロゲル（５０ｍｇエオシン／５０ｍｇフルオレセイン）
４．マトリクス４：ｐＨＥＭＡヒドロゲル（５０ｍｇフルオレセイン）

マトリクス１およびマトリクス２：
材料
‐純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（３０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
‐過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）開始剤として使用された
‐エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
‐フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
‐２−ヒドロキシエチルメタクリレート（７０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
‐エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）クロスリンカーとして使用された。

方法
材料は上記の順序で追加され、混合された。エオシンＹおよびフルオレセインは重合前に液体モノマーに加えられた。重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間行われた。
マトリクス３：

材料
‐純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（７０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
‐過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）開始剤として使用された
‐エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
‐フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
‐２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
‐エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）クロスリンカーとして使用された。

方法
材料は上記の順序で追加され、混合された。エオシンＹおよびフルオレセインは重合前に液体モノマーに加えられた。重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間行われた。

マトリクス４：
‐純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（７０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
‐過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）開始剤として使用された
‐フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
‐２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
‐エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）クロスリンカーとして使用された。

方法
材料は上記の順序で追加され、混合された。エオシンＹおよびフルオレセインは重合前に液体モノマーに加えられた。重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間行われた。光子評価は、ＴＨＥＲＡ（商標）ランプを使用して、上述のマトリクスのそれぞれに対して実施された。マトリクスは光源から５ｃｍの距離で、合計５分間照射された。得られた測定値が以下の表の下に連続記録として示されており、表５はマトリクス１に対応し、表６はマトリクス２に対応し、表７はマトリクス３に対応し、表８はマトリクス４に対応する。

サイトカイン定量は、サイトカインＥＬＩＳＡ（Ｒ＆Ｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ製ＤｕｏＳｅｔ ＥＬＩＳＡディベロプメントキット）を使用して実施された。各実験に対して、ＸＴＴアッセイを実施して、分泌されたサイトカインの量を細胞生存性に対して正規化した。サンプルはすべて四つ組でスクリーニングした。青い可視光と組み合わせた試験マトリクスの生物学的効果の結果が、以下の表９に要約されている：

青い光を遮断するマトリクス（すなわち、ｐＨＥＭＡヒドロゲル）と青い光の貫通を許すマトリクスとの比較で、青い光を遮断するマトリクスは、両方の（ＩＬ６およびＩＬ８）炎症性サイトカイン分泌の下方制御に効果的であることが分かった。試験されたすべてのマトリクスが、ＩＬ６の下方制御に効果的であった。図５、６、７および８は、本開示の示された放射性高分子マトリクスに暴露した、ＩＦＮγ刺激ＨａＣａＴ細胞による、ＩＬ６およびＩＬ８分泌を示す。

実施例５
ｐＨＥＭＡマトリクス内のエオシンＹの退色の試験

ｐＨＥＭＡマトリクス内のエオシンＹの光退色が、凍結温度へのｐＨＥＭＡマトリクスの暴露後に試験された。データが以下の表１０に報告されている。マトリクスは以下の詳細に従って調製された：

材料
− 純水−Ｈｙｃｌｏｎｅ（３０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
− 過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）開始剤として使用された
− エオシンＹ（＃３に対しては５０ｍｇ）（＃１、＃２、＃４に対しては１００ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
− ２−ヒドロキシエチルメタクリレート（７０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
− エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）クロスリンカーとして使用された。

方法
材料は上記の順序で追加され、混合された。エオシンＹは重合前に液体モノマーに加えられた。重合は窒素雰囲気下、７０℃で５時間行われた。

実施例６
発色団を含む／含まないｐＨＥＭＡ（ディスク）温度の増加

発色団を含むまたは発色団を含まない本開示の実施形態によるｐＨＥＭＡマトリクスの温度が、以下の表１１に示される時間の間、太陽光に暴露された後に測定された。実験は図１０に示される実験セットアップに従って実行された。

Ｔｈｅｒａランプ、ＩＤなし
０分〜５分〜１０分〜１５分「光は中断なし」 ＝ 合計３０分
ランプからディスクまでの距離 ＝ ５ｃｍ
（ａ１…ａ４） ＝ 発色団（エオシンＹ ＋ フルオレセイン／各５０ｍｇ）を含むｐＨＥＭＡディスクの温度
（ｂ１…ｂ４） ＝ 発色団を含まないｐＨＥＭＡディスク

実施例７
発色団を含む／含まないｐＨＥＭＡ（ディスク）を使用したＨ_２Ｏ温度の増加

実施例６に示されるように発色団を含むまたは発色団を含まない本開示の実施形態によるｐＨＥＭＡマトリクスを取り囲むＨ_２Ｏの温度は、図１０に示される実験セットアップに従ってｐＨＥＭＡマトリクスを太陽光に暴露した後に測定された。ｐＨＥＭＡ容器（＋／−発色団）は水（８ｍｌの水）で満たされ、同じｐＨＥＭＡ組成物のフタで覆われ、以下の表１２に示される時間の間太陽光に暴露された。ｐＨＥＭＡ容器の水の温度が測定され、データが以下の表１２、１３および１４に示されている。

図９Ａ、９Ｂおよび９Ｃに示されるように、発色団を含むｐＨＥＭＡ容器中の水の温度は、発色団を含まないｐＨＥＭＡ容器中の水の温度より高く、ｐＨＥＭＡマトリクスによる熱放射の生成が発色団の存在よりも大きなことを示す。図９Ａ、９Ｂおよび９Ｃはまた、発色団を含まないｐＨＥＭＡ容器中の水の温度は、周囲温度と類似していたことも示す。太陽光に暴露すると、発色団を含むｐＨＥＭＡ容器は蛍光を放射することもできるのに対し、発色団を含まないｐＨＥＭＡ容器はできなかった（データ非表示）。この実施例７で取得された実験データは、太陽光の暴露時、発色団を含むｐＨＥＭＡマトリクスが放射を生成し、これがマトリクスの周囲環境に拡散され、水の温度を上昇させたことを実証している。これは、発色団を含むｐＨＥＭＡマトリクスは、太陽光への暴露のために励起されると放射を生成することができ、これはｐＨＥＭＡマトリクスを取り囲む水の温度を上昇させることができることを示している。図１０は実施例７の方法の実験セットアップを示す。
実施例８
創傷治癒療法でのｐＨＥＭＡマトリクスの適応

本実験プロトコルは、ｐＨＥＭＡマトリクスを通過する光の異なるスペクトルの、３Ｄ皮膚モデルに存在するケラチン生成細胞および線維芽細胞に対する効果を評価すること、このタイプの組織の形態測定進化と分子レベルで決定されるパラメーターとの間の相関関係を調べることを目的としている。

この実験で使用されたｐＨＥＭＡマトリクスは以下のように調製された：
１）純水Ｈｙｃｌｏｎｅ（３０ｍｌ）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ社製）これは開始剤として使用された
３）エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
５）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（７０ｍｌ）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ製）
６）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。

実験は、図１１Ａおよび１１Ｂに図式化された実験プロトコルに従って実行され、切除（Ａ）は、皮膚の層のすべてを取り出すように、皮膚試料の中央で実施された。切除された対照皮膚および切除された治療皮膚内の顕微鏡的変化を評価するために、組織病理学的検査が実施された。培養後（１日および３日の時点で）各試料は（例えば、Ｐｌａｔｆｏｒｍ ｄ’Ｈｉｓｔｏｌｏｇｉｅ， Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｄｅ ｒｅｃｈｅｒｃｈｅ ｅｎ ｉｍｍｕｎｏｌｏｇｉｅ ｅｔ ｅｎ ｃａｎｃeｒｏｌｏｇｉｅ （Ｉ．Ｒ．Ｉ．Ｃ．） Ｍｏｎｔｒｅａｌによって）処理され、パラフィン包埋された。厚さ５ μｍの連続切片が、ＬｅｉｃａミクロトームモデルＲＭ２２５５を使用してパラフィンブロックから作られ、顕微鏡スライド上に配置された。以下の表１５は、この実験プロトコルで使用されたｐＨＥＭＡディスクの発光スペクトルを示す。

図１２Ａは、０日目の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図である。図１２Ｂは、皮膚が暗所に保たれ、対照として使用された場合の、切除後１日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除（Ａ）の組織化学的図を示す（ＣＴＲＬ ＝対照）。図１２Ｃは、皮膚が周辺光で５分間治療された場合の切除後１日の組織化学的図である（ＬＩＧＨＴ ＝ 周辺光）。図１２Ｄは、図１１Ｂに示された実験プロトコルに従ってｐＨＥＭＡマトリクスを通過した４５０ ｎｍの光を使用して皮膚を５分間治療した場合の、切除後１日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図である（ｐＨＥＭＡ）。

図１２Ｅは、皮膚を暗所に保った場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図である（ＣＴＲＬ ＝対照）。図１２Ｆは、皮膚を周辺光で５分間治療した場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図である（ＬＩＧＨＴ ＝ 周辺光）。図１２Ｇは、ｐＨＥＭＡマトリクスを通過した４５０ ｎｍの光を使用して皮膚を５分間治療した場合の、切除後３日の３Ｄヒト皮膚モデルの完全切除の組織化学的図である（ｐＨＥＭＡ）。これらのデータは、ｐＨＥＭＡマトリクスを用いた５分の治療で、皮膚に作られた創傷を３日後に閉鎖することができたことを示している。治療は皮膚のすべての層の再生および切除エリアの閉鎖を可能にした。図１３は、本開示の放射性高分子マトリクスを用いた治療後３日の、３Ｄヒト皮膚モデルの表皮の厚さと角質層の発達との関係を示す。全体として、これらのデータは、本開示の放射性高分子マトリクスの創傷治癒特性を実証している。

実施例９
弾性放射性高分子マトリクスの調製

以下の放射性高分子マトリクスは以下のプロトコルに従って調製された。
１）純水Ｈｙｃｌｏｎｅ（２５〜３６％）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ社製）これは開始剤として使用された
３）エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
５）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３３〜４０％）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
６）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。
７）グリセロール（１８〜４２％）＃５６−８１−５（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）。

マトリクスＡ：
グリセロール（４０％） ＋ ＰＨＥＭＡ（４０％） ＋ Ｈ_２Ｏ（３０％）、発色団なし
マトリクスＢ：
グリセロール（３０％） ＋ ＰＨＥＭＡ（４０％） ＋ Ｈ_２Ｏ（３０％） ＋ ０．５ｍｇエオシン ＋ ０．５ｍｇフルオレセイン
マトリクスＣ：
グリセロール（１８％） ＋ ＰＨＥＭＡ（３６％） ＋ Ｈ_２Ｏ（３６％） ＋ ０．５ｍｇエオシン ＋ ０．５ｍｇフルオレセイン
マトリクスＤ：
グリセロール（３０％） ＋ ＰＨＥＭＡ（４０％） ＋ Ｈ_２Ｏ（３０％） ＋ ０．５ｍｇエオシン ＋ ０．５ｍｇフルオレセイン
マトリクスＥ：
グリセロール（３６．５％） ＋ ＰＨＥＭＡ（３６．５％） ＋ Ｈ_２Ｏ（２７％） ＋ ０．５ｍｇエオシン ＋ ０．５ｍｇフルオレセイン
マトリクスＦ：
グリセロール（４２％） ＋ ＰＨＥＭＡ（３３％） ＋ Ｈ_２Ｏ（２５％） ＋ ０．５ｍｇエオシン ＋ ０．５ｍｇフルオレセイン

重合は窒素雰囲気下、７０℃で２時間行われた。混合物は、圧力下７６℃で４〜６時間、ガラスペトリ皿に配置された。

実施例１０
弾性放射性高分子マトリクスの弾性

放射性高分子マトリクスは以下のプロトコルに従って調製された。放射性高分子マトリクスは以下の材料を使用して調製された：３０％グリセロール、４０％ｐＨＥＭＡ、３０％Ｈ_２Ｏおよび発色団としてのヒドラスチス。マトリクスは長方形片に成形された。図１４に示されるように片上に４３ｍｍ間隔でマークが付けられ、長さは約６０ｍｍ、高さは約１２ｍｍおよび幅は１．２０ｍｍであった（図１４の左上パネル）。マトリクスは、二つのマークの間の距離が約８７ｍｍとなるように縦に引っ張られ、元の長さの約２倍の変形を生じた（図１４の右上パネル）。引っ張り力は取り除かれ、マトリクスは元の形状に戻ることが許容された（図１４の左上パネル）。再び、マトリクスは、二つのマークの間の距離が約１２２ｍｍとなるように縦に引っ張られ、元の長さの約２．８倍の変形を生じた（図１４の右上パネル）。引っ張り力は取り除かれ、再びマトリクスは元の形状に戻ることが許された（図１４の左上パネル）。再び、マトリクスは、二つのマークの間の距離が約１４７ｍｍとなるように縦に引っ張られ、元の長さの約３．４倍の変形を生じた（図１４の右上パネル）。引っ張り力が取り除かれると、マトリクスは恒久的変形の兆候を示すことなくその形状に戻り（データ非表示）、これによって弾性特性および回復力を示した。
実施例１１
弾性放射性高分子マトリクスからの発色団の浸出

本開示の放射性高分子マトリクスからの発色団の浸出が測定された。放射性高分子マトリクスは以下のプロトコルに従って調製された。
１）純水Ｈｙｃｌｏｎｅ（２５〜３６％）＃ＳＨ３０５２９．０２（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）
２）過酸化ベンゾイル（１００ｍｇ）（ＢＰＯ）＃５１７９０９（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ社製）これは開始剤として使用された
３）エオシンＹ（５０ｍｇ）Ｄ＆Ｃ Ｒｅｄ２２ ＃２０１２−２７４４７（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
４）フルオレセイン（５０ｍｇ） Ｄ＆Ｃ Ｙｅｌｌｏｗ ８ ＃２０１２−２７１１０（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｃｏｌｏｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）
５）２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３３〜４０％）（ＨＥＭＡ）＃４７７０２８（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）
６）エチレングリコールジメタクリレート（５００μｌ）（ＥＧＤＭＡ）＃３３５６８１（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．）これはクロスリンカーとして使用された。
７）グリセロール（１８〜４２％）＃５６−８１−５（米国Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏ．製）。

重合は窒素雰囲気下、７０℃で２時間行われた。混合物は、圧力下７６℃で４〜６時間、ガラスペトリ皿に配置された。

上記の実施例９に定義された膜がこの実験のために使用された。

この実験は、本開示の特定放射性高分子マトリクスの発色団の量を決定するために実施された。特に、上記の表２３に示されたエオシンＹおよびフルオレセインならびにグリセロールの％を含むｐＨＥＭＡマトリクスが調製された。マトリクス（各０．４５ｇ）は水１０ｍｌ中に室温で３０日間配置された。この期間後、水を抽出し、ＵＶ−ＶＩＳによって５１７ ｎｍおよび４９０ ｎｍで測定された。これらの波長での測定値は、水中に存在する発色団の量を示し、これらの値から浸出％値が決定された。結果に基づいて、各発色団の約６ ｐｐｍがマトリクスＤ（１８％グリセロール）から浸出し、各発色団の約２．６ ｐｐｍがマトリクスＧ（４２％グリセロール）から浸出したと決定された。少量だが検出可能量の発色団がマトリクスＦ（３６．５％グリセロール）から浸出し、マトリクスＥ（３０％グリセロール）からは検出可能量の発色団は浸出しなかった。

当然ながら、本発明は本明細書に記述および図示された特定の実施形態に限定されず、添付の請求項で定義される本発明の範囲内に入るすべての変更および変形が含まれる。

本書で述べたすべての書類は、参照により本明細書に組み込まれる。

本出願は、２０１４年９月１５日出願の米国仮特許出願第６２／０５０，６８５号の利益および優先権を主張するものであり、この特許の内容はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。

Claims (99)

1. 放射性高分子マトリクスであって、
   ‐２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）と、
   ‐少なくとも一つの発色団とを含む放射性高分子マトリクス。
2. 固体である、請求項１に記載の放射性高分子マトリクス。
3. 半固体である、請求項１に記載の放射性高分子マトリクス。
4. 弾性である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
5. クロスリンカーをさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
6. 前記クロスリンカーがエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である、請求項５に記載の放射性高分子マトリクス。
7. 開始剤をさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
8. 前記開始剤が過酸化ベンゾイルである、請求項７に記載の放射性高分子マトリクス。
9. 前記発色団が可視光を吸収および／または放射する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
10. 抗菌剤をさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
11. 前記放射性高分子マトリクス中のＨＥＭＡ含量が約１５重量％〜約８０重量％である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
12. 前記放射性高分子マトリクス中のＨＥＭＡ含量が約１５重量％〜約２５重量％である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
13. 前記放射性高分子マトリクス中のＨＥＭＡ含量が約２０重量％である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
14. 前記少なくとも一つの発色団がキサンテン染料である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
15. 前記キサンテン染料が、エオシンＹ、エリスロシンＢ、フルオレセイン、ローズベンガルおよびフロキシンＢから選択される、請求項１４に記載の放射性高分子マトリクス。
16. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインを含む、請求項１４に記載の放射性高分子マトリクス。
17. 前記少なくとも一つの発色団がエオシンを含む、請求項１４に記載の放射性高分子マトリクス。
18. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンを含む、請求項１５に記載の放射性高分子マトリクス。
19. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンＹを含む、請求項１４に記載の放射性高分子マトリクス。
20. グリセロールをさらに含む、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
21. 前記グリセロールが約１８重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項２０に記載の放射性高分子マトリクス。
22. 前記グリセロールが約３０重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項２０に記載の放射性高分子マトリクス。
23. 前記グリセロールが約３６重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項２０に記載の放射性高分子マトリクス。
24. 前記少なくとも一つの発色団が重合後に完全に光退色されていない、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクス。
25. 前記少なくとも一つの発色団が前記放射性高分子マトリクスから実質的に浸出しない、請求項２４に記載の放射性高分子マトリクス。
26. 創傷治癒を促進するための方法であって、
    ‐放射性高分子マトリクスを創傷の上に配置する工程であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、
    ‐前記少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、
    前記方法が創傷治癒を促進する方法。
27. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷と直接接触している、請求項２６に記載の方法。
28. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷と直接接触していない、請求項２６に記載の方法。
29. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約５ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
30. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約４ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
31. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約３ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
32. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約２ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
33. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約１ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
34. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約０．５ｃｍのところにある、請求項２８に記載の方法。
35. 前記放射性高分子マトリクスが固体である、請求項２６〜３４のいずれか一項に記載の方法。
36. 前記放射性高分子マトリクスが半固体である、請求項２６〜３４のいずれか一項に記載の方法。
37. 前記放射性高分子マトリクスが弾性である、請求項２６〜３４のいずれか一項に記載の方法。
38. 前記放射性高分子マトリクスがクロスリンカーをさらに含む、請求項２６〜３７のいずれか一項に記載の方法。
39. 前記クロスリンカーがエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である、請求項３８に記載の方法。
40. 前記放射性高分子マトリクスが開始剤をさらに含む、請求項２６〜３９のいずれか一項に記載の方法。
41. 前記開始剤が過酸化ベンゾイルである、請求項４０に記載の方法。
42. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンを含む、請求項２６〜４１に記載の方法。
43. 前記放射性高分子マトリクスがグリセロールをさらに含む、請求項２６〜４２のいずれか一項に記載の方法。
44. 前記グリセロールが約１８重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項４３に記載の方法。
45. 前記少なくとも一つの発色団が重合後に完全に光退色されていない、請求項２６〜４４のいずれか一項に記載の方法。
46. 前記少なくとも一つの発色団が前記放射性高分子マトリクスから実質的に浸出しない、請求項４５に記載の方法。
47. 皮膚疾患の治療のための方法であって、
    ‐放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織の上に配置する工程であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、
    ‐前記少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、
    前記方法が前記皮膚疾患を治療する、前記方法。
48. 前記皮膚疾患が、にきび、湿疹、乾癬および皮膚炎から選択される、請求項４７に記載の方法。
49. にきびの治療のための方法であって、
    ‐放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織の上に配置する工程であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、
    ‐前記少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記放射性高分子マトリクスに照射する工程とを含み、
    前記方法は前記にきびの治療を促進する、前記方法。
50. 皮膚の若返りを促進するための方法であって、
    ‐放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織の上に配置する工程であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、
    ‐前記少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記マトリクスに照射する工程とを含み、
    前記方法は皮膚の若返りを促進する、前記方法。
51. 瘢痕の予防および／または治療のための方法であって、
    ‐放射性高分子マトリクスを標的皮膚組織の上に配置する工程であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む工程と、
    ‐前記少なくとも一つの発色団によって吸収される波長を持つ光を前記組成物に照射する工程とを含み、
    前記方法は創傷治癒を促進する、前記方法。
52. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷と直接接触している、請求項４７〜５１のいずれか一項に記載の方法。
53. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷と直接接触していない、請求項４７〜５１のいずれか一項に記載の方法。
54. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約５ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
55. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約４ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
56. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約３ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
57. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約２ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
58. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約１ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
59. 前記放射性高分子マトリクスが前記創傷から約０．５ｃｍのところにある、請求項５３に記載の方法。
60. 前記放射性高分子マトリクスが固体である、請求項４７〜５９のいずれか一項に記載の方法。
61. 前記放射性高分子マトリクスが半固体である、請求項４７〜５９のいずれか一項に記載の方法。
62. 前記放射性高分子マトリクスが弾性である、請求項４７〜６１のいずれか一項に記載の方法。
63. 前記放射性高分子マトリクスがクロスリンカーをさらに含む、請求項４７〜６２のいずれか一項に記載の方法。
64. 前記クロスリンカーがエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である、請求項６３に記載の方法。
65. 前記放射性高分子マトリクスが開始剤をさらに含む、請求項４７〜６４のいずれか一項に記載の方法。
66. 前記開始剤が過酸化ベンゾイルである、請求項６５に記載の方法。
67. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンを含む、請求項４７〜６６に記載の方法。
68. 前記放射性高分子マトリクスがグリセロールをさらに含む、請求項４７〜６７のいずれか一項に記載の方法。
69. 前記グリセロールが約１８重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項６８に記載の方法。
70. 創傷治癒を促進するための放射性高分子マトリクスの使用であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む使用。
71. 前記放射性高分子マトリクスが固体である、請求項７０に記載の使用。
72. 前記放射性高分子マトリクスが半固体である、請求項７０に記載の使用。
73. 前記放射性高分子マトリクスが弾性である、請求項７０〜７２のいずれか一項に記載の使用。
74. 前記放射性高分子マトリクスがクロスリンカーをさらに含む、請求項７０〜７３のいずれか一項に記載の使用。
75. 前記クロスリンカーがエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である、請求項７４に記載の使用。
76. 前記放射性高分子マトリクスが開始剤をさらに含む、請求項７０〜７５のいずれか一項に記載の使用。
77. 前記開始剤が過酸化ベンゾイルである、請求項７６に記載の使用。
78. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンを含む、請求項７０〜７７のいずれか一項に記載の使用。
79. 前記放射性高分子マトリクスがグリセロールをさらに含む、請求項７０〜７８のいずれか一項に記載の使用。
80. 前記グリセロールが約１８重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項７９に記載の使用。
81. 皮膚疾患の治療のための放射性高分子マトリクスの使用であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む使用。
82. 前記皮膚疾患が、にきび、湿疹、乾癬および皮膚炎から選択される、請求項８１に記載の使用。
83. にきびの治療のための放射性高分子マトリクスの使用であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む使用。
84. 皮膚の若返りを促進するための放射性高分子マトリクスの使用であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む使用。
85. 瘢痕の予防および／または治療のための放射性高分子マトリクスの使用であって、前記放射性高分子マトリクスが２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団を含む使用。
86. 前記放射性高分子マトリクスが固体である、請求項７０〜８５のいずれか一項に記載の使用。
87. 前記放射性高分子マトリクスが半固体である、請求項７０〜８５のいずれか一項に記載の使用。
88. 前記放射性高分子マトリクスが弾性である、請求項７０〜８７のいずれか一項に記載の使用。
89. 前記放射性高分子マトリクスがクロスリンカーをさらに含む、請求項７０〜８８のいずれか一項に記載の使用。
90. 前記クロスリンカーがエチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）である、請求項８９に記載の使用。
91. 前記放射性高分子マトリクスが開始剤をさらに含む、請求項７０〜９０のいずれか一項に記載の使用。
92. 前記開始剤が過酸化ベンゾイルである、請求項９１に記載の使用。
93. 前記少なくとも一つの発色団がフルオレセインおよびエオシンを含む、請求項７０〜９２のいずれか一項に記載の使用。
94. 前記放射性高分子マトリクスがグリセロールをさらに含む、請求項７０〜９３のいずれか一項に記載の使用。
95. 前記グリセロールが約１８重量％〜約４２重量％の量で存在する、請求項９４に記載の使用。
96. ２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）および少なくとも一つの発色団および少なくとも一つの容器を含む、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の放射性高分子マトリクスを調製するキット。
97. ２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）を含む第一の容器および前記少なくとも一つの発色団を含む第二の容器を含む、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の生体光ヒドロゲル組成物を調製するキット。
98. シリンジをさらに含む、請求項９６または９７に記載のキット。
99. 放射性高分子マトリクスであって、
    ‐２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）と、
    ‐少なくとも一つの発色団とを含み、
    前記放射性高分子マトリクスが光に暴露した時、放射を発生し、前記放射が周囲環境に熱効果を誘発することができる放射性高分子マトリクス。