JP2017203094A - Method for producing semi-cured adhesive, method for producing composite body, resin adhesive, composite body, and electrostatic chuck - Google Patents

Method for producing semi-cured adhesive, method for producing composite body, resin adhesive, composite body, and electrostatic chuck Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semi-cured adhesive having high stability of a shape while having adhesiveness.SOLUTION: A method for producing a semi-cured adhesive includes: a step of preparing a resin adhesive before semi-curing, which has a rate of change of log (|η|) to a temperature rise when a loss tangent tanδ (tanδ=η'/η", but η' is real part of complex viscosity η* (η=η'-iη", but i is an imaginary unit), and η" is imaginary part of complex viscosity η*) is 1 of 0.18 or less in dynamic viscoelasticity measurement conducted on conditions of distortion of 0.1 (%), a rate of temperature rise of 1 (°C/minute) and angular frequency of 6.28 (rad/second), and contains a thermosetting resin; and a step of heating the resin adhesive before semi-curing in a temperature range of ±15°C of a temperature when the loss tangent tanδ is 1 and thereby semi-curing the resin adhesive to form a semi-cured adhesive.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本明細書に開示される技術は、半硬化接着剤の製造方法に関する。   The technology disclosed in the present specification relates to a method for producing a semi-cured adhesive.

例えば半導体製造装置において、ウェハを静電引力により吸着して保持する静電チャックが用いられる。静電チャックは、例えば金属により形成されたベース板と、セラミックスにより形成されたセラミックス板と、ベース板とセラミックス板とを接着する接着層とを備える。静電チャックは、内部電極を有しており、内部電極に電圧が印加されることにより発生する静電引力を利用して、セラミックス板の表面にウェハを吸着して保持する。   For example, in a semiconductor manufacturing apparatus, an electrostatic chuck that attracts and holds a wafer by electrostatic attraction is used. The electrostatic chuck includes, for example, a base plate formed of metal, a ceramic plate formed of ceramics, and an adhesive layer that bonds the base plate and the ceramic plate. The electrostatic chuck has an internal electrode, and attracts and holds the wafer on the surface of the ceramic plate by using an electrostatic attractive force generated when a voltage is applied to the internal electrode.

ベース板とセラミックス板とを接着する接着層は、例えば、液状またはペースト状の樹脂接着剤を半硬化させてゲル状としたシート状の半硬化接着剤をベース板とセラミックス板との間に配置し、該半硬化接着剤を硬化させることにより形成される(例えば、特許文献1参照)。   For the adhesive layer that bonds the base plate and the ceramic plate, for example, a sheet-like semi-cured adhesive that is semi-cured from a liquid or paste resin adhesive is placed between the base plate and the ceramic plate. The semi-cured adhesive is cured (for example, see Patent Document 1).

特開2005−158962号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-158962

半硬化接着剤は、接着性を有しつつ形状の安定性が高いことが好ましい。しかし、半硬化前の樹脂接着剤を半硬化させる過程で、硬化が進むほど、形状の安定性が高くなる一方で接着性が低下する。また、樹脂接着剤の硬化速度は、樹脂接着剤の種類や組成によって異なる。このため、硬化速度が相対的に速い樹脂接着剤を用いる場合、半硬化前の樹脂接着剤を半硬化させる際の温度の僅かな違いでも樹脂接着剤の接着性と形状の安定性とが大きく変動するので、接着性を有しつつ形状の安定性が高い半硬化接着剤を形成することが難しい。   It is preferable that the semi-cured adhesive has high adhesiveness while having adhesiveness. However, in the process of semi-curing the resin adhesive before semi-curing, as the curing proceeds, the stability of the shape increases while the adhesiveness decreases. Further, the curing rate of the resin adhesive varies depending on the type and composition of the resin adhesive. For this reason, when using a resin adhesive with a relatively fast curing speed, even a slight difference in temperature when the resin adhesive before semi-curing is semi-cured greatly increases the adhesiveness and shape stability of the resin adhesive. Since it fluctuates, it is difficult to form a semi-cured adhesive having adhesiveness and high shape stability.

なお、このような課題は、静電チャックを構成する部材同士を接着するための半硬化接着剤に限らず、例えばサセプタ(加熱装置)やシャワーヘッドなどの半導体製造装置用部品を構成する部材同士を接着するための半硬化接着剤にも共通の課題である。また、このような課題は、半導体製造装置用部品に限らず、例えば放熱部材と他の部材とを接着するための半硬化接着剤や、光学系部材と他の部材とを接着するための半硬化接着剤など、複数の部材を備える複合体における部材同士を接着するための半硬化接着剤に共通の課題である。   Such a problem is not limited to the semi-curing adhesive for bonding the members constituting the electrostatic chuck, but the members constituting the semiconductor manufacturing apparatus parts such as a susceptor (heating device) and a shower head, for example. This is a common problem with semi-cured adhesives for bonding the adhesive. In addition, such problems are not limited to semiconductor manufacturing equipment components, but are, for example, semi-cured adhesives for bonding heat dissipation members and other members, and semi-curing agents for bonding optical system members and other members. This is a problem common to semi-cured adhesives for bonding members in a composite including a plurality of members such as a cured adhesive.

本明細書では、上述した課題の少なくとも1つを解決することが可能な技術を開示する。   The present specification discloses a technique capable of solving at least one of the above-described problems.

本明細書に開示される技術は、例えば、以下の形態として実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification can be realized as, for example, the following forms.

(1)本明細書に開示されるは、半硬化接着剤の製造方法において、歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であり、熱硬化性樹脂を含む半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程と、前記半硬化前の樹脂接着剤を、前記損失正接tanδが1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱することによって半硬化させて前記半硬化接着剤を形成する工程と、を備える。損失正接tanδが1であるときの温度は、樹脂接着剤が硬化し始める温度(以下、「硬化開始温度T1」という)を意味する。複素粘度ηの絶対値(|η|)は、接着剤の流動性を示すものであり、|η|が大きいほど、流動性が低いことを意味する。温度上昇に対する|η|の変化率(傾き)は、樹脂接着剤の硬化速度を意味する。これらのことから、本願の発明者は、損失正接tanδが1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率から、樹脂接着剤の硬化開始温度T1における硬化速度を特定し、その特定結果から、接着性を有しつつ形状の安定性が高い半硬化接着剤を形成することができることを見出した。そこで、本半硬化接着剤の製造方法によれば、損失正接tanδが1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であり熱硬化性樹脂を含む半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程と、その半硬化前の樹脂接着剤を、損失正接tanδが1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱して半硬化させる工程とを備える。これにより、樹脂接着剤を半硬化させる際の温度の違いに対する樹脂接着剤の粘弾性の変動を抑制することによって、接着性を有しつつ形状の安定性が高い半硬化接着剤を製造することができる。 (1) In the method for producing a semi-cured adhesive, disclosed in this specification is a strain of 0.1 (%), a heating rate of 1 (° C./min), and an angular frequency of 6.28 (rad / sec). In dynamic viscoelasticity measurement performed under conditions, loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η ″, where η ′ is complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit And η ″ is an imaginary part of the complex viscosity η * .) The change rate of log (| η * |) with respect to the temperature rise when 1 is 1 is 0.18 or less. Yes, a step of preparing a semi-cured resin adhesive containing a thermosetting resin, and a temperature of ± 15 (° C.) of the temperature when the loss tangent tan δ is 1 And semi-curing by heating within the range to form the semi-cured adhesive. The temperature at which the loss tangent tan δ is 1 means the temperature at which the resin adhesive begins to cure (hereinafter referred to as “curing start temperature T1”). The absolute value (| η * |) of the complex viscosity η * indicates the fluidity of the adhesive, and the larger | η * | means that the fluidity is lower. The change rate (slope) of | η * | with respect to temperature rise means the curing rate of the resin adhesive. From these, the inventors of the present application specify the curing rate at the curing start temperature T1 of the resin adhesive from the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise when the loss tangent tan δ is 1, From the specific results, it was found that a semi-cured adhesive having adhesiveness and high shape stability can be formed. Therefore, according to the method for producing the semi-cured adhesive, the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise when the loss tangent tan δ is 1 is 0.18 or less, and the half containing the thermosetting resin. A step of preparing a resin adhesive before curing, and a step of heating and semi-curing the resin adhesive before semi-curing within a temperature range of ± 15 (° C.) of the temperature when the loss tangent tan δ is 1 With. Thereby, a semi-cured adhesive having adhesiveness and high shape stability is produced by suppressing the fluctuation of the viscoelasticity of the resin adhesive with respect to the temperature difference when the resin adhesive is semi-cured. Can do.

(2)上記半硬化接着剤の製造方法において、前記半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程において、前記温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.05以上である構成としてもよい。硬化速度が相対的に遅い樹脂接着剤を用いる場合、樹脂接着剤を半硬化させるまでに時間がかかる。この結果、半硬化接着剤の製造効率が低下することがある。これに対し、本半硬化接着剤の製造方法によれば、温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.05以上であるので、半硬化接着剤の製造効率の低下を抑制することができる。 (2) In the method for producing a semi-cured adhesive, in the step of preparing the resin adhesive before the semi-curing, a change rate of log (| η * |) with respect to the temperature rise is 0.05 or more. Also good. When a resin adhesive having a relatively slow curing rate is used, it takes time until the resin adhesive is semi-cured. As a result, the production efficiency of the semi-cured adhesive may be reduced. On the other hand, according to the method for producing a semi-cured adhesive, since the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise is 0.05 or more, a decrease in the production efficiency of the semi-cured adhesive is suppressed. be able to.

(3)上記半硬化接着剤の製造方法において、前記熱硬化性樹脂は、熱硬化性シリコーン樹脂である構成としてもよい。本半硬化接着剤の製造方法によれば、熱硬化性シリコーン樹脂は、耐熱性が高く、かつ、相対的に柔らかい材料であるため、特に気密性が要求される部材同士の接着や特性の異なる部材同士の接着に適した半硬化接着剤を製造することができる。 (3) In the method for producing the semi-cured adhesive, the thermosetting resin may be a thermosetting silicone resin. According to the method for producing the semi-cured adhesive, since the thermosetting silicone resin is a material that has high heat resistance and is relatively soft, adhesion and characteristics of members requiring particularly airtightness are different. A semi-cured adhesive suitable for bonding members can be manufactured.

(4)上記半硬化接着剤の製造方法において、前記熱硬化性シリコーン樹脂は、付加硬化型熱硬化性シリコーン樹脂である構成としてもよい。本半硬化接着剤の製造方法によれば、付加硬化型熱硬化性シリコーン樹脂は、硬化する際に副生物が生成されにくい材料であるため、特に半導体製造用装置を構成する部材同士の接着に適した半硬化接着剤を製造することができる。 (4) In the method for producing the semi-cured adhesive, the thermosetting silicone resin may be an addition-curable thermosetting silicone resin. According to the method for producing the semi-cured adhesive, the addition-curable thermosetting silicone resin is a material that hardly generates a by-product when cured, and therefore, particularly for bonding between members constituting the semiconductor manufacturing apparatus. A suitable semi-cured adhesive can be produced.

(5)本明細書に開示される複合体の製造方法は、第1の部材と、第2の部材と、前記第1の部材と前記第2の部材とを接着する接着層とを備える複合体の製造方法において、歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であり熱硬化性樹脂を含む半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程と、前記半硬化前の樹脂接着剤を、前記損失正接が1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱して半硬化させて半硬化接着剤を形成する工程と、前記半硬化接着剤を、前記第1の部材と前記第2の部材との間に配置する工程と、前記第1の部材と前記第2の部材との間に配置された前記半硬化接着剤を硬化させることにより前記接着層を形成する工程と、を備える。本複合体の製造方法によれば、複合体の製造効率の低下を抑制することができる。 (5) A composite manufacturing method disclosed in this specification includes a first member, a second member, and an adhesive layer that bonds the first member and the second member. In the dynamic viscoelasticity measurement performed under the conditions of a strain of 0.1 (%), a heating rate of 1 (° C./min), and an angular frequency of 6.28 (rad / sec) in the body manufacturing method, the loss tangent tan δ ( tan δ = η ′ / η ″, where η ′ is the real part of the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit), and η ″ is the complex A resin adhesive before semi-curing containing a thermosetting resin and having a change rate of log (| η * |) of 0.18 or less with respect to a temperature rise when the viscosity is imaginary part of η * . The step of preparing and semi-curing the resin adhesive before semi-curing by heating within a temperature range of ± 15 (° C.) of the temperature when the loss tangent is 1 A step of forming an adhesive, a step of disposing the semi-cured adhesive between the first member and the second member, and between the first member and the second member. Forming the adhesive layer by curing the semi-cured adhesive disposed on the surface. According to the manufacturing method of this composite_body | complex, the fall of the manufacturing efficiency of a composite_body | complex can be suppressed.

(6)本明細書に開示される樹脂接着剤は、熱硬化性樹脂を含む樹脂接着剤において、歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であることを特徴とする。 (6) The resin adhesive disclosed in the present specification is a resin adhesive containing a thermosetting resin, with a strain of 0.1 (%), a temperature increase rate of 1 (° C./min), and an angular frequency of 6.28 ( In the dynamic viscoelasticity measurement performed under the condition of rad / sec), the loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η ″, where η ′ is the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where , I is an imaginary unit), and η ″ is the imaginary part of the complex viscosity η * .) The change rate of log (| η * |) with respect to the temperature rise when 1 is 1) It is characterized by being 0.18 or less.

(7)本明細書に開示される複合体は、セラミックスにより形成された第1の部材と、金属により形成された第2の部材とが、前記樹脂接着剤を用いて接着されていることを特徴とする。 (7) In the composite disclosed in the present specification, the first member formed of ceramics and the second member formed of metal are bonded using the resin adhesive. Features.

(8)本明細書に開示される静電チャックは、第1の部材と第2の部材とが、前記樹脂接着剤を用いて接着されていることを特徴とする。 (8) The electrostatic chuck disclosed in the present specification is characterized in that the first member and the second member are bonded using the resin adhesive.

なお、本明細書に開示される技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、半硬化接着剤、例えば、静電チャック、真空チャック等の保持装置、サセプタ等の加熱装置、シャワーヘッド等の半導体製造装置用部品、それらの製造方法等の形態で実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification can be realized in various forms. For example, a semi-cured adhesive, for example, a holding device such as an electrostatic chuck or a vacuum chuck, a heating device such as a susceptor, It can be realized in the form of a semiconductor manufacturing apparatus component such as a shower head, a manufacturing method thereof, and the like.

本実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an external configuration of an electrostatic chuck 100 in the present embodiment. 本実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XZ cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100 in this embodiment. 本実施形態における静電チャック100の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the electrostatic chuck 100 in this embodiment. 樹脂接着剤についての動的粘弾性測定における粘性項η’と剛性項η’’と損失正接tanδと温度との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between viscosity term (eta) ', rigidity term (eta) ", loss tangent tan-delta, and temperature in the dynamic viscoelasticity measurement about a resin adhesive. 樹脂接着剤についての複素粘度ηの絶対値の対数(log(|η|))と温度との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the logarithm (log (| (eta) * |)) of the absolute value of complex viscosity (eta) * about a resin adhesive, and temperature. 性能評価の結果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the result of performance evaluation. log(|η|)と規格化温度との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between log (| (eta) * |) and normalized temperature.

A.実施形態:
A−1.静電チャック100の構成:
図1は、本実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、本実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック100は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。
A. Embodiment:
A-1. Configuration of the electrostatic chuck 100:
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an external configuration of an electrostatic chuck 100 in the present embodiment, and FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing an XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 100 in the present embodiment. . In each figure, XYZ axes orthogonal to each other for specifying the direction are shown. In this specification, for convenience, the positive direction of the Z-axis is referred to as the upward direction, and the negative direction of the Z-axis is referred to as the downward direction. However, the electrostatic chuck 100 is actually installed in a direction different from such a direction. May be.

静電チャック100は、対象物(例えばウェハW)を静電引力により吸着して保持する装置であり、例えば半導体製造装置の真空チャンバー内でウェハWを固定するために使用される。静電チャック100は、所定の配列方向(本実施形態では上下方向(Z軸方向))に並べて配置されたセラミックス板10およびベース板20を備える。セラミックス板10とベース板20とは、セラミックス板10の下面(以下、「セラミックス側接着面S2」という)とベース板20の上面(以下、「ベース側接着面S3」という)とが上記配列方向に対向するように配置されている。静電チャック100は、さらに、セラミックス板10のセラミックス側接着面S2とベース板20のベース側接着面S3との間に配置された接着層30を備える。静電チャック100は、特許請求の範囲における複合体に相当し、セラミックス板10およびベース板20は、特許請求の範囲における第1の部材および第2の部材に相当する。   The electrostatic chuck 100 is a device that attracts and holds an object (for example, a wafer W) by electrostatic attraction, and is used, for example, to fix the wafer W in a vacuum chamber of a semiconductor manufacturing apparatus. The electrostatic chuck 100 includes a ceramic plate 10 and a base plate 20 that are arranged in a predetermined arrangement direction (in this embodiment, the vertical direction (Z-axis direction)). The ceramic plate 10 and the base plate 20 are such that the lower surface of the ceramic plate 10 (hereinafter referred to as “ceramic side adhesive surface S2”) and the upper surface of the base plate 20 (hereinafter referred to as “base side adhesive surface S3”) are arranged in the above-described arrangement direction. It arrange | positions so that it may oppose. The electrostatic chuck 100 further includes an adhesive layer 30 disposed between the ceramic side adhesive surface S2 of the ceramic plate 10 and the base side adhesive surface S3 of the base plate 20. The electrostatic chuck 100 corresponds to the composite in the claims, and the ceramic plate 10 and the base plate 20 correspond to the first member and the second member in the claims.

セラミックス板10は、例えば円形平面の板状部材であり、セラミックスにより形成されている。セラミックス板10の直径は、例えば50mm〜500mm程度(通常は200mm〜350mm程度)であり、セラミックス板10の厚さは、例えば2mm〜10mm程度である。   The ceramic plate 10 is, for example, a circular flat plate member, and is formed of ceramics. The diameter of the ceramic plate 10 is, for example, about 50 mm to 500 mm (usually about 200 mm to 350 mm), and the thickness of the ceramic plate 10 is, for example, about 2 mm to 10 mm.

セラミックス板10の形成材料としては、種々のセラミックスが用いられ得るが、強度や耐摩耗性、耐プラズマ性、後述するベース板20の形成材料との関係等の観点から、例えば、酸化アルミニウム(アルミナ、Al)または窒化アルミニウム(AlN)を主成分とするセラミックスが用いられることが好ましい。なお、ここでいう主成分とは、含有割合(重量割合)の最も多い成分を意味する。 Various ceramics can be used as the material for forming the ceramic plate 10. From the viewpoint of strength, wear resistance, plasma resistance, and the relationship with the material for forming the base plate 20 described later, for example, aluminum oxide (alumina , Al 2 O 3 ) or ceramics mainly composed of aluminum nitride (AlN) are preferably used. In addition, the main component here means a component having the largest content ratio (weight ratio).

セラミックス板10の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された一対の内部電極40が設けられている。一対の内部電極40に電源(図示せず)から電圧が印加されると、静電引力が発生し、この静電引力によってウェハWがセラミックス板10の上面(以下、「吸着面S1」という)に吸着固定される。   A pair of internal electrodes 40 formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) is provided inside the ceramic plate 10. When a voltage is applied to the pair of internal electrodes 40 from a power source (not shown), an electrostatic attractive force is generated, and the wafer W causes the upper surface of the ceramic plate 10 (hereinafter referred to as an “attracting surface S1”) by the electrostatic attractive force. It is fixed by adsorption.

また、セラミックス板10の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された抵抗発熱体で構成されたヒータ50が設けられている。ヒータ50に電源(図示せず)から電圧が印加されると、ヒータ50が発熱することによってセラミックス板10が温められ、セラミックス板10の吸着面S1に保持されたウェハWが温められる。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。なお、ヒータ50は、セラミックス板10の吸着面S1をできるだけ満遍なく温めるため、例えばZ方向視で略同心円状に配置されている。   In addition, a heater 50 made of a resistance heating element formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) is provided inside the ceramic plate 10. When a voltage is applied to the heater 50 from a power source (not shown), the ceramic plate 10 is heated by the heat generated by the heater 50, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is heated. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized. In addition, the heater 50 is arrange | positioned substantially concentrically by Z direction view, for example, in order to heat the adsorption surface S1 of the ceramic board 10 as uniformly as possible.

ベース板20は、例えばセラミックス板10と同径の、または、セラミックス板10より径が大きい円形平面の板状部材であり、セラミックスとアルミニウム合金とから構成された複合材料により形成されている。ベース板20の直径は、例えば220mm〜550mm程度(通常は220mm〜350mm程度)であり、ベース板20の厚さは、例えば20mm〜40mm程度である。   The base plate 20 is, for example, a circular flat plate-like member having the same diameter as the ceramic plate 10 or a larger diameter than the ceramic plate 10 and is formed of a composite material composed of ceramics and an aluminum alloy. The diameter of the base plate 20 is, for example, about 220 mm to 550 mm (usually about 220 mm to 350 mm), and the thickness of the base plate 20 is, for example, about 20 mm to 40 mm.

ベース板20の形成材料としては、金属や種々の複合材料が用いられ得る。金属としては、Al(アルミニウム)やTi(チタン)が用いられることが好ましい。複合材料としては、炭化ケイ素(SiC)を主成分とする多孔質セラミックスに、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金を溶融して加圧浸透させた複合材料が用いられることが好ましい。複合材料に含まれるアルミニウム合金は、Si(ケイ素)やMg(マグネシウム)を含んでいてもよいし、性質等に影響の無い範囲でその他の元素を含んでいてもよい。   As a material for forming the base plate 20, a metal or various composite materials can be used. As the metal, Al (aluminum) or Ti (titanium) is preferably used. As the composite material, it is preferable to use a composite material in which an aluminum alloy containing aluminum as a main component is melted and pressed into porous ceramics containing silicon carbide (SiC) as a main component. The aluminum alloy contained in the composite material may contain Si (silicon) or Mg (magnesium), or may contain other elements as long as the properties are not affected.

ベース板20の内部には冷媒流路21が形成されている。冷媒流路21に冷媒(例えば、フッ素系不活性液体や水等)が流されると、ベース板20が冷却され、接着層30を介したベース板20とセラミックス板10との間の伝熱によりセラミックス板10が冷却され、セラミックス板10の吸着面S1に保持されたウェハWが冷却される。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。   A coolant channel 21 is formed inside the base plate 20. When a coolant (for example, a fluorine-based inert liquid or water) flows through the coolant channel 21, the base plate 20 is cooled, and heat transfer between the base plate 20 and the ceramic plate 10 via the adhesive layer 30 is performed. The ceramic plate 10 is cooled, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is cooled. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized.

接着層30は、セラミックス板10とベース板20とを接着している。接着層30の厚さは、例えば0.03mm〜1mm程度である。接着層30の構成材料等については後述する。   The adhesive layer 30 bonds the ceramic plate 10 and the base plate 20 together. The thickness of the adhesive layer 30 is, for example, about 0.03 mm to 1 mm. The constituent material of the adhesive layer 30 will be described later.

A−2.静電チャック100の製造方法:
次に、本実施形態における静電チャック100の製造方法を説明する。図3は、本実施形態における静電チャック100の製造方法を示すフローチャートである。はじめに、セラミックス板10とベース板20とを準備する(S110)。上述したように、セラミックス板10はセラミックスにより形成され、ベース板20はセラミックスと複合材用アルミニウム合金とから構成される複合材料により形成される。なお、セラミックス板10およびベース板20は、公知の製造方法によって製造可能であるため、ここでは製造方法の説明を省略する。
A-2. Method for manufacturing electrostatic chuck 100:
Next, a method for manufacturing the electrostatic chuck 100 in the present embodiment will be described. FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the electrostatic chuck 100 according to this embodiment. First, the ceramic plate 10 and the base plate 20 are prepared (S110). As described above, the ceramic plate 10 is formed of ceramics, and the base plate 20 is formed of a composite material composed of ceramics and an aluminum alloy for composite materials. In addition, since the ceramic board 10 and the base board 20 can be manufactured with a well-known manufacturing method, description of a manufacturing method is abbreviate | omitted here.

次に、接着ペーストを準備する(S120)。接着ペーストは、半硬化(シート化)前のペースト状の樹脂接着剤である。なお、S120において液状の樹脂接着剤を準備してもよい。樹脂接着剤の構成材料としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂など熱硬化性樹脂が好ましく、市販の材料を使用しても良いし、原料を配合して調整した材料を使用してもよい。エポキシ樹脂は種々のエポキシ化合物に硬化剤や硬化触媒を配合することで作製することができる。付加硬化型のシリコーン樹脂は、二重結合(ビニルシリル基)を持つオルガノポリシロキサンと水素化オルガノポリシロキサン(ヒドロシリル基)とその硬化触媒として白金化合物を配合することで作製することができる。また、過酸化物硬化型のシリコーン樹脂は、メチルシリル基やビニルシリル基をもつオルガノポリシロキサンを有機過酸化物により硬化させることで作製してもよい。接着ペーストの硬化速度は、各種原料や硬化剤、硬化触媒、充填剤などその他の添加剤の含有量によって変化する。   Next, an adhesive paste is prepared (S120). The adhesive paste is a paste-like resin adhesive before semi-curing (sheeting). In S120, a liquid resin adhesive may be prepared. The constituent material of the resin adhesive is preferably a thermosetting resin such as an epoxy resin or a silicone resin, and a commercially available material may be used, or a material prepared by blending raw materials may be used. The epoxy resin can be produced by blending a curing agent or a curing catalyst with various epoxy compounds. The addition-curable silicone resin can be produced by blending an organopolysiloxane having a double bond (vinylsilyl group), a hydrogenated organopolysiloxane (hydrosilyl group), and a platinum compound as a curing catalyst thereof. Further, the peroxide curable silicone resin may be prepared by curing an organopolysiloxane having a methylsilyl group or a vinylsilyl group with an organic peroxide. The curing rate of the adhesive paste varies depending on the contents of various raw materials and other additives such as a curing agent, a curing catalyst, and a filler.

樹脂接着剤の構成材料としては、シリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は、耐熱性と柔軟性が高いためである。シリコーン樹脂の中でも、特に、付加硬化型シリコーン樹脂が好ましい。付加硬化型シリコーン樹脂は、硬化反応に伴う副生成物がないこと、過酸化物の残渣など低分子成分が残らないことから、密閉された場所で使用しても揮発物による剥離などの不良が生じないためである。   As a constituent material of the resin adhesive, a silicone resin is preferable. This is because the silicone resin has high heat resistance and flexibility. Among silicone resins, addition curable silicone resins are particularly preferable. Addition-curing silicone resins have no by-products associated with the curing reaction and do not leave low-molecular components such as peroxide residues. This is because it does not occur.

ここで、接着ペーストは、後述のS150において、セラミックス板10とベース板20との接着に用いられる接着シートの半硬化前の樹脂接着剤である。接着シートは、シート状の半硬化接着剤(自己貼付性シート)である。接着シートは、半硬化後のシート状の樹脂接着剤であるため、液状の接着剤に比べて、本硬化後の接着層の厚さが均等になり易いというメリットがある。このため、接着シートは、接着性を有しつつ形状の安定性が高いことが好ましい。すなわち、接着シートは、セラミックス板10とベース板20とを接着するのに十分な接着性と、セラミックス板10とベース板20とを隙間なく接着できるよう平坦な形状を維持できる程度の形状の安定性が要求される。   Here, the adhesive paste is a resin adhesive before semi-curing the adhesive sheet used for bonding the ceramic plate 10 and the base plate 20 in S150 described later. The adhesive sheet is a sheet-like semi-cured adhesive (self-adhesive sheet). Since the adhesive sheet is a semi-cured sheet-like resin adhesive, there is an advantage that the thickness of the adhesive layer after the main curing is easily equalized compared to the liquid adhesive. For this reason, it is preferable that the adhesive sheet has high adhesiveness while having adhesiveness. That is, the adhesive sheet has sufficient adhesiveness to bond the ceramic plate 10 and the base plate 20 and has a stable shape that can maintain a flat shape so that the ceramic plate 10 and the base plate 20 can be bonded without gaps. Sex is required.

しかし、接着ペーストを半硬化させる過程で、硬化が進むほど、形状の安定性が高くなる一方で接着性が低下する。また、接着ペーストの硬化速度は、樹脂接着剤の各構成材料の含有量等(組成)によって異なる。このため、硬化速度が相対的に速い接着ペーストを用いる場合、接着ペーストを半硬化させる際の温度の僅かな違いでも接着ペーストの接着性と形状の安定性とが大きく変動する。逆に、硬化速度が相対的に遅い接着ペーストを用いる場合、接着ペーストを半硬化させるまでに時間がかかる。その結果、接着シートや静電チャック100の製造効率が低下することがある。従って、S120で準備する接着ペーストは、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成するのに適した硬化速度(以下、「適正硬化速度」という)のものが好ましい。   However, in the process of semi-curing the adhesive paste, as the curing progresses, the stability of the shape increases while the adhesiveness decreases. Moreover, the curing rate of the adhesive paste varies depending on the content (composition) of each constituent material of the resin adhesive. For this reason, when an adhesive paste having a relatively high curing rate is used, the adhesiveness and shape stability of the adhesive paste vary greatly even with a slight difference in temperature when the adhesive paste is semi-cured. Conversely, when an adhesive paste having a relatively slow curing rate is used, it takes time until the adhesive paste is semi-cured. As a result, the manufacturing efficiency of the adhesive sheet or the electrostatic chuck 100 may be reduced. Accordingly, the adhesive paste prepared in S120 preferably has a curing rate (hereinafter referred to as “appropriate curing rate”) suitable for forming an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability.

そこで、本実施形態では、適正硬化速度の接着ペーストとして、次の粘弾性条件を満たす接着ペーストを準備する。
<粘弾性条件>
動的粘弾性測定において、損失正接tanδが1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下である。
ただし、
損失正接tanδ=粘性項η’/剛性項η’’
・粘性項η’:複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部
・剛性項η’’:複素粘度ηの虚部
動的粘弾性測定の測定条件は、例えば次の通りである。
・接着ペーストを、直径15(mm)の2枚の円板の間に挟む
・歪み0.1(%)
・昇温速度1(℃/分)
・角周波数6.28(rad/秒)
Therefore, in this embodiment, an adhesive paste that satisfies the following viscoelasticity condition is prepared as an adhesive paste having an appropriate curing rate.
<Viscoelastic conditions>
In the dynamic viscoelasticity measurement, the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise when the loss tangent tan δ is 1 is 0.18 or less.
However,
Loss tangent tan δ = viscosity term η ′ / stiffness term η ″
・ Viscosity term η ′: Complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit) ・ Rigid term η ″: Imaginary part of complex viscosity η * Dynamic viscosity The measurement conditions for the elasticity measurement are, for example, as follows.
・ Place the adhesive paste between two discs with a diameter of 15 (mm) ・ Strain 0.1 (%)
・ Temperature increase rate 1 (℃ / min)
-Angular frequency 6.28 (rad / sec)

粘弾性条件について詳しく説明する。まず、損失正接tanδが1であるときの温度は、接着ペースト(樹脂接着剤)が硬化し始める温度(以下、「硬化開始温度T1」という)を意味する。その理由は次の通りである。図4は、樹脂接着剤についての動的粘弾性測定における粘性項η’と剛性項η’’と損失正接tanδと温度との関係を示す説明図である。図4に示すように、半硬化する前の樹脂接着剤(接着ペースト)は、流動性が相対的に高いため、粘性項η’が剛性項η’’より大きく、損失正接tanδは1より大きい。樹脂接着剤が加熱により硬化すると、樹脂接着剤の弾性が相対的に高くなるため、剛性項η’’が粘性項η’より大きくなり、損失正接tanδは1より小さくなる。従って、損失正接tanδが1(η’=η’’)であるときの温度は、樹脂接着剤が液体から固体に移行するときの温度、すなわち、硬化開始温度T1であるといえる。図4では、硬化開始温度T1は80(℃)である。   The viscoelastic conditions will be described in detail. First, the temperature when the loss tangent tan δ is 1 means the temperature at which the adhesive paste (resin adhesive) starts to cure (hereinafter referred to as “curing start temperature T1”). The reason is as follows. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the relationship among the viscosity term η ′, the stiffness term η ″, the loss tangent tan δ, and the temperature in the dynamic viscoelasticity measurement for the resin adhesive. As shown in FIG. 4, since the resin adhesive (adhesive paste) before semi-curing has relatively high fluidity, the viscosity term η ′ is larger than the stiffness term η ″, and the loss tangent tan δ is larger than 1. . When the resin adhesive is cured by heating, the elasticity of the resin adhesive becomes relatively high, so that the rigidity term η ″ becomes larger than the viscosity term η ′ and the loss tangent tan δ becomes smaller than 1. Therefore, the temperature when the loss tangent tan δ is 1 (η ′ = η ″) can be said to be the temperature at which the resin adhesive moves from the liquid to the solid, that is, the curing start temperature T1. In FIG. 4, the curing start temperature T1 is 80 (° C.).

そして、その硬化開始温度T1であるとき(損失正接tanδが1であるとき)の温度上昇に対する複素粘度ηの絶対値(|η|)の変化率(傾き)から、樹脂接着剤の硬化速度を評価することができる。その理由は次の通りである。図5は、樹脂接着剤についての複素粘度ηの絶対値の対数(log(|η|))と温度との関係を示す説明図である。複素粘度ηの絶対値は、樹脂接着剤の流動性を示すものであり、複素粘度ηの絶対値が大きいほど、流動性が低いことを意味する。具体的には、図5に示すように、半硬化する前の樹脂接着剤は、柔らかく流動性が高いため、複素粘度ηの絶対値は小さい。樹脂接着剤が加熱により硬化すると、樹脂接着剤の流動性は低くなるため、複素粘度ηの絶対値は大きくなる。 Then, from the rate of change (slope) of the absolute value (| η * |) of the complex viscosity η * with respect to the temperature rise when the curing start temperature T1 (when the loss tangent tan δ is 1), the resin adhesive is cured. Speed can be evaluated. The reason is as follows. FIG. 5 is an explanatory diagram showing the relationship between the logarithm of the absolute value of the complex viscosity η * (log (| η * |)) and the temperature of the resin adhesive. The absolute value of the complex viscosity η * indicates the fluidity of the resin adhesive, and the larger the absolute value of the complex viscosity η * , the lower the fluidity. Specifically, as shown in FIG. 5, since the resin adhesive before being semi-cured is soft and has high fluidity, the absolute value of the complex viscosity η * is small. When the resin adhesive is cured by heating, the fluidity of the resin adhesive is lowered, so that the absolute value of the complex viscosity η * is increased.

そして、温度上昇による複素粘度ηの絶対値の変化が急峻であることは、樹脂接着剤が、硬化反応の進行が速く、急激に硬化する性質を有することを意味する。逆に、温度上昇による複素粘度ηの絶対値の変化が緩やかであることは、樹脂接着剤が、硬化反応の進行が遅く、緩やかに硬化する性質を有することを意味する。従って、硬化開始温度T1であるときの温度上昇に対する複素粘度ηの絶対値の変化率から、樹脂接着剤が硬化し始める際の硬化速度を評価することができる。図5の例では、80(℃)のときのlog(|η|)の変化率(直線Lの傾き)が大きいほど、接着ペーストの硬化速度が速いと評価することができる。 The steep change in the absolute value of the complex viscosity η * due to the temperature rise means that the resin adhesive has a property of rapid curing and rapid curing. On the contrary, the fact that the change in the absolute value of the complex viscosity η * due to the temperature rise is gentle means that the resin adhesive has a property of slowly curing and slowly curing. Therefore, the curing rate at which the resin adhesive begins to cure can be evaluated from the rate of change of the absolute value of the complex viscosity η * with respect to the temperature rise at the curing start temperature T1. In the example of FIG. 5, it can be evaluated that the curing rate of the adhesive paste is faster as the change rate of log (| η * |) at 80 (° C.) (the slope of the straight line L) is larger.

そして、log(|η|)の変化率が0.18以下であることは、硬化し始める際の硬化速度が比較的に緩やかであることを意味する。従って、log(|η|)の変化率が0.18以下である接着ペーストが、適正硬化速度の接着ペーストとして準備される(S120)。 A change rate of log (| η * |) of 0.18 or less means that the curing rate at the start of curing is relatively moderate. Therefore, an adhesive paste having a change rate of log (| η * |) of 0.18 or less is prepared as an adhesive paste having an appropriate curing rate (S120).

次に、準備された接着ペーストを、損失正接tanδが1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱することによって半硬化させて接着シートを形成する(S130)。次に、セラミックス板10とベース板20との間に、接着シートを配置する(S140)。   Next, the prepared adhesive paste is semi-cured by heating within a temperature range of ± 15 (° C.) of the temperature when the loss tangent tan δ is 1 to form an adhesive sheet (S130). Next, an adhesive sheet is disposed between the ceramic plate 10 and the base plate 20 (S140).

次に、接着シートを介したセラミックス板10とベース板20との積層体をホットプレス炉内に配置し、真空中で加圧しつつ加熱する(S150)。これにより、接着シートが溶融して接着層30が形成され、セラミックス板10とベース板20とが接着層30により接着される。S150の加熱・加圧接着の後、必要により後処理(外周や上下面の研磨、端子の形成等)を行う。以上の製造方法により、上述した構成の静電チャック100が製造される。   Next, the laminated body of the ceramic plate 10 and the base plate 20 via the adhesive sheet is placed in a hot press furnace and heated while being pressurized in a vacuum (S150). As a result, the adhesive sheet is melted to form the adhesive layer 30, and the ceramic plate 10 and the base plate 20 are bonded to each other by the adhesive layer 30. After the heating and pressure bonding in S150, post-processing (polishing of the outer periphery and upper and lower surfaces, formation of terminals, etc.) is performed as necessary. With the above manufacturing method, the electrostatic chuck 100 having the above-described configuration is manufactured.

A−3.性能評価:
上述した製造方法で使用される樹脂接着剤(接着ペースト、接着シート)を対象に、以下に説明する性能評価を行った。図6は、性能評価の結果を示す説明図である。
A-3. Performance evaluation:
The performance evaluation described below was performed for the resin adhesive (adhesive paste, adhesive sheet) used in the manufacturing method described above. FIG. 6 is an explanatory diagram showing the results of performance evaluation.

A−3−1.各実施例および各比較例について:
図6に示すように、性能評価では、実施例1〜6および比較例1〜3の樹脂組成物を準備し、各樹脂組成物から接着ペーストを作製し、接着ペーストを半硬化させて接着シートを形成し、接着シートを本硬化させて接着層を形成する。
A-3-1. For each example and each comparative example:
As shown in FIG. 6, in the performance evaluation, the resin compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared, adhesive pastes were prepared from the resin compositions, and the adhesive paste was semi-cured to form an adhesive sheet Then, the adhesive sheet is fully cured to form an adhesive layer.

(接着ペーストの作製方法について)
各実施例および各比較例の接着ペーストの作製方法は、次の通りである。ビニルシリル基を備えたオルガノポリシロキサンと、ヒドロシリル基を備えたオルガノポリシロキサンとを、それぞれの官能基が当量(1:1)になるように配合し、触媒として白金触媒を白金の重量で20ppm添加する。これにより、接着ペーストが作製される。接着ペーストの硬化速度は、充填剤の種類と量とによっても調整でき、同じ種類の充填剤を使用した場合、添加量が多いほど、硬化速度が遅くなる傾向にある。熱伝導率や強度の制御のための充填剤としてアルミナ(Al)粒子を使用し、粘度調整のための充填剤としてシリカ粒子を使用する。
(How to make adhesive paste)
The production method of the adhesive paste of each example and each comparative example is as follows. An organopolysiloxane having a vinylsilyl group and an organopolysiloxane having a hydrosilyl group are blended so that the respective functional groups are equivalent (1: 1), and a platinum catalyst is added as a catalyst by 20 ppm by weight of platinum. To do. Thereby, an adhesive paste is produced. The curing rate of the adhesive paste can also be adjusted by the type and amount of filler. When the same type of filler is used, the curing rate tends to be slower as the amount added is larger. Alumina (Al 2 O 3 ) particles are used as a filler for controlling thermal conductivity and strength, and silica particles are used as a filler for adjusting viscosity.

具体的には、実施例1は、次の材料を含む付加硬化型シリコーン樹脂組成物である。
・1分子中に少なくとも2個の脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサン
・1分子中に2個以上のケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
・白金族金属触媒
・1分子中に2個以上のケイ素原子に結合したアルコキシル基(即ち、Si−OR基)を有するシランカップリング剤
・アルミナ粒子を49wt%
・シリカ粒子を1wt%
樹脂組成物における充填剤の含有量を変更することで、温度上昇に対する流動性の変化(複素粘度の温度依存性)を変更することができる。このため、図6に示すように、実施例2〜6および比較例1〜3の各樹脂組成物は、実施例1に対して充填剤(アルミナ粒子、シリカ粒子)の含有量が異なっている。
Specifically, Example 1 is an addition-curable silicone resin composition containing the following materials.
-Organopolysiloxane having at least two aliphatic unsaturated hydrocarbon groups in one molecule-Organohydrogenpolysiloxane having hydrogen atoms bonded to two or more silicon atoms (that is, SiH groups) in one molecule・ Platinum group metal catalyst ・ Silane coupling agent having an alkoxyl group (ie, Si—OR group) bonded to two or more silicon atoms in one molecule ・ 49 wt% of alumina particles
・ Silica particles 1wt%
By changing the content of the filler in the resin composition, the change in fluidity (temperature dependence of the complex viscosity) with respect to the temperature rise can be changed. For this reason, as shown in FIG. 6, the resin compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are different from Example 1 in the content of filler (alumina particles, silica particles). .

(接着シートの形成方法について)
各実施例および各比較例の接着シートの形成方法(接着ペーストの半硬化(シート化)方法)は、次の通りである。上述のように作製した接着ペーストをポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの上に塗り広げる。塗り広げる方法は、公知の方法を用いることができ、本性能評価では、ドクターブレードを用いる。次に、PETフィルムに塗り広げられた接着ペーストを所定の大きさに切断し、その後、切断されたPETフィルム付の接着ペーストを乾燥機によって所定の時間、所定の温度で加熱することによって接着ペーストを硬化させる。これにより、PETフィルム付の接着シートが形成される。なお、加熱中において、埃の付着を防ぐなどの必要に応じて、各接着ペーストをカバーフィルムで覆ってもよい。
(About the method of forming the adhesive sheet)
The method for forming the adhesive sheet of each example and each comparative example (semi-curing (sheeting) method of the adhesive paste) is as follows. The adhesive paste prepared as described above is spread on a polyethylene terephthalate (PET) film. A publicly known method can be used as a method of spreading, and a doctor blade is used in this performance evaluation. Next, the adhesive paste spread on the PET film is cut into a predetermined size, and then the cut adhesive paste with the PET film is heated at a predetermined temperature for a predetermined time with a dryer. Is cured. Thereby, an adhesive sheet with a PET film is formed. In addition, you may cover each adhesive paste with a cover film as needed, such as preventing adhesion of dust during heating.

A−3−2.評価手法:
形成された実施例1〜6および比較例1〜3のPETフィルム付の接着シートについて、接着性を有しつつ形状の安定性が高い樹脂接着剤であるか否かを判断するために、シート化(半硬化)の評価と、硬化の均一性の評価とを行う。
A-3-2. Evaluation method:
In order to judge whether or not the formed adhesive sheets with PET films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are resin adhesives having adhesiveness and high shape stability. Evaluation (semi-curing) and uniformity of curing.

(シート化の評価について)
シート化の評価では、実施例1〜6および比較例1〜3のPETフィルム付の接着シートについて、剥離性試験と接着性試験とを行った。
接着シートの剥離性試験では、接着シートのPETフィルムが付いていない面に例えばアルミニウム板を配置してゴムロール等によって押圧することによって接着シートをアルミニウム板に貼り付ける。その後、接着シートからPETフィルムを剥離する。そして、次の貼付条件と剥離条件との両方を満たした場合に、剥離性は良好であると評価する。
貼付条件:アルミニウム板に貼り付ける際に、接着シートがほとんど広がらない。
剥離条件:PETフィルムを剥離する際に、接着シートが、全面にわたって破れることなく、かつ、PETフィルムに残ることなくアルミニウム板に均等に転写、付着できる。
(About evaluation of sheeting)
In evaluation of sheet formation, the peelability test and the adhesion test were performed on the adhesive sheets with PET films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3.
In the peelability test of the adhesive sheet, for example, an aluminum plate is placed on the surface of the adhesive sheet that is not attached with the PET film, and the adhesive sheet is attached to the aluminum plate by pressing it with a rubber roll or the like. Thereafter, the PET film is peeled from the adhesive sheet. And when both the following sticking conditions and peeling conditions are satisfy | filled, it evaluates that peelability is favorable.
Adhering conditions: When adhering to an aluminum plate, the adhesive sheet hardly spreads.
Peeling condition: When peeling the PET film, the adhesive sheet can be evenly transferred and adhered to the aluminum plate without tearing over the entire surface and without remaining on the PET film.

逆に、アルミニウム板に貼り付ける際に接着シートが広がった場合や、PETフィルムを剥離する際に接着シートの少なくとも一部が破れたりしてアルミニウム板に転写できなかった場合に、剥離性は不良であると評価する。接着シートが広がった要因としては、接着シートの半硬化が不足していることが考えられる。アルミニウム板に転写できなかった要因としては、半硬化が不足し接着シートの強度が不十分であることや、半硬化が過剰で接着シートがアルミニウム板に十分に接着されないことが考えられる。   Conversely, if the adhesive sheet spreads when affixed to an aluminum plate, or if it cannot be transferred to the aluminum plate due to tearing of the adhesive sheet when peeling the PET film, the peelability is poor. It is evaluated that it is. The cause of the spread of the adhesive sheet is considered to be insufficient semi-curing of the adhesive sheet. The factors that could not be transferred to the aluminum plate may be that the semi-curing is insufficient and the strength of the adhesive sheet is insufficient, or that the semi-curing is excessive and the adhesive sheet is not sufficiently bonded to the aluminum plate.

次に、実施例1〜6および比較例1〜3のPETフィルム付の接着シートの内、上記剥離性試験で良好だったものについてのみ、接着シートの接着性試験を行う。接着シートの接着性試験では、被着体としての2枚のアルミニウム板のそれぞれに半硬化した接着シートを転写し、2枚のアルミニウム板のそれぞれに転写された接着シート同士を貼り合せ、例えば50時間、150度で加熱することによって接着シートを本硬化させて接着層を形成させる。   Next, among the adhesive sheets with PET films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, only those that were good in the above-described peelability test are tested. In the adhesion test of the adhesive sheet, the semi-cured adhesive sheet is transferred to each of the two aluminum plates as the adherend, and the adhesive sheets transferred to each of the two aluminum plates are bonded together, for example, 50 The adhesive sheet is fully cured by heating at 150 degrees for a time to form an adhesive layer.

その後、2枚のアルミニウム板を互いに反対方向に破断するまで引張り、破断時の強度、歪み、破断面の状態を確認する。破断面の状態の確認の結果、シート面内のすべての場所において接着シートの内部で凝集破壊していると認められた場合、接着シートの接着性は良好であると評価する。逆に、シート面内の少なくとも一部が接着シートとアルミニウム板の界面もしくは2枚の接着シート同士の界面で破断していると認められた場合、界面剥離であるとして、接着シートの接着性は不良と評価する。界面剥離は、接着シートの接着性が失われていることを意味する。   Thereafter, the two aluminum plates are pulled until they are broken in opposite directions, and the strength, strain, and fracture surface state at the time of breaking are confirmed. As a result of confirming the state of the fractured surface, if it is recognized that the adhesive sheet is coherently broken inside the adhesive sheet at all locations in the sheet surface, it is evaluated that the adhesiveness of the adhesive sheet is good. On the contrary, when it is recognized that at least a part of the sheet surface is broken at the interface between the adhesive sheet and the aluminum plate or the interface between the two adhesive sheets, the adhesiveness of the adhesive sheet is determined as interfacial peeling. Evaluate as bad. Interfacial peeling means that the adhesiveness of the adhesive sheet is lost.

シート化の評価では、剥離性試験の評価と接着性試験の評価とが共に良好になる半硬化温度と半硬化時間(加熱開始から接着ペーストが半硬化するまでの加熱時間)とのシート化良好条件を見出せた場合に、シート化の評価が「○」とされる。図6には、シート化良好条件における半硬化温度と半硬化時間とが示されている。一方、半硬化温度と半硬化時間とを種々変更して行ったが、シート化良好条件を見いだせなかった場合は、シート化の評価が「×」とされる。   In the evaluation of sheeting, the sheeting with the semi-curing temperature and the semi-curing time (heating time from the start of heating until the adhesive paste is semi-cured) that both the evaluation of the peelability test and the evaluation of the adhesive test are good When the condition can be found, the evaluation of sheet formation is “◯”. FIG. 6 shows the half-curing temperature and the half-curing time under favorable sheeting conditions. On the other hand, although the semi-curing temperature and the semi-curing time were variously changed, when the sheet forming favorable condition could not be found, the sheet forming evaluation is “x”.

(硬化の均一性の評価について)
硬化の均一性の評価では、上述の作製した接着ペーストを直径30(mm)のシャーレに厚さが5(mm)〜10(mm)程度になるように入れて、接着ペーストの表面が平らになるまで放置する。その後、接着ペーストが入ったシャーレを、乾燥機によって150(℃)で加熱して接着ペーストを硬化させ、その硬化体を観察する。硬化体の表面が平らで、凹凸、歪み、割れ、硬さのばらつきなどが無かった場合、硬化の均一性は良好であると評価する。逆に、硬化体の表面が平らでなく何らかの異常があった場合、硬化の均一性は不良であると評価する。接着ペーストの硬化速度が速すぎると、接着ペーストが均等に硬化しないため、硬化体の表面の凹凸や歪みが発生すると考えられる。
(Evaluation of curing uniformity)
In the evaluation of the uniformity of curing, the adhesive paste prepared above is placed in a petri dish having a diameter of 30 (mm) so that the thickness is about 5 (mm) to 10 (mm), and the surface of the adhesive paste is flattened. Leave until. Thereafter, the petri dish containing the adhesive paste is heated at 150 (° C.) with a dryer to cure the adhesive paste, and the cured body is observed. When the surface of the cured body is flat and there is no unevenness, distortion, cracking, hardness variation, etc., it is evaluated that the uniformity of curing is good. On the contrary, when the surface of the cured body is not flat and has some abnormality, it is evaluated that the uniformity of curing is poor. If the curing speed of the adhesive paste is too fast, the adhesive paste is not cured uniformly, and it is considered that the surface of the cured body has unevenness and distortion.

A−3−3.評価結果:
図6に示すように、比較例1〜3では、充填剤(アルミナ粒子、シリカ粒子)の含有量がほぼゼロであり、硬化開始温度T1におけるlog(|η|)の変化率は、0.20〜0.28である。また、比較例1〜3では、シート化の評価と硬化の均一性の評価との両方が「×」と評価されている。これに対して、実施例1〜6では、充填剤の含有量が10%以上であり、硬化開始温度T1におけるlog(|η|)の変化率は、0.05〜0.18であり、比較例1〜3に比べて小さい。また、実施例1〜6では、シート化の評価と硬化の均一性の評価との両方が「○」と評価されている。
A-3-3. Evaluation results:
As shown in FIG. 6, in Comparative Examples 1 to 3, the content of the filler (alumina particles, silica particles) is almost zero, and the change rate of log (| η * |) at the curing start temperature T1 is 0. 20 to 0.28. Moreover, in Comparative Examples 1-3, both evaluation of sheet formation and evaluation of the uniformity of hardening are evaluated as "x". On the other hand, in Examples 1-6, content of a filler is 10% or more, and the rate of change of log (| η * |) in hardening start temperature T1 is 0.05-0.18. Smaller than Comparative Examples 1 to 3. Moreover, in Examples 1-6, both evaluation of sheet formation and evaluation of the uniformity of hardening are evaluated as "(circle)".

これらのことから、比較例1〜3では、充填剤の含有量が少ないために、硬化速度が相対的に速く、適正硬化速度からずれている。このため、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成することができないと考えられる。これに対して、実施例1〜6では、比較例1〜3に比べて、充填剤の含有量が多いために、硬化速度が相対的に遅く、適正硬化速度に近い。このため、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成することができると考えられる。   From these things, in Comparative Examples 1-3, since the content of the filler is small, the curing speed is relatively fast and deviates from the appropriate curing speed. For this reason, it is considered that an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability cannot be formed. On the other hand, in Examples 1-6, since there is much content of a filler compared with Comparative Examples 1-3, a cure rate is comparatively slow and it is close to a proper cure rate. For this reason, it is considered that an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability can be formed.

図7は、log(|η|)と規格化温度との関係を示す説明図である。規格化温度は、測定温度から硬化開始温度T1を差し引いた温度である。比較例1〜3は、実施例1〜6に比べて、硬化開始温度におけるlog(|η|)の変化率が急峻である。このため、図7に示すように、比較例1〜3では、樹脂接着剤を半硬化させる際の温度が硬化開始温度T1から僅かにずれただけでも樹脂接着剤の粘弾性(log(|η|))の変動が大きく、すなわち、接着性と形状の安定性との変動が大きいことがわかる。その結果、比較例1〜3では、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成することが難しいといえる。これに対して、実施例1〜6では、樹脂接着剤を半硬化させる際の温度が硬化開始温度T1から多少ずれても樹脂接着剤の粘弾性(log(|η|))の変動が小さく、すなわち、接着性と形状の安定性との変動が小さいことがわかる。その結果、実施例1〜6では、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成することが容易であるといえる。 FIG. 7 is an explanatory diagram showing the relationship between log (| η * |) and the normalized temperature. The normalization temperature is a temperature obtained by subtracting the curing start temperature T1 from the measurement temperature. In Comparative Examples 1 to 3, the change rate of log (| η * |) at the curing start temperature is steep compared to Examples 1 to 6. Therefore, as shown in FIG. 7, in Comparative Examples 1 to 3, even when the temperature at which the resin adhesive is semi-cured slightly deviates from the curing start temperature T1, the viscoelasticity (log (| η) * It can be seen that the variation of |)) is large, that is, the variation of adhesiveness and shape stability is large. As a result, in Comparative Examples 1 to 3, it can be said that it is difficult to form an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability. On the other hand, in Examples 1-6, even if the temperature at which the resin adhesive is semi-cured slightly deviates from the curing start temperature T1, the variation in the viscoelasticity (log (| η * |)) of the resin adhesive varies. It can be seen that the fluctuation is small, that is, the adhesiveness and the stability of the shape are small. As a result, in Examples 1-6, it can be said that it is easy to form an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability.

また、実施例1,2では、硬化開始温度におけるlog(|η|)の変化率が0.05以上であるため、半硬化時間が6時間以内であり、比較的に短い。これにより、接着シートおよび静電チャック100の製造効率を向上させることができる。さらに、実施例1,2では、硬化開始温度におけるlog(|η|)の変化率が0.07であり、半硬化時間が6時間以上である。一方、実施例3〜6では、硬化開始温度におけるlog(|η|)の変化率が0.13〜0.15であり、半硬化時間が3時間以内である。これらのことから、硬化開始温度におけるlog(|η|)の変化率が0.13〜0.18であれば、半硬化時間をより短くすることができることがわかる。 In Examples 1 and 2, since the rate of change of log (| η * |) at the curing start temperature is 0.05 or more, the half-curing time is within 6 hours, which is relatively short. Thereby, the manufacturing efficiency of an adhesive sheet and the electrostatic chuck 100 can be improved. Furthermore, in Examples 1 and 2, the change rate of log (| η * |) at the curing start temperature is 0.07, and the semi-curing time is 6 hours or more. On the other hand, in Examples 3 to 6, the change rate of log (| η * |) at the curing start temperature is 0.13 to 0.15, and the semi-curing time is within 3 hours. From these facts, it can be seen that if the rate of change of log (| η * |) at the curing start temperature is 0.13 to 0.18, the half-curing time can be further shortened.

A−4.本実施形態の効果:
上述したように、本願の発明者は、樹脂接着剤の動的粘弾性測定の結果に基づき、当該樹脂接着剤の硬化速度を評価し、その評価結果から適正硬化速度の樹脂接着剤を効率よく準備する方法を見出した。すなわち、損失正接tanδが1であるときの温度は、硬化開始温度T1を意味する。複素粘度ηの絶対値(|η|)は、接着剤の流動性を示すものであり、|η|が大きいほど、流動性が低いことを意味する。温度上昇に対する|η|の変化率(傾き)は、樹脂接着剤の硬化速度を意味する。これらのことから、本願の発明者は、損失正接tanδが1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率から、樹脂接着剤の硬化開始温度T1における硬化速度を特定し、その特定結果から、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成することができることを見出した。
A-4. Effects of this embodiment:
As described above, the inventor of the present application evaluates the curing rate of the resin adhesive based on the result of the dynamic viscoelasticity measurement of the resin adhesive, and efficiently uses the resin adhesive having an appropriate curing rate based on the evaluation result. I found out how to prepare. That is, the temperature when the loss tangent tan δ is 1 means the curing start temperature T1. The absolute value (| η * |) of the complex viscosity η * indicates the fluidity of the adhesive, and the larger | η * | means that the fluidity is lower. The change rate (slope) of | η * | with respect to temperature rise means the curing rate of the resin adhesive. From these, the inventors of the present application specify the curing rate at the curing start temperature T1 of the resin adhesive from the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise when the loss tangent tan δ is 1, From the specific results, it was found that an adhesive sheet having adhesiveness and high shape stability can be formed.

そこで、本実施形態によれば、損失正接tanδが1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下である半硬化前の接着ペーストを準備する。これにより、様々な組成の樹脂接着剤の中から、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを形成するのに適した硬化速度の樹脂接着剤(接着ペースト)を効率よく選択して準備することができる。次に、半硬化前の接着ペーストを、損失正接tanδが1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱して半硬化させて接着シートを形成する。これにより、接着ペーストを半硬化させる際の温度の違いに対する樹脂接着剤の粘弾性の変動を抑制することによって、接着性を有しつつ形状の安定性が高い接着シートを製造することができる。 Therefore, according to the present embodiment, an adhesive paste before semi-curing is prepared in which the change rate of log (| η * |) with respect to the temperature rise when the loss tangent tan δ is 1 is 0.18 or less. This makes it possible to efficiently select a resin adhesive (adhesive paste) with a curing rate suitable for forming an adhesive sheet that has adhesiveness and high shape stability from resin adhesives of various compositions. Can be prepared. Next, the adhesive paste before semi-curing is heated and semi-cured within a temperature range of ± 15 (° C.) when the loss tangent tan δ is 1, thereby forming an adhesive sheet. Thereby, the adhesive sheet with high shape stability can be manufactured while having adhesiveness by suppressing the fluctuation of the viscoelasticity of the resin adhesive with respect to the temperature difference when the adhesive paste is semi-cured.

B.変形例:
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
B. Variations:
The technology disclosed in the present specification is not limited to the above-described embodiment, and can be modified into various forms without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

次の発明のような半硬化接着剤であってもよい。
歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下である半硬化前の樹脂接着剤を硬化させることにより形成されたものであることを特徴とする、半硬化接着剤。
It may be a semi-cured adhesive as in the following invention.
Loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η) in dynamic viscoelasticity measurement performed under the conditions of strain 0.1 (%), heating rate 1 (° C./min), angular frequency 6.28 (rad / sec) ″, Where η ′ is the real part of the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit), and η ″ is the imaginary part of the complex viscosity η * . The change rate of log (| η * |) with respect to the temperature rise when 1) is 1 is formed by curing a resin adhesive before semi-curing which is 0.18 or less. A semi-cured adhesive.

上記実施形態における各部材を形成する材料は、あくまで一例であり、各部材が他の材料により形成されてもよい。   The material which forms each member in the said embodiment is an example to the last, and each member may be formed with another material.

また、上記実施形態では、冷媒流路21がベース板20の内部に形成されるとしているが、冷媒流路21が、ベース板20の内部ではなく、ベース板20の表面(例えばベース板20と接着層30との間)に形成されるとしてもよい。また、上記実施形態では、セラミックス板10の内部に一対の内部電極40が設けられた双極方式が採用されているが、セラミックス板10の内部に1つの内部電極40が設けられた単極方式が採用されてもよい。   In the above embodiment, the refrigerant flow path 21 is formed inside the base plate 20, but the refrigerant flow path 21 is not inside the base plate 20 but on the surface of the base plate 20 (for example, the base plate 20 and It may be formed between the adhesive layer 30). Moreover, in the said embodiment, although the bipolar system with which a pair of internal electrode 40 was provided in the inside of the ceramic board 10 was employ | adopted, the monopolar system in which the one internal electrode 40 was provided in the inside of the ceramic board 10 is used. It may be adopted.

また、上記実施形態における静電チャック100の製造方法はあくまで一例であり、種々変形可能である。   Further, the method of manufacturing the electrostatic chuck 100 in the above embodiment is merely an example, and various modifications can be made.

また、本発明は、静電チャック100を構成する部材同士の接着に限らず、例えばサセプタ(加熱装置)やシャワーヘッドなどの半導体製造装置用部品を構成する部材同士の接着にも適用可能である。また、放熱部材用の接着剤、サーマルインターフェースマテリアル、半導体用封止剤、光デバイス用封止剤、アンダーフィル材料等にも適用可能である。   Further, the present invention is not limited to bonding of members constituting the electrostatic chuck 100, but can be applied to bonding of members constituting semiconductor manufacturing apparatus parts such as a susceptor (heating device) and a shower head. . Moreover, it is applicable also to the adhesive agent for thermal radiation members, thermal interface material, the sealing agent for semiconductors, the sealing agent for optical devices, an underfill material, etc.

10:セラミックス板 20:ベース板 21:冷媒流路 30:接着層 40:内部電極 50:ヒータ 100:静電チャック L:直線 S1:吸着面 S2:セラミックス側接着面 S3:ベース側接着面 W:ウェハ 10: Ceramic plate 20: Base plate 21: Refrigerant flow path 30: Adhesive layer 40: Internal electrode 50: Heater 100: Electrostatic chuck L: Straight line S1: Adsorption surface S2: Ceramic side adhesive surface S3: Base side adhesive surface W: Wafer

Claims (8)

半硬化接着剤の製造方法において、
歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であり熱硬化性樹脂を含む半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程と、
前記半硬化前の樹脂接着剤を、前記損失正接tanδが1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱することによって半硬化させて前記半硬化接着剤を形成する工程と、を備えることを特徴とする、半硬化接着剤の製造方法。
In the method for producing a semi-cured adhesive,
Loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η) in dynamic viscoelasticity measurement performed under the conditions of strain 0.1 (%), heating rate 1 (° C./min), angular frequency 6.28 (rad / sec) ″, Where η ′ is the real part of the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit), and η ″ is the imaginary part of the complex viscosity η * . A ratio of change in log (| η * |) with respect to the temperature rise when temperature is 1 is 0.18 or less, and preparing a resin adhesive before semi-curing including a thermosetting resin;
Forming the semi-cured adhesive by semi-curing the resin adhesive before semi-curing by heating within a temperature range of ± 15 (° C.) of the temperature when the loss tangent tan δ is 1; A method for producing a semi-cured adhesive.
請求項1に記載の半硬化接着剤の製造方法において、
前記半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程において、前記温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.05以上であることを特徴とする、半硬化接着剤の製造方法。
In the manufacturing method of the semi-hardened adhesive agent of Claim 1,
The method for producing a semi-cured adhesive, characterized in that, in the step of preparing the resin adhesive before semi-curing, the rate of change of log (| η * |) with respect to the temperature rise is 0.05 or more.
請求項1または請求項2に記載の半硬化接着剤の製造方法において、
前記熱硬化性樹脂は、熱硬化性シリコーン樹脂であることを特徴とする、半硬化接着剤の製造方法。
In the manufacturing method of the semi-hardened adhesive agent of Claim 1 or Claim 2,
The method for producing a semi-cured adhesive, wherein the thermosetting resin is a thermosetting silicone resin.
請求項3に記載の半硬化接着剤の製造方法において、
前記熱硬化性シリコーン樹脂は、付加硬化型熱硬化性シリコーン樹脂であることを特徴とする、半硬化接着剤の製造方法。
In the manufacturing method of the semi-hardened adhesive agent of Claim 3,
The method for producing a semi-cured adhesive, wherein the thermosetting silicone resin is an addition-curable thermosetting silicone resin.
第1の部材と、第2の部材と、前記第1の部材と前記第2の部材とを接着する接着層とを備える複合体の製造方法において、
歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であり熱硬化性樹脂を含む半硬化前の樹脂接着剤を準備する工程と、
前記半硬化前の樹脂接着剤を、前記損失正接が1であるときの温度の±15(℃)の温度範囲内で加熱して半硬化させて半硬化接着剤を形成する工程と、
前記半硬化接着剤を、前記第1の部材と前記第2の部材との間に配置する工程と、
前記第1の部材と前記第2の部材との間に配置された前記半硬化接着剤を硬化させることにより前記接着層を形成する工程と、を備えることを特徴とする、複合体の製造方法。
In a method for manufacturing a composite body comprising a first member, a second member, and an adhesive layer that bonds the first member and the second member,
Loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η) in dynamic viscoelasticity measurement performed under the conditions of strain 0.1 (%), heating rate 1 (° C./min), angular frequency 6.28 (rad / sec) ″, Where η ′ is the real part of the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit), and η ″ is the imaginary part of the complex viscosity η * . A ratio of change in log (| η * |) with respect to the temperature rise when temperature is 1 is 0.18 or less, and preparing a resin adhesive before semi-curing including a thermosetting resin;
Heating the resin adhesive before semi-curing within a temperature range of ± 15 (° C.) when the loss tangent is 1 to form a semi-curing adhesive;
Disposing the semi-cured adhesive between the first member and the second member;
Forming the adhesive layer by curing the semi-cured adhesive disposed between the first member and the second member. .
熱硬化性樹脂を含む樹脂接着剤において、
歪み0.1(%)、昇温速度1(℃/分)、角周波数6.28(rad/秒)の条件で行われる動的粘弾性測定において、損失正接tanδ(tanδ=η’/η’’、但し、η’は複素粘度η(η=η’−iη’’、但し、iは虚数単位である)の実部であり、η’’は前記複素粘度ηの虚部である。)が1であるときの温度上昇に対するlog(|η|)の変化率が0.18以下であることを特徴とする、樹脂接着剤。
In a resin adhesive containing a thermosetting resin,
Loss tangent tan δ (tan δ = η ′ / η) in dynamic viscoelasticity measurement performed under the conditions of strain 0.1 (%), heating rate 1 (° C./min), angular frequency 6.28 (rad / sec) ″, Where η ′ is the real part of the complex viscosity η ** = η′−iη ″, where i is an imaginary unit), and η ″ is the imaginary part of the complex viscosity η * . The rate of change of log (| η * |) with respect to temperature rise when 1 is 1 is 0.18 or less.
セラミックスにより形成された第1の部材と、金属により形成された第2の部材とが、請求項6に記載の前記樹脂接着剤を用いて接着されていることを特徴とする、複合体。   The 1st member formed with the ceramics, and the 2nd member formed with the metal are adhere | attached using the said resin adhesive of Claim 6, The composite_body | complex characterized by the above-mentioned. 第1の部材と第2の部材とが、請求項6に記載の前記樹脂接着剤を用いて接着されていることを特徴とする、静電チャック。   An electrostatic chuck, wherein the first member and the second member are bonded using the resin adhesive according to claim 6.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111630640A (en) * 2018-01-30 2020-09-04 日立化成株式会社 Method for manufacturing semiconductor device, film-like adhesive, and adhesive sheet

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005158962A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Ngk Spark Plug Co Ltd Electrostatic chuck and method for manufacturing the same
JP2007009189A (en) * 2005-06-03 2007-01-18 Shin Etsu Chem Co Ltd Addition-type silicone adhesive composition
JP2011049425A (en) * 2009-08-28 2011-03-10 Ngk Spark Plug Co Ltd Component for semiconductor manufacturing device
JP2012117059A (en) * 2010-11-12 2012-06-21 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curable silicone adhesive composition
JP2013018850A (en) * 2011-07-11 2013-01-31 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curing-type silicone adhesive composition and bonding procedure
JP2013060493A (en) * 2011-09-12 2013-04-04 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curable silicone adhesive composition
JP2013194113A (en) * 2012-03-19 2013-09-30 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Fluorosilicone rubber composition and molded article thereof
JP2013221082A (en) * 2012-04-17 2013-10-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition-curing type silicone resin composition, and sheet comprising the composition, sheet-like cured product, and die attach material
WO2014104080A1 (en) * 2012-12-26 2014-07-03 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Curable polyorganosiloxane composition
WO2015093283A1 (en) * 2013-12-16 2015-06-25 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Addition-curable silicone composition

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005158962A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Ngk Spark Plug Co Ltd Electrostatic chuck and method for manufacturing the same
JP2007009189A (en) * 2005-06-03 2007-01-18 Shin Etsu Chem Co Ltd Addition-type silicone adhesive composition
JP2011049425A (en) * 2009-08-28 2011-03-10 Ngk Spark Plug Co Ltd Component for semiconductor manufacturing device
JP2012117059A (en) * 2010-11-12 2012-06-21 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curable silicone adhesive composition
JP2013018850A (en) * 2011-07-11 2013-01-31 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curing-type silicone adhesive composition and bonding procedure
JP2013060493A (en) * 2011-09-12 2013-04-04 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition curable silicone adhesive composition
JP2013194113A (en) * 2012-03-19 2013-09-30 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Fluorosilicone rubber composition and molded article thereof
JP2013221082A (en) * 2012-04-17 2013-10-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Addition-curing type silicone resin composition, and sheet comprising the composition, sheet-like cured product, and die attach material
WO2014104080A1 (en) * 2012-12-26 2014-07-03 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Curable polyorganosiloxane composition
EP2940077A1 (en) * 2012-12-26 2015-11-04 Momentive Performance Materials Japan LLC Curable polyorganosiloxane composition
WO2015093283A1 (en) * 2013-12-16 2015-06-25 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Addition-curable silicone composition

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111630640A (en) * 2018-01-30 2020-09-04 日立化成株式会社 Method for manufacturing semiconductor device, film-like adhesive, and adhesive sheet
CN111630640B (en) * 2018-01-30 2023-04-28 日立化成株式会社 Method for manufacturing semiconductor device, film-like adhesive, and adhesive sheet

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