JP2017522977A - 皮膚病の標的型治療用のデバイス - Google Patents

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Abstract

皮膚疾患を寛解へと置き換えるべく、標的型光治療を皮膚部位に適用する光治療装置に接続可能であるデバイスと、最適な治療量を決定し皮膚疾患を寛解へと迅速に置き換えるべく、治療部位に適用される光治療の最大耐量を決定する方法が提供される。線量測定デバイスは、ハウジングと、ハウジング内に配置される光学マトリックスとを含み得る。光学マトリックスは、吸収性、反射性および/または部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含み、それぞれが個人の皮膚に供給されるべき光の異なる割合を可能にする。それゆえ、皮膚疾患を寛解へと置き換えるべく、個人の皮膚に適用され得る光治療の最大耐量に関する評価を行うことができる。

Description

本発明は、皮膚疾患の標的型光治療処置に関し、より詳しくは、個人に投与され得る最適な光治療の治療量を決定して皮膚疾患の治療に役立つべく、光の量を個人の皮膚に接触する光の様々な強度レベル(エネルギー/単位面積)の複数の投与量へと分注するデバイスに関する。
紫外線エネルギーを分注する標的型光治療(例えば、狭帯域、308nmのエキシマレーザ)の方法および装置が、各種の皮膚病(例えば、乾癬、白斑、白皮症、アトピー性皮膚炎および円形脱毛)向けの効果的かつ安全な治療法として知られている。
乾癬、白斑および他の皮膚疾患は、数百万の人々を冒している。これらの皮膚病は、軽度から重度に及ぶことがあり、事実上の病的状態、心理的ストレスにつながることがあり、皮膚疾患にかかった個人の生活の質に甚大な悪影響をもたらすことがある。利用可能な療法は、これらの疾患の程度および重症度を低減し、個人の生活の質を改善することができるが、複数の報告は、現在の治療モダリティの有効性、コストおよび不都合に対する不満を指摘している。
乾癬または白斑持ちの個人向けの共通の治療モダリティは、光治療センターにて投与される光治療を受けることである。これらのセンターでは、個人は、A範囲(PUVA)内の狭帯域(NB)または広帯域(BB)、UVB光(290−320nm)、またはソラーレンプラス紫外光(320−400nm)療法にさらされる。紫外光は、免疫調節機構を介して乾癬の症状を低減する。UV光を用いたアトピー性皮膚炎および円形脱毛症の治療も同程度ではないが、研究されている。白皮症および白斑の治療はUV光に依拠し、メラニン/メラニン細胞の欠如に起因した皮膚を再着色するのに役立つ。
従来のUVB光治療に関して、投与は、乾癬プラークの厚さと関連した個人のフィッツパトリックスキンタイプ(すなわち、皮膚の色および暗さ)か、個人の最小紅斑量(MED)の測定のどちらかに基礎を置いている。個人の最小紅斑量は、正常/健康な組織にかなり赤い紅斑皮膚反応を生じるUVB量である。個人の最小紅斑量パラダイムより高い投与は、所望されない(すなわち、より重い)組織反応、および水疱形成さえもたらすことがある。しかしながら、個人の適切な投与実施計画を決定するこれらの2つの方法のいずれもが治療的に最適ではなく、典型的には、保守的すぎるレベルで投与することになり、今度は治療効果が減少することになる。これは、フィッツパトリックスキンタイプの利用は、(多くの個人には当てはまらない歴史的な標準に基づく)個人の最大耐量(MTD)での推量にすぎず、罹患した組織は治療されず、健康/正常な組織の耐性を測定するにすぎない最小紅斑量方法の基本的な限界だからである。いずれにしても、臨床医が現在の投与パラダイムが未熟な推量にすぎないことを認識しており、期待され得るより一層低いレベルで投与を開始する場合、多くの個人は一様に次善のUVB投与が施される。臨床医がそのようにするのは、極端な紅斑、水疱形成、およびあり得る負傷につながる個人の最小水疱形成量(MBD)より上になり得る最小紅斑量より高いレベルでの故意ではない投与を回避することを目的としてである。この問題は、最適な量(すなわち、MTD、MBDに近いが、それよりはわずかに低い量)が個人毎に大きく変わり得、不可能ではないにしても、個人の最適な量を正確に測ることを非常に困難にするという事実によって増大される。このため、個人の最小水疱形成量を決定する客観的手段を有しないことは、臨床医が個人の最適な量レベルでより効果的に投与することを妨げ、これは、所望の臨床結果を得るべく必要とされるUVB治療セッションの総数を相当低くしかねない。
必要とされる典型的に高い数の治療セッションの結果として、光治療の使用は、その治療の全体の不都合に起因して一般に制限される。疾患を効果的に治療するべく、複数の正規の治療セッションが必要な養生法に対する承諾は、多くの場合、時間、移動およびその費用が原因で不十分であるのが普通である。他のより効果の少ない治療(例えば、局所処方および医師の処方が不要の局所クリーム)はしばしば、個人のより便利な予備オプションである。
本発明は、個人の最適な光治療の量を決定するのに役立つ線量測定デバイスに向けられ、個人の最大耐量かその近くで皮膚疾患をそれゆえ治療するべく、個人の最小水疱形成量を評価することによって、個人の光治療耐性を迅速かつ容易に測定することにより、皮膚疾患の治療に役立つ。個人の最大耐量か、その近くで皮膚疾患を治療することによって、個人の皮膚疾患を寛解へと置き換えるべく必要とされる治療セッションの全数は、大幅に減少することができる。
一実施形態において、本発明は、標的型光治療を治療部位(例えば、皮膚組織上)に適用する光治療装置に接続可能である線量測定デバイスに向けられる。そのデバイスは、ハウジングと、吸収性、反射性および/または部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含むハウジング内に配置された光学マトリックスとを備え、それぞれ(光束の入射の割合として表現される)強度が異なる光および/または、範囲が異なる光が通過することを可能にする。一実施形態において、光治療装置から分注された光は、UVB光である。
一実施形態において、光学マトリックスは、ハウジングに接続されることができる。一実施形態において、光学マトリックスは、ハウジング内に形成されることができる。一実施形態において、光学マトリックスは、多くても9つの領域を含み得る。一実施形態において、光学マトリックスは、5つの領域を含み得る。一実施形態において、上記の複数の領域を通過する光の強度は、ある領域の約20%から別の領域の約100%まで及び得る。一実施形態において、上記の領域を通過する光の強度は、ある領域の約0%から別の領域の約90%まで及び得る。
一実施形態において、光学マトリックスは、実質的に正方形であり、各領域が約5mm×5mmにサイズ決定されたおよそ約2cm×2cmであり得る。一実施形態において、光学マトリックスの領域の各々は、正方形、長方形、円形または卵形である。一実施形態において、光学マトリックスは、複数のUVB反射コーティングから成り得る。一実施形態において、反射コーティングは、約308nmの出力UVB光に対して構成される。一実施形態において、光学マトリックスの複数の領域の各々は、金属または誘電体コーティングの少なくとも1つを含む。一実施形態において、光学マトリックスの複数の領域の各々は、異なるフィルタを含む。
一実施形態において、本発明は、皮膚疾患の治療に役立つべく、皮膚組織に適用することが可能である光治療の最大耐量を解析する方法に向けられる。その方法は、ハウジングと、通過する光の様々な伝搬を可能にする吸収性、反射性および/または部分的に伝搬するうちの少なくとも1つである複数の領域を含む、ハウジング内に配置された光学マトリックスとを備える線量測定装置を提供する工程と、線量測定装置をUVB光を分注するように構成された光治療装置に接続する工程と、治療部位、またはその近くに光治療装置を配置する工程と、UVB光の様々な量が治療中の各種の部位に同時または連続して適用されるべく、光治療装置からのUVB光を光学マトリックスの複数の領域を介して伝搬する工程を備える。
一実施形態において、その方法は、治療されている皮膚の最小水疱形成量を評価するべく、UVB光を治療部位に適用する工程に続いて、例えば、UVB光が治療部位に適用されたおよそ24から48時間後に治療部位を解析する工程をさらに備える。一実施形態において、その方法は、治療された部位に水疱形成することなく、UVB光の最大耐量を治療部位に適用して、それにより最適な治療量の適用を可能にする工程をさらに備えることができる。
手持ち光治療デリバリー装置と、そのデリバリー装置に接続可能であるエンドピースの斜視図である。
エンドピースがデリバリー装置に取り付けられ、光束がエンドピースを介して延びる、図1Aの手持ち光治療デリバリー装置と、エンドピースの斜視図である。
図1Bのエンドピースを介して延びる光束の端面図である。
手持ち光治療デリバリー装置と、円形ダイヤフラムが光束の整形のためこれに接続されたエンドピースの一実施形態との斜視図である。
光感度マトリックスの一実施形態を示す本発明の線量測定デバイスの一実施形態の正面図である。
図3Aのマトリックスの端面図である。
光感度マトリックスの一実施形態を示す本発明の線量測定デバイスの一実施形態の端面図である。
光感度マトリックスの一実施形態を示す本発明の線量測定デバイスの一実施形態の端面図である。
本発明の線量測定デバイスによる光感度マトリックスを介した光エネルギーを供給するように構成されたエキシマ光治療システムの一実施形態である。
エキシマ光治療システムの一実施形態を示す概略図である。
治療部位に適用され得る光治療の最大耐量を解析するために採用され得る複数の工程の一実施形態の概要を示すフローチャートである。
次に、図面を参照して、図1Aから図1Cは、デリバリー装置10と、これに接続可能である先端ピース12との一実施形態を説明し、皮膚疾患にかかった個人の皮膚上への治療モダリティとして標的型光治療を適用するべく、デリバリー装置10から所望の形状へと分注可能である光束14を与える。図1Aに示されるように、先端ピース12は、第1の方向の先端ピース12の一端から延び、先端ピース12をレーザデリバリー装置10に着脱可能に接続するように構成された複数のタブ13を含む。
図1Bおよび図1Cに示されるように、一実施形態において、先端ピース12は、例えば、2cm×2cmとなり得るデリバリー装置10から正方形の光束14をサイズ決定し、それを分注することができる。そのような正方形の光束14の端面図は、図1Cに示される。
図2の一実施形態に示されるように、手持ち光治療デリバリー装置10および先端ピース12は、光束18を整形するのに役立つべく、手持ち光治療デリバリー装置10およびエンドピース12を部分的に包含するダイヤフラム16を含み得る。ここで、光束18は、円柱状である。
図3Aに示されるように、本発明は、光エネルギーのある量を、次に治療部位上へと同時または連続して適用され得る光エネルギーの様々なレベルの複数の量へと分配し、個人の光治療の最小水疱形成量を測定することによって皮膚疾患にかかった個人向けの最適な光治療の治療量を決定することができる、線量測定デバイス20に関する。個人の最小水疱形成量かそれに近い量で皮膚疾患にかかった個人を治療することによって、個人の皮膚疾患部を寛解へと置き換えるべく必要とされる治療セッションの全数は、大幅に減少され得る一方、個人の皮膚の焼けは十分に減少され得、大半の事例では、回避され得る。次に、個人が、既知の治療手順からの時間およびコストの節約および既知の治療手順よりも水疱形成からの相当な不快さのリスクがより低くなることに起因して皮膚疾患の必要な継続的な治療を追求する可能性はきわめて高いであろう。
図3Aの一実施形態に示されるように、線量測定デバイス20は、感度マトリックス24がハウジング22内に配置された状態で、光治療デリバリー装置10と着脱可能に接続されるように構成されたハウジング22を含む。図3Aから図5の複数の実施形態に示されるように、デバイス20のハウジング22は円柱状である。しかしながら、ハウジング22の形状は、四角、長方形、楕円、三角および台形を含む任意の形状であり得るが、これらに限定されるものではない。感度マトリックス24は、任意の既知の方法でハウジング22に接続され得る。
図3Aおよび図3Bの一実施形態において、感度マトリックス24は、複数の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42から成り、それらのそれぞれは、個人の最小水疱形成量耐性を評価し、次に個人の最大耐量で患者を最適に治療するべく、所定の強度の光がそれらを通過できるように設計される。感度マトリックス24は、3×3行列を形成する9つの領域26、28、30、32、34、36、38、40、42を含む。しかしながら、領域の数および配置は変化することができ、マトリックス24は、任意の所望の行列またはパターンに配置され得る任意の数の領域から成り得、さもなければ単一の特有の量レベルであったものを、潜在的に適用可能な治療処置レベルの範囲全体を同時にカバーする複数の量レベルの配列へと変化させることができる。
一実施形態において、感度マトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42は、様々な強度の光がこれらを通過することを可能にする吸収性および/または反射性材料から成っている。別の実施形態において、感度マトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42はそれぞれ、様々な強度の光がこれらを通過することを可能にする複数の部分的に透過性の材料またはフィルタから成っている。一実施形態において、マトリックス24は、溶融石英の光学構成要素から成っている。一実施形態において、マトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42は、全体におよび/または部分的に反射性材料から成り得る。反射性材料は、誘電体干渉フィルタ(例えば、部分反射体)であり得る。一実施形態において、フィルタは、マルチ誘電体干渉フィルタであり得る。一実施形態において、フィルタは、金属コーティングであり得、誘電体強化金属反射体を含む得る。一実施形態において、フィルタは、金属であり得、アルミニウムまたは銀などの材料から成り得る。一実施形態において、フィルタは、誘電体干渉フィルタ、マルチ誘電体干渉フィルタおよび金属コーティングの組み合わせであり得る。
一実施形態において、フィルタは、約0%と99%との間の少量のエネルギー量を反射し、その量を様々な強度のエネルギーの複数の光束または光線へと分割し、様々な強度のエネルギーの複数の光束または光線を個人上へ伝搬する。
一実施形態において、図3Aおよび図3Bに示されるマトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42を通過することができる光強度は、およそ約20%から100%に及び得る。別の実施形態において、マトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42を通過することができる光強度は、およそ約20%から90%に及び得る。しかしながら、マトリックス24の領域26、28、30、32、34、36、38、40、42を通過するべく許容される光の数、形状および強度は変化し得、本明細書に説明される数より大きいか、小さいかであり得る。
図4および図5は、線量測定デバイス44の別の実施形態を説明する。図示されるように、線量測定デバイス44は、ハウジング46と、その中に形成される複数の開口部50、52、54、56、58から成る感度マトリックス48とを含む。感度マトリックス48は、UVB透明光学窓60によってカプセル化される。一実施形態において、マトリックス48は、単一のガラス片、複数の異なるタイプのガラスまたは結晶材料から成るフィルタであり得る。このフィルタは、光の単一の入射量の様々な割合を吸収でき、そのエネルギーを様々な強度のエネルギーの光束または光線へと分割し、各種の割合の光が個人の皮膚を通過および、それと接触することを可能にする。一実施形態において、デバイス52をレーザデリバリー装置10に固定するべく、デバイス44は、複数のファスナ(図示せず)が貫通して延び得る複数の開口部62、64、66、68を含む。
一実施形態において、マトリックス48の開口部50、52、54、56、58を通過することができる光強度は、およそ約20%から100%に及び得る。別の実施形態において、マトリックス48の開口部50、52、54、56、58を通過することができる光強度は、20%から90%に及ぶ。しかしながら、開口部の数、開口部の形状、マトリックス48の開口を通過するべく許容され得る光強度は、開口部の数が本明細書に説明される数より大きいか、小さくなり得るように変化し得る。
一実施形態において、エネルギーの単一の光治療量は、線量測定デバイス12、44に配置されたフィルタを用いて、異なる投与量レベルのエネルギーの複数の光束へと直接分割され得る。別の実施形態において、2またはより多くのエネルギー量は、線量測定デバイス12、44に配置された分割フィルタを介して、個人の皮膚に適用される(例えば、100−500mj/cm2の範囲の第1の量テストおよび600−1000mj/cm2の範囲の第2の量テスト)。
デバイス12、44は、個人の体と接触して配置され得、デバイス20、44は、個人の体に着脱可能に取り付けられ得、または、デバイス20、44は、治療部位の近くに配置され得る。デバイス12、44は、再利用可能、使い捨て可能であり得、および/または感度マトリックス22、54は、使用毎または決められた使用回数後に新たな、または異なるマトリックスと交換され得る。
図6は、エキシマ光治療システム70の一実施形態を説明する。エキシマ光治療システム70は、電磁スペクトルのUVB領域(290−320nm)内の紫外線エネルギーを生成することにより乾癬、白斑、白皮症、アトピー性皮膚炎および脱毛症を含む各種の皮膚病向けの光治療を提供するべく設計される。具体的には、一実施形態において、光治療システム70は、標的型光治療処置のために狭帯域、308nmでの単色波長における各種の皮膚病の治療のために設計され、長期間におよぶUVB暴露から健康な組織を免れさせる。しかしながら、デリバリー装置は、各種の皮膚病を治療することが可能であるレーザエネルギーの代わりに任意の形態のエネルギーを分配することができる。
システム70は、カート72内に収納され、そそれから広がり得る。カート72は、デリバリーポート76での一端にてカート72に接続されるファイバー光学系デリバリーケーブル74を含む。ハンドピースクレードル78に置かれ得るデリバリー装置、またはハンドピース10は、デリバリーケーブル74の他端で接続される。ハンドピース10は、ユーザインターフェース80を含むことができ、システム70からの(例えば、UVB光の形態で)エネルギー供給を制御するべくプッシュボタン(例えば、図1A参照)の形態であり得る。
皮膚疾患にかかっている個人の治療セッションを実行するべく、ハンドピース10が先ず、キャリブレーションされなければならない。これは、カート70中に延びるキャリブレーションポート82のハンドピース10を置くことによりなされ得る。カート72は、他の特徴のうち、システム70および緊急停止スイッチ86の動作用の制御パネルタッチ画面84をさらに含む。
図7の一実施形態に模式的に示されるように、エキシマ光治療システム70の内部構成要素は、ユーザインターフェース90、電源92、レーザチャンバ94および光学系構成要素96と直接的および/または間接的に相互作用することが可能であるシステム制御装置(すなわち、CPU/ソフトウェア)88を含み得る。レーザエネルギーは、ファイバー光学系によってシステム70からハンドピース10に供給されて、皮膚疾患にかかった個人上へ供給され得る。
動作において、線量測定デバイス12、44を用いた結果に基づき患者のMTDを決定する時、総照射線量は、UVB投与の有効性を最適化するとともに必要とされる治療の数を最小化し、患者の安全を確実にするべく調節され得る。
図8は、皮膚疾患にかかった個人に適用され得る光治療のMTDを解析するべく採用され得る複数の工程の一実施形態の概要を示すフローチャートを説明する。フローチャートに示されるように、光治療装置が提供され得、次に線量測定デバイスに接続される。次に、光治療装置は皮膚疾患にかかった個人の罹患部位の近くか、それと接触して配置され得る。デバイス12、44が、皮膚の罹患部位上に一旦方向づけられると、デリバリーシステム10は次に、様々な強度でマトリックス20、48を介して進み、そのような様々な強度で皮膚の罹患部位と接触するUVB光のある量を出力し得る。その後、様々な強度で皮膚の罹患部位に光治療のUVB量を適用したおよそ24−48時間後に、間もなく、個人は臨床医の事務所に戻ることができ、そこで、臨床医は、テストされた部位を評価し、UVB光のどの割合が水疱形成反応を示したかを観察することにより個人のMBDを決定することができる。個人のMBDを知ることによって、個人はその後、かれらのMBDよりわずかに低い、かれらの最適条件またはMTDで治療され得る。
特定の用語を用いて説明される特定の実施形態に言及がなされているが、そのような説明は、例示目的のためにすぎず、そのような実施形態に対する変更および変形は、限定されるものではないが、等価な特徴、材料または部品の代用、それらの各種の特徴のリバーサルを含み、本発明の精神および範囲から逸脱することなく当業者によって実施され得ることは理解されるべきである。このため、図面および説明は、範囲の制限的なものと理解されるべきではなく、本発明による広く、一般的な教示として理解される。
特定の用語を用いて説明される特定の実施形態に言及がなされているが、そのような説明は、例示目的のためにすぎず、そのような実施形態に対する変更および変形は、限定されるものではないが、等価な特徴、材料または部品の代用、それらの各種の特徴のリバーサルを含み、本発明の精神および範囲から逸脱することなく当業者によって実施され得ることは理解されるべきである。このため、図面および説明は、範囲の制限的なものと理解されるべきではなく、本発明による広く、一般的な教示として理解される。
[項目1]
標的型光治療を治療部位に適用するべく光治療装置に接続可能である線量測定デバイスであって、上記線量測定デバイスは、
ハウジングと、
吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含む光学マトリックスであって、上記複数の領域のうちの少なくとも1つは上記ハウジングに接続されるか、上記ハウジング内に形成されるかである、光学マトリックスと、を備え、
吸収性、反射性および部分的に透過性な上記複数の領域の各々は、透過性が異なる光が通過することを可能にする、線量測定デバイス。
[項目2]
上記複数の領域を通過する光の伝搬は、ある領域の約20%から別の領域の約100%まで及ぶ、項目1に記載の線量測定デバイス。
[項目3]
上記複数の領域を通過する光の伝搬は、ある領域の約0%から別の領域の約90%まで及ぶ、項目1または2に記載の線量測定デバイス。
[項目4]
上記マトリックスは、実質的に正方形である、項目1から3のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
[項目5]
上記光学マトリックスの吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである上記複数の領域の各々は、正方形、長方形、円形または卵形である、項目1から4のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
[項目6]
上記複数の領域の各々は、金属、マルチ誘電体および誘電体コーティングのうちの少なくとも1つ、または、UVB領域の複数のボリューム吸収材料を含む、項目1から5のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
[項目7]
上記光が、UVB光である、項目1から6のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
[項目8]
治療部位に適用することが可能である光治療の最大耐量を決定する方法であって、上記方法は、
ハウジングと、上記ハウジング内に配置され、様々な割合の光が通過することを可能にする吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含む光学マトリックスとを備える線量測定デバイスを提供する段階と、
上記線量測定デバイスを、UVB光を分注する光治療装置に接続する段階と、
上記治療部位の近くに上記線量測定デバイスを配置する段階と、
様々な複数の割合の上記UVB光が上記複数の領域を同時または連続して通過し、上記治療部位に供給されるべく、上記光学マトリックスの上記複数の領域を介して上記光治療装置からの上記UVB光を伝搬する段階と
を備える方法。
[項目9]
上記光学マトリックスの上記複数の領域を通過する上記UVB光の上記複数の割合は、ある領域の約20%から別の領域の約100%まで及ぶ、項目8に記載の方法。
[項目10]
上記光学マトリックスの上記複数の領域を通過する上記UVB光の上記複数の割合は、ある領域の約0%から別の領域の約90%まで及ぶ、項目8または9に記載の方法。
[項目11]
上記光治療装置は、およそ約308nmで上記UVB光を伝搬する、項目8から10のいずれか一項に記載の方法。
[項目12]
上記治療部位の最小水疱形成量を評価するべく、上記様々な割合の上記UVB光を上記光学マトリックスを介して上記治療部位へ伝搬する段階に続いて、上記治療部位を解析する段階をさらに備える、項目8から11のいずれか一項に記載の方法。
[項目13]
治療されている皮膚の最小水疱形成量を評価するべく、上記光学マトリックスを介して上記様々な割合の上記UVB光が上記治療部位に適用されたおよそ24から48時間後に、上記治療部位は解析される、項目8から12のいずれか一項に記載の方法。
[項目14]
治療部位の水疱形成のないほぼ最適な治療量を決定するべく、上記光学マトリックスを介した上記治療部位への上記様々な割合の上記UVB光の解析からの上記UVB光の上記最小水疱形成量の決定に基づき、上記UVB光の最大耐量を上記治療部位に適用する段階をさら備える、項目12または13に記載の方法。

Claims (14)

  1. 標的型光治療を治療部位に適用するべく光治療装置に接続可能である線量測定デバイスであって、前記線量測定デバイスは、
    ハウジングと、
    吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含む光学マトリックスであって、前記複数の領域のうちの少なくとも1つは前記ハウジングに接続されるか、前記ハウジング内に形成されるかである、光学マトリックスと、を備え、
    吸収性、反射性および部分的に透過性な前記複数の領域の各々は、透過性が異なる光が通過することを可能にする、線量測定デバイス。
  2. 前記複数の領域を通過する光の伝搬は、ある領域の約20%から別の領域の約100%まで及ぶ、請求項1に記載の線量測定デバイス。
  3. 前記複数の領域を通過する光の伝搬は、ある領域の約0%から別の領域の約90%まで及ぶ、請求項1または2に記載の線量測定デバイス。
  4. 前記マトリックスは、実質的に正方形である、請求項1から3のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
  5. 前記光学マトリックスの吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである前記複数の領域の各々は、正方形、長方形、円形または卵形である、請求項1から4のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
  6. 前記複数の領域の各々は、金属、マルチ誘電体および誘電体コーティングのうちの少なくとも1つ、または、UVB領域の複数のボリューム吸収材料を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
  7. 前記光が、UVB光である、請求項1から6のいずれか一項に記載の線量測定デバイス。
  8. 治療部位に適用することが可能である光治療の最大耐量を決定する方法であって、前記方法は、
    ハウジングと、前記ハウジング内に配置され、様々な割合の光が通過することを可能にする吸収性、反射性および部分的に透過性のうちの少なくとも1つである複数の領域を含む光学マトリックスとを備える線量測定デバイスを提供する段階と、
    前記線量測定デバイスを、UVB光を分注する光治療装置に接続する段階と、
    前記治療部位の近くに前記線量測定デバイスを配置する段階と、
    様々な複数の割合の前記UVB光が前記複数の領域を同時または連続して通過し、前記治療部位に供給されるべく、前記光学マトリックスの前記複数の領域を介して前記光治療装置からの前記UVB光を伝搬する段階と
    を備える方法。
  9. 前記光学マトリックスの前記複数の領域を通過する前記UVB光の前記複数の割合は、ある領域の約20%から別の領域の約100%まで及ぶ、請求項8に記載の方法。
  10. 前記光学マトリックスの前記複数の領域を通過する前記UVB光の前記複数の割合は、ある領域の約0%から別の領域の約90%まで及ぶ、請求項8または9に記載の方法。
  11. 前記光治療装置は、およそ約308nmで前記UVB光を伝搬する、請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記治療部位の最小水疱形成量を評価するべく、前記様々な割合の前記UVB光を前記光学マトリックスを介して前記治療部位へ伝搬する段階に続いて、前記治療部位を解析する段階をさらに備える、請求項8から11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 治療されている皮膚の最小水疱形成量を評価するべく、前記光学マトリックスを介して前記様々な割合の前記UVB光が前記治療部位に適用されたおよそ24から48時間後に、前記治療部位は解析される、請求項8から12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 治療部位の水疱形成のないほぼ最適な治療量を決定するべく、前記光学マトリックスを介した前記治療部位への前記様々な割合の前記UVB光の解析からの前記UVB光の前記最小水疱形成量の決定に基づき、前記UVB光の最大耐量を前記治療部位に適用する段階をさら備える、請求項12または13に記載の方法。
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