JP2017500918A - ガス送出システム及び当該ガス送出システム内のガス流路を消毒する方法 - Google Patents

Abstract

患者５４に呼吸ガス流を送出するためのガス送出システム５０は、呼吸ガス流を発生させるために構成されるブロアー組立体１００を含む。このブロアー組立体は、吸気マニフォールド、呼吸ガス流の圧力及び／又は流量を調整するために構成される組立体１３０、並びに患者回路に結合されるように構成される排気マニフォールドを含むガス流路を含んでいる。ガス送出システムは加えて、消毒する光を発生させ、吸気マニフォールド、組立体及び排気マニフォールドの少なくとも１つにおける１つ以上の内部表面に消毒する光を送出するように構成される光システムを含む。

Description

本発明は、ガス送出システム、例えば限定ではないが、睡眠時無呼吸を治療するためのＰＡＰ治療システム、人工呼吸器、酸素送出システム又は他の呼吸装置に関する、及び特にそのようなガス送出システム内のガス流路を消毒する方法にも関する。

多くの人が睡眠中の呼吸障害を患っている。睡眠時無呼吸は、世界中で数百万の人々が患っている上記睡眠呼吸障害の一般的な例である。睡眠時無呼吸の１つの種類は閉塞性睡眠時無呼吸（ＯＳＡ）であり、これは気道、通例は上気道又は咽頭エリアの閉塞によって呼吸ができないことにより睡眠が繰り返し中断される状態である。気道の閉塞は一般に、少なくとも一部は上気道部分を安定させている筋肉の一般的な弛緩であり、それにより組織が気道をつぶすことを可能にすることによるものであると信じられている。もう１種類の睡眠時無呼吸症候群は、中枢性無呼吸であり、これは脳の呼吸中枢からの呼吸信号の欠落による呼吸の停止である。ＯＳＡ、無呼吸の状態は、中枢性無呼吸又はＯＡＳ及び中枢性無呼吸の組み合わせである混合であろうとなかろうと、例えばピーク呼吸気流量において９０％又はそれ以上の低下のような呼吸の完全な停止又は略停止として定義される。

睡眠時無呼吸に悩む人々は、睡眠中、重症化する恐れがある程度のオキシヘモグロビンの不飽和化を伴う、睡眠の断片化及び換気の完全な若しくは略完全な停止を断続的に経験する。これらの症状は臨床的に、極度な日中の眠気、不整脈、肺動脈高血圧、鬱血性心疾患及び／又は認知機能障害に変換される。睡眠時無呼吸の他の結果は、右心室機能不全、覚醒時及び睡眠中の二酸化炭素の蓄積、並びに連続する動脈血酸素分圧の低下を含む。睡眠時無呼吸を患う人は、これらの要因により、並びに潜在的に危険な機器を駆動及び／又は操作している間に事故が起こる危険性が高くなることにより、死亡率が高くなる危険性がある。

患者が完全な又は略完全な気道の閉塞で苦しんでいなくても、気道が部分的にのみ閉塞している場合、例えば睡眠からの覚醒のような悪影響が起こり得ることも分かっている。気道の部分的な閉塞は通例、呼吸低下と呼ばれる浅呼吸をもたらす。呼吸低下は通例、ピーク呼吸気流において５０％又はそれ以上の低下であると定義される。他の種類の睡眠呼吸障害は、限定ではないが、上気道抵抗症候群（ＵＡＲＳ）及び一般にいびきと呼ばれる気道の振動、例えば咽頭壁の振動を含んでいる。故に、例えばＯＳＡ、中枢性無呼吸又はＵＡＲＳのような呼吸障害を患う患者を診断するとき、患者の無呼吸及び呼吸低下の発生を正確に検出することが重要である。

患者の気道に気道陽圧（ＰＡＰ）を加えることにより睡眠呼吸障害を治療することがよく知られている。この陽圧は気道に効果的に"添え木を当て"、それにより肺への気道を開いたままにする。持続的気道陽圧法（ＣＰＡＰ）として知られるある種類のＰＡＰ治療において、患者に送出されるガスの圧力は、患者の呼吸周期を通じて一定である。患者の快適さ増やすために、この患者に送出されるガスの圧力が患者の呼吸周期と共に変化する又は患者の努力と共に変化する陽圧治療を提供することも知られている。この圧支持技術は、バイレベル圧支持と呼ばれ、この技術において患者に送出される吸気気道陽圧（ＩＰＡＰ）は、呼気気道陽圧（ＥＰＡＰ）よりも高い。

既知のガス送出システムにおいて、汚れたガス流路は、患者により吸い込まれる生物、例えば細菌、ウイルス、菌類又はカビの原因となる。温かく、湿気のある場所で普通は成長するこれらの生物は、患者に害を及ぼす。例えばＰＡＰ治療システムのレンタル市場において複数の患者により同じガス送出システムが使用されるとき、このことがしばしば起こり、ここで病気が蔓延する危険性が増大する。１つの知られる方法は、患者からＰＡＰ装置内への細菌の逆流を防ぐために、この装置の排気口に細菌フィルタを使用することである。この問題に対処するもう１つの知られる方法は、ガス送出システムのガス流路を消毒するために高圧蒸気滅菌装置又は他のガス消毒装置を使用することを含む。しかしながら、このような装置の使用は、コスト効率が悪く、ガス送出システム内にある繊細な構成要素を損なうこともある。ガス送出システムのガス流路を消毒する他の知られる方法は、ガス送出システムを洗浄するための洗浄剤、例えば低温滅菌剤、酢、アルコール又は石鹸水を使用することも含んでいる。しかしながら、このような洗浄剤は同様にガス送出システムの繊細な構成要素を損なうこともあり、患者により吸い込まれる有害な残留物として残ることもある。

その上、今述べたような問題は、睡眠時無呼吸を治療するためのＰＡＰ治療システム形式のガス送出システムに限定されない。寧ろ、このような問題は、患者に呼吸ガス流を送出するのに使用される如何なる種類のガス送出システム、例えば限定ではないが、人工呼吸器、酸素送出システム又は他の呼吸装置に関連して存在している。

従って、ガス送出システムに、特にこのようなガス送出システムを消毒するのに使用される方法に改善の余地がある。

ある実施例において、ガス送出システムは、患者に呼吸ガス流を送出するために設けられる。このガス送出システムは、前記呼吸ガス流を発生させるために構成されるブロアー組立体を含む。このブロアー組立体は、吸気マニフォールド、呼吸ガスの圧力及び／又は流量を調整するための組立体、例えばインペラ組立体、並びに患者に結合されるように構成される排気マニフォールドを含むガス流路を含んでいる。前記ガス送出システムは加えて、吸気マニフォールド、インペラ組立体及び排気マニフォールドの少なくとも１つにおける１つ以上の内部表面を消毒するために、消毒する光を発生させ、この消毒する光を前記内部表面に送出するために構成される光システムを含んでいる。

もう１つの実施例において、ブロアー組立体を含むガス送出システム内にあるガス流路を消毒するための方法が提供される。このガス流路は、吸気マニフォールド、呼吸ガスの圧力及び／又は流量を調整するための組立体、例えばインペラ組立体、並びに患者回路に結合されるように構成される排気マニフォールドを含んでいる。ブロアー組立体は、呼吸ガス流を発生させるように構成される及びガス流路を含んでいる。前記方法は、前記ガス送出システムの一部として光システムを設けるステップ、前記光システムを用いて消毒する光を発生させるステップ、並びに吸気マニフォールド、インペラ組立体及び排気マニフォールドの少なくとも１つにおける１つ以上の内部表面を消毒するために、前記１つ以上の内部表面に前記消毒する光を送出するステップ、を含む。

本発明のこれら及び他の目的、特性並びに特徴、並びに関連する構造物の要素の動作及び機能の方法と同様に、製品の部品及び経済性の組み合わせも、それら全てが本明細書の一部を形成している、付随する図面を参照して以下の説明及び添付の特許請求の範囲を考慮するとより明らかとなり、同様の参照番号は様々な図面において対応する部品を指している。しかしながら、図面は単に例示及び説明を目的とするものであり、本発明の境界を定めるとは意図されないこともはっきりと理解されるべきである。明細書及び請求項において使用されるように、特にはっきりと述べていない限り、複数あることを述べていなくても、それらが複数あることも含んでいる。

本発明が様々な実施例で実施される、ある特定の限定ではない実施例による圧支持システムの概略図。 開示される概念によるブロアー組立体の上面等角図。 図２のブロアー組立体の底面等角図。 図２のブロアー組立体の組立分解等角図。 図２のブロアー組立体の断面図。 図２のブロアー組立体の下方ハウジングの底面図。 図６の下方ハウジングの上面等角図。 図２のブロアー組立体のインペラ組立体の組立分解等角図。 図２のブロアー組立体の上方ハウジングの底面等角図。 開示される概念の実施例による図２のブロアー組立体の一部の断面図。 開示される概念のもう１つの実施例による図２のブロアー組立体の一部の断面図。 開示される概念のもう１つの実施例による図２のブロアー組立体の断面図。 開示される概念のもう１つの実施例による図２のブロアー組立体の一部の断面図。 開示される概念のもう１つの実施例による図２のブロアー組立体の一部の断面図。 開示される概念のもう１つの実施例による図２のブロアー組立体の一部の断面図。

明細書に用いられる方向の表現、例えば限定ではなく、上、底、左、右、上方、下方、前方、後方及びそれらの派生語は、図面に示される要素の向きに関連し、特に明瞭に言わない限り請求項に限定を加えない。

明細書に用いられるように、２つ若しくはそれ以上の部品又は構成要素が一緒に"結合される"と述べることは、これらの部品が直接又は１つ以上の中間部品若しくは構成要素を介しての何れかにより一緒に結合される又は一緒に動作することを意味している。

明細書に用いられるように、"数"の用語は、１若しくは１より多い整数（すなわち複数）を意味している。

明細書に用いられるように、マニフォールド(manifold)の用語は、液体若しくはガスがそれを介して分配される１つ以上の管又はチャンバを持つ部材を意味している。

図１は、本発明が様々な実施例で実施される、ある特定の限定ではない実施例による圧支持システム５０の概略図である。図１を参照すると、圧支持システム５０は、何らかの適切な供給源、例えば加圧した酸素若しくは空気のタンク、環境大気又はそれらの組み合わせから、一般に矢印Ｃで示される呼吸ガスを受け取る、例えば従来のＣＰＡＰ又はバイレベル圧支持装置に用いられるブロアーのようなガス流発生器５２を含む。ガス流発生器５２は、相対的に高い及び低い圧力、すなわち概ね環境大気圧に等しい又はその圧力よりも上である圧力で患者５４の気道に送出するための、例えば空気、酸素又はそれらの混合物のような呼吸ガス流を発生させる。

例示的な実施例において、ガス流発生器５２は、３−３０ｃｍＨ_２Ｏの圧力で呼吸ガス流を供給することが可能である。一般に矢印Ｄで示される、ガス流発生器５２からの加圧した呼吸ガス流は、送出管５６を介して何らかの既知の構成からなる呼吸マスク又は患者インタフェース５８に送出され、この患者インタフェースは、患者５４の気道に呼吸ガス流を伝えるために、通例は患者５４により着用される又は患者５４に取り付けられる。送出管５６及び患者インタフェース装置５８は通例、まとめて患者回路と呼ばれる。

図１に示される圧支持システム５０は、患者回路が患者５４を圧支持システム５０に接続している送出管５６だけを含むことを意味しているシングルリムシステムとして知られるものである。例えば、矢印Ｅで示されるようなシステムから呼気ガスを放出するための排気口５７が送出管５６に設けられる。排気口５７は、送出管５６に設けるのに加えて又は設ける代わりに他の場所、例えば患者インタフェース装置５８に設けられ得ることも注意すべきである。排気口５７は、圧支持システム５０からガスが放出されるのに望ましい方法に応じて色々な形態を持つことができる。

本発明は、圧支持システム５０が患者５４に接続される送出管及び排気管を持つ２リムシステムとすることができることも考える。（デュアルリムシステムとも呼ばれる）２リムシステムにおいて、排気管は、患者５４からの排気ガスを運び、患者５４の遠位端に排気弁を含んでいる。そのような実施例における排気弁は通例、呼気終末陽圧（ＰＥＥＰ）として一般に知られている、前記システムにおいて所望のレベル又は圧力を維持するために能動的に制御される。

さらに、図１に示される説明される例示的な実施例において、患者インタフェース５８は、鼻／口マスクである。しかしながら、患者インタフェース５８は、鼻マスク、鼻枕、気管チューブ、気管内チューブ又は適切なガス流伝達機能を提供する他の何らかの装置を含むことができることも理解されるべきである。さらに、本発明の目的のために、"患者インタフェース"という用語は、送出管５６及び加圧した呼吸ガスの供給源を患者５４に接続する他の如何なる構成も含むことができる。

説明される実施例において、圧支持システム５０は、送出管５６に設けられる弁６０の形式の圧力制御器を含んでいる。弁６０は、患者５４に送出される、ガス流発生器５２からの呼吸ガス流の圧力を制御する。本目的のために、ガス流発生器５２及び弁６０が患者５４に送出されるガスの圧力及び／又はガス流を制御するために協調するので、このガス流発生器５２及び弁６０はまとめて圧力発生システムと呼ばれる。しかしながら、患者５４に送出されるガスの圧力を単独で若しくは圧力制御弁と組み合わせて制御する、例えばガス流発生器５２のブロアーの速度を変化させるための他の技術が本発明により検討されることも明らかである。故に、弁６０は、患者５４に送出される呼吸ガス流の圧力を制御するのに使用される技術に応じて任意である。弁６０が無い場合、圧力発生システムは、ガス流発生器５２単独で対応し、患者回路におけるガスの圧力は、例えばガス流発生器５２のモーターの速度を制御することにより制御される。

圧支持システム５０はさらに、送出管５６内の呼吸ガス流を測定する流量センサ６２を含む。図１に示される特定の実施例において、流量センサ６２は、送出管５６に沿って、最も好ましくは弁６０の下流に挿入される。流量センサ６２は、制御器６４に供給され、制御器６４により患者５４におけるガス流（Ｑpatient）を決定するのに使用される流量信号Ｑmeasuredを生成する。

Ｑmeasuredに基づいてＱpatientを計算する技術はよく知られていて、患者回路の圧力降下、システムからの既知の漏出、すなわち図１に矢印Ｅで示されるような患者回路からのガスの意図する放出、及びシステムからの未知の漏出、例えばマスク／患者インタフェースにおける漏出を考慮している。本発明は、漏れ流量Ｑleakを計算するための何らかの既知の又は以後開発される技術を使用すること、及びＱmeasuredに基づいてＱpatientを計算するのにこの決定を使用することを考慮している。このような技術の例は、米国特許番号5,148,802；5,313,937；5,433,193；5,632,269；5,803,065；6,029,664；6,539,940；6,626,175及び7,011,091により教示され、これらの各々の内容は、参照することにより本発明に組み込まれるものとする。

もちろん、患者５４の呼吸流を測定する他の技術、例えば限定ではないが、患者５４において直接又は送出管５６に沿った他の場所において呼吸流を測定する、ガス流発生器５２の動作に基づいて患者の流量を測定する、及び弁６０の上流にある流量センサを用いて患者の流量を測定する技術も本発明により検討される。

制御器６４は、例えばマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ又は他の何らかの適切な処理装置である処理部と、前記処理部内にある若しくは前記処理部に動作可能なように結合される、並びに本明細書においてもっと詳細に説明されるような紫外線光の放射を制御することを含む、圧支持システム５０の動作を制御するための前記処理部により実行可能であるデータ及びソフトウェアのための記憶媒体を提供するメモリ部とを含んでいる。

説明される実施例において、圧支持システム５０は、この圧支持システム５０のメインハウジングに設けられる加湿器６８も含んでいる。或いは、加湿器６８は、前記メインハウジングから切り離され、メインハウジングの外側に置かれてもよい。加湿器６８は、制御器６４により制御される。加湿器６８はさらに、供給されるガスに湿気を与えることにより快適さ向上させる。例示的な実施例において、加湿器６８は、パスオーバー式の加湿器である。参照することにより全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願公開番号2007/0169776号は、本発明の使用に適した例示的な加湿器装置を開示している。別のデザインの加湿器装置、例えば噴霧化、微粒子化、気化又はそれらの組み合わせを用いたパスオーバー式ではない加湿器が使用されてもよい。

本発明の説明される限定ではない実施例において、圧支持システム５０は基本的にＣＰＡＰ圧支持システムとして機能し、故に適切なＣＰＡＰ圧力レベルを患者５４に供給するために、上記システムに必要な性能の全てを含んでいる。これは、適切なＣＰＡＰの圧力を供給するのに必要なパラメタ、例えば最大及び最小のＣＰＡＰ圧力の設定を、入力コマンド、信号、命令又は他の情報を介して受信することを含んでいる。これは単に例であると意味されること、及び限定ではないが、ＢｉＰＡＰ、ＡｕｔｏＳＶ、ＡＶＡＰＳ、Ａｕｔｏ ＣＰＡＰ及びＢｉＰＡＰ Ａｕｔｏを含む他の圧支持方法が本発明の範囲内であることを理解されるべきである。

図２は、例示的な実施例によるガス流発生器５２を実施するために圧支持システム５０に用いられるブロアー組立体１００の上面等角図であり、図３はその底面等角図であり、図４はその組立分解等角図であり及び図５はその断面図である。図２から図５に見られるように、ブロアー組立体１００は、下方ハウジング１１０、上方ハウジング１２０、下方ハウジング１１０と上方ハウジング１２０との間に置かれ、それらの間に収容されるインペラ組立体１３０及び排気管１４０を含む。以下においてより詳細に説明されるインペラ組立体１３０は、下方ハウジング１１０を介して取り込まれるガスを取り入れ、そのガスを変更された（例えばより高い）圧力及び／又は流量で次に患者回路に結合される排気管１４０を介して放出する。

下方ハウジング１１０の底面図である図６、及び下方ハウジング１１０の上面等角図である図７を参照すると、下方ハウジング１１０は、それを介してガスが入る吸気口１１１、誘導壁１１２及び本体部１１３を含む。ガスが入った後、ガスは、誘導壁１１２を流れ過ぎ、本体部１１３を流れる。示されるように、下方ハウジング１１０はさらに、下方ハウジング１１０の外周に沿って置かれる閉じ込め壁１１４及びポート１１５を含む。閉じ込め壁１１４は、ガスが本体部１１３に引き込まれるとき、ガスが収容され、ポート１１５に無理に送られるように、圧支持システム５０の底板又はハウジング部材（図示せず）に密封して係合されるように構成される。図７に見られるように、下方ハウジング１１０は、部分的導管１１６及び結合部１１７も含み、これらの機能は本明細書の他の場所に説明される。

図５及びインペラ組立体１３０の分解図である図８を参照すると、インペラ組立体１３０は、上方ハウジング１３１、吸気ポート１３３を持つ下方ハウジング１３２及び上方ハウジング１３１と下方ハウジング１３２との間に保持されるインペラ１３４を含む。インペラ組立体１３０は、上方ハウジング１３１の部分的導管部１３７と下方ハウジング１３２の部分的導管部１３８との間に保持されるように構成される排気部材１３５も含み、それらによりインペラ組立体１３０の排気管を形成する。その代わりに、インペラ組立体１３０は、コンプレッサ、ファン、ブロアー、ピストン又はふいごを含む組立体と置き換えられてもよい。

図９は、上方ハウジング１２０の底面等角図である。図９に見られるように、上方ハウジング１２０は、部分的導管１２１、結合部１２２及びチャンバ１２３を含む。下方ハウジング１１０及び上方ハウジング１２０は、互いに結合されるとき、部分的導管１１６、１２１が位置合され、そして結合部１１７、１２２が位置合されるように構成される。さらに及び図４を参照すると、排気管１４０は、結合部１１７、１２２の間に置かれ、そして保持されるように構成される。

動作中、呼吸ガス、例えば限定ではないが、空気又は酸素は、吸気口１１１を介して下方ハウジングに入る。このガスは次いで、誘導壁１１２により本体部１１２の底部及び閉じ込め壁１１４により規定されるエリアに誘導される。ガスは、そのエリアからポート１１５を通り上方ハウジング１２０のチャンバ１２３により規定されるエリアに流れる。このガスは次いで、本体部１１３の上部に向けてインペラ組立体１３０の外側を流れ落ち、ここでガスはインペラ組立体１３０の吸気ポート１３３に誘導される。インペラ組立体１３０の内側において、インペラ１３４の動作により、ガスの圧力及び／又は流量が増大する。ガスは次いで、排気部材１３５、部分的導管部１３７及び部分的導管部１３８により形成される排気管を通りインペラ組立体１３０から放出される。放出されたガスは、部分的導管１１６、１２１、結合部１１７、１２２及び排気管１４０により形成される導管部材内に入れられ、その後、本明細書に説明されるような患者回路を介して患者に送出される。

従って、このようにブロアー組立体１００は、３つの主要な部分、つまり（ｉ）吸気口１１１、誘導壁１１２、本体部１１３、閉じ込め壁１１４、ポート１１５及びチャンバ１２３を含む、インペラ組立体１３０に呼吸ガスを送出するための"吸気マニフォールド"、（ｉｉ）前記呼吸ガスの圧力及び／又は流量を調整するためのインペラ組立体１３０並びに（ｉｉｉ）部分的導管１１６、１２１、結合部１１７、１２２及び排気管１４０を含む、患者回路に呼吸ガスを送出するための"排気マニフォールド"を持つ。

さらに、図１に見られるように及び開示される概念に従って、圧支持システム５０は、本実施例において、ガス流発生器５２内の（述べたような吸気マニフォールド、インペラ組立体１３０及び排気マニフォールドを含む）ガス流路を消毒するためのＵＶ_ｃ紫外線光を発生させるように構成される紫外線光システム７０も具備している。特に、ＵＶ_ｃ紫外線光がガス流発生器５２内の表面、すなわち吸気マニフォールド、インペラ組立体１３０及び排気マニフォールドの表面に接するとき、この光がこれら表面上に生存している微生物を、それら微生物のＤＮＡを変える、有利にはこれら微生物が繁殖するのを防ぐことにより殺し、それによりユーザにとってより安全な及びより健康的な空気路を生じさせる。限定ではない例示的な実施例において、紫外線光システム７０は、１００から４４０ｎｍの範囲のＵＶ_ｃ紫外線光を放射する。ある特定の実施例において、ＵＶ_ｃ光は、２００から２８０ｎｍの範囲で放射される。

理解されるように、ブロアー組立体１００及び紫外線光システム７０は、圧支持システム５０のユーザにより安全な及びより健康的な空気路を提供するために多数の異なる方法で実施されてもよい。ブロアー組立体１００及び紫外線光システム７０の多数の限定ではない代替の例示的な実施は、図１０から図１５と関連して以下に説明される。そのような実施の各々は、圧支持システム５０のガス流路を消毒するために、この圧支持システム５０に使用されてもよい。

図１０は、７０−１０の番号を付した紫外線光システム７０の実施例が組み込まれている２００の番号を付したブロアー組立体１００の第１の実施の断面図である。説明し易くするために、インペラ組立体１３０が設けられていない実施２００が示される。しかしながら、実際の使用においてインペラ組立体１３０が含まれることは理解される。本実施例において、紫外線光システム７０−１０は、主回路基板２１０、ブロアー組立体１００の様々な場所内に埋め込まれる（図１０に概略的に示される）多数のＵＶ_ｃ発光ダイオード（ＬＥＤ）２２０並びに主回路基板２１０からＬＥＤ２２０に走り、主回路基板２１０をＬＥＤ２２０に結合する多数のワイヤ２２２を含んでいる。説明される実施例において、ＬＥＤ２２０は、これらＬＥＤ２２０が明細書に説明されるように呼吸ガスが流れるこれらの構成要素の表面上にＵＶ_ｃ紫外線光を当てるように、下方ハウジング１１０の本体部１１３内及び上方ハウジング１２０内に埋め込まれる。加えて、他の実施例において、ＬＥＤ２２０は、例えば誘導壁１１２内のような"吸気マニフォールド"の他の部分内に、例えば上方ハウジング１３１及び／又は下方ハウジング１３２内のようなインペラ組立体１３０の部分内に、並びに例えば部分的導管１１６、１２１及び／又は排気管１４０のような"排気マニフォールド"の部分内に埋め込まれてもよい。動作時に、主回路基板２１０は、ＬＥＤ２２０を活性化させるように構成され、これらＬＥＤは次にＵＶ_ｃ紫外線光を放射し、それによりブロアー組立体１００内の近傍表面を消毒する。

図１１は、（７０−１１の番号を付した）紫外線光システム７０の代替実施例が組み込まれている３００の番号を付したブロアー組立体１００の第２の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体１３０が設けられていない実施３００が示される。本実施例において、紫外線光システム７０−１１は、主回路基板３１０、主回路基板３１０に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ３３０並びにＬＥＤ３３０に結合される及びブロアー組立体１００の様々な部分内に埋め込まれ、様々な部分に沿って走っている多数の光導体（例えば限定ではいが、光ファイバ、透明なプラスチックロッド又は同様の光を透過する部材）を含んでいる。特に、図１１に示されるように、各光導体３３２は、ＬＥＤ３３０の１つに結合される第１の受光端及びブロアー組立体１００内の選択した場所に位置決められる第２の発光端を持つ。本実施例において、光導体３３２は、図１０と関連して説明されたＬＥＤ２２０が取り付けられた場所の何れかまで走っている。動作時に、ＬＥＤ３３０はＵＶ_ｃ紫外線光を発生させ、このＵＶ_ｃ紫外線光を光導体３３２に通し、この光導体３３２がブロアー組立体１００内の様々な表面にＵＶ_ｃ紫外線光を放射し、それによりこれら様々な表面を消毒する。

図１２は、（７０−１２の番号を付した）紫外線光システム７０のもう１つの代替実施例が組み込まれている４００の番号を付したブロアー組立体１００の第３の実施の断面図を示す。本実施例において、紫外線光システム７０−１２は、主回路基板４１０及び活性化されるときＵＶ_ｃ紫外線光を放射する、主回路基板４１０に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ４４０を含んでいる。本実施例によれば、ブロアー組立体１００の多数の構成要素（例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び／又はインペラ組立体１３０の１つ以上の構成要素）は、ＵＶ_ｃ紫外線光に対し透過である材料から作られる。明細書に用いられるように、"透過"という用語は、光がその材料を通過することが可能であることを意味し、限定ではないが光が拡散される（透光性である）及び拡散されない状況を含む。例えば、透過である材料は、例えばそれらに限定されないが、ポリカーボネート、ＡＢＳ(acrylonitrile butadiene styrene)又はポリスチレンのような非晶質高分子でもよい。従って、ＬＥＤ４４０から放射されるＵＶ_ｃ紫外線光は、ブロアー組立体１００の選択した構成要素を通過し、結果としてこれら構成要素の内部表面を消毒する。

図１３は、（７０−１３の番号を付した）紫外線光システム７０のさらにもう１つの代替実施例が組み込まれている５００の番号を付したブロアー組立体１００の第４の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体１３０はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム７０−１３は、主回路基板５１０、活性化されるときＵＶ_ｃ紫外線光を放射する、ブロアー組立体１００の特定の構成要素内に埋め込まれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ５５０及びＬＥＤ５５０を主回路基板５１０に結合する多数のワイヤ５５２を含んでいる。加えて、紫外線光システム７０−１３は、活性化されるときＵＶ_ｃ紫外線光を放射する、主回路基板５１０に設けられるもう１つの多数のＵＶ_ｃＬＥＤ５５４、並びに主回路基板５１０から走り、ブロアー組立体１００の特定の構成要素内に埋め込まれている多数の光導体５５６も含んでいる。動作時に、ＬＥＤ５５０及び光導体５５６はＵＶ_ｃ紫外線光を放射し、結合してブロアー組立体１００内の選択した表面を消毒する。実施５００は故に、図１０の実施２００と図１１の実施３００とを組み合わせたものである。加えて、ブロアー組立体１００が２つの埋め込まれたＬＥＤ５５０及び２つの光導体５５６に関連付けて説明されたとしても、ＬＥＤ及び光導体の如何なる数、構成及び／又は組み合わせと持つことも開示される概念の範囲内である。

図１４は、（７０−１４の番号を付した）紫外線光システム７０のさらにもう１つの代替実施例が組み込まれている６００の番号を付したブロアー組立体１００の第５の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体１３０はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム７０−１４は、主回路基板６１０、ブロアー組立体１００内に置かれる多数の光反射面６６０及び活性化されるときＵＶ_ｃ紫外線光を放射する、主回路基板６１０に設けられる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ６６２を含んでいる。例えば限定ではないが、前記光反射面は、挿入される金属部品若しくはフォイル、又はベース材料にめっきされる、噴霧される又は塗布される金属コーティングでもよい。本実施例によれば、ブロアー組立体１００の多数の構成要素（例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び／又はインペラ組立体１３０の１つ以上の構成要素）は、ＵＶ_ｃ紫外線光に対し透過である材料から作られる。ブロアー組立体１００の実施６００において、ＬＥＤ６６２から放射されるＵＶ_ｃ紫外線光は、選択した構成要素を通過し、反射面６６０に接触し、そして見られるように異なる方向に反射するように構成され、有利なことにＵＶ_ｃ紫外線光により、より多くの面が到達され、それにより消毒されることを可能にする。ＬＥＤ６６２が主回路基板６１０に用いられるように示されていたとしても、（本明細書の他の場所で説明したように）反射面６６０を反射する光を放射するために、ＬＥＤ及び／又は光導体がブロアー組立体１００内に埋め込まれ、それにより、より多くの面に到達し、消毒することは、開示される概念の範囲内である。このような実施例は図１５に関連して以下に説明される。

図１５は、（７０−１５の番号を付した）紫外線光システム７０のさらにもう１つの代替実施例が組み込まれている７００の番号を付したブロアー組立体１００の第６の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体１３０はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム７０−１５は、主回路基板７１０、ブロアー組立体１００の様々な場所の内部に埋め込まれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ７７０及びＬＥＤ７７０を主回路基板７１０に結合する多数のワイヤ７７２を含んでいる。紫外線光システム７０−１５は、主回路基板７１０に置かれるもう１つの多数のＵＶ_ｃＬＥＤ７７４、その一方の端部においてＬＥＤ７７４に結合され、本明細書の他の場所で説明されるような、ブロアー組立体１００内に埋め込まれる多数の光導体７７６も含んでいる。最後に、紫外線光システム７０−１５は、主回路基板７１０に置かれるもう１つの多数のＵＶ_ｃＬＥＤ７７７及び下方ハウジング１１０の内部表面に設けられる反射面７７８を含んでいる。ブロアー組立体１００の実施７００において、ブロアー組立体１００の多数の構成要素（例えば、限定ではないが"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び／又はインペラ組立体１３０の１つ以上の構成要素）は、ＵＶ_ｃ紫外線光に対し透過である材料から作られる。このようにして、主回路基板７１０にあるＬＥＤ７７７から放射された光は、選択した構成要素を通過し、反射面７７８に接触するように構成され、それによりブロアー組立体１００内のより多くの表面に到達することが可能である。加えて、ＬＥＤ７７０及び／又は光導体７７６から放射された光も同様に、反射面７７８を反射して、ブロアー組立体１００内のより多くの表面に到達し、消毒するように構成される。動作時に、ＬＥＤ７７０、７７４、７７７、光導体７７６及び反射面７７８が組み合わさって、ＵＶ_ｃ紫外線光がブロアー組立体１００内にある様々な表面に接触し、それにより消毒することを可能にする。実施７００は故に、本明細書に説明される実施２００、３００、４００及び６００を組み合わせたものである。

加えて、限定ではないが、ブロアー組立体１００内の任意の消毒を可能にするために、ＬＥＤ、光導体、反射面及び／又は透過面を含むＵＶ_ｃ光源の如何なる数、構成及び／又は組み合わせを持つことは、開示される概念の範囲内にある。本明細書に述べられていない代替のＵＶ_ｃ光源、例えば限定ではないが、ＵＶ_ｃ電球を用いることも開示される概念の範囲内にある。

従って、開示される概念に従って、ブロアー組立体１００内にあるガス流路（例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、インペラ組立体１３０及び"排気マニフォールド"）は、消毒するＵＶ_ｃ光を放射する紫外線光システム（例えば限定ではないが、紫外線光システム７０−１０、７０−１１、７０−１２、７０−１３、７０−１４及び７０−１５）により素早く安全に消毒されることができる。

その上、本明細書に説明される紫外線光システム７０−１０、７０−１１、７０−１２、７０−１３、７０−１４及び７０−１５が活性化され、それにより多数の適切な方法又は機構の何れかに従って消毒する光を放射させる。例えば限定ではないが、紫外線光システム７０−１０、７０−１１、７０−１２、７０−１３、７０−１４及び７０−１５は、手動で（例えばボタンにより）又は多数の条件の何れか、例えば設定したタイマーの終了、一定の使用時間の後に圧支持システム５０が使用される、圧支持システム５０を使用している若しくは使用していないときに基づいて自動的に活性化されるように構成されてもよい。

本発明は、最も実用的である例示的な実施例であると現在考えられるものに基づいて説明を目的として詳細に説明されている。しかしながら、このような詳細な説明は単に説明を目的としていること、及び本発明は開示される実施例に限定されるのではなく、それどころか、付随する請求項の主旨及び範囲内にある修正案及び同等の配列にも及んでいると意図されると理解されるべきである。例えば限定ではないが、本発明は、例えば圧支持システム５０のようなＰＡＰ治療システムに限定されるのではなく、寧ろ本明細書に説明される様々な実施例における紫外線光システム７０が、患者に呼吸ガス流を送出するのに使用される如何なる種類のガス送出システム、例えば限定ではないが、酸素送出システム又は他の呼吸装置と共に使用されてもよい。

Claims (17)

1. 患者に呼吸ガス流を送出するためのガス送出システムにおいて、
   前記呼吸ガス流を発生させるために構成されるブロアー組立体であり、前記ブロアー組立体は、吸気マニフォールド、前記呼吸ガス流の圧力及び／又は流量を調整するために構成される組立体、並びに患者回路に結合されるように構成される排気マニフォールドを含むガス流路を含んでいるブロアー組立体
   消毒する光を発生させ、前記吸気マニフォールド、前記組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つにおける１つ以上の内部表面を消毒するために、前記１つ以上の内部表面に前記消毒する光を送出するように構成される光システム
   を有するガス送出システム。
2. 前記組立体は、インペラ組立体である、請求項１に記載のガス送出システム。
3. 前記ブロアー組立体は、下方ハウジング、前記下方ハウジングに結合される上方ハウジング及び排気管をさらに有する、並びに前記インペラ組立体及び前記排気管は、前記下方ハウジングと上方ハウジングとの間に置かれる、請求項２に記載のガス送出システム。
4. 前記消毒する光は、紫外線光である、及び前記光システムは、紫外線光システムである、請求項１に記載のガス送出システム。
5. 前記消毒する光は、ＵＶ_ｃ紫外線光である、及び前記光システムは、前記ＵＶ_ｃ紫外線光を発生させるために構成される紫外線光システムである、請求項４に記載のガス送出システム。
6. 前記光システムは、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つの一部の内部に埋め込まれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤを含んでいる、請求項５に記載のガス送出システム。
7. 前記光システムは、回路基板、前記回路基板に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ及び多数の光伝達部材を含む、前記光伝達部材の各々は、前記ＵＶ_ｃＬＥＤの対応する１つに結合される、並びに前記ＵＶ_ｃＬＥＤは、前記ＵＶ_ｃ紫外線光を発生させ、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つに前記ＵＶ_ｃ紫外線光を送出するために、前記ＵＶ_ｃ紫外線光が前記光伝達部材を通るように構成される、請求項５に記載のガス送出システム。
8. 前記光システムは、回路基板及び前記回路基板に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤを含む、及び前記ブロアー組立体は、ＵＶ_ｃ紫外線光に対し透過である材料から作られる少なくとも１つの構成要素を含む、請求項５に記載のガス送出システム。
9. 前記光システムは、回路基板、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つの一部の内部に埋め込まれる第１の多数のＵＶ_ｃＬＥＤ、前記回路基板に置かれる第２の多数のＵＶ_ｃＬＥＤ、及び前記ブロアー組立体の１つ以上の部分を通り延在している多数の光伝達部材を含み、前記光伝達部材の各々は、前記第２の多数のＵＶ_ｃＬＥＤの対応する１つに結合されている、請求項５に記載のガス送出システム。
10. 前記光システムは、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つの一部に置かれる多数の反射面を含み、前記反射面は、ＵＶ_ｃ紫外線光を反射するように構成される、請求項５に記載のガス送出システム。
11. 呼吸ガス流を発生させるために構成されるブロアー組立体を含むガス送出システム内のガス流路を消毒する方法であり、前記ガス流路は、吸気マニフォールド、前記呼吸ガス流の圧力及び／又は流量を調整するために構成される組立体、及び患者回路に結合されるように構成される排気マニフォールドを含む、前記ガス流路を消毒する方法において、
    前記ガス送出システムの一部として光システムを設けるステップ、
    前記光システムから消毒する光を発生させるステップ、並びに
    前記吸気マニフォールド、前記組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つにおける１つ以上の内部表面を消毒するために、前記１つ以上の内部表面に前記消毒する光を送出するステップ
    を有する方法。
12. 前記消毒する光は、紫外線光である、及び前記光システムは、紫外線光システムである、請求項１１に記載の方法。
13. 前記消毒する光は、ＵＶ_ｃ紫外線光である、及び前記光システムは、前記ＵＶ_ｃ紫外線光を発生させるために構成される紫外線光システムである、請求項１２に記載の方法。
14. 前記光システムは、前記消毒する光を発生させるために前記ブロアー組立体の内部に埋め込まれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤを含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記光システムは、回路基板、前記消毒する光を発生させるために前記回路基板に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤ及び多数の光伝達部材を含む、前記光伝達部材の各々は、前記ＵＶ_ｃＬＥＤの対応する１つに結合される、並びに前記ＵＶ_ｃＬＥＤは、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つにある前記少なくとも１つの内部表面に前記消毒する光を送出するように構成される、請求項１３に記載の方法。
16. 前記光システムは、回路基板及び前記回路基板に置かれる多数のＵＶ_ｃＬＥＤを含む、前記ブロアー組立体は、ＵＶ_ｃ紫外線光に対し透過である材料から作られる少なくとも１つの構成要素を含む、及び前記送出するステップは、前記消毒する光が前記少なくとも１つの構成要素を通ることを含む、請求項１３に記載の方法。
17. 前記光システムは、前記吸気マニフォールド、前記インペラ組立体及び前記排気マニフォールドの少なくとも１つの一部に置かれる多数の反射面を含み、前記反射面は、ＵＶ_ｃ紫外線光を反射するために構成される、及び前記送出するステップは、前記消毒する光が前記反射面を反射することを含む、請求項１３に記載の方法。

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