JP2017527808A - 液体試料乾燥装置、乾燥サンプル試験片及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一般的には、顕微鏡の観察に適合するために、サンプルを担持する種々のサンプル試験片装置、例えば液体試料試験片、乾燥サンプル試験片もそれに応じて生じた。
他の実施例において、凹溝は、第一の基板、さらには両辺の基板に設けられてもよく、両辺の凹溝が対応すれば、試料収納領域の高さは凹溝の深さの総和となる。
2.第一の基板21の第一のべース部211における第一の薄膜210に背く位置には第一のカバー212がさらに設けられる。第二の基板22の第二のべース部221における第二の薄膜220に背く位置には第二のカバー222がさらに設けられる。第一のカバー212と第二のカバー222の材料には制限がなく、挟持部材26を提供して挟持するときに、第一のべース部211と第二のべース部22を保護して破壊されることを回避する効果を提供できればよい。
3.液体試料乾燥装置200の第一の観測窓30は、第一のカバー212と第一のべース部211を透過して第一の薄膜210までエッチングして停止する。なお、試料乾燥装置200の第二の基板22に第二の観測窓32がさらに設けられ、第二のカバー222と第二のべース部221を透過して第二の薄膜220までエッチングして停止する。そこで、液体試料乾燥装置200が第一の実施例のような液体試料乾燥装置100の乾燥サンプル試験片製造方法を実行して形成される乾燥サンプル試験片は、いずれも透過型電子顕微鏡に適用できる。なお、第一の観測窓30と第二の観測窓32とは対応するので、乾燥サンプル試験片製造方法を実行する前に、液体試料8を含有する液体試料乾燥装置200を、顕微鏡90、特に透過型電子顕微鏡の下に直接置いて観察することもできる。これによって、使用者は、同一の液体試料乾燥装置によって乾燥前の液体試料8の観察を行うことができ、観察方式は、中国台湾特許第I330380号に開示された内容のとおり、前記液体試料乾燥装置の開きによって、無シールドの乾燥後の均一な乾燥サンプル試験片を観察する効果を達することができる。
2.液体試料乾燥装置300に少なくとも一つの接合部品26’が設けられ、図面には、第一の基板21と第二の基板22との間に接合し固定する二つの接合部品26’が開示された。接合部品26’は挟持部材26に類似する挟持固定機能を提供する。接合部品26’の材料は、例えばエポキシ樹脂、紫外光ゲル又はシリカゲル材料などの任意の接合材料を含有する接着材料であり、他の実施例において、例えばシリコンとシリコン酸化物の間の陽極接合(anodic bonding)、金属又は合金の間の溶着溶接又は直接的ボンド接合、金属と半導体の間のボンド接合、ガラスフリット(glass frit)融着などの方式により、接着効果を得て、第一の基板21と第二の基板22を相互に接着し固定する。接合部品26’は、スクリーン印刷とフレームガムなどのような塗布方式により第一の基板21と第二の基板22の間に付着してもよい。前記ウエハ(コイン)レベルの接合方式は微小電気機械システムプロセスに熟知され、ここで贅言しない。
3.第一の基板21は、接合部品26’の内に、試料収納領域34と接合部品26’との間に垂直に延伸する少なくとも一つのカットクラック領域が設けられる。注意すべきであることは、「垂直に延伸する」ことは、基板の厚みh4又はh5(又は深さd)の方向に沿って延伸するという意味である。例えば本実施例における液体試料乾燥装置300の第一の基板21の第一のべース部211の第一の薄膜210に対向する裏面に第一のカットクラック領域40、40’が設けられる。第二の基板22の第二のべース部221の第二の薄膜220に対向する裏面に第二のカットクラック領域42、42’が設けられる。第一のカットクラック領域40、40’及び第二のカットクラック領域42、42’はそれぞれ凹溝構造であり、以下、第一のカットクラック領域40及び第二のカットクラック領域42のみを説明する。第一のカットクラック領域40及び第二のカットクラック領域42は、垂直に延伸して試料収納領域34と少なくとも一つの接合部品26’との間に位置し、その製造方式は、第一の観測窓30のような製造方式によるが、その差異は、第一のカットクラック領域40及び第二のカットクラック領域42の深さdが第一の観測窓30又は第二の観測窓32の深さ(即ち第一のべース部211の厚みh4又は第二のべース部221の厚みh5)より小さい。深さdの製造方式は、例えば水酸化カリウムウェットエッチングの方式により第一のカットクラック領域40及び第二のカットクラック領域42の開口を、開口301の幅Wより小さいことに設計することを制御して、さらに深さdを制御する。
別の実施例において、カットクラック領域は、米国特許US6992026に発見されたようなステルスレーザーカット技術によって製造されてもよく、結晶内部を適度に弱化し、接合部品26’又は第一の実施例のような挟持部材26を除去する必要があるときに、応力を印加して分離させる。他の実施例において、カットクラック領域は、ドライエッチング、カッターホイール又はレーザーにより「一部深さ」(half−cut)のカットを行うこともできる。
図8Cを参照して、第二の基板21の第二のべース部221に凹溝36が設けられる。第二の表面220は凹溝36の底面に沈着する。スペーサー24’及び接合部品26’は凹溝36の傍に設けられる。これによって、試料収納領域34は、スペーサー24’、接合部品26’及び凹溝36で形成された空間を含む。
11、13、8 液体試料
11C、11N、81 懸濁顆粒
A1 集合団
100、200、300、400、500 液体試料乾燥装置
100a、100b、300a、300b 乾燥サンプル試験片
21 第一の基板
210 第一の薄膜
2101、2111 第一の表面
211 第一のべース部
212 第一のカバー
22 第二の基板
220 第二の薄膜
2201、2211 第二の表面
221 第二のべース部
222 第二のカバー
24、24’ スペーサー
24a、24b 第一のスペーサー
24c、24d 第二のスペーサー
26 挟持部材
261 第一の挟持部
262 第二の挟持部
26’ 接合部品
30 第一の観測窓
301 開口
32 第二の観測窓
34 試料収納領域
36 凹溝
40、40’ 第一のカットクラック領域
42、42’ 第二のカットクラック領域
90 顕微鏡
91 電子銃
99 原子力顕微鏡
h1 高さ
h2、h3、h4、h5 厚み
Y 分離方向
a−a’ 断面方向
b−b’ 断面方向
d 深さ
W 幅
Claims (28)
- 一つの表面をそれぞれ有する二つの基板であって、前記二つの表面が対向して設けられる二つの基板と、
前記二つの基板の間に置かれ、前記二つの表面の間に、液体試料を収納するための試料収納領域が形成される少なくとも一つのスペーサーと、
前記二つの基板に接触して、前記二つの基板と前記スペーサーを一時挟んで固定する挟持部材と、を備える、ことを特徴とする液体試料乾燥装置。 - 前記基板には凹溝が設けられ、前記表面は前記凹溝の底面であり、前記スペーサーは前記凹溝の側壁であり、前記試料収納領域は前記凹溝内に位置する、ことを特徴とする請求項1に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記スペーサーは前記二つの基板のうちの一つに接合し固定する、ことを特徴とする請求項1に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記試料収納領域の高さは0.1ミクロン〜10ミクロンである、ことを特徴とする請求項1に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記基板には観測窓が設けられる、ことを特徴とする請求項1に記載の液体試料乾燥装置。
- 一つの表面をそれぞれ有する二つの基板であって、前記二つの表面が対向して設けられる二つの基板と、
前記二つの基板の間に接合し固定して、さらに前記二つの表面の間に試料収納領域が形成される少なくとも一つの接合部品と、を備え、
前記基板には、前記基板厚み方向に延伸して前記試料収納領域と前記接合部品との間に位置する少なくとも一つのカットクラック領域が設けられる、ことを特徴とする液体試料乾燥装置。 - 前記二つの基板の間に置かれる少なくとも一つのスペーサーを備え、前記スペーサーと前記試料収納領域とは前記カットクラック領域の同じ側に位置する、ことを特徴とする請求項6に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記スペーサーは前記二つの基板のうちの一つに接合し固定する、ことを特徴とする請求項7に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記基板には凹溝が設けられ、前記表面は前記凹溝の底面であり、前記スペーサーは前記凹溝の側壁であり、前記試料収納領域は前記凹溝内に位置する、ことを特徴とする請求項6に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記基板には観測窓が設けられる、ことを特徴とする請求項6に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記試料収納領域の高さは0.1ミクロン〜10ミクロンである、ことを特徴とする請求項6に記載の液体試料乾燥装置。
- 一つの表面をそれぞれ有する二つの基板であって、前記二つの表面が対向して設けられる二つの基板と、
前記二つの基板の間に接合し固定して、さらに前記二つの表面との間に、液体試料を収納するための試料収納領域が形成される、少なくとも一つの接合部品と、
前記二つの基板の間に置かれる少なくとも一つのスペーサーと、を備える、ことを特徴とする液体試料乾燥装置。 - 前記スペーサーと前記試料収納領域とは前記少なくとも一つの接合部品の同じ側に位置する、ことを特徴とする請求項12に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記基板には凹溝が設けられ、前記表面は前記凹溝の底面であり、前記スペーサーは前記凹溝の側壁であり、前記試料収納領域は前記凹溝内に位置する、ことを特徴とする請求項12に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記スペーサーは前記二つの基板のうちの一つに接合し固定する、ことを特徴とする請求項12に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記試料収納領域の高さは0.1ミクロン〜10ミクロンである、ことを特徴とする請求項12に記載の液体試料乾燥装置。
- 前記基板には観測窓が設けられる、ことを特徴とする請求項12に記載の液体試料乾燥装置。
- 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液体試料乾燥装置を得るステップと、
液体試料を前記試料収納領域に受けるステップと、
前記液体試料を乾燥して、乾燥後の前記液体試料の一部を基板の表面に付着させて、さらに乾燥サンプル試験片を形成するステップと、
前記挟持部材を除去することで、分離した前記乾燥サンプル試験片を得るステップと、を有する、ことを特徴とする乾燥サンプル試験片製造方法。 - 前記挟持部材を除去する前記ステップは、前記乾燥サンプル試験片を前記液体試料乾燥装置からカット分離するカットクラックステップをさらに備える、ことを特徴とする請求項18に記載の乾燥サンプル試験片製造方法。
- 前記液体試料を乾燥する前記方式は、自然蒸散、真空乾燥、低湿環境乾燥、加熱乾燥、低温乾燥、窒素環境乾燥及び希ガス環境乾燥のうちの一つ又はその組合せから選択される、ことを特徴とする請求項18に記載の乾燥サンプル試験片製造方法。
- 前記乾燥後の前記液体試料の一部と前記基板とを備え、前記乾燥後の前記液体試料の一部が前記基板の前記表面上に付着する、ことを特徴とする請求項18に記載の乾燥サンプル試験片製造方法で製造された乾燥サンプル試験片。
- 請求項6乃至11のいずれか一項に記載の液体試料乾燥装置を得るステップと、
液体試料を前記試料収納領域に受けるステップと、
前記液体試料を乾燥して、乾燥後の前記液体試料の一部を基板の表面上に付着させて、さらに乾燥サンプル試験片を形成するステップと、
カットクラック領域に沿って前記基板の一部をカットし、又は折り裂くことで、前記接合部品を除去して、分離した前記乾燥サンプル試験片を得るステップと、を有する、ことを特徴とする乾燥サンプル試験片製造方法。 - 前記液体試料を乾燥する前記方式は、自然蒸散、真空乾燥、低湿環境乾燥、加熱乾燥、低温乾燥、窒素環境乾燥及び希ガス環境乾燥のうちの一つ又はその組合せから選択される、ことを特徴とする請求項22に記載の乾燥サンプル試験片製造方法。
- 前記乾燥後の前記液体試料の一部と前記基板とを備え、前記乾燥後の前記液体試料の一部が前記基板の前記表面上に付着する、ことを特徴とする請求項22に記載の乾燥サンプル試験片製造方法で製造された乾燥サンプル試験片。
- 請求項12乃至17のいずれか一項に記載の液体試料乾燥装置を得るステップと、
液体試料を前記試料収納領域に受けるステップと、
前記液体試料を乾燥して、乾燥後の前記液体試料の一部を少なくとも一つの基板の表面上に付着させて、さらに少なくとも一つの乾燥サンプル試験片を形成するステップと、
前記少なくとも一つの接合部品を除去することで、分離した前記乾燥サンプル試験片を得るステップと、を有する、ことを特徴とする乾燥サンプル試験片製造方法。 - 前記液体試料を乾燥する前記方式は、自然蒸散、真空乾燥、低湿環境乾燥、加熱乾燥、低温乾燥、窒素環境乾燥及び希ガス環境乾燥のうちの一つ又はその組合せから選択される、ことを特徴とする請求項25に記載の乾燥サンプル試験片製造方法。
- 前記少なくとも一つの接合部品を除去する前記方式は、応力印加、レーザーカット、カッターホイール切取り、研磨除去及びレーザーステルスカットのうちの一つ又はその組合せから選択され、それによって前記接合部品を有する前記基板の一部を折り裂き、又は切断する、ことを特徴とする請求項25に記載の乾燥サンプル試験片製造方法。
- 前記乾燥後の前記液体試料の一部と前記基板とを備え、前記乾燥後の前記液体試料の一部が前記基板の前記表面上に付着する、ことを特徴とする請求項25に記載の乾燥サンプル試験片製造方法で製造された乾燥サンプル試験片。
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Cited By (1)
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KR20200092549A (ko) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 한국과학기술원 | 팽창저항성이 우수한 전자현미경용 액상 칩 |
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---|---|---|---|---|
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0227111U (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | ||
JPH03197836A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-08-29 | Nikon Corp | X線顕微鏡用試料カプセル |
JPH06123800A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-05-06 | Olympus Optical Co Ltd | X線顕微鏡用試料容器 |
JP2006038668A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | グリースの顕微鏡観察方法 |
US20080135778A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | National Tsing Hua University | Specimen kit and fabricating method thereof |
US20100193398A1 (en) * | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Marsh Charles P | Reusable sample holding device permitting ready loading of very small wet samples |
WO2014011563A1 (en) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | National Health Research Institutes | Specimen preparation for transmission electron microscopy |
JP6121507B2 (ja) * | 2015-06-26 | 2017-04-26 | 閤康生物科技股▲ふん▼有限公司Bio Materials Analysis Technology Inc. | サンプル収集デバイス及びその製造方法及びサンプル収集デバイスアレイ |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
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US7672059B2 (en) * | 2000-10-20 | 2010-03-02 | Holochip Corporation | Fluidic lens with electrostatic actuation |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0227111U (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | ||
JPH03197836A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-08-29 | Nikon Corp | X線顕微鏡用試料カプセル |
JPH06123800A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-05-06 | Olympus Optical Co Ltd | X線顕微鏡用試料容器 |
JP2006038668A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | グリースの顕微鏡観察方法 |
US20080135778A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | National Tsing Hua University | Specimen kit and fabricating method thereof |
US20100193398A1 (en) * | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Marsh Charles P | Reusable sample holding device permitting ready loading of very small wet samples |
WO2014011563A1 (en) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | National Health Research Institutes | Specimen preparation for transmission electron microscopy |
JP2015530561A (ja) * | 2012-07-09 | 2015-10-15 | 財團法人國家衛生研究院National Health Research Institutes | 透過型電子顕微鏡のための標本調製 |
JP6121507B2 (ja) * | 2015-06-26 | 2017-04-26 | 閤康生物科技股▲ふん▼有限公司Bio Materials Analysis Technology Inc. | サンプル収集デバイス及びその製造方法及びサンプル収集デバイスアレイ |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200092549A (ko) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 한국과학기술원 | 팽창저항성이 우수한 전자현미경용 액상 칩 |
KR102204189B1 (ko) | 2019-01-25 | 2021-01-18 | 한국과학기술원 | 팽창저항성이 우수한 전자현미경용 액상 칩 |
US11747286B2 (en) | 2019-01-25 | 2023-09-05 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Liquid chip for electron microscope having excellent bulging resistance |
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