JP2017521709A - 線量測定方法、検査装置、パターニングデバイス、基板、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)リソグラフィプロセスを用いて製造される第1および第2構造を備える基板を受け取るステップと、
(b)第1構造を放射で照明する間に散乱放射を検出して第1スキャトロメータ信号を取得するステップと、
(c)第2構造を放射で照明する間に散乱放射を検出して第2スキャトロメータ信号を取得するステップと、
(d)第1および第2スキャトロメータ信号を用いて、前記第1および第2構造を製造するために使用される照射線量値を決定するステップと、を備え、第1構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、第2構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす。本発明は、リソグラフィプロセスを用いて基板上に第1構造を製造することであって、第1構造が、少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備える第2の周期的特徴とを有することと、リソグラフィプロセスを用いて基板上に第2構造を製造することであって、第2構造が、少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備える第2の周期的特徴とを有することと、をさらに備え、照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす。
Claims (30)
- 基板へのリソグラフィプロセスで用いられるリソグラフィ装置の照射線量を決定する方法であって、
(a)リソグラフィプロセスを用いて製造される第1および第2構造を備える基板を受け取るステップと、
(b)第1構造を放射で照明する間に散乱放射を検出して第1スキャトロメータ信号を取得するステップと、
(c)第2構造を放射で照明する間に散乱放射を検出して第2スキャトロメータ信号を取得するステップと、
(d)第1および第2スキャトロメータ信号を用いて、前記第1および第2構造を製造するために使用される照射線量値を決定するステップと、を備え、
第1構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、
第2構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、
照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす、方法。 - リソグラフィプロセスを用いて基板上に第1構造を製造するステップであって、第1構造が、少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備える第2の周期的特徴とを有するステップと、リソグラフィプロセスを用いて基板上に第2構造を製造するステップであって、第2構造が、少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備える第2の周期的特徴とを有するステップと、をさらに備え、照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす、請求項1に記載の方法。
- 第1および第2構造の第1の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットのピッチである、請求項1または2に記載の方法。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットのピッチである、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴の方向は、第1および第2構造がある面と平行な面内にある、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴の方向は、第1および第2構造の第1の周期的特徴の方向と実質的に平行である、請求項5に記載の方法。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴の方向は、第1および第2構造の第1の周期的特徴の方向と実質的に垂直である、請求項5に記載の方法。
- 第1および第2構造を照明する間に散乱放射を検出するステップは、像面検出スキャトロメトリを用いて実行される、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 第1および第2構造を照明する間に散乱放射を検出するステップは、瞳面検出スキャトロメトリを用いて実行される、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 散乱放射を検出するステップは、ゼロ次散乱放射を高次散乱放射から分離することと、高次散乱放射を検出して各スキャトロメータ信号を取得することとを備える、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- 第1および第2スキャトロメータ信号を用いて前記第1および第2構造を製造するために用いられる照射線量値を決定するステップは、第1および第2の測定スキャトロメータ信号のそれぞれに対応する第1および第2の測定強度間の差分を用いることを備える、請求項1から10のいずれかに記載の方法。
- 第1および第2スキャトロメータ信号を用いて前記第1および第2構造を製造するために用いられる照射線量値を決定するステップは、正規化ステップを備える、請求項11に記載の方法。
- 正規化因子は、第1および第2の測定スキャトロメータ信号のそれぞれに対応する強度の和である、請求項12に記載の方法。
- 前記第1および第2構造の第2の周期的特徴は、600nmの周期を有する、請求項1から13のいずれかに記載の方法。
- 基板へのリソグラフィプロセスで用いられるリソグラフィ装置の照射線量を決定する検査装置であって、
基板上にリソグラフィプロセスを用いて製造される第1および第2構造を放射で照明するよう構成される照明系と、
第1構造の照明から生じる散乱放射を検出して第1スキャトロメータ信号を取得するよう構成されるとともに、第2構造の照明から生じる散乱放射を検出して第2スキャトロメータ信号を取得するよう構成される検出系と、
第1および第2スキャトロメータ信号を用いて、第1構造を製造するために使用される照射線量値を決定するよう構成されるプロセッサと、を備え、
第1構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、
第2構造は、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有し、
照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす、検査装置。 - 第1および第2構造の第1の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットのピッチである、請求項15に記載の検査装置。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットのピッチである、請求項15に記載の検査装置。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴の方向は、第1および第2構造の第1の周期的特徴の方向と実質的に平行である、請求項16または17に記載の検査装置。
- 第1および第2構造の第2の周期的特徴の方向は、第1および第2構造の第1の周期的特徴の方向と実質的に垂直である、請求項16または17に記載の検査装置。
- 第1および第2構造を照明する間に散乱放射を検出するステップは、像面検出スキャトロメトリを用いて実行される、請求項15から19のいずれかに記載の検査装置。
- 第1および第2構造を照明する間に散乱放射を検出するステップは、瞳面検出スキャトロメトリを用いて実行される、請求項15から19のいずれかに記載の検査装置。
- プロセッサは、第1および第2の測定スキャトロメータ信号のそれぞれに対応する第1および第2の測定強度間の差分を計算することに基づいて、第1および第2スキャトロメータ信号を用いて前記第1および第2構造を製造するために用いられる照射線量値を決定するよう構成される、請求項15に記載の検査装置。
- 第1および第2スキャトロメータ信号を用いて前記第1および第2構造を製造するために用いられる照射線量値を決定するステップは、正規化ステップを備える、請求項22に記載の検査装置。
- 正規化因子は、第1および第2の測定スキャトロメータ信号のそれぞれに対応する強度の和である、請求項23に記載の検査装置。
- 検出系は、ゼロ次散乱放射を高次散乱放射から分離することと、高次散乱放射を検出して各スキャトロメータ信号を取得することとにより、散乱放射を検出するよう構成される、請求項15から24のいずれかに記載の検査装置。
- 基板へのリソグラフィプロセスで用いられるリソグラフィ装置の照射線量を決定する基板であって、基板はターゲットを備え、該ターゲットは、
少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらにもう一つの第2の周期的特徴とを有する第1構造と、
少なくとも第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有する第2構造と、を備え、
照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす、基板。 - 第1および第2構造の第1および第2の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットのピッチである、請求項26に記載の基板。
- 基板へのリソグラフィプロセスで用いられるリソグラフィ装置の照射線量を決定するパターニングデバイスであって、パターニングデバイスはターゲットパターンを備え、該ターゲットパターンは、
リソグラフィプロセスを用いて第1構造を製造するよう構成される第1サブパターンであって、第1構造が、空間的特徴を備える周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらにもう一つの第2の周期的特徴とを有する、第1サブパターンと、
リソグラフィプロセスを用いて第2構造を製造するよう構成される第2サブパターンであって、第2構造が、空間的特徴を備える第1の周期的特徴と、照射線量の影響を受けるよう設計された空間的特徴を備えるさらに少なくとももう一つの第2の周期的特徴とを有する、第2サブパターンと、を備え、
照射線量は、第1および第2構造の照射線量の影響を受ける空間的特徴に異なる方法で影響を及ぼす、パターニングデバイス。 - 第1および第2構造の第1および第2の周期的特徴は、格子を含むメトロロジターゲットを基板上に形成するために用いるのに適しているパターニングデバイス上のピッチである、請求項28に記載のパターニングデバイス。
- デバイスパターンがリソグラフィプロセスを用いて一連の基板に付与されるデバイス製造方法であって、請求項1から14のいずれかに記載の方法を用いて少なくとも一つの基板を用いてリソグラフィ装置の照射線量を決定することと、照射線量の決定方法の結果に従って、後の基板に対するリソグラフィプロセスを制御することとを含む、デバイス製造方法。
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