JP2017203951A - 光学機器および遮光膜を有する光学素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、レンズコバに遮光膜を備えた光学機器および該遮光膜を塗布する光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】光学有効面と非光学有効面とを有し、該非光学有効面の少なくとも一部に遮光膜を有する光学素子と、該光学素子を内部に保持する鏡筒とを有する光学機器であって、前記光学素子は、該鏡筒内面に前記遮光膜の一部が接して位置決めされており、前記非光学有効面とそれに対向する前記鏡筒の内面とに挟まれた空間を光軸を含む平面で切ったときの前記遮光膜の断面が占める断面の面積をＳ１、該遮光膜が存在しない隙間の断面が占める面積をＳ２とすると、下記式で定義される面積比が２０％以上４５％以下であることを特徴とする光学機器。面積比＝Ｓ２／（Ｓ１＋Ｓ２）【選択図】図５

Description

本発明は、遮光膜を有する光学素子を備えた光学機器および該遮光膜を有する光学素子の製造方法に関する。

光学機器に使用されるレンズ等の光学素子には、透過する有効光束に対して屈折などの光学作用を奏する光学有効面と、保持面（例えば、コバ面）などの有効光束が透過しない非光学有効面とを有する。一般に光学機器に使用されるレンズにおいて、光学有効面の第１面より入射した光の大部分は反対側の第２面から出射されるが、ごく一部の光が内部散乱により、レンズの周端面より出射されてしまう。このため、かかるレンズを多数用いている光学機器においては、それらの散乱光が内部反射によって悪影響を及ぼさないように、レンズを保持する鏡筒だけでなく、多数のレンズの周端面も黒色で塗装するようにしている。一方、カメラ等の光学機器は、真夏の炎天下の様な高温過酷状況で使用される事も想定されるため、熱の影響による光学性能劣化を防止することが求められている。

従来、非光学有効面の塗装は熟練した作業者によって行われていた。ところが、作業者による品質ばらつきが大きいことから、近年は接触、非接触塗布方式による自動塗布装置への置き換えが進められている。例えば特許文献１では、塗布方式として筆を用い、非光学有効面を塗装する方法が開示されている。この方式は、均一な膜厚の遮光膜を確実に塗装する方法として優れたものであるが、遮光膜が鏡筒に接する平坦部は全面で接触しているため、高温過酷状況で使用される場合には熱伝導が大きく、光学性能が劣化する問題があった。特許文献２では、塗布方式として連続噴射型のインクジェットを用い、非光学有効光学面を塗装する方法が開示されている。この方式は、専用に開発されたインクを定量塗布する方式として優れたものであるが、粘度が経時的に変化したり、固形成分を複数含む様な非専用インクに対しては吐出が安定せず、汎用的に使用することが困難であった。

特許第３４０４０６３号公報 特開平０２−２５１９０３号公報

本願発明は、上記のような従来技術における問題点に鑑みなされたものであり、熱の影響による光学性能の劣化を防止し、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた遮光膜を有する光学素子を備えた光学機器および該遮光膜を有する光学素子の製造方法を提供する。

本発明によれば、光学有効面と非光学有効面とを有し、該非光学有効面の少なくとも一部に遮光膜を有する光学素子と、該光学素子を内部に保持する鏡筒とを有する光学機器であって、
前記光学素子は、前記鏡筒の内部に前記遮光膜の一部が接して位置決めされており、
前記非光学有効面とそれに対向する前記鏡筒の内面とに挟まれた空間を、光軸を含む平面で切ったときの遮光膜の断面が占める面積をＳ１、該遮光膜が存在しない隙間の断面が占める面積をＳ２とすると、下記式で定義される面積比が２０％以上４５％以下であることを特徴とする光学機器が提供される。
面積比＝Ｓ２／（Ｓ１＋Ｓ２）

本発明によれば、光学有効面と非光学有効面とを有し、前記非光学有効面の少なくとも一部に光軸に対し回転対象に遮光膜を有する光学素子の製造方法であって、
ジェット式ディスペンサ装置を用いて前記光学素子を前記光軸のまわりに回転させながら前記非光学有効面に遮光塗料を塗布して前記遮光膜を形成する光学素子の製造方法が提供される。
本発明の製造方法においては、前記ジェット式ディスペンサ装置の１ドットあたりの吐出量が５ｎｌ以上１５ｎｌ以下であることが好ましい。

本発明によれば、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた遮光膜を有する光学素子を備える光学機器が実現出来る。
本発明によれば、ジェット式ディスペンサ装置を用いて光学素子を回転させながら塗布する方法により、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた光学素子の製造方法を実現出来る。

本発明に用いる塗装装置の概略構成図である。 ジェット式ディスペンサ装置の原理を示す説明図である。 塗料塗布位置を示す側面図である。 輪帯ステップ塗布を示す側面図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 実施例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。 比較例における非光学有効面に塗布された遮光膜断面模式図である。

以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。

（塗布装置）
図１は、本実施例の塗装装置を示す概略構成図である。図において符号１は、被塗布体であるレンズ２の片側のレンズ面を先端で吸着保持する吸着回転シャフトを示し、θ軸回転モータ３に取付けられている。更に、θ軸回転モータ３は、Ｌ字状の支持部材４に固定されている。Ｌ字状の支持部材４はＸ軸直動ステージ５に搭載されている。一方、Ｘ−θ駆動ユニットの上部には、ジェット式ディスペンサ装置６が手動のＺ軸直動ステージ７に固定されている。このＺ−Ｘ−θ軸ユニットによりレンズ２とジェット式ディスペンサノズル８の相対位置を自在に設定出来るとともに、インクジェット装置６は、ジェット式ディスペンサコントローラ９により制御されるようになっている。更に、Ｘ−θ駆動ユニットおよびジェット式ディスペンサコントローラ９は、シーケンサコントローラ１０に接続されており、このシーケンサコントローラ１０は、塗布装置全体の全ての動作、タイミングを制御する。本実施例の塗装装置では３軸ロボットを例として挙げたが、レンズとジェット式ディスペンサ装置の相対位置・姿勢および塗布タイミングを制御出来る装置形態であれば特に制限はない。

（ジェット式ディスペンサ装置および塗布の方法）
ジェット式ディスペンサ装置６は、微小な塗料（インク）粒を連続して噴射させて被塗布体に塗料粒を付着させるもので、図２にその原理図を示す。圧電素子１１に取り付けられたシャフト１２がジェット式ディスペンサノズル８のインク流路１３側に設置されている。一方シリンジ１４に注入したインク１５は圧縮空気による背圧によってインク流路１３に満たされている。ジェット式ディスペンサコントローラ９からの駆動波形によって圧電素子１１が変位し、シャフト１２が上下に駆動することによってインク１５がジェット式ディスペンサノズル８から押し出されてドット状の塗料粒１６が打ち出される。そして、レンズ２に塗布される塗料粒１６の配列は、図３に示すようにドットマトリックスにより種々変えることができる。本実施例では輪帯状に塗布し、まず第１輪帯目を塗布した後、第２輪帯目と順次塗布している(図４参照）。なお、噴射される塗料粒径は、φ１００〜３００μｍと微小で、塗布の位置決めが正確に決定でき、回転されているレンズ２に一定の膜厚で再現良く塗布できる。
なお、本願発明の製造方法の態様においては、光学有効面と非光学有効面とを有し、前記非光学有効面の少なくとも一部に光軸に対し回転対称に遮光膜を有する光学素子の製造方法であって、ジェット式ディスペンサ装置を用いて前記光学素子を前記光軸の周りに回転させながら前記非光学有効面に遮光塗料を塗布して前記遮光膜を形成する方法を含む。
以上の方法で形成された遮光膜の一例として光軸を含む断面の模式図を図５に示す。

本発明によれば、光学有効面と非光学有効面１７とを有し、前記非光学有効面の少なくとも一部に遮光膜（遮光膜断面１８）を有する光学素子と、鏡筒１９とを有する光学機器が提供される。ここで、「光学有効面」とは、透過する有効光束に光学作用を与える光学面を意味し、「非光学有効面」とは、有効光束が透過しない光学面を意味する。前記光学素子は、前記鏡筒の内部に前記遮光膜の一部が接して位置決めされており、光学素子の光軸が前記鏡筒中心軸と合致するように、前記鏡筒の内部に前記遮光膜の一部が接して位置決めされる場合を含む。前記非光学有効面とそれに対向する前記鏡筒の内面に囲まれた空間を、光軸を含む平面で切ったときの前記遮光膜の断面１８が占める面積をＳ１、該遮光膜が存在しない隙間の断面２０の占める面積をＳ２とすると、下記式１）で定義される面積比が２０％以上４５％以下である。
面積比＝Ｓ２／（Ｓ１＋Ｓ２）・・・１）

本発明によれば、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた遮光膜を実現し、且つ遮光性能を発揮するためには前記遮光膜断面の膜厚を３μｍ以上５０μｍ以下とすることが望ましい。また、熱伝導を抑えるために、非光学有効面の材質については無アルカリガラス、アルミナケイ酸ガラス等の光学ガラスやポリカーボネートやアクリル等の光学用樹脂が望ましく、前記鏡筒の材質についてはマグネシウム合金等の金属またはポリカーボネートやアクリル等の樹脂とすることが望ましい。また、本発明の光学機器は、好適には、カメラ、双眼鏡、顕微鏡又は半導体露光装置である。また、本発明の製造方法として、例えばジェット式ディスペンサを含むオジェット式ディスペンサ装置を用いてレンズを回転させながら前記非光学有効面を塗布する。３μｍ以上５０μｍ以下の膜厚を形成するために、１ドットあたりの吐出量が５ｎｌ以上１５ｎｌ以下の範囲であることが望ましい。これにより、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた遮熱膜を製造できる。

（塗料）
一方、使用する遮光塗料として、GT7、GT1000（キヤノン化成（株）製）等のレンズ専用塗料が使用可能である。ただし使用する光学素子に対して、光学特性や屈折率、膜耐久性等の遮光膜として必要な特性が満たされれば、これに限定されるものではない。また所望の塗布膜を形成する上で、遮光塗料の物性として粘度は１０〜１００ｍＰａ・ｓ、表面張力は２０〜５０ｍＮ／ｍの範囲であることが望ましい。遮光塗料の光学特性等を損なわない範囲であれば、遮光塗料を溶媒で希釈して粘度と表面張力が上記範囲になるように調整してもよい。本発明の製造方法により製造された光学素子は、カメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置等の光学機器に用いることができる。

（膜厚および面積比の評価）
次に、具体的な遮光膜形状の実施の形態を示すが、以下で述べる遮光膜の膜厚はミクロンオーダーの評価を行うため、塗膜焼成後にレンズを活断し、断面ＳＥＭによって最大膜厚、最小膜厚および画像処理によって面積比評価を行っている。

［実施例１］
以下に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１を説明する。図５は実施例１に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いてレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から４輪帯塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行い、図５に示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が１６μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３６％とした。

［実施例２］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例２を説明する。
図７は実施例２に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、レンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から２輪帯ずつ塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図７に示すように最小膜厚が４μｍ、最大膜厚が２０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４５％とした。

［実施例３］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例３を説明する。
図９は実施例３に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央から４輪帯塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図９に示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３９％とした。

［実施例４〜５］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例４〜５を説明する。
図１１Ａ〜Ｂはそれぞれ実施例４〜５に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１０ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ１．３ｍｍピッチで塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図１１Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２４μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３８％とした（実施例４）。同様に、１ドットあたりの吐出量を１０ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ約２ｍｍピッチで塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図１１Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２５μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４５％とした（実施例５）。

［実施例６〜７］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例６〜７を説明する。
図１３Ａ〜Ｂはそれぞれ実施例６〜７に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。図１３Ａに示すように最小膜厚が６μｍ、最大膜厚が１０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を２０％とした（実施例６）。同様に、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図１３Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３８％とした（実施例７）。

［実施例８〜９］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例８〜９を説明する。
図１５Ａ〜Ｂはそれぞれ実施例８〜９に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１０ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を５秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行い、図１５Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が１９μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３７％とした（実施例８）。同様に、１ドットあたりの吐出量を１０ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を８秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行い、図１５Ｂに示すように最小膜厚が４μｍ、最大膜厚が２０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４５％とした（実施例９）。

［実施例１０］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１０を説明する。
図１７はそれぞれ実施例１０に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１５ｎｌに調整後、ノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に４輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行い、図１７に示すように最小膜厚が３０μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を２０％とした（実施例１０）。

［実施例１１〜１３］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１１〜１３を説明する。
図１９Ａ〜Ｃはそれぞれ実施例１１〜１３に対応する遮光膜断面模式図を示す。
本形態は、非光学有効面と鏡筒とが平行から若干ずれていても安定的に位置決めする時に有効である。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行い図１９Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が９μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を２０％とした（実施例１１）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行った。更に、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行い図１９Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３５％とした（実施例１２）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを4回行い、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行い図１９Ｃに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が４０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４５％としたものを作製した（実施例１３）。

［実施例１４〜１５］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１４〜１５を説明する。
図２１Ａ〜Ｂはそれぞれ実施例１４〜１５に対応する遮光膜断面模式図を示す。
本形態は、非光学有効面と鏡筒とが平行から若干ずれていても安定的に位置決めする時に有効である。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布し、６０秒後に１輪帯目に再度２回重ね塗りを行った。その後、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行い図２１Ａに示すように最小膜厚が７μｍ、最大膜厚が１１μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を２０％とした（実施例１４）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、６０秒後に１輪帯目に再度２回重ね塗りを行った。その後、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行い図２１Ｂに示すように最小膜厚が６μｍ、最大膜厚が３０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４４％とした（実施例１５）。

［実施例１６］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１６を説明する。
図２３は実施例１６に対応する遮光膜断面模式図を示す。
本形態は、非光学有効面と鏡筒とが平行から若干ずれていても安定的に位置決めする時に有効である。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１０ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を５秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを１回行い図２３に示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が２５μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４４％とした（実施例１５）。

［実施例１７〜１８］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の実施例１７〜１８を説明する。
図２５Ａ〜Ｂはそれぞれ実施例１７〜１８に対応する遮光膜断面模式図を示す。
本形態は、非光学有効面と鏡筒とが平行から若干ずれていても安定的に位置決めする時に有効である。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。つづいて、１ドットあたりの吐出量を１５ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを３回行い図２５Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を３４％とした（実施例１７）。同様に、１ドットあたりの吐出量を１５ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に２輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを３回行い図２５Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４５％とした（実施例１８）。

［比較例１〜２］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１〜２を説明する。
図６Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１〜２に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から７輪帯塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを６回行い、図６Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５４μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１１％とした（比較例１）。同様に、レンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後１輪帯塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを２０回行い、図６Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を７９％とした（比較例２）。

［比較例３〜４］
次に、上記構成の塗装装置による非光学面塗装方法の比較例３〜４を説明する。
図８Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例３〜４に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを６回行い、図８Ａに示すように最小膜厚が６μｍ、最大膜厚が５２μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１３％とした（比較例３）。同様に、レンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後１輪帯ずつ塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを２０回行い、図８Ｂに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を７２％とした（比較例４）。

［比較例５〜６］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例５〜６を説明する。
図１０Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例５〜６に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央から７輪帯塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを６回行い、図１０Ａに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５３μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１１％とした（比較例５）。同様に、レンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央から１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後１輪帯塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを２０回行い、図１０Ｂに示すように最小膜厚が４μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を８１％とした（比較例６）。

［比較例７〜８］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例７〜８を説明する。
図１２Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例７〜８に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１５ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．８ｍｍピッチで塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行い、図１２Ａに示すように最小膜厚が４０μｍ、最大膜厚が５２μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１％とした（比較例７）。同様に、１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ２．５ｍｍピッチで塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２０回行い、図１２Ｂに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を６０％とした（比較例８）。

［比較例９〜１０］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例９〜１０を説明する。
図１４Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例９〜１０に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を4nlに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行い、図１４Ａに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が４μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１９％とした（比較例９）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを５回行い、図１４Ｂに示すように最小膜厚が１μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４９％とした（比較例１０）。

［比較例１１〜１２］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１１〜１２を説明する。
図１６Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１１〜１２に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図１６Ａに示すように最小膜厚が４５μｍ、最大膜厚が５２μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を５％とした（比較例１１）。同様に、同様に、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から２輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を８秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行い、図１６Ｂに示すように最小膜厚が１μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を６６％とした（比較例１２）。

［比較例１３〜１４］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１３〜１４を説明する。
図１８Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１３〜１４に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に４輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行い、図１８Ａに示すように最小膜厚が４０μｍ、最大膜厚が５３μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１２％とした（比較例１３）。同様に、１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を１０秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１２回行い、図１８Ｂに示すように最小膜厚が５μｍ、最大膜厚が５５μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を８８％とした（比較例１４）。

［比較例１５〜１６］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１５〜１６を説明する。
図２０Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１５〜１６に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを１回行い、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを１回行った。図２０Ａに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が３μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１４％とした（比較例１５）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を５秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを５回行い、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを１回行い図２０Ｂに示すように最小膜厚が１μｍ、最大膜厚が５４μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を４７％とした（比較例１６）。

［比較例１７〜１８］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１７〜１８を説明する。
図２２Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１７〜１８に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布し、６０秒後に１輪帯目に再度１回重ね塗りを行った。その後、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを１回行い図２２Ａに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が３μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を１８％とした（比較例１７）。同様に、１ドットあたりの吐出量を８ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を３秒間隔で塗布した。更に前記各輪帯部に重ね塗りを５回行い、６０秒後に１輪帯目に再度１回重ね塗りを行った。その後、もう一方の片側に１輪帯だけ塗布し、重ね塗りを２回行った。図２２Ｂに示すように最小膜厚が５μm、最大膜厚が５６μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を５０％としたものを作製した（比較例１８）。

［比較例１９〜２０］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例１９〜２０を説明する。
図２４Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例１９〜２０に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量を８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から３輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを１回行い図２４Ａに示すように最小膜厚が４５μｍ、最大膜厚が５４μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を７％としたものを作製した（比較例１９）。同様に、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の両側から２輪帯ずつ0．５ｍｍピッチで輪帯間を８秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを２回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを１回行い図２４Ｂに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を７１％とした（比較例２０）。

［比較例２１〜２２］
次に、上記構成の塗装装置による非光学有効面塗装方法の比較例２１〜２２を説明する。
図２６Ａ〜Ｂはそれぞれ比較例２１〜２２に対応する遮光膜断面模式図を示す。

まず、光軸に平行な非光学有効面で光軸方向の幅が４ｍｍのφ５０ｍｍ、曲率半径３５０ｍｍ両凹レンズ２を吸着回転シャフト１の先端に吸着支持した。次に、θ軸回転モータ３を作動して吸着回転シャフト１を回転させ、レンズ２を回転させた。かかる状態で、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の片側から１ドットあたりの吐出量が８ｎｌとなるように調整後８輪帯塗布した。続いて、１ドットあたりの吐出量を１６ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に４輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を２秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを３回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを１回行い図２６Ａに示すように最小膜厚が４７μｍ、最大膜厚が５６μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を５％とした（比較例２１）。同様に、１ドットあたりの吐出量を４ｎｌに調整後、ジェット式ディスペンサノズル８から塗料粒１６を噴射してレンズ２のレンズ非光学有効面１７の中央部から両側に１輪帯ずつ０．５ｍｍピッチで輪帯間を１０秒間隔で塗布し、更に前記各輪帯部に重ね塗りを１２回行った。更に、６０秒後にレンズ非光学有効面１７の両端部に１輪帯ずつ重ね塗りを１回行い図２６Ｂに示すように最小膜厚が２μｍ、最大膜厚が５０μｍの遮光膜（遮光膜断面１８）を作製し、上記式１）で定義される面積比を６０％としたものを作製した（比較例２２）。

実施例および比較例で作製したそれぞれのレンズを鏡筒に組み込んで保持し、光軸測定器（トライオプティクス社製）で光軸調整した後、鏡筒側面をシーズヒータにて６０℃まで昇温させて、光軸のチルトシフト量を評価し、チルト許容値に対して判定を行った。表１に結果を示す。

実施例は、熱伝導の緩和により光軸のチルトシフト量が許容値以下（１６角度秒以下）となっており、本実施例による遮光膜形状の効果が確認できた（判定：○）。一方、比較例２、６、１６、２０は鏡筒組み込み時に遮光膜が破壊され鏡筒を支持出来なかったため、判定は不可とした。それ以外の比較例については光軸のチルトシフト量は許容値を下回ったものの遮光性能が低下したため判定を△とした。

なお、上述した実施例ではいくつかの遮光膜断面形状の例を示したが、所定の面積比を満たせばこの形状に縛られるものではない。また、本実施例では重ね塗りをジェット式ディスペンサ装置１台で行っているが、複数のジェット式ディスペンサ装置で行っても構わない。また、必要な面積比を実現するために、最初に厚塗りをして後から切削やレーザで削る等の加工方法でも良く、本発明を制限するものではない。以上の塗布方法で作製された遮光膜形状によって、内部散乱によるフレア防止性能を維持しつつ熱伝導を抑えた遮光膜を実現することが出来る。

１ 吸着回転シャフト
２ レンズ
３ θ軸回転モータ
４ Ｌ字状支持部材
５ Ｘ軸直動モータ
６ ジェット式ディスペンサ装置
７ Ｚ軸直動ステージ
８ ジェット式ディスペンサノズル
９ ジェット式ディスペンサコントローラ
１０ シーケンサコントローラ
１１ 圧電素子
１２ シャフト
１３ インク流路
１４ シリンジ
１５ インク
１６ 塗料粒
１７ レンズ非光学有効面
１８ 遮光膜断面
１９ 鏡筒
２０ 遮光膜と鏡筒内面との隙間の断面

Claims (7)

1. 光学有効面と非光学有効面とを有し、該非光学有効面の少なくとも一部に遮光膜を有する光学素子と、該光学素子を内部に保持する鏡筒とを有する光学機器であって、
   前記光学素子は、前記鏡筒の内部に前記遮光膜の一部が接して位置決めされており、
   前記非光学有効面とそれに対向する前記鏡筒の内面とに挟まれた空間を、光軸を含む平面で切ったときの遮光膜の断面が占める面積をＳ１、該遮光膜が存在しない隙間の断面が占める面積をＳ２とすると、下記式で定義される面積比が２０％以上４５％以下であることを特徴とする光学機器。
   面積比＝Ｓ２／（Ｓ１＋Ｓ２）
2. 前記遮光膜の断面の膜厚が３μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
3. 前記非光学有効面の材質がガラスまたは樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
4. 前記鏡筒の材質が金属または樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学機器。
5. 前記光学機器は、カメラ、双眼鏡、顕微鏡又は半導体露光装置であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学機器。
6. 光学有効面と非光学有効面とを有し、前記非光学有効面の少なくとも一部に遮光膜を有する光学素子の製造方法であって、
   ジェット式ディスペンサ装置を用いて前記光学素子を回転させながら前記非光学有効面に遮光塗料を塗布して前記遮光膜を形成する光学素子の製造方法。
7. 前記ジェット式ディスペンサ装置の１ドットあたりの吐出量が５ｎｌ以上１５ｎｌ以下であることを特徴とする請求項５に記載の光学素子の製造方法。

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