JP2017207659A - Optical filter and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter and the like, having a structure for preventing foreign matter from intruding through a circumferential cavity communicating with a central cavity and the outside.SOLUTION: An etalon filter 10 comprises: a first light transmission body 11 including a first outside surface 11a and a first inside surface 11b; a second light transmission body 12 including a second outside surface 12a and a second inside surface 12b; metal layers 131-134 held between a circumferential side of the first inside surface 11b and a circumferential side of the second inside surface 12b, and bonding the first light transmission body 11 and the second light transmission body 12; a central cavity 14 between a center side of the first inside surface 11b and a center side of the second inside surface 12b; circumferential cavities 151-154 held between the circumferential side of the first inside surface 11b and the circumferential side of the second inside surface 12b, and communicating with the central cavity 14 and the outside; and translucent resin 23 filling the circumferential cavities 151-154 and the central cavity 14.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、二つの対向する反射面の多重干渉を利用した光学フィルタ、及びその製造方法に関する。本明細書では、そのような光学フィルタの一例としてエタロンフィルタを採り上げる。   The present invention relates to an optical filter that uses multiple interference between two opposing reflecting surfaces, and a method for manufacturing the same. In this specification, an etalon filter is taken as an example of such an optical filter.

エタロンフィルタは、例えば、大容量光伝送システムに必要不可欠な波長可変レーザモジュールにおいて、光波長が安定して発振されているか否かをモニタする部品として用いられる。図6[A]は関連技術1のエタロンフィルタ(例えば特許文献1参照)を示す一部を切り欠いた正面図、図6[B]は図6[A]におけるVIb−VIb線断面図、図7は図6[B]の部分拡大図である。以下、これらの図面に基づき説明する。   The etalon filter is used, for example, as a component for monitoring whether or not an optical wavelength is stably oscillated in a wavelength variable laser module indispensable for a large-capacity optical transmission system. 6 [A] is a front view of the related art 1 showing an etalon filter (see, for example, Patent Document 1) with a part cut away, and FIG. 6 [B] is a sectional view taken along line VIb-VIb in FIG. 6 [A]. 7 is a partially enlarged view of FIG. 6B. Hereinafter, description will be given based on these drawings.

関連技術1のエタロンフィルタ80は、第一外側面81a及び第一内側面81bを有する第一透光体81と、第二外側面82a及び第二内側面82bを有する第二透光体82と、第一内側面81bの周縁側と第二内側面82bの周縁側とに挟まれるとともに第一透光体81と第二透光体82とを接合する金属層831〜834と、第一内側面81bの中央側と第二内側面82bの中央側とに挟まれた中央空隙84と、第一内側面81bの周縁側と第二内側面82bの周縁側とに挟まれるとともに中央空隙84と外部とに連通する周縁空隙851〜854と、を基本的に備えている。   The etalon filter 80 of Related Art 1 includes a first light transmitting body 81 having a first outer surface 81a and a first inner surface 81b, and a second light transmitting body 82 having a second outer surface 82a and a second inner surface 82b. A metal layer 831 to 834 that is sandwiched between the peripheral side of the first inner side surface 81b and the peripheral side of the second inner side surface 82b and joins the first light transmitting body 81 and the second light transmitting body 82; A central gap 84 sandwiched between the central side of the side surface 81b and the central side of the second inner side surface 82b, and a central gap 84 sandwiched between the peripheral side of the first inner side surface 81b and the peripheral side of the second inner side surface 82b. Basically, peripheral gaps 851 to 854 communicating with the outside are provided.

また、第一外側面81aは第一反射膜91aで覆われ、第二外側面82aは第二反射膜92aで覆われ、第一内側面81bは第一反射防止膜91bで覆われ、第二内側面82bは第二反射防止膜92bで覆われている。レーザ光Lは、第一外側面81aから入射し中央空隙84を通って第二外側面82aから出射する。このとき、レーザ光Lが第一外側面81aと第二外側面82aとの間で多重干渉を生じることにより、光周波数に対して透過率が周期的に変化するフィルタ特性が得られる。   The first outer surface 81a is covered with the first reflective film 91a, the second outer surface 82a is covered with the second reflective film 92a, the first inner side surface 81b is covered with the first antireflection film 91b, and the second The inner side surface 82b is covered with a second antireflection film 92b. The laser beam L is incident from the first outer surface 81a, passes through the central gap 84, and is emitted from the second outer surface 82a. At this time, the laser beam L causes multiple interference between the first outer surface 81a and the second outer surface 82a, thereby obtaining a filter characteristic in which the transmittance periodically changes with respect to the optical frequency.

特開2015−132781号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-132781

周縁空隙851〜854が存在する理由の一つとして、金属層831〜834の成膜時にメタルマスクを使用することが挙げられる。つまり、金属層831〜834の成膜時にメタルマスクで覆われた領域が、中央空隙84及び周縁空隙851〜854となる。このとき、メタルマスクの一つの円形状の中央部が中央空隙84に対応し、その中央部を支持する四つ矩形状の周縁部が周縁空隙851〜854に対応する。   One reason for the presence of the peripheral voids 851 to 854 is to use a metal mask when forming the metal layers 831 to 834. That is, the regions covered with the metal mask when the metal layers 831 to 834 are formed are the central gap 84 and the peripheral gaps 851 to 854. At this time, one circular central part of the metal mask corresponds to the central gap 84, and four rectangular peripheral parts supporting the central part correspond to the peripheral gaps 851 to 854.

しかしながら、周縁空隙851〜854は、外部に連通しているため、外部から異物931〜934が侵入することがあった。特に、金属層831〜834を介して接合された二枚の基板をダイシングによって切断し、多数のエタロンフィルタ80を得る際に、切断で使用するオイルや洗浄液が異物931〜934として周縁空隙851〜854から中央空隙84に入り込む。その結果、異物931〜934がレーザ光Lの進行を妨害するため、エタロンフィルタ80の特性や信頼性に悪影響を及ぼすことになる。   However, since the peripheral voids 851 to 854 communicate with the outside, foreign matter 931 to 934 may enter from the outside. In particular, when two substrates bonded through the metal layers 831 to 834 are cut by dicing to obtain a large number of etalon filters 80, oil and cleaning liquid used in the cutting are the foreign matters 931 to 934 as the peripheral gaps 851 to 851. From 854, it enters the central gap 84. As a result, the foreign matters 931 to 934 obstruct the progress of the laser light L, which adversely affects the characteristics and reliability of the etalon filter 80.

そこで、本発明の目的は、中央空隙と外部とに連通する周縁空隙から異物が侵入しない構造を有する光学フィルタ及びその製造方法を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide an optical filter having a structure in which foreign matter does not enter from a peripheral gap communicating with a central gap and the outside, and a method for manufacturing the same.

本発明に係る光学フィルタは、
入射面となる第一外側面及びその背面の第一内側面を有する第一透光体と、
出射面となる第二外側面及びその背面の第二内側面を有する第二透光体と、
前記第一内側面の周縁側と前記第二内側面の周縁側とに挟まれ、前記第一透光体と前記第二透光体とを接合する金属層と、
前記第一内側面の中央側と前記第二内側面の中央側とに挟まれた中央空隙と、
前記第一内側面の周縁側と前記第二内側面の周縁側とに挟まれ、前記中央空隙と外部とに連通する周縁空隙と、
この周縁空隙及び前記中央空隙に満たされた透光樹脂と、
を備えたものである。
The optical filter according to the present invention is:
A first light-transmitting body having a first outer surface as an incident surface and a first inner surface on the rear surface;
A second light-transmitting body having a second outer surface serving as an output surface and a second inner surface on the rear surface;
A metal layer sandwiched between the peripheral side of the first inner surface and the peripheral side of the second inner surface, and joining the first light transmitting body and the second light transmitting body;
A central gap sandwiched between the center side of the first inner surface and the center side of the second inner surface;
A peripheral gap sandwiched between a peripheral side of the first inner side and a peripheral side of the second inner side, and communicating with the central gap and the outside;
A translucent resin filled in the peripheral gap and the central gap;
It is equipped with.

本発明に係る光学フィルタの製造方法は、
本発明に係る光学フィルタを製造する方法であって、
複数の前記第一透光体となる第一基板の一方の面及び複数の前記第二透光体となる第二基板の一方の面をメタルマスクで覆い、このメタルマスクで覆われていない領域にのみ前記金属層となる金属膜を形成する工程と、
前記第一基板に形成された前記金属膜と前記第二基板に形成された前記金属膜とを突き合わせて接合することにより、前記金属層、前記中央空隙及び前記周縁空隙を形成する工程と、
前記中央空隙及び前記周縁空隙に液状の前記透光樹脂を充填した後に当該透光樹脂を固化する工程と、
前記中央空隙及び前記周縁空隙に前記透光樹脂が充填かつ固化された前記第一基板及び前記第二基板を複数に切断することにより、複数の前記光学フィルタを得る工程と、
を含む。
The method for producing an optical filter according to the present invention includes:
A method for producing an optical filter according to the present invention, comprising:
One surface of the first substrate serving as the plurality of first light transmitting bodies and one surface of the second substrate serving as the plurality of second light transmitting bodies are covered with a metal mask, and are not covered with the metal mask. Forming a metal film to be the metal layer only in
Forming the metal layer, the central gap and the peripheral gap by abutting and joining the metal film formed on the first substrate and the metal film formed on the second substrate;
Solidifying the translucent resin after filling the central gap and the peripheral gap with the liquid translucent resin;
A step of obtaining a plurality of the optical filters by cutting the first substrate and the second substrate in which the light-transmitting resin is filled and solidified into the central space and the peripheral space;
including.

本発明に係る光学フィルタによれば、周縁空隙及び中央空隙が透光樹脂で満たされていることにより、異物が外部から周縁空隙を通って中央空隙へ侵入することを阻止できるので、歩留り及び信頼性を向上できる。   According to the optical filter of the present invention, since the peripheral gap and the central gap are filled with the light-transmitting resin, it is possible to prevent foreign matter from entering the central gap from the outside through the peripheral gap. Can be improved.

本発明に係る光学フィルタの製造方法によれば、貼り合された第一基板及び第二基板を複数に切断する際に、周縁空隙及び中央空隙に透光樹脂が充填されていることにより、異物が外部から周縁空隙を通って中央空隙へ侵入することを阻止できるので、歩留り及び信頼性を向上できる。   According to the method for manufacturing an optical filter according to the present invention, when the bonded first substrate and second substrate are cut into a plurality of pieces, the peripheral gap and the central gap are filled with a light-transmitting resin, so that a foreign matter is obtained. Can be prevented from entering the central gap from the outside through the peripheral gap, so that the yield and reliability can be improved.

実施形態1のエタロンフィルタを示し、図1[A]は一部を切り欠いた正面図、図1[B]は図1[A]におけるIb−Ib線断面図である。The etalon filter of Embodiment 1 is shown, FIG. 1 [A] is the front view which notched one part, FIG. 1 [B] is the Ib-Ib sectional view taken on the line in FIG. 1 [A]. 図1[B]の部分拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG. 実施形態1のエタロンフィルタを示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating an etalon filter according to Embodiment 1. FIG. 実施形態2の製造方法を示す平面図であり、図4[A]、図4[B]の順に工程が進行する。It is a top view which shows the manufacturing method of Embodiment 2, and a process progresses in order of FIG. 4 [A] and FIG. 4 [B]. 実施形態2の製造方法を示す概略図であり、図5[A]、図5[B]、図5[C]、図5[D]、図5[E]、図5[F]の順に工程が進行する。It is the schematic which shows the manufacturing method of Embodiment 2, FIG.5 [A], FIG.5 [B], FIG.5 [C], FIG.5 [D], FIG.5 [E], FIG.5 [F] in order. The process proceeds. 関連技術1のエタロンフィルタを示し、図6[A]は一部を切り欠いた正面図、図6[B]は図6[A]におけるVIb−VIb線断面図である。FIG. 6A is a front view with a part cut away, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line VIb-VIb in FIG. 6A. 図6[B]の部分拡大図である。FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG.

以下、添付図面を参照しながら、本発明を実施するための形態(以下「実施形態」という。)について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成要素については同一の符号を用いる。また、図面に描かれた形状は、当業者が理解しやすいように描かれているため、実際の寸法及び比率とは必ずしも一致していない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “embodiments”) will be described with reference to the accompanying drawings. In the present specification and drawings, the same reference numerals are used for substantially the same components. Moreover, since the shape drawn on drawing is drawn so that those skilled in the art can understand easily, it does not necessarily correspond with an actual dimension and ratio.

図1[A]は実施形態1のエタロンフィルタを示す一部を切り欠いた正面図、図1[B]は図1[A]におけるIb−Ib線断面図、図2は図1[B]の部分拡大図、図3は実施形態1のエタロンフィルタを示す斜視図である。以下、これらの図面に基づき説明する。   1A is a partially cutaway front view showing the etalon filter of Embodiment 1, FIG. 1B is a sectional view taken along line Ib-Ib in FIG. 1A, and FIG. 2 is FIG. 1B. FIG. 3 is a perspective view showing the etalon filter of the first embodiment. Hereinafter, description will be given based on these drawings.

本実施形態1のエタロンフィルタ10は、入射面となる第一外側面11a及びその背面の第一内側面11bを有する第一透光体11と、出射面となる第二外側面12a及びその背面の第二内側面12bを有する第二透光体12と、第一内側面11bの周縁側と第二内側面12bの周縁側とに挟まれるとともに第一透光体11と第二透光体12とを接合する金属層131〜134と、第一内側面11bの中央側と第二内側面12bの中央側とに挟まれた中央空隙14と、第一内側面11bの周縁側と第二内側面12bの周縁側とに挟まれるとともに中央空隙14と外部とに連通する周縁空隙151〜154と、周縁空隙151〜154及び中央空隙14に満たされた透光樹脂23と、を基本的に備えている。   The etalon filter 10 according to the first embodiment includes a first translucent body 11 having a first outer surface 11a serving as an incident surface and a first inner surface 11b serving as a rear surface thereof, and a second outer surface 12a serving as an output surface and the rear surface thereof. The second translucent body 12 having the second inner side surface 12b, and the first translucent body 11 and the second translucent body are sandwiched between the peripheral side of the first inner side surface 11b and the peripheral side of the second inner side surface 12b. 12, the central gap 14 sandwiched between the central side of the first inner side surface 11 b and the central side of the second inner side surface 12 b, the peripheral side of the first inner side surface 11 b, and the second side The peripheral gaps 151 to 154 sandwiched between the peripheral side of the inner side surface 12b and communicated with the central gap 14 and the outside, and the translucent resin 23 filled with the peripheral gaps 151 to 154 and the central gap 14 are basically provided. I have.

また、第一外側面11aは第一反射膜21aで覆われ、第二外側面12aは第二反射膜22aで覆われ、第一内側面11bは第一反射防止膜21bで覆われ、第二内側面12bは第二反射防止膜22bで覆われている。レーザ光Lは、第一外側面11aから入射し中央空隙14を通って第二外側面12aから出射する。このとき、レーザ光Lが第一外側面11aと第二外側面12aとの間で多重干渉を生じることにより、光周波数に対して透過率が周期的に変化するフィルタ特性が得られる。なお、図3では、エタロンフィルタ10内の構造のうち、金属層131〜134、中央空隙14及び周縁空隙151〜154のみを破線で示している。   The first outer surface 11a is covered with the first reflective film 21a, the second outer surface 12a is covered with the second reflective film 22a, the first inner surface 11b is covered with the first antireflection film 21b, and the second The inner side surface 12b is covered with a second antireflection film 22b. The laser beam L is incident from the first outer surface 11a, passes through the central gap 14, and is emitted from the second outer surface 12a. At this time, the laser beam L causes multiple interference between the first outer surface 11a and the second outer surface 12a, thereby obtaining a filter characteristic in which the transmittance periodically changes with respect to the optical frequency. In FIG. 3, only the metal layers 131 to 134, the central gap 14, and the peripheral gaps 151 to 154 of the structure inside the etalon filter 10 are indicated by broken lines.

次に、エタロンフィルタ10の構成について、更に詳しく説明する。   Next, the configuration of the etalon filter 10 will be described in more detail.

エタロンフィルタ10は、全体として直方体状である。ここで言う直方体には、立方体はもちろんのこと、実質的に直方体として扱える平行六面体なども含まれる。正面から見て、第一外側面11a及び第二外側面12aは正方形、レーザ光Lが透過する中央空隙14は円形、中央空隙14の周囲の周縁空隙151〜154は矩形である。また、中央空隙14の周囲には接合用の四つの金属層131〜134がある。金属層131〜134の各境界は、周縁空隙151〜154になっている。周縁空隙151〜154は、金属層131〜134の成膜時に用いたメタルマスクの保持跡である。   The etalon filter 10 has a rectangular parallelepiped shape as a whole. The rectangular parallelepiped mentioned here includes not only a cube but also a parallelepiped that can be handled substantially as a rectangular parallelepiped. When viewed from the front, the first outer surface 11a and the second outer surface 12a are square, the central gap 14 through which the laser light L is transmitted is circular, and the peripheral gaps 151 to 154 around the central gap 14 are rectangular. In addition, there are four metal layers 131 to 134 for bonding around the central gap 14. Each boundary of the metal layers 131 to 134 is a peripheral gap 151 to 154. The peripheral gaps 151 to 154 are holding marks of the metal mask used when the metal layers 131 to 134 are formed.

中央空隙14及び周縁空隙151〜154を満たす透光樹脂23は、液状の光学用樹脂として市販され、光又は熱によって固化するものが好ましい。そのような光学用樹脂は、主成分によってエポキシ系、アクリル系、ビニル系などに分類され、光路結合用接着剤や光部品用シール材など様々な用途に使われる。また、光学用樹脂の屈折率は、成分を調整することによって所望の値を選択できる。   The translucent resin 23 that fills the central gap 14 and the peripheral gaps 151 to 154 is commercially available as a liquid optical resin, and is preferably solidified by light or heat. Such optical resins are classified into epoxy-based, acrylic-based, vinyl-based, etc. depending on the main component, and are used for various applications such as optical path bonding adhesives and optical component sealing materials. The refractive index of the optical resin can be selected as a desired value by adjusting the components.

第一透光体11は、温度上昇変化に対する光路長の変化が正(特性指数が正)の材料からなる。第二透光体12は、温度上昇変化に対する光路長の変化が負(特性指数が負)の材料からなる。なお、図1では、特性指数が正の材料を入射側に配置し、特性指数が負の材料を出射側に配置しているが、これとは逆に、特性指数が負の材料を入射側に配置し、特性指数が正の材料を出射側に配置してもよい。特性指数が正の材料としては、例えば、水晶(SiO)を挙げることができる。また、特性指数が負の材料としては、例えば、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)を挙げることができる。このように、第一透光体11と第二透光体12とを貼り合せてエタロンフィルタ10としたことにより、エタロンフィルタ10の光路長が温度変化に対して一定になる。 The first light transmitting body 11 is made of a material having a positive change in optical path length (a characteristic index is positive) with respect to a change in temperature. The second light-transmitting body 12 is made of a material whose change in the optical path length with respect to a change in temperature is negative (characteristic index is negative). In FIG. 1, a material having a positive characteristic index is arranged on the incident side, and a material having a negative characteristic index is arranged on the outgoing side. On the contrary, a material having a negative characteristic index is arranged on the incident side. A material having a positive characteristic index may be arranged on the emission side. An example of the material having a positive characteristic index is quartz (SiO 2 ). Examples of the material having a negative characteristic index include strontium titanate (SrTiO 3 ). As described above, the first light-transmitting body 11 and the second light-transmitting body 12 are bonded to form the etalon filter 10, so that the optical path length of the etalon filter 10 becomes constant with respect to the temperature change.

金属層131〜134は、第一透光体11の第一内側面11b(第一反射防止膜21b)にスパッタリング等により付した金属膜と、第二透光体12の第二内側面12b(第二反射防止膜22b)にスパッタリング等により付した金属膜とを、突き合わせて接合したものである。この接合に際しては、薄い金属膜でも充分な接合強度が得られる原子拡散接合法が用いられている。これにより、薄膜であるにもかかわらず充分な接合強度を備えた金属層131〜134が形成される。   The metal layers 131 to 134 include a metal film attached to the first inner side surface 11b (first antireflection film 21b) of the first light transmitting body 11 by sputtering and the second inner side surface 12b ( A metal film attached to the second antireflection film 22b) by sputtering or the like is abutted and joined. At the time of this bonding, an atomic diffusion bonding method is used in which sufficient bonding strength can be obtained even with a thin metal film. As a result, the metal layers 131 to 134 having sufficient bonding strength despite the thin film are formed.

これらの各金属膜は、例えば、第一反射防止膜21b側又は第二反射防止膜22b側から、クロム(Cr)又はタンタル(Ta)と金(Au)とが積層されたものである。そして、一対の金属膜は、Au同士が原子拡散により接合されることにより、互いに接合されている。このように、第一反射防止膜21b及び第二反射防止膜22b(又は第一透光体11及び第二透光体12)との接合を強固にするCr又はTaと、金属同士の接合を強固にするAuとの積層構造にすることにより、第一透光体11と第二透光体12との固定が好適になされる。   Each of these metal films is formed by laminating chromium (Cr) or tantalum (Ta) and gold (Au) from the first antireflection film 21b side or the second antireflection film 22b side, for example. The pair of metal films are bonded to each other by bonding Au to each other by atomic diffusion. In this way, the bonding between Cr and Ta, which strengthens the bonding between the first antireflection film 21b and the second antireflection film 22b (or the first light transmitting body 11 and the second light transmitting body 12), and the metal is bonded. The first light-transmitting body 11 and the second light-transmitting body 12 are preferably fixed by using a laminated structure with Au to be strengthened.

第一反射防止膜21bは第一透光体11と透光樹脂23との界面における反射を抑制し、第二反射防止膜22bは第二透光体12と透光樹脂23との界面における反射を抑制する。また、第一反射防止膜21bの屈折率はその両側に位置する第一透光体11及び透光樹脂23の屈折率の幾何平均に、第二反射防止膜22bの屈折率はその両側に位置する第二透光体12及び透光樹脂23の屈折率の幾何平均に、それぞれ一致又は近似することが好ましい。なお、透光樹脂23の屈折率が第一透光体11の屈折率に等しい場合は第一反射防止膜21bを省略でき、透光樹脂23の屈折率が第二透光体12の屈折率に等しい場合は第二反射防止膜22bを省略できる。   The first antireflection film 21b suppresses reflection at the interface between the first light transmitting body 11 and the light transmitting resin 23, and the second antireflection film 22b reflects at the interface between the second light transmitting body 12 and the light transmitting resin 23. Suppress. The refractive index of the first antireflection film 21b is the geometric average of the refractive indexes of the first light transmitting body 11 and the light transmitting resin 23 located on both sides thereof, and the refractive index of the second antireflection film 22b is located on both sides thereof. It is preferable to match or approximate the geometric average of the refractive indexes of the second light transmitting body 12 and the light transmitting resin 23. When the refractive index of the translucent resin 23 is equal to the refractive index of the first translucent body 11, the first antireflection film 21 b can be omitted, and the refractive index of the translucent resin 23 is the refractive index of the second translucent body 12. , The second antireflection film 22b can be omitted.

第一反射防止膜21b及び第二反射防止膜22bは、例えば、屈折率が互いに異なる複数の薄膜の積層体である。複数の薄膜は、所望の光学特性(例えば反射率)が得られるように、その材料、積層数及び厚みが設計されている。各薄膜の材料は例えば誘電体であり、その誘電体は例えば、二酸化ケイ素(SiO)、二酸化チタン(TiO)、五酸化タンタル(Ta)である。複数の薄膜の積層数は、例えば10以下である。複数の薄膜は互いに密着して固定され、第一反射防止膜21bは第一透光体11に密着して固定され、第二反射防止膜22bは第二透光体12に密着して固定されている。 The first antireflection film 21b and the second antireflection film 22b are, for example, a laminate of a plurality of thin films having different refractive indexes. The materials, the number of layers, and the thickness of the plurality of thin films are designed so that desired optical characteristics (for example, reflectance) can be obtained. The material of each thin film is, for example, a dielectric, and the dielectric is, for example, silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), or tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ). The number of laminated thin films is, for example, 10 or less. The plurality of thin films are fixed in close contact with each other, the first antireflection film 21b is fixed in close contact with the first light transmitting body 11, and the second antireflection film 22b is fixed in close contact with the second light transmitting body 12. ing.

第一反射膜21a及び第二反射膜22aは、例えば、屈折率が互いに異なる複数の薄膜の積層体である。複数の薄膜は、所望の光学特性(例えば反射率)が得られるように、その材料、積層数及び厚みが設計されている。各薄膜の材料は例えば誘電体であり、その誘電体は例えば二酸化ケイ素(SiO)、二酸化チタン(TiO)、五酸化タンタル(Ta)である。複数の薄膜の積層数は、例えば10以下である。複数の薄膜は互いに密着して固定され、第一反射膜21aは第一透光体11に密着して固定され、第二反射膜22aは第二透光体12に密着して固定されている。 The first reflective film 21a and the second reflective film 22a are, for example, a laminate of a plurality of thin films having different refractive indexes. The materials, the number of layers, and the thickness of the plurality of thin films are designed so that desired optical characteristics (for example, reflectance) can be obtained. The material of each thin film is, for example, a dielectric, and the dielectric is, for example, silicon dioxide (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), or tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ). The number of laminated thin films is, for example, 10 or less. The plurality of thin films are fixed in close contact with each other, the first reflective film 21a is fixed in close contact with the first light transmitting body 11, and the second reflective film 22a is fixed in close contact with the second light transmitting body 12. .

次に、エタロンフィルタ10の作用及び効果について説明する。   Next, the operation and effect of the etalon filter 10 will be described.

エタロンフィルタ10によれば、周縁空隙151〜154及び中央空隙14が透光樹脂23で満たされていることにより、異物が外部から周縁空隙151〜154を通って中央空隙14へ侵入することを阻止できるので、歩留り及び信頼性を向上できる。   According to the etalon filter 10, the peripheral gaps 151 to 154 and the central gap 14 are filled with the translucent resin 23, thereby preventing foreign matter from entering the central gap 14 from the outside through the peripheral gaps 151 to 154. Therefore, the yield and reliability can be improved.

透光樹脂23が接着剤である場合は、金属層131〜134による接合力に、透光樹脂23による接着力が加わることにより、第一透光体11と第二透光体12との貼り合せ強度を向上できる。しかも、金属層131〜134の膜厚によって中央間隙14の厚みが決まるので、透光樹脂23の接着剤のみを用いて第一透光体11と第二透光体12とを貼り合せた場合に比べて、例えばFSR(Free Spectral Range)特性のバラツキを抑制できる。   When the translucent resin 23 is an adhesive, the bonding force of the translucent resin 23 is added to the bonding force of the metal layers 131 to 134 so that the first translucent body 11 and the second translucent body 12 are bonded. The bonding strength can be improved. Moreover, since the thickness of the central gap 14 is determined by the film thickness of the metal layers 131 to 134, the first transparent body 11 and the second transparent body 12 are bonded using only the adhesive of the transparent resin 23. For example, variation in FSR (Free Spectral Range) characteristics can be suppressed.

透光樹脂23の屈折率が第一透光体11及び第二透光体12の少なくとも一方の屈折率に等しい場合は、第一反射防止膜21b及び第二反射防止膜22bの少なくとも一方を省略できるので、エタロンフィルタ10の製造の容易化及び製造コストの低減を達成できる。   When the refractive index of the translucent resin 23 is equal to at least one of the first translucent body 11 and the second translucent body 12, at least one of the first antireflection film 21b and the second antireflection film 22b is omitted. Therefore, the etalon filter 10 can be easily manufactured and the manufacturing cost can be reduced.

次に、エタロンフィルタ10を製造する方法の一例を、実施形態2の製造方法として説明する。図4は実施形態2の製造方法を示す平面図であり、図4[A]、図4[B]の順に工程が進行する。図5は、実施形態2の製造方法を示す概略図であり、図5[A]、図5[B]、図5[C]、図5[D]、図5[E]、図5[F]の順に工程が進行する。以下、図1乃至図3に図4及び図5を加えて説明する。   Next, an example of a method for manufacturing the etalon filter 10 will be described as a manufacturing method of the second embodiment. FIG. 4 is a plan view showing the manufacturing method of the second embodiment, and the process proceeds in the order of FIG. 4A and FIG. 4B. FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a manufacturing method according to the second embodiment. FIG. 5 [A], FIG. 5 [B], FIG. 5 [C], FIG. 5 [D], FIG. The process proceeds in the order of F]. Hereinafter, description will be made by adding FIGS. 4 and 5 to FIGS.

本実施形態2の製造方法は、エタロンフィルタ10を製造する方法であって、次の工程を含む。   The manufacturing method of the second embodiment is a method of manufacturing the etalon filter 10 and includes the following steps.

複数の第一透光体11となる第一基板31の一方の面31b及び複数の第二透光体12となる第二基板32の一方の面32bをメタルマスク40で覆い、メタルマスク40で覆われていない領域にのみ金属層131〜134となる金属膜51,52を形成する第一工程(図4[A]〜図4[B])。   One surface 31 b of the first substrate 31 to be the plurality of first light transmitting bodies 11 and one surface 32 b of the second substrate 32 to be the plurality of second light transmitting bodies 12 are covered with the metal mask 40. 1st process of forming the metal films 51 and 52 used as the metal layers 131-134 only in the area | region which is not covered (FIG. 4 [A]-FIG. 4 [B]).

第一基板31に形成された金属膜51と第二基板32に形成された金属膜52とを突き合わせて接合することにより、金属層131〜134、中央空隙14及び周縁空隙151〜154を形成する第二工程(図4[B]の矢印)。   The metal film 51 formed on the first substrate 31 and the metal film 52 formed on the second substrate 32 are abutted and joined to form the metal layers 131 to 134, the central gap 14 and the peripheral gaps 151 to 154. Second step (arrow in FIG. 4B).

中央空隙14及び周縁空隙151〜154に液状の透光樹脂23を充填した後に透光樹脂23を固化する第三工程(図5[A]〜図5[E])。   A third step of solidifying the translucent resin 23 after filling the central void 14 and the peripheral voids 151 to 154 with the liquid translucent resin 23 (FIGS. 5A to 5E).

中央空隙14及び周縁空隙151〜154に透光樹脂23が充填かつ固化された第一基板31及び第二基板32を複数に切断することにより、複数のエタロンフィルタ10を得る第四工程(図5[F])。   A fourth step of obtaining a plurality of etalon filters 10 by cutting the first substrate 31 and the second substrate 32 in which the central gap 14 and the peripheral gaps 151 to 154 are filled and solidified with the transparent resin 23 into a plurality of pieces (FIG. 5). [F]).

次に、第一乃至第四工程について更に詳しく説明する。図4及び図5では、複数(図示する例では縦三個×横三個の合計九個。)のエタロンフィルタ10を同時に製造する工程を示している。   Next, the first to fourth steps will be described in more detail. 4 and 5 show a process of simultaneously manufacturing a plurality of etalon filters 10 (three in the illustrated example, a total of nine in the vertical direction and three in the horizontal direction).

<第一工程>まず、図4[A]に示すように、第一基板31の一方の面31b及び第二基板32の一方の面32bを、それぞれメタルマスク40で覆う。そして、図4[B]に示すように、第一基板31の一方の面31b及び第二基板32の一方の面32bのメタルマスク40で覆われていない領域にのみ、それぞれ金属膜51,52を形成する。その形成には、蒸着やスパッタリングなどの真空成膜法が好適である。   <First Step> First, as shown in FIG. 4A, one surface 31b of the first substrate 31 and one surface 32b of the second substrate 32 are each covered with a metal mask 40. Then, as shown in FIG. 4B, the metal films 51 and 52 are only formed in the regions not covered with the metal mask 40 on the one surface 31b of the first substrate 31 and the one surface 32b of the second substrate 32, respectively. Form. For the formation, vacuum film forming methods such as vapor deposition and sputtering are suitable.

このとき、第一基板31及び第二基板32は、複数のエタロンフィルタ10を形成可能な面積を有し、厚み研磨や反射防止膜や反射膜などのコーティングが既に施されているものを使用する。メタルマスク40は、例えば薄いステンレス板からなり、円形状の中央部44と、中央部44を支持する矩形状の周縁部451〜454と、メタルマスク40の外周を保持する四角枠状の枠部46とを有する。エタロンフィルタ一個あたり、中央部44は一個、周縁部451〜454は四個である。このように、メタルマスク40を使うことにより、フォトリソグラフィなどの複雑な技術を使わなくても、容易に金属膜51,52のパターンを形成できる。   At this time, the first substrate 31 and the second substrate 32 have an area where a plurality of etalon filters 10 can be formed, and those having already been coated with thickness polishing, an antireflection film, a reflection film, or the like are used. . The metal mask 40 is made of, for example, a thin stainless plate, and has a circular central portion 44, rectangular peripheral portions 451 to 454 that support the central portion 44, and a rectangular frame-shaped frame portion that holds the outer periphery of the metal mask 40. 46. One etalon filter has one central portion 44 and four peripheral portions 451-454. Thus, by using the metal mask 40, the patterns of the metal films 51 and 52 can be easily formed without using a complicated technique such as photolithography.

<第二工程>第一工程に続いて、図4[B]の矢印で示すように、金属膜51と金属膜52とを突き合わせて接合する。その後、接合面同士が完全に密着するように、第一基板31及び第二基板32を介して金属膜51,52を加圧する。これと同時に、金属同士の原子拡散を促進するために、第一基板31及び第二基板32を介して金属膜51,52を加熱してもよい。その加熱温度は、常温〜250〔℃〕程度が好ましい。   <Second Step> Subsequent to the first step, as shown by the arrow in FIG. 4B, the metal film 51 and the metal film 52 are butted and joined. Thereafter, the metal films 51 and 52 are pressed through the first substrate 31 and the second substrate 32 so that the bonding surfaces are in close contact with each other. At the same time, the metal films 51 and 52 may be heated via the first substrate 31 and the second substrate 32 in order to promote atomic diffusion between metals. The heating temperature is preferably from room temperature to about 250 [° C.].

<第三工程>第二工程に続いて、図5[A]〜図5[D]に示すように、中央空隙14及び周縁空隙151〜154に液状の透光樹脂23を充填する。そして、図5[E]に示すように、透光樹脂23を固化する。ここで、第一基板31と第二基板32とを第二工程で貼り合せたものを貼り合せ基板33と呼ぶことにし、透光樹脂23の充填工程及び固化工程について説明する。なお、図5[A]〜図5[E]において、貼り合せ基板33内の構造(すなわち金属層131〜134、中央空隙14及び周縁空隙151〜154)は図示を略す。   <Third Step> Subsequent to the second step, as shown in FIGS. 5A to 5D, a liquid translucent resin 23 is filled into the central gap 14 and the peripheral gaps 151 to 154. Then, as shown in FIG. 5E, the translucent resin 23 is solidified. Here, what bonded the 1st board | substrate 31 and the 2nd board | substrate 32 at the 2nd process will be called the bonding board | substrate 33, and the filling process and the solidification process of the translucent resin 23 are demonstrated. 5A to 5E, the structures in the bonded substrate 33 (that is, the metal layers 131 to 134, the central gap 14, and the peripheral gaps 151 to 154) are not shown.

まず、図5[A]に示すように、四角形状の貼り合せ基板33の四辺のうち、三辺を封止材34で封止し、残りの一辺を注入口35とする。そして、その貼り合せ基板33と、液状の透光樹脂23(紫外線固化型)が入った容器62とを、真空チャンバ61内に入れる。続いて、真空チャンバ61内の空気63を排出することにより、真空チャンバ61内を所定の真空度にする。続いて、所定の真空度を保ったまま、図5[B]に示すように、貼り合せ基板33の注入口35を、容器62内の液状の透光樹脂23に浸す。続いて、図5[C]に示すように、真空チャンバ61内に空気63を導入することにより、真空チャンバ61内を大気圧に戻す。すると、貼り合せ基板33内が減圧されているので、液状の透光樹脂23が貼り合せ基板33内に吸い上げられる。続いて、図5[D]に示すように、貼り合せ基板33内が液状の透光樹脂23で満たされると、貼り合せ基板33の注入口35を容器62内の液状の透光樹脂23から引き上げる。なお、透光樹脂23の充填時間を短くするには、できるだけ低粘度の透光樹脂23を使用すればよい。   First, as shown in FIG. 5A, among the four sides of the quadrangular bonded substrate 33, three sides are sealed with a sealing material 34, and the remaining one side is used as an injection port 35. Then, the bonded substrate 33 and the container 62 containing the liquid translucent resin 23 (ultraviolet solidification type) are placed in the vacuum chamber 61. Subsequently, the air 63 in the vacuum chamber 61 is discharged to make the inside of the vacuum chamber 61 have a predetermined degree of vacuum. Subsequently, the injection port 35 of the bonded substrate 33 is immersed in the liquid translucent resin 23 in the container 62 as shown in FIG. Subsequently, as shown in FIG. 5C, the air 63 is returned to the atmospheric pressure by introducing the air 63 into the vacuum chamber 61. Then, since the inside of the bonded substrate 33 is depressurized, the liquid translucent resin 23 is sucked into the bonded substrate 33. Subsequently, as shown in FIG. 5D, when the inside of the bonded substrate 33 is filled with the liquid transparent resin 23, the injection port 35 of the bonded substrate 33 is moved from the liquid transparent resin 23 in the container 62. Pull up. In order to shorten the filling time of the translucent resin 23, the translucent resin 23 having as low a viscosity as possible may be used.

続いて、図5[E]に示すように、真空チャンバ61内から取り出した貼り合せ基板33に対して、紫外線ランプ64から紫外線65を照射する。これにより、貼り合せ基板33内の液状の透光樹脂23が固化する。   Subsequently, as shown in FIG. 5E, the ultraviolet lamp 65 irradiates the bonded substrate 33 taken out from the vacuum chamber 61 with ultraviolet rays 65. Thereby, the liquid translucent resin 23 in the bonded substrate 33 is solidified.

<第四工程>第三工程に続いて、図5[F]に示すように、貼り合せ基板33をダイシングによって複数に切断することにより、複数のエタロンフィルタ10を得る。   <Fourth Step> Subsequent to the third step, as shown in FIG. 5F, a plurality of etalon filters 10 are obtained by cutting the bonded substrate 33 into a plurality of pieces by dicing.

次に、本実施形態2の製造方法の作用及び効果について説明する。本実施形態2の製造方法によれば、貼り合された第一基板31及び第二基板32を複数に切断する際に、周縁空隙151〜154及び中央空隙14に透光樹脂23が充填されていることにより、切断で使用するオイルや洗浄液などの異物が外部から周縁空隙151〜154を通って中央空隙14へ侵入することを阻止できるので、歩留り及び信頼性を向上できる。本実施形態2のその他の構成、作用及び効果は、実施形態1のそれらと同様である。   Next, the operation and effect of the manufacturing method of the second embodiment will be described. According to the manufacturing method of the second embodiment, the peripheral gaps 151 to 154 and the central gap 14 are filled with the transparent resin 23 when the bonded first substrate 31 and second substrate 32 are cut into a plurality of pieces. As a result, foreign substances such as oil and cleaning liquid used for cutting can be prevented from entering the central gap 14 from the outside through the peripheral gaps 151 to 154, so that the yield and reliability can be improved. Other configurations, operations, and effects of the second embodiment are the same as those of the first embodiment.

以上、上記各実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではない。例えば、上記各実施形態ではメタルマスクの使用によって周縁空隙が生じる場合を例示したが、これに限らず故意に周縁空隙を形成する場合にも本発明を適用できる。本発明の構成や詳細については、当業者が理解し得るさまざまな変更を加えることができる。また、本発明には、上記各実施形態の構成の一部又は全部を相互に適宜組み合わせたものも含まれる。   Although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments. For example, in each of the above-described embodiments, the case where the peripheral gap is generated by using the metal mask has been illustrated. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention can be applied to the case where the peripheral gap is intentionally formed. Various changes that can be understood by those skilled in the art can be made to the configuration and details of the present invention. Further, the present invention includes a combination of some or all of the configurations of the above-described embodiments as appropriate.

本発明は、ソリッド型やエアギャップ型のエタロンフィルタや、水晶以外の透明部材からなるエタロンフィルタなど、二つの対向する反射面の多重干渉を利用した光学フィルタであればどのようなものにも利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applicable to any optical filter using multiple interference between two opposing reflecting surfaces, such as a solid type or air gap type etalon filter or an etalon filter made of a transparent member other than quartz. Is possible.

<実施形態1>
10 エタロンフィルタ(光学フィルタ)
11 第一透光体
11a 第一外側面
11b 第一内側面
12 第二透光体
12a 第二外側面
12b 第二内側面
131,132,133,134 金属層
14 中央空隙
151,152,153,154 周縁空隙
21a 第一反射膜
22a 第二反射膜
21b 第一反射防止膜
22b 第二反射防止膜
23 透光樹脂
L レーザ光(光軸)
<実施形態2>
31 第一基板
31b 一方の面
32 第二基板
32b 一方の面
33 貼り合せ基板
34 封止材
35 注入口
40 メタルマスク
44 中央部
451,452,453,454 周縁部
46 枠部
51,52 金属膜
61 真空チャンバ
62 容器
63 空気
64 紫外線ランプ
65 紫外線
<関連技術1>
80 エタロンフィルタ
81 第一透光体
81a 第一外側面
81b 第一内側面
82 第二透光体
82a 第二外側面
82b 第二内側面
831,832,833,834 金属層
84 中央空隙
851,852,853,854 周縁空隙
91a 第一反射膜
92a 第二反射膜
91b 第一反射防止膜
92b 第二反射防止膜
931,932,933,934 異物
<Embodiment 1>
10 Etalon filter (optical filter)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 1st light transmission body 11a 1st outer surface 11b 1st inner surface 12 2nd light transmission body 12a 2nd outer surface 12b 2nd inner surface 131,132,133,134 Metal layer 14 Central space | gap 151,152,153 154 Peripheral gap 21a First reflection film 22a Second reflection film 21b First antireflection film 22b Second antireflection film 23 Translucent resin L Laser beam (optical axis)
<Embodiment 2>
31 First substrate 31b One side 32 Second substrate 32b One side 33 Bonded substrate 34 Sealing material 35 Inlet 40 Metal mask 44 Center part 451, 452, 453, 454 Peripheral part 46 Frame part 51, 52 Metal film 61 Vacuum chamber 62 Container 63 Air 64 UV lamp 65 UV <Related technology 1>
80 Etalon filter 81 First light transmitting member 81a First outer surface 81b First inner surface 82 Second light transmitting member 82a Second outer surface 82b Second inner surface 831, 832, 833, 834 Metal layer 84 Central gap 851, 852 , 853, 854 Peripheral gap 91a First reflection film 92a Second reflection film 91b First antireflection film 92b Second antireflection film 931, 932, 933, 934

Claims (4)

入射面となる第一外側面及びその背面の第一内側面を有する第一透光体と、
出射面となる第二外側面及びその背面の第二内側面を有する第二透光体と、
前記第一内側面の周縁側と前記第二内側面の周縁側とに挟まれ、前記第一透光体と前記第二透光体とを接合する金属層と、
前記第一内側面の中央側と前記第二内側面の中央側とに挟まれた中央空隙と、
前記第一内側面の周縁側と前記第二内側面の周縁側とに挟まれ、前記中央空隙と外部とに連通する周縁空隙と、
前記周縁空隙及び前記中央空隙に満たされた透光樹脂と、
を備えた光学フィルタ。
A first light-transmitting body having a first outer surface as an incident surface and a first inner surface on the rear surface;
A second light-transmitting body having a second outer surface serving as an output surface and a second inner surface on the rear surface;
A metal layer sandwiched between the peripheral side of the first inner surface and the peripheral side of the second inner surface, and joining the first light transmitting body and the second light transmitting body;
A central gap sandwiched between the center side of the first inner surface and the center side of the second inner surface;
A peripheral gap sandwiched between a peripheral side of the first inner side and a peripheral side of the second inner side, and communicating with the central gap and the outside;
A translucent resin filled in the peripheral gap and the central gap;
Optical filter with
前記透光樹脂は接着剤である、
請求項1記載の光学フィルタ。
The translucent resin is an adhesive;
The optical filter according to claim 1.
前記透光樹脂の屈折率は、前記第一透光体及び前記第二透光体の少なくとも一方の屈折率に等しい、
請求項1記載の光学フィルタ。
The refractive index of the translucent resin is equal to the refractive index of at least one of the first translucent body and the second translucent body.
The optical filter according to claim 1.
請求項1乃至3のいずれか一つに記載の光学フィルタを製造する方法であって、
複数の前記第一透光体となる第一基板の一方の面及び複数の前記第二透光体となる第二基板の一方の面をメタルマスクで覆い、前記メタルマスクで覆われていない領域にのみ前記金属層となる金属膜を形成する工程と、
前記第一基板に形成された前記金属膜と前記第二基板に形成された前記金属膜とを突き合わせて接合することにより、前記金属層、前記中央空隙及び前記周縁空隙を形成する工程と、
前記中央空隙及び前記周縁空隙に液状の前記透光樹脂を充填した後に当該透光樹脂を固化する工程と、
前記中央空隙及び前記周縁空隙に前記透光樹脂が充填かつ固化された前記第一基板及び前記第二基板を複数に切断することにより、複数の前記光学フィルタを得る工程と、
を含む光学フィルタの製造方法。
A method for producing the optical filter according to any one of claims 1 to 3,
A region in which one surface of the first substrate serving as the plurality of first light transmitting bodies and one surface of the second substrate serving as the plurality of second light transmitting bodies are covered with a metal mask, and are not covered with the metal mask. Forming a metal film to be the metal layer only in
Forming the metal layer, the central gap and the peripheral gap by abutting and joining the metal film formed on the first substrate and the metal film formed on the second substrate;
Solidifying the translucent resin after filling the central gap and the peripheral gap with the liquid translucent resin;
A step of obtaining a plurality of the optical filters by cutting the first substrate and the second substrate in which the light-transmitting resin is filled and solidified into the central space and the peripheral space;
The manufacturing method of the optical filter containing this.
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