JP2017513803A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 入口（１６；２６１）及び出口（１７；２７２）を有する超高純度（ＵＨＰ）二酸化炭素浄化システム（１０；２０）であって、前記入口（１６；２６１）に最も近いその上部は、担持された酸化ニッケルで少なくとも部分的に満たされており、前記出口（１７；２７２）に最も近いその下部は、担持された酸化パラジウムで少なくとも部分的に満たされており、前記浄化システムの前記上部及び前記下部は物理的な分離を有しているが、流体連通にあることを特徴とする、超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
2. 前記物理的な分離及び流体連通は、前記上部と前記下部との間に挿入された、金属メッシュ、多孔性隔膜、スクリーングリッド、粒子フィルタ（１２）または有孔金属シートの一つ以上によって達成される、請求項１に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０）。
3. 前記物理的な分離及び流体連通は、入口（２６１）及び出口（２７１）を有する、担持された酸化ニッケルで少なくとも部分的に満たされている第１の容器（２１１）によって達成されており、その出口（２７１）は担持された酸化パラジウムで少なくとも部分的に満たされている第２の容器（２１２）の入口（２６２）と連通している、請求項１に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（２０）。
4. 前記担持された酸化ニッケルと前記担持された酸化パラジウムの重量比は、１０から０．１、好ましくは５から０．２である、請求項１から３のいずれか一項に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
5. 前記上部体積の少なくとも２０％は担持された酸化ニッケルで満たされており、前記下部体積の少なくとも２０％は担持された酸化パラジウムで満たされている、請求項１から４のいずれか一項に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
6. 前記システム（１０；２０）は、少なくとも１つのヒーター及び１つの温度検出装置を備えている、請求項１から５のいずれか一項に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
7. 酸素添加の入口をさらに含んでいる、請求項１から６のいずれか一項に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
8. サンプリングポート（１５；２５）をさらに含んでいる、請求項１から７のいずれか一項に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）。
9. 前記サンプリングポート（２５）は、前記第１の容器（２１１）の前記入口（２６１）と前記第２の容器（２１２）の前記入口（２６２）との間に置かれている、請求項３及び８に記載の超高純度二酸化炭素浄化システム（２０）。
10. 請求項１に基づく超高純度二酸化炭素浄化システム（１０；２０）に高純度グレードまたはそれ以上の二酸化炭素を供給するステップを含む、高純度（ＨＰ）二酸化炭素を超高純度（ＵＨＰ）レベルまで浄化または予浄化するための方法。
11. 最大で５０ｐｐｍの酸素が、流入する高純度二酸化炭素の気体の流れに添加される、請求項１０に記載の方法。
12. 前記浄化システム（１０；２０）は、１５０℃から４００℃、好ましくは２７５℃から３５０℃の温度で加熱される、請求項１０または１１に記載の方法。
13. 前記浄化システム（２０）が、担持された酸化ニッケルで少なくとも部分的に満たされた第１の容器（２１１）及び担持された酸化パラジウムで少なくとも部分的に満たされた第２の容器（２１２）を含む場合、前記第１の容器（２１１）は、１５０℃から４００℃、より好ましくは２００℃から３５０℃の温度で加熱され、前記第２の容器（２１２）は、２５０℃から４００℃、より好ましくは２７５℃から３５０℃の温度で加熱される、請求項１２に記載の方法。