JP2017225925A - 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム - Google Patents
紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017225925A JP2017225925A JP2016123371A JP2016123371A JP2017225925A JP 2017225925 A JP2017225925 A JP 2017225925A JP 2016123371 A JP2016123371 A JP 2016123371A JP 2016123371 A JP2016123371 A JP 2016123371A JP 2017225925 A JP2017225925 A JP 2017225925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- lens
- water
- pipe
- branch pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 125
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 15
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 abstract 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 5
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J47/00—Ion-exchange processes in general; Apparatus therefor
- B01J47/02—Column or bed processes
- B01J47/04—Mixed-bed processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
【課題】分岐配管接続部等の微細空間の溜まり水を効果的に殺菌することのできる、紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システムを提供すること。
【解決手段】被処理水の流路となる主配管と、前記主配管に接続された分岐配管とを有し、前記主配管の前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有する紫外線殺菌装置。
【選択図】図１
【解決手段】被処理水の流路となる主配管と、前記主配管に接続された分岐配管とを有し、前記主配管の前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有する紫外線殺菌装置。
【選択図】図１
Description
本発明は、紫外線殺菌装置及び紫外線殺菌方法に係り、特に、純水製造装置の流路の分岐部の殺菌に用いられる紫外線殺菌装置及び紫外線殺菌方法に関する。
近年、半導体素子（ＬＳＩ）の集積度の向上にともない、シリコン基板等の基板表面上への超純水中の極微量物質による汚染の影響が問題となっており、イオン状物質、微粒子、有機物、金属、溶存ガス等の不純物質の極めて少ない超純水が要求されている。特に、半導体製造工程において、洗浄水中の有機物は、熱処理工程で炭化して線間短絡や絶縁不良を起こす原因となるため、全有機炭素濃度（ＴＯＣ）の特に少ない超純水が求められている。
一般に、超純水製造システムは、前処理部と、一次純水製造部と、二次純水製造部とから構成されている。前処理部は、凝集・沈澱・ろ過装置などによって原水中の濁質やコロイド物質を除去して前処理水を生成する区画である。一次純水製造部は、例えば、逆浸透膜装置（ＲＯ）や２床３塔型装置等により、前処理水中の大部分のイオンなどの溶解性物質や微粒子を除去する区画である。二次純水製造部は、一次純水製造部で得られた一次純水の精密仕上げを目的とした最終段階の区画である。
このような超純水製造システムにおいては、イオン性の有機物は、イオン交換樹脂装置等によって吸着除去される。非イオン性の有機物は、紫外線酸化装置等によって、二酸化炭素と低分子量の有機酸に分解された後、生成した有機酸がイオン交換樹脂装置等によって吸着除去される。超純水の製造において除去対象となる有機物としては、原水由来の有機物の他、装置内の配管や、各装置内で生じる細菌や微生物由来の有機物がある。
有機物を分解する紫外線酸化装置としては、例えば、１８０〜１９０ｎｍあるいは２５０〜２６０ｎｍの波長の紫外線を放射する低圧紫外線ランプを用いた装置が一般的である。また、３６０〜４００ｎｍの波長を含む紫外線を放射する発光ダイオードと、光触媒を用いた紫外線酸化装置も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、光触媒を用いずに紫外線によって水の殺菌を行う方法として、加圧空間内を通流する液体又は気体に、紫外線を照射することで、大量のガスや加圧状態の液体を効率よく紫外線殺菌するための紫外線殺菌装置を用いる方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
ところで、一般的に、超純水製造システムは、被処理水の流路に分岐配管を有していることがあるが、この分岐配管の分岐部には、流速の低下や渦による水の滞留部分、いわゆる溜まり水が生じるおそれがある。このような溜まり水に細菌や微生物が滞留した場合、これらが配管壁面に付着して増殖し、やがてコロニーを形成し、さらにはバイオフィルムを生じ、洗浄によって除去することが困難になる。
従来の紫外線殺菌装置では、このような溜まり水を確実に殺菌できていないことがあり、効果が限定的であるという難点があった。また、紫外線を発する光源の形状が限られているうえに、分岐配管の溜まり水の領域に確実に紫外線を照射するための配慮がなされていないため、分岐配管内の微細空間内の溜まり水を殺菌することが極めて困難であった。
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、分岐配管接続部等の微細空間の溜まり水を効果的に殺菌することのできる、紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システムを提供することを目的とする。
本発明の紫外線殺菌装置は、被処理水の流路となる主配管と前記主配管に接続された分岐配管とを有するとともに、前記主配管の前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有することを特徴とする。
本発明の紫外線殺菌装置において、前記主配管に形成された取付け孔は、前記主配管と、前記分岐配管の末端部近傍の軸線とが交差する位置に形成されていることが好ましい。
本発明の紫外線殺菌装置は、前記分岐管内に、被処理水の抵抗率を測定する抵抗率測定セルが配置されたことが好ましい。
本発明の紫外線殺菌装置において、前記分岐配管は、前記分岐配管の末端部近傍の軸線が前記主配管の軸線に対して傾斜させて前記主配管に接続されていることが好ましい。
本発明の紫外線殺菌装置において、前記レンズは、前記紫外線発光ダイオードの放射する前記紫外線を拡散させる光学特性を有することが好ましい。また、前記レンズは、石英ガラスからなることが好ましい。
本発明の紫外線殺菌装置において、前記主配管は、超純水を製造する超純水製造システムに備えられることが好ましい。
本発明の紫外線殺菌方法は、被処理水の流路となる主配管と前記主配管に接続された分岐配管を有する被処理水配管の内壁面、及び前記被処理水配管内の被処理水を殺菌する紫外線殺菌方法であって、前記主配管の、前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔を形成し、前記取付け孔にレンズを水密的に取付け、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線発光ダイオードを光源として、前記光源から放射される紫外線を前記レンズによって拡散又は収束させて、前記光源から放射された前記紫外線の所定の光量を前記分岐配管の開口内に照射することを特徴とする。
本発明の超純水製造システムは、前処理部、一次純水製造部及び二次純水製造部を備え、前記一次純水製造部及び前記二次純水製造部がそれぞれ混床式イオン交換樹脂装置を備えた超純水製造システムであって、前記混床式イオン交換樹脂装置の処理水を排出する主配管と前記主配管の少なくとも１つに接続された分岐配管とを有するとともに、前記主配管の、前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有することを特徴とする。
本発明の紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システムによれば、分岐配管接続部等の微細空間の溜まり水を効果的に殺菌することができる。
以下、図面を参照して、実施形態を詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る紫外線殺菌装置１を概略的に示す図である。紫外線殺菌装置１は、例えば、超純水製造システムにおいて、被処理水の流路となる主配管１３ａと、主配管１３ａに分岐して設けられた分岐配管１３ｂとを有する被処理水配管１３に備えられる。
主配管１３ａと分岐配管１３ｂの接続部の配管内に溜まり水が生じた場合、この溜まり水に細菌類１８が滞留し、配管壁面に付着して増殖するおそれがある。紫外線殺菌装置１は、紫外線発光ダイオードからの紫外線によってこの溜まり水中に混入する細菌類１８を分解、死滅させて、被処理水及び配管内壁面を殺菌するものである。
紫外線殺菌装置１は、波長２３０〜２９０ｎｍの発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオード１１を光源とする紫外線照射装置と、レンズ１２とを備えている。紫外線照射装置は、紫外線発光ダイオード１１を駆動させる電源装置１５を備えている。
紫外線発光ダイオード１１は、光放出面１１ａが、主配管１３ａ内に露出するように、主配管１３ａの壁面に設けられる。紫外線発光ダイオード１１は、主配管１３ａと、分岐配管１３ｂの接続部に紫外線を照射するように配置される。
紫外線発光ダイオード１１は、電源装置１５によって電力が供給されて紫外線を放射するものである。細菌類は、２３０〜２９０ｎｍの紫外線により分解あるいは死滅させることができる。そのため、紫外線発光ダイオード１１は、２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射するものであればよい。紫外線発光ダイオード１１は、２５０〜２６０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射することが好ましい。また、紫外線発光ダイオード１１は、上記波長の紫外線以外にも、２００ｎｍ付近に発光ピーク波長を有する紫外線を放射してもよい。
紫外線発光ダイオード１１は、例えば、紫外線を発光する半導体素子と、当該半導体素子を内包する透明封止樹脂を有している。この、透明封止樹脂の外表面が、光放出面１１ａを構成する。光放出面１１ａの形状は特に限定されず、略平面状であってもよく、ドーム状等の曲率を有する形状であってもよい。紫外線発光ダイオード１１は、チップ型、砲弾型のいずれであってもよいが、砲弾型であると、主配管１３ａに設置し易い。紫外線発光ダイオード１１の大きさは、例えば、光放出面１１ａの大きさが、４〜１６ｍｍ２程度である。光放出面１１ａの大きさが、上記範囲であると、主配管１３ａに設置し易く、また、発光ダイオード１１の放射する紫外線を照射領域外に拡散させずに、そのほとんどを、照射領域に向けて照射することができ、効率的である。
紫外線発光ダイオード１１の放射する紫外線は直進性が高い、すなわち、紫外線の広がり角が小さい方が好ましい。紫外線の直進性が高い方が、単位面積当たりの紫外線照射量を大きくして、殺菌効率を高めることができるためである。また、紫外線発光ダイオード１１の放射する紫外線の直進性が高いほど、後述のレンズ１２による光量及び照射領域の調節がし易くなる。紫外線発光ダイオード１１の放射する紫外線の広がり角は、紫外線を、照射領域に効率的に照射するために、例えば、４〜２０°とすることが好ましい。
紫外線発光ダイオード１１の紫外線放射量は、照射領域において細菌類を殺菌するのに必要な光量を得られる出力に調整することができる。照射領域における細菌類の増殖を防止するように、例えば、細菌類が２倍に増殖する時間内に、細菌類が死滅する光量の紫外線を照射できるように紫外線発光ダイオード１１の紫外線放射量を調整する。このとき、例えば、レンズ１２及び被処理水配管１３内の水による紫外線の減衰や散乱による光量の損失は４０〜６０％に設定することができる。紫外線発光ダイオード１１の紫外線放射量は、紫外線殺菌装置１の設置個所や、主配管１３ａ、分岐配管１３ｂの内径、被処理水の流量等にもよるが、照射領域における後述の光量を得るために、例えば、１ｍＷ〜３０ｍＷである。
レンズ１２は、紫外線発光ダイオード１１から放射される紫外線を収束又は発散させる光学特性を有する。これにより、レンズ１２は、紫外線発光ダイオード１１から放射される紫外線を所定の照射領域に所定の光量で照射する。照射領域は、細菌類の付着し易い領域であり、具体的には、分岐配管１３ｂの主配管１３ａとの接続部の開口内、及び当該開口の近傍である。レンズ１２により照射領域に照射される紫外線の光量は、照射領域に存在する細菌類を殺菌できる光量であり、例えば、５０００μＷ・ｓｅｃ／ｃｍ２〜５０００００μＷ・ｓｅｃ／ｃｍ２である。照射領域に照射される紫外線の光量は、小さすぎると、殺菌効果が不十分となることがあり、大きすぎると紫外線が照射される配管が劣化するおそれがある。
レンズ１２は、紫外線発光ダイオード１１の光放出面１１ａ上に配置されて、主配管１３ａ内に露出した光放出面１１ａを水密的に封止する。レンズ１２の材質は、耐水性を有し、かつ、紫外線発光ダイオード１１の放射する２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を透過するものであり、例えば、天然石英ガラス、合成石英ガラス等の石英ガラスである。
レンズ１２の形状は、上記光学特性を有する形状であり、紫外線を照射しようとする照射領域の範囲や位置、照射領域に照射する紫外線の光量に応じて、適宜設計することができる。
レンズ１２の形状は、例えば、両主面を球面にしたレンズ、主面の一方を球面、他方を平面としたレンズ、主面の一方又は両者を球面及び平面以外の形状とした非球面レンズ等であるが、これに限定されない。例えば、レンズ１２は、紫外線発光ダイオード１１の放射する紫外線を収束させる凸レンズ、紫外線を発散させる凹レンズ等である。例えば、より直進性の高い紫外線発光ダイオード１１を用いる場合、紫外線発光ダイオード１１の放射する紫外線が、照射領域の全体に照射されるように、紫外線を発散させる凹レンズが使用可能である。
また、レンズ１２は、紫外線発光ダイオード１１から放射された紫外線の所定の光量が照射領域に照射されるように、厚みや大きさが設計される。
紫外線殺菌装置１は、例えば、被処理水配管１３の、分岐配管１３ｂの接続部の開口を臨む位置に取付け孔を設け、当該取付け孔にレンズ１２をはめ込み固定して、さらに、レンズ１２を介して紫外線が照射されるように、紫外線発光ダイオード１１を配置、固定することで設置される。
取付け孔は、主配管１３ａと、分岐配管１３ｂの末端部近傍の軸線Ｌｂが交差する位置に形成されることが好ましい。これにより、紫外線殺菌装置１は、分岐配管１３ｂの軸線Ｌｂと略平行方向に紫外線を照射するため、照射領域に、より大きな照射量の紫外線を照射することができる。
被処理水配管１３に設置される紫外線殺菌装置１の数は１つであっても２つ以上であってもよい。２つ以上の紫外線殺菌装置１を設置する場合には、所望の照射領域に集中して紫外線が照射されるように、各々レンズ１２の形状を設計する。２つ以上の紫外線殺菌装置１を用いることで、照射領域に照射される光量を増やすことができるので、殺菌効果の向上を得ることができる。
また、被処理水配管１３に２つ以上の紫外線殺菌装置１を設置する場合には、これらの紫外線殺菌装置１は、例えば、主配管１３ａの外周に沿って配置してもよいし、主配管１３ａの軸線Ｌａと平行に配置してもよい。また、２つ以上の紫外線殺菌装置１を設置する場合には、これら２つ以上の紫外線殺菌装置の紫外線放射量が上記好ましい範囲になるように設計する。
被処理水配管１３の主配管１３ａ及び分岐配管１３ｂは、超純水中への成分の溶出の少ない材料で構成される。このような材料は、例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ステンレス鋼等であるが、これらに限定されない。
分岐配管１３ｂは、例えば、主配管１３ａに設けられた接続口に、継手等によって接続される。また、上記材料によって、主配管１３ａと分岐配管１３ｂを有する形状の被処理水配管１３を作成して、使用してもよい。
被処理水配管１３において、分岐配管１３ｂには必要に応じて被処理水が通流されるように、バルブなどが介挿される。このバルブは例えば、水質を測定するためのサンプル水を採取するサンプリングバルブである。また、被処理水の水質を測定するために、分岐配管１３ｂに抵抗率計、導電率計、温度計等の水質測定機器が挿入されることもある。水質測定用のサンプル水に細菌類が混入した場合、水質を正確に測定できない。そのため、本実施形態の紫外線殺菌装置１は、水質測定用のサンプル水を採取する箇所や、主配管１３ａの、水質を測定する箇所に設置すると効果的である。
主配管１３ａと分岐配管１３ｂの接続態様は、例えば、分岐配管１３ｂの末端近傍の軸線Ｌｂが主配管１３ａの軸線Ｌａに対して略垂直の配置、分岐配管１３ｂの末端近傍の軸線Ｌｂが主配管１３ａの軸線Ｌａに対して傾斜させて接続された配置等であり、特に限定されない。
主配管１３ａ及び分岐配管１３ｂの内径は、主配管１３ａを設置する装置の構造に応じて適宜設定される。例えば、超純水製造装置では、主配管１３ａの内径は例えば１０〜２００ｍｍである。分岐配管１３ｂの内径は主配管１３ａより小さいと、溜まり水を生じやすいため、多大な効果が得られる。分岐配管１３ｂの内径は、例えば、５〜５０ｍｍである。
本実施形態の紫外線殺菌装置１によれば、主配管１３ａと分岐配管１３ｂの接続部分の溜まり水等を効果的に殺菌することができる。そのため、溜まり水での細菌や微生物の滞殖を防ぐことができる。また、紫外線の光源として、低圧紫外線ランプ等に比べて極めて小型の紫外線発光ダイオードを用いるため、設置個所や設置方法の自由度が高く、所望の照射領域を効果的に殺菌することができる。
図２に、抵抗率計等の水質測定器機の測定セルが分岐配管１３ｂ内に挿入された被処理水配管１３に設置される紫外線殺菌装置２を概略的に示す図である。図２において、図１に示す紫外線殺菌装置１と同様の機能を奏する構成には同一の符号を付して重複する説明を省略する。
紫外線殺菌装置２の設置される被処理水配管１３１では、分岐配管１３１ｂの末端近傍の軸線Ｌｃが主配管１３１ａの軸線Ｌｄに対して傾斜して接続されている。分岐配管１３１ｂには抵抗率計１９が配置されている。
抵抗率計１９は、被処理水と接触して抵抗率を測定する測定セル１９ａを備えており、測定セル１９ａが、分岐配管１３１ｂ内に挿入されて配置される。測定セル１９ａの近傍で細菌類が発生、増殖した場合、水質を正確に測定できなくなる。実施形態の紫外線殺菌装置２を設置することで、このような懸念を解消することができる。また、紫外線殺菌装置２は、紫外線発光ダイオード１１を光源としているため、小型化が容易であり、消費電力も小さい。そのため、分岐配管接続部等の微細空間の溜まり水を効率的かつ効果的に、殺菌することができる。
（超純水製造システム）
図３は、第１の実施形態の紫外線殺菌装置１を備えた超純水製造システム３を概略的に示す図である。超純水製造システム３は、前処理部３１、一次純水製造部４１、二次純水製造部５１を備えている。
図３は、第１の実施形態の紫外線殺菌装置１を備えた超純水製造システム３を概略的に示す図である。超純水製造システム３は、前処理部３１、一次純水製造部４１、二次純水製造部５１を備えている。
前処理部３１は、凝集・ろ過・沈殿装置等を備えて、原水中の濁質分等を除去し、前処理水を生成するものである。原水は、市水、井水、工業用水等や、半導体製造工場で使用された超純水を回収して処理した使用済み超純水であるが、これらに限定されない。
一次純水製造部４１は、前処理水中のほとんどのイオン成分及び非イオン成分を除去して、一次純水を生成する。一次純水製造部４１は、陽イオン交換樹脂装置、脱炭酸塔及び陰イオン交換樹脂装置からなる２床３塔型装置（２Ｂ３Ｔ）４２、逆浸透膜装置（ＲＯ）４３、紫外線酸化装置（ＴＯＣ−ＵＶ）４４、混床式イオン交換樹脂装置（ＭＢ）４５を備えている。一次純水製造部４１において、２床３塔型装置（２Ｂ３Ｔ）４２に代えて逆浸透膜装置（ＲＯ）を配置した、２段ＲＯ装置を用いてもよい。紫外線酸化装置４４は、例えば、被処理水に、低圧紫外線ランプ又は発光ダイオードによって、波長１８０〜１９０ｎｍにピーク波長を有する紫外線を照射して有機物を分解するものである。一次純水製造部４１で製造された一次純水はタンク４６に貯留される。
二次純水製造部５１は、タンク４６内の一次純水を供給して、該一次純水中の微量有機物や微量微粒子を除去する。二次純水製造部５１は、紫外線酸化装置（ＴＯＣ−ＵＶ）５２、膜脱気装置（ＭＤＧ）５３、非再生型混床式イオン交換樹脂装置（Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）５４、限外ろ過装置（ＵＦ）５５を組み合わせて構成される。二次純水製造部５１で得られた超純水は使用場所であるユースポイント（ＰＯＵ）５６に供給される。二次純水製造部５１で得られる超純水は、例えば、ＴＯＣ濃度が５μｇＣ／Ｌ以下、抵抗率が１７．５ＭΩ・ｃｍ以上である。
超純水製造システム３は、一次純水製造部４１の混床式イオン交換樹脂装置（ＭＢ）４５の後段と、二次純水製造部５１の、非再生型混床式イオン交換樹脂装置（Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）５４の後段に、抵抗率計１９を備えている。混床式イオン交換樹脂装置（ＭＢ）４５の処理水の排出管（主配管１３ａ）及び非再生型混床式イオン交換樹脂装置（Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）５４の処理水の排出管（主配管１３ａ）に、分岐配管１３ｂが接続され、分岐配管１３ｂにそれぞれ、測定セル１９ａが挿入されることで、抵抗率計１９が設置されている。
また、超純水製造システム３は、上記実施形態の紫外線殺菌装置１を備えている。紫外線殺菌装置１は、主配管１３ａの、分岐配管１３ｂの接続口と対向する壁面に、紫外線発光ダイオード１１の光放出面１１ａが位置するように設置されている。
超純水製造システム３における水質の測定に際して、測定セル１９ａの近傍で細菌類が発生、増殖した場合、水質を正確に測定できない。実施形態の紫外線殺菌装置１を設置することで、このような懸念を解消することができ、効果的である。また、紫外線殺菌装置１は、紫外線発光ダイオード１１を光源としているため、小型化が容易であり、消費電力も小さい。特に、極めて純度の高い超純水を製造する場合、分岐配管接続部等の微細空間の溜まり水を効果的に殺菌することで、水質向上効果も得られる。また、純度の高い超純水を製造する場合には、超純水製造システムのユニット数が多くなるが、実施形態の紫外線殺菌装置１によれば、設置態様の自由度が高く、設置スペースも小さくできるので、このような大型の超純水製造システムにも適している。
なお、超純水製造システム３では、混床式イオン交換樹脂装置（ＭＢ）４５の後段と、非再生型混床式イオン交換樹脂装置（Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）５４の後段に、抵抗率計１９を設けた態様を示したが、抵抗率計１９の設置個所はこれに限られず、限外ろ過装置５５の後段に配置されてもよい。また、超純水製造システム３における抵抗率計１９の設置台数は、１台でもよく、２台以上であってもよい。抵抗率計１９の設置台数は、必要に応じて適宜設定される。また、必要に応じて、紫外線殺菌装置１の設置台数も適宜変更することができる。
また、超純水製造システム３では、抵抗率計１９の配置個所に紫外線殺菌装置１を設置する態様を示したが、例えば、水質測定機器として、導電率計を使用する場合には、逆浸透膜装置４３の後段等に、導電率計と紫外線殺菌装置１を組み合わせて設置される。水質測定機器として、温度計を使用する場合には、例えば、タンク４６の後段に設置される熱交換器（図示せず）の後段等に、温度計と紫外線殺菌装置１を組み合わせて設置される。これらの場合も、上記抵抗率計１９と紫外線殺菌装置１を組み合わせて用いた場合と同様の効果が得られる。
１，２…紫外線殺菌装置、３…超純水製造システム、１１…紫外線発光ダイオード、１１ａ…光放出面、１２…レンズ、１３，１３１…被処理水配管、１３ａ，１３１ａ…主配管、１３ｂ，１３１ｂ…分岐配管、１５…電源装置、１８…細菌類、１９…抵抗率計、１９ａ…測定セル、３１…前処理部、４１…一次純水製造部、４２…２床３塔型装置装置（２Ｂ３Ｔ）、４３…逆浸透膜装置（ＲＯ）、４４…紫外線酸化装置（ＴＯＣ−ＵＶ）、４５…混床式イオン交換樹脂装置、４６…タンク、５１…二次純水製造部、５２…紫外線酸化装置（ＴＯＣ−ＵＶ）、５３…膜脱気装置（ＭＤＧ）、５４…非再生型混床式イオン交換樹脂装置（Ｐｏｌｉｓｈｅｒ）、５５…限外ろ過装置（ＵＦ）、５６…ユースポイント（ＰＯＵ）。
Claims (9)
- 被処理水の流路となる主配管と前記主配管に接続された分岐配管とを有するとともに、前記主配管の前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、
前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、
２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、
前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、
前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有することを特徴とする紫外線殺菌装置。 - 前記主配管に形成された取付け孔は、前記主配管と、前記分岐配管の末端部近傍の軸線とが交差する位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の紫外線殺菌装置。
- 前記分岐配管内に、被処理水の抵抗率を測定する抵抗率測定セルが配置されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の紫外線殺菌装置。
- 前記分岐配管は、前記分岐配管の末端部近傍の軸線が前記主配管の軸線に対して傾斜させて前記主配管に接続されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の紫外線殺菌装置。
- 前記レンズは、前記紫外線発光ダイオードの放射する紫外線を拡散させる光学特性を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の紫外線殺菌装置。
- 前記レンズは、石英ガラスからなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の紫外線殺菌装置。
- 前記主配管は、超純水を製造する超純水製造システムに備えられることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の紫外線殺菌装置。
- 被処理水の流路となる主配管と前記主配管に接続された分岐配管を有する被処理水配管の内壁面、及び前記被処理水配管内の被処理水を殺菌する紫外線殺菌方法であって、
前記主配管の、前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔を形成し、前記取付け孔にレンズを水密的に取付け、
２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線発光ダイオードを光源として、前記光源から放射される紫外線を前記レンズによって拡散又は収束させて、前記光源から放射された前記紫外線の所定の光量を前記分岐配管の開口内に照射することを特徴とする紫外線殺菌方法。 - 前処理部、一次純水製造部及び二次純水製造部を備え、
前記一次純水製造部及び前記二次純水製造部がそれぞれ混床式イオン交換樹脂装置を備えた超純水製造システムであって、
前記混床式イオン交換樹脂装置の処理水を排出する主配管と前記主配管の少なくとも１つに接続された分岐配管とを有するとともに、前記主配管の、前記分岐配管の接続部の開口を臨む位置に取付け孔の形成された被処理水配管と、
前記被処理水配管の前記取付け孔に水密的に取付けられたレンズと、
２３０〜２９０ｎｍに発光ピーク波長を有する紫外線を放射する紫外線発光ダイオードを光源とする紫外線照射装置とを備え、
前記紫外線発光ダイオードは、その光放出面を前記レンズ側に向けて、前記レンズの背面側に配置され、
前記レンズは、前記紫外線照射装置の光源から放射された前記紫外線の所定の光量が前記分岐配管の開口内に照射されるように前記紫外線を拡散又は収束させる光学特性を有することを特徴とする超純水製造システム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016123371A JP6697961B2 (ja) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム |
| KR1020187033874A KR20190020659A (ko) | 2016-06-22 | 2017-06-08 | 자외선 살균 장치, 자외선 살균 방법 및 초순수 제조 시스템 |
| CN201780038673.8A CN109415228B (zh) | 2016-06-22 | 2017-06-08 | 紫外线杀菌装置、紫外线杀菌方法及超纯水制造系统 |
| PCT/JP2017/021347 WO2017221733A1 (ja) | 2016-06-22 | 2017-06-08 | 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016123371A JP6697961B2 (ja) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017225925A true JP2017225925A (ja) | 2017-12-28 |
| JP6697961B2 JP6697961B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=60784220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016123371A Active JP6697961B2 (ja) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6697961B2 (ja) |
| KR (1) | KR20190020659A (ja) |
| CN (1) | CN109415228B (ja) |
| WO (1) | WO2017221733A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11752227B2 (en) | 2018-11-02 | 2023-09-12 | Enplas Corporation (Jp) | Ultraviolet irradiation unit and ultraviolet stertilization device |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI707827B (zh) * | 2019-12-06 | 2020-10-21 | 國立臺北科技大學 | 紫外線液體殺菌裝置 |
| CN111699806B (zh) * | 2020-05-12 | 2022-09-30 | 山东同其数字技术有限公司 | 一种农业园区场景的展示装置及其使用方法 |
| CN111829073B (zh) * | 2020-06-18 | 2021-07-23 | 宁波奥克斯电气股份有限公司 | 一种紫外线杀菌装置、方法及空调器 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61111189A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-29 | Sumitomo Jukikai Envirotec Kk | 超純水ラインの殺菌装置 |
| JP2010214241A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 浄水器 |
| US20130048545A1 (en) * | 2011-08-23 | 2013-02-28 | Maxim S. Shatalov | Water Disinfection Using Deep Ultraviolet Light |
| JP2013255864A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2014233712A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | Ckd株式会社 | 紫外線殺菌装置 |
| WO2016002475A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 株式会社日本フォトサイエンス | サンプリングバルブ |
| JP2016064111A (ja) * | 2014-09-24 | 2016-04-28 | 株式会社トクヤマ | 紫外線殺菌装置 |
| JP2016123930A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 純水製造装置 |
| WO2017043355A1 (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 日機装株式会社 | 殺菌装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007136372A (ja) | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水製造装置 |
| CN104803445B (zh) * | 2015-04-09 | 2016-08-17 | 国家海洋技术中心 | 水下紫外线杀菌器 |
| CN204625248U (zh) * | 2015-04-09 | 2015-09-09 | 国家海洋技术中心 | 水下紫外线杀菌器 |
-
2016
- 2016-06-22 JP JP2016123371A patent/JP6697961B2/ja active Active
-
2017
- 2017-06-08 WO PCT/JP2017/021347 patent/WO2017221733A1/ja active Application Filing
- 2017-06-08 KR KR1020187033874A patent/KR20190020659A/ko unknown
- 2017-06-08 CN CN201780038673.8A patent/CN109415228B/zh active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61111189A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-29 | Sumitomo Jukikai Envirotec Kk | 超純水ラインの殺菌装置 |
| JP2010214241A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 浄水器 |
| US20130048545A1 (en) * | 2011-08-23 | 2013-02-28 | Maxim S. Shatalov | Water Disinfection Using Deep Ultraviolet Light |
| JP2013255864A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2014233712A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | Ckd株式会社 | 紫外線殺菌装置 |
| WO2016002475A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 株式会社日本フォトサイエンス | サンプリングバルブ |
| JP2016064111A (ja) * | 2014-09-24 | 2016-04-28 | 株式会社トクヤマ | 紫外線殺菌装置 |
| JP2016123930A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 純水製造装置 |
| WO2017043355A1 (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 日機装株式会社 | 殺菌装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11752227B2 (en) | 2018-11-02 | 2023-09-12 | Enplas Corporation (Jp) | Ultraviolet irradiation unit and ultraviolet stertilization device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109415228A (zh) | 2019-03-01 |
| JP6697961B2 (ja) | 2020-05-27 |
| KR20190020659A (ko) | 2019-03-04 |
| WO2017221733A1 (ja) | 2017-12-28 |
| CN109415228B (zh) | 2022-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2017221733A1 (ja) | 紫外線殺菌装置、紫外線殺菌方法及び超純水製造システム | |
| US20130048545A1 (en) | Water Disinfection Using Deep Ultraviolet Light | |
| US10442704B2 (en) | Ultraviolet fluid disinfection system with feedback sensor | |
| JP6374403B2 (ja) | 発光ダイオードから放射された光による液体消毒方法及び装置 | |
| US9802840B2 (en) | Ultraviolet water disinfection system | |
| US4676896A (en) | Faucet mounted purifier | |
| US10787375B2 (en) | Ultraviolet water disinfection system | |
| ES2551508T3 (es) | Aparato y método para tratamiento de agua de lastre | |
| US9168321B2 (en) | Toroidal-shaped treatment device for disinfecting a fluid such as air or water | |
| BR112020004187B1 (pt) | Dispositivo de prevenção de formação de bioincrustação submarino e processo para operação submarina de um fluido-alvo | |
| TW201701938A (zh) | 淨水器及淨水器用濾心匣 | |
| JP2012223736A (ja) | 液体清浄化処理装置 | |
| JP2016010789A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| CN113800591A (zh) | 一种自来水管道激光消毒装置 | |
| JP6382714B2 (ja) | 純水製造装置 | |
| CN213388169U (zh) | 一种膜分离与臭氧紫外线联用的饮用水消毒灭菌系统 | |
| JP7411770B2 (ja) | 水処理装置 | |
| KR101811120B1 (ko) | 양방향 살균시스템 | |
| KR20210006034A (ko) | 정수장치 | |
| CN203545727U (zh) | 一种主动式紫外线污水处理系统 | |
| JP2011161443A (ja) | 紫外線消毒装置 | |
| KR100988238B1 (ko) | 저압 역삼투압막과 이온 교환수지를 이용한 정수처리 장치 및 시스템 | |
| JP2018202292A (ja) | 純水タンク内の生菌繁殖を抑制する方法及び純水製造装置 | |
| KR100739045B1 (ko) | 자외선과 미세 기포를 이용한 유수 살균장치 | |
| WO2020004272A1 (ja) | 水処理システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191211 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200114 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200213 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200303 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200326 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200407 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200427 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6697961 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |