JP2017517006A - 複合材からなるインサートを有する時計部品を製造する方法、時計部品、および時計 - Google Patents

Abstract

一つの面に穴を設けた本体を作成する工程（Ｅ０）と、前記本体に、少なくとも一部が穴の外部にある少なくとも一つの付着力強化領域を形成する処理工程（Ｅ２）と、複合材を堆積する工程（Ｅ３）とを有する方法に関する。前記堆積工程（Ｅ３）の間に、前記穴は充填され、前記付着力強化領域は前記複合材で覆われる。【選択図】図５

Description

本発明は、時計部品を製造する方法に関する。

時計制作の分野において、例えば目盛、商品名、商標記号またはその他の装飾的な特徴を形成するために、複合材からなるインサートを組み入れた時計部品の外部要素を作成することが一般的に行われる。複合材は、例えば結合剤およびセラミック粒子からなる。選択的に、発光性の材料やその他の機能性材料からなる顔料を加えることも可能である。はめ込み型の時計部品は、ケース、ガラス縁、文字盤、バンド、時計ムーブメントの部品などであってよい。時計部品は、セラミック、金属合金またはサファイアといった基盤材料から作成される。

例えば、従来のはめ込み型時計部品を製造する方法は、最初に、例えば予備成形された素地に焼結を行うことにより、セラミックからなる基板材料を使って本体を作成することからなる。その後、本体の一面に例えばレーザ切除により穴を設け、その穴に複合材を充填する。複合材はその後、加熱により重合され、十分な硬度を有するインサート材となる。方法は、最後に研磨による仕上げ工程を有し、その過程で余剰の複合材は除去され、はめ込まれた本体の面に審美性を与える。

基板材料と穴の中に配置された複合材との間の付着力は、特に複合材の収縮を伴う重合化の際に問題となる。

従来開示された、基板材料と複合材の間の付着力を向上する解決法は、穴の底の表面状態を加工することにより行われ、例えば、フェムト秒パルスレーザ アブレーション技術を用いて、微小円錐体のレギュラネットワークを形成することによって行われる（非特許文献１）。

国際公開公報第２０１３／１３５７０３号

「フェムト秒パルスレーザアブレーション技術を用いてセラミック基板にミクロンサイズの複合重合体はめ込み細工を作成することを容易にする方法」、Ｊ．Ｚｅｈｅｔｎｅｒ、Ｓ．Ｓｔｒｏｊ、Ｇ．Ｚａｎｇｈｅｌｌｉｎｉ；レーザアブレーションに関する第１２回会合、６−１１．１０．２０１３、イスキア、イタリア

本発明は、この状態をさらに改善するものである。

この目的のため、本発明は、
一つの面に穴を設けた本体を作成する工程と；
工程の過程で、前記本体に少なくとも一つの付着力強化領域を形成する、処理工程と；
工程の過程で、前記穴が充填され、前記付着力強化領域が複合材で覆われる、前記複合材を堆積する工程と；
前記複合材を重合する工程と
からなる連続工程を有し、
前記付着力強化領域は、少なくとも部分的に、前記穴の外部に位置する、
複合材からなるインサートを有する時計部品を製造する方法に関する。

付着力強化領域の目的は、材料を時計部品の本体に対して付着する力を向上させるものである。本発明によると、穴の外側に位置した本体領域の付着力を強化することができる。このケースにおける領域は、例えば、穴を含む本体の面における領域であって、穴の付近に広がる領域である。複合材を加える過程において、付着力強化領域を覆うように材料を溢れさせつつ、穴を充填する。重合化の過程において、前記外部領域の付近における複合材の付着力が向上されているため、複合材の収縮は実質的に制限される。

ある実施例によると、付着力強化領域は、付着強化テクスチャを有する領域を得るようなやり方で、本体の表面領域の表面状態を加工することにより得られる。

本発明によると、時計部品の本体の表面領域における表面状態、特にテクスチャ、は、その領域の付着力を強化するように加工される。

有利には、本方法は仕上げ工程を有し、前記仕上げ工程の過程において余剰の複合材が除去され、前記穴の外部にある前記付着力強化領域が抑制される。

堆積された複合材の余剰部分、特に穴からあふれ出た部分、は例えば研磨により除去される。付着強化テクスチャの外部領域もやはり、同じく研磨などにより除去される。

有利には、前記処理工程の過程において、少なくとも一つの付着力強化領域が形成され、該領域は前記穴の内側に広がり、特に前記穴の底の少なくとも一部およびまたは前記穴の側壁の少なくとも一部に広がる。

一つ以上の内部の付着力強化領域は、穴の底の少なくとも一部およびまたは穴の側壁の少なくとも一部に広がる。

有利には、外部にある付着力強化領域は前記穴の縁に位置する。

前記外部にある付着力強化領域は前記穴全体を囲んでもよく、または穴の周辺の一つ以上の連続しない部分を占めてもよい。最初のケースでは、最適な付着が得られる。二番目のケースでは、処理工程と仕上げ工程が促進され、継続時間が減少される。

本発明はさらに、有利には下記の追加的な特徴の全部または一部を有してもよい。
前記外部にある付着力強化領域は、前記穴の縁に対して直角に少なくとも５０μｍの幅を有する；
前記処理工程ではフェムト秒レーザ照射を用いる；
前記処理工程の過程で、前記処理が行われる領域は長手方向にレーザ走査速度を有し、横方向にレーザ走査ステップ幅を有するレーザビームによって走査され、該速度と該ステップ幅は長手方向の重なり率が２０％以上で厳密に１００％未満であり、横方向の重なり率が厳密に０％と１００％の間である；
前記レーザ走査速度は１０と３５００ｍｍ／秒の間であり、好ましくは５００と１０００ｍｍ／秒の間である；
前記レーザ走査工程幅は０．００１と０．０２ｍｍの間であり、好ましくは０．００１と０．００５ｍｍの間である；
処理が行われる領域において実行される２回のレーザ走査は、２つの異なる長手走査方向によって定義され、該２つの走査方向は１０度かそれ以上の角度分離れており、特に９０度に等しいもしくは実質的に等しい角度分離れている；
前記付着強化テクスチャの彫りの深さは０．２と２０ミクロンの間である；
前記付着強化テクスチャの粗度Ｒ_ａの平均差異は０．４と０．６ミクロンの間である；
前記付着強化テクスチャ の平均形状高さＲ_ｚは２と４ミクロンの間である；
前記穴を設けた本体は、型に材料を注入することにより得られる；
前記本体は
セラミック、特にジルコン系またはアルミニウム系セラミック、
金属合金、特にスチール（例えばスチール９０４L）、銅合金（例えば真鍮）、金合金（例えば１８金合金）またはプラチナ合金（例えばＰｔ９５０合金）、および
サファイア
を含むグループのうちの一つの材料から構成される；
前記時計部品は、ガラス縁、ケース、バンド要素、りゅうず、文字盤、時計ムーブメントの要素および時計ムーブメントのエボーシュを含むグループの要素のうちの一つである。

本発明はさらに下記に関係する。
複合材からなり穴に係合されるインサートを含む部品であって、前記穴の外部に少なくとも部分的に広がる前記複合材の少なくとも一つの付着力強化表面を含み；
複合材からなり穴に係合されるインサートを含む時計部品であって、前記穴は少なくとも底の一部およびまたは前記穴の側面の少なくとも一部に広がる付着力強化表面を含む、時計部品。

最後に、本発明は上述した時計部品のうち少なくとも一つを含む、時計に関する。

本発明は、インサートを含む時計部品を製造する方法に係る特定の実施例に関する下記の説明、および添付図面を参照することにより、詳しく理解することができる。

図１は、例えば、セラミック素地を型に注入した後、それを焼結処理する前の状態の時計部品の穴を示す図である。 図２は、付着強化テクスチャ領域を完成した後の図１に示した時計部品の穴の状態を示す図である。 図３は、複合材を充填した後の図１の穴の状態を示す図である。 図４は、仕上げ処理を施した後の図１の穴の状態を示す図である。 図５は、方法に含まれる工程のフロー図である。 図６は、付着強化テクスチャを電子走査型顕微鏡で拡大した図である。 図７は、図５に示す方法によって作成されたインサート６を有するガラス縁７の一部を示す図である。

本発明の方法により、複合材からなる一つまたは複数のインサート６を含む時計部品７を製造することができる。

時計部品７は、網羅的な記載ではないものの、以下のような時計要素であってよい：ガラス縁、ケース、バンド要素、りゅうず、文字盤、時計ムーブメントの要素または部品、および時計ムーブメントのエボーシュ（半完成品）。図７に、純粋に例示の目的で、はめ込まれた目盛６を含むガラス縁７の一部を示す。

部品７は、網羅的ではないものの、下記のリストに含まれる基板材料から作られる。
−例えばジルコニウムまたはアルミニウムをベースとする、またはその他のタイプの、セラミック；
−金属合金、特に例えばスチール９０４Ｌなどのスチール、または、例えば真鍮などの銅合金、１８金合金またはプラチナ９５０合金
−サファイア。

インサート６は、目盛や文字や数字等の機能要素であってよく、およびまたは商標記号、ブランド名、商品名、手塗等の装飾的または外部要素であってもよい。インサート６は例えば、ジメタクリレート系マトリックス等の有機マトリックス、およびセラミック粒子を含む、複合材等の材料からなる。複合材はその上、例えば着色用チャージ、発光材等の審美的およびまたは機能的役割を果たすチャージおよびまたは添加剤を含んでもよい。

はめ込まれた時計部品１を製造する方法を、図１から５を参照して以下に説明する。
明確な説明のため、ここに説明する例においては、時計部品１は一つのインサート６を有する。以下に説明する実施例は、特にセラミック製の基板材料からなるケースに関する。

最初の工程Ｅ０は、例えばジルコニウム系またはアルミニウム系のセラミックである基板材料から、図１に部分的に図示される時計部品の本体３を形成する。図１に示す実施例において、最初に基板材料を型に注入することにより、素地を作成する。ここで、定義上は、「素地」という表現は、セラミック粉と結合剤の「生の」状態にある混合材料から作成された本体として使われる（言い換えるなら、脱脂前の状態であって、本体がまだ結合剤を含んでいる状態）。注入の過程において、直接、有底の穴４が本体３の面３０に作成される。変形例として、注入後に、例えばレーザ彫刻またはケミカルエッチングまたはマシニングにより、本体３に穴４を形成してもよい。穴４は、典型的には０．１と０．６ｍｍの間の深さを有する。穴は典型的には、底４０と、側面、言い換えるなら側壁４１、を含む。図示された例において、底４０は平らで面３０に平行であり、側壁４１は底４０に対して垂直である。もちろん、底４０およびまたは側壁は、傾斜していても、平らでなくても（例えば凸状であっても）よい。特に、側面４１は、次に説明する表面処理を行いやすくするために、逃げ角を有してもよい。

この方法は次に、材料を注入された本体３に、例えば空気を使った熱処理、およびそれに続く高熱での熱処理を行う、脱脂を含む処理を行う工程Ｅ１を有する。

もちろん、穴４を有する本体３を作成するためのほかの形成、マシニングおよびまたは処理技術を用いてもよい。

処理工程Ｅ１の次には、本体３内のインサートを構成する複合材の付着力を強めることを可能とする、付着強化テクスチャを有する一つまたは複数の領域を形成するための表面処理工程が行われる。

ここに説明した特定の実施例においては、付着強化テクスチャを有する次のような領域が形成される。
−穴４の底に広がる領域Ｚ１；
−穴４の側面または側壁４１に広がる領域Ｚ２；および
−穴４の外側において、本体３の面３０から穴４の縁４２まで広がる領域Ｚ３。

それぞれの異なる領域Ｚ１、Ｚ２およびＺ３はつながっており、言い換えるならそれぞれ連なって広がっている。

外側領域Ｚ３は面３０上を、穴４の外側縁４２に沿って広がっている。外側領域Ｚ３は穴４の全体を囲む外部境界を形成する。その幅は、「幅」という表現を穴の縁に垂直な領域Ｚ３の寸法を示すと理解すると、少なくとも５０μｍである。しかしながら、その幅は穴４の周辺に沿って異なっていてもかまわない。変形例として、外側領域Ｚ３は次の特徴のすべてまたは一部を有してもよい。
−外側領域Ｚ３は穴４の縁４２の一部に沿って広がってもよい；
−外側領域Ｚ３は穴４の周りの断続的な複数の部分からなってもよい；
−外側領域Ｚ３は穴４の縁４２から少し離れてもよい；
−外側領域Ｚ３は、穴の外側縁と時計部品の表面の縁との間の距離または穴の外側縁と隣接して配置された別の穴（もし複数の穴がある場合は、最も近い穴）との間の距離のうち、短いほうの距離と比較して、その距離よりも厳密に小さい距離分穴の外側縁から離れた場所にある覆いの中に含まれる。究極には、領域Ｚ３の広がる範囲は、部品の表面全体を覆うものではない；
−最後に、外側領域Ｚ３の全部または一部は穴４から最小の幅分広がり、例えばその幅は少なくとも５０μｍであり、およびまたは穴から最大幅以上は延びず、特に１００μｍまたは２００μｍと同じもしくはそれより短い。

この場合、領域Ｚ２は穴４の側面４１の全部を覆う。変形例として、領域Ｚ２は側壁４１の一部を覆ってもよい。

この場合、領域Ｚ１は穴４の底４０を覆う。変形例として、領域Ｚ１は底４０の一部のみに広がる。

しかしながら、一つのみの付着強化領域、または、一つは外部、もう一つは内部の（内部領域は例えば穴の底部もしくは側面に広がる）二つの付着強化領域を有してもよい。

この場合において、付着強化テクスチャを有する一つ以上の領域は、表面状態の加工、言い換えれば本体３の表面領域をテクスチャ付けすることにより形成され、付着表面の増加をもたらす。例えば、テクスチャ付けは超短波パルスレーザ照射、特にフェムト秒パルスにより実行される。

フェムト秒パルスレーザにより得られるテクスチャ付けはあまり深くない。付着強化テクスチャの彫りの深さは、例えば０．２と２０ミクロンの間である。加えて、付着強化テクスチャは好ましくは、粗度Ｒ_ａの平均差異が０．４と０．６ミクロンの間であって平均形状高さＲ_ｚが２と４ミクロンの間であり、粗度パラメータＲ_ａとＲ_ｚは国際標準ＩＳＯ４２８７に定義されるとおりである。浅いレーザテクスチャ付けを行うことにより、基板（つまり本体３）の機械抵抗を維持することができる。電子走査型顕微鏡によって拡大された、付着強化テクスチャを図６に示す。フェムト秒パルスレーザ照射を用いることにより、一方では、例えばサンドブラストによって得られる状態より細かくテクスチャ付けられた表面状態を得ることができ、また他方では、例えばナノ秒台の長いレーザ照射により加えられる熱による影響を最小にし、もしくは避けることを可能とする。加えて、全体として得られる付着力表面を形成する露出表面は、例えばサンドブラストによって得られるであろう表面に比べてずっと大きい。

純粋なる例示として、赤外線領域の発光を行うフェムトレーザ発光装置であって、１０３０ｎｍに等しい波長を有し、１５μＪ以上、例えば４０μＪの平均エネルギーを供給するレーザ発光装置を、４５０フェムト秒より短いパルス長さで目標領域に用いることができる。より一般的なレベルにおいては、用いられるレーザ装置は好ましくは１８×１０^６ＭＷｃｍ^−２かそれ以上の出力密度を実現するものである。

特許文献１に記載のように、目標領域（Ｚ１、Ｚ２およびまたはＺ３）にテクスチャ付けするために、「長手」と表現される第一方向に走査速度を有し、長手方向に実質的に垂直な「横」と表現される第二方向に走査ステップ幅を有するレーザビームを用いて、該領域を走査する。走査過程において、レーザビームは距離Ｌ’（Ｌ’は走査ステップ幅に対応する）分離れた連続する線を走査し、各線は一般的に丸形状を有する連続するレーザ衝撃からなり、それぞれの中心は、二つ一組で、距離Ｌ分離されている。距離ＬおよびＬ’、および目標領域におけるレーザビームの焦点半径Ｒ_ｆｏｃにより、特許文献１に記載された通り、下記の関係式に基づいて、長手方向の重なり率Ｏを決定することができる。

横重なり率Ｏ’ (つまり第二横方向における)も似たような方法で定義され、上述の関係式におけるＬをＬ’ に置き換えることにより得られる。

長手重なり率は有利には２０％以上であり厳密に１００％より少なく、言い換えるなら２０％
Ｏ＜１００％である。横重なり率は厳密に０％と１００％の間であり、言い換えるなら０％＜Ｏ’ １００％である。

純粋な例として、図６に示したテクスチャは平均直径が２７．３ミクロンのレーザビームを、長手重なり率５４％および横重なり率７６．８１で単純に走査することにより得られた。

レーザ走査の長手速度は１０と３５００ｍｍ／秒の間であってよく、好ましくは５００と１０００ｍｍ／秒の間である。レーザ走査の横ステップ幅は０．００１と０．０２ｍｍの間であってよく、好ましくは０．００１と０．００５ｍｍの間である。

特許文献１に記載されるように、「ハッチ」または「シンプルハッチ」走査とも呼ばれる、一長手方向への単純なレーザ走査、または「クロスハッチ」走査とも呼ばれる、第一長手方向とその後の第二長手方向に向けての、互いに１０度もしくはそれ以上の角度分離れており、例えば９０度もしくはほぼ９０度の角度分離れている、交差レーザ走査を、処理すべき目標領域に実施することができる。

次に、穴４に複合材を堆積させる工程Ｅ３が行われる。工程Ｅ３の過程で、穴４には、ある程度の粘性を有する、ペースト状の懸濁液の状態にある複合材５が、穴４から溢れて少なくとも外側領域Ｚ３の一部を覆うような状態で充填される。

堆積工程Ｅ３の次に、重合工程Ｅ４が行われる。工程Ｅ４は、例えば、適度な圧力および制御された雰囲気下で、堆積された複合材を加熱することによって行われる。

次に仕上げ工程Ｅ５が行われ、その過程で、穴４の外部にある余剰の複合材、つまり穴４から溢れた複合材が除去され、外部の付着力強化領域テクスチャＺ３が抑えられる。ステップＥ５は、例えば研磨、再加工またはマシニングによって実行される。

前述の説明において、付着力強化領域（Ｚ１、Ｚ２およびまたはＺ３）はフェムト秒パルスレーザによって形成される。あるいは、インサートの付着力を向上させるためにＺ１、Ｚ２およびＺ３の表面状態およびテクスチャを加工する代わりに、前記領域Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の全部または一部を、複合材の付着を向上させる接続層で覆うことも可能である。この層は、素材間の結合性を向上させるための通常の接続層であってよく、または例えばセラミック粉と炭素の混合材料を、本体３への材料注入後であって焼結前に、堆積することにより形成された多孔性の層であってもよい。このような接続層は、付着強化テクスチャの代わりに形成されてもよく、または付着テクスチャ上に追加されてもよい。

別の実施例において、インサート６を収容する穴は、全体にもしくは一部に形成された横断要素を構成する。この穴は、例えば、部品の表面に配置されて部品内に複数の横または縦の中空足部を経て下向きに延びる上側凹部を構成し、インサートの素材に対する付着力をさらに保障するものである。（円錐の円錐台のより小さな部分の先端が上側凹部に入る）上側凹部または円錐台形の足部に向かって流入するのとは反対の足部の先端に座ぐりを設けることにより、離層のリスクを減らすことができる。

他の実施例としては、セラミック以外の基板材料 を使用することができる。例えば、特にスチール（例えばスチール９０４Ｌ）や、銅合金（例えば真鍮）や、１８金合金や、Ｐｔ９５０合金などの金属合金を使用してもよい。さらには、ＮｉやＮｉＰなどの、電鋳技術で得られた材料や、シリコン、水晶やダイヤモンドなど微細加工技術によるマシニングが可能な材料を使用してもよい。下記に記した例は、特にセラミック製の基板材料からなるケースに関するが、特に穴を有する本体を形成する技術を用いて、テクスチャ付けの条件のもと、接続層を設け、重合の条件または仕上げの条件およびまたは手段を適用することにより、セラミック以外のいかなる材料にも適用可能である。

材料や処理の条件によって、凹部の底に着色が得られ、複合材によって得られる見た目を変更することができる。例えば、発光する複合材の発光を増大するために適切なレーザ処理を行うことにより凹部の底に白い表面を形成したり、または複合材の色彩を変更するために適切なレーザ処理を行うことにより凹部の底に白または黒の表面を形成することができる。

さらに、本発明に係る方法を、例えばそれぞれ異なる複合材からなる複数のインサートを作成する場合や、第一複合材からなる第一インサート内に第二複合材からなる第二インサートを作成する場合など、様々な場合に実施することができる。このことにより、異なるテクスチャおよびまたは色およびまたは機能を有する複合材を結合することができる。

本発明はまた、一つまたは複数の付着力強化領域を有する穴に収容された複合材からなるインサートを含む時計部品であって、付着力領域は穴の底全部または一部および穴の一つ以上の側面の少なくとも一部に広がっている時計部品に関し、特にここで説明された方法によって得られた時計部品７に関する。

本発明はさらに、穴に収容された複合材からなるインサートを含み、穴の外に少なくとも一部広がる、少なくとも一つの強化複合材付着力表面を有する時計部品に関する。本発明に係る部品は、前述の方法で作成された中間状態の部品、または穴から溢れた余剰の複合材が望ましい審美的効果を生むために保持した部品であってもよい。

最後に、本発明は上記に定義された時計部品を含む時計に関する。

第一の材料とは異なる第二の材料から作成されたインサートを設けた、単一の材料から作成された時計部品の製造という表現を用いることにより、上述した製造方法をより一般的に表現することも可能である。例えば、インサートはプラスチック材、ゴムまたはその他の材料から作成可能である。

Claims (20)

1. 一つの面（３０）に穴（４）を設けた本体（３）を作成する工程（Ｅ０）と；
   工程の過程で、前記本体（３）に少なくとも一つの付着力強化領域（Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３）を形成する、処理工程（Ｅ２）と；
   工程の過程で、前記穴（４）が充填され、前記付着力強化領域が複合材（５）で覆われる、前記複合材（５）を堆積する工程（Ｅ３）と；
   前記複合材（５）を重合する工程と；
   からなる連続工程を有し、
   前記付着力強化領域（Ｚ３）は、少なくとも部分的に、前記穴（４）の外部に位置する、
   複合材からなるインサート（６）を有する時計部品（７）を製造する方法。
2. 前記付着力強化領域（Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３）は、付着強化テクスチャを有する領域を得るように、前記本体（３）の表面領域の表面状態を加工する（Ｅ１）ことにより得られる、
   請求項１に記載の方法。
3. 仕上げ工程（Ｅ５）を有し、前記仕上げ工程の過程において余剰の複合材（５）が除去され、前記穴（４）の外部にある前記付着力強化領域（Ｚ３）が抑制される、
   請求項１または２に記載の方法。
4. 前記処理工程（Ｅ２）の過程において、少なくとも一つの付着力強化領域（Ｚ１、Ｚ２）が形成され、該領域は前記穴（４）の内側に広がり、特に前記穴の底の少なくとも一部およびまたは前記穴（４）の側壁（４１）の少なくとも一部に広がる、
   請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記外部にある付着力強化領域（Ｚ３）は前記穴（４）の縁（４２）に位置する、
   請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記外部にある付着力強化領域は前記穴（４）全体を囲む、
   請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記外部にある付着力強化領域（Ｚ３）は、前記穴の縁に対して直角に、少なくとも５０μｍの幅を有する、
   請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記外部にある付着力強化領域（Ｚ３）は前記時計部品（７）の表面全体を覆うものではない、
   請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記外部の付着力強化領域（Ｚ３）は覆いに含包され、該覆いは、前記穴の外側縁と前記時計部品の表面の縁との間の距離、または前記穴の外側縁と隣接する別の穴、特に一番近くにある隣接する穴、の外側縁との間の距離のうち、短い方の距離を考慮して、それより厳密に短い距離分、前記穴の外側縁から離れている、
   請求項８に記載の方法。
10. 前記外部の付着力強化領域（Ｚ３）の全部または一部は、前記穴（４）の縁に対して直角に、１００μｍ以下、または２００μｍ以下に設定された、最大幅分広がる、
    請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
11. 前記処理工程（Ｅ２）は、フェムト秒レーザ照射を用いる、
    請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 前記処理工程（Ｅ２）の過程で、前記処理が行われる領域は長手方向にレーザ走査速度を有し、横方向にレーザ走査ステップ幅を有するレーザビームによって走査され、該速度と該ステップ幅は長手方向の重なり率が２０％以上で厳密に１００％未満であり、横方向の重なり率が厳密に０％と１００％の間である、
    請求項１１に記載の方法。
13. 前記処理が行われる領域において実行される２回のレーザ走査は、２つの異なる長手走査方向によって定義され、該２つの走査方向は１０度かそれ以上の角度分離れており、特に９０度に等しいもしくは実質的に等しい角度分離れている、
    請求項１１か１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 前記付着強化テクスチャの彫りの深さは、０．２と２０ミクロンの間である、
    請求項２から１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記穴（４）を設けた本体（３）は、型に材料を注入することにより得られる、
    請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 前記本体（３）は
    −セラミック、特にジルコン系またはアルミニウム系セラミック、
    −金属合金、特にスチール、銅合金、金合金またはプラチナ合金、および
    −サファイア
    を含むグループのうちの一つの材料から構成される、
    請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記時計部品（７）は、ガラス縁、ケース、バンド要素、りゅうず、文字盤、時計ムーブメントの要素および時計ムーブメントのエボーシュを含むグループの要素のうちの一つである、
    請求項１から１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 複合材からなり穴（４）に係合されるインサート（６）を含む時計部品であって、前記穴（４）の外部に広がる前記複合材の少なくとも一つの付着力強化表面を含み、少なくとも一つの付着力強化表面は前記穴の内部に広がり、特に前記穴（４）の底（４０）の少なくとも一部およびまたは前記穴（４）の側面の少なくとも一部に広がる、時計部品。
19. 前記付着力強化表面は、
    −前記時計部品（７）の表面の全部を覆うことなく、およびまたは
    −覆いに含包され、該覆いは、前記穴の外側縁と前記時計部品の表面の縁との間の距離、または前記穴の外側縁と隣接する別の穴、特に一番近くにある隣接する穴、の外側縁との間の距離のうち、短い方の距離を考慮して、それより厳密に短い距離分、前記穴の外側縁から離れており、およびまたは
    −前記穴の縁に対して直角に、少なくとも５０μｍである最小幅分広がり、およびまたは
    −前記穴の縁に対して直角に、１００μｍ以下である、または２００μｍ以下である、最大幅分広がる、
    請求項１８に記載の時計部品。
20. 請求項１８または１９に記載の時計部品（７）を含む、時計。