JP2017508640A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017508640A5 JP2017508640A5 JP2016547038A JP2016547038A JP2017508640A5 JP 2017508640 A5 JP2017508640 A5 JP 2017508640A5 JP 2016547038 A JP2016547038 A JP 2016547038A JP 2016547038 A JP2016547038 A JP 2016547038A JP 2017508640 A5 JP2017508640 A5 JP 2017508640A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming portion
- template
- item
- thermally stable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 17
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
Description
本明細書に引用されるすべての参考文献及び刊行物は、それらが本開示と直接矛盾し得る場合を除き、それらの全容が参照により本明細書に明示的に組み込まれる。以上、本明細書において具体的な実施形態について例示及び説明したが、様々な代替的及び/又は等価的な実施形態を図示及び説明した具体的な実施形態に本開示の範囲から逸脱することなく置き換えうる点は当業者には認識されるであろう。本出願は、本明細書において検討される具体的な実施形態のいかなる適合例又は変形例をも網羅しようとするものである。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその等価物によってのみ限定されるものとする。開示される実施形態は例示の目的で示されるものであり、限定を目的とするものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目[1]−[24]に記載する。
[1]
転写フィルムであって、
キャリアフィルムと、
前記キャリアフィルム上に配置され、かつ反射防止ナノ構造テンプレート形成部を含む、犠牲テンプレート層と、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む転写フィルム。
[2]
前記熱的に安定な分子種がオルガノシリコンポリマーを含む、項目1に記載の転写フィルム。
[3]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、反射防止ナノ構造を有する熱的に安定なバックフィル層を残しつつ、ベイクアウトが可能である、項目1に記載の転写フィルム。
[4]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、異方性のナノスケール形成部を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[5]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、ナノウィスカー構造を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[6]
前記ナノウィスカー構造が、ペリレンナノウィスカーを含む、項目5に記載の転写フィルム。
[7]
前記キャリアフィルムが、前記犠牲テンプレート層から前記キャリアフィルムを分離する剥離層を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[8]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、前記犠牲テンプレート層のミクロ構造テンプレート形成部上に配置される、項目1に記載の転写フィルム。
[9]
転写フィルムの形成方法であって、
犠牲材料の層を反応性イオンエッチングして、反射防止ナノ構造テンプレート形成部を形成することと、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部上に熱的に安定なバックフィル材料をコーティングして、前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有し、積層転写フィルムを形成する、熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む、方法。
[10]
前記反応性イオンエッチング工程の前に、前記犠牲材料層をキャリアフィルムの剥離面上に配置することを更に含む、項目9に記載の方法。
[11]
前記反応性イオンエッチング工程が、前記犠牲材料層の第1表面上に不連続なランダムマスキング層を適用して、かつ、前記犠牲材料層の前記マスキング層によって保護されていない部分を反応性イオンエッチングして、前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部を形成することを含む、項目9に記載の方法。
[12]
転写フィルムの形成方法であって、
反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部を含む犠牲材料テンプレート層を、キャリアフィルムの剥離面上に付着させることと、
前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部上に熱的に安定なバックフィル材料をコーティングして、前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有し、積層転写フィルムを形成する、熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む、方法。
[13]
前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部が、ペリレンにより形成される、項目12に記載の方法。
[14]
レセプタ基板に請求項1に記載の転写フィルムの平面状の第2表面を積層することと、
前記犠牲テンプレート層をベイクアウトして、反射防止ナノ構造を有する熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む方法。
[15]
前記ベイクアウト工程前に、前記犠牲テンプレート層から前記キャリアフィルムを除去することを更に含む、項目14に記載の方法。
[16]
前記反射防止ナノ構造形成部が、前記熱的に安定なバックフィル層のミクロ構造形成部上に配置される、項目14に記載の方法。
[17]
前記レセプタ基板がガラスである、項目14に記載の方法。
[18]
前記レセプタ基板がサファイアである、項目14に記載の方法。
[19]
光学物品であって、
サファイア材の層と、
前記サファイア材の層に固定された反射防止ナノ構造形成部を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む物品。
[20]
前記熱的に安定なバックフィル層が、オルガノシリコンポリマーを含む、項目19に記載の光学物品。
[21]
前記熱的に安定なバックフィル層が、ジルコニア、チタニア、アルミナ、炭化ホウ素、又は炭化ケイ素を含む、項目20に記載の光学物品。
[22]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、異方性のナノスケール形成部を含む、項目19に記載の光学物品。
[23]
前記反射防止ナノ構造形成部が、前記熱的に安定なバックフィル層のミクロ構造形成部上に配置される、項目19に記載の光学物品。
[24]
前記熱的に安定なバックフィル層が、ジルコニア、チタニア、アルミナ、炭化ホウ素、又は炭化ケイ素を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[1]
転写フィルムであって、
キャリアフィルムと、
前記キャリアフィルム上に配置され、かつ反射防止ナノ構造テンプレート形成部を含む、犠牲テンプレート層と、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む転写フィルム。
[2]
前記熱的に安定な分子種がオルガノシリコンポリマーを含む、項目1に記載の転写フィルム。
[3]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、反射防止ナノ構造を有する熱的に安定なバックフィル層を残しつつ、ベイクアウトが可能である、項目1に記載の転写フィルム。
[4]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、異方性のナノスケール形成部を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[5]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、ナノウィスカー構造を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[6]
前記ナノウィスカー構造が、ペリレンナノウィスカーを含む、項目5に記載の転写フィルム。
[7]
前記キャリアフィルムが、前記犠牲テンプレート層から前記キャリアフィルムを分離する剥離層を含む、項目1に記載の転写フィルム。
[8]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、前記犠牲テンプレート層のミクロ構造テンプレート形成部上に配置される、項目1に記載の転写フィルム。
[9]
転写フィルムの形成方法であって、
犠牲材料の層を反応性イオンエッチングして、反射防止ナノ構造テンプレート形成部を形成することと、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部上に熱的に安定なバックフィル材料をコーティングして、前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有し、積層転写フィルムを形成する、熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む、方法。
[10]
前記反応性イオンエッチング工程の前に、前記犠牲材料層をキャリアフィルムの剥離面上に配置することを更に含む、項目9に記載の方法。
[11]
前記反応性イオンエッチング工程が、前記犠牲材料層の第1表面上に不連続なランダムマスキング層を適用して、かつ、前記犠牲材料層の前記マスキング層によって保護されていない部分を反応性イオンエッチングして、前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部を形成することを含む、項目9に記載の方法。
[12]
転写フィルムの形成方法であって、
反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部を含む犠牲材料テンプレート層を、キャリアフィルムの剥離面上に付着させることと、
前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部上に熱的に安定なバックフィル材料をコーティングして、前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有し、積層転写フィルムを形成する、熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む、方法。
[13]
前記反射防止ナノウィスカーテンプレート形成部が、ペリレンにより形成される、項目12に記載の方法。
[14]
レセプタ基板に請求項1に記載の転写フィルムの平面状の第2表面を積層することと、
前記犠牲テンプレート層をベイクアウトして、反射防止ナノ構造を有する熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む方法。
[15]
前記ベイクアウト工程前に、前記犠牲テンプレート層から前記キャリアフィルムを除去することを更に含む、項目14に記載の方法。
[16]
前記反射防止ナノ構造形成部が、前記熱的に安定なバックフィル層のミクロ構造形成部上に配置される、項目14に記載の方法。
[17]
前記レセプタ基板がガラスである、項目14に記載の方法。
[18]
前記レセプタ基板がサファイアである、項目14に記載の方法。
[19]
光学物品であって、
サファイア材の層と、
前記サファイア材の層に固定された反射防止ナノ構造形成部を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む物品。
[20]
前記熱的に安定なバックフィル層が、オルガノシリコンポリマーを含む、項目19に記載の光学物品。
[21]
前記熱的に安定なバックフィル層が、ジルコニア、チタニア、アルミナ、炭化ホウ素、又は炭化ケイ素を含む、項目20に記載の光学物品。
[22]
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、異方性のナノスケール形成部を含む、項目19に記載の光学物品。
[23]
前記反射防止ナノ構造形成部が、前記熱的に安定なバックフィル層のミクロ構造形成部上に配置される、項目19に記載の光学物品。
[24]
前記熱的に安定なバックフィル層が、ジルコニア、チタニア、アルミナ、炭化ホウ素、又は炭化ケイ素を含む、項目1に記載の転写フィルム。
Claims (4)
- 転写フィルムであって、
キャリアフィルムと、
前記キャリアフィルム上に配置され、かつ反射防止ナノ構造テンプレート形成部を含む、犠牲テンプレート層と、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む転写フィルム。 - 前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部が、反射防止ナノ構造を有する熱的に安定なバックフィル層を残しつつ、ベイクアウトが可能である、請求項1に記載の転写フィルム。
- 転写フィルムの形成方法であって、
犠牲材料の層を反応性イオンエッチングして、反射防止ナノ構造テンプレート形成部を形成することと、
前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部上に熱的に安定なバックフィル材料をコーティングして、前記反射防止ナノ構造テンプレート形成部に適合する第1表面及び反対側の平面状の第2表面を有し、積層転写フィルムを形成する、熱的に安定なバックフィル層を形成することと、を含む、方法。 - 光学物品であって、
サファイア材の層と、
前記サファイア材の層に固定された反射防止ナノ構造形成部を有する、熱的に安定なバックフィル層と、を含む物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/159,253 | 2014-01-20 | ||
US14/159,253 US20150202834A1 (en) | 2014-01-20 | 2014-01-20 | Lamination transfer films for forming antireflective structures |
PCT/US2015/010730 WO2015122975A2 (en) | 2014-01-20 | 2015-01-09 | Lamination transfer films for forming antireflective structures |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017508640A JP2017508640A (ja) | 2017-03-30 |
JP2017508640A5 true JP2017508640A5 (ja) | 2018-02-22 |
Family
ID=53544016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016547038A Withdrawn JP2017508640A (ja) | 2014-01-20 | 2015-01-09 | 反射防止構造を形成する積層転写フィルム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20150202834A1 (ja) |
EP (1) | EP3097441B1 (ja) |
JP (1) | JP2017508640A (ja) |
KR (1) | KR102352466B1 (ja) |
CN (1) | CN105917253B (ja) |
WO (1) | WO2015122975A2 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9708713B2 (en) * | 2013-05-24 | 2017-07-18 | Applied Materials, Inc. | Aerosol deposition coating for semiconductor chamber components |
WO2015108773A1 (en) * | 2014-01-20 | 2015-07-23 | 3M Innovative Properties Company | Lamination transfer films for forming reentrant structures |
US10513881B2 (en) | 2014-01-22 | 2019-12-24 | 3M Innovative Properties Company | Microoptics for glazing |
TW201539736A (zh) | 2014-03-19 | 2015-10-16 | 3M Innovative Properties Co | 用於藉白光成色之 oled 裝置的奈米結構 |
KR102279239B1 (ko) * | 2014-07-25 | 2021-07-19 | 삼성전자주식회사 | 임프린트 공정을 이용한 역상 패턴 전사방법 |
US9472788B2 (en) | 2014-08-27 | 2016-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Thermally-assisted self-assembly method of nanoparticles and nanowires within engineered periodic structures |
WO2016064565A1 (en) | 2014-10-20 | 2016-04-28 | 3M Innovative Properties Company | Insulated glazing units and microoptical layer comprising microstructured diffuser and methods |
US10518512B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-12-31 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming dual-cure nanostructure transfer film |
US10106643B2 (en) | 2015-03-31 | 2018-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Dual-cure nanostructure transfer film |
US9844906B2 (en) * | 2015-12-10 | 2017-12-19 | S.D. Warren Company | Release webs and textured products |
JP7040864B2 (ja) | 2016-10-28 | 2022-03-23 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品 |
CN210642706U (zh) | 2017-09-29 | 2020-06-02 | 耐克创新有限合伙公司 | 鞋类物品 |
EP3732733A1 (en) * | 2017-12-29 | 2020-11-04 | 3M Innovative Properties Company | Anti-reflective surface structures |
EP3735574A1 (en) * | 2018-01-05 | 2020-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Stray light absorbing film |
CN108710164B (zh) * | 2018-05-25 | 2019-08-13 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 红外宽带减反射微结构及其制备方法 |
CN110194436A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-09-03 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种在有机材料表面制备抗反射微纳结构的方法 |
EP3969947A1 (en) | 2019-06-26 | 2022-03-23 | Nike Innovate C.V. | Structurally-colored articles and methods for making and using structurally-colored articles |
US20210022444A1 (en) | 2019-07-26 | 2021-01-28 | Nike, Inc. | Structurally-colored articles and methods for making and using structurally-colored articles |
EP4044860A1 (en) | 2019-10-21 | 2022-08-24 | Nike Innovate C.V. | Structurally-colored articles |
WO2021152479A1 (en) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured article |
WO2021243220A2 (en) | 2020-05-29 | 2021-12-02 | Nike, Inc. | Structurally-colored articles and methods for making and using structurally-colored articles |
JPWO2022019264A1 (ja) * | 2020-07-22 | 2022-01-27 | ||
US11241062B1 (en) | 2020-08-07 | 2022-02-08 | Nike, Inc. | Footwear article having repurposed material with structural-color concealing layer |
US11129444B1 (en) | 2020-08-07 | 2021-09-28 | Nike, Inc. | Footwear article having repurposed material with concealing layer |
US11889894B2 (en) | 2020-08-07 | 2024-02-06 | Nike, Inc. | Footwear article having concealing layer |
CN116710272A (zh) * | 2020-12-18 | 2023-09-05 | 3M创新有限公司 | 结构化膜和使用结构化膜在基底上形成图案的方法 |
Family Cites Families (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA677797A (en) | 1955-11-18 | 1964-01-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sheet material having a pressure-sensitive adhesive coating of acrylate ester copolymer |
CA1254238A (en) | 1985-04-30 | 1989-05-16 | Alvin P. Gerk | Process for durable sol-gel produced alumina-based ceramics, abrasive grain and abrasive products |
US5039561A (en) | 1986-08-25 | 1991-08-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for preparing an article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures |
US5234740A (en) | 1991-08-28 | 1993-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Slip control sheeting and articles covered with same |
JP3444053B2 (ja) | 1995-10-13 | 2003-09-08 | ソニー株式会社 | 薄膜半導体装置 |
US6329058B1 (en) | 1998-07-30 | 2001-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Nanosize metal oxide particles for producing transparent metal oxide colloids and ceramers |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
US6521324B1 (en) * | 1999-11-30 | 2003-02-18 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer of microstructured layers |
US6858253B2 (en) | 2001-05-31 | 2005-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Method of making dimensionally stable composite article |
US6849558B2 (en) | 2002-05-22 | 2005-02-01 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Replication and transfer of microstructures and nanostructures |
US20050126766A1 (en) * | 2003-09-16 | 2005-06-16 | Koila,Inc. | Nanostructure augmentation of surfaces for enhanced thermal transfer with improved contact |
US7419912B2 (en) * | 2004-04-01 | 2008-09-02 | Cree, Inc. | Laser patterning of light emitting devices |
US7241437B2 (en) | 2004-12-30 | 2007-07-10 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia particles |
DE102005017170B4 (de) | 2005-04-13 | 2010-07-01 | Ovd Kinegram Ag | Transferfolie, Verfahren zu deren Herstellung sowie Mehrschichtkörper und dessen Verwendung |
US20060270806A1 (en) | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Hale Wesley R | Miscible high Tg polyester/polymer blend compositions and films formed therefrom |
EP1904932A4 (en) | 2005-06-17 | 2013-02-27 | Univ North Carolina | METHODS, SYSTEMS AND MATERIALS FOR MANUFACTURING NANOPARTICLES |
US7569254B2 (en) | 2005-08-22 | 2009-08-04 | Eastman Kodak Company | Nanocomposite materials comprising high loadings of filler materials and an in-situ method of making such materials |
US20070116934A1 (en) | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Miller Scott M | Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
JP5041732B2 (ja) * | 2006-05-16 | 2012-10-03 | アルプス電気株式会社 | 発光体及びその製造方法 |
US7604916B2 (en) | 2006-11-06 | 2009-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Donor films with pattern-directing layers |
US20080233404A1 (en) | 2007-03-22 | 2008-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Microreplication tools and patterns using laser induced thermal embossing |
US20090015142A1 (en) | 2007-07-13 | 2009-01-15 | 3M Innovative Properties Company | Light extraction film for organic light emitting diode display devices |
KR101531053B1 (ko) * | 2007-08-10 | 2015-06-25 | 한국전자통신연구원 | 다중 안테나 선택 기법을 이용한 적응 변조 장치 및 방법 |
CN101795840B (zh) | 2007-09-06 | 2013-08-07 | 3M创新有限公司 | 形成模具的方法以及使用所述模具形成制品的方法 |
US8236668B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing SOI substrate |
US20090263668A1 (en) | 2008-04-21 | 2009-10-22 | 3M Innovative Properties Company | Durable coating of an oligomer and methods of applying |
TWI365812B (en) * | 2008-10-23 | 2012-06-11 | Compal Electronics Inc | Transfer film, method of manufacturing the same, transfer method and object surface structure |
US8222352B2 (en) * | 2008-12-24 | 2012-07-17 | Nitto Denko Corporation | Silicone resin composition |
CN106185793A (zh) * | 2008-12-30 | 2016-12-07 | 3M创新有限公司 | 纳米结构化制品和制备纳米结构化制品的方法 |
CN102325718B (zh) | 2008-12-30 | 2013-12-18 | 3M创新有限公司 | 制备纳米结构化表面的方法 |
JP6174300B2 (ja) * | 2008-12-30 | 2017-08-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止物品及びこれを作製する方法 |
US8933526B2 (en) * | 2009-07-15 | 2015-01-13 | First Solar, Inc. | Nanostructured functional coatings and devices |
US8499810B2 (en) | 2009-08-27 | 2013-08-06 | Transfer Devices Inc. | Molecular transfer lithography apparatus and method for transferring patterned materials to a substrate |
JP5573069B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2014-08-20 | 大日本印刷株式会社 | 保護層転写シート |
CN102712140B (zh) * | 2010-01-13 | 2015-06-03 | 3M创新有限公司 | 具有微结构化低折射率纳米空隙层的光学膜及其方法 |
KR20130037668A (ko) | 2010-03-03 | 2013-04-16 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 나노구조 표면을 갖는 복합 다층 구조체 |
JP2011221470A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Sony Corp | 光学素子、およびその製造方法、表示装置、ならびに太陽電池 |
EP2566681B1 (en) | 2010-05-03 | 2018-09-26 | 3M Innovative Properties Company | Method of making a nanostructure |
US20110305787A1 (en) | 2010-06-11 | 2011-12-15 | Satoshi Ishii | Stamper for transfer of microscopic structure and transfer apparatus of microscopic structure |
KR101140051B1 (ko) * | 2010-07-01 | 2012-05-02 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 소자 및 그 형성 방법 |
US8469551B2 (en) | 2010-10-20 | 2013-06-25 | 3M Innovative Properties Company | Light extraction films for increasing pixelated OLED output with reduced blur |
WO2012125324A1 (en) | 2011-03-14 | 2012-09-20 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured articles |
SG192879A1 (en) | 2011-03-14 | 2013-09-30 | 3M Innovative Properties Co | Multilayer nanostructured articles |
EP2744857B1 (en) | 2011-08-17 | 2016-04-27 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured articles and methods to make the same |
EP2831155A1 (en) * | 2012-03-26 | 2015-02-04 | 3M Innovative Properties Company | Article and method of making the same |
WO2013148031A1 (en) | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured material and method of making the same |
CN104487873B (zh) * | 2012-05-15 | 2016-08-24 | 欧海燕 | 纳米结构减反射层及其在led的应用 |
EP2862707A4 (en) * | 2012-06-13 | 2015-07-15 | Asahi Kasei E Materials Corp | FUNCTION TRANSFER OBJECT, METHOD FOR TRANSFERRING THE FUNCTIONAL LAYER, PACKAGING AND FUNCTION TRANSFER FILM ROLL |
US9780335B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-10-03 | 3M Innovative Properties Company | Structured lamination transfer films and methods |
US20140175707A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Methods of using nanostructured transfer tape and articles made therefrom |
US9711744B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-07-18 | 3M Innovative Properties Company | Patterned structured transfer tape |
US20140242343A1 (en) | 2013-02-27 | 2014-08-28 | 3M Innovative Properties Company | Lamination transfer films for forming embedded nanostructures |
WO2015108773A1 (en) | 2014-01-20 | 2015-07-23 | 3M Innovative Properties Company | Lamination transfer films for forming reentrant structures |
US9472788B2 (en) * | 2014-08-27 | 2016-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Thermally-assisted self-assembly method of nanoparticles and nanowires within engineered periodic structures |
-
2014
- 2014-01-20 US US14/159,253 patent/US20150202834A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-01-09 JP JP2016547038A patent/JP2017508640A/ja not_active Withdrawn
- 2015-01-09 WO PCT/US2015/010730 patent/WO2015122975A2/en active Application Filing
- 2015-01-09 CN CN201580004713.8A patent/CN105917253B/zh active Active
- 2015-01-09 KR KR1020167022387A patent/KR102352466B1/ko active IP Right Grant
- 2015-01-09 EP EP15749155.6A patent/EP3097441B1/en active Active
-
2016
- 2016-03-29 US US15/084,025 patent/US20160208385A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-04-21 US US15/493,871 patent/US10436946B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017508640A5 (ja) | ||
WO2015122975A3 (en) | Lamination transfer films for forming antireflective structures | |
JP2017504837A5 (ja) | ||
WO2016033189A3 (en) | Thermally-assisted self-assembly method of nanoparticles and nanowires within engineered periodic structures | |
EP3079011A3 (en) | Phase shift mask blank, phase shift mask, and blank preparing method | |
JP2016515954A5 (ja) | ||
JP2017508647A5 (ja) | ||
JP2010500277A5 (ja) | ||
JP2013543990A5 (ja) | ||
AU2013233704C1 (en) | Manufacturing method and manufacturing device for optical substrate having concavo-convex pattern using film-shaped mold, and manufacturing method for device provided with optical substrate | |
JP2013508254A5 (ja) | ||
JP2013541125A5 (ja) | ||
GB2505565A (en) | Nano-Coatings for articles | |
WO2011106235A3 (en) | Methods and apparatus for deposition processes | |
WO2010132661A3 (en) | Roll-to-roll glass material attributes and fingerprint | |
JP2008540167A5 (ja) | ||
PH12014502380B1 (en) | Release film for producing green sheet | |
JP2013535021A5 (ja) | ||
PH12015502250A1 (en) | Release film for green sheet production | |
WO2015156852A3 (en) | Transparent omniphobic thin film articles | |
US20160141196A1 (en) | Machine for transferring micro-device | |
EP2722110A3 (en) | Process for preparing reflective products | |
JP2014534293A5 (ja) | ||
WO2012105755A3 (ko) | 반사시트용 점착필름 및 그를 이용한 반사시트 | |
JP2014220031A5 (ja) |