JP2017518346A - 歯の酸蝕を予防又は治療するための組成物 - Google Patents
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Abstract
本発明は、歯の酸蝕の予防及び／又は治療に用いるための、少なくとも１つのフッ化物源と少なくとも１つの他の薬剤を含む、ｐＨが２．０〜４．５の範囲の組成物に関する。
Description
本発明は、ｐＨが２．０〜４．５の範囲であり、少なくとも１つのフッ化物源と少なくとも１つの有機酸又はその塩を含む組成物に関し、該組成物は、歯の酸蝕の予防及び／治療、歯のエナメル質の脱灰の予防及び／又は歯のエナメル質の再石灰化の強化、歯のエナメル質の表面下脱灰の予防及び／又は表面下の歯のエナメル質の再石灰化の強化において使用するための組成物である。
歯のエナメル質は、主に、ミネラルで構成され、一次ミネラルは、式Ｃａ5（ＰＯ4）3（ＯＨ）を有する結晶性リン酸カルシウムであるヒドロキシルアパタイト（ＨＡ）である。ＨＡの脱ミネラル化は、局所ｐＨが５．５未満になったときに始まる。唾液は、様々なイオンで過飽和である（Ｍ．Ｊ．Ｌａｒｓｅｎ ｅｔ ａｌ．，「Ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ ｏｆ ｈｕｍａｎ ｓａｌｉｖａ ｗｉｔｈ ｒｅｓｐｅｃｔ ｔｏ ｃａｌｃｉｕｍ ｓａｌｔｓ」，Ａｒｃｈｉｖｅｓ ｏｆ Ｏｒａｌ Ｂｉｏｌｏｇｙ（２００３）４８，３１７−３２２を参照されたい）。これらのイオンは緩衝液として作用し、口の酸性度をある種の範囲、典型的にはｐＨ６．２〜７．４に維持する。これは、通常、ミネラルが溶解するのを防ぐ。喪失したミネラルの一部は、ｐＨが緩衝され、５．５を超えた状態である場合、唾液中のイオンから回収／再石灰化され得る。
歯の酸蝕／酸性侵食は、細菌由来ではない酸による化学的溶解に起因した、歯の構造（エナメル質、象牙質及びセメント質）の不可逆的な喪失として定義される。したがって、歯の酸蝕は、歯垢（バイオフィルム）中の特定の細菌によって引き起こされる感染症である虫歯とは、病態と病因の両方において異なる。歯の酸蝕の最も一般的な原因は、酸性食品及び飲料によるものであるが、時には胃食道逆流によって引き起こされることがある。これは、米国保健福祉省（２００７年８月８日）によると、５〜１７歳の子供の最も一般的な慢性疾患である。
歯科医は、すでに侵食されたエナメル質を修復する良い方法を確立していない。最善の方法は、歯の酸蝕を予防することであるが、今日、市場に有効な製品がない。
フッ化物を含有する局所製造物の使用は、エナメル質と接触してフッ化カルシウム（ＣａＦ2）沈殿物の形成をもたらす。カルシウム（Ｃａ）は、唾液及び歯に由来する。局所フッ化物処置中の歯の硬組織上のＣａＦ2形成は、歯の溶解性、健全な又は脱塩された表面、フッ化物の曝露時間の長さ、フッ化物濃度及び局所剤のｐＨなどの多くの要因に依存する（Ｂｊｏｒｎ ０ｇａａｒｄ，「ＣａＦ2Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ：Ｃａｒｉｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ａｎｄ Ｆａｃｔｏｒｓ ｏｆ Ｅｎｈａｎｃｉｎｇ ｔｈｅ Ｅｆｆｅｃｔ」，Ｃａｒｉｅｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ２００１；３５（ｓｕｐｐｌ ｌ）：４０−４４を参照されたい）。
ＣａＦ2材料に続くフッ素アパタイトの形成が示唆されている。フッ化アパタイトＣａ5（ＰＯ4）3Ｆは、ｐＨ４．５以上の中性又は酸性条件で形成することができ、溶解する。したがって、それは、フルーツジュース、エナジードリンク及びソーダなどのｐＨ４．５未満の酸性状態から保護されず、エナメル質の酸蝕をもたらす。
少量のフッ化物を含有する酸性局所製造物（すなわち、ｐＨ４．５未満）は、ＨＡから少しのエッチング後にＣａを放出し、次に、直ちに、歯にＣａＦ2の薄い保護層を付着させる。形成された低リン酸塩で汚染されたＣａＦ2は、水中及び酸性溶液中でほんの僅か溶解し、唾液中ではほとんどない（唾液は、通常、少なくとも１００ｍｇのカルシウム／Ｌを含有する）。ＣａＦ2は、通常のエナメル質のハイドロキシアパタイト又はフルオロアパタイトよりもクエン酸などの酸にほとんど溶解しない。したがって、上記の低リン酸塩汚染ＣａＦ2は、酸性侵食から歯のエナメル質を保護する機械的障壁を形成する。
国際公開第ＷＯ２００５／１１０３４７号の国際特許出願は、水溶液のｐＨが２．５〜４．５である、０．０５〜２．００％の濃度のフッ化水素酸（ＨＦ）の水溶液を含む歯の酸蝕を阻害するための組成物に関する。
Ｃ．Ｈｊｏｒｔｓｊｏら、「Ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ Ｓｔａｎｎｏｕｓ Ｆｌｕｏｒｉｄｅ ａｎｄ Ｄｉｌｕｔｅ Ｈｙｄｒｏｆｌｕｏｒｉｃ Ａｃｉｄ ｏｎ Ｅａｒｌｙ Ｅｎａｍｅｌ Ｅｒｏｓｉｏｎ ｏｖｅｒ Ｔｉｍｅ ｉｎ ｖｉｖｏ」、Ｃａｒｉｅｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ２００９；４３：４４９−４５４は、エナメル質の溶解性におけるＨＦ（０．２％、ｐＨ２．０）及びフッ化第一スズ（ＳｎＦ2）（０．７８％、ｐＨ２．９）（両者とも約０．１モル／ｌ Ｆ）の水溶液の長期間の保護効果を評価するためになされた研究を報告している。この研究から、０．２％ＨＦ溶液を用いた健全なエナメル質の処理は、少なくとも１週間持続するクエン酸攻撃に対して保護効果を有すると結論付けられた。対照的に、同じ低フッ化物濃度を含有するＳｎＦ2溶液は、わずか１日後に効果がなかった。
本発明は、驚くべきことに、少なくとも１つのフッ化物源の組成物に少なくとも１つの有機酸又はその塩を添加することによって、歯の酸蝕に対して改善された結果を示した。
本発明の主な課題は、当該技術分野で知られているものよりも有効である、歯の酸蝕の抑制に有用な組成物を提供することである。
この課題及び他の課題は、ＨＦ、１つ以上の二フッ化物（単数若しくは複数）又はそれらの混合物から選択される少なくとも１つのフッ化物源；並びに少なくとも１つの有機酸のｐＫａが２〜６の範囲にある有機酸又はその塩を含む組成物によって達成され、ここで、上記組成物のｐＨは、２．０〜４．５の範囲にある。
本発明の好ましい実施形態によれば、組成物のｐＨは、２．５〜４．０の範囲、より好ましくは３．０〜３．５の範囲、最も好ましくは約３．５である。
本発明の組成物中のフッ化物の量は、約０．０１重量％〜約４．０重量％、約０．０１重量％〜約２．０重量％、約０．０１重量％〜約１．０重量％、約０．０１重量％〜約０．５重量％、約０．０１重量％〜約０．０５重量％、及び０．０５重量％未満からなる群から選択される。
本発明の好ましい実施形態によれば、組成物中のフッ化物の量は、約０．０１重量％〜約１．０重量％、より好ましくは約０．０１重量％〜約０．５重量％、最も好ましくは約０．１５重量％である。
本発明の一態様によれば、少なくとも１種のフッ化物源は、ＨＦ、ＮａＨＦ2、ＫＨＦ2、ＮＨ4ＨＦ2、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される。
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも１つのフッ化物源はＨＦである。
本発明の別の好ましい実施形態によれば、少なくとも１つのフッ化物源は二フッ化物である。二フッ化物は、好ましくは、ＮａＨＦ2、ＫＨＦ2、ＮＨ4ＨＦ2、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される。
上記で定義される少なくとも１つのフッ化物源に加えて、本発明の組成物は、例えば、ＮａＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、及びそれらの混合物からなる群から選択される、更なるフッ化物源を含むことができる。
本発明の一実施形態によれば、フッ化物源は、ＨＦと１つ以上の二フッ化物の混合物である。
本発明の別の実施形態によれば、フッ化物源は、ＨＦと、例えば、ＮａＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、及びそれらの混合物からなる群から選択される別のフッ化物の混合物である。
本発明の更なる実施形態によれば、フッ化物源は、例えば、ＮａＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、及びそれらの混合物からなる群から選択される、１つ以上の二フッ化物（単数又は複数）及び更なるフッ化物の混合物である。
本発明のさらに別の実施形態によれば、フッ化物源は、ＨＦ、１つ以上の二フッ化物（単数若しくは複数）、並びに、例えば、ＮａＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、及びそれらの混合物からなる群から選択される更なるフッ化物の混合物である。
本発明の別の態様によれば、組成物は、リン酸酸性フッ化物を含まないことを条件とする。
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも１つの有機酸又はその塩は、生理学的に許容される。
本発明の別の好ましい実施形態において、組成物の少なくとも１つの有機酸又はその塩は、安息香酸、安息香酸ナトリウム、グリシン、グリコール酸、グルタミン酸、乳酸、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される。
本発明の組成物中の有機酸（単数若しくは複数）又はその塩の量は、約０．０１重量％〜約１０．０重量％、約０．０１重量％〜約７．０重量％、約０．０１重量％〜約３．０重量％、約０．０１重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約２．０重量％、約０．０１重量％〜約１．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％重量、及び約０．１０重量％〜約０．５重量％である。
本発明の好ましい実施形態において、組成物中に存在する有機酸又はその塩のそれぞれは、約０．１０重量％〜約２．０重量％、より好ましくは約０．１０重量％〜約１．０重量％、最も好ましくは約０．１０重量％〜約０．５重量％である。
本発明の好ましい実施形態において、グリシンは、組成物中に、約０．１０重量％〜約１０．０重量％、約０．１０重量％〜約７．０重量％、約０．１０重量％〜約５．０重量％、約０．１０重量％〜約３．０重量％、約０．１０重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、約０．１０重量％〜約０．５重量％、又は約０．１０重量％〜約０．３重量％の量で存在する。１つ以上の他の有機酸（単数若しくは複数）又はその塩は、グリシンに加えて組成物中に存在してもよい。
本発明の別の好ましい実施形態において、安息香酸は、組成物中に、約０．０５重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、又は約０．１０重量％〜約０．５重量％の量で存在する。１つ以上の他の有機酸（単数若しくは複数）又はその塩は、安息香酸に加えて組成物中に存在してもよい。
本発明のさらに好ましい実施形態において、安息香酸ナトリウムは、組成物中に、約０．０５重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、又は約０．１０重量％〜約０．５重量％の量で存在する。１つ以上の他の有機酸（単数若しくは複数）又はその塩は、安息香酸ナトリウムに加えて組成物中に存在してもよい。
本発明のさらに別の好ましい実施形態において、グリシンと安息香酸、又はグリシンと安息香酸ナトリウムは、組成物中に存在する。有機酸又は塩のそれぞれの量は、組成物の約０．０５重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、又は約０．１０重量％〜約０．５重量％の量である。
本発明のさらに別の実施形態によれば、グリシンとグリコール酸、グリシンとグルタミン酸、又はグリシンと乳酸は、組成物中に存在する。有機酸又は塩のそれぞれの量は、組成物の約０．０５重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、又は約０．１０重量％〜約０．５重量％の量である。
本発明の一態様によれば、フッ化物源の少なくとも一部は粒子状である。
本発明の別の態様によれば、組成物は、水溶液、ゲル、泡状体、歯磨剤、歯科用ワニス又は歯磨き粉の形態である。
本発明の別の態様によれば、組成物は、適用時に流体の形態であり、３０℃を超える温度で歯にワニスとして設定される。
本発明の好ましい実施形態によれば、組成物は、微粒子形態の二フッ化物を含む練り歯磨きの形態である。
別の好ましい実施形態によれば、組成物は、口内濯ぎと同じ方法で使用される水溶液の形態である。
本発明の一実施形態において、組成物は、水溶性ポリマーである更なる薬剤を含むことができる。ポリマーは、多糖類、多糖類誘導体、ポロキサマー、及びポリエチレングリコール（ＰＥＧ）からなる群から選択され得る。ポリマーは、組成物中に０．１重量％〜１０重量％の量で存在することができる。
本発明の一実施形態によれば、ポリマーは、キトサン及びキトサン誘導体である。
本発明の一実施形態において、組成物は、二価の金属イオンをさらに含むことができる。二価の金属イオンは、組成物中に０．０１重量％〜０．５重量％の量で存在することができる。二価の金属イオンは、Ｃａ、Ｚｎ、Ｃｕ、及びＳｎからなる群から選択される。
本発明の一実施形態において、組成物は、抗菌剤をさらに含んでもよい。抗菌剤は、ビス−ビグアニド及び第４級アンモニウム化合物、又はそれらの任意の組み合わせから選択することができる。上述されるようにＺｎ及びＣｕは、同様に抗菌剤である。一実施形態によれば、抗菌剤は、クロルヘキシジンであり、クロルヘキシジンは、組成物中に０．００１重量％〜１重量％の量で存在する。
本発明による組成物は、歯の酸蝕の予防及び／又は治療に使用するためのものである。
本発明の別の態様において、上記で定義された組成物は、歯のエナメル質の脱灰の予防し、及び／又は歯のエナメル質の再石灰化の増強において使用するためのものである。
本発明のさらに別の態様において、上記で定義される組成物は、歯のエナメル質の表面下脱灰の予防し、及び／又は表面下の歯のエナメル質の再石灰化の増強において使用するためのものである。
本発明の好ましい実施形態は、ここで、添付の図面を参照してより詳細に説明される。
歯の酸蝕への組成物の効果を研究するために実験を行った。比較実施例は、研磨したＨＡディスクがフッ化物溶液の効果及びエナメル質へのエッチングの研究に適切なインビトロのモデルであることを示すために実施された。
参照実施例１は、エッチング前後の未処理ＨＡディスクのＳＥＭ写真（図１参照）であり、酸素（Ｏ）、リン（Ｐ）及びカルシウム（Ｃａ）の存在のＥＤＳスペクトルは、ヒドロキシアパタイトＣａ５（ＰＯ４）３（ＯＨ）が未処理ＨＡディスクの表面上に形成されることを示す（図２参照）。
実施例１は、本発明の組成物で処理したＨＡディスクについて、参照実施例１に示される対応する日付を示す（図３及び図４参照）。
参照実施例２は、フッ化物源がフッ化水素（ＨＦ）である、先行技術（ＷＯ２００５／１１０３４７）に記載の組成物を用いた実験を示す。有機酸及びその塩を添加していない。
実施例１〜１０は、フッ化物源がＨＦである、本発明の組成物を用いた実験を示す。様々な有機酸又はその塩が種々の組成物中に存在する。ＨＦ及び有機酸（単数又は複数）／塩（単数又は複数）の量並びにｐＨ値は変化させる。
実施例１から１０から分かるように、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析で示される場合、本発明による全ての組成物は、参照実施例２の組成物よりも歯の酸蝕の抑制においてより有効である。
参照実施例３は、フッ化物源が二フッ化物（すなわち、ＮａＨＦ2）である組成物を用いた実験を示す。有機酸及びその塩を添加していない。
実施例１１〜１２は、フッ化物源が二フッ化物（すなわち、ＮａＨＦ2）である本発明の組成物を用いた実験を示す。様々な有機酸が種々の組成物中に存在する。
実施例１１及び１２から分かるように、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析で示される場合、本発明による組成物は、有機酸及びその塩を含まない参照実施例２の組成物よりも歯の酸蝕の阻害においてより有効である。
実験モデル
使用される方法は、歯のエナメル質用のモデルとして役立つヒドロキシルアパタイト（ＨＡ）ディスクからなるインビトロモデルである。このモデルは、フッ酸（Ｆ）を含有する様々な溶液を用いることにより、酸エッチング後のエナメル質の酸蝕を予防する効果を試験することを可能にする。以下の比較実施例で示されるように、これは、フッ化水素水溶液の効果及びエナメル質に対するエッチング効果を研究するための優れたインビトロモデルである。
使用される方法は、歯のエナメル質用のモデルとして役立つヒドロキシルアパタイト（ＨＡ）ディスクからなるインビトロモデルである。このモデルは、フッ酸（Ｆ）を含有する様々な溶液を用いることにより、酸エッチング後のエナメル質の酸蝕を予防する効果を試験することを可能にする。以下の比較実施例で示されるように、これは、フッ化水素水溶液の効果及びエナメル質に対するエッチング効果を研究するための優れたインビトロモデルである。
分析法
ディスク表面の元素分析のためのエネルギー分散Ｘ線分光法（ＥＤＳ）検出器及びエッチング溶液の誘導結合プラズマ原子発光分光法（ＩＣＰ−ＡＥＳ）分析を備えた低真空走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて分析を行った。
ディスク表面の元素分析のためのエネルギー分散Ｘ線分光法（ＥＤＳ）検出器及びエッチング溶液の誘導結合プラズマ原子発光分光法（ＩＣＰ−ＡＥＳ）分析を備えた低真空走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて分析を行った。
ＳＥＭ
一般的に、ＳＥＭは、集束された電子ビームで走査することによってサンプルの画像を生じさせる。電子は、サンプル中の原子と相互作用して、検出され得て、サンプルの表面のトポグラフィ及び組成に関する情報を含む様々な信号を生成する。標本は、高真空、低真空、湿潤の状態で観察することができる。現在の分析では、低真空条件が使用されている。
一般的に、ＳＥＭは、集束された電子ビームで走査することによってサンプルの画像を生じさせる。電子は、サンプル中の原子と相互作用して、検出され得て、サンプルの表面のトポグラフィ及び組成に関する情報を含む様々な信号を生成する。標本は、高真空、低真空、湿潤の状態で観察することができる。現在の分析では、低真空条件が使用されている。
現在のＳＥＭで使用されているＥＤＳ検出器は分析能力を有し、各ピクセルでいくつかのデータ項目を提供することができる。
以下の実施例において、ＳＥＭ分析は、表面層、すなわちＨＡディスクのフッ化物処理の際に形成されたＣａＦ2層の視覚的比較、並びに元素分析及び層厚の比較を可能にする。ＥＤＳは、好ましくは、ディスク表面上のフッ化物（Ｆ）、リン（Ｐ）及びカルシウム（Ｃａ）の量を比較するために実施される。フッ化処理後のＰの減少と相まってＣａとＦの増加は、表面にＣａＦ2層が形成されたことを意味する。エッチング後、ＣａとＦのピークは、通常、減少し、Ｐは増加する。
ＩＣＰ−ＡＥＳ
一般的に、ＩＣＰ−ＡＥＳは、微量金属の検出に使用される分析技術である。これは、誘導結合プラズマを使用して、励起された原子、及び特定の元素の波長特性で電磁放射を放出するイオンを生成する発光分光法の一種である。この発光の強度は、試料内の元素の濃度を示す。
一般的に、ＩＣＰ−ＡＥＳは、微量金属の検出に使用される分析技術である。これは、誘導結合プラズマを使用して、励起された原子、及び特定の元素の波長特性で電磁放射を放出するイオンを生成する発光分光法の一種である。この発光の強度は、試料内の元素の濃度を示す。
下記の実施例では、酸蝕は、表面溶解に対応し、ＨＡが溶解するとき、酸に放出されるイオンが存在する。Ｃａ及びＰ（ｍｇ／Ｌ）として溶解したＨＡの量の差が見出される。データの解釈は次のとおりである：クエン酸でエッチングされた対照のＨＡ−ディスクと比較して、フッ化物処理後のクエン酸中に少量のＣａ及びＰが見られる。次に、フッ化物処理はディスクを保護することが証明されている。すなわち、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析は、エッチング溶液中のＣａ及びＰイオンの量を測定する。エッチング溶液のｍｇ／ｌ又はμｇ／ｌのＣａ及びＰ濃度を、未処理の参照ＨＡディスクのエッチング溶液の結果と比較し、Ｃａ及びＰの減少率を計算する。このパーセンテージは、ＨＡディスクがエッチングからどれだけ保護されているかを示す。Ｃａ及びＰイオンの濃度が低いほど、エッチング／酸蝕に対する耐性がより高い。
比較実施例
装置
低真空走査電子顕微鏡であるＪＥＯＬ ＪＳＭ ６６１０ ＬＶを表面の研究に用いた。
装置
低真空走査電子顕微鏡であるＪＥＯＬ ＪＳＭ ６６１０ ＬＶを表面の研究に用いた。
ＳＥＭ写真を５０００倍の倍率（ＳＥＭ×５０００）で撮影した。
ヒドロキシアパタイト（ＨＡ）ディスク
ＨＡディスクを準備した。ディスクは、研磨された面と研磨されていない面を有した。ディスクを室温で保存し、乾燥を維持した。
ＨＡディスクを準備した。ディスクは、研磨された面と研磨されていない面を有した。ディスクを室温で保存し、乾燥を維持した。
２％クエン酸の３滴をピペットを用いてＨＡディスク上に置いた。３滴により、室温で１５分間、ＨＡディスクをエッチングすることができた。滴の輪郭ははっきりと定義され、明らかに表面張力があった。次に、ＨＡディスクを蒸留水で濯ぎ、その後、ティッシュペーパー上で乾燥させた。クエン酸でエッチングする前後のＨＡ表面を分析するために、ＳＥＭ写真（×５０００）を撮影した。
ｐＨ２．５８の０．１５％フッ化水素（ＨＦ）を含む溶液に、穏やかに撹拌しながら３７℃で５分間、ＨＡディスクを浸漬させた（５０ｍｌのプラスチックボトルを使用した）。ディスクを蒸留水で濯ぎ、ティッシュペーパー上で数分間乾燥させた。２％クエン酸の３滴をシリンジを用いて表面に置き、１５分間エッチングを行った。ディスク表面を目視検査したところ、ＨＦ溶液で処理した後、ＨＦ処理していないディスクと比較して、表面張力が低下し、酸滴が浮遊していたことが分かった。次に、ディスクを蒸留水で濯いだ。ＨＦ処理後のＨＡ表面を分析するために、ＳＥＭ写真（×５０００）を撮影した。
生体外のヒトの歯
ヒトの生体外の歯（小臼歯）を歯科医の診療から受けた。歯をリンガー溶液に保存し、冷蔵庫に保管した。
ヒトの生体外の歯（小臼歯）を歯科医の診療から受けた。歯をリンガー溶液に保存し、冷蔵庫に保管した。
ＨＡ表面に対するＨＦ処理の効果は、生体外のヒト小臼歯を用いて確認された。実験の前に歯を２つ半分に分割した（歯１：１と歯１：２）。２つの歯の半分を蒸留水で濯いだ。一方の歯の半分を、２％クエン酸を含有する５０ｍｌプラスチックボトルに入れ、次に、穏やかに撹拌しながら３７℃で１５分間インキュベートした。その後、歯を数分間蒸留水で濯ぎ、次に、ティッシュペーパー上に置いて乾燥させた。他方の歯の半分を、穏やかに撹拌しながら、３７℃で５分間、ｐＨ２．５８の０．１５％フッ化水素（ＨＦ）を含む溶液に浸漬した（５０ｍｌプラスチックボトル）。歯の半分を蒸留水で濯ぎ、次に、２％クエン酸に浸し、村後、穏やかに攪拌しながら３７℃で１５分間インキュベートした。その後、歯を蒸留水で濯ぎ、ティッシュペーパー上で数分間乾燥させた。
エナメル質の表面上のＨＦ処理及びその後のクエン酸エッチングの効果を研究するために、ＳＥＭ写真（×５０００）を撮影した。
上記ＳＥＭ写真は、エナメル質がＨＦ処理中に形成されたＣａＦ2層によって、エッチングから明らかに保護されていることを示す。
比較実施例の結果
研磨されたＨＡディスクは、エナメル質に対するフッ化物溶液及びエッチングの効果を研究するための優れたインビトロでのモデルであると考えられる。
研磨されたＨＡディスクは、エナメル質に対するフッ化物溶液及びエッチングの効果を研究するための優れたインビトロでのモデルであると考えられる。
以下の参照実施例及び実施例において使用される材料、条件及び所定事項
２％クエン酸（ｐＨ２．２）をエッチング溶液として使用した。蒸留水又は水道水を濯ぎに使用した。実験の全てのステップを２０〜２５℃で実施した。
２％クエン酸（ｐＨ２．２）をエッチング溶液として使用した。蒸留水又は水道水を濯ぎに使用した。実験の全てのステップを２０〜２５℃で実施した。
フッ化物溶液をプラスチックビーカーに秤量し、１つ以上のＨＡディスクを各ビーカーに５分間入れた。次に、ディスクを水とともに容器に移し、少なくとも５〜１０秒間濯いだ。
エッチング溶液をプラスチックボトルに秤量し、１つのフッ化物処理したＨＡディスクを各ボトルに１５分間入れた。次に、ディスクを水とともに容器に移し、少なくとも５〜１０秒間濯いだ。
エッチング後のディスク表面をＥＭで分析した。本研究で使用したクエン酸溶液をＩＣＰ−ＡＥＳ分析に供した。
参照実施例１
低真空走査電子顕微鏡であるＪＥＯＬ ＪＳＭ ６６１０ ＬＶを表面の研究に用い、これは、元素分析のためのＥＤＳを装備した。
低真空走査電子顕微鏡であるＪＥＯＬ ＪＳＭ ６６１０ ＬＶを表面の研究に用い、これは、元素分析のためのＥＤＳを装備した。
エッチング前（左側）とエッチング後（右側）の未処理のＨＡディスクのＳＥＭ写真（ＳＥＭ×１０００）を図１に示す。
図２において、ＥＤＳスペクトルは、表面にヒドロキシアパタイトＣａ5（ＰＯ4）3（ＯＨ）であることを示す割合で、酸素（Ｏ）、リン（Ｐ）及びカルシウム（Ｃａ）の存在を示す未処理ＨＡディスクを示す。
参照実施例２
表に示される成分からなる溶液を調製した。
表に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
実施例１
表１に示される成分からなる溶液を調製した。
表１に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は０．１４％であった。
低真空走査電子顕微鏡であるＪＥＯＬ ＪＳＭ ６６１０ ＬＶを表面の研究に用い、これは、元素分析のためのＥＤＳを装備した。
エッチング前（左、ＳＥＭ×２００）及びエッチング後（右、ＳＥＭ×１０００）の表１の溶液で処理したＨＡディスクのＳＥＭ写真を図３に示す。保護層は、１５分のエッチング後に多少の影響を受けるが、主に無傷であり、その下の歯は保護される。
表１の溶液で処理した後のＨＡディスクのＥＤＳスペクトルは、図４に示されるＣａＦ2であることを示す割合で、Ｆ及びＣａの存在を示す。Ｏ及びＰの量は、ＣａＦ2の被覆層に起因して抑制されるが、スペクトルにおいてなおも視認される。これは、ＥＤＳが層よりも深く標本に浸透するためである。また、スペクトルは、スペクトルの割合に起因して、層がフルオロアパタイトＣａ5（ＰＯ4）3Ｆからなっていないことを示す。
対照と比較して、放出されたＰ及びＣａの量は顕著であり、表１の溶液での処理は、浸食されたイオンの量の減少によって示されるように、主に保護的な影響を与えた。
減少％＝（対照（未処理）からの放出−処理）／対照からの放出 ×１００
実施例２
安息香酸ナトリウムの量を０．３０％に増加させ、精製水の量をそれに応じて減少させたことを除いて、表１に示す成分からなる溶液を調製し、試験した。組成物中のフッ化物の総量は０．１４％であり、酸性度をｐＨ３．５に調整した。
安息香酸ナトリウムの量を０．３０％に増加させ、精製水の量をそれに応じて減少させたことを除いて、表１に示す成分からなる溶液を調製し、試験した。組成物中のフッ化物の総量は０．１４％であり、酸性度をｐＨ３．５に調整した。
エッチング前後の本溶液で処理したＨＡディスクの表面は、表１の溶液で処理したものよりも顕著に改良された。
以下の結果が得られた。
実施例３
表３に示される成分からなる溶液を調製した。
表３に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は０．１４％であった。
以下の結果が得られた。
実施例４
表４に示される成分からなる溶液を調製した。
表４に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は０．５％であった。
以下の結果が得られた。
実施例５
表５に示される成分からなる溶液を調製した。
表５に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は１．４％であった。
以下の結果が得られた。
実施例６
表６に示される成分からなる溶液を調製した。
表６に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は１％であった。
以下の結果が得られた。
実施例７
表７に示される成分からなる溶液を調製した。
表７に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
実施例８
表８に示される成分からなる溶液を調製した。
表８に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
実施例９
表９に示される成分からなる溶液を調製した。
表９に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
実施例１０
表１０に示される成分からなる溶液を調製した。
表１０に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
参照実施例３
以下の表に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の表に示される成分からなる溶液を調製した。
組成物中のフッ素源の総量は０．１４％であった。
以下の結果が得られた。
実施例１１
表１１に示される成分からなる溶液を調製した。
表１１に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
実施例１２
表１２に示される成分からなる溶液を調製した。
表１２に示される成分からなる溶液を調製した。
以下の結果が得られた。
Claims (10)
- 歯の酸蝕の予防及び／若しくは治療；歯のエナメル質の脱灰又は表面下の脱灰の予防；及び／又は歯のエナメル質若しくは表面下の歯のエナメル質の再石灰化の強化において使用するための、ＨＦ、１つ以上の二フッ化物、又はそれらの混合物から選択される少なくとも１つのフッ化物源；及び少なくとも１つの有機酸又はその塩を含む組成物であって、ここで、少なくとも１つの有機酸のｐＫａは２〜６の範囲にあり；組成物のｐＨが２．０〜４．５の範囲にある、上記組成物。
- 前記組成物のｐＨが、２．５〜４．０の範囲、３．０〜３．５の範囲、又は約３．５である、請求項１に記載の組成物。
- 前記組成物中に存在するフッ化物の総量が、約０．０１重量％〜約４．０重量％、約０．０１重量％〜約２．０重量％、約０．０１重量％〜約１．０重量％、約０．０１重量％〜約０．５重量％、約０．０１重量％〜約０．０５重量％、又は０．０５重量％未満である、請求項１又は２に記載の組成物。
- 前記フッ化物源がＨＦである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 前記フッ化物源が、ＮａＨＦ２、ＫＨＦ２、ＮＨ４ＨＦ２、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される二フッ化物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 前記有機酸又はその塩が、安息香酸、安息香酸ナトリウム、グリシン、グリコール酸、グルタミン酸、乳酸、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
- 前記有機酸又はその塩が、安息香酸、安息香酸ナトリウム、グリシン、及びそれらの任意の混合物からなる群から選択される、請求項６に記載の組成物。
- 前記フッ化物源がＨＦであり、前記有機酸又はその塩が安息香酸ナトリウムとグリシンの混合物である、請求項１に記載の組成物。
- 前記フッ化物源が二フッ化物であり、前記有機酸又はその塩が安息香酸ナトリウムとグリシンの混合物である、請求項１に記載の組成物。
- 前記組成物が、水溶液、ゲル、泡状体、歯磨剤、歯科用ワニス又は歯磨き粉の形態である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
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